CH626121A5 - - Google Patents

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CH626121A5
CH626121A5 CH1076876A CH1076876A CH626121A5 CH 626121 A5 CH626121 A5 CH 626121A5 CH 1076876 A CH1076876 A CH 1076876A CH 1076876 A CH1076876 A CH 1076876A CH 626121 A5 CH626121 A5 CH 626121A5
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CH
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gas
reactor
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CH1076876A
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Roger Norman Anderson
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Texas Instruments Inc
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4401Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
    • C23C16/4409Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber characterised by sealing means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Description

Die Erfindung betrifft einen Reaktor zum kontinuierlichen chemischen Bedampfen von Substraten, mit einem länglichen Hohlkörper, einer Mehrzahl von zwischen den beiden Enden des Hohlkörpers angeordneten Stellen zur Kontrolle des Gasstromes, durch welche der Hohlkörper in mehrere untereinander in Verbindung stehende Kammern unterteilt ist, mindestens einem Substratträger und einer Mehrzahl von Distanzhaltern, welcher Substratträger und welche Distanzhalter durch den Hohlkörper hindurch bewegt werden.
Bei den bekannten Verdampfungsreaktoren wird ein Substrat in einen Reaktor, z.B. eine Glocke, eingeführt und dort abgedichtet, wonach die chemische Bedampfung stattfindet. Bei manchen Reaktoren ist es möglich, verschiedene Bedamp-fungsstufen auf solche Weise zu erreichen, dass der Substrat durch Rotationsbewegung durch verschiedene Reaktorsektionen durchgeführt wird, jedoch muss die Abdichtung der Reaktorkammer abgebrochen und die im Verdampfungsprozess verwendeten Gase müssen entfernt werden, bevor der Reaktor geöffnet wird. Auch wenn der Bedampfungsprozess in verschiedenen Stufen verläuft, wobei die gleiche Kammer verwendet wird, muss jedes Gas oder jedes Material, welche in der früheren Stufe verwendet wurden, aus der Kammer gespült bzw. entfernt werden, bevor eine weitere Stufe eingeleitet werden kann. Der Prozess kann deswegen nicht ununterbrochen verlaufen, und es ist zeitraubend, die Kammer zwischen den einzelnen Bearbeitungsstufen zu reinigen, die Kammer zu öffnen, um behandelte Substrate zu entfernen und in die Kammer unbehandelte Substrate zu deponieren, damit der Bedampfungsprozess wiederholt werden könnte. Ein nach der US-PS 3 598 082 bekanntes Bedampfungssystem verwendet Träger, durch welche ein Substrat durch den Reaktor hindurch transportiert wird.
Es ist Aufgabe der Erfindung, einen Reaktor zum kontinuierlichen chemischen Bedampfen von Substraten zu schaffen, in welchem die Substrate verschiedenen Bedampfungsprozes-sen unterworfen werden können.
Dies wird erfindungsgemäss durch Merkmale der Kennzeichnung des Patentanspruches 1 erreicht.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Zeichnungen beispielsweise näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 eine Gesamtansicht eines Reaktors mit acht Kammern,
Fig. 2 ein Druckdiagramm, in welchem der Druck auf verschiedenen Stellen des Reaktors angeführt ist,
Fig. 3a-e Schnitte von Kontrollstellen des Gasstromes zwischen den einzelnen Kammern des Reaktors im Detail, wobei in jeder Kontrollstelle Gaseinlass- und Gasauslassöffnungen dargestellt sind,
Fig. 4 eine schematische Ansicht eines Trägers eines Substrates in der den Eintritt in den Reaktor bildenden Kontrollstelle,
Fig. 5 ein schematisches Diagramm von Kontrollstellen des Gasstromes,
Fig. 6a ein Blockdiagramm des Reaktors, das sich an das Diagramm nach der Fig. 5 anschliesst, in welchem der Eingang der Gase in die verschiedenen Kontrollstellen des Reaktors dargestellt ist, und
Fig. 6b eine Darstellung einer andern möglichen Anordnung von Reaktorkammern und Kontrollstellen, die in Verbindung mit den Kontrollstellen nach der Fig. 5 verwendet werden kann.
