CN100345683C - 喷墨记录用处理液及其相关产品和图像形成方法 - Google Patents

喷墨记录用处理液及其相关产品和图像形成方法 Download PDF

Info

Publication number
CN100345683C
CN100345683C CNB038117002A CN03811700A CN100345683C CN 100345683 C CN100345683 C CN 100345683C CN B038117002 A CNB038117002 A CN B038117002A CN 03811700 A CN03811700 A CN 03811700A CN 100345683 C CN100345683 C CN 100345683C
Authority
CN
China
Prior art keywords
ink
treatment fluid
jet recording
liquid
particulate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB038117002A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1655949A (zh
Inventor
安达浩
古川寿一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Publication of CN1655949A publication Critical patent/CN1655949A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100345683C publication Critical patent/CN100345683C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/0018After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using ink-fixing material, e.g. mordant, precipitating agent, after printing, e.g. by ink-jet printing, coating or spraying
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/21Ink jet for multi-colour printing
    • B41J2/2107Ink jet for multi-colour printing characterised by the ink properties
    • B41J2/2114Ejecting specialized liquids, e.g. transparent or processing liquids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks
    • C09D11/40Ink-sets specially adapted for multi-colour inkjet printing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/54Inks based on two liquids, one liquid being the ink, the other liquid being a reaction solution, a fixer or a treatment solution for the ink

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Abstract

本发明的课题是提供在普通纸上打印时也可以得到没有洇润的鲜明且有光泽感的图像,而且长期不使用放置时也不因干燥发生喷墨的喷嘴堵塞,而且有高可靠性的喷墨记录用处理液,该处理液与油墨组成的油墨组,填充这些的盒,使这些的喷墨记录图像形成方法及图像形成装置。一种喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液包含:与含有色料和水的记录液接触时与该色料进行反应的微粒,及至少1种沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)及沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下的条件:10≤a<40,b/a>1.5(a,b相对于处理液总量的重量比:wt%)。

