BRPI0611539A2 - método de aplicar revestimento a superfìcies, uso de um pó de um material, camada de aspersão a frio, objeto revestido e uso de um revestimento de metal refratário - Google Patents

Abstract

MéTODO DE APLICAR REVESTIMENTO A SUPERFìCIES, USO DE UM Pó DE UM MATERIAL, CAMADA DE ASPERSãO A FRIO, OBJETO REVESTIDO E USO DE UM REVESTIMENTO DE METAL REFRATáRIO. A presente invenção refere-se a um método de aplicação de revestimentos a superfícies, em que um fluxo de gás forma uma mistura de gás-pó com o pó de um material selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircónio ou misturas de pelo menos dois dos mesmos, ou suas ligas com pelo menos dois dos mesmos, ou com outros metais, o pó tendo um tamanho de partícula de 0,5 a 150 pm, em que uma velocidade supersónica é conferida ao fluxo de gás e o jato da velocidade supersónica é dirigido para a superfície de um objeto. Os revestimentos preparados são usados, por exemplo, como revestimentos de proteção contra corrosão.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "MÉTODO DEAPLICAR REVESTIMENTO A SUPERFÍCIES, USO DE UM PÓ DE UMMATERIAL, CAMADA DE ASPERSÃO A FRIO, OBJETO REVESTIDO EUSO DE UM REVESTIMENTO DE METAL REFRATÁRIO".

A presente invenção refere-se a um método para aplicação derevestimentos que contêm somente pequenas quantidades de impurezasgasosas, em particular oxigênio.

A aplicação de revestimentos de metal refratário em superfíciesapresenta numerosos problemas.

Nos processos convencionais, o metal é, em geral, completa ouparcialmente fundido, na maioria dos casos, em conseqüência de os metaisprontamente oxidarem ou absorverem outras impurezas gasosas. Por estemotivo, os processos convencionais, tais como deposição - soldagem e as-persão de plasma, devem ser realizados sob um gás de proteção ou a vácuo.

Em tais casos, a despesa em termos de aparelhos é alta, o ta-manho dos componentes é limitado, e o teor de impurezas gasosas é aindainsatisfatório.

A introdução pronunciada de calor transmitida para o interior doobjeto a ser revestido, resulta em um potencial muito alto para distorção esignifica que esses processos não podem ser empregados em caso de com-ponentes complexos, que muitas vezes também contêm constituintes quefundem a temperaturas baixas. Os componentes complexos devem, portan-to, ser retirados antes de serem reprocessados, com o resultado de que, emgeral, o reprocessamento raramente é econômico e somente a reciclagemdo material dos componentes (raspagem) é realizada.

Além do mais, no caso de aspersão de plasma a vácuo, as im-purezas do tungstênio e do cobre, que se originam dos eletrodos usados,são introduzidas no revestimento, o que é geralmente indesejável. No caso,por exemplo, do uso de revestimentos de tântalo ou nióbio, para a proteçãocontra corrosão, tais impurezas reduzem o efeito protetor do revestimentopela formação das assim chamadas células microgalvânicas.Além disso, tais processos são processos de metalurgia por fu-são, que sempre envolvem as desvantagens inerentes dos mesmos, taiscomo, por exemplo, crescimento unidirecional do grão. Isto ocorre em parti-cular nos processos a laser, em que um pó apropriado é aplicado à superfí-cie e é fundido por meio de um raio laser. Um problema adicional é a porosi-dade, que pode ser observada, em particular, quando um pó de metal é apli-cado primeiro e é subseqüentemente fundido por meio de uma fonte de ca-lor. No pedido de patente WO 02/064287 foram feitas tentativas para solu-cionar esses problemas ao meramente fundir nas partículas de pó por meiode um raio de energia, tal como por exemplo raios laser, e sinterizá-los. En-tretanto, os resultados não são sempre satisfatórios e uma despesa alta, emtermos de aparelho é requerida, e permanecem os problemas associadoscom a introdução de uma reduzida mas, mesmo assim, alta quantidade deenergia em um componente complexo.

O pedido de patente W0-A-03/106051 descreve um método eum aparelho para aspersão a frio com pressão baixa. Nesse processo, umrevestimento de partículas de pó é aspergido em um gás substancialmente atemperaturas ambiente em uma peça de trabalho. O processo é conduzidoem um ambiente de pressão ambiental baixa, que é inferior à pressão at-mosférica, para acelerar as partículas de pó aspergidas. Com esse proces-so, um revestimento de um pó é formado sobre uma peça de trabalho.

O pedido de patente EP-A-1382720 descreve um outro método eaparelho para aspersão a frio em pressão baixa. Nesse processo, o alvo aser revestido e a pistola de aspersão a frio estão localizados dentro de umacâmara a vácuo em pressões abaixo de 80 kPa. Com esse processo umapeça de trabalho é revestida com um pó.

Em vista dessa técnica anterior, foi, portanto, o objetivo proverum novo processo para revestir substratos que é distinguido pela introduçãode uma pequena quantidade de energia, uma despesa pequena em termosde aparelho e uma ampla aplicabilidade para materiais veículo e materiaisde revestimento diferentes, e em que o metal a ser aplicado não é fundidodurante o processamento.Outro objetivo da presente invenção foi prover um novo proces-so para preparar revestimentos densos e resistentes à corrosão, especial-mente revestimentos de tântalo, que possuem teor baixo de impurezas, pre-ferivelmente teor baixo de impurezas de oxigênio e nitrogênio, cujos revesti-mentos são altamente qualificados para uso como camada protetora contracorrosão, especialmente em equipamento de fábricas químicas.

O objetivo da presente invenção é alcançado pela aplicação deum metal refratário desejado, para a superfície desejada, por um método deacordo com a reivindicação 1.

