JPH0529209A - 枚葉送り型現像装置 - Google Patents
枚葉送り型現像装置Info
- Publication number
- JPH0529209A JPH0529209A JP3204592A JP20459291A JPH0529209A JP H0529209 A JPH0529209 A JP H0529209A JP 3204592 A JP3204592 A JP 3204592A JP 20459291 A JP20459291 A JP 20459291A JP H0529209 A JPH0529209 A JP H0529209A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- development
- developing
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- developing device
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】枚葉送り型現像装置において、現像工程で発生
する不良をなくし、かつ現像液の力を利用して前工程で
すでに発生している不良要因を除去する。 【構成】枚葉送り型現像装置の現像ゾーン内の複数箇所
に配置されたスプレーノズル３，４，５それぞれのスプ
レー条件（吐出圧、吐出量および吐出方向等）を現像ゾ
ーン内の各箇所３，４，５ごとに独立に変えられる機能
を設ける。
する不良をなくし、かつ現像液の力を利用して前工程で
すでに発生している不良要因を除去する。 【構成】枚葉送り型現像装置の現像ゾーン内の複数箇所
に配置されたスプレーノズル３，４，５それぞれのスプ
レー条件（吐出圧、吐出量および吐出方向等）を現像ゾ
ーン内の各箇所３，４，５ごとに独立に変えられる機能
を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、枚葉送り型現像装置に
関し、特に液晶セル製造用として好適な枚葉送り型現像
装置に関する。
関し、特に液晶セル製造用として好適な枚葉送り型現像
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶製造ラインで使用される枚葉
送り型現像装置において、現像液は液タンクから１つの
ポンプによって、同種、同数のノズルが設定された数本
の塩ビ管に給液されるため各ノズルからスプレーされる
現像液の状態は現像ゾーン全体で一様であった。
送り型現像装置において、現像液は液タンクから１つの
ポンプによって、同種、同数のノズルが設定された数本
の塩ビ管に給液されるため各ノズルからスプレーされる
現像液の状態は現像ゾーン全体で一様であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例ではノズルからの液圧が大きいと入口側ニュートラ
ルゾーンにおいて基板上への現像液飛散によりピンホー
ルが発生する。その対策としてノズルからの液圧を落と
し使用することが一般的である。その結果現像工程にお
いて液条件を利用して前工程等で混入した被露光部レジ
スト中の異物を除去することはより困難であり、そのま
ま電極間ショート不良を発生させる大きな要因となって
いる。また基板表面上で現像液の置換のために必要な一
定以上の液圧および液量を設定した場合には前記ピンホ
ールを完全になくすことは不可能であった。
来例ではノズルからの液圧が大きいと入口側ニュートラ
ルゾーンにおいて基板上への現像液飛散によりピンホー
ルが発生する。その対策としてノズルからの液圧を落と
し使用することが一般的である。その結果現像工程にお
いて液条件を利用して前工程等で混入した被露光部レジ
スト中の異物を除去することはより困難であり、そのま
ま電極間ショート不良を発生させる大きな要因となって
いる。また基板表面上で現像液の置換のために必要な一
定以上の液圧および液量を設定した場合には前記ピンホ
ールを完全になくすことは不可能であった。
【０００４】本発明の目的は、上述の従来例における問
題点に鑑み、枚葉送り型現像装置において、現像工程で
発生する不良をなくすること、および現像液の力を利用
して前工程ですでに発生している不良要因を除去するこ
とをより可能にすることにある。
題点に鑑み、枚葉送り型現像装置において、現像工程で
発生する不良をなくすること、および現像液の力を利用
して前工程ですでに発生している不良要因を除去するこ
とをより可能にすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明では、現像ゾーン内のスプレー条件（吐出
圧、吐出量および吐出方向等）を現像ゾーン内の各箇所
ごとに独立に変えられる機能を設けたことを特徴とす
る。
め、本発明では、現像ゾーン内のスプレー条件（吐出
圧、吐出量および吐出方向等）を現像ゾーン内の各箇所
ごとに独立に変えられる機能を設けたことを特徴とす
る。
【０００６】本発明の好ましい態様においては、スプレ
ーノズルは現像ゾーン内の入口側、中央部および出口側