Description

喷墨记录用处理液及其相关产品和图像形成方法
技术领域
本发明涉及喷墨记录技术领域,更详细地讲,涉及将含有微粒的处理液与含有被覆树脂色料(色材)的记录液组合为特征的油墨组,该油墨组用的特定处理液、该油墨组用的特定记录液、把这些处理液与记录液附着在被记录材料上形成图像的喷墨记录方法、及喷墨记录装置,容纳这些处理液与记录液的盒,使用该喷墨记录装置制的喷墨记录物等。
背景技术
将记录液形成液滴进行图像记录的喷墨记录方法,由于这种打印结构简单,故从成本低、体积小、且噪音少的方面考虑优选。
然而,由于与记录材料的组合容易发生以文字渗润(以下称为洇润)为代表的图像缺陷、尤其是在普通纸上有图像质量大大降低的问题。
对该问题提出了将记录液和含有与所述记录液中的色料形成凝聚物成分的处理液一起使用的方案。特许第2667401号公报记载了含有每1个分子有2个以上阳离子性基团的化合物的无色或淡色液体。特开平8-81611号公报记载了含有聚烯丙胺与甘油的液体组合物。
然而,这些方法由于是在所述高分子反应性成分溶解的状态下含有,故大量添加时导致粘度上升,产生记录头的喷出不佳。因此,必须降低反应性成分的含量缩小与色料反应造成的粘度变化,结果抑制洇润的效果小。
另外,特许第2675001号公报记载了含有多价金属盐的无色或淡色液体。特许第2711098号公报记载了含有季铵盐或胺盐的无色或淡色液体。特许第3026487号公报记载了含有季铵盐或胺盐,且含有多元醇的无色或淡色液体。
但这些所述的多价金属盐、胺化合物虽然可以大量地添加,但1个分子的尺寸小,即使是与色料反应也难形成大的凝聚体。因此,即使是与色料反应但粘度变化也小,结果抑制洇润的效果小。
作为进一步提高图像品质的方法,提出了作为与记录液中的色料形成凝聚物的成分,使用含有微粒的处理液的方法。
WO 00/06390号公报记载了含有包含带有紫外线吸收能和/或光稳定化能力部位的阳离子性乳液的反应液。特开平6-92010号公报记载了含有微粒或含有微粒与粘合剂聚合物的溶液。特开平11-228890号公报记载了含阴离子性金属氧化物胶体的实质上无色的液体组合物。特开2000-34432号公报记载了含有淡色或白色的水不溶性微粒、水溶性有机溶剂及水的液体组合物。
特开2001-171095号公报记载了无机氧化物颜料为主要成分的半透明白色油墨组合物。特开2001-19914号公报记载了含有与色料有反应性的微粒的液体组合物。特开2001-199150号公报,特开2001-199151号公报等记载了呈分散状态含有表面带电与油墨极性相反的微粒的液体组合物。
含有这些微粒的液体,由于呈分散状态含有反应性微粒,故与使所述高分子溶解的处理液相比,不仅可抑制液体粘度上升而且可以添加大量的反应成分。另外,微粒与多价金属盐等相比由于原本是大的粒子,故与色料反应如果分散遭到破坏也形成大的凝聚体。结果,产生大的粘度上升,由于色料的流动性得到抑制,故改善洇润等,图像品质提高效果大。
相反,含有大量微粒的分散液因水分蒸发而容易析出微粒。析出时成为喷嘴堵塞的原因,造成大的图像缺陷。然而,对防止喷嘴堵塞,所述的提案任何一个均没有任何考虑。
因此,同时满足减少洇润,和减少处理液析出造成堵塞的方法仍还没有提案。
另外,近年来又出现喷墨记录方法所形成的图像高质量感还不够的问题,尤其是要求有光泽感的图像,但还没有出现解决该问题的提案。
发明内容
本发明的课题是提供即使是打印在普通纸上时,也可以得到没有洇润(feathering)的鲜明且有光泽感的图像,而且即使是长期不使用放置时,也不因干燥产生喷墨喷嘴堵塞而有高可靠性的喷墨记录用处理液,包含该处理液与油墨的油墨组,填充这些的油墨盒,使用这些的喷墨记录图像形成方法及图像形成装置。
解决上述课题用的手段如下。
(1)喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液包含与含有色料和水的记录液接触时与该色料反应的微粒,和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)及该沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下的条件:
10≤a<40
b/a>1.50
(式中,所述含量a与含量b表示相对于处理液总量的重量比(wt%))。
(2)(1)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述含量a(wt%)及含量b(wt%)满足以下条件:
15≤a<40
b/a>1.50。
(3)(1)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述微粒是无机微粒。
(4)(3)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述无机微粒是阳离子性胶体二氧化硅。
(5)(1)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述水溶性有机溶剂是选自2-吡咯烷酮、二甘醇、三甘醇、甘油、3-甲基-1,3,5-戊三醇、2-乙基-2-(羟甲基)-1,3-丙二醇的至少1种化合物。
(6)(1)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液含有至少2种沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂。
(7)(1)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液含有表面活性剂。
(8)所述(7)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述表面活性剂是阳离子性化合物。
(9)(1)所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液含有防腐防霉剂。
(10)喷墨记录用油墨组,其特征在于,该油墨组包含:含有色料和水的记录液;以及含有在与所述记录液接触时与该色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的喷墨记录用处理液,该微粒的含量a(wt%)及该沸点为210℃或210℃以上的有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50
(式中,所述含量a及含量b表示相对于处理液总量的重量比(wt%))。
(11)(10)所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述色料是颜料及染料中的至少任意一种。
(12)(11)所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述色料是颜料。
(13)(10)所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述微粒是阳离子性,所述色料是阴离子性。
(14)(10)~(13)中任意一项所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述记录液含有水溶性有机溶剂。
(15)所述(10)~(14)中任意一项所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述记录液含有表面活性剂。
(16)所述(10)~(15)中任意一项所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述记录液含有防腐防锈剂。
(17)喷墨记录图像形成方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:将含有色料与水的记录液供给到被记录材料的步骤;和将含有与该记录液接触时与该色料进行反应的微粒及沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的喷墨记录用处理液供给到被记录材料的步骤,使所述记录液与所述处理液在被记录材料上接触形成图像,其中所述微粒的含量a(wt%)和所述沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50
(式中,所述含量a及含量b表示相对于处理液总量的重量比(wt%))。
(18)记录物,其特征在于,由记录液与喷墨记录用处理液接触并凝聚形成的油墨形成图像,该记录液含有色料与水,该喷墨记录用处理液含有在与该记录液接触时与该色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,所述微粒的含量a(wt%)及所述沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50
(式中,所述含量a及含量b表示相对于处理液总量的重量比(wt%))。
(19)喷墨记录用处理液盒,其特征在于,填充下述喷墨记录用处理液,该处理液包含:与含有色料和水的记录液接触时与该色料进行反应的微粒,和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,所述微粒的含量a(wt%)和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50
(式中,所述含量a及含量b表示相对于处理液总量的重量比(wt%))。
(20)喷墨记录用盒组,其特征在于,把填充含有色料与水的记录液的记录液盒和填充下述喷墨记录用处理液的处理液盒组合,所述喷墨记录用处理液含有与上述记录液接触时与所述色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)与该沸点为210℃或210℃以上的有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50
(式中,所述含量a与含量b表示相对于处理液总量的重量比(wt%))。
(21)喷墨记录图像形成装置,其特征在于,该装置安装有填充含有色料与水的记录液的记录液盒和填充下述喷墨记录用处理液的处理液盒,并且具有与该记录液盒连通并将该记录液供给到被记录材料的喷出装置,和与该处理液盒连通并将该处理液供给到被记录材料的喷出装置,使该记录液与该处理液在被记录材料上接触形成图像,其中所述喷墨记录用处理液含有在与上述记录液接触时与所述色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)与该沸点为210℃或210℃以上的有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.5
(式中,所述含量a及含量b表示相对于处理液总量的重量比(wt%))。
附图说明
图1是本发明中图像形成装置的一个例子。
图2是本发明中记录头的一个例子。
图3是本发明中记录头的另一个例子。
图4是装到本发明中安装到记录装置之前的盒的外观立体图。
图5是本发明中的盒的正截面图。
具体实施方式
以下,详细地说明本发明,但本发明不受以下说明的限制。
本发明的喷墨记录用处理液,以下述条件包含:与色料具有反应性的微粒,沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,
15≤a<40
b/a>1.50。
a:处理液中的微粒含量(wt%)
b:处理液中的沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂含量(wt%)
这里,处理液中的微粒含量a及处理液中的沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂含量b分别用相对于处理液总量的重量比(wt%)表示。
由于微粒呈带电荷的分散状态进行分散,故微粒彼此在电性排斥力作用下可稳定地形成分散相,与通常均匀的溶液状态相比,呈分散状态含有微粒的本发明喷墨记录用处理液不仅抑制粘度上升而且可以大量地添加反应成分。
记录液与喷墨记录用处理液进行接触时,记录液中的色料与微粒进行反应。此时,由于微粒的电荷被中和,排斥力减弱,故分散不稳定,形成凝聚体。本发明的处理液,如所述由于可以大量地含有反应成分,且反应成分本来以大的粒子分散,故一旦与记录液合在一起时便瞬间形成大的凝聚体,所以产生大的粘度变化。如果产生大的粘度变化,则可抑制记录液的流出,改善洇润。
微粒的含量a为10wt%或10wt%或10wt%以上时,粘度变化大,洇润大幅度地得到改善。微粒的含量a在小于40wt%的范围时,该效果大。另一方面,微粒的含量a小于10wt%时,由于粘度变化慢且小,故不能抑制记录液的流出。因此,洇润没得到改善。反之,微粒的含量a在40wt%以上时,处理液的稳定性降低容易凝胶化,容易引起记录头的堵塞。结果不喷出处理液导致产生图像缺陷。
另外,溶解有高分子的处理液,如果大量地添加反应成分则从与记录液接触前液体粘度太高,结果不能从喷墨头喷出,故不得不抑制反应成分的添加量。抑制反应成分的添加量后,与记录液合并时相关的反应中心少不产生大的粘度变化。结果,不产生记录液的流出,不发生洇润。
另外,溶解有多价金属盐或胺盐等低分子成分的处理液,即使大量地添加,液体粘度也不怎么上升,但与色料合并时由于难形成大的凝聚体,故不产生大的粘度变化。结果产生记录液的流出,发生洇润。
此外,呈分散状态大量含有微粒的分散液,当展色剂(ビヒクル)中的挥发成分蒸发后微粒成分的浓度上升时,分散状态破坏后有微粒容易析出的倾向。蒸发的挥发成分超过一定量时微粒析出,产生喷墨头喷嘴的堵塞。然而,本发明的处理液通过相对于微粒含有1.5倍以上的沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,即使挥发成分蒸发时,由于与微粒相溶性高的展色剂也残留充分的量,故微粒不析出可确保流动性。因此,长期保存时也不因干燥发生喷嘴堵塞。
此外,本发明的处理液,优选以下述条件含有与色料有反应性的微粒、沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂。
15≤a<40
b/a>1.50
a:处理液中的微粒含量(wt%)
b:处理液中的沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂含量(wt%)
记录液与处理液接触时,记录液中的色料与微粒反应,分散变得不稳定,形成凝聚体。处理液与记录液的混合液虽然渗透到记录纸中,但凝聚体堆积在记录纸的纤维之间形成凝聚体的层。处理液中的微粒含量为15wt%或15wt%以上时,由于微粒彼此的间隔小,故微粒彼此容易接触、凝聚,迅速地形成大的凝聚体。由于大的凝聚体容易堵塞纤维的孔,故堆积在记录纸表层上,当大量含有微粒时在记录纸表面形成厚凝聚层,会遮盖住记录纸表面。遮盖住记录纸表层时,在记录纸表面形成比原有纤维集合体平滑的表面并产生光泽感,形成高质量的印刷物。尤其是相片之类的印刷物,由于记录纸表面的光漫反射降低,故可以得到彩色的彩度提高、鲜明的图像。当然微粒含量a若是15wt%或15wt%或15wt%以上,则所述的洇润抑制数量也高。即,微粒含量a是15wt%或15wt%以上时,凝聚体的形成速度快,层的厚度充分,由于可在记录纸表面充分形成平滑的层,故从产生光泽感的观点考虑而优选。尤其是彩色图像,彩度提高后可得到鲜明的图像。
另外,该方案中,本发明的处理液通过相对于微粒含有超过1.5倍的沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,即使是挥发成分蒸发时,由于与微粒相溶性高的展色剂残留充分的量,故微粒不析出可确保流动性。因此,长期保存时也不因干燥而产生喷嘴堵塞。
此外,本发明的处理液可以含有2种或2种以上沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂。通过含有2种或2种以上沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,经时的液体物性更稳定。只含1种沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂时,低温保存时冻结后微粒凝聚,反之在高温保存时因相溶性的问题分散变得不稳定,有时微粒凝聚,但通过含有2种或2种以上沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,由于水溶性有机溶剂相互补充特性,故提高对环境变化的分散稳定性,可有效地防止凝聚造成的堵塞。
所谓微粒与色料的反应,是在微粒与色料之间发生的作用,大致可分成静电力、范德瓦耳斯力、磁力等物理作用,和使电子状态发生变化,如使共价键或离子键这类的结合状态变化的化学作用,通过第3种物质是利用光、热等外部能量引起的反应。
认为有关静电力的作用导致的微粒与色料的反应如下所述,但本发明不受这些说明限制。
本发明处理液中含有的微粒在粒子表面带有电荷,由于微粒彼此产生表面电荷的相斥作用,故分散稳定化。含有与微粒具有相反极性的色料的记录液与含有微粒的处理液接触时,色料借助电性的作用强力地吸附在微粒上。由于此时微粒的表面电荷被色料的电荷中和,故没有微粒相互的排斥作用,微粒与色料形成大的凝聚体。另外,色料具有的羰基或磺酰基等水溶性基团在吸附时被微粒遮盖,故凝聚体对水的溶解度迅速降低,凝聚体进一步增大。如果迅速地产生这种凝聚体的形成,则记录液与处理液对被记录材料渗透时,凝聚体便落在被记录材料的多孔部分,色料难发生移动,可有效地防止洇润和渗色。
另外,微粒与色料形成粒子状的凝聚物,堆积在被记录材料的表面附近成石墙状时,形成渗透性的膜。因此,由于展色剂迅速地向被记录材料中渗透,故渗色良好,而且干燥性也良好。作为与色料进行反应的化合物不是微粒而使用聚合物时,聚合物在被记录材料表面形成膜后,防碍展色剂的渗透。结果干燥性降低,印刷后触摸印刷物时油墨粘手,或产生图像污染。
另外,由于阳离子性微粒与阴离子性色料的凝聚物堆积在被记录材料的表面附近,故图像浓度高。
此外,由于油墨向被记录材料背面的渗出得到抑制,故可良好地进行两面印刷。
另外,阴离子性色料具有的羰基或磺酰基等水溶性基团在吸附时被阳离子性微粒遮盖,故凝聚体对水的溶解度降低,耐水性良好。
对本发明的处理液适用于图像形成方法时进行说明。
处理液被容纳在盒(cartridge)中,与跟盒连通的喷墨头、涂布辊等供给装置连通。使用这些供给装置把处理液与记录液这2种液体供给到被记录材料。这2种液体的供给顺序可以任意一种在先,也可以把任意一种液体分成2次以上供给。这里,对利用喷墨头先把处理液供给到被记录材料的情况进行说明。
利用喷墨头向被记录材料供给处理液后,再供给记录液,使记录液重叠在处理液上,或在被记录材料之上扩展记录液,2种液体成为可以相互接触程度的距离。
2种液体相互接触时,如所述处理液中的微粒的分散被破坏,形成微粒的凝聚体,在形成这种凝聚体的过程中,估计色料吸附在微粒表面上,或色料进入凝聚体的内部。
经过这样的过程,混合液的粘度上升,色料的流动性降低,同时凝聚体大型化。结果,凝聚体留在被记录材料的纤维间,色料的流出被抑制,故形成没有洇润的鲜明图像。
以下,具体地说明本发明。