Existem processos que são de um modo geral apropriados paraessa finalidade, em contraste com os processos convencionais de aspersãotérmica (aspersão de chama, plasma, chama de alta velocidade, arco, plas-ma a vácuo, plasma com pressão baixa) e soldagem de depósito, não hánenhuma fusão no ou do material de revestimento, causada por energia tér-mica produzida no aparelho de revestimento. O contato com uma chama ougases de combustão por calor deve ser evitado, porque esses podem causara oxidação das partículas de pó, e conseqüentemente elevam o teor de oxi-gênio nas camadas resultantes.

Esses processos são conhecidos da pessoa versada na técnica,por exemplo, como a aspersão de gás a frio, os processos de aspersão afrio, aspersão dinâmica de gás a frio, aspersão cinética e que são descritos,por exemplo, no pedido de patente EP-A-484533. Apropriado também deacordo com a invenção é o processo descrito na patente DE-A-10253794.

O assim chamado processo de aspersão a frio ou o processo deaspersão cinética são particularmente apropriados para o método de acordocom a invenção; o processo de aspersão a frio que é descrito no pedido depatente EP-A-484533, é especialmente apropriado, e este relatório descritivoestá incorporado aqui por referência.

Da mesma forma, existe um método vantajosamente empregadopara aplicar revestimentos em superfícies, em que um fluxo de gás formauma mistura de gás/pó com um pó de um material selecionado a partir dogrupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircô-nio, misturas de pelo menos dois dos mesmos, ou suas ligas umas com asoutras, ou com outros metais, o pó tendo um tamanho de partícula de 0,5 a150 μιτι, em que uma velocidade supersônica é conferida ao fluxo de gás eum jato de velocidade supersônica é formado, o que assegura a velocidadedo pó na mistura de gás/pó de 300 a 2.000 m/s, preferivelmente 300 a 1.200 m/s,e o jato é direcionado para a superfície do objeto.

As partículas do pó de metal em colisão na superfície do objetoformam um revestimento, as partículas sendo deformadas muito considera-velmente.

As partículas de pó estão vantajosamente presentes no jato, emuma quantidade que assegura a densidade da taxa de fluxo das partículasde 0,01 a 200 g/s cm2, preferivelmente 0,01 a 100 g/s cm2, muito preferivel-mente 0,01 g/s cm2 a 20 g/s cm2, ou mais preferido de 0,05 g/s cm2 a 17 g/s cm2.

A densidade da taxa de fluxo é calculada de acordo com a fór-mula F = m/(Tr/4*D2), em que F = densidade da taxa de fluxo, D = seção cru-zada do bico, m = taxa de alimentação do pó. Uma taxa de alimentação dopó de, por exemplo, 70 g/min = 1,1667 g/s é um exemplo típico de uma taxade alimentação de pó.

Em valores de D inferiores abaixo de 2 mm, valores notadamen-te maiores do que 20 g/s cm2 podem ser alcançados. Neste caso, F podefacilmente assumir valores de 50 g/s cm2 ou até mesmo maiores em taxasde distribuição de pó maiores.

Como, o gás com o qual o pó de metal forma uma mistura degás-pó geralmente é usado um gás inerte, tal como argônio, néon, hélio ounitrogênio ou misturas de dois ou mais dos mesmos. Em casos particulares,o ar pode também ser usado. Se os regulamentos de segurança são atendi-dos, o uso também de hidrogênio ou misturas de hidrogênio com outros ga-ses pode ser adotado.

Em uma versão preferida do processo, a aspersão compreendeas etapas de:

- prover um orifício de aspersão adjacente à superfície a ser re-vestida por aspersão;

- prover, ao orifício de aspersão, um pó de um material particu-Iado escolhido do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molib-dênio, titânio, zircônio, misturas de pelo menos dois dos mesmos ou ligasdos mesmos, uns com os outros ou com outros metais, o pó tendo um tama-nho de partícula de 0,5 a 150 pm, o dito pó estando sob pressão;

- prover um gás inerte sob pressão ao orifício de aspersão a fimde estabelecer uma pressão estática no orifício de aspersão e prover umaaspersão do dito material particulado e do gás sobre a superfície a ser re-vestida; e

- localizar o orifício de aspersão em uma região de pressão am-biental baixa que seja menos do que 1 atmosfera e que seja substancial-mente inferior à pressão estática no orifício de aspersão, a fim de proveruma aceleração substancial da aspersão do dito material particulado e dogás sobre a dita superfície a ser revestida.

Em outra versão preferida do processo, a aspersão é feita comuma pistola de aspersão a frio e o alvo a ser revestido e a pistola de asper-são a frio são localizados dentro da câmara a vácuo, em pressões abaixo de80 JcPa, preferivelmente entre 0,1 e 50 kPa, e mais preferido entre 2 e 10JcPa. Modalidades vantajosas adicionais podem ser encontradas nas reivin-dicações.

Em geral, o metal refratário tem uma pureza de 99% ou mais, talcomo 99,5% ou 99,7% ou 99,9%.

De acordo com a invenção, o metal refratário vantajosamentetem uma pureza de pelo menos 99,95%, com base em impurezas metálicas,especialmente de pelo menos 99,995% ou de pelo menos 99,999%, em par-ticular de pelo menos 99,9995%. Se uma liga for usada, em vez de um únicometal refratário, então pelo menos o metal refratário, mas preferivelmente aliga como um todo, tem essa pureza, de modo que um revestimento alta-mente puro pode ser produzido.

Além disso, o pó de metal tem um teor de oxigênio de menos doque 1.000 ppm de oxigênio, ou menos do que 500, ou menos do que 300,em particular um teor de oxigênio de menos do que 100 ppm.

Os pós de metal refratário, particularmente apropriados, têmuma pureza de pelo menos 99,7%, vantajosamente de pelo menos 99,9%,em particular 99,95%, e um teor de menos de 1,000 ppm de oxigênio, oumenos de 500 ppm de oxigênio, ou menos de 300 ppm de oxigênio, em par-ticular um teor de oxigênio de menos do que 100 ppm.

