BR112020007514A2 - um precursor de placa de impressão litográfico - Google Patents

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Thomas BILLIET
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Abstract

Um precursor de placa de impressão litográfico incluindo um revestimento fotopolimerizável e um sobrerrevestimento que é desativado depois de exposição na forma de imagem e pré-aquecimento do precursor.

Description

“UM PRECURSOR DE PLACA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICO” Campo da Técnica
[0001] A invenção refere-se a uma nova composição de sobrerrevestimento melhorando a estabilidade à luz do dia de uma placa de impressão de fotopolímero.
Fundamentos da Técnica
[0002] As máquinas de impressão litográficas usam um assim chamado mestre de impressão como uma placa de impressão que é montada em um cilindro da máquina de impressão. O mestre transporta uma imagem litográfica em sua superfície e uma impressão é obtida aplicando-se tinta à dita imagem e, em seguida, transferindo a tinta do mestre para um material receptor, que é tipicamente papel. Na assim chamada, impressão litográfica “úmida” convencional a tinta bem como uma solução de molhagem aquosa (também chamada líquido de amortecimento) são fornecidas à imagem litográfica que consiste em áreas oleofílicas (ou hidrofóbicas, isto é, que aceitam a tinta, repelem a água) bem como áreas hidrofílicas (ou oleofóbica, isto é, que aceitam a água, repelem a tinta). Em assim chamada imagem driográfica, a imagem litográfica consiste em áreas de aceitação de tinta e adesivo (repelente de tinta) e durante a impressão driográfica, somente a tinta é fornecida ao mestre.
[0003] As assim chamadas placas de impressão “análogas” são geralmente obtidas aplicando-se primeiro um assim chamado método de computador para filme (CtF), em que várias etapas de pré-impressão como seleção tipo de letra, varredura, cor separação, triagem, captura, layout e imposição são realizados digitalmente e cada seleção de cor é transferida para o filme de artes gráficas usando um editor de imagem. Depois do processamento, o pode ser usado como uma máscara para a exposição de um material de imagem chamado precursor de placa e depois do processamento da placa, uma placa de impressão é obtida que pode ser usada como um mestre. Desde cerca de 1995, o assim chamado método de “placa para computador” (CtP) tem ganhado muito interesse. Esse método, também chamado “direto para a placa”, ignora a criação de filme porque o documento digital é transferido diretamente para um precursor de placa de impressão por meio de uma máquina de montar placa. Um precursor de placa de impressão para CtP é frequentemente chamado de uma placa digital.
[0004] O suporte das placas de impressão litográficas são tipicamente suportes de alumínio que têm uma superfície hidrofílica ou em que uma camada hidrofílica foi fornecida. Essa superfície e/ou camada hidrofílica deve melhorar a aceitação da água das áreas de não impressão de uma placa de impressão litográfica e a repulsão da tinta de impressão nessas áreas. Durante o desenvolvimento, as porções solúveis do revestimento deve ser facilmente removidas de modo que a superfície do suporte permaneça livre de resíduo de modo que áreas de fundo limpas são obtidas durante a impressão.
[0005] As placas digitais podem ser aproximadamente divididas em três categorias: (i) placas de prata, funcionando de acordo com o mecanismo de transferência de difusão de sal de prata; (ii)placas de fotopolímero contendo uma composição fotopolimerisável que endurece após exposição à luz e (iii) placas térmicas cujo o mecanismo de imagem é acionado por calor ou por conversão de luz para calor.