本发明的处理液含有与记录液中的色料进行反应的微粒。微粒可以是有机微粒,也可以是无机微粒,还可以是有机无机复合微粒。粒子形状没有特殊限制,可以是球状、数珠状、无定形的任意一种。
作为有机微粒,可列举聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、三聚氰胺树脂、环氧树脂、硅树脂、苯并鸟粪胺树脂、聚酰胺树脂、氟系树脂、α,β-不饱和乙烯性单体采用乳液聚合制得的聚合物等。
作为无机微粒,大致分成碳酸钙等无机盐和二氧化硅(SiO2)等无机氧化物。
作为无机盐的具体例子,可列举碳酸钙、硝酸钙、氯化钙、硫酸钙、硝酸铝、氯化铝、硫酸铝、硫酸铁等,但不限定于这些。用作水系处理液时,从容易得到分散体的观点考虑,优选使用碳酸钙、硝酸钙、硫酸铁等在水中溶解度低的无机盐。另外,这些通过进行阳离子化处理可进一步提高色料的吸附能力、凝聚能力而更优选。现有技术中记载了使用阳离子剂进行改性的方法(特开平10-129113号公报,特开平11-20301号公报)。
作为无机微粒的具体例子,可列举二氧化硅(SiO2)、二氧化硅的阳离子化物、二氧化钛、氧化铝(Al2O3)等,但不限定于这些。
从反应性方面考虑,无机微粒中最优选阳离子性二氧化硅。阳离子性二氧化硅只要是二氧化硅的表面得到阳离子化处理的则可以使用。为了进行阳离子化,也可以化学性、物理性地在二氧化硅表面导入阳离子性化合物。例如,通过在二氧化硅的硅烷醇基上连接氨基化合物或使之与铝化合物反应,进行化学表面处理。另外,还可以将二氧化硅与阳离子性化合物在溶剂中进行混合,通过物理性地吸附阳离子性化合物后除去溶剂而物理性地进行表面处理。此时,作为用作核心材料(核材)的阴离子性二氧化硅的具体例子,可列举ST-ZL、ST-20、ST-30、ST-40、ST-C、ST-N、ST-O、ST-S、ST-50、ST-20L、ST-OL、ST-XS、ST-YL、ST-XL、ST-UP、ST-OUP(以上物质为日产化学制),Cataloid SI-350、SI-500(以上物质为デュポン制)、NipgelAY-220、AY-420、AY-460(以上为日本シリカ制)等。不限定于这些方法,只要是把二氧化硅表面处理成阳离子性的材料,则可以适当使用任意一种。
无机微粒可以产品形式得到。作为二氧化硅的阳离子化物可列举ST-AK(日产化学制)。作为三氧化二铝,可列举氧化铝溶胶100、200、520(以上为日产化学制)等。作为二氧化钛可列举氧化钛系列(出光兴产制)。这些微粒中也存在可以以水分散体形式得到的产品。
本发明的微粒可以是阳离子性无机有机复合微粒,只要是粒子状的阳离子性无机有机复合微粒则可以使用。
阳子性无机有机复合微粒,可通过使无机微粒的表面吸附阳离子性有机化合物,反之使有机化合物的表面吸附阳离子性无机化合物而制得。例如,用阳离子性高分子被覆的无机有机复合微粒,可以预先使无机微粒分散在水等溶剂中,然后往其中以水或水溶性有机溶剂的溶液状态慢慢加入阳离子性高分子而制得。
作为阳离子性高分子的具体例子,可列举聚烯丙胺、聚乙烯胺、聚酰亚胺、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯亚胺、聚乙烯吡啶、氨基缩醛化聚乙烯醇、紫罗烯聚合物、聚乙烯咪唑、聚乙烯苄基鏻、聚烷基烯丙铵、聚脒、聚胺砜、阳离子淀粉等阳离子性高分子化合物。
相对于处理液,微粒的添加量优选是10wt%或10wt%以上,从提高光泽度的观点考虑更优选15wt%或15wt%以上。含量小于10wt%时不能充分得到图像品质改善效果。另外,也可以并用多种微粒。
本发明的处理液为了防止干燥造成记录头的喷嘴堵塞含有沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,但也可以并用沸点小于210℃的水溶性有机溶剂。沸点的值可以从化学品生产公司发行的产品安全数据图表(MSDS),或溶剂手册(讲谈社发行)等专业书上了解到。水溶性有机溶剂包括润湿剂、渗透剂。润湿剂的具体例子包括乙二醇、二甘醇、三甘醇、四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、1,3-丁二醇、1,3-丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇,1,6-己二醇、丙三醇,1,2,6-己三醇,2-乙基-1,3-己二醇,1,2,4-丁三醇,1,2,3-丁三醇、季戊四醇(ペトリオ-ル)等多元醇类;乙二醇单***、乙二醇单丁醚、二甘醇单甲醚、二甘醇单***、二甘醇单丁醚、三甘醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、丙二醇单***等多元醇烷基醚类;乙二醇单苯基醚、乙二醇单苄基醚等多元醇芳基醚类;N-甲基-2-吡咯烷酮、N-羟乙基-2-吡咯烷酮、2-吡咯烷酮、1,3-二甲基咪唑啉酮、ε-己内酰胺等含氮杂环化合物;甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺等酰胺类;单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺等胺类;二甲基亚砜、环丁砜、硫代二乙醇等含硫化合物类;碳酸亚丙酯、碳酸亚乙酯、γ-丁内酯等。这些的溶剂可以单独地或多种与水混合使用。
另外,为了提高处理液与被记录材料的润湿性、调节渗透速度,添加渗透剂。作为渗透剂优选下述式(I)~(IV)表示的化合物。即,下述式(I)的聚氧乙烯烷基苯基醚系表面活性剂,式(II)的乙炔二醇系表面活性剂,式(III)的聚氧乙烯烷基醚系表面活性剂及式(IV)的聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚系表面活性剂,由于可以降低液体的表面张力,故可以提高润湿性,提高渗透速度。
Figure C0381170000161
(R是可以有支链的C6~C14烃链,k:5~20);
Figure C0381170000162
(m、n≤20,0<m+n≤40);
Figure C0381170000163
(R是可以有支链的C6~C14烃链,n为5~20)
Figure C0381170000164
(R是C6~C14烃链、m、n是20或20以下的数)
除了所述(I)~(IV)的化合物以外,例如可以使用二甘醇单苯基醚、乙二醇单苯基醚、乙二醇单烯丙基醚、二甘醇单苯基醚、二甘醇单丁基醚、丙二醇单丁醚、四乙二醇氯化苯基醚等多元醇的烷基及芳基醚类,聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物等非离子系表面活性剂,氟系表面活性剂、乙醇、2-丙醇等低级醇类,最优选二甘醇单丁基醚。
微粒的平均粒径优选是1000nm或1000nm以下,从喷出稳定性的观点考虑更优选500nm或500nm以下。即,1000nm以上时,容易产生喷出头的堵塞,容易产生喷出不良。
平均粒径可使用光学式粒度分布计进行测定,取粒子数50%的粒径表示。
微粒在以水为主要成分的展色剂中进行分散处理形成处理液。进行分散时为了使分散稳定化,优选使用胶溶剂。所谓胶溶剂是在带电性粒子表面形成双电层,双电层静电相斥防止粒子接近,使分散稳定化的助剂。由于微粒从中性到酸性带正电,故作为阴离子源的醋酸、硝酸、盐酸、甲酸、乳酸、及这些的碱金属盐、氧氯化锆水合物等锆化合物、焦磷酸钠、六偏磷酸钠、氨基乙磺酸作为胶溶剂使用,但本发明不限定于这些。
本发明的处理液可以采用以下的方法制至。将微粒与水和胶溶剂混合配制分散液。根据需要添加水溶性溶剂,使用胶溶机进行胶溶。作为此时使用的胶溶机,可列举高速旋转高剪切型搅拌胶溶机、溶解器、胶体磨、均化器、超声波式胶溶机等。更具体地,可列举T.K.自动均化混合机、T.K.高速微量管流动、超高速均化混合器、NNK胶体磨等。胶溶时的旋转转数依胶溶机的种类、构造而变化,优选500~10000rpm,更优选2000-8000rpm。胶溶时的温度优选5~100℃。胶溶时间根据胶溶机的种类、构造而变化,优选0.01~48小时。
本发明的处理液可以含有季铵盐、吡啶盐、咪唑啉型化合物等阳离性表面活性剂。具体地可列举月桂基甲基氯化铵、月桂基二甲基苄基氯化铵、苄基三丁基氯化铵、洁而灭、十六烷基氯化吡啶、2-十七碳烯基羟乙基咪唑啉等。
阳离子性表面活性剂具有隆低表面张力、提高与被记录材料的润湿性迅速形成微粒层,与此同时将阴离子性色料进行凝聚的作用,具有改善图像品质的效果。
本发明处理液的表面张力优选是20~60达因/cm,从兼具与被记录材料的润湿性和液滴的粒子化方面考虑,更优选是30~50达因/cm。
本发明处理液的粘度优选是1.0~20.0cp,从喷出稳定性方面考虑,更优选是3.0~10.0cp。
本发明处理液的pH优选是3~11,从微粒的分散稳定性方面考虑,更优选是3~6、及8~11。
对可以用于本发明油墨组的记录液进行说明。
作为本发明记录液使用的色料,可以使用染料、颜料,或将染料与颜料混合使用,但微粒为阳离子性时,使用阴离子性的色料时由于电性中和产生凝聚,故在提高图像质量方面优选。
此外,使用颜料比染料好。即,分散状态的颜料在电性中和时比溶解状态的染料更有效地产生凝聚,故提高图像质量效果高。
作为用于本发明所用记录液的颜料,有机颜料可列举偶氮类、酞菁类、蒽醌类、喹吖酮类、二嗪类、靛蓝类、硫化靛蓝类、苝类(ペリレン)、异吲哚满酮类(インインドレノン)、苯胺黑、甲亚胺类,若丹明13色淀颜料、炭黑等,无机颜料可列举氧化铁、氧化钛、碳酸钙、硫酸钡、氢氧化铝、钡黄、普鲁士蓝、镉红、铬黄、金属粉等。
作为具有阴离子性基团的颜料分散剂的例子,可以使用聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、苯乙烯-丙烯酸树脂,苯乙烯-马来酸树脂,水溶性乙烯基萘-丙烯酸树脂,水溶性乙烯基萘-马来酸树脂、β-萘磺酸甲醛缩合物、羧甲基纤维素、淀粉乙醇酸、藻酸钠、果胶酸、透明质酸等。这些阴离子系分散剂可以以酸的形式使用,也可以使用钠、钾等的碱金属盐。
作为表面有阴离子性基团的颜料的例子,作为其代表例可列举有羧基或磺酸基的碳黑。其他的例子可列举将酞菁系颜料、蒽醌系颜料进行氧化处理,或用发烟硫酸处理,或在颜料粒子的一部分中导入羧基或磺酸基的颜料。
作为本发明使用的水溶性染料,在染料索引(カラ-インデツクス)按酸性染料、直接染料、碱性染料、活性染料、食用染料分类的染料中优选使用耐水、耐光性好的染料。这些染料可以多种混合使用,或根据需要与颜料等其他的色料混合使用。这些着色剂在不影响本发明效果的范围内添加。
(a)酸性染料及食用染料可以使用:
C.I.酸性黄17、23、42、44、79、142
C.I.酸性红1、8、13、14、18、26、27、35、37、42、52、82、87、89、92、97、106、111、114、115、134、186、249、254、289
C.I.酸性蓝9、29、45、92、249
C.I.酸性黑1、2、7、24、26、94
C.I.食用黄3、4
C.I.食用红7、9、14
C.I.食用黑1、2等;
(b)直接染料可以使用:
C.I.直接黄1、12、24、26、33、44、50、86、120、132、142、144
C.I.直接红1、4、9、13、17、20、28、31、39、80、81、83、89、225、227
C.I.直接橙26、29、62、102
C.I.直接蓝1、2、6、15、22、25、71、76、79、86、87、90、98、163、165、199、202
C.I.直接黑19、22、32、38、51、56、71、74、75、77、154、168、171等;
(c)碱性染料可以使用:
C.I.碱性黄1、2、11、13、14、15、19、21、23、24、25、28、29、32、36、40、41、45、49、51、53、63、64、65、67、70、73、77、87、91
C.I.碱性红2、12、13、14、15、18、22、23、24、27、29、35、36、38、39、46、49、51、52、54、59、68、69、70、73、78、82、102、104、109、112
C.I.碱性蓝1、3、5、7、9、21、22、26、35、41、45、47、54、62、65、66、67、69、75、77、78、89、92、93、105、117、120、122、124、129、137、141、147、155
C.I.碱性黑2、8等;
(d)活性染料可以使用:
C.I.活性黑3、4、7、11、12、17
C.I.活性黄1、5、11、13、14、20、21、22、25、40、47、51、55、65、67
C.I.活性红1、14、17、25、26、32、37、44、46、55、60、66、74、79、96、97
C.I.活性蓝1、2、7、14、15、23、32、35、38、41、63、80、95等。
为了使本发明的记录液成为所期望的物性,或为防止干燥导致堵塞记录头的喷嘴等,除了色料外,优选使用水溶性有机溶剂。水溶性有机溶剂包括润湿剂、渗透剂。润湿剂是为了防止干燥导致堵塞记录头的喷嘴而添加。作为润湿剂的具体例子,可列举乙二醇、二甘醇、三甘醇、四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、1,3-丁二醇、1,3-丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇,1,5-戊二醇、1,6-己二醇、丙三醇、1,2,6-己三醇、2-乙基-1,3-己二醇、1,2,4-丁三醇、1,2,3-丁三醇、季戊四醇等多元醇类;乙二醇单***、乙二醇单丁醚、二甘醇单甲醚、二甘醇单***、二甘醇单丁醚、三甘醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、丙二醇单***等多元醇烷基醚类;乙二醇单苯基醚、乙二醇单苄基醚等多元醇芳基醚类;N-甲基-2-吡咯烷酮、N-羟乙基-2-吡咯烷酮、2-吡咯烷酮、1,3-二甲基咪唑啉酮、ε-己内酰胺等含氮杂环化合物;甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺等酰胺类;单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺等胺类;二甲基亚砜、环丁砜、硫代二乙醇等含硫化合物类;碳酸亚丙酯、碳酸亚乙酯、γ-丁内酯等。这些溶剂可以单独或多种与水混合使用。
另外,为了提高记录液与被记录材料的润湿性、调节渗透速度而添加渗透剂。作为渗透剂,优选下述式(I)~(IV)表示的表面活性剂。即,下述式(I)的聚氧乙烯烷基苯基醚系表面活性剂、(II)的乙炔二醇系表面活性剂、式(III)的聚氧乙烯烷基醚系表面活性剂及式(IV)的聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚系表面活性剂,由于可以降低液体的表面张力,故可以提高润湿性,提高渗透速度。
Figure C0381170000201
(R是可以有支链的C6~C14烃链,k:5~20);
Figure C0381170000202
(m、n≤20,0<m+n≤40);
Figure C0381170000211
(R是可以有支链的C6~C14烃链)
Figure C0381170000212
(R是C6~C14烃链,m、n是20或20以下的数)。
除了所述(I)~(IV)的化合物以外,例如可以使用二甘醇单苯基醚、乙二醇单苯基醚、乙二醇单烯丙基醚、二甘醇单苯基醚、二甘醇单丁基醚、丙二醇单丁基醚、四乙二醇氯苯基醚等多元醇的烷基及芳基醚类,聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物等非离子系表面活性剂,氟系表面活性剂,乙醇、2-丙醇等低级醇类,最优选二甘醇单丁基醚。
本发明记录液的表面张力优选是20~60达因/cm,从兼顾与被记录材料的润湿性和液滴的粒子化方面考虑更优选30~50达因/cm。
本发明记录液的粘度优选是1.0~20.0cp,从喷出稳定性方面考虑更优选是3.0~10.0cp。
本发明记录液的pH优选是3~11,从防止接触液体的金属部件腐蚀方面考虑更优选是6~10。
本发明的处理液和油墨组使用的记录液可以含有防腐防霉剂。通过含有防腐防霉剂,可以抑制细菌的繁殖,从而可以提高保存稳定性、图像质量稳定性。作为防腐防霉剂,可以使用苯并***、脱氢乙酸钠、山梨酸钠、2-吡啶硫醇-1-氧化钠、异噻唑啉系化合物、苯甲酸钠、五氯酚钠等。
本发明的处理液及油墨组使用的记录液可以含有防锈剂。通过含有防锈剂,在记录头等接触液体的金属面上形成被膜,可以防止腐蚀。作为防锈剂,例如可以使用酸性亚硫酸盐、硫代硫酸钠、硫代二乙醇酸铵(アンモン)、二异丙基亚硝酸铵(ニトライト)、四硝酸季戊四醇酯、二环己基硝酸亚铵等。
本发明的处理液及油墨组使用的记录液可以含有抗氧剂。通过含有抗氧剂,在产生成为腐蚀原因的自由基中心时,利用抗氧剂消灭自由基中心的作用可以防止腐蚀。作为抗氧剂,代表性的是酚系化合物类、胺系化合物类。作为酚系化合物类,可列举对苯二酚、棓酸酯(ガレ-ト)等化合物,2,6-二叔丁基-对-甲酚、硬脂基-β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、2,2′-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2′-亚甲基双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4,4′-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1,1,3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)异氰脲酸酯、四[亚甲基-3(3′,5′-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等受阻酚系化合物,作为胺系化合物类,可列举N,N′-二苯基-对-苯二胺、苯基-β-萘基胺、苯基-α-萘基胺、N,N′-β-萘基-对苯二胺、N,N′-二苯基乙二胺、吩噻嗪、N,N′-二仲丁基-对苯二胺、4,4′-四甲基-二氨基二苯基甲烷等。
另外,作为后者,代表性的是硫系化合物类、磷系化合物类。作为硫系化合物,可列举二月桂基硫代丙酸酯、二硬脂基硫代丙酸酯、月桂基硬脂基硫代丙酸酯、二肉豆蔻基硫代丙酸酯、二硬脂基β,β′-硫代二丁酸酯、2-巯基苯并咪唑、二月桂基硫醚等;作为磷系化合物类,可列举亚磷酸(フオスフアイト)三苯酯、亚磷酸三-十八烷基酯、亚磷酸三癸酯、三硫代亚磷酸三月桂酯、亚磷酸二苯基异癸酯、亚磷酸三壬基苯酯、亚磷酸二硬脂基季戊四醇酯等。
本发明的处理液及油墨组使用的记录液可以含有pH调节剂。作为pH调节剂,可以使用氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属元素的氢氧化物、氢氧化铵、季铵氢氧化物、季鏻氢氧化物、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾等碱金属的碳酸盐、二乙醇胺、三乙醇胺等胺类、硼酸、盐酸、硝酸、硫酸、醋酸等。