Pós de metal refratário, particularmente apropriados, têm umapureza de pelo menos 99,95%, em particular de pelo menos 99,995%, e umteor de menos de 1,000 ppm de oxigênio, ou menos do que 500 ppm de oxi-gênio, ou menos do que 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxi-gênio de menos de 100 ppm. Pós de metal refratário, particularmente apro-priados, têm uma pureza de pelo menos 99,999%, em particular de pelo me-nos 99,9995%, e um teor de menos de 1.000 ppm de oxigênio, ou menos doque 500 ppm de oxigênio, ou menos do que 300 ppm de oxigênio, em parti-cular um teor de oxigênio de menos do que 100 ppm.

Em todos os pós acima mencionados, o teor total de outras im-purezas não metálicas, tais como carbono, nitrogênio ou hidrogênio, deverávantajosamente ser menos do que 500 ppm, preferivelmente menos do que150 ppm.

Em particular, o teor de oxigênio é vantajosamente 50 ppm oumenos, o teor de nitrogênio é 25 ppm ou menos e o teor de carnono é 25ppm ou menos.

O teor de impurezas metálicas é vantajosamente 500 ppm oumenos, preferivelmente 100 ppm ou menos, preferivelmente 50 ppm ou me-nos, em particular 10 ppm ou menos.

Pós de metal apropriados são, por exemplo, muitos dos pós demetal refratário que são também apropriados para a produção de capacitores.

Tais pós de metal podem ser preparados pela redução de umcomposto de metal refratário com um agente de redução, e preferivelmentesubseqüente desoxidação. O óxido de tungstênio ou o óxido de molibdênio,por exemplo, é reduzido em um fluxo de hidrogênio em temperatura elevada.A preparação é descrita, por exemplo, em Schubert, Lassner, "Tungstênio",Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, 1999 ou Brauer, "Handbuchder Praparativen Anorganischen Chemie", Ferdinand Enke Verlag Stuttgart,1981, p. 1530.

No caso de tântalo e nióbio, a preparação é na maioria dos ca-sos realizada pela redução de heptaflúor-tantalatos de álcali e heptaflúor-tantalatos de metais alcalino-terrosos, ou os óxidos, tais como, por exemplo,heptafluorotantalato de sódio, heptafluorotantalato de potássio, heptafluoro-niobato de sódio ou heptafluoroniobato de potássio com um metal de álcaliou alcalino-terroso. A redução pode ser realizada em um sal fundido com aadição de, por exemplo, sódio, ou na fase de gás, vapor de cálcio ou vaporde magnésio sendo vantajosamente usados. É também possível misturar ocomposto de metal refratário com o álcali ou o metal alcalino-terroso e aque-cer a mistura. Uma atmosfera de hidrogênio pode ser vantajosa. Um grandenúmero de processos apropriados é conhecido pela pessoa versada na téc-nica, assim como os parâmetros dos quais as condições de reação apropri-adas podem ser selecionadas. Os processos apropriados são descritos, porexemplo, nos pedidos de patente US 4483819 e WO 98/37249.

Após a redução, a desoxidação é preferivelmente realizada. Istopode ser efetuado, por exemplo, misturando o pó de metal refratário comMg, Ca, Ba, La, Y ou Ce e depois aquecendo, ou por aquecimento do metalrefratário na presença de um absorvente metálico em uma atmosfera quepermita o oxigênio passar do pó de metal para o absorvente metálico. O póde metal refratário é, na maioria dos casos, liberado dos sais do agente dedesoxidação usando um ácido e água e é secado.

É vantajoso se, quando usar os metais para diminuir o teor deoxigênio, as impurezas metálicas puderem ser mantidas baixas.

Um processo adicional para preparar pós puros que têm um teorde oxigênio baixo, consiste em reduzir um hidreto de metal refratário usandoum metal alcalino-terroso como agente de redução, como descrito por e-xemplo, nos pedidos de patente WO 01/12364 e EP-A-1200218.

A espessura do revestimento é geralmente mais do que 0,01mm. Preferidas são as camadas com uma espessura entre 0,5 e 10 mm,mais preferidas entre 0,05 e 5 mm, ainda mais preferidas entre 0,05 e 1 mm,ainda mais preferidas entre 0,05 e 0.5 mm. A espessura pode ser maiortambém, por exemplo de 3 a 50 mm, ou de 5 a 45 mm, ou de 8 a 40 mm, oude 10 a 30 mm ou de 10 a 20 mm ou 10 a 15 mm.

As purezas e os teores de oxigênio dos revestimentos resultan-tes devem se desviar não mais do que 50% e preferivelmente não mais de20% daqueles do pó.

Vantajosamente, isso pode ser conseguido revestindo a superfí-cie do substrato sob um gás inerte. O argônio é vantajosamente usado comoo gás inerte, porque, devido a sua densidade maior que a do ar, ele tende acobrir o objeto a ser revestido e permanecer presente, em particular quandoa superfície a ser revestida está localizada em um vaso que evita que o ar-gônio escape ou flua para fora e mais argônio continuamente seja adicionado.

Os revestimentos aplicados de acordo com a invenção têm umapureza alta e um teor de oxigênio baixo. Vantajosamente, esses revestimen-tos têm um teor de oxigênio de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menosde 500, ou menos de 300, em particular um teor de oxigênio de menos de100 ppm.

Os revestimentos usualmente apresentam tensão compressoraσ. Usualmente, a tensão compressora é de cerca de -1000 MPa a 0 MPa, oude -700 MPa a 0 MPa, ou de -500 MPa a 0 MPa, de -400 MPa a 0 MPa oude -300 MPa a 0. Mais especificamente, a tensão compressora é de -200MPa a -1000 MPa, ou de -300 MPa a -700 MPa, ou de -300 MPa a -500 MPa.

