CN100402163C - 液体处理装置和液体处理方法 - Google Patents

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Abstract

提供一种不增大印刷台面(footprint)，即便是大型衬底也可在整个衬底上进行均匀的液体处理的液体处理装置。显影处理单元(DEV)(24)具有按大致水平状态在一个方向上运送LCD衬底G的滚动运送机构(14)；向LCD衬底G上喷出显影液的主显影液喷嘴(51a)和副显影液喷嘴(51b)；使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴(51b)扫描过LCD衬底G的喷嘴移动机构60a。通过边驱动喷嘴移动机构(60a)使主显影液喷嘴(51a)和副显影液喷嘴(51b)扫描过LCD衬底G边从主显影液喷嘴(51a)和副显影液喷嘴(51b)向LCD衬底G喷出显影液，缩短显影液的液体盛装时间，在整个LCD衬底G上进行均匀的显影处理。

Description

液体处理装置和液体处理方法
技术领域
本发明涉及对例如用在液晶显示装置(LCD)中的玻璃衬底等的衬底进行显影处理等的液体处理的液体处理装置和液体处理方法。
背景技术
在LCD的制造中，使用在LCD玻璃衬底(下面叫作LCD衬底)上形成抗蚀剂膜后，以规定电路图案对该抗蚀剂膜曝光，再对其进行显影处理的所谓的光刻技术，在LCD衬底上形成电路图案。这里，例如对于显影处理，在特开平11-87210号公报中，公开了在按水平状态运送的衬底表面涂布显影液来在衬底上形成水坑(puddle)，根据保持规定时间来进行显影反应的方法和装置。
但是，近时期强烈要求LCD衬底大型化，以致于出现边长到达1m的巨大的LCD衬底。一边把这种大型LCD衬底按水平状态运送一边在LCD衬底的表面上涂布显影液时，最初涂布显影液的部分和最后涂布的显影液部分中与显影液相接触的时间差增大，由此显影反应进行当中产生不均，在整个LCD衬底上难以得到均匀的显影图案。
通过加速LCD衬底的运送速度可短时间涂布显影液，但加速LCD衬底的运送速度时，为在显影反应需要的时间内以相同速度运送LCD衬底，需要加长运送LCD衬底的距离，从而产生装置的印刷台面(フツトプリント)加宽的新问题。为缩短LCD衬底的运送距离，必须急速停止形成显影液的水坑的LCD衬底，此时，LCD衬底上的显影液因加速度而溢落，不能充分进行显影反应。而且，由于急速停止LCD衬底而在LCD衬底上施加大的负荷，从而LCD衬底会产生损坏。
鉴于所述情况，本发明的目的是提供一种不增大印刷台面，即便是大型衬底也可在整个衬底上进行均匀的液体处理的液体处理装置。
发明内容
根据本发明的第一方案，提供一种液体处理装置，其特征在于具有按大致水平状态在一个方向上运送衬底的运送机构；和向通过所述运送机构运送的衬底表面喷出处理液的处理液喷嘴；使所述处理液喷嘴以规定速度在衬底上移动的喷嘴移动机构；一边通过所述喷嘴移动机构移动所述处理液喷嘴一边从所述处理液喷嘴喷出处理液，向衬底涂布处理液。
根据本发明的第二方案，提供一种液体处理方法，其特征在于具有：按大致水平状态将衬底运送到进行液体处理的液体处理区域的工序；在所述液体处理区域，停止所述衬底的运送或把所述衬底的运送速度降低到比向所述液体处理区域的衬底运送速度慢的工序；边使向所述衬底涂布处理液的处理液喷嘴在所述衬底上水平移动边从所述处理液喷嘴向所述衬底上喷出所述处理液来对所述衬底涂布所述处理液的工序。
根据本发明的第三方案，提供一种液体处理装置，对实施了曝光处理的衬底实施显影处理，其特征在于具有按大致水平状态在一个方向上运送衬底的运送机构；和向通过所述运送机构运送的衬底表面喷出显影液的显影液喷嘴；使所述显影液喷嘴以规定速度在衬底上在和所述衬底的运送方向相反的方向上移动的喷嘴移动机构；一边通过所述喷嘴移动机构移动所述显影液喷嘴一边从所述显影液喷嘴喷出所述显影液，向所述衬底涂布所述显影液。
根据本发明的第四方案，提供一种液体处理方法，对实施了曝光处理的衬底进行显影处理，其特征在于具有：按大致水平状态将衬底运送到进行显影液涂布的显影液涂布区域的工序；在所述显影液涂布区域，停止所述衬底的运送或把所述衬底的运送速度降低到比向所述显影液涂布区域的衬底运送速度慢的工序；一边使向所述衬底涂布显影液的显影液喷嘴在所述衬底上水平移动一边从所述显影液喷嘴喷出所述显影液，在所述衬底上盛装所述显影理液的工序；和把盛装了所述显影液的衬底运送到去除所述显影液的液体去除处理区域的工序。
根据所述本发明的第一到第四方案的液体处理装置和液体处理方法，可通过按规定速度移动处理液喷嘴短时间在衬底上涂布处理液。由此，可在整个衬底上进行均匀的液体处理。由于不需要高速运送涂布了处理液的衬底，也不需要急速停止衬底，因此不会产生处理液从衬底上溢落，显影反应不能进行，由于急速停止产生的应力在衬底上产生变形，衬底过分运转(overrun)而破损等问题。另外，衬底运送需要的间隔可与原来相同，因此可抑制装置的印刷台面增大。
本发明还包括：
一种液体处理装置，其特征是，具有按大致水平状态在一个方向上运送衬底的运送机构；向通过所述运送机构运送的衬底表面喷出处理液的处理液喷嘴；使所述处理液喷嘴以规定速度在衬底上移动的喷嘴移动机构；
所述处理液喷嘴由沿所述喷嘴移动机构产生移动的方向并排设置、其长度方向与所述喷嘴移动机构的运动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴2个喷嘴构成；
一边通过所述喷嘴移动机构移动所述处理液喷嘴，一边从所述处理液喷嘴喷出处理液，向衬底涂布处理液。
一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将衬底运送到进行液体处理的液体处理区域的工序；
在所述液体处理区域，停止所述衬底的运送的工序；
一边使由沿移动方向并排设置、其长度方向与所述运动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个向所述衬底上喷出所述处理液来对所述衬底涂布所述处理液的工序。