In der Fig. 1 ist ein Reaktor zum kontinuierlichen chemischen Bedampfen von Substraten dargestellt, der acht Kammern 1 bis 8 aufweist. Es gibt neun Kontrollstellen 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80 und 90 des Gasstromes, durch welche der Reaktor in Kammern 1 bis 8 unterteilt ist. Die acht Kammern umfassen grundsätzlich eine Stickstoffalienkammer 1, eine Vorwärmkammer 2, vier Bedampfungskammern 3 bis 6, eine Abkühlkammer 7 und eine Stickstoffallenkammer 8 (Fig. 3b bis 3e). Durch eine Gaszuführung werden Gase für zwei verschiedene Bedampfungsprozesse zugeführt, welche Gase in eine beliebige der vier Bedampfungskammern geleitet werden s
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Im Diagramm nach der Fig. 2 ist der im Reaktor herrschende Gasdruck angedeutet. Der Gasdruck in jeder Kammer ist derartig, dass jede Kammer von der anderen isoliert wird. Mit gestrichelten Linien ist der Gasdruck im oberen Teil der Kammer und mit den ununterbrochenen Linien die verschiedenen Drücke durch den Reaktor hindurch im unteren Teil der Kammer dargestellt. Die horizontale Ausbreitung des Druckes entspricht (in der gegebenen Stellung) dem unter dem Druckdiagramm gezeichneten Reaktor. Die verhältnismässig grossen Druckänderungen kommen auf gegenüberliegenden Seiten von viskosen Fallen in Kontrollstellen vor. Sehr kleine Druckänderungen entstehen innerhalb der Kammer. Die Drücke in dem ganzen System werden durch eine geeignete Auswahl von Durchlässen in Kontrollstellen und durch die Mengen des fliessenden Gases gesteuert. Es kann festgestellt werden, dass die Drücke in den Stickstoffallen über dem atmosphärischen Druck liegen, um den Eintritt der Aussenatmosphäre in den Reaktor zu verhindern.
In den Fig. 3a bis 3e ist der Reaktor näher detailliert dargestellt. In diesen Figuren sind Ausführungsformen von fünf Typen von Kontrollstellen dargestellt, durch welche die Kammern voneinander getrennt sind. Die Kontrollstellen sind symmetrisch um die mittlere Kontrollstelle angeordnet. Die äusseren Kontrollstellen 10 und 90 enthalten zwei viskose Gasfallen 9, deren eine sich oben und die andere unten befindet. Die inneren Kontrollstellen 20, 30,40, 60, 70 und 80 enthalten jede vier viskose Gasfallen 9. Die Kontrollstelle 50 enthält acht viskose Gasfallen 9.
Die Hauptmerkmale einer viskosen Gasfalle 9 werden in Verbindung mit den Kontrollstellen 10 und 90 gemäss den Fig. 3 a und 3 e näher erläutert. Diese Gasfallen sind so konstruiert, dass sie zwischen der Stickstoffalienkammer 1, 8 und der Aussenatmosphäre ein Druckgefälle verursachen. Dieses Druckgefälle dient zwei Zwecken: Erstens wird dadurch ein Puffer gegen die turbulenten Druckschwankungen der Raumluft geschaffen. Die meisten Druckschwankungen der Raumluft haben ein Maximum von 0,005 mm der Quecksilbersäule. Die Abmessungen und die Druchflussmenge dieser Kontrollstelle sind so gewählt, dass dadurch ein Quecksilberdruckgefälle zwischen der Stickstoffalienkammer 1, 8 und der Aussenatmosphäre um etwa 0,050 mm erzielt wird. Dies ist ordnungsgemäss höher als die Druckschwankungen der Raumluft, wodurch alle Wirbeleinflüsse der Raumluft aufgehoben werden.
Der zweite Zweck besteht darin, eine genug lange Sektion für eine gegebene Austrittsgeschwindigkeit zu schaffen, um die gegenläufige Ausbreitung der Luft im Stickstoff auf ein annehmbar niedriges Niveau zu bringen. Es kann gezeigt werden, dass das Aufprallen einer Ausbreitung auf eine Laminarströmung eine Herabsetzung der Konzentration der Ausbreitung zur Folge hat, die eine negative exponentielle Funktion eines Isolationsfaktors ist, der als Ergebnis der Durchflussmenge der Strömung und der Länge der Gasfalle, dividiert durch das Ergebnis der Querschnittsfläche und des Diffusionsvermögens der Ausbreitung, definiert ist. Wenn dieser Faktor z.B. 20 ausmacht, dann ist der Herabsetzungsfaktor der Konzentration (wirkungsvolle Isolation) 5(10)8. Deswegen sind die Abmessungen der Gasfallen und die Gasdurchflussmengen so gewählt, dass der Isolationsfaktor genügend gross ist.