Em geral, um teor de oxigênio mais baixo do pó empregado re-sultará em camadas que exibem tensão compressora mais baixa, por exem-plo uma camada pulverizada com pó que tem um teor de oxigênio de 1400ppm usualmente resultará em uma camada que exibe uma tensão compres-sora de cerca de -970 ± 50 MPa MPa, e uma camada pulverizada com o póque tem um teor de oxigênio de 270 ppm usualmente resultará em uma ca-mada que apresenta uma tensão compressora de cerca de -460 MPa ± 50MPa, mais preferivelmente -400 MPa ± 50 MPa. Em contraste para esse fim,camadas produzidas pela aspersão de plasma resultam em camadas quenão exibem nenhuma tensão compressora, porém tensão dúctil.

Em particular, esses revestimentos têm uma pureza de pelo me-nos 99,7%, vantajosamente de pelo menos 99,9%, em particular de pelomenos 99,95%, e um teor de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de500 ppm de oxigênio, ou menos de 300 ppm de oxigênio, em particular umteor de oxigênio de menos de 100 ppm.

Em particular, esses revestimentos têm uma pureza de pelo me-nos 99,95%, vantajosamente de pelo menos 99,995%, e um teor de menosde 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500 ppm de oxigênio, ou menos de300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos de 100 ppm.

Em particular, esses revestimentos têm uma pureza de pelo me-nos 99,999%, vantajosamente de pelo menos 99,9995%, e um teor de me-nos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500 ppm de oxigênio, ou menosde 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos de 100 ppm.

Os revestimentos de acordo com a invenção têm um teor totalde outras impurezas não-metálicas, tais como carbono, nitrogênio ou hidro-gênio, que é vantajosamente abaixo de 500 ppm e mais preferivelmente a -baixo de 150 ppm.

O revestimento aplicado tem um teor de impurezas gasosas quedifere por não mais do que 50%, ou não mais do que 20%, ou não mais doque 10%, ou não mais do que 5%, ou não mais do que 1%, do teor do pó departida com o qual esse revestimento foi produzido. O termo "difere" é paraser entendido como significando um aumento particular; os revestimentosresultantes devem, portanto, vantajosamente ter um teor de impurezas ga-sosas que não é mais do que 50% maior do que o teor do pó de partida.

O revestimento aplicado preferivelmente tem um teor de oxigê-nio que difere por não mais do que 5%, em particular não mais do que 1%,do teor de oxigênio do pó de partida.

Os revestimentos de acordo com a invenção preferivelmente têmum teor total de outras impurezas não-metálicas tais como carbono, nitrogê-nio ou hidrogênio, que é vantajosamente menor do que 500 ppm e mais pre-ferivelmente menor do que 150 ppm. Com o processo desta invenção, ca-madas com teores de impureza mais altos podem também ser produzidas.

Em particular, o teor de oxigênio é vantajosamente 50 ppm oumenos, o teor de nitrogênio é 25 ppm ou menos e o teor de carbono é 25ppm ou menos.

O teor de impurezas metálicas é vantajosamente 50 ppm oumenos, em particular 10 ppm ou menos.

Em uma modalidade vantajosa, os revestimentos adicionalmentetêm uma densidade de pelo menos 97%, preferivelmente maior do que 98%,em particular maior do que 99% ou 99.5%. 97% de densidade de uma ca-mada significa que a camada tem uma densidade de 97% do material gros-so. A densidade do revestimento é aqui uma medida de natureza fechada eporosidade do revestimento. Um revestimento fechado, substancialmentelivre de poros sempre tem uma densidade de mais de 99,5%. A densidadepode ser determinada tanto por análise de imagem de uma imagem de se-ção cruzada (seção esmerilada) de tal revestimento, ou alternativamente porpicnometria por hélio. O último método é menos preferido, uma vez que nocaso de revestimentos muito densos, os poros presentes nos revestimentos,que são mais remotos a partir da superfície, não são detectados, e é conse-quentemente medida uma porosidade inferior àquela que realmente existe.

Por meio da análise de imagens, a densidade pode ser determinada, deter-minando primeiro a área total do revestimento a ser investigado na área deimagens do microscópio e relacionando essa área com as áreas dos poros.

Nesse método, os poros que são localizados à distância da superfície e pró-ximo da interface com o substrato são também detectados. Uma densidadealta de pelo menos 97%, preferivelmente maior do que 98%, em particularmaior do que 99% ou 99,5%, é importante em muitos processos de revestimento.Os revestimentos mostram alta resistência mecânica que é cau-sada pela sua alta densidade e por alta deformação das partículas. No casodo tântalo, as resistências são, dessa maneira, de pelo menos 80 MPa, maispreferivelmente pelo menos 100 MPa, mais preferivelmente pelo menos 140MPa, quando o nitrogênio for usado como gás com o qual o pó de metal for-ma uma mistura de gás/pó. Se for usado o hélio, a resistência usualmenteserá de pelo menos 150MPa, preferivelmente pelo menos 170 MPa1 maispreferivelmente pelo menos 200 MPa e mais preferido maior do que 250 MPa.

Embora os revestimentos de acordo com a invenção apresentemdensidades altas e porosidades baixas, os revestimentos têm uma morfolo-gia que mostra claramente que foram criados a partir de partículas discretas.

Exemplos podem ser vistos, por exemplo, nas Figuras 1 a 7. Dessa maneira,os revestimentos de acordo com a invenção, podem ser distinguidos inteira-mente dos revestimentos obtidos por outros métodos, como os revestimen-tos obtidos por processos galvânicos. A aparência característica tambémpermite distinguir os revestimentos de acordo com a invenção de revesti-mentos obtidos por aspersão de plasma.

Os artigos que podem ser revestidos com o processo desta in-venção não são limitados. Geralmente todos os artigos que necessitam deum revestimento, preferivelmente um revestimento protetor contra corrosão,podem ser usados. Esses artigos podem ser feitos de metal e/ou de materialde cerâmica e/ou de material plástico ou podem compreender componentesdesses materiais. Preferivelmente, superfícies de materiais revestidas quesão sujeitas à remoção de material, por exemplo por uso, corrosão, oxida-ção, cauterização, usinagem ou outras tensões.

Preferivelmente, as superfícies de materiais são revestidas como processo desta invenção que são usados em ambientes de corrosão, porexemplo em processos químicos em dispositivos médicos ou em implantes.

Exemplos de aparelhos ou componentes a serem revestidos são os compo-nentes usados em fábricas químicas ou em laboratórios ou em dispositivosmédicos ou como implantes, tais como vasos para reação e mistura, agita-dores, flanges cegos, poços térmicos, discos de ruptura suportes para discosde ruptura, trocadores de calor (invólucro e tubos), tubulações, válvulas, cor-pos de válvulas e peças de bombas.

Preferivelmente, artigos são revestidos com o processo destainvenção que não são alvos de pulverização iônica ou anodos de raios X.

Os revestimentos preparados com o processo desta invençãopreferivelmente são usados em proteção contra corrosão.

A presente invenção, portanto, se refere também aos artigos fei-tos de metal e/ou material de cerâmica e/ou material plástico contendo pelomenos um dos revestimentos compostos dos metais refratários nióbio, tânta-lo, tungstênio, molibdênio, titânio zircônio ou misturas de dois ou mais dosmesmos ou ligas de dois ou mais das mesmas ou ligas com outros metais,cujos revestimentos têm as propriedades acima mencionadas.

Tais revestimentos são em particular revestimentos de tântalo ounióbio.

Preferivelmente, camadas de tungstênio, molibdênio, titânio zir-cônio ou misturas de dois ou mais dos mesmos, ou ligas de dois ou mais dosmesmos, ou ligas com outros metais, muito preferivelmente camadas de tân-talo ou nióbio, são aplicadas por aspersão a frio à superfície de um substratoa ser revestido. Surpreendentemente foi descoberto que com os ditos pós oumisturas de pós, preferivelmente com pós de tântalo e nióbio, que possuemum teor de oxigênio reduzido, por exemplo um teor de oxigênio abaixo de1000 ppm, podem ser produzidas camadas de aspersão a frio com taxas dedeposição muito altas, de mais de 90%. Nas ditas camadas de aspersão afrio, o teor de oxigênio do metal é quase imutável em comparação ao teor deoxigênio dos pós. Essas camadas de aspersão a frio mostram densidadesconsideravelmente mais altas do que as camadas produzidas pela aspersãode plasma ou pela aspersão a vácuo. Além do mais, essas camadas de as-persão a frio podem ser produzidas sem nenhuma ou com pouca textura,dependendo das propriedades do pó e dos parâmetros de revestimento. Es-sas camadas de aspersão a frio também são objeto desta invenção.

Os pós de metal apropriados para uso nos métodos de acordocom a invenção são também pós de metal que consistem em ligas, pseudo-Iigas e misturas de pós de metais refratários com metais não-refratários a-propriados.

É, dessa maneira, possível revestir superfícies de substratosfeitos da mesma liga ou pseudoliga.

Esses incluem especialmente ligas, pseudoligas ou misturas depós de um metal refratário selecionado a partir do grupo que consiste emnióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircônio ou misturas de doisou mais dos mesmos, com um metal selecionado a partir do grupo de cobal-to, níquel, ródio, paládio, platina, cobre, prata e ouro. Tais pós pertencem àtécnica anterior e são, em princípio, conhecidos da pessoa versada na técni-ca e estão descritos, por exemplo, nos pedidos de patente EP-A-774315 eEP-A-1138420.

Eles podem ser preparados pelos processos convencionais; porexemplo, as misturas de pós são obtidas misturando homogeneamente ospós de metal pré-preparados, sendo possível que a mixagem seja realizadapor um lado antes do uso no método de acordo com a invenção ou, alterna-tivamente, durante a produção da mistura de gás-pó. Os pós de liga são, namaior parte dos casos, obtidos pela fusão e mixagem dos pares de ligação.

De acordo com a invenção podem ser usados como pós de liga os assimchamados pós pré-ligados. Esses são pós que são produzidos pela mixa-gem de compostos tais, por exemplo, sais, óxidos e/ou hidretos de pares deligação e, depois, reduzindo-os de modo que misturas íntimas dos metaisem questão sejam obtidas. É adicionalmente possível, de acordo com a in-venção, usar pseudoligas. Pseudoligas são entendidas como sendo materi-ais que são obtidos não por metalurgia de fusão convencional mas, porexemplo, por trituração, sinterização ou infiltração.Os materiais conhecidos são, por exemplo, ligas de tungstê-nio/cobre ou misturas de tungstênio/cobre, cujas propriedades são conheci-das e estão listadas aqui a título de exemplo:

<table>table see original document page 15</column></row><table>

São também conhecidas as ligas de molibdênio-cobre ou mistu-ras de molibdênio/cobre nas mesmas relações como indicado acima.

São também conhecidas as ligas de molibdênio/prata ou mistu-ras de molibdênio/prata que contêm, por exemplo, 10, 40 ou 65% em pesode molibdênio.

São também conhecidas as ligas de tungstênio-prata ou mistu-ras de tungstênio/prata que contêm, por exemplo, 10, 40 ou 65% em pesode tungstênio.

Essas podem ser usadas, por exemplo, em tubos de aquecimen-to, corpos de refrigeração ou, em geral, nos sistemas de gerenciamento detemperatura.

É também possível usar ligas ou misturas de tungstênio- rênio,ou o pó de metal é uma liga que tem a composição a seguir:

de 94 a 99% em peso, preferivelmente de 95 a 97% em peso demolibdênio, de 1 a 6% em peso, preferivelmente de 2 a 4% em peso de nió-bio, de 0,05 a 1% em peso, preferivelmente de 0,05 a 0,02% em peso dezircônio.

Essas ligas, como pós de metal refratário puros que têm umapureza de pelo menos 99,95%, podem ser usadas na reciclagem de alvos depulverização iônica por meio de aspersão de gás a frio.

Os materiais apropriados para os métodos de acordo com a in-venção são listados nas Tabelas 1 a 15. Os materiais individuais são desig-nados com o número da tabela seguido pelo número da combinação decomponentes e a quantidade do metal não refratário como na Tabela 1. Porexemplo, o material 22.005 é um material descrito na Tabela 22, a composi-ção precisa sendo definida com o metal não-refratário e a quantidade domesmo como listado na Tabela 1, posição no. 5.

As ligas de nióbio apropriadas são listadas na Tabela 1.

Tabela 1

<table>table see original document page 16</column></row><table>Tabela 1 continuação

<table>table see original document page 17</column></row><table>

Tabela 2: A Tabela 2 consiste em 48 ligas, o metal refratáriosendo o tântalo, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade domesmo em% em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 3: A Tabela 3 consiste em 48 ligas, o metal refratáriosendo o tungstênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantida-de do mesmo em% em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 4: A Tabela 4 consiste em 48 ligas, o metal refratáriosendo o molibdênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantida-de do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 5: A Tabela 5 consiste em 48 ligas, o metal refratáriosendo o titânio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade domesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 6: A Tabela 6 consiste em 48 pseudoligas, o metal refra-tário sendo o tântalo, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quanti-dade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 7: A Tabela 7 consiste em 48 pseudoligas, o metal refra-tário sendo o tungstênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quan-tidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 8: A Tabela 8 consiste em 48 pseudoligas, o metal refra-tário sendo o molibdênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e aquantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 9: A Tabela 9 consiste em 48 pseudoligas, o metal refra-tário sendo o titânio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantida-de do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 10: A Tabela 10 consiste em 48 misturas de pós, o metalrefratário sendo o tântalo, em vez do nióbio, e o metal não refratário e aquantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 11: A Tabela 11 consiste em 48 misturas de pós, o metalrefratário sendo o tungstênio, em vez de nióbio, e o metal não refratário e aquantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 12: A Tabela 12 consiste em 48 misturas de pós, o metalrefratário sendo o molibdênio, em vez de nióbio, e o metal não refratário e aquantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 13: A Tabela 13 consiste em 48 misturas de pós, o metalrefratário sendo o titânio, em vez de nióbio, e o metal não refratário e aquantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Tabela 14: Tabela 14 consiste em 48 pseudoligas, o metal refra-tário sendo nióbio e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em %em peso sendo como indicado na Tabela 1,

Tabela 15: Tabela 15 consiste em 48 misturas de pós, o metalrefratário sendo nióbio e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em% em peso sendo como indicado na Tabela 1.

Apropriados também para uso nos métodos de acordo com ainvenção são os pós de metal que consistem em ligas, pseudoligas e mistu-ras de pós de metais refratários diferentes uns dos outros.

Por exemplo, ligas de molibdênio e titânio em uma relação de50:50 de percentual atômico ou ligas de tungstênio e titânio em uma quanti-dade de cerca de 90:10% em peso são conhecidas e são apropriadas parauso nos métodos de acordo com a invenção. Em princípio, entretanto, todasas ligas dos metais refratários uns com os outros são apropriadas para usonos métodos de acordo com a invenção.

Ligas binárias, pseudo- ligas e misturas de pós de metais refra-tários que são apropriadas para os processos de acordo com a invenção sãolistadas nas Tabelas 16 a 36. Materiais individuais são designados pelo nú-mero da tabela, seguido pelo número da combinação dos componentes, co-mo na Tabela 16. Por exemplo, o material 22.005 é um material descrito naTabela 22, em que a composição precisa é definida pelos metais refratáriosos quais são listados na Tabela 16, posição no. 5, e a quantidade como lis-tada na Tabela 22.

<table>table see original document page 19</column></row><table>

Tabela 17: A Tabela 17 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 2-5% em peso, o componente 2 está presenteem uma quantidade 100% em peso e os pares individuais na mistura sãocomo listados na Tabela 16.

Tabela 18: A Tabela 18 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 5-10% em peso, o componente 2 está presen-te em uma quantidade de 100% em peso e os componentes individuais sãocomo listados na Tabela 16.

Tabela 19: A Tabela 19 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 10-15% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listado na Tabela 16.

Tabela 20: A Tabela consiste em 20 ligas, pseudoligas e mistu-ras de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está presenteem uma quantidade de 15-20% em peso, o componente 2 está presente emuma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura sãocomo listados na Tabela 16.

Tabela 21: A Tabela 21 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 20-25% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 22: A Tabela 22 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 25-30% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares da misturas indivi-duais são como listado na Tabela 16.

Tabela 23: A Tabela 23 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 30-35% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 24: A Tabela 24 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 35-40% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ras são como listado na Tabela 16.

Tabela 25: A Tabela 25 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 40-45% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 26: A Tabela 26 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 45-50% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 27: A Tabela 27 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 50-55% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 28: A Tabela 28 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 55-60% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 29: A Tabela 29 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 60-65% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 30: A Tabela 30 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 65-70% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.Tabela 31: A Tabela 31 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 70-75% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 32: A Tabela 32 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 75-80% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 33: A Tabela 33 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 80-85% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 34: A Tabela 34 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 85-90% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 35: A Tabela 35 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 90-95% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Tabela 36: A Tabela 36 consiste em 20 ligas, pseudoligas e mis-turas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está pre-sente em uma quantidade de 95-99% em peso, o componente 2 está pre-sente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistu-ra são como listados na Tabela 16.

Exemplos

Preparação de um pó de tântaloUm pó de hidreto de tântalo foi misturado com 0,3% em peso demagnésio e colocado em um forno a vácuo. O forno foi evacuado e enchidocom argônio. A pressão foi 114,66 kPa (860 Torr), um fluxo de argônio foimantido. A temperatura do forno foi elevada para 650°C em etapas de 50°Ce, depois de uma temperatura constante foi estabelecida e mantida por qua-tro horas. A temperatura depois foi elevada para 1000°C em etapas de 50°Ce, depois de uma temperatura constante ter sido estabelecida, foi mantidapor seis horas. No fim deste período, o forno foi desligado e resfriado até atemperatura ambiente sob argônio. Magnésio e os compostos resultantesforam removidos na maneira convencional por lavagem com ácido. O pó detântalo resultante tinha um tamanho de -100 mesh (< 150 pm), um teor deoxigênio de 77 ppm e uma área de superfície BET específica de 255 cm2/g.

Preparação de um pó de titânio

O procedimento foi quanto à preparação do pó de tântalo. Um póde titânio tendo um teor de oxigênio de 93 ppm foi obtido.

Preparação de um pó de titânio/tântalo pré-liqado

Uma mistura de pó de hidreto de tântalo e pó de hidreto de titâ-nio em uma relação molar de 1:1 foi preparada e misturada com 0,3% empeso de magnésio; o procedimento como na preparação do pó de tântalo foientão seguido. Um pó de titânio/tântalo tendo um teor de oxigênio de 89 ppmfoi obtido.<table>table see original document page 24</column></row><table>Substratos: Os substratos foram colocados em sucessão sobre osuporte do espécime e revestidos sob as condições de teste indicadas. Asdescrições do substrato são feitas como a seguir:

O número no início indica o número de substratos idênticos Ioca-Iizados próximos uns dos outros. A letra a seguir indica se um espécime pla-no (F) ou um espécime redondo (R, tubo) foi usado. As letras a seguir indi-cam o material, Ta significando tântalo, S significando um aço estrutural, e Vsignificando um aço inoxidável (aço de cromo-níquel).

Revestimentos muito fortes e densos foram obtidos, que apre-sentam porosidade baixa e excelente adesão aos substratos em questão. Asdensidades da taxa de fluxo foram entre 11 e 21 g/seg*cm2.

As Figuras 1 a 10 mostram figuras de microscópio leves de se-ções cruzadas dos revestimentos de tântalo resultantes. Nenhuma inclusãode cobre ou tungstênio é detectável, como ocorre com as camadas corres-pondentes produzidas pela aspersão de plasma a vácuo. A determinação daporosidade foi realizada automaticamente pelo programa de análise de ima-gens ImageAccess.

Figura 1: Seção cruzada não corroída de um revestimento comtântalo, processo por gás hélio

Figura 2: Seção cruzada não corroída de um revestimento comtântalo, processo por gás hélio, figura de visão geral com amplitude baixa.

Figura 3: Seção cruzada de um revestimento com tântalo, corro-ída com ácido fluorídrico, processo por gás hélio, figura de visão geral comamplitude baixa

Figura 4: Seção cruzada de um revestimento com tântalo, corro-ída com ácido fluorídrico, processo por gás hélio

Figura 5: Seção de imagem usada para determinação de porosi-dade, seção cruzada de um revestimento com tântalo, processo por gás hélio

Figura 6: Seção cruzada de um revestimento com tântalo, corro-ída com ácido fluorídrico, interface com o substrato, processo por gás hélio

Figura 7: Seção cruzada não corroída de um revestimento comtântalo, processo por gás nitrogênio, figura de visão geral com amplitudebaixa

Figura 8: Seção cruzada não corroída de um revestimento comtântalo, processo por gás nitrogênio

Figura 9: Seção de imagem usada para determinação de porosi-dade, seção cruzada de um revestimento com tântalo, processo por gás ni-trogênio

Figura 10: Seção cruzada não corroída de um revestimento comtântalo, processo por gás nitrogênio, amplitude alta

Claims (30)

1. Método de aplicar revestimentos a superfícies, caracterizadopelo fato de que um fluxo de gás forma uma mistura de gás-pó com um póde um material selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo,tungstênio, molibdênio, titânio, zircônio ou misturas de pelo menos dois dosmesmos ou de suas ligas com pelo menos dois dos mesmos ou com outrosmetais, o pó tendo um tamanho de partícula de 0,5 a 150 pm, em que umavelocidade supersônica é conferida ao fluxo de gás e o jato da velocidadesupersônica é direcionado sobre a superfície de um objeto.

2. Método de acordo com a reivindicado na reivindicação 1, ca-racterizado pelo fato de que o pó é adicionado ao gás em uma quantidadetal que uma densidade da taxa de fluxo das partículas de 0,01 a 200 g/s cm2,preferivelmente 0,01 a 100 g/s cm2, muito preferivelmente 0,01 g/s cm2 a 20g/s cm2, ou mais preferido de 0,05 g/s cm2 a 17 g/s cm2, é assegurada.

3. Método de acordo com a reivindicado na reivindicação 1, ca-racterizado pelo fato de que a aspersão compreende as etapas de:- prover um orifício de aspersão adjacente à superfície a ser re-vestida por aspersão;- prover para o orifício de aspersão um pó de um material parti-culado escolhido a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstê-nio, molibdênio, titânio, zircônio, misturas de pelo menos dois dos mesmos,ou ligas dos mesmos uns com os outros ou outros metais, o pó tendo umtamanho de partícula de 0,5 a 150 μιη, o dito pó estando sob pressão;- prover um gás inerte sob pressão para o orifício de aspersão afim de estabelecer uma pressão estática no orifício de aspersão, e proveruma aspersão do dito material particulado e do gás na superfície a ser re-vestida; e- localizar o orifício de aspersão em uma região de pressão am-biental baixa que é menos do que 1 atmosfera, e que é substancialmentemenos do que a pressão estática no orifício de aspersão, para prover umaaceleração substancial da aspersão do dito material particulado e do gás nadita superfície a ser revestida.