一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将衬底运送到进行液体处理的液体处理区域的工序；
在所述液体处理区域，把所述衬底的运送速度降低到比向所述液体处理区域的衬底运送速度慢的工序；
一边使由沿移动方向并排设置、其长度方向与所述移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个向所述衬底上喷出所述处理液来对所述衬底涂布所述处理液的工序。
一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将具有曝光处理的抗蚀剂涂膜的衬底运送到显影液涂布区域的工序；
在所述显影液涂布区域，停止所述衬底的运送的工序；
一边使沿移动方向并排设置、其长度方向与所述移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个喷出所述显影液来在所述衬底上盛装所述显影液的工序；
把盛装了所述显影液的衬底运送到去除所述显影液的液体去除处理区域的工序。
一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将具有曝光处理的抗蚀剂涂膜的衬底运送到显影液涂布区域的工序；
在所述显影液涂布区域，把所述衬底的运送速度降低到比向所述显影液涂布区域的衬底运送速度慢的工序；
一边使沿移动方向并排设置、其长度方向与所述移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个喷出所述显影液来在所述衬底上盛装所述显影液的工序；
把盛装了所述显影液的衬底运送到去除所述显影液的液体去除处理区域的工序。
附图说明
图1是具有本发明的一液体处理装置的一个实施例的显影处理单元的抗蚀剂涂布显影处理***的简要平面图；
图2是表示图1所示的抗蚀剂涂布显影处理***的第一热处理单元部分的侧面图；
图3是表示图1所示的抗蚀剂涂布显影处理***的第二热处理单元部分的侧面图；
图4是表示图1所示的抗蚀剂涂布显影处理***的第三热处理单元部分的侧面图；
图5是本发明的显影处理单元的简要侧面图；
图6是图5所示的显影处理单元的简要平面图；
图7是从LCD衬底的运送方向的上游侧观察具有图5所示的显影处理单元的第一显影液供给区的结构的正视图；
图8是表示图5所示的显影处理单元的第一显影液供给区中配置的主显影液喷嘴的结构的斜视图；
图9A是表示图5所示的主显影液喷嘴和副显影液喷嘴的配置形态的侧面图；
图9B是表示图5所示的主显影液喷嘴和副显影液喷嘴的显影液涂布形态的侧面图；
图10是表示显影处理工序的概要的流程图；
图11是表示主显影液喷嘴和副显影液喷嘴的扫描形态的说明图；
图12A是表示主显影液喷嘴和副显影液喷嘴的扫描速度和得到的显影图案的线宽均匀性的关系的说明图；
图12B是表示主显影液喷嘴和副显影液喷嘴的盛装液体次数和得到的显影图案的线宽的关系的说明图；
图12C是表示主显影液喷嘴和副显影液喷嘴的盛装液体次数和得到的显影图案的线宽均匀性的关系的说明图。
具体实施方式
下面参考附图详细说明本发明的实施例。这里，本实施例中，以将本发明应用于对实施了曝光处理的LCD衬底进行显影处理的显影处理单元(DEV)的情况为例进行说明。图1是表示具有作为本发明的一个实施例的显影处理单元(DEV)并且连续进行从抗蚀剂膜形成到显影的处理的抗蚀剂涂布显影处理***100的简要结构的平面图。
该抗蚀剂涂布显影处理***100具有载置容纳多个LCD衬底G的箱体C的箱站(运进运出部)1；具有用于对LCD衬底G实施包含抗蚀剂涂布和显影的一系列处理的多个处理单元的处理站(处理部)2；用于和曝光装置4之间进行LCD衬底G的递送的交接台(交接部)3，在处理站2两端分别配置箱站1和交接台3。图1中，抗蚀剂涂布显影处理***100的纵向为X方向，在平面上与X方向正交的方向为Y方向。
箱站1具有在Y方向上并排载置箱体C的载置台9和在与处理站2之间进行LCD衬底G的运进运出的运送装置11，在该载置台9和外部之间进行箱体C的运送。运送装置11具有运送臂11a，可在沿着作为箱体C的排列方向的Y方向设置的运送路径10上移动，通过运送臂11a在箱体C和处理站2之间进行LCD衬底G的运进运出。
处理站2具有基本在X方向上延伸的LCD衬底G运送用的平行的2列运送线路A.B，沿着运送线路A从箱站1一侧向着交接台3配设擦洗处理单元(SCR)21、第一热处理单元部分26、抗蚀剂处理单元23和第二热处理单元部分27。
沿着运送线路B从交接站3一侧向着箱站1配设第二热处理单元部分27、显影处理单元(DEV)24、i线UV照射单元(i-UV)25和第三热处理单元部分28。擦洗处理单元(SCR)21上的一部分中设置受激UV照射单元(e-UV)22。受激UV照射单元(e-UV)22设置是用于在擦洗之前去除LCD衬底G的有机物，i线UV照射单元(i-UV)25是为进行显影的脱色处理而设计的。
擦洗处理单元(SCR)21边在其中以大致水平状态运送衬底G边进行清洗处理和干燥处理。显影处理单元(DEV)24也如后面详细说明的那样，LCD边大致水平地运送LCD衬底G一边进行显影液涂布、显影后的显影液清洗和干燥处理。这些擦洗处理单元(SCR)21和显影处理单元(DEV)24中，LCD衬底G的运送例如通过滚动运送或带运送进行，LCD衬底G的运进口和运出口设置在相对的短边上。LCD衬底G向i线UV照射单元(i-UV)25的运送通过和显影处理单元(DEV)24的运送机构相同的机构连续进行。
抗蚀剂处理单元23上按顺序设置使抗蚀剂液滴落在大致水平保持的LCD衬底G上，通过以规定的旋转数旋转LCD衬底G将抗蚀剂液扩展到整个LCD衬底G上，形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂布处理装置(CT)23a；减压干燥LCD衬底G上形成的抗蚀剂膜的减压干燥装置(VD)23b；通过可扫描LCD衬底G的四边的溶剂喷头去除LCD衬底G的周边上附着的多于抗蚀剂的周边抗蚀剂去除装置(ER)23c。抗蚀剂处理单元23内设有在这些抗蚀剂涂布处理装置(CT)23a、减压干燥装置(VD)23b和周边抗蚀剂去除装置(ER)23c之间运送LCD衬底G的运送臂。