[0006] As placas de impressão de fotopolímero baseiam-se em um mecanismo de funcionamento pelo qual o revestimento que tipicamente inclui compostos radicalmente polimerizáveis livres endurece após a exposição, opcionalmente seguido por uma etapa de aquecimento para aprimorar ou para acelerar esse processo. “Endurecer” significa que o revestimento se torna insolúvel ou não dispersável na solução em desenvolvimento e pode ser obtida através de polimerização e/ou reticulação do revestimento fotossensível após a exposição à luz. As placas de fotopolímero convencionais foram expostas à luz ultravioleta de uma lâmpada através de um filme de máscara fotográfico separado tendo um padrão de imagem predeterminado que é colocado entre a fonte de luz e a placa. Atualmente, as fontes de laser são geralmente usadas para expor na forma de imagem precursores de placa de impressão que são sensibilizadas a um comprimento de onda de laser correspondente, permitindo a eliminação do filme de máscara fotográfico. Entretanto, essas placas com imagem a laser frequentemente têm a desvantagem de estabilidade de luz ambiente limitada e/ou deve ter uma velocidade fotográfica alta (sensibilidade) por causa da potência limitada de leitores a laser atuais. Os precursores de placa de fotopolímero podem ser sensibilizados para luz azul, verde ou vermelha, isto é, comprimentos de onda variando entre 450 e 750 nm, para luz violeta, isto é, comprimentos de onda variando entre 350 e 450 nm ou para luz infravermelha, isto é, comprimentos de onda variando entre 750 e 1500 nm.
[0007] As placas de impressão de fotopolímero sensíveis ao laser violeta tipicamente usadas para o mercado dos jornais geralmente têm uma alta sensibilidade por causa do requisito para imagem rápida ou velocidade fotográfica. Como essas placas de sensibilidade alta geralmente têm estabilidade à luz ambiente branca limitada, placas sensíveis ao laser violeta usualmente requerem luz amarela para manuseio. De fato, as placas com velocidade fotográfica mais rápida geralmente têm uma janela de manuseio mais curta sob luz ambiente branca, enquanto placas com uma janela de manuseio mais longa sob luz ambiente branca geralmente têm velocidade fotográfica mais lenta.
[0008] As placas de fotopolímero tipicamente contêm um monômero Ppolimerizável, um aglutinante, um fotoiniciador e um corante sensibilizante. Em geral, uma camada superior ou camada de sobrerrevestimento protetora sobre a camada de imagem que atua como uma camada de barreira de oxigênio é necessária para manter a sensibilidade da placa. Uma camada superior tipicamente inclui polímeros solúveis em água ou expansíveis em água como, por exemplo, álcool polivinílico. Além de atuar como barreira para oxigênio, a camada superior deve ser facilmente removível durante o processamento e ser suficientemente transparente para radiação actínica, por exemplo, de 300 a 450 nm ou de 450 a 750 nm ou de 750 a 1500 nm.
[0009] O fluxo de funcionamento clássico de placas de fotopolímero envolve primeiro uma etapa de exposição do precursor de placa de impressão de fotopolímero em uma máquina de montar placa, seguido por uma etapa de preaquecimento opcional, uma etapa de lavagem da camada de sobrerrevestimento protetora, uma etapa de desenvolvimento alcalina, e uma etapa de enxágue e goma. Nos últimos anos, existe uma evolução clara na direção de um fluxo de funcionamento simplificado onde a etapa de processamento e goma são realizadas em uma única etapa. Alternativamente, o processamento de impressão em que a placa é montada na impressora e a camada de revestimento é desenvolvida pela interação com a fonte e tinta que são fornecidas ao cilindro durante a execução da impressão, tornou-se muito popular. Durante as primeiras rodadas da impressão, as áreas sem imagem são removidas a partir do suporte e desse modo definir as áreas de não impressão da placa. Uma placa que pode ser desenvolvida na impressora é, assim, projetada para ser desenvolvida em uma máquina de impressão litográfica em uma sala de impressão que fica geralmente sob luz ambiente branca. Entretanto, como discutido acima, as placas de fotopolímero sensíveis ao laser violeta divulgadas na técnica anterior frequentemente apresentam estabilidade limitada à luz ambiente branca e precisam ser manuseadas com luz “segura”. Luz “segura” significa luz com uma faixa de comprimento de onda específica que não causa o endurecimento do revestimento; pelo menos durante o tempo necessário para manusear e processar a placa. Para a maioria dos revestimentos fotossensíveis, a luz segura é amarela ou vermelha.