に配置されており、入口側スプレーノズルは他の箇所の
ノズルより被現像面通過面に近接して配置される。
ーノズルは現像ゾーン内の入口側、中央部および出口側
に配置されており、入口側スプレーノズルは他の箇所の
ノズルより被現像面通過面に近接して配置される。
【０００７】
【作用】上記構成においては、例えば入口側スプレーの
液圧を低く設定し、かつ中央部および出口側スプレーの
液圧を充分高く設定した場合、入口側スプレーの液圧が
低いので現像液の飛散によるピンホールを少なくするこ
とができ、かつ中央部および出口側スプレーの液圧が充
分高いので被現像面上の異物を除去でき、異物の存在に
よる現像不良を防止することができる。
液圧を低く設定し、かつ中央部および出口側スプレーの
液圧を充分高く設定した場合、入口側スプレーの液圧が
低いので現像液の飛散によるピンホールを少なくするこ
とができ、かつ中央部および出口側スプレーの液圧が充
分高いので被現像面上の異物を除去でき、異物の存在に
よる現像不良を防止することができる。
【０００８】
【効果】このように本発明によれば、現像ゾーン内のス
プレー状態をそれぞれの位置に適当な条件に設定するこ
とにより、ピンホールの発生を少なくすることと被現像
面上の異物を除去することを両立させることができる。
特に、液晶セル基板上にポジタイプフォトレジストを用
いて電極等を形成する場合、ポジタイプフォトレジスト
の被露光部に混在する異物を除去することにより、その
異物の存在に起因する現像不良を防止することができ
る。すなわち、本発明によれば、現像工程で発生する不
良をなくすること、および前工程ですでに発生している
不良要因を除去することに現像液の力を利用することが
より可能になる。
プレー状態をそれぞれの位置に適当な条件に設定するこ
とにより、ピンホールの発生を少なくすることと被現像
面上の異物を除去することを両立させることができる。
特に、液晶セル基板上にポジタイプフォトレジストを用
いて電極等を形成する場合、ポジタイプフォトレジスト
の被露光部に混在する異物を除去することにより、その
異物の存在に起因する現像不良を防止することができ
る。すなわち、本発明によれば、現像工程で発生する不
良をなくすること、および前工程ですでに発生している
不良要因を除去することに現像液の力を利用することが
より可能になる。
【０００９】
【実施例】図１および図２は、本発明の一実施例に係る
液晶セル基板製造用の枚葉送り型現像装置の構成を模式
的に示す上図および側面図である。図において、１はイ
ンローダ上に供給されたワークとしての基板、２，６は
ニュートラルゾーン、３は入口側ノズル、４は中央部ノ
ズル、５は後方ノズル、７はすすぎゾーン、１０は、矢
像液タンクである。白抜きの矢印（⇒）はワーク１の進
行方向を示し、矢印（→）は現像液の循環方向を示す。
液晶セル基板製造用の枚葉送り型現像装置の構成を模式
的に示す上図および側面図である。図において、１はイ
ンローダ上に供給されたワークとしての基板、２，６は
ニュートラルゾーン、３は入口側ノズル、４は中央部ノ
ズル、５は後方ノズル、７はすすぎゾーン、１０は、矢
像液タンクである。白抜きの矢印（⇒）はワーク１の進
行方向を示し、矢印（→）は現像液の循環方向を示す。
【００１０】入口側ノズル３は基板通過面に近く設置
し、かつ液圧を低くすることにより、液の飛散によるピ
ンホールを少なくしている。後方ノズル５は入口側ノズ
ル３および中央部ノズル４より液量および液圧を大きく
し、さらに基板上に形成すべき電極方向に平行に現像液
をスプレーすることにより、電極間の異物の除去をし易
くする。
し、かつ液圧を低くすることにより、液の飛散によるピ
ンホールを少なくしている。後方ノズル５は入口側ノズ
ル３および中央部ノズル４より液量および液圧を大きく
し、さらに基板上に形成すべき電極方向に平行に現像液
をスプレーすることにより、電極間の異物の除去をし易
くする。
【００１１】この場合、フォトレジスト塗布前にフォト
レジストの密着強度を出すための前処理を行なうこと
が、プレベーク温度を下げることを可能にし、そのこと
が露光時に異物回りへの光の回り込みによるレジストの
反応を速め、現像し易くし、被露光部に存在する異物の
除去に大きく効果する。
レジストの密着強度を出すための前処理を行なうこと
が、プレベーク温度を下げることを可能にし、そのこと
が露光時に異物回りへの光の回り込みによるレジストの
反応を速め、現像し易くし、被露光部に存在する異物の
除去に大きく効果する。
【００１２】図３は他の実施例について表わしたもので
ある。
ある。
【００１３】８は現像液供給口、９は入口側ノズル３に
対し現像液を供給し、かつ回収するための液動タンクで
ある。新液はタンク９のみに供給され、入口側ノズル３
より不図示の基板表面に滴下される。基板表面から流れ
落ちた現像液はタンク９および１０に回収される。ま
た、タンク９をオーバーフローした現像液もタンク１０
に供給される。図３の構成においては、ノズル４をスト
ップすることにより、常に一定の条件での現像が可能に
なり、プレベーク温度を下げ得ることとあいまって、ノ