第一热处理单元部分26具有层叠对LCD衬底G实施热处理的热处理单元构成的2个热处理单元块(TB)31，32，热处理单元块(TB)31设置在擦洗处理单元(SCR)21侧，热处理单元块(TB)32设置在抗蚀剂处理单元23侧。这2个热处理单元块(TB)31，32之间设置第一运送装置33。
如图2的第一热处理单元部分26的侧面图所示，热处理单元块(TB)31具有从下面按顺序4层层叠LCD衬底G的交接用通路单元(PASS)61、对LCD衬底G进行脱水烘干处理的2个脱水烘干单元(DHP)2，63、对LCD衬底G实施疏水处理的附着处理单元(AD)64的结构，热处理单元块(TB)32具有从下面按顺序4层层叠LCD衬底G的交接用通路单元(PASS)65、对LCD衬底G进行冷却的2个冷却单元(COL)66，67、对LCD衬底G实施疏水处理的附着处理单元(AD)68的结构。
第一运送装置33进行LCD衬底G经通路单元(PASS)61从擦洗处理单元(SCR)21的交接、在所述热处理单元之间的LCD衬底G的运进运出和LCD衬底G经通路单元(PASS)65对抗蚀剂处理单元23的交接。
第一运送装置33具有上下延伸的导轨91、沿着导轨91升降的升降部件92、可旋转地设置升降部件92的基础部件93和可前进后退地设置基础部件93并保持LCD衬底G的衬底保持臂94。并且，升降部件92的升降由马达95进行，基础部件93的旋转由马达96进行，衬底保持臂94前后运动由马达97进行。这样，第一运送装置33可上下运动、前后运动和旋转运动，可接近热处理单元块(TB)31，32的任意一个单元。
第二热处理单元部分27具有层叠对LCD衬底G实施热处理的热处理单元构成的2个热处理单元块(TB)34，35，热处理单元块(TB)34设置在抗蚀剂处理单元23侧，热处理单元块(TB)35设置在显影处理单元(DEV)24侧。并且这2个热处理单元块(TB)34，35之间设置第二运送装置36。
如图3的第二热处理单元部分27的侧面图所示，热处理单元块(TB)34具有从下面按顺序4层层叠LCD衬底G的交接用通路单元(PASS)69、对LCD衬底G进行预烘干处理的3个预烘干单元(PREBAKE)70，71，72的结构，热处理单元块(TB)35具有从下面按顺序4层层叠LCD衬底G的交接用通路单元(PASS)73、对LCD衬底G进行冷却的冷却单元(COL)74、对LCD衬底G实施预烘干处理的2个预烘干单元(PREBAKE)75，76的结构。
第二运送装置36进行LCD衬底G经通路单元(PASS)69从抗蚀剂处理单元23的交接、在所述热处理单元之间的LCD衬底G的运进运出和LCD衬底G经通路单元(PASS)73对显影处理单元(DEV)24的交接以及LCD衬底G对作为后述的交接台3的衬底交接部的延伸清洗台(EXT·COL)44的交接和接收。第二运送装置36具有与第一运送装置33相同的结构，可接近热处理单元块(TB)34，35的任意一个单元。
第三热处理单元部分28具有层叠对LCD衬底G实施热处理的热处理单元构成的2个热处理单元块(TB)37，38，热处理单元块(TB)37设置在显影处理单元(DEV)24侧，热处理单元块(TB)38设置在箱站1侧。并且这2个热处理单元块(TB)37，38之间设置第三运送装置39。
如图4的第三热处理单元部分28的侧面图所示，热处理单元块(TB)37具有从下面按顺序4层层叠LCD衬底G的交接用通路单元(PASS)77、对LCD衬底G进行后烘干处理的3个后烘干单元(POBAKE)78，79，80的结构，热处理单元块(TB)38具有从下面按顺序4层层叠后烘干单元(POBAKE)81、进行LCD衬底G的交接和冷却的通路冷却单元(PASS·COL)82、对LCD衬底G进行后烘干处理的2个后烘干单元(POBAKE)83，84的结构。
第三运送装置39进行LCD衬底G经通路单元(PASS)77从i线UV照射单元(i-UV)25的交接、在所述热处理单元之间的LCD衬底G的运进运出和LCD衬底G经通路冷却单元(PASS·COL)82对箱站1的交接。第三运送装置39也具有与第一运送装置33相同的结构，可接近热处理单元块(TB)37，38的任意一个单元。
处理站2中，如上那样构成2列的运送线路A，B，并且基本按处理的顺序配置各处理单元和运送装置，在这些运送线路A，B之间设置空间40。并且，设置可在沿空间40往返运动的梭(shuttle)(衬底载置部件)41。该梭41可保持LCD衬底G来构成，经梭41在运送线路A，B之间进行LCD衬底G的交接。LCD衬底G对梭41的交接通过所述第一到第三运送装置33，36，39进行。
交接台3具有在处理站2和曝光装置4之间进行LCD衬底G的运进运出的运送装置42和作为具有冷却功能的衬底交接部的延伸冷却台(EXT·COL)44，上下层叠字母排录器(TTTLER)和周边曝光装置(EE)的外部装置块45与运送装置42相邻设置。运送装置42具有运送臂42a，通过该运送臂42a在处理站2和曝光装置4之间进行LCD衬底G的运进运出。
这样构成的抗蚀剂涂布显影处理***100中，首先，在箱站1的载置台9上配置的箱体C内的LCD衬底G直接运进处理站2的受激UV2照射单元(e-UV)2中，进行擦洗前处理。接着，通过运送装置11将LCD衬底G运进擦洗处理单元(SCR)21，进行擦洗。擦洗处理后，LCD衬底G例如通过滚动运送运出到属于第一热处理单元部分26的热处理单元块(TB)31的通路单元(PASS)61。
通路单元(PASS)61上配置的LCD衬底G最初运进热处理单元块(TB)31的脱水烘干单元(DHP)62，63中的一个进行加热处理，接着运送到热处理单元块(TB)32的冷却单元(COL)66，67之一中进行冷却后，为提高抗蚀剂的固定性，运送到热处理单元块(TB)31的附着处理单元(AD)64和热处理单元块(TB)32的附着处理单元(AD)68之一中，在那里通过HMDS进行附着处理(疏水处理)。之后，LCD衬底G运送到冷却单元(COL)66，67之一中进行冷却，再运送到热处理单元(TB)32的通路单元(PASS)65中。进行这一系列的处理时的LCD衬底G的运送处理全部由第一运送装置33进行。
配置在通路单元(PASS)65上的LCD衬底G通过抗蚀剂处理单元23的运送臂运进抗蚀剂处理单元23内。LCD衬底G在抗蚀剂涂布处理装置(CT)23a中旋涂抗蚀剂液后运送到减压干燥装置(VD)23b中进行减压干燥，在运送到周边抗蚀剂去除装置(ER)23c中去除LCD衬底G周围的多于的抗蚀剂。并且周边抗蚀剂去除结束后，LCD衬底G由运送臂从抗蚀剂处理单元23递送到属于第二热处理单元部分27的热处理单元块(TB)34的通路单元(PASS)69中。
配置在通路单元(PASS)69上的LCD衬底G由第二运送装置36运送到热处理单元块(TB)34的预烘干单元(PREBAKE)70，71，72和热处理单元块(TB)35的预烘干单元(PREBAKE)75，76之一中进行预烘干处理，之后运送到热处理单元块(TB)35的冷却单元(COL)74中冷却到规定温度。并且，通过第二运送装置36运送到热处理单元块(TB)35的通路单元(PASS)73中。
随后，LCD衬底G由第二运送装置36运送到交接台3的延伸冷却台(EXT·COL)44，通过交接台3的运送装置42运送到外部装置块45的周边曝光装置(EE)进行去除周边抗蚀剂的曝光，接着通过运送装置42运送到曝光装置4，在那里曝光LCD衬底G上的抗蚀剂膜形成规定的图案。根据情况在缓冲台(BUF)43上的缓冲箱中容纳LCD衬底G后再运送到曝光装置4。
曝光结束后，LCD衬底G由交接台3的运送装置42运进外部装置块45的上段的字母排录器(TTTLER)中对LCD衬底G记录规定信息后，载置在延伸冷却台(EXT·COL)44上。LCD衬底G由第二运送装置36从延伸冷却台(EXT·COL)44运送到属于第二热处理单元部分27的热处理单元块(TB)35的通路单元(PASS)73。
通过使从通路单元(PASS)73到显影处理单元(DEV)24上延伸的例如滚动运送机构作用，可将LCD衬底G从通路单元(PASS)73运进显影处理单元(DEV)24中，在那里进行显影处理。关于该显影处理工序在后面详细说明。
显影处理结束后，LCD衬底G通过连续的运送机构，例如滚动运送从显影处理单元(DEV)24运送到i线UV照射单元(i-UV)25中，对LCD衬底G进行脱色处理。之后，LCD衬底G通过i线UV照射单元(i-UV)25内的滚动运送机构运出到属于第三热处理单元部分28的热处理单元块(TB)37的通路单元(PASS)77。
配置在通路单元(PASS)77上的LCD衬底G由第三运送装置39运送到热处理单元块(TB)37的后烘干单元(POBAKE)78，79，80和热处理单元块(TB)38的后烘干单元(POBAKE)81，83，84的任意一个单元进行后烘干处理，随后运送到热处理单元块(TB)38的通路冷却单元(PASS·COL)82冷却到规定温度后，由箱站1的运送装置11容纳在箱站1上配置的规定箱体C中。
接着，详细说明显影处理单元(DEV)24的结构。图5是表示显影处理单元(DEV)24的简要结构的侧面图。图6是平面图。显影处理单元(DEV)24由导入区24a，第一显影液供给区24b，第二显影液供给区24c，显影液去除区24d，漂洗区24e和干燥区24f构成。导入区24a与热处理单元块(TB)35的通路单元(PASS)73相邻，干燥区24f与i线UV照射单元(i-UV)25相邻。
通路单元(PASS)73和i线UV照射单元(i-UV)25之间设置通过马达等的驱动旋转辊子17而将辊子17上的LCD衬底G运送到规定方向的滚动运送机构14，通过使该滚动运送机构14动作将LCD衬底G从通路单元(PASS)73通过显影处理单元(DEV)24运送向i线UV照射单元(i-UV)25。辊子17在LCD衬底G的运送方向和与该运送方向垂直的方向上设置规定数目，使得LCD衬底G上难以产生翘曲等。图6中未示出该滚动运送机构14。
显影处理单元(DEV)24中，如图5所示，滚动运送机构14分为3个区域，每个区域独立被驱动。通路单元(PASS)73和导入区24a由第一马达15a驱动来运送LCD衬底G。第一显影液供给区24b和第二显影液供给区24c以及显影液去除区24d由第二马达15b驱动来运送LCD衬底G。另外漂洗区24e和干燥区24f由第三马达15c驱动来运送LCD衬底G。这种滚动运送机构14的分开驱动例如可按构成显影处理单元(DEV)24的每个区进行。
通路单元(PASS)73具有可自由升降的升降枢轴(pin)16。保持LCD衬底G的第二运送装置36的衬底保持臂94在进入通路单元(PASS)73的状态下使升降枢轴16上升时，LCD衬底G从衬底保持臂94交接到升降枢轴16。接着，把衬底保持臂94从通路单元(PASS)73退出后降低升降枢轴16时，LCD衬底G载置在通路单元(PASS)73内的辊子17上。通过驱动第一马达15a将LCD衬底G从通路单元(PASS)73运出到导入区24a。
导入区24a设置为通路单元(PASS)73和第一显影液供给区24b之间的缓冲区域，该导入区24a防止显影液从第一显影液供给区24b飞溅到通路单元(PASS)73等，防止通路单元(PASS)73被污染。
第一显影液供给区24b是对从导入区24a运送来的LCD衬底G进行最初的显影液盛装(水坑形成)的区，设置对LCD衬底G涂布显影液的显影液供给机构60。
图7是从LCD衬底G的运送方向的上游侧看第一显影液供给区24b的结构的正视图。显影液供给机构60具有对LCD衬底G喷出显影液的主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b(下面叫做显影液喷嘴51a，51b)的2个喷嘴；固定这2个喷嘴的喷嘴固定部件55；保持喷嘴固定部件55的喷嘴保持部件56；升降喷嘴保持部件56的升降装置57和使显影液喷嘴51a，51b在X方向扫描的喷嘴移动机构60a。
喷嘴移动机构60a具有保持升降装置57的拱形臂58；导轨59a；使拱形臂58沿着导轨59a扫描的驱动机构46；保持导轨59a的导轨保持部件59b和固定导轨保持部件59b的引导固定台59c。另外，显影液供给机构60具有控制升降装置57和驱动机构46的动作的控制机构47，该控制机构47控制显影液从显影液喷嘴51a，51b的喷出量和喷出开始和中止。
图7中还记载滚动运送机构14的结构。即，滚动运送机构14具有：在LCD衬底G的运送方向(X方向)上延伸通过第二马达15b(图7未示出，参考图5)围绕X旋转轴旋转的枢轴19；固定在枢轴19围绕X轴旋转的第一齿轮19a；在LCD衬底G的宽度方向(Y方向)长且按规定间隔安装辊子17的枢轴18；安装成在枢轴18一端与第一齿轮19a啮合并将围绕第一齿轮19a的X轴旋转变换为围绕Y轴的旋转的第二齿轮18a；安装在枢轴18的另一端通过第二齿轮18a的旋转经枢轴18旋转的第三齿轮18b；把围绕X轴自由旋转的枢轴19’和第三齿轮18b啮合地来安装在枢轴19’上并把第三齿轮18b的围绕Y旋转轴旋转变换为围绕X轴旋转的第四齿轮19b。
在滚动运送机构14中，旋转枢轴18的驱动部由枢轴19、第一齿轮19a、第二齿轮18a、第二马达15b构成。第三齿轮18b、枢轴19’、第四齿轮19b承担顺利进行枢轴18的旋转，支持枢轴18的功能。
图8是表示主显影液喷嘴51a的结构的斜视图。主显影液喷嘴51a具有在LCD衬底G的宽度方向(Y方向)长的结构。主显影液喷嘴51a的上部中央设置用于向主显影液喷嘴51a运送显影液的显影液供给管49a，在其下端从沿着纵向形成的喷出口49b呈大致带状地喷出显影液。副显影液喷嘴51b具有与主显影液喷嘴51a相同的结构。
显影液喷嘴51a，51b按纵向与Y方向一致由喷嘴固定部件55按规定间隔平行保持。通过驱动升降装置57使喷嘴保持部件56升降来升降显影液喷嘴51a，51b，由此，可调节显影液喷嘴51a，51b的喷出口49b和LCD衬底G的表面之间的间隙。另外，拱形臂58的两端上形成和导轨59a嵌合的嵌合部58a，拱形臂58通过驱动机构46可在导轨59a的纵向的X方向上自由滑动。
显影液供给机构60中，通过一边从显影液喷嘴51a，51b对LCD衬底G喷出大致带状的显影液一边使显影液喷嘴51a，51b在X方向上扫描(即，使拱形臂58在X方向上滑动)，可向LCD衬底G的表面盛装显影液。
为在整个LCD衬底G上均匀进行显影处理，需要在LCD衬底G上在尽可能的短时间里均匀地涂布显影反应需要的量的显影液。通过使用2个显影液喷嘴51a，51b可在短时间里并且稳定地喷出规定量的显影液。显影液喷嘴51a，51b的扫描速度最好在100mm/s以上500mm/s以下。
显影液喷嘴51a，51b的扫描速度小于100mm/s时，通过不使显影液喷嘴51a，51b扫描而改变LCD衬底G的运送速度可进行同样的处理，因此观察不到使显影液喷嘴51a，51b扫描的优点。另一方面，在大于500mm/s时，由于盛装速度过快，产生没有盛装显影液的部分，显影液从LCD衬底G溢落等不恰当情况。显影液喷嘴51a，51b的扫描速度若在该范围中，则即便考虑LCD衬底G的长度，在盛装开始和盛装结束的时间差不成为问题，可进行显影液的盛装。
向LCD衬底G的盛装次数不限于1次，可进行多次的盛装处理。例如，在向LCD衬底G的盛装1次后，上升显影液喷嘴51a，51b，在返回原始位置，再次进行盛装动作。
图9A是更详细表示图5所示的显影液喷嘴51a，51b的配置形态的侧面图，图9B是表示边从显影液喷嘴51a，51b喷出显影液边使显影液喷嘴51a，51b扫描的状态的说明图。
显影液供给机构60中，在向LCD衬底G的表面盛装显影液时，使拱形臂58在与LCD衬底G的运送方向相反的方向上扫描。为首先从主显影液喷嘴51a向LCD衬底G涂布显影液，主显影液喷嘴51a配置在衬底运送方向的上游侧，副显影液喷嘴51b配置在衬底运送方向的下游侧。通过从副显影液喷嘴51b喷出显影液对从主显影液喷嘴51a喷出盛装在LCD衬底G上的显影液补充显影液，可向LCD衬底G供给进行显影反应需要的充分的显影液，从而缩短显影时间，提高显影精度。
在使显影液喷嘴51a，51b扫描时，为了副显影液喷嘴51b的下端不把已经由主显影液喷嘴51a喷出到LCD衬底G的显影液押向显影液喷嘴51a，51b的扫描方向(参考图9B)，副显影液喷嘴51b和LCD衬底G的间隙宽度D(间隙)最好设定地大于主显影液喷嘴51a和LCD衬底G的间隙宽度d。
例如，设间隙宽度d为1.5mm～2.5mm，间隙宽度D为3mm～5mm。间隙宽度d小于1.5mm时，主显影液喷嘴51a的位置配合有些困难。间隙宽度d大于2.5mm时，显影液喷出时显影液中卷入气泡，该气泡附着在LCD衬底G的表面上，使该部分出现显影不良。间隙宽度D大于5mm时，LCD衬底G上已经涂布的显影液被大量地搅拌，从而出现线宽度均匀性降低的问题。通过从通过主显影液喷嘴51a盛装在LCD衬底G上的显影液的表面离开的距离不超出1mm，可防止气泡的卷入等。
显影液喷嘴51a，51b在喷嘴移动机构60a扫描时保持在相对垂直方向成5度以上15度以下的角度θ倾斜的状态，以朝向扫描方向的斜下方喷出显影液。
例如，从主显影液喷嘴51a向LCD衬底G喷出的显影液容易向主显影液喷嘴51a的扫描方向的前方扩展时，由于从主显影液喷嘴51a向LCD衬底G喷出的显影液相对LCD衬底G的冲击(显影液冲向LCD衬底G的势头)首先从在LCD衬底G上涂布的显影液上方施加，因此与直接把显影液喷出到LCD衬底G的情况相比减弱。因此，产生显影精度降低的问题。
通过仅把主显影液喷嘴51a倾斜规定角度θ，从主显影液喷嘴51a喷出的显影液难以向显影液喷嘴51a，51b的扫描方向的前方扩展。从而，从主显影液喷嘴51a喷出的显影液的冲击直接施加在LCD衬底G上，因此可提高显影精度。
由于在从主显影液喷嘴51a喷出的显影液上还从副显影液喷嘴51b新喷出显影液，原来从副显影液喷嘴51b喷出显影液与主显影液喷嘴51a的情况相比，对LCD衬底G不产生大的冲击。最好是副显影液喷嘴51b也倾斜规定角度θ，以便从副显影液喷嘴51b喷出的显影液不会对先前在LCD衬底G上涂布的显影液产生大量搅拌。
这样，在第一显影液供给区24b中，由于边扫描显影液喷嘴51a，51b边向LCD衬底G喷出显影液，不需要高速运送LCD衬底G。从而，防止LCD衬底G运送时由于过分运行和运送的急速停止而在LCD衬底G上产生翘曲和损坏事故。显影液供给后不需要急速停止LCD衬底G，因此可防止LCD衬底G上盛装的显影液溢落，可有效利用显影液。