[0010] Na técnica, existe um grande interesse para as placas de impressão de fotopolímero sensíveis ao laser violeta tendo tanto uma velocidade fotográfica rápida quanto uma janela de manejo ampla sob condições de luz ambiente branca.
[0011] US 8.148.048 divulga um método para descascar mecanicamente o sobrerrevestimento de uma placa de impressão litográfica com velocidade rápida compreendendo um substrato, uma camada fotossensível, e um sobrerrevestimento, pelo que a estabilidade à luz do dia da placa é melhorada.
[0012] US 6.420.089 divulga um precursor de placa de impressão que pode ser desenvolvido na impressora por meio de solução de fonte e tinta à luz do dia ou condições semelhantes e que compreendem um sobrerrevestimento incluindo um corante azo sulfonado que não diminui a sensibilidade à luz do precursor nem outras propriedades como capacidade de desenvolvimento, aceitação de tinta e estabilidade de armazenamento.
[0013] Um dispositivo para remover o sobrerrevestimento de uma placa de impressão fotossensível compreendendo um estrutura pela qual a placa entra em contato com a água preferencialmente sob uma escovação ou fricção é divulgado em US 2009/0274979. O dispositivo de remoção de sobrerrevestimento é preferencialmente conectado a um leitor de laser de modo que a placa possa ser representada visualmente no leitor de laser e, em seguida, diretamente transferida para o dispositivo de remoção de sobrerrevestimento para remover o sobrerrevestimento.
[0014] US 2015/0177618 divulga a aplicação de um material de bloqueio de luz que impede que uma porção da luz ambiente dentro do intervalo de comprimento de onda de 200 a 780 nm atinja a camada fotossensível, pelo que é obtida uma melhor estabilidade da luz ambiente.
[0015] Um método de tratar uma placa de impressão litográfica fotossensível exposta a laser com uma solução desativadora seguida por uma irradiação geral é divulgado no documento US 2009/170040. A solução de desativação é capaz de desativar a capacidade de foto- endurecimento da camada fotossensível nas áreas não endurecidas, de modo que a irradiação geral após a exposição ao laser não cause o endurecimento da camada fotossensível nas áreas não endurecidas.
[0016] Us 2008/280232 divulga uma placa litográfica exposta a laser que pode ser manuseada livremente sob a luz ambiente branca durante o desenvolvimento na impressora. A placa é desativada aplicando globalmente à placa um agente desativador, calor ou radiação geral que não causa o endurecimento da camada fotossensível.
[0017] Continua sendo um desafio projetar uma placa de impressão de fotopolímero sensível ao laser, de preferência processável na impressora, com velocidade de fotos rápida e ampla janela de manuseio (em termos de tempo) em condições de iluminação comuns da sala de impressão, isto é, luz branca da sala.
Sumário da invenção
[0018] É um objetivo da presente invenção fornecer um funcionamento negativo, preferencialmente processável na impressora, precursor de placa de impressão litográfico incluindo uma camada fotopolimerisável que é caracterizado por uma velocidade fotográfica alta e que pode ser manejado livremente sob luz ambiente branca depois da exposição e antes/durante o desenvolvimento.
[0019] Este objetivo é realizado pelo precursor de placa de impressão definido na reivindicação 1 com modalidades preferíveis definidas nas reivindicações dependentes. A invenção tem a característica específica que a placa de impressão material inclui uma camada de sobrerrevestimento que é pelo menos parcialmente permeável ao oxigênio depois da exposição na forma de imagem e aquecimento.
[0020] É um objetivo adicional da presente invenção fornecer um método para fabricar uma placa de impressão litográfica compreendendo as etapas de: - expor na forma de imagem o precursor de placa de impressão incluindo o revestimento como definido acima da radiação de luz; = aquecer o precursor exposto; = desenvolver o precursor exposto.
[0021] Outros recursos, elementos, etapas, características e vantagens da presente invenção tornar-se- ão mais evidentes a partir da seguinte descrição detalhada das modalidades preferíveis da presente invenção. As modalidades específicas da invenção também são definidas nas reivindicações dependentes.