Die gleichen Überlegungen haben ihre Gültigkeit auch für alle anderen viskosen Gasfallen 9 und zwar auch dann, wenn die Kontrollstellen komplizierter gestaltet und für verschiedene Gase geeignet sind. Das Austreten der Gase aus jeder Kontrollstelle soll unbehindert sein, so dass dieselben annähernd bei atmosphärischem Druck wirken. Dadurch wird ermöglicht, dass jede Kammer durch die Veränderungen der Durchflussmenge oder durch die Temperatur in der benachbarten Kammer nicht beeinflusst wird. Somit sind die Kammern durch die viskosen Gasfallen voneinander isoliert und die einzelnen Ausströmungen können in eine gemeinsame Sammelleitung geleitet werden.
Die Kontrollstellen 20 (Fig. 3b) und 80 (Fig. 3e) haben jeweils zwei obere und zwei untere Einlassöffnungen und eine mittlere Auslassöffnung. Durch diese Kontrollstellen können in die benachbarten Zellen verschiedene, jedoch sich vertragende Gase hineingelassen werden. Die Gase sollen sich vertragen, weil beide zur mittleren Auslassöffnung strömen.
Durch die viskosen Gasfallen wird der Austausch zwischen der Auslassöffnung und den Kammern verhindert.
Die Kontrollstelle 30 (Fig. 3b) und die Kontrollstelle 70 (Fig. 3d) sind Auslasskontrollstellen, die für einen einzigen Zweck bestimmt sind. Durch sie wird die grösste Menge der Strömungen aus der Vorwärm- oder der ersten Bedampf ungs-kammer oder aus der Abkühl- oder der letzten Bedampf ungs-kammer ausgelassen; dies geschieht durch die Kammern 2 und 3 und die Kontrollstelle 30 bzw. die Kammern 6 und 7 und die Kontrollstelle 70.
Die Kontrollstelle 40 (Fig. 3c) und die Kontrollstelle 60 (Fig. 3d) sind ähnlich wie die Kontrollstellen 20 und 80 mit der Ausnahme, dass jede eine einzige obere Einlassöffnung aufweist. Die Bodensektion jeder Kontrollstelle ist so ausgestaltet, dass sie eine voneinander unabhängige Wahl für beide benachbarten Bedampfungskammern erlaubt. Durch die Kontrollstelle 40 ist ein separater Zutritt zu den Kammern 3 und 4 und durch die Kontrollstelle 60 ein separater Zutritt zu den Kammern 5 und 6 geschaffen.
Der Zweck der einzigen Kontrollstelle 50 gemäss der Fig. 3c besteht darin, die Gase in der zweiten Bedampfungskammer 4 von denjenigen in der dritten Bedampfungskammer 5 zu trennen. Auf solche Weise werden Bedampfungsprozesse in den benachbarten Kammern ermöglicht, deren Gase sich miteinander nicht vertragen. In die mittlere Einlassöffnung wird ein Gas eingeführt, das sich mit den bei den beiden Bedampfungs-prozessen verwendeten Gasen verträgt. Die linke Auslassöffnung der Kontrollstelle 50 ist an einer Sammelleitung angeschlossen, die sich in der linken Hälfte des Reaktors befindet und für alle Abgase gemeinsam ist. Die Abgase werden dann zu einer nicht dargestellten Verbrennungsstelle geführt. Die rechte Auslassöffnung der Kontrollstelle 50 ist an einer Sammelleitung für die rechte Hälfte des Reaktors angeschlossen, die ebenfalls an einer eigenen Verbrennungsstelle angeschlossen ist.
Durch die richtige Wahl der Abmessungen der Gasfallen und der Durchflussmenge können die Drücke durch das ganze System hindurch gesteuert werden. Die Druckmessungen durch das ganze System hindruch werden durch Kapazitätsmanometer ausgeführt, die an jeder Sektion eines niedrigen Gassystems angeschlossen werden können. Die durchgeführten Messungen eines typischen Systems sind in der Fig. 2 dargestellt.
Die Kammern 2 bis 6 können durch eine Einheit 22 mit Quarzlampen 15 erwärmt werden. Diese Einheit enthält eine Wasserkühlung 14 sowie eine Luftkühlung 13. Auf jeder Seite s
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der Kontrollstellen 20 bis 70 sind Leitungen 12 vorgesehen, durch welche Kühlluft zirkuliert, um die Wärme von den Kontrollstellen abzuleiten.
Diese Leitungen sind mit Dichtungen 16 aus Siliciumgummi abgedichtet, um die Gasleckage aus den Kontrollstellen in die Abkühlleitungen 12 und die Aussenatmosphäre zu verhindern.
In der Fig. 4 ist eine Eintrittsrampe 23 um die erste Kontrollstelle 10 des Reaktors dargestellt. In der Bohrung des Trägers 21, die durch den Träger hindurchläuft, ist ein Substrat 26 eingesetzt und von einem Deckel 19 von oben abgedeckt. Der Deckel 19 dient zur Aufnahme der durch Strahlung der Lampen 15 entstandenen Wärme. Auf jeder Seite des Trägers 21 sind Distanzhalter 18 angeordnet. Der Träger 21 und die Distanzhalter 18 werden durch den Reaktor hindurch auf solche Weise bewegt, dass wenn ein Substrat in eine Kammer eintrifft und gestoppt wird, die anderen Substrate innerhalb des Reaktors in einem solchen Abstand voneinander bleiben, dass sie sich auch jeweils in einer Kammer befinden. Wie früher erwähnt, wird das Rohr 11 durch den Träger 21 in obere und untere Kammern geteilt. Alle Bedampfungsprozesse finden in den unteren Kammern statt, wobei ein Schutzgas, das das gleiche ist wie das Trägergas, in die oberen Kammern eingeführt wird. Der Träger 21 und die Distanzhalter 18 sind auf der Rampe 23 rittlings angeordnet und werden durch die Öffnung 25 in der ersten Kontrollstelle in den Reaktor eingeführt. Durch die genaue Passung der Oberflächen des Trägers 21 und der Distanzhalter 18 mit der Öffnung 25 wird die Abdichtung des Reaktors erzielt. Durch die viskosen Eigenschaften des Gases innerhalb der Kammern wird der Eintritt der Aussenatmosphäre in die Kammern durch die Öffnung 25 des Reaktors verhindert.
Die Gaszuführung für den Reaktor ist in der Fig. 5 dargestellt. Es gibt zwei Gaszuführungssysteme, die an jede der vier Bedampfungskammern über gewählte Ventile 33, 34 und 35 angeschlossen werden können. Beim Ausserbetriebsetzen ist das System I an zwei mittleren Bedampfungskammern 74 und 76 angeschlossen. Durch Betätigung des Ventils 34 wird Behandlungsgas zur Stelle 73, und durch Betätigung des Ventils 35 wird Behandlungsgas zur Stelle 77 zugeführt. Durch Betätigung des Ventils 33 (ohne Ventile 34 und 35) wird Behandlungsgas aus dem System I nur zur Stelle 76 zugeführt. Behandlungsgas aus dem System II wird zu der Stelle 74 zugeführt. Die Ventile 34 und/oder 35 können wieder betätigt werden, um die Anzahl der Bedampfungskammern zu vergrös-sern. Durch Betätigung der Ventile 36 bis 39 und 41 bis 44 werden individuelle reaktive Gase entweder dem System I oder II zugeführt.
Das Inbetriebsetzen des Systemes erfolgt in vier Stufen. In erster Stufe wird das Ventil 48 betätigt, durch welches Stickstoff in alle Teile des Reaktors und des Gassystemes eingeführt wird. Die Ventile 33 bis 39 und 41 bis 44 werden voreingestellt und ebenfalls wie das Ventil 48 in Betrieb gesetzt.
In der zweiten Stufe werden die Ventile 45,46 und/oder 47 (wenn sie vorher eingestellt wurden) betätigt. Durch dieselben wird Wasserstoff in die Bedampfungskammern und benachbarten Kontrollstellen eingeführt. Wenn im System I ein Wasserstoffträger verwendet wird, dann werden die Vorwärmkammer und die ersten zwei oberen Bedampfungskammern ebenfalls Wasserstoff enthalten. Wenn der Wasserstoffträger im System II verwendet wird, dann wird das Spülgas in der Abkühlkammer und den letzten zwei oberen Bedampfungskammern sowie der Kontrollstelle an der zentralen Entzweigung Wasserstoff sein. In diesem Augenblick können Kühlluft und Wasser und die Heizer 15 eingeschaltet werden.
In der dritten Stufe werden die Ventile 51 bis 58 (die vorher eingestellt wurden) betätigt. Somit wird ein spezielles reaktives Gas, das für den Bedampfungsprozess nötig ist, eingelassen. Zu diesem Zeitpunkt werden auch die Ventile 62, 63 und/oder
64 (wenn es gewünscht wird) ebenfalls betätigt. Diese Gase werden direkt zur Verbrennungsstelle geleitet.
In der vierten Stufe werden die reaktiven Gase aus den für Verbrennung bestimmten Gasen in den Trägergasstrom zugefügt. In diesem Augenblick werden die Ventile 65 bis 69 und 71 bis 73 (die vorher eingestellt wurden) geöffnet. Dies ist das normale Ingangsetzen. Für jede Stufe ist ein Sicherheitsver-blockungsgerät vorgesehen. Wenn der Reaktor einmal in Gang gesetzt wurde, arbeitet er regelmässig, wobei die Träger in gleichmässigen Intervallen gefördert werden.
In der Fig. 6a ist ein Blockdiagramm des Reaktors dargestellt, in welchem die Richtungen der verschiedenen Gasströmungen in den Kontrollstellen dargestellt sind. Mit Pfeilen, die weg von den Blöcken gerichtet sind, sind die Abgase von den Kontrollstellen bezeichnet, die numeriert sind. Die Einlassöffnungen von Gasen sind ebenfalls numeriert und entsprechen den Auslassöffnungen des in der Fig. 5 dargestellten Steuersystems. Die allgemeinen Strömungen in Kontrollstellen nach der Fig. 6a sind ebenfalls in den detaillierten Diagrammen der Kontrollstellen in den Fig. 3a bis 3e dargestellt. Wie schon früher erwähnt, sind die Auslassöffnungen aus jeder Hälfte des Reaktors an zur Verbrennung bestimmte Abgase angeschlossen.
Es ist zu bemerken, dass die Anordnung der Kontrollstellen, die in der Fig. 6a dargestellt ist, mit dem Gaszuführungssystem nach der Fig. 5 für einen für zwei Bedampfungsprozesse bestimmten Reaktor mit der einzelnen Steuerung der vier Bedampfungskammern übereinstimmt. Andere Anordnungen der Kontrollstellen als in der Fig. 6a gezeigt sind von der gewünschten Leistungsfähigkeit des Reaktors abhängig. Wie in der Fig. 6b dargestellt ist, könnten beispielsweise zusätzliche Kontrollstellen vorgesehen werden. In dieser Figur sind Kontrollstellen des Typs 30 nach der Fig. 3b für Einführungsgase anstelle von Abgasen verwendet. Somit wird das Abgas zwischen Zuführungsgasen 76 und 77 (Fig. 6a) eliminiert, wenn die beiden Zuführungsgase die gleiche Komposition haben, und die Zeit für Bedampfungsprozess einer durchgehenden Menge verlängert. Andere Ausführungsformen der Anordnung der Kontrollstellen und die entsprechenden Anpassungen im Gaszuführungssystem sind möglich.
Bei Verwendung des Reaktors soll der Entscheid getroffen werden, welcher Art von Bedampfung ein Substrat unterzogen werden soll und in welchen Kammern. Die Ventile des Steuersystemes sind für die gewünschten Durchflussmengen eingestellt. Die nacheinander folgenden Träger sind voneinander durch Distanzstücke gehalten, so dass mit jeder Bewegung in die nächste Kammer ein Träger hineingeführt wird. Die Substrate werden in den Reaktor durch den Einlass eingeführt und die behandelten Substrate treten aus dem Reaktor auf seinem anderen Ende aus. Durch die Wirkung der Gasströme wird eine wirkungsvolle Isolation der verschiedenen Kammern erreicht, so dass sich durch den Reaktor hindurch ununterbrochen eine Reihe von Substraten in einem kontinuierlichen Prozess bewegen kann. Die Systeme können auf beliebige Kombinationen von chemischen Bedampfungsprozessen eingestellt werden, wie epitaktische Bedampfung, Bedampfung mit aus mehreren Kristallen bestehendem Silicium, Nitrid-, Sauerstoff* oder Metallbedampfung, wobei für den gegebenen Prozess die Anzahl, die Reihenfolge, die Länge der Kammern, die geeigneten Gase, die Kammertemperaturen und die Zykluszeit gewählt werden müssen. Der oben beschriebene Reaktor ermöglicht eine wirkungsvolle Isolation der verschiedenen Kammern, so dass in den benachbarten Kammern einander nicht verträgliche Gase verwendet und verschiedene Bedampfungsprozesse gleichzeitig ausgetragen werden können. Der Reaktor kann durch Auswechslung von Modulen bei den verschiedenen Kammern und Kontrollstellen abgewandelt
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Quarz. Zum Reinigungszwecke kann sie aus dem Reaktor weggenommen und wieder in denselben eingesetzt werden, ohne dass der Gesamtaufbau des Reaktors in grösserem Ausmasse niedergerissen werden muss.