在第一显影液供给区24b中，可一边低速运送LCD衬底G一边停止LCD衬底G进行显影液盛装，但在使用停止LCD衬底G进行显影液的盛装的情况下，可在尤其稳定的状态下进行，因此可提高线宽度的均匀性。
在第一显影液供给区24b中，在将盛装显影液的LCD衬底G运送到显影液去除区24d期间，有时显影液从LCD衬底G溢落。在第二显影液供给区24c中，为防止在LCD衬底的运送途中由于显影液从LCD衬底G溢落而不进行显影反应，可向LCD衬底G新补充显影液。
在第二显影液供给区24c中，与主显影液喷嘴51a相同结构的显影液补充喷嘴51c按其纵向为Y方向固定在具有和拱形臂58相同结构的不动的臂(未示出)上。从显影液补充喷嘴51c向由滚动运送机构14运送的LCD衬底G上按Y方向上长的大致带状喷出规定量的显影液，这样在运送时补充从LCD衬底G溢落的显影液。
显影液去除区24d中，设置将LCD衬底G变换为例如倾斜状态的未示出的状态变换机构和向LCD衬底G表面喷出冲洗显影液的漂洗液(例如纯水)的漂洗液喷嘴52。LCD衬底G的显影反应在从第一显影液供给去24b向显影液去除区24d的运送期间进行。显影液去除区24d中，将LCD衬底G变换为倾斜状态在LCD衬底G上滴下显影液，在将LCD衬底G保持倾斜状态的状态下，通过边沿着LCD衬底G表面从LCD衬底G上方向下方扫描漂洗液喷嘴52边向LCD衬底G表面喷出纯水来冲洗LCD衬底G上的显影液。
漂洗液喷嘴52为在短时间中冲洗显影液，按例如500mm/s的速度扫描。实际上，漂洗液喷嘴52的扫描速度在100mm/s～300mm/s之间，更好在200mm/s～300mm/s之间，可提高显影图案的线宽度均匀性。作为漂洗液喷嘴52与显影液喷嘴51a，51b一样，最好使用膜状喷出漂洗液的结构，从而防止显影不匀的产生。
漂洗区24e中，安装向LCD衬底G喷出纯水等的漂洗液的漂洗喷嘴53。在漂洗区24e中，一边按规定速度运送LCD衬底G一边在LCD衬底G表面和里面喷出漂洗液，进行LCD衬底G上附着的显影液的去除和清洗。漂洗喷嘴53具有比LCD衬底G的宽度长的形状，可在LCD衬底G的整个宽度方向上喷出漂洗液。
运送通过漂洗区24e的LCD衬底G的干燥区24f中设置按规定风压喷射氮气等干燥气体的空气喷嘴(气刀)54。干燥区24f中边按规定速度运送LCD衬底G边在LCD衬底G表面和里面喷射干燥气体，吹落LCD衬底G上附着的漂洗液并干燥LCD衬底G。空气喷嘴54具有比LCD衬底G的宽度长的形状，可在LCD衬底G的整个宽度方向上喷出干燥气体。结束干燥处理的LCD衬底G由滚动运送机构14运送到i线UV照射单元(i-UV)25。
接着，说明显影处理单元(DEV)24的显影处理工序。图10是表示显影处理工序的概要的说明图(流程图)。运进通路单元(PASS)73的LCD衬底G由滚动运送机构14通过导入区24a而运进第一显影液供给区24b中(步骤1)。LCD衬底G从该通路单元(PASS)73向第一显影液供给区24b的运送速度例如为65mm/s。
第一显影液供给区24b中，作为把LCD衬底G停止在规定位置的状态(步骤2)，边以例如240mm/s的高速使显影液喷嘴51a，51b扫描边向LCD衬底G表面喷出显影液，进行显影液的盛装(步骤3)。通过设为停止LCD衬底G的状态容易驱动显影液喷嘴51a，51b。可稳定地向LCD衬底盛装显影液。
图11是表示显影液喷嘴51a，51b的扫描形态的说明图。使显影液喷嘴51a，51b从图11的右侧到左侧扫描，将图11所示的LCD衬底G的右端为盛装开始端，将左端作为盛装结束端。通过升降机构57调整显影液喷嘴51a，51b的高度位置后，使驱动机构46动作，开始显影液喷嘴51a，51b的扫描。主显影液喷嘴51a到达比盛装开始端靠右侧的规定位置，例如盛装开始端右侧1cm的位置(下面叫作喷出开始位置)时，开始从主显影液喷嘴51a喷出显影液(步骤3a)。由此确实从盛装开始端开始盛装显影液。同样，副显影液喷嘴51b到达喷出开始位置时，开始从副显影液喷嘴51b喷出显影液(步骤3b)。
之后，使显影液喷嘴51a，51b在LCD衬底G上扫描，在整个LCD衬底G上盛装显影液(步骤3c)。此时，如先前参考图9(a)，(b)说明的那样，显影液喷嘴51a，51b在LCD衬底G上扫描时，显影液向显影液喷嘴51a，51b的斜下方喷出。副显影液喷嘴51b不把主显影液喷嘴51a涂布在LCD衬底G上的显影液向显影液喷嘴51a，51b的扫描方向扫落而向LCD衬底G上涂布显影液。
虽然只要副显影液喷嘴51b达到通过盛装结束端持续向LCD衬底G喷出显影液就行，但更好是若主显影液喷嘴51a到达盛装结束端，就中止从主显影液喷嘴51a喷出显影液(步骤3d)，副显影液喷嘴51b到达盛装结束端，就中止从副显影液喷嘴51b喷出显影液(步骤3e)，移动显影液喷嘴51a，51b使得副显影液喷嘴51b的下端接近或与LCD衬底G的盛装结束端相接(步骤3f)。通过将副显影液喷嘴51b移动到这种位置，防止向LCD衬底G上涂布的显影液从盛装结束端溢落。在副显影液喷嘴51b与LCD衬底G相接时，通过该相接可进行更细致的控制，使得LCD衬底G不损坏。
图11所示的1次盛装作业结束后，把显影液喷嘴51a，51b返回盛装开始端，最好再次向LCD衬底G涂布显影液(步骤3g)。通过多次向LCD衬底G进行盛装，既可维持高的显影精度又可缩短显影时间。
图12A，12B，12C分别表示对LCD衬底G的盛装条件和得到的显影图案特性的关系的说明图，图12A是表示显影液喷嘴51a，51b的扫描速度和线宽度均匀性的关系，图12B是表示盛装次数和线宽度的关系，图12C是表示盛装次数和线宽度均匀性的关系。
图12A～C所示的结果是通过使用8微米或10微米的规定图案的掩模在规定条件下曝光处理LCD衬底G，接着在各种条件下对曝光的LCD衬底G显影，SEM观察这样得到的抗蚀剂膜的图案并测定线宽度(显影图案的凸起的宽度)来求出的。该SEM观察中，为对整个LCD衬底G进行观察，在LCD衬底G的大致中心处在等角度分割的8个方向上放射状地设置多个观察点。