Descrição das modalidades O sobrerrevestimento
[0022] O precursor de impressão litográfica da presente invenção inclui em um suporte um revestimento fotopolimerizável e uma camada superior fornecida no mesmo.
A camada superior age como uma camada de barreira ao oxigênio e compreende um polímero ou aglutinante solúvel em água ou expansível em água.
[0023] A camada superior deve ser um camada de barreira de oxigênio eficiente que adira suficientemente à camada fotopolimerisável ou outras camadas do revestimento opcionais. A dita camada superior é, em seguida, também denominada como “camada protetora”, “camada de sobrerrevestimento” ou “sobrerrevestimento”. Além de agir como barreira para oxigênio, a camada de sobrerrevestimento é preferencialmente facilmente removível durante o processamento e é suficientemente transparente para radiação actínica, por exemplo, de 300 a 450 nm ou de 700 a 900 nm ou de 750 a 1200 nm.
[0024] O sobrerrevestimento pode ser qualquer material formador de filme que é substancialmente transparente à luz da imagem e compreende pelo menos um composto capaz de gerar produtos de decomposição voláteis (gases) após o aquecimento. A temperatura em que o composto é capaz de gerar produtos de decomposição voláteis (gases) é preferencialmente entre 80 ºC e 300 ºc, mais preferencialmente entre 100 ºC e 250 “ºC e o mais preferencialmente entre 120º e 200 ºC. O período aplicado deste calor; isto é, o tempo de espera, é preferencialmente entre 2 s e 30 minutos, mais preferencialmente entre 10 s e minutos e o mais preferencialmente entre 15 s e 10 minutos. Essa etapa de aquecimento, também denominada como “etapa de pré-aquecimento” pode ser realizada em uma unidade de pré-aquecimento compreendendo um elemento de aquecimento incluindo um fonte de aquecimento como, por exemplo, uma fonte de radiação (uma lâmpada de IR), ar aquecido ou um rolo aquecido.
[0025] Nesta etapa de tratamento térmico, os gases formados “reduzem, pelo menos parcialmente, as propriedades de barreira ao oxigênio da camada superior e como um resultado, a estabilidade à luz ambiente branca do precursor de placa de impressão é substancialmente aprimorada. De fato, o oxigênio pelo menos parcialmente desativa o revestimento pelo qual a polimerização (indesejada) de áreas sem imagem antes do desenvolvimento, devido à exposição dessas áreas à luz ambiente branca, é substancialmente impedida. A polimerização indesejada em áreas sem imagem pode levar ao embaçamento, isto é, comportamento de limpeza insuficiente, resultando em tonificação na impressora, isto é, aceitação de tinta em áreas sem imagem.
[0026] O termo “desativar” significa que a camada fotossensível tem uma taxa reduzida de endurecimento ou até se torna incapaz de endurecer sob a luz ambiente branca. Assim, a camada fotossensível é capaz de endurecer à luz ambiente antes do passo de aquecimento ou desativação e torna-se incapaz Ou apresenta uma taxa reduzida de endurecimento sob luz ambiente após a etapa de aquecimento ou desativação.
[0027] “Endurecimento” significa que o revestimento se torna insolúvel ou não dispersível para a solução revelada e pode ser alcançado através da polimerização e/ou reticulação do revestimento fotossensível.
[0028] Essa etapa de aquecimento pode, além de desativar as áreas não expostas, melhorar ou acelerar a reação de polimerização e/ou reticulação nas áreas expostas (endurecidas).
[0029] Os compostos capazes de gerar produtos de decomposição voláteis são preferencialmente produtos decompostos por calor que geram pelo menos uma gás após o aquecimento. O dito gás(ses) é preferencialmente não condensável na temperatura ambiente como, por exemplo, dióxido de carbono, monóxido de carbono, gás hidrogênio e/ou amônia; ou gera um gás inerte como gás nitrogênio. Os compostos mais preferíveis são os assim chamados agentes de expansão; mais informações sobre os agentes de expansão podem ser encontradas no “Handbook of foaming and blowing agents” por George Wypych, 1 Edição, Fevereiro de 2017, capítulo 10. Estes compostos capazes de gerar produtos de decomposição voláteis preferencialmente são incluídos no revestimento em um nível entre 10 % em peso e 60 % em peso, mais preferencialmente entre 15 % em peso e 50 % em peso e o mais preferencialmente entre 20 % em peso e 40 % em peso. Os compostos específicos incluem, mas não são limitados a, por exemplo, carbonatos como carbonato de amônio e hidrogenocarbonato de amônio, e carbamatos como carbamato de amônio, que sofrem decomposição a cerca de 60 ºC para gerar dióxido de carbono e/ou amônia, e hidrazidas como benzenossulfonil hidrazida ou p-toluenossulfonil hidrazida que decompõem para formar gás nitrogênio. É preferível que os compostos mencionados sejam dissolvidos ou dispersos preliminarmente e que sejam adicionados na forma de uma solução.
[0030] A camada de sobrerrevestimento preferencialmente compreende ainda um aglutinante hidrofílico. Os aglutinantes preferíveis que podem ser usados na camada superior são divulgados em WO2005/029190 (página 36 linha 3 à página 39 linha 25), US 2007/0020563 (parágrafo [0158]) e EP 1 288 720 (parágrafos [0148] e
[0149]), incluindo as referências citadas nessas patentes e pedidos de patente.
[0031] O aglutinante mais preferível para a camada superior é e/ou derivados de álcool polivinílico. O álcool polivinílico tem preferencialmente um grau de hidrólise variando entre 74 % em mol e 99 % em mol, mais preferencialmente entre 88 % em mol e 98 % em mol. O peso molecular médio ponderado do álcool polivinílico pode ser medido pela viscosidade de uma solução aquosa, 4 % em peso, a 20 ºC como definido em DIN 53 015, e esse número de viscosidade varia preferencialmente entre 3 e 26, mais preferencialmente entre 3 e 15, o mais preferencialmente entre 3 e 10.
[0032] Uma mistura de álcoois polivinílicos e/ou derivados de álcool polivinílico tendo uma hidrólise diferente e número de viscosidade também podem ser usados, por exemplo, uma combinação de dois ou mais polímeros solúveis em água como uma combinação de álcool polivinílico e polivinilpirrolidona. os álcoois polivinílicos modificados, por exemplo, álcoois polivinílicos tendo um grupo carboxila e/ou um grupo de ácido sulfônico também podem ser usados, preferencialmente junto com álcoois polivinílicos não modificados.
[0033] A espessura de revestimento da camada superior é preferencialmente entre 0,25 e 1,75 g/mº, mais preferencialmente entre 0,25 e 1,3 g/m, o mais preferencialmente entre 0,25 e 1,0 g/m”. Em uma modalidade mais preferível da presente invenção, a camada superior opcional tem uma espessura de revestimento entre 0,25 e 1,75 g/mº e compreende um álcool polivinílico tendo um grau de hidrólise variando entre 74 % em mol e 99 % em mol e um número de viscosidade como definido acima variando entre 3 e 26.
[0034] A camada de sobrerrevestimento pode compreender outros ingredientes como tensoativos aniônicos, por exemplo, alquil sulfato de sódio ou alquil sulfonato de sódio, dioctilsulfosuccinato de sódio, dodecilbenzenossulfonato de sódio e laurilsulfato de amônio; tensoativos anfóteros, por exemplo, alquilaminocarboxilato e alquilamino-dicarboxilato; tensoativos não iônicos, por exemplo, polietilenoglicol, polipropileno glicol, e copolímero de etileno glicol e propileno glicol, tensoativos de polissiloxano, tensoativos de perfluorocarbono, condensado de óxido de alquilfenil etileno, alquileno diaminas alcoxiladas divulgados em EP 1 085 380 (parágrafos [0021] e [0022]), glicerina, partículas inorgânicas, ácidos, pigmentos, etc. Várias micropartículas orgânicas ou inorgânicas podem ser adicionadas ao revestimento para, por exemplo, reduza a aderência ou a sensibilidade à umidade da placa. O ácido que é de preferência solúvel em água e tem um baixo peso molecular. O referido ácido pode ser um ácido inorgânico ou um ácido orgânico, conforme divulgado na EP 2 149 071, página 27, linhas 1 a 21. A camada de sobrerrevestimento pode opcionalmente incluir outros ingredientes como agentes de acabamento ou agentes umectantes como divulgados em EP 2 916 171 e são incorporados aqui por referência.