4. Método de acordo com a reivindicado na reivindicação 1, ca-racterizado pelo fato de que a aspersão é executada com uma pistola deaspersão a frio, e o alvo a ser revestido e a pistola de aspersão a frio sãolocalizados dentro de uma câmara a vácuo a pressões abaixo de 80 kPa,preferivelmente entre 0,1 e 50 kPa, e mais preferido entre 2 e 10 kPa.

5. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-4, caracterizado pelo fato de que a velocidade do pó na mistura de gás- pó éde 300 a 2000 m/s, preferivelmente de 300 a 1200 m/s.

6. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações I a-5, caracterizado pelo fato de que as partículas de pó, que tocam na superfí-cie do objeto, formam um revestimento.

7. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-6, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um tamanhode partícula de 5 a 150 pm, preferivelmente de 10 a 50, ou de 10 a 32 pm,ou de 10 a 38 pm, ou de 10 a 25 pm, ou de 5 a 15 pm.

8. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-7, caracterizado pelo fato de que o pó do metal tem impurezas gasosas de-200 a 2500 ppm, com base no peso.

9. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-8, caracterizado pelo fato de que o pó do metal tem um teor de oxigênio demenos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500, ou menos de 300, emparticular menos de 100 ppm.

10. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-9, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um teor deoxigênio de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500, ou menosde 300, em particular menos de 100 ppm.

11. Método como reivindicado em uma ou mais das reivindica-ções 1 a 10, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem umteor de impurezas gasosas que difere por não mais do que 50% do teor dopó de partida.

12. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-11, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um teor deimpurezas gasosas que difere por não mais do que 20%, ou não mais doque 10%, ou não mais do que 5%, ou não mais do que 1% do teor do pó departida.

13. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-12, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um teor deoxigênio que difere por não mais de 5%, em particular por não mais do que-1 % do teor de oxigênio do pó de partida.

14. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-13, caracterizado pelo fato de que o teor de oxigênio do revestimento aplica-do é não mais do que 100 ppm.

15. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelofato de que o revestimento de metal aplicado consiste em tântalo ou nióbio.

16. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-15, caracterizado pelo fato de que a espessura do revestimento é de 10 μιτιa 10 mm ou de 50 μιτι a 5 mm.

17. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a-16, caracterizado pelo fato de que as camadas são aplicadas por aspersão afrio para a superfície de um objeto a ser revestido, preferivelmente camadasde tântalo ou nióbio.

18. Método de acordo com a reivindicação 17, caracterizado pe-lo fato de que as camadas produzidas possuem um teor de oxigênio abaixode 1000 ppm.

19. Uso de um pó de um material selecionado a partir do grupoque consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircônio oumisturas de pelo menos dois dos mesmos, ou ligas dos mesmos com pelomenos dois dos mesmos, ou com outros metais, cujo pó tem um tamanho departícula de 150 pm ou abaixo, caracterizado pelo fato de que é um métodocomo definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 18.

20. Uso de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelofato de que o pó do metal é uma liga tendo a composição a seguir: de 94 a-99% em peso, preferivelmente de 95 a 97% em peso, molibdênio, de 1 a 6%em peso, preferivelmente de 2 a 4% em peso, nióbio, de 0,05 a 1% em peso,preferivelmente de 0,05 a 0,02% em peso, zircônio.

21. Uso de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelofato de que o pó do metal é uma liga, pseudoliga ou mistura de pó de ummetal refratário selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tânta-Io, tungstênio, molibdênio, titânio e zircônio com um metal selecionado dogrupo de cobalto, níquel, ródio, paládio, platina, cobre, prata e ouro.

22. Uso de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelofato de que o pó do metal consiste em uma liga de tungstênio-rênio.

23. Uso de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelofato de que o pó do metal consiste em uma mistura de um pó de titânio comum pó de tungstênio ou um pó de molibdênio.

24. Revestimento de metal refratário sobre um objeto moldado,caracterizado pelo fato de que é obtido por um método como definido emqualquer uma das reivindicações 1 a 18.

25. Camada de aspersão a frio, caracterizada pelo fato de que éde tungstênio, molibdênio, titânio zircônio ou misturas de dois ou mais dosmesmos ou de ligas de dois ou mais dos mesmos, ou de ligas com outrosmetais possuindo um teor de oxigênio abaixo de 1000 ppm.

26. Camada de aspersão a frio de acordo com a reivindicação-25, caracterizada pelo fato de que a camada é feita de tântalo ou nióbio.

27. Objeto revestido, caracterizado pelo fato de que compreendepelo menos uma camada de metais refratários nióbio, tântalo, tungstênio,molibdênio, titânio, zircônio, misturas de dois ou mais dos mesmos ou ligasde dois ou mais dos mesmos com outros metais que é obtido usando umprocesso como definido em das reivindicações 1 a 18.

28. Objeto revestido de acordo com a reivindicação 27, caracte-rizado pelo fato de que o objeto revestido é feito de metal e/ou material decerâmica e/ou material plástico ou compreende componentes de pelo menosum desses materiais.

29. Objeto revestido como reivindicado na reivindicação 27 ou-28, caracterizado pelo fato de que o objeto revestido é um componente usa-do em fábricas ou laboratórios de química, ou em aparelhos médicos, oucomo implantes, preferivelmente como um vaso de reação e/ou de mistura,um agitador, um flange cego, um poço térmico, um disco de ruptura, um su-porte de disco de ruptura, um trocador de calor (invólucro e/ou tubo), umatubulação, uma válvula, um corpo de válvula e uma peça de bomba.

30. Uso de um revestimento de metal refratário, caracterizadopelo fato de que é um objeto formatado, obtido por um método como definidoem uma das reivindicações de 1 a 18 como um revestimento de corrosão -proteção.