图12A所示结果是使用形成线宽度10微米的图案的掩模，使从显影液喷嘴51a，51b喷出的显影液的流量与显影液喷嘴51a，51b的扫描速度无关而保持一定，通过改变显影液喷嘴51a，51b的扫描速度来进行1次盛装，并使显影时间(从开始显影液的涂布到从LCD衬底G取出显影液的时间)为一定得到的。图12A中的1个柱状曲线对应1块LCD衬底G。
如图12A所示，在显影液喷嘴51a，51b的盛装次数为1次时，显影液喷嘴51a，51b的扫描速度快可提高线宽度均匀性。考虑这是由于显影液盛装开始端的显影液滞留量降低，该开始端引起的显影部分的过剩反应受到抑制以及由于为缩短在整个LCD衬底G上盛装的时间为在整个LCD衬底G上均匀地进行显影反应。
所谓开始端引起的显影部分的过剩反应意思如下。即，显影液随着显影液喷嘴51a，51b的扫描提供给扫描方向，但此时部分显影液流向与扫描方向相反的方向。该返回的显影液在显影液盛装开始端不再流动而滞留在那里。因此，在显影液盛装开始端为过剩地提供显影液的状态，显影反应比其他部位进行得快，进行过剩反应。该显影部分的过剩反应结果是增大了面内的线宽度的不均。
通过加快显影液喷嘴51a，51b的扫描速度可降低返回显影液的量，因此可抑制显影液盛装开始端部分的过剩反应。
由于使从显影液喷嘴51a，51b喷出的显影液的流量和显影时间都是恒定，在扫描速度为100mm/s的情况下，平均线宽度为9.94微米，接近掩模图案，但在整个LCD衬底G中线宽度的不均增大。另一方面，在扫描速度为210mm/s的情况下，平均线宽度为9.78微米，比掩模图案稍窄，但在整个LCD衬底G中线宽度的不均减小。其结果是显影液喷嘴51a，51b的扫描速度快的情况下，增大显影液对抗蚀剂的冲击，显影反应更快，因此在扫描速度为210mm/s的情况下，认为显影反应过快是其中原因之一。从而，使显影液喷嘴51a，51b高速扫描时，通过缩短显影时间可使平均线宽度接近掩模图案，而且可提高线宽度均匀性。
图12B所示结果表示出使用形成线宽度为8微米的图案的掩模，在显影液喷嘴51a，51b的扫描速度为80mm/s，显影液的喷出量为5.6L(升)/分时和显影液喷嘴51a，51b的扫描速度为160mm/s，显影液的喷出量为9.4L(升)/分时，显影时间一定，改变盛装次数时的平均线宽度。如图12B所示，盛装次数增大时，平均线宽度变窄。认为这是由于盛装次数增大时，显影反应快速进行，通过增多盛装系数，可缩短显影时间。
图12C所示结果表示使用形成线宽度为8微米的图案的掩模，在显影液喷嘴51a，51b的扫描速度为80mm/s，显影液的喷出量为5.6L(升)/分时和显影液喷嘴51a，51b的扫描速度为160mm/s，显影液的喷出量为9.4L(升)/分时，显影时间一定，改变盛装次数时的线宽度均匀性。图12C中的1个柱状曲线对应1块LCD衬底G。
如图12C所示，盛装次数相同时，显影液喷嘴51a，51b的扫描速度越大，越倾向于提高线宽度均匀性。显影液喷嘴51a，51b的扫描速度快时(160mm/s)，盛装次数增多时，提高线宽度均匀性。从该结果可知，虽然显影液喷嘴51a，51b的扫描速度加快并且盛装次数增多，提高线宽度均匀性也有效。
使滚动运送机构14动作以例如46mm/s的运送速度将第一显影液供给区24b中的盛装处理结束了的LCD衬底G运送到第二显影液供给区24c(步骤4)。LCD衬底G通过第二显影液供给区24c时，从显影液补充喷嘴51c向LCD衬底G上补充显影液(步骤5)。
运送到第二显影液供给区24c的LCD衬底G再被运送到显影液去除区24d(步骤6)中，在那里将LCD衬底G变换为倾斜状态滴落LCD衬底G上的显影液(步骤7)，再将LCD衬底G保持倾斜状态的状态下从漂洗液喷嘴52向LCD衬底G的表面喷出漂洗液，如纯水，冲洗LCD衬底G上的显影液(步骤8)。
接着，将LCD衬底G被运送到漂洗区24e中(步骤9)，在那里边按规定速度运送LCD衬底G边向LCD衬底G的表面和里面喷出漂洗液，进行LCD衬底G上附着的显影液的去除和清洗(步骤10)。边进行这种漂洗处理边把通过漂洗区24e的LCD衬底G运送到干燥区24f中(步骤11)。干燥区24f中，边按规定速度运送LCD衬底G边通过空气喷嘴54进行干燥处理(步骤12)。结束干燥处理的LCD衬底G由滚动运送机构14运送到i线UV照射单元(i-UV)25(步骤13)，在那里进行规定的紫外线照射处理。
以上说明了本发明的实施例，但本发明不限于所述实施例。例如，配置在第一显影液供给区24b的显影液喷嘴可以是1根，可以是3根以上。使用1根显影液喷嘴的情况下，从显影液喷嘴喷出的显影液的流量必须增大，因此显影液喷出势头增强，为使喷出到LCD衬底G上的显影液不从LCD衬底G溢落，要控制显影液从显影液喷嘴的喷出状态，例如显影液的喷出方向和喷出势头。
在第一显影液供给区24b中，可以一边按不停止LCD衬底G并且涂布在LCD衬底G上的显影液不溢落的速度运送还可一边向LCD衬底G涂布显影液。另外，显影液喷嘴51a，51b的扫描方向与LCD衬底G的运送方向为相反的反向，但停止LCD衬底G的情况下，可使显影液喷嘴51a，51b在与LCD衬底G的运送方向垂直的方向上扫描。
发明效果
如上说明的那样，根据本发明的液体处理装置和液体处理方法，由于通过按规定速度使处理液喷嘴扫描可在短时间里涂布处理液，因此可在整个衬底上进行均匀的液体处理。这样，产生提高衬底品质，降低产品不良的发生率的效果。不需要高速运送涂布了处理液的衬底，因此也不需要急速停止衬底，从而可进行处理液不从衬底上溢落的液体处理，也不需要补充溢落的处理液相当量。另外，由于防止了因急速停止产生的应力对衬底引起的翘曲，衬底过度运转产生的损坏等问题的产生，因此制造成品率提高，维持负荷减轻。此外，衬底运送需要的空间与原来相同，因此可抑制装置的印刷台面增大。

Claims (22)

1.一种液体处理装置，其特征是，具有按大致水平状态在一个方向上运送衬底的运送机构；向通过所述运送机构运送的衬底表面喷出处理液的处理液喷嘴；使所述处理液喷嘴以规定速度在衬底上移动的喷嘴移动机构；
所述处理液喷嘴由沿所述喷嘴移动机构产生移动的方向并排设置、其长度方向与所述喷嘴移动机构的移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴2个喷嘴构成；
一边通过所述喷嘴移动机构移动所述处理液喷嘴，一边从所述处理液喷嘴喷出处理液，向衬底涂布处理液。