[0035] O sobrerrevestimento pode ser formado na placa de impressão revestindo-se uma solução Ou dispersão, ou laminando-se um filme polimérico. o revestimento pode ser realizado por qualquer método conhecido, revestimento de rolo, revestimento de ranhura, revestimento de cortina, revestimento de vareta Mayer, revestimento por imersão ou revestimento por spray; de preferência revestimento com rolo ou com ranhura. O sobrerrevestimento revestido é ainda seco para remover a água e/ou qualquer solvente, de preferência por secagem forçada a ar quente, secagem por radiação ou combinação de secagem por ar forçado e secagem por radiação. A solução ou dispersão contendo um polímero formador de filme adequado para formar o sobrerrevestimento pode ser uma solução polimérica solúvel em água (contendo polímero solúvel em água) ou dispersão polimérica (incluindo emulsão polimérica e látex, contendo polímero insolúvel em água, com ou sem adição solúvel em água polímero), de preferência uma solução de polímero solúvel em água. Vários aditivos, como ainda tensoativos, agentes “umectantes, antiespumantes agentes de nivelamento e agentes dispersantes podem ser adicionados ao sobrerrevestimento para facilitar, por exemplo, o processo de revestimento e/ou desenvolvimento.
[0036] o filme polimérico adequado para laminação na camada fotossensível para formar o sobrerrevestimento pode ser qualquer filme polimérico, como filmes de polímero com base em poliéster (incluindo tereftalato de polietileno), copolímero de polietileno, polipropileno, etileno/propileno, poliestireno, polivinil butirol, polinitrila, poliamida, polimida, cloreto de polivinila, policarbonato, polimetilmetacrilato, copolímero de acrilato/estireno, metacrilato de copolímero polímero de epóxi-amina, nylon, teflon, celulose e seus derivados formadores de filmes e acetato de polivinil. Poliéster, polietileno e polipropileno são filmes poliméricos preferidos; e poliéster é mais preferível.
[0037] o sobrerrevestimento é preferencialmente removido na impressora com solução de fonte durante o desenvolvimento na impressora.
O precursor de placa de impressão litográfico
[0038] O precursor de placa de impressão litográfico de acordo com a presente invenção é um funcionamento negativo, isto é, depois da exposição e desenvolvimento, as áreas não expostas do revestimento são removidas a partir do suporte e definem áreas hidrofílicas (não impressão), enquanto o revestimento exposto é não removido a partir do suporte e definem áreas oleofílicas (impressão). As áreas hidrofílicas são definidas pelo suporte que tem uma superfície hidrofílica ou são fornecidas com uma camada hidrofílica. As áreas hidrofóbicas são definidas pelo revestimento, endurecido após a exposição, opcionalmente seguido por uma etapa de aquecimento. As áreas com propriedades hidrofílicas significa áreas com maior afinidade por uma solução aquosa do que por uma tinta oleofílica; áreas com propriedades hidrofóbicas significam áreas com uma maior afinidade para uma tinta oleofílica do que para uma solução aquosa.
“Endurecido” significa que o revestimento se torna insolúvel ou não dispersível para a solução revelada e pode ser alcançado através da polimerização e/ou reticulação do revestimento fotossensível, que pode ser aprimorado pela etapa de aquecimento, conforme descrito acima.