ズル５の液圧、液量に起因する現像品質のバラツキを少
なくすることができる。
対し現像液を供給し、かつ回収するための液動タンクで
ある。新液はタンク９のみに供給され、入口側ノズル３
より不図示の基板表面に滴下される。基板表面から流れ
落ちた現像液はタンク９および１０に回収される。ま
た、タンク９をオーバーフローした現像液もタンク１０
に供給される。図３の構成においては、ノズル４をスト
ップすることにより、常に一定の条件での現像が可能に
なり、プレベーク温度を下げ得ることとあいまって、ノ
ズル５の液圧、液量に起因する現像品質のバラツキを少
なくすることができる。
【００１４】上記実施例の現像装置によれば、現像後半
にだけ液量を大にすることにより、 現像表面の液移
動不足からの現像不足はなくなり、中心部スプレーを少
なくすることにより、高品質な現像結果が得られる。
にだけ液量を大にすることにより、 現像表面の液移
動不足からの現像不足はなくなり、中心部スプレーを少
なくすることにより、高品質な現像結果が得られる。
【００１５】 また、一定液量に対する処理枚数が大
となり一枚当りの現像液代が小となる。
となり一枚当りの現像液代が小となる。
【００１６】さらに、プレベーク温度を低めに設定した
場合、 露光、現像時間が短くでき、その結果ライン
の能力アップが可能となる。 また、現像残り、剥り
残り等の不良が少なくなる。
場合、 露光、現像時間が短くでき、その結果ライン
の能力アップが可能となる。 また、現像残り、剥り
残り等の不良が少なくなる。
【図１】 本発明の一実施例に係る枚葉送り型現像装置
の概略の上面図である。
の概略の上面図である。
【図２】 図１の装置の概略の側面と現像液のフローを
示す説明図である。
示す説明図である。
【図３】 本発明の他の実施例に係る枚葉送り型現像装
置の概略の側面と現像液のフローを示す説明図である。
置の概略の側面と現像液のフローを示す説明図である。
１：インローダ上のワーク（基板）、２，６：現像装置
ニュートラルゾーン、３：入口側ノズル、４：中央部ノ
ズル、５：後方ノズル、７：すすぎゾーン、８：現像液
供給口、９，１０：現像液タンク。
ニュートラルゾーン、３：入口側ノズル、４：中央部ノ
ズル、５：後方ノズル、７：すすぎゾーン、８：現像液
供給口、９，１０：現像液タンク。
Claims (3)
- 【請求項１】 現像ゾーン内の複数箇所に配置されたス
プレーノズルのスプレー条件をそれぞれの箇所ごとに独
立に設定する手段を設けたことを特徴とする枚葉送り型
現像装置。 - 【請求項２】 前記スプレーノズルが現像ゾーン内の少
なくとも入口側、中央部および出口側の３か所に設けら
れるとともに、入口側のスプレーノズルが中央部および
出口側のものより被現像面通過面に近接して配置されて
いる請求項１記載の現像装置。 - 【請求項３】 前記出口側のスプレーノズルの吐出方向
が前記被現像面上に形成されるべきパターンの長手方向
に対し平行に設定されている請求項２記載の現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3204592A JPH0529209A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 枚葉送り型現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3204592A JPH0529209A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 枚葉送り型現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0529209A true JPH0529209A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16493024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3204592A Pending JPH0529209A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 枚葉送り型現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0529209A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008219043A (ja) * | 2001-07-05 | 2008-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
-
1991
- 1991-07-22 JP JP3204592A patent/JPH0529209A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008219043A (ja) * | 2001-07-05 | 2008-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |