CH642401A5 - Verfahren zum gravieren von werkstueckflaechen durch aetzen. - Google Patents

Verfahren zum gravieren von werkstueckflaechen durch aetzen. Download PDF

Info

Publication number
CH642401A5
CH642401A5 CH1046579A CH1046579A CH642401A5 CH 642401 A5 CH642401 A5 CH 642401A5 CH 1046579 A CH1046579 A CH 1046579A CH 1046579 A CH1046579 A CH 1046579A CH 642401 A5 CH642401 A5 CH 642401A5
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
pattern
photoresist layer
workpiece
carrier film
etching
Prior art date
Application number
CH1046579A
Other languages
English (en)
Inventor
Ulrich Wagner
Original Assignee
Standex Int Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Standex Int Gmbh filed Critical Standex Int Gmbh
Publication of CH642401A5 publication Critical patent/CH642401A5/de

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/18Coating curved surfaces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/24Curved surfaces

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Bending Of Plates, Rods, And Pipes (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Gravieren einer beliebig gekrümmten oder ebenen Fläche eines Werkstücks durch Ätzen unter Verwendung einer dünnen, flexiblen Trägerfolie, welche ein ablösbares Muster aus einer lichtundurchlässigen Farbe trägt, wobei die Trägerfolie mit der das Muster tragenden Seite auf die Werkstückfläche aufgebracht und das Muster auf das Werkstück übertragen wird, worauf die Trägerfolie entfernt und die Werkstückfläche mit einem Ätzmittel behandelt wird.
Es ist schon ein derartiges Verfahren bekannt geworden, bei dem von der Ätzmittelbeständigkeit gewisser Farben Gebrauch gemacht wird. Das aus einer solchen Farbe bestehende Muster ergibt dann auf der Werkstückfläche eine Ätzmaske, so dass die vom Muster freigelassenen Bereiche der Werkstückfläche dem Ätzmittel ausgesetzt und dadurch graviert werden. Trägerfolien, die mit den vielfältigsten Mustern bedruckt sind und sich wie Abziehbilder handhaben lassen, befinden sich im Handel. Die Praxis hat jedoch gezeigt, dass die Qualität der mit diesem bekannten Verfahren hergestellten Gravuren zu wünschen übriglässt.
Der Erfindung lag deshalb die Aufgabe zugrunde, ein einfach durchzuführendes Ätzgravier verfahren zu schaffen, mit dem sich qualitativ hochwertigere Gravuren herstellen lassen, und ausgehend von einem Verfahren der eingangs erwähnten Art wird diese Aufgabe erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass das mit der Trägerfolie nach Art eines Abziehbilds übertragbare Muster lediglich als Belichtungsmaske für eine Fotolackschicht verwendet wird, die dann als Ätzmaske für die zu gravierende Werkstückfläche dient. Gemäss der Erfindung wird also auf die Werkstückfläche vor dem Aufbringen des Musters eine Fotolackschicht aufgetragen und auf diese das Muster aufgebracht, worauf die Fotolackschicht durch das Muster hindurch belichtet wird und die belichteten bzw. unbelichteten Bereiche der Fotolackschicht entfernt sowie schliesslich die von der Fotolackschicht nicht mehr abgedeckten Bereiche der Werkstückfläche geätzt werden. In diesem Zusammenhang ist darauf hinzuweisen, dass es sowohl Fotolacke gibt, bei denen sich nach dem Belichten die belichteten Bereiche leicht auswaschen lassen, als auch Fotolacke, bei denen anschliessend die unbelichteten Bereiche aufgelöst und entfernt werden, während die belichteten Bereiche die Maske bilden.
Mit Fotolackschichten lassen sich ausgezeichnete Ätzmasken herstellen, so dass die Voraussetzungen für die Herstellungen qualitativ hochwertiger Gravuren durch Ätzen erfüllt sind.
Bei den im Handel befindlichen und mit den erwähnten Mustern bedruckten Trägerfolien, die sich wie Abziehbilder verarbeiten lassen, befindet sich auf der von der Trägerfolie abgewandten Seite des aufgedruckten Musters eine Klebmittelschicht, dank der das Farbmuster einwandfrei auf der Werkstückfläche haften bleibt, wenn nach dem Antrocknen des Klebmittels die Trägerfolie als Ganzes abgezogen wird; man könnte aber auch Trägerfolien verwenden, die sich in bestimmten Lösungsmitteln auflösen, so dass nur das Farbmuster auf der Fotolackschicht des Werkstücks zurückbleibt.
An die das Muster bildende Farbe ist nur die Forderung zu stellen, dass sie für das Licht, mit dem die Fotolackschicht belichtet wird, undurchlässig ist, und im Gegensatz zu dem eingangs geschilderten, bekannten Verfahren ist es nicht erforderlich, dass die Farbe ätzmittelbeständig ist.
Wie bereits angedeutet, wird bei einer bevorzugten Ausführungsform des erflndungsgemässen Verfahrens zwischen der Trägerfolie und der Fotolackschicht eine lösliche Klebstoffschicht zum Fixieren des Musters auf der Fotolackschicht vorgesehen; diese Klebstoffschicht befindet sich zweckmässigerweise schon auf der Trägerfolie und deckt das Farbmuster ab. Die Forderung nach Verwendung eines z.B. wasserlöslichen Klebstoffs rührt daher, dass die Klebstoffschicht nach dem Belichten der Fotolackschicht ebenso entfernbar sein muss wie die belichteten bzw. unbelichteten Bereiche der Fotolackschicht.
Die das auf das Werkstück übertragene, Muster bildende Farbe könnte grundsätzlich auf den nach dem Belichten nicht entfernten Bereichen der Fotolackschicht verbleiben, zweckmässiger ist es jedoch, das Muster nach dem Belichten zu entfernen, vorzugsweise durch ein Lösungsmittel für die das Muster bildende Farbe.
Das erfindungsgemässe Verfahren ist nicht auf metallische Werkstoffe beschränkt, sondern kann auf alle ätzfähigen Materialien angewandt werden, z.B. auch auf Glas und Stein. Erwähnenswert ist noch, dass bei Verwendung eines Klebstoffs zur Fixierung des Musters auf der Fotolackschicht der Klebstoff für das Licht, mit dem die Fotolackschicht belichtet wird, transparent sein muss.
Die Verwendung von Fotolackschichten als Ätzmasken bei der Herstellung gravierter Werkstückflächen ist zwar bekannt (siehe z.B. DE-PS 22 45 288 der Anmelderin), jedoch war bisher die Herstellung der Masken für die Belichtung der Fotolackschichten wesentlich umständlicher und kostspieliger als dies beim erfindungsgemässen Verfahren der Fall ist.
Weitere Merkmale, Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Schilderung einer Ausführungsform des erfindungsgemässen Verfahrens anhand der beigefügten Zeichnung; in dieser zeigen:
Fig. 1 eine schematische Schnittdarstellung durch ein Werkstück und eine Trägerfolie vor deren Aufbringen auf das Werkstück;
Fig. 2 das Werkstück während des Belichtens der Fotolackschicht, und
Fig. 3 das Werkstück nach dem Ätzen, jedoch bei noch vorhandener, von der Fotolackschicht gebildeter Ätzmaske.
Die Figur 1 zeigt ein Werkstück 10 mit einem Formhohlraum 12, dessen Oberfläche 14 mit einer Gravur versehen s
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
3
642401
werden soll. Erfindungsgemäss wird die Formhohlraumoberfläche 14 zunächst mit einer Fotolackschicht 16 versehen, die dann später eine Ätzmaske bildet.
Über dem Werkstück 10 zeigt die Figur 1 im Schnitt eine dünne, flexible Trägerfolie 18, welche ein der Gestalt der gewünschten Gravur entsprechendes und im Druckverfahren hergestelltes Muster 20 trägt, auf dem sich eine Klebmittelschicht 22 befindet. Da die üblichen Fotolacke mit ultraviolettem Licht zu belichten sind, wird für das Muster 20 eine Farbe verwendet, die für ultraviolettes Licht undurchlässig ist, was auf die im Handel befindlichen Trägerfolien zutrifft, bei denen das Muster aus einer Asphaltfarbe besteht.
Zum Übertragen des Musters 20 auf die Fotolackschicht 16 wird die Trägerfolie mit den von ihr getragenen Schichten befeuchtet und auf die Formhohlraumoberfläche 14 aufgelegt. Da die dünne Trägerfolie 18 flexibel ist, lassen sich mit ihr nahezu beliebig gekrümmte Oberflächen faltenfrei überziehen. Nach dem Trocknen der Klebmittelschicht 22 wird die Trägerfolie 18 abgezogen, wobei das Muster 20 dank der
Klebmittelschicht 22 auf der Fotolackschicht 16 zurückbleibt.
Anschliessend wird die Fotolackschicht 16 durch die vom Muster 20 gebildete Belichtungsmaske hindurch mit ultraviolettem Licht aus einer Lichtquelle 30 belichtet, worauf die 5 Druckfarbe des Musters 20 mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt wird. Anschliessend werden je nach verwendetem Fotolack die belichteten oder unbelichteten Bereiche der Fotolackschicht zusammen mit dem Klebmittel der Schicht 22 abgewaschen, so dass die zurückbleibenden io Bereiche 32 der Fotolackschicht eine Ätzmaske bilden. Bei der anschliessenden Behandlung der Formhohlraumoberfläche 14 mit Hilfe eines Ätzmittels entstehen dann in der Formhohlraumoberfläche Ausnehmungen 36, die die gewünschte Gravur bilden. Schliesslich wird der restliche is Fotolack abgewaschen.
Es ist selbstverständlich, dass unter der Bezeichnung «Muster» oder «Gravur» nicht nur ein Dekor, sondern auch andere Musterungen, insbesondere auch Schriftzeichen, Zahlen und dergl. zu verstehen sind.
ß
1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

642401
1. Verfahren zum Gravieren einer beliebig gekrümmten oder ebenen Fläche eines Werkstücks durch Ätzen unter Verwendung einer dünnen, flexiblen Trägerfolie, welche ein ablösbares Muster aus einer lichtundurchlässigen Farbe trägt, wobei die Trägerfolie mit der das Muster tragenden Seite auf die Werkstückfläche aufgebracht und das Muster auf das Werkstück übertragen wird, worauf die Trägerfolie entfernt und die Werkstückfläche mit einem Ätzmittel behandelt wird, dadurch gekennzeichnet, dass auf die Werkstückfläche vor dem Aufbringen des Musters eine Fotolackschicht aufgetragen und auf diese das Muster aufgebracht wird, dass die nicht vom Muster bedeckten Bereiche der Fotolackschicht belichtet werden, worauf die belichteten bzw. unbe-lichteten Bereiche der Fotolackschicht entfernt werden, und dass dann die von der Fotolackschicht nicht mehr abgedeckten Bereiche der Werkstückfläche geätzt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Trägerfolie und der Fotolackschicht eine lösliche Klebstoffschicht zum Fixieren des Musters auf der Fotolackschicht vorgesehen wird.
2
PATENTANSPRÜCHE
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Muster nach dem Belichten entfernt wird, vorzugsweise durch ein Lösungsmittel für die das Muster bildende Farbe.
CH1046579A 1978-11-25 1979-11-23 Verfahren zum gravieren von werkstueckflaechen durch aetzen. CH642401A5 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2851101A DE2851101C2 (de) 1978-11-25 1978-11-25 Verfahren zum Gravieren von Werkstückflachen durch Ätzen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH642401A5 true CH642401A5 (de) 1984-04-13

Family

ID=6055571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH1046579A CH642401A5 (de) 1978-11-25 1979-11-23 Verfahren zum gravieren von werkstueckflaechen durch aetzen.

Country Status (17)

Country Link
US (1) US4286051A (de)
AT (1) AT373091B (de)
AU (1) AU526727B2 (de)
BE (1) BE880233A (de)
CA (1) CA1122469A (de)
CH (1) CH642401A5 (de)
DE (1) DE2851101C2 (de)
DK (1) DK150644C (de)
ES (1) ES486303A1 (de)
FR (1) FR2442465B1 (de)
GB (1) GB2037004B (de)
IT (1) IT1126379B (de)
NL (1) NL7908492A (de)
NO (1) NO153814C (de)
PT (1) PT70494A (de)
SE (1) SE446136B (de)
ZA (1) ZA796098B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT392086B (de) * 1985-04-16 1991-01-25 Schering Ag Verfahren zur herstellung von metallischen strukturen auf anorganischen, nichtleitenden oberflaechen

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4958911A (en) * 1988-10-19 1990-09-25 Jonand, Inc. Liquid crystal display module having housing of C-shaped cross section
US4985116A (en) * 1990-02-23 1991-01-15 Mint-Pac Technologies, Inc. Three dimensional plating or etching process and masks therefor
US5579035A (en) * 1991-07-05 1996-11-26 Technomarket, L.P. Liquid crystal display module
IL106892A0 (en) * 1993-09-02 1993-12-28 Pierre Badehi Methods and apparatus for producing integrated circuit devices
CN1962504B (zh) * 2005-11-11 2011-03-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 玻璃切割方法
US20130160832A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 Andreas Krause Marking of a substrate of a solar cell

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE908565C (de) * 1936-04-24 1954-04-08 August Grueninger Verfahren zur Herstellung von Druckwalzen und Moletten auf photomechanischem Wege
US2265974A (en) * 1938-12-17 1941-12-09 Graphic Arts Res Corp Mechanical overlay
GB552799A (en) * 1942-03-09 1943-04-23 Wolverhampton Die Casting Comp Improvements in the production of pictures, designs, letter-press or other markings on die-castings, mouldings or pressings
FR1070130A (fr) * 1952-06-21 1954-07-19 Procédé pour l'obtention de creux et de reliefs superficiels sur des objets obtenus par fusion ou par déformation plastique, et dispositifs pour sa mise en oeuvre
DE1071478B (de) * 1957-03-01
US3284197A (en) * 1961-11-06 1966-11-08 Interchem Corp Method for making lithographic plates
US3513010A (en) * 1966-07-11 1970-05-19 Kalvar Corp Conversion foil
US3561337A (en) * 1966-08-15 1971-02-09 Kalvar Corp Sheet material for manufacture of transparencies
US3592649A (en) * 1967-04-21 1971-07-13 Mead Corp Color photographic process for producing visually transparent but photographically opaque photomasks
GB1369431A (en) * 1971-09-02 1974-10-09 Letraset International Ltd Production of etched products
US3892900A (en) * 1972-11-02 1975-07-01 Daicel Ltd Masking films
US4002478A (en) * 1973-03-15 1977-01-11 Kansai Paint Company, Ltd. Method for forming relief pattern
DE2653428C3 (de) * 1976-11-24 1979-05-17 Claus Koenig Kg, 8520 Erlangen Farbfolie zum Herstellen einer Vorlage für Werbezwecke
NO157971C (no) * 1977-09-12 1988-06-22 Standex Int Corp Fremgangsmaate for frembringelse av relieffmoenstre paa arbeidsoverflater.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT392086B (de) * 1985-04-16 1991-01-25 Schering Ag Verfahren zur herstellung von metallischen strukturen auf anorganischen, nichtleitenden oberflaechen

Also Published As

Publication number Publication date
PT70494A (de) 1979-12-01
GB2037004B (en) 1982-10-27
NO153814B (no) 1986-02-17
FR2442465A1 (fr) 1980-06-20
NO153814C (no) 1986-05-28
SE7909393L (sv) 1980-05-26
ES486303A1 (es) 1980-06-16
DK150644B (da) 1987-05-11
FR2442465B1 (fr) 1987-03-20
DE2851101C2 (de) 1980-09-18
GB2037004A (en) 1980-07-02
AT373091B (de) 1983-12-12
US4286051A (en) 1981-08-25
DK150644C (da) 1987-11-02
AU5285979A (en) 1980-05-29
IT1126379B (it) 1986-05-21
BE880233A (fr) 1980-03-17
DE2851101B1 (de) 1980-01-24
SE446136B (sv) 1986-08-11
ZA796098B (en) 1980-10-29
ATA736279A (de) 1983-04-15
DK498079A (da) 1980-05-26
NL7908492A (nl) 1980-05-28
CA1122469A (en) 1982-04-27
NO793806L (no) 1980-05-28
IT7927484A0 (it) 1979-11-22
AU526727B2 (en) 1983-01-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2706947C3 (de) Verfahren und Druckwalzeneinrichtung zur Herstellung von Prägegravuren auf großformatigen Preßplatten für Kunststoffplattenpressen durch Auftragen einer Ätzreserve
DE1771883A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines zylindrischen Rasterfilms auf galvanischem Wege
CH646645A5 (de) Tiefdruckmaschine.
CH642401A5 (de) Verfahren zum gravieren von werkstueckflaechen durch aetzen.
EP0402377B1 (de) Verfahren zur herstellung eines mit einem prägemuster versehenen metallischen endlosbandes
DE2838632A1 (de) Verfahren zum herstellen reliefartiger muster auf metalloberflaechen
DE19831796C2 (de) Verfahren zum selektiven, bereichsweisen Beschichten einer transparenten Trägerplatte mit einer metallischen Wirkschicht
DE3231490C1 (de) Druckwalze und Verfahren zur Herstellung einer Tiefdruckform
DE893147C (de) Verfahren und Apparat zur Tiefaetzung, vorzugsweise von Klischees
DE3508920A1 (de) Metallische druckplatte fuer den tampondruck und verfahren zum herstellen eines klischees fuer den tampondruck
DE3138164C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines mehrfarbigen Plattenandruckes für Fußbodendessinandrucke, Dekordrucke und dgl.
AT309472B (de) Vorrichtung zum Einführen eines mit mindestens einer Photoschicht versehenen elastischen Zylinders in eine zylindrische Rastermaske
EP2875872B1 (de) Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen
DE1597644C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Rehefbildern
DE3328923C2 (de)
DE463314C (de) Verfahren zur Herstellung von Mustern auf Metallwalzen oder -platten fuer das Bedrucken von Textilstoffen
DE510177C (de) Verfahren zur Musterung durchscheinender celluloidartiger Massen
AT128822B (de) Verfahren zur Herstellung von Gravierungen mit Hilfe des Sandstrahles, insbesondere auf Glas u. dgl.
DE2245288C3 (de) Vorrichtung zum Gravieren einer gekrümmten Fläche eines Werkstücks sowie Verfahren zur Herstellung einer solchen Vorrichtung
DE1962469C3 (de) Verfahren zum Erzeugen eines Musters auf der Oberfläche von Sendzimirwalzen von Kaltwalzwerken
DE2558335C3 (de) Verfahren zum Ätzen von Öffnungen in dünnen Metallbändern
DE2152447A1 (de) Rasterwalze aus gummi oder kunststoffen zur verwendung im flexo-druckverfahren der tepeten-industrie
DE584862C (de) Verfahren zur Herstellung von Zeugdruckwalzen
DE2456815C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte durch Farbauftrag
DE1168238B (de) Verfahren zur Herstellung von selbstklebenden Schildern od. dgl.

Legal Events

Date Code Title Description
PL Patent ceased