Suporte
[0039] A placa de impressão litográfica usada na presente invenção compreende um suporte que tem uma superfície hidrofílica ou que é fornecido com uma camada hidrofílica. O suporte é preferencialmente um granulado e alumínio anodizado suporte, bem conhecido na técnica. Os suportes adequados são, por exemplo, divulgados em EP 1 843 203 (parágrafos [0066] a [0075]). A rugosidade da superfície, obtida após a etapa de granulação, é frequentemente expressa como rugosidade média aritmética Ra (ISO 4287/1 ou DIN 4762) e pode variar entre 0,05 e 1,5 um. O substrato de alumínio da presente invenção possui preferencialmente um valor de Ra abaixo de 0,45 um, mais preferencialmente abaixo de 0,40 um e mais preferencialmente abaixo de 0,30 pm. O limite inferior do valor de Ra é preferencialmente de cerca de 0,1 um. Mais detalhes sobre os valores Ra preferidos da superfície do suporte de alumínio granulado e anodizado estão descritos na EP 1 356 926. Ao anodizar o suporte de alumínio, uma camada de Al,0; é formada e o peso anódico de AlzO; (g/m? formado na superfície de alumínio) varia entre 1 e 8 g/m. O peso anódico é preferencialmente 2 3 g/m, mais preferencialmente > 3,5 g/mº e o mais preferencialmente >? 4,0 g/m.
[0040] O suporte de alumínio granulado e anodizado pode estar sujeito ao chamado tratamento pós- anódico para melhorar as propriedades hidrofílicas de sua superfície. Por exemplo, o suporte de alumínio pode ser silicato tratando a sua superfície com uma solução de silicato de sódio a temperatura elevada, por exemplo, 95 ºC. Alternativamente, pode ser aplicado um tratamento com fosfato que envolve o tratamento da superfície do óxido de alumínio com uma solução de fosfato que pode conter ainda um fluoreto inorgânico. Além disso, a superfície do óxido de alumínio pode ser lavada com uma solução de ácido cítrico ou citrato. Este tratamento pode ser realizado à temperatura ambiente ou a uma temperatura ligeiramente elevada de cerca de 30 a 50 “ºC. Um outro tratamento interessante envolve enxaguar a superfície do óxido de alumínio com uma solução de bicarbonato. Além disso, a superfície do óxido de alumínio pode ser tratada com ácido polivinilfosfônico, ácido polivinilmetilfosfônico, ésteres de ácido fosfórico de álcool polivinílico, ácido polivinilsulfônico, ácido polivinilbenzenossulfíônico, ésteres de ácido sulfúrico de álcool polivinílico e acetais de álcoois polivinílicos formados por reação com um ácido alifonado alifático.
[0041] Na presente invenção, o pós-tratamento da superfície do óxido de alumínio com ácido polivinilfosfônico, ácido polivinilmetilfosfônico, ésteres de ácido fosfórico de álcool polivinílico, ácido polivinilsulfônico, ácido polivinilbenzenossulfônico, ésteres de ácido sulfúrico de álcool polivinílico e/ou acetais de álcoois polivinílicos formados por reação com um aldeído alifático sulfonado, é especialmente preferível.
Mais preferível é o pós-tratamento da superfície do óxido de alumínio com ácido polivinilfosfônico, ácido polivinilmetilfosfônico, ésteres de ácido fosfórico de álcool polivinílico e/ou ácido polivinilsulfônico. O mais preferível é o tratamento da superfície do óxido de alumínio com ácido polivinilfosfônico.
[0042] Um outro tratamento pós-anódico útil pode ser realizado com uma solução de ácido poliacrílico ou um polímero compreendendo pelo menos 30 % em mol de unidades monoméricas de ácido acrílico, por exemplo GLASCOL El5, um ácido poliacrílico, disponível comercialmente na Ciba Specialty Chemicals.
[0043] Alternativamente, o suporte pode ser tratado com um composto promotor de adesão como os descritos em EP 1 788 434 em [0010] e em WO 2013/182328.