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4 Blatt Zeichnungen

Claims (10)

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    PATENTANSPRÜCHE
    1. Reaktor zum kontinuierlichen Bedampfen von Substraten, mit einem länglichen Hohlkörper (11), einer Mehrzahl von zwischen den beiden Enden des Hohlkörpers (11) angeordneten Stellen (10, 20, 30, 40,50, 60, 70, 80, 90) zur Kontrolle des Gasstromes, durch welche der Hohlkörper (11) in mehrere untereinander in Verbindung stehende Kammern (1, 2, 3,4, 5, 6, 7, 8) unterteilt ist, mindestens einem Substratträger (21) und einer Mehrzahl von Distanzhaltern (18), welcher Substratträger und welche Distanzhalter durch den Hohlkörper hindurch bewegt werden, gekennzeichnet durch eine Mehrzahl von Gasfallen (9), die durch die engen Toleranzen der zwischen den aufeinanderpassenden Flächen der Kontrollstellen und des Substratträgers sowie der Distanzhalter liegenden Räume gebildet sind, Einlassöffnungen in mindestens einer der Kontrollstellen zum Einführen von Gasgemischen in die ausgewählten Kammern mindestens unter einem so hohen Druck, der demjenigen der Aussenatmosphäre entspricht, und durch Auslassöffnungen in mindestens einer der Kontrollstellen zum Abführen von Gasgemischen aus den ausgewählten Kammern.
  2. 2. Reaktor nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Kammern (1, 2, 3,4, 5, 6, 7, 8) Bedampfungskam-mern, eine Vorwärmkammer, eine Abkühlkammer und Gasfallenkammern umfassen.
  3. 3. Reaktor nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Kammern (1, 2, 3,4, 5, 6, 7, 8) untereinander durch die Kontrollstellen (10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90) verbunden sind, durch welche in die Kammern Gasgemische eingeführt bzw. abgeführt werden, um die Kammern voneinander zu isolieren.
  4. 4. Reaktor nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (11) ein Rohr ist, durch welches ein Substratträger (21) hindurch bewegbar ist und es in zwei Teile teilt.
  5. 5. Reaktor nach Patentanspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Substratträger (21) durch das Rohr hindurch bewegbar und durch Distanzhalter (18) voneinander entfernt gehalten sind, welche Distanzhalter das Rohr ebenfalls in zwei Teile teilen.
  6. 6. Reaktor nach Patentanspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass im Träger (21) das Substrat (26) in Rückenlage angeordnet ist, so dass seine Bedampfungsfläche im Reaktor nach unten gerichtet ist.
  7. 7. Reaktor nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einlass- und Auslassöffnungen jederzeit mit dem Innenraum des Reaktors in offener Verbindung stehen und von der Aussenatmosphäre durch eine Gasfalle (9) isoliert sind.
  8. 8. Reaktor nach Patentanspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Gasfalle (9) eine viskose Gasfalle ist.
  9. 9. Reaktor nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die inneren Kontrollstellen (20, 30,40, 50, 60, 70, 80) jeweils eine für den Einlass oder Auslass von Gasgemischen bestimmte zentrale Zelle mit viskosen Gasfallen (9) an jeder Seite derselben enthalten.
  10. 10. Reaktor nach Patentanspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass drei innere Kontrollstellen (20, 50, 80) mindestens zwei Zellen enthalten, die voneinander durch viskose Gasfallen getrennt sind.
CH1076876A 1975-09-02 1976-08-25 CH626121A5 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/609,879 US4048955A (en) 1975-09-02 1975-09-02 Continuous chemical vapor deposition reactor

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US (1) US4048955A (de)
JP (2) JPS5230794A (de)
CA (1) CA1068582A (de)
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