本发明的喷墨记录用油墨组,其特征在于,将所述本发明的喷墨记录用处理液,与含有与该处理液接触时与该处理液中的微粒进行反应的色料的记录液组合。
本发明的喷墨记录用处理液盒,除了填充所述本发明的喷墨记录用处理液以外没有特殊限制。另外,本发明的喷墨记录图像形成装置,安装有填充本发明喷墨记录用处理液的处理液盒,和含有与该处理液接触时与该处理液中的微粒进行反应的色料的记录液盒,并且具有与该记录液盒连通并把该记录液供给到被记录材料的喷出装量,和与该处理液盒连通把该处理液供给到被记录材料的喷出装置,使该记录液与该处理液在被记录材料上接触形成图像,除此之外没有特殊限制。
利用附图对本发明的喷墨记录方法,及实施该方法的图像形成装置进行说明。
图1表示本发明图像形成装置的一个例子。图像形成装置1把所述本发明的处理液与记录液容纳在盒20中,从盒中向记录头供给处理液与记录液。
这里,可在处理液用、每种颜色的记录液用分开的状态下安装盒20。
记录头装载在滑座(キヤリツジ)18上,利用被主扫描马达24驱动的定时带(タイミングベルト)23被导向轴(ガイドシヤフト)21、22引导进行移动。另一方面,被记录材料利用台板置于与记录头对置的位置。图像形成装置1用主体筐体2罩盖、有齿轮机构16、副扫描马达17、维持***驱动马达26及齿轮机构25、27。
把记录头的喷嘴面的放大图示于图2。喷出处理液的喷嘴31沿纵向设置,分别从喷嘴32、33、34、35喷出黄色记录液、品红色记录液、蓝色记录液、黑色记录液。
另外,也可以如图3所示,记录头上全部横向排列喷嘴。图中36及41是处理液的喷出喷嘴,分别从喷嘴37、38、39、40喷出黄色记录液、品红色记录液,蓝色记录液、黑色记录液。这种形态的记录头,由于处理液的喷出喷嘴设在左右的两端,故记录头在往返在滑座上的去路、回路任何一个方向均可以打印。即,不论是在去路、回路的任何一个方向均先附着处理液,然后再附着彩色记录液,或相反地进行,故不因记录头移动方向的不同而产生图像浓度差。
本发明的图像形成装置可以通过更换盒而补充处理液及记录液。另外,该盒也可以与记录头一体化。
图4与图5表示可容纳本发明处理液及记录液的盒的一个例子。
示于图4与图5中的盒可以容纳处理液·记录液的任意一种。图4与图5中,处理液·记录液共用盒7在盒筐体49内容纳有吸附记录液或处理液的液体吸收体42。盒筐体49是在盒43的上部开口处粘接或熔接上盖部件44而形成,例如由树脂成型品构成。另外,液体吸收体42由聚氨酯发泡体等多孔体构成,压缩***盒筐体49内后,吸收记录液或处理液。
上盖部件44上形成有槽48,在该槽的大致中心部形成大气开放口47。大气开放口47用带状密封部件55封住,密封部件55使用阻隔空气(不透过)的材质,例如使用铝片或空气透过率低的高分子片等形成。该密封部件55是在与盒的粘接面上涂布熔粘用的材料,通过热封粘附在槽48的周边。槽48是为了避免被粘接用的材料封住大气开放口47设置层错而形成的。使用盒时剥掉密封部件55使盒7内通大气。通大气后空气侵入空间A内,则记录时记录液或处理液顺利地供给到记录头。
在盒筐体49的盒43底部形成向记录头供给记录液或处理液用的液体供给口45。通过将盖板50上形成的防止漏液用凸部51***液体供给口45,可以防止搬运盒时的漏液。在液体供给口45的四周装有液体供给口45与防止漏液用凸部51连接时进行密封的橡胶等弹性密封圈46。使用盒时取下盖板50。
在盒筐体49的盒43侧面形成盒位置固定部71,把盒7装到滑座18上时盒筐体49固定在设定的位置上。
为了更换盒7而要从滑座18上取出时,把手指***盒装卸用凹部82,用手指边压盒装卸用凸部81侧面的盒装却用指触突起81a边取出。
本发明的喷墨记录图像形成方法,包括将所述本发明的喷墨记录用处理液供给到被记录介质的步骤、和将含有与该处理液接触时与该处理液中的微粒进行反应的色料的记录液供给到被记录材料的步骤,使该处理液与该记录液在被记录材料上接触形成图像。
各打印头喷出记录液与处理液后堆积的范围,最优选记录液与处理液堆积在同一个部位。但本发明不限定于该范围。例如间歇供给处理液由于渗透等,故记录液堆积在扩大的处理液的上面,或只对图像的轮廓部分供给处理液、堆积一部分记录液的情况也包括在本发明的范围内。
另外,由该记录液与本发明喷墨记录用处理液接触后凝聚的油墨形成图像的记录物也包括在本发明的范围内。
此外,本发明喷墨记录用盒组的特征在于,将所述本发明的喷墨记录用处理液盒与包含下述记录液的记录液盒组合,该记录液含有在与该盒中所含的处理液接触时与该处理液中的微粒进行反应的色料。
以下,通过实施例更具体地说明本发明。但本发明不受这些实施例限制。
(1)处理液的制造方法
把以下所示的各种处理液成分混合,搅拌后,使用聚四氟乙烯系氟树脂过滤器(0.8μm)进行过滤、制造各种处理液。另外,微粒分散液也可以购买市售产品使用,但要根据需要减压除去水分进行浓度调整。再者,阳离子性胶体二氧化硅、三氧化二铝等的微粒重量表示微粒固体成份(不是市售的分散液的重量)。此外,下述成分表示中的“份”表示“重量份”。
<处理液1>
阳离子性胶体二氧化硅                                   5份
(日产化学公司制,スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      10份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制,カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液2>
阳离子性胶体二氧化硅                                   5份
(日产化学公司制,スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      15份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制,カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液3>
阳离子性胶体二氧化硅                                   5份
(日产化学公司制,スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      20份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制,カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液4>
阳离子性胶体二氧化硅                                   5份
(日产化学公司制,スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制,カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液5>
阳离子性胶体二氧化硅                                   10份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      10份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液6>
阳离子性胶体二氧化硅                                   10份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      15份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液7>
阳离子性胶体二氧化硅                                   10份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      20份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液8>
阳离子性胶体二氧化硅                                   10份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液9>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      10份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液10>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      15份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液11>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      20份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液12>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスンAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液13>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
1,3-丁二醇(沸点207.5℃)                               10份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液14>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
1,3-丁二醇(沸点207.5℃)                               15份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液15>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
1,3-丁二醇(沸点207.5℃)                               20份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液16>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
1,3-丁二醇(沸点207.5℃)                               25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液17>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
丙二醇(沸点188.2℃)                                    25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液18>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
乙二醇(沸点197.6℃)                                    25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液19>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2-甲基-2,4-戊二醇(沸点198.0℃)                        25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液20>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
N-甲基-2-吡咯烷酮(沸点202.0℃)                         25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液21>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2,2-二甲基-1,3-丙二醇(沸点208.0℃)                   25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液22>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
1,6-己二醇(沸点208.0℃)                               25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液23>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
3-甲基-1,3,5-戊三醇(沸点216.0℃)                     25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液24>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
二丙二醇(沸点233.0℃)                                  25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液25>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
1,5-戊二醇(沸点239.0℃)                               25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液26>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
二甘醇(沸点244.0℃)                                    25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液27>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2-吡咯烷酮(沸点245.0℃)                                25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液28>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
三甘醇(沸点285.0℃)                                    25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液29>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2-乙基-2-(羟甲基)-1,3-丙二醇(沸点295.0℃)             25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液30>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2-吡咯烷酮(沸点245.0℃)                                12.5份
二甘醇(沸点244.0℃)                                    12.5份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液31>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2-吡咯烷酮(沸点245.0℃)                                12.5份
三甘醇(沸点285.0℃)                                    12.5份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液32>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2-吡咯烷酮(沸点245.0℃)                                12.5份
2-乙基-2-(羟甲基)-1,3-丙二醇(沸点295.0℃)             12.5份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液33>
阳离子性胶体二氧化硅                                   15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
2-吡咯烷酮(沸点245.0℃)                                12.5份
3-甲基-1,3,5-戊三醇(沸点216.0℃)                     12.5份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液34>
三氧化二铝溶胶520                                      15份
甘油(沸点290.0℃)                                      25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液35>
三氧化二铝溶胶520                                      15份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      25份
非离子性表面活性剂                                     2份
(日本油脂公司制デイスパノ一ルTOC)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液36>
聚烯丙胺被覆二氧化硅                                   15份
甘油(沸点290.0℃)                                      25份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液37>
阳离子性胶体二氧化硅                                   20份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      25份
非离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液38>
阳离子性胶体二氧化硅                                    20份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       30份
阳离子性表面活性剂                                      2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                              0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                              余量
<处理液39>
阳离子性胶体二氧化硅                                    20份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       35份
非离子性表面活性剂                                      2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                              0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                              余量
<处理液40>
阳离子性胶体二氧化硅                                    25份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       30份
阳离子性表面活性剂                                      2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                              0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                              余量
<处理液41>
阳离子性胶体二氧化硅                                    25份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       35份
阳离子性表面活性剂                                      2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液42>
阳离子性胶体二氧化硅                                   25份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      40份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液43>
阳离子性胶体二氧化硅                                   30份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      35份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液44>
阳离子性胶体二氧化硅                                   30份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      40份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液45>
阳离子性胶体二氧化硅                                    30份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       45份
阳离子性表面活性剂                                      2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                              0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                              余量
<处理液46>
阳离子性胶体二氧化硅                                    30份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       50份
阳离子性表面活性剂                                      2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                              0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                              余量
<处理液47>
阳离子性胶体二氧化硅                                    35份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       40份
阳离子性表面活性剂                                      2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                              0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                              余量
<处理液48>
阳离子性胶体二氧化硅                                    35份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                       45份
阳离子性表面活性剂                                        2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                                0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                                余量
<处理液49>
阳离子性胶体二氧化硅                                      35份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                         50份
阳离子性表面活性剂                                        2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                                0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                                余量
<处理液50>
阳离子性胶体二氧化硅                                      35份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                         55份
阳离子性表面活性剂                                        2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                                0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                                余量
<处理液51>
阳离子性胶体二氧化硅                                      40份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                         45份
阳离子性表面活性剂                                        2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                                0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液52>
阳离子性胶体二氧化硅                                   40份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      50份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液53>
阳离子性胶体二氧化硅                                   40份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      55份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
<处理液54>
阳离子性胶体二氧化硅                                   40份
(日产化学公司制スノ一テツクスAK)
甘油(沸点290.0℃)                                      60份
阳离子性表面活性剂                                     2份
(三洋化成公司制カチオンG50)
防腐防霉剂                                             0.4份
(アビシア公司制PROXEL LV(S))
离子交换水                                             余量
(2)记录液的制备方法
把以下所示的各种记录液成分混合、搅拌后,用聚四氟乙烯系氟树脂过滤器(0.8μm)进行过滤,制备各种记录液。
<记录液1>
颜料(キヤボツト公司制キヤボジエツト300)                    10份
1,3-丁二醇                                                22.5份
甘油                                                       7.5份
表面活性剂(I),R=C9H19,k=12                           1份
2-吡咯烷酮                                                 2份
脱氢乙酸钠                                                 0.2份
硫代硫酸钠                                                 0.2份
防腐防霉剂(アビシア公司制PROXEL LV(S))                     0.4份
离子交换水                                                 余量
<记录液2>
C.I.直接黑168                                              4份
乙二醇                                                     15份
甘油                                                       5份
表面活性剂(I),R=C9H19,k=12                           1份
防腐防霉剂(アビシア公司制PROXEL LV(S))                     0.4份
离子交换水                                                 余量
用LiOH水溶液把pH调到10.5后使用。
<记录液3>
颜料(キヤボツト公司制,キヤボジエツト300)                  6份
C.I.直接黑168                                              4份
1,3-丁二醇                                                22.5份
甘油                                                       7.5份
表面活性剂(I),R=C9H19,k=12                           1份
2-吡咯烷酮                                                 2份
脱氢乙酸钠                                                 0.2份
硫代硫酸钠                                                 0.2份
防腐防霉剂(アビシア公司制PRO XLELV(S))                     0.4份
离子交换水                                                 余量
(3)实施例1~21,比较例1~33的保湿性评价,放置后的喷出稳定性评价把表1-1~表1-3所述的处理液10毫升分别加到50毫升烧杯中,在50℃的恒温槽中使烧杯口呈开放的状态加热放置除去挥发成分,实施保湿性的加速试验。观察在50℃加热72小时后处理液残渣的状态,按以下的标准进行主观评价。
○:确保流动性
△:略有凝聚的倾向
×:白化,或产生龟裂
另外,把表1-1~表1-3所述的处理液分别加到IpsioJet300用油墨盒(リコ-制,型号J300)中,装在IpsioJet300(リコ-制)上。再将喷头反复清洗2次,填充处理液直到喷嘴处。在该状态下不加保湿盖将喷嘴面通大气在室温下放置1小时。然后,观察处理液在纸上打印{(5cm×5cm)的全图像},处理液的喷出不佳。按以下的标准进行主观评价。
○:完全没有喷出不良,实施全面均匀的打印
×:发现不喷出部分
把保湿性评价的结果和放置后的喷出稳定性评价的结果一起示于表1-1~1-3。
[表1-1]
  微粒   水溶性有机溶剂   水溶性有机溶剂的沸点(℃)   沸点210℃以上的水溶性有机溶剂含量b   b/a   表面活性剂   保湿性评价结果   放置后的喷出稳定性评价
  种类   含量a(wt%)   种类   含量(wt%)   加热后残渣的状态
  比较例1   处理液1   阳离子性二氧化硅   5   甘油   10   290.0   10   2.00   G50   ○   良好   ○
  比较例2   处理液2   阳离子性二氧化硅   5   甘油   15   290.0   15   3.00   G50   ○   良好   ○
  比较例3   处理液3   阳离子性二氧化硅   5   甘油   20   290.0   20   4.00   G50   ○   良好   ○
  比较例4   处理液4   阳离子性二氧化硅   5   甘油   25   290.0   25   5.00   G50   ○   良好   ○
  比较例5   处理液5   阳离子性二氧化硅   10   甘油   10   290.0   10   1.00   G50   ×   产生龟裂   ×
  比较例6   处理液6   阳离子性二氧化硅   10   甘油   15   290.0   15   1.50   G50   ×   产生龟裂   ×
  实施例1   处理液7   阳离子性二氧化硅   10   甘油   20   290.0   20   2.00   G50   ○   良好   ○
  实施例2   处理液8   阳离子性二氧化硅   10   甘油   25   290.0   25   2.50   G50   ○   良好   ○
比较例7 处理液9 阳离子性二氧化硅 15 甘油 10 290.0 10 0.67 G50 × 白化 ×
  比较例8   处理液10   阳离子性二氧化硅   15   甘油   15   290.0   15   1.00   G50   ×   白化   ×
  比较例9   处理液11   阳离子性二氧化硅   15   甘油   20   290.0   20   1.33   G50   ×   部分聚集   ×
  实施例3   处理液12   阳离子性二   15   甘油   25   290.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  氧化硅
  比较例10   处理液13   阳离子性二氧化硅   15   1,3-丁二醇   10   207.5   0   0.00   G50   ×   白化、产生龟裂   ×
  比较例11   处理液14   阳离子性二氧化硅   15   1,3-丁二醇   15   207.5   0   0.00   G50   ×   白化、产生龟裂   ×
  比较例12   处理液15   阳离子性二氧化硅   15   1,3-丁二醇   20   207.5   0   0.00   G50   ×   白化、产生龟裂   ×
  比较例13   处理液16   阳离子性二氧化硅   15   1,3-丁二醇   25   207.5   0   0.00   G50   ×   白化、产生龟裂   ×
  比较例14   处理液17   阳离子性二氧化硅   15   丙二醇   25   188.2   0   0.00   G50   ×   产生龟裂   ×
  比较例15   处理液18   阳离子性二氧化硅   15   乙二醇   25   197.6   0   0.00   G50   ×   产生龟裂   ×
  比较例16   处理液19   阳离子性二氧化硅   15   2-甲基-2,4-戊二醇   25   198.0   0   0   G50   ×   白化   ×
  比较例17   处理液20   阳离子性二氧化硅   15   N-甲基-2-吡咯烷酮   25   202.0   0   0   G50   ×   白化、产生龟裂   ×
[表1-2]
  微粒   水溶性有机溶剂   水溶性有机溶剂的沸点(℃)  沸点210℃以上的水溶性有机溶剂含量b   b/a   表面活性剂   保湿性评价结果   放置后的喷出稳定性评价
  种类   含量a(wt%)   种类   含量(wt%)   加热后残渣的状态
  比较例18   处理液21   阳离子性二氧化硅   15   2,2-二甲基-1.3-丙二醇   25   208.0   0   0   G50   ×   白化   ×
  比较例19   处理液22   阳离子性二氧化硅   15   1,6-己二醇   25   208.0   0   0   G50   ×   产生龟裂、固液分离   ×
  实施例4   处理液23   阳离子性二氧化硅   15   3-甲基-1,3,5-戊三醇   25   216.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例5   处理液24   阳离子性二氧化硅   15   二丙二醇   25   233.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例6   处理液25   阳离子性二氧化硅   15   1,5-戊二醇   25   239.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例7   处理液26   阳离子性二氧化硅   15   二甘醇   25   244.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例8   处理液27   阳离子性二氧化硅   15   2-吡咯烷酮   25   245.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例9   处理液28   阳离子性二氧化硅   15   三甘醇   25   285.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例10   处理液29   阳离子性二氧化硅   15   2-乙基-2(羟甲基)-1,3-丙二醇   25   295.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例11   处理液30   阳离子性二   15   2-吡咯烷酮/   12.5/12.5   245.0/244.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  氧化硅   二甘醇
  实施例12   处理液31   阳离子性二氧化硅   15   2-吡咯烷酮/三甘醇   12.5/12.5   245.0/285.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例13   处理液32   阳离子性二氧化硅   15   2-吡咯烷酮/2-乙基-2-(羟甲基)-1,3-丙二醇   12.5/12.5   245.0/295.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例14   处理液33   阳离子性二氧化硅   15   2-吡咯烷酮/3-甲基-1,3,5-戊三醇   12.5/12.5   245.0/216.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
[表1-3]
  微粒   水溶性有机溶剂   水溶性有机溶剂的沸点(℃)   沸点210℃以上的水溶性有机溶剂含量b   b/a   表面活性剂   保湿性评价结果   放置后的喷出稳定性评价
  种类   含量a(wt%)   种类   含量(wt%)   加热后残渣的状态
  实施例15   处理液34   三氧化二铝溶胶   15   甘油   25   290.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  实施例16   处理液35   阳离子性二氧化硅   15   甘油   25   290.0   25   1.67   T0C   ○   良好   ○
  实施例17   处理液36   聚烯丙胺被覆二氧化硅   15   甘油   25   290.0   25   1.67   G50   ○   良好   ○
  比较例20   处理液37   阳离子性二氧化硅   20   甘油   25   290.0   25   1.25   G50   ×   白化   ×
  比较例21   处理液38   阳离子性二氧化硅   20   甘油   30   290.0   30   1.50   G50   ×   白化   ×
  实施例18   处理液39   阳离子性二氧化硅   20   甘油   35   290.0   35   1.75   G50   ○   良好   ○
  比较例22   处理液40   阳离子性二氧化硅   25   甘油   30   290.0   30   1.20   G50   ×   白化   ×
  比较例23   处理液41   阳离子性二氧化硅   25   甘油   35   290.0   35   1.40   G50   ×   白化   ×
  实施例19   处理液42   阳离子性二氧化硅   25   甘油   40   290.0   40   1.60   G50   ○   良好   ○
  比较例24   处理液43   阳离子性二氧化硅   30   甘油   35   290.0   35   1.17   G50   ×   白化   ×
  比较例25   处理液44   阳离子性二氧化硅   30   甘油   40   290.0   40   1.33   G50   ×   白化   ×
  比较例26   处理液45   阳离子性二   30   甘油   45   290.0   45   1.50   G50   ×   白化   ×
  氧化硅
  实施例20   处理液46   阳离子性二氧化硅   30   甘油   50   290.0   50   1.67   G50   ○   良好   ○
  比较例27   处理液47   阳离子性二氧化硅   35   甘油   40   290.0   40   1.14   G50   ×   白化   ×
  比较例28   处理液48   阳离子性二氧化硅   35   甘油   45   290.0   45   1.29   G50   ×   白化   ×
  比较例29   处理液49   阳离子性二氧化硅   35   甘油   50   290.0   50   1.43   G50   ×   白化   ×
  实施例21   处理液50   阳离子性二氧化硅   35   甘油   55   290.0   55   1.57   G50   ○   良好   ○
  比较例30   处理液51   阳离子性二氧化硅   40   甘油   45   290.0   45   1.13   G50   ×   从初期凝胶化   ×
  比较例31   处理液52   阳离子性二氧化硅   40   甘油   50   290.0   50   1.25   G50   ×   从初期凝胶化   ×
  比较例32   处理液53   阳离子性二氧化硅   40   甘油   55   290.0   55   1.38   G50   ×   从初期凝胶化   ×
  比较例33   处理液54   40   甘油   60   290.0   60   1.50   G50   ×   从初期凝胶化   ×
(4)实施例22~44,比较例34~52的图像质量评价
把表2-1及表2-2所述的处理液填充在Ipsio Jet300用油墨盒(リコ-制,型号J300)中,装在Ipsio Jet300改造机上进行打印试验。按以下的标准主观评价文字的渗透情况。把结果示于表2-1及表2-2。
等级5:完全不渗出
等级4:略有渗出
等级3:有渗出,但实际使用上没问题
等级2:渗出较多
等级1:渗出多
另外,测全黑部分的60°光泽度。把结果示于表2-1和表2-2。
测定器:60°光泽度测定器(BYK Gardner公司制)
另外,印刷时的记录液附着量、处理液附着量调节成如以下的量后实施。
记录液附着量:11.0g/m2
处理液附着量:13.0g/m2
[表2-1]
  微粒   水溶性有机溶剂   记录液   色材   图像质量评价结果   60℃光泽度
  微粒种类   含量(wt%)   溶剂种类   含量(wt%)
  比较例34   处理液1   阳离子性二氧化硅   5   甘油   10   记录液1   颜料   1   1.86
  比较例35   处理液2   阳离子性二氧化硅   5   甘油   15   记录液1   颜料   1   1.85
  比较例36   处理液3   阳离子性二氧化硅   5   甘油   20   记录液1   颜料   1   1.90
  比较例37   处理液4   阳离子性二氧化硅   5   甘油   25   记录液1   颜料   1   1.92
  比较例38   处理液5   阳离子性二氧化硅   10   甘油   10   记录液1   颜料   3   2.07
  比较例39   处理液6   阳离子性二氧化硅   10   甘油   15   记录液1   颜料   3   2.05
  实施例22   处理液7   阳离子性二氧化硅   10   甘油   20   记录液1   颜料   4   2.09
  实施例23   处理液8   阳离子性二氧化硅   10   甘油   25   记录液1   颜料   4   2.03
  比较例40   处理液9   阳离子性二氧化硅   15   甘油   10   记录液1   颜料   4   2.73
  比较例41   处理液10   阳离子性二氧化硅   15   甘油   15   记录液1   颜料   4   2.81
  比较例42   处理液11   阳离子性二氧化硅   15   甘油   20   记录液1   颜料   5   2.90
  实施例24   处理液12   阳离子性二氧化硅   15   甘油   25   记录液1   颜料   5   2.80
  实施例25   处理液23   阳离子性二氧化硅   15   3-甲基-1,3,5-戊三醇   25   记录液1   颜料   5   2.79
  实施例26   处理液24   阳离子性二氧化硅   15   二丙二醇   25   记录液1   颜料   5   2.95
  实施例27   处理液25   阳离子性二氧化硅   15   1,5-戊二醇   25   记录液1   颜料   5   2.77
  实施例28   处理液26   阳离子性二氧化硅   15   二甘醇   25   记录液1   颜料   5   2.84
  实施例29   处理液27   阳离子性二氧化硅   15   2-吡咯烷酮   25   记录液1   颜料   5   2.94
  实施例30   处理液28   阳离子性二氧化硅   15   三甘醇   25   记录液1   颜料   5   2.88
  实施例31   处理液29   阳离子性二氧化硅   15   2-乙基-2-(羟甲基)-1,3-丙二醇   25   记录液1   颜料   5   2.87
  实施例32   处理液30   阳离子性二氧化硅   15   2-吡咯烷酮/二甘醇   12.5/12.5   记录液1   颜料   5   2.90
  实施例33   处理液31   阳离子性二氧化硅   15   2-吡咯烷酮/三甘醇   12.5/12.5   记录液1   颜料   5   2.79
[表2-2]
  微粒   水溶性有机溶剂   记录液   色材   图像质量评价结果   60℃光泽度
  微粒种类   含量(wt%)   溶剂种类   含量(wt%)
  实施例34   处理液32   阳离子性二氧硅   15   2-吡咯烷酮/2-乙基-2-(羟甲基)-1,3-丙二醇   12.5/12.5   记录液1   颜料   5   2.99
  实施例35   处理液33   阳离子性二氧硅   15   2-吡咯烷酮/3-甲基-1,3,5-戊三醇   12.5/12.5   记录液1   颜料   5   2.84
  实施例36   处理液34   三氧化二铝溶胶   15   甘油   25   记录液1   颜料   5   2.64
  实施例37   处理液35   阳离子性二氧硅   15   甘油   25   记录液1   颜料   5   2.81
  实施例38   处理液36   聚烯丙胺被覆二氧化硅   15   甘油   25   记录液1   颜料   5   2.88
  实施例39   处理液12   阳离子性二氧化硅   15   甘油   25   记录液2   颜料   4   2.81
  实施例40   处理液12   阳离子性二氧化硅   15   甘油   25   记录液3   颜料/染料   5   2.61
  比较例43   处理液37   阳离子性二氧化硅   20   甘油   25   记录液1   颜料   5   2.77
  比较例44   处理液38   阳离子性二氧化硅   20   甘油   30   记录液1   颜料   5   2.68
  实施例41   处理液39   阳离子性二氧化硅   20   甘油   35   记录液1   颜料   5   2.64
  比较例45   处理液40   阳离子性二氧化硅   25   甘油   30   记录液1   颜料   5   2.80
  比较例46   处理液41   阳离子性二氧化硅   25   甘油   35   记录液1   颜料   5   2.83
  实施例42   处理液42   阳离子性二氧化硅   25   甘油   40   记录液1   颜料   5   2.89
  比较例47   处理液43   阳离子性二氧化硅   30   甘油   35   记录液1   颜料   5   2.64
  比较例48   处理液44   阳离子性二氧化硅   30   甘油   40   记录液1   颜料   5   2.91
  比较例49   处理液45   阳离子性二氧化硅   30   甘油   45   记录液1   颜料   5   2.76
  实施例43   处理液46   阳离子性二氧化硅   30   甘油   50   记录液1   颜料   5   2.81
  比较例50   处理液47   阳离子性二氧化硅   35   甘油   40   记录液1   颜料   5   2.90
  比较例51   处理液48   阳离子性二氧化硅   35   甘油   45   记录液1   颜料   5   2.81
  比较例52   处理液49   阳离子性二氧化硅   35   甘油   50   记录液1   颜料   5   2.82
  实施例44   处理液50   阳离子性二氧化硅   35   甘油   55   记录液1   颜料   5   2.95
(5)实施例45~61的保存稳定性评价
把表3所述的处理液分别加到Ipsio Jet300用油墨盒(リコ-制,型号J300)中密闭,在5种环境下※放置10天。抽出处理液,测定放置后的粘度与平均粒径,通过与放置前的测定值进行比较,评价盒中的保存稳定性。按以下的标准进行定量评价。把结果示于表3-1~表3-3。
○:放置前后的变动幅度没有超过10%的项目
△:放置前后的变动幅度超过10%的项目1~2个
×:放置前后的变动幅度超过10%的项目3个以上
※①在室温下放置
②在50℃的恒温槽中放置
③在70℃的恒温槽中放置
④在-20℃的恒温槽中放置
⑤在每隔一天重复-20℃/50℃这种程序控制的恒温槽中放置
粘度测定:R型旋转式粘度计(东机产业有限公司制)
粒径测定:Microtrac UPA150(日机装有限公司制)
[表3-1]
Figure C0381170000531
阴影部分表示变动率为10%以上
[表3-2]
阴影部分表示变动率为10%以上
[表3-3]
Figure C0381170000551
阴影部分表示变动率为10%以上
由以上详细且具体的说明可以看出,本发明通过提高处理液的保湿性,可以有效地抑制处理液头的堵塞,且通过含有一定量以上的反应成分可以提高图像质量(减少洇润、减少渗色、提高图像浓度、减少透油浓度、提高擦过性、提高速干性)。并可以进一步提高光泽度,可以提高彩色图像的彩度。通过使之含有特定的反应成分提高反应性,可进一步提高图像质量。另外,通过使用难挥发、与微粒的相溶性高的水溶性有机溶剂,还可以进一步抑制处理液喷头的堵塞。
利用2种水溶性有机溶剂相互补充特性,可以提高低温保存、高温保存时的处理液的保存稳定性。另外,通过提高处理液的渗透性,瞬间使液体被纸吸收,可以减少洇润、减少渗色、提高速干性。
通过阳离子性表面活性剂与微粒进行反应,可以进一步提高图像质量(减少洇润、减少渗色、提高图像浓度、降低透油浓度、提高擦过性、提高速干性)。另外,通过含有防腐防霉剂,可以将长期保存时的处理液的液物性稳定化。
通过将上述处理液与含有颜料、染料或这两者的记录液一起使用,可以形成鲜明的记录物。另外,通过提高记录液的保湿性,可以防止记录液头的堵塞。
通过提高记录液的渗透性瞬间使液体被纸吸收,可以减少洇润、减少渗色、提高速干性。另外,通过含有防腐防霉剂,可以将长期保存时的记录液的液物性稳定化。
另外,本发明可以形成同时满足低洇润、低渗色、高图像浓度、低透油浓度、高擦过耐久性、速干的图像。还可以得到同时满足低洇润、低渗色、高图像浓度、低透油浓度、高擦过耐久性、速干的记录物。另外,可以不把记录液、处理液弄洒而把记录液与处理液装到记录装置中。

Claims (20)

1.喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液包含:与含有色料和水的记录液接触时与该色料反应的微粒,和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)及该沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50。
2.权利要求1所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述含量a(wt%)及含量b(wt%)满足以下条件:
15≤a<40
b/a>1.50。
3.权利要求1所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述微粒为无机微粒。
4.权利要求3所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述无机微粒是阳离子性胶体二氧化硅。
5.权利要求1所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述水溶性有机溶剂是选自2-吡咯烷酮、二甘醇、三甘醇、甘油、3-甲基-1,3,5-戊三醇、2-乙基-2-(羟甲基)-1,3-丙二醇的至少1种化合物。
6.权利要求1所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液含有至少2种沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂。
7.权利要求1所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液含有表面活性剂。
8.权利要求7所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,所述表面活性剂是阳离子性化合物。
9.权利要求1所述的喷墨记录用处理液,其特征在于,该处理液含有防腐防霉剂。
10.喷墨记录用油墨组,其特征在于,该油墨组包含:含有色料和水的记录液,和下述喷墨记录用处理液,该处理液含有在与所述记录液接触时与该色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)及该沸点为210℃或210℃以上的有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50。
11.权利要求10所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述色料是颜料和染料中的至少任意一种。
12.权利要求10所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述微粒是阳离子性,所述色料是阴离子性。
13.权利要求10所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述记录液含有水性有机溶剂。
14.权利要求10所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述记录液含有表面活性剂。
15.权利要求10所述的喷墨记录用油墨组,其特征在于,所述记录液含有防腐防霉剂。
16.喷墨记录图像形成方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:将含有色料与水的记录液供给到被记录材料的步骤;和将下述喷墨记录用处理液供给到被记录材料的步骤,该处理液含有与该记录液接触时与该色料进行反应的微粒及沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,其中所述微粒的含量a(wt%)和所述沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50
使所述记录液与所述处理液在被记录材料上接触形成图像。
17.记录物,其特征在于,由记录液与喷墨记录用处理液接触并凝聚的油墨形成图像,该记录液含有色料与水,该喷墨记录用处理液含有在与该记录液接触时与该色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,所述微粒的含量a(wt%)及所述沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50。
18.喷墨记录用处理液盒,其特征在于,填充下述喷墨记录用处理液,该处理液包含:在与含有色料和水的记录液接触时与该色料进行反应的微粒,和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,所述微粒的含量a(wt%)和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50。
19.喷墨记录用墨盒组,其特征在于,把填充含有色料与水的记录液的记录液盒和填充下述喷墨记录用处理液的处理液盒相组合,所述喷墨记录用处理液含有与上述记录液接触时与所述色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)与该沸点为210℃或210℃以上的有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.50。
20.喷墨记录图像形成装置,其特征在于,该装置安装有填充含有色料与水的记录液的记录液盒和填充下述喷墨记录用处理液的处理液盒,并且具有与该记录液盒连通并将该记录液供给到被记录材料的喷出装置,和与该处理液盒连通并将该处理液供给到被记录材料的喷出装置,使该记录液与该处理液在被记录材料上接触形成图像,其中所述喷墨记录用处理液含有在与上述记录液接触时与所述色料进行反应的微粒和沸点为210℃或210℃以上的水溶性有机溶剂,该微粒的含量a(wt%)与该沸点为210℃或210℃以上的有机溶剂的含量b(wt%)满足以下条件:
10≤a<40
b/a>1.5。
CNB038117002A 2002-05-22 2003-05-22 喷墨记录用处理液及其相关产品和图像形成方法 Expired - Fee Related CN100345683C (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002148042 2002-05-22
JP148042/2002 2002-05-22
JP2002238731A JP2004042593A (ja) 2002-05-22 2002-08-20 インクジェット記録用処理液、インクセット、これらが充填されたカートリッジ、これらを用いたインクジェット記録画像形成方法および画像形成装置
JP238731/2002 2002-08-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1655949A CN1655949A (zh) 2005-08-17
CN100345683C true CN100345683C (zh) 2007-10-31