[0044] Além de um suporte de alumínio, um suporte de plástico, por exemplo, um suporte de poliéster, fornecido com uma ou mais camadas hidrofílicas como divulgado em, por exemplo, EP 1 025 992 pode também ser usado.
Revestimento de fotopolímero
[0045] O revestimento tem pelo menos uma camada incluindo uma composição fotopolimerisável, a dita camada é também denominada como a “camada fotopolimerisável”. A camada fotopolimerisável preferencialmente tem uma espessura de revestimento preferencialmente variando entre 0,2 e 5,0 g/m, mais preferencialmente entre 0,4 e 3,0 g/m?, o mais preferencialmente entre 0,6 e 2,2 g/m. O revestimento pode incluir outras camadas como, por exemplo, uma camada de aprimoramento de adesão, localizado entre o suporte e a camada fotopolimerisável.
[0046] A composição fotopolimerisável preferencialmente inclui um composto polimerizável. o composto polimerizável pode ser um monômero ou oligômero incluindo pelo menos um epóxi ou grupo funcional de éter vinílico e o iniciador de polimerização é um gerador de ácido de Brônsted capaz de gerar ácido livre, opcionalmente na presença de um sensibilizador. Os monômeros epóxi poli- funcionais adequados e geradores de ácido Brônsted adequados são divulgados em WO2014/198820 [048] e [049].
[0047] O composto polimerizável é o mais preferencialmente um monômero ou oligômero polimerizável incluindo pelo menos um grupo etilênico terminal, daqui em diante também denominado como “monômero polimerizável por radicais livres”. A polimerização envolve a ligação dos monômeros polimerizáveis por radicais livres.
[0048] os monômeros polimerizáveis por radicais livres adequados são divulgados em [0050] e [0051] de WO2014/198820 e são aqui incorporados por referência.
Iniciador
[0049] Em uma modalidade altamente preferível, o revestimento contém preferencialmente um iniciador de radicais livres capaz de gerar radicais livres mediante exposição direta ou na presença de um sensibilizador. Os iniciadores de radicais livres adequados são descritos em WO 2005/111727 da página 15 da linha 17 à página 16 da linha 11 e EP 1 091 247 e podem incluir, por exemplo, composto de hexaaril-bisimidazol (HABI; dímero de triaril- imidazol), cetonas aromáticas, aromáticas sais de ópio,
peróxidos orgânicos, compostos tio, compostos de éster ceto-oxima, compostos de borato, compostos de azínio, compostos de metaloceno, compostos de éster ativo e outros compostos possuindo uma ligação carbono-halogênio.
[0050] o revestimento, preferencialmente a camada fotopolimerisável, também pode compreender um co- iniciador. Tipicamente, um co-iniciador é usado em combinação com um iniciador de radical livre. Os co- iniciadores adequados para o uso no revestimento de fotopolímero são divulgados em US 6.410.205; US 5.049.479; EP 1 079 276, EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0124460, EP 1 241 002, EP 1 288 720 e no livro de referência, incluindo as referências citadas: formulação para revestimentos por Chemistry & Technology UV & EB, tintas e pinturas, Volume 3, Fotoiniciadores para polimerização radical e catiônica livre por KK Dietliker, Editado por P.K.T. Oldring - 1991 - ISBN O 947798161. Os co-riniciadores específicos, como descritos na EP 107 792, podem estar presentes na camada fotopolimerizável para aumentar ainda mais a sensibilidade. Os co-iniciadores preferíveis são divulgados na EP 2 916 171 [0051] e são aqui incorporados por referência.
[0051] Uma sensibilidade muito alta pode ser obtida incluindo-se um sensibilizador como, por exemplo, um branqueador óptico no revestimento. Exemplos adequados de branqueadores ópticos como sensibilizadores são descritos em WO 2005/109103 página 24, linha 20 a página 39. Outros sensibilizadores preferíveis são sensibilizadores que absorvem a luz azul, verde ou vermelha, possuindo um espectro de absorção entre 450