2.根据权利要求1的装置，其特征是，还具有在通过所述处理液喷嘴涂布所述处理液并由所述运送机构运送的衬底表面上，再涂布所述处理液并固定的处理液补充喷嘴。
3.根据权利要求2的装置，其特征是，所述处理液补充喷嘴在和所述衬底的运送方向正交的方向上具有长形状，对通过所述处理液补充喷嘴下方的衬底在与所述运送方向正交的整个方向上呈大致带状地补充所述处理液。
4.根据权利要求1、2或3的装置，其特征是，所述喷嘴移动机构在与所述衬底的运送方向相反的方向上移动所述处理液喷嘴。
5.根据权利要求1、2或3的装置，其特征是，所述主处理液喷嘴和所述副处理液喷嘴并排配置，以便将所述主处理液喷嘴放置在所述喷嘴移动机构的移动方向的前方，将所述副处理液喷嘴放置在所述喷嘴移动机构的移动方向的后方；
在与所述移动方向正交的整个方向上从所述主处理液喷嘴和所述副处理液喷嘴向所述衬底呈大致带状喷出所述处理液。
6.根据权利要求5的装置，其特征是，所述副处理液喷嘴和所述衬底的间隙比所述主处理液喷嘴和所述衬底的间隙宽。
7.根据权利要求5的装置，其特征是，所述主处理液喷嘴和所述副处理液喷嘴相对铅垂方向保持着5度以上15度以下的倾斜状态，以便在所述喷嘴移动机构移动时向移动方向的斜下方喷出所述处理液。
8.根据权利要求5的装置，其特征是，还具有升降所述主处理液喷嘴和所述副处理液喷嘴的升降机构，
在所述副处理液喷嘴到达结束喷出所述处理液的所述衬底的端面附近的规定位置时，所述升降机构使所述副处理液喷嘴的底面接近所述端面附近，使得涂布在所述衬底的处理液不从所述端面溢落。
9.根据权利要求1、2或3的装置，其特征是，在向所述衬底涂布所述处理液时，所述运送机构停止动作，并停止所述衬底。
10.根据权利要求1、2或3的液体处理装置，其特征是，所述喷嘴移动机构以100mm/s以上500mm/s以下的速度在大致水平方向上移动所述处理液喷嘴。
11.根据权利要求1的装置，其特征是，还具有按大致水平状态在一个方向上运送具有曝光处理的抗蚀剂涂膜的衬底的运送机构，
一边通过所述喷嘴移动机构以规定速度在与衬底的运送方向相反的方向上移动所述处理液喷嘴，一边从所述处理液喷嘴喷出显影液，使所述抗蚀剂涂膜接触显影液。
12.根据权利要求1的装置，其特征是，还具有在通过所述处理液喷嘴涂布显影液并由所述运送机构运送的衬底表面上，再涂布显影液的固定的显影液补充喷嘴。
13.一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将衬底运送到进行液体处理的液体处理区域的工序；
在所述液体处理区域，停止所述衬底的运送的工序；
一边使由沿移动方向并排设置、其长度方向与所述移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个向所述衬底上喷出所述处理液来对所述衬底涂布所述处理液的工序。
14.一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将衬底运送到进行液体处理的液体处理区域的工序；
在所述液体处理区域，把所述衬底的运送速度降低到比向所述液体处理区域的衬底运送速度慢的工序；
一边使由沿移动方向并排设置、其长度方向与所述移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个向所述衬底上喷出所述处理液来对所述衬底涂布所述处理液的工序。
15.根据权利要求13或14的液体处理方法，其特征是，一边按规定速度运送涂布了所述处理液的衬底，一边从向所述衬底涂布处理液并固定的处理液补充喷嘴喷出所述处理液，再向所述衬底涂布所述处理液。
16.根据权利要求13或14的液体处理方法，其特征是，在向所述衬底涂布处理液的工序中，在所述处理液喷嘴到达应结束所述处理液喷出的所述衬底的端面附近时，通过中止从所述处理液喷嘴喷出所述处理液，同时使所述处理液喷嘴接近所述端面附近，在所述衬底上涂布的处理液不从所述端面溢落。
17.根据权利要求13或14的液体处理方法，其特征是，在向所述衬底涂布处理液的工序中，一边使从所述处理液喷嘴喷出所述处理液，一边使所述处理液喷嘴在所述衬底上在水平方向上作多次移动，将所述处理液涂布到所述衬底上。
18.根据权利要求13或14的液体处理方法，其特征是，在向所述衬底涂布处理液的工序中，在按大致水平方向移动所述处理液喷嘴时，从所述处理液喷嘴向所述处理液喷嘴的移动方向的斜下后方喷出所述处理液。
19.根据权利要求13或14的液体处理方法，其特征是，在向所述衬底涂布处理液的工序中，使用2个喷嘴作为所述处理液喷嘴向所述衬底涂布所述处理液。
20.一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将具有曝光处理的抗蚀剂涂膜的衬底运送到显影液涂布区域的工序；
在所述显影液涂布区域，停止所述衬底的运送的工序；
一边使沿移动方向并排设置、其长度方向与所述移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个喷出所述显影液来在所述衬底上盛装所述显影液的工序；
把盛装了所述显影液的衬底运送到去除所述显影液的液体去除处理区域的工序。
21.一种液体处理方法，其特征是，具有：
按大致水平状态将具有曝光处理的抗蚀剂涂膜的衬底运送到显影液涂布区域的工序；
在所述显影液涂布区域，把所述衬底的运送速度降低到比向所述显影液涂布区域的衬底运送速度慢的工序；
一边使沿移动方向并排设置、其长度方向与所述移动方向正交的长的主处理液喷嘴和长的副处理液喷嘴组成的2个喷嘴在所述衬底上水平移动，一边从所述2个喷嘴的每个喷出所述显影液来在所述衬底上盛装所述显影液的工序；
把盛装了所述显影液的衬底运送到去除所述显影液的液体去除处理区域的工序。
22.根据权利要求20或21的方法，其特征是，在所述盛装液体工序后，并且在把衬底运送到所述液体去除处理区域的工序之前，一边以规定速度运送盛装了显影液的衬底，一边从固定的显影液补充喷嘴喷出显影液体，再向所述衬底盛装显影液。
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