Family

ID=29552350

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB038117002A Expired - Fee Related CN100345683C (zh) 2002-05-22 2003-05-22 喷墨记录用处理液及其相关产品和图像形成方法

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP1547793A4 (zh)
JP (1) JP2004042593A (zh)
KR (1) KR100708562B1 (zh)
CN (1) CN100345683C (zh)
SG (3) SG160199A1 (zh)
WO (1) WO2003097371A1 (zh)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004167996A (ja) * 2002-11-22 2004-06-17 Brother Ind Ltd 画像記録方法
US7478902B2 (en) * 2004-11-04 2009-01-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Inkjet compositions
CN102295860A (zh) 2005-03-31 2011-12-28 精工爱普生株式会社 塑料膜用的处理液、印刷底层液、墨液组合物和使用了这些的喷墨记录方法
JP5425357B2 (ja) * 2005-08-16 2014-02-26 株式会社ミマキエンジニアリング インクジェットプリンタとそれを用いたプリント方法
US8881651B2 (en) 2006-02-21 2014-11-11 R.R. Donnelley & Sons Company Printing system, production system and method, and production apparatus
US8869698B2 (en) 2007-02-21 2014-10-28 R.R. Donnelley & Sons Company Method and apparatus for transferring a principal substance
US8967044B2 (en) 2006-02-21 2015-03-03 R.R. Donnelley & Sons, Inc. Apparatus for applying gating agents to a substrate and image generation kit
US9463643B2 (en) 2006-02-21 2016-10-11 R.R. Donnelley & Sons Company Apparatus and methods for controlling application of a substance to a substrate
MX2008010724A (es) 2006-02-21 2009-06-19 Moore Wallace North Am Inc Sistemas y metodos de impresion variable a alta velocidad.
US9701120B2 (en) 2007-08-20 2017-07-11 R.R. Donnelley & Sons Company Compositions compatible with jet printing and methods therefor
CA2700458C (en) 2007-08-20 2016-09-27 Moore Wallace North America, Inc. Apparatus and methods for controlling application of a substance to a substrate
JP5316023B2 (ja) 2009-01-27 2013-10-16 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録方法および記録物
US9033484B2 (en) * 2010-02-26 2015-05-19 Ricoh Company, Ltd. Inkjet treatment liquid and inkjet recording apparatus
CN101851867B (zh) * 2010-06-02 2012-08-01 黄文泉 纺织品印染墨水及其制备方法
JP6107141B2 (ja) 2013-01-07 2017-04-05 株式会社リコー 画像形成方法及び画像形成装置
JP6753453B2 (ja) * 2018-12-05 2020-09-09 セイコーエプソン株式会社 インクセット
JP6939961B2 (ja) * 2018-12-05 2021-09-22 セイコーエプソン株式会社 インクセット
JP7443386B2 (ja) * 2019-09-30 2024-03-05 富士フイルム株式会社 捺染用インクセット及び捺染方法
CN111823727A (zh) * 2020-07-15 2020-10-27 广州市贝云科技有限公司 喷印装置及喷印***

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0887391A1 (en) * 1997-06-26 1998-12-30 Seiko Epson Corporation Ink jet recording ink and method
EP0892024A1 (en) * 1997-07-16 1999-01-20 Seiko Epson Corporation Ink jet recording method
EP1099731A2 (en) * 1999-11-12 2001-05-16 Canon Kabushiki Kaisha Image forming process, ink set, image by ink-jet recording, recorded article, surface-treated article and surface treating process

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62124165A (ja) * 1985-11-25 1987-06-05 Canon Inc 記録液
US5948512A (en) * 1996-02-22 1999-09-07 Seiko Epson Corporation Ink jet recording ink and recording method
US6460989B1 (en) * 1999-11-12 2002-10-08 Canon Kabushiki Kaisha Ink set, formation of colored area on recording medium, and ink-jet recording apparatus
JP2001262018A (ja) * 2000-03-21 2001-09-26 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット用インク及びその製造方法、並びに、インクジェット記録方法
US6786588B2 (en) * 2001-03-23 2004-09-07 Ricoh Company Limited Pretreatment liquid for recording material and image recording method using the pretreatment liquid

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0887391A1 (en) * 1997-06-26 1998-12-30 Seiko Epson Corporation Ink jet recording ink and method
EP0892024A1 (en) * 1997-07-16 1999-01-20 Seiko Epson Corporation Ink jet recording method
EP1099731A2 (en) * 1999-11-12 2001-05-16 Canon Kabushiki Kaisha Image forming process, ink set, image by ink-jet recording, recorded article, surface-treated article and surface treating process

Also Published As

Publication number Publication date
SG162622A1 (en) 2010-07-29
EP1547793A4 (en) 2005-08-17
EP1547793A1 (en) 2005-06-29
JP2004042593A (ja) 2004-02-12
WO2003097371A1 (en) 2003-11-27
KR100708562B1 (ko) 2007-04-19
SG160199A1 (en) 2010-04-29
CN1655949A (zh) 2005-08-17
SG188671A1 (en) 2013-04-30
KR20050004171A (ko) 2005-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100345683C (zh) 喷墨记录用处理液及其相关产品和图像形成方法
CN1271152C (zh) 油墨组、喷墨记录方法及记录装置
CN1154705C (zh) 液体组合物和油墨***,使用它们的成像方法和设备
CN1263599C (zh) 图像形成方法和图像记录物、液体组合物、喷墨记录装置
CN1324095C (zh) 喷墨记录用油墨组合物、使用这种组合物的记录方法和记录物
CN1237122C (zh) 复合颗粒、其制备方法以及使用该复合颗粒的颜料、油漆和树脂组合物
CN1182210C (zh) 油墨,组配油墨,油墨墨盒,记录元件,图像记录装置和图像记录方法
CN1252194C (zh) 测量液体组分的方法、液体组分、油墨组、在记录介质上形成着色部分的方法以及喷墨记录装置
CN1272386C (zh) 复合颗粒以及使用其制备的胎面橡胶、涂料和树脂组合物
CN100335571C (zh) 液体组合物,油墨组件,在记录介质中形成着色部分的方法以及喷墨记录装置
CN1871314A (zh) 用于喷墨记录的油墨、喷墨记录方法、油墨墨盒和喷墨记录装置
CN1890111A (zh) 油墨组、处理液、记录液、图像记录装置和图像记录方法
CN1662378A (zh) 喷墨记录装置及喷墨记录方法
CN1578735A (zh) 喷墨记录方法、记录装置、油墨·记录介质组、记录物
CN101040014A (zh) 记录墨水、墨盒、墨水记录物、喷墨记录装置和喷墨记录方法
CN1961050A (zh) 水性墨水、成套水性墨水、墨盒、喷墨记录装置、喷墨记录方法以及图像形成方法
CN101048469A (zh) 记录油墨、墨盒、油墨记录物、喷墨记录装置、和喷墨记录方法
CN1977004A (zh) 水性墨水、喷墨记录方法、墨盒、记录单元、喷墨记录装置和图像形成方法
CN101048287A (zh) 喷墨记录装置和喷墨记录方法
CN101035872A (zh) 喷墨记录用水性油墨
CN1727413A (zh) 喷墨用的液体组合物、油墨组、记录方法及记录装置
CN101076395A (zh) 胶囊化物及其制造方法以及油墨组合物
CN1622983A (zh) 喷墨记录用墨水、制造墨水的方法和喷墨记录方法
CN1320667A (zh) 墨水,喷墨打印机墨水,减少喷墨记录头的加热器表面上焦烧的方法,喷墨记录的方法,喷墨记录装置,记录器和延长喷墨记录寿命的方法
CN1869135A (zh) 喷墨记录用油墨、喷墨记录方法、墨盒及喷墨记录装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20071031

Termination date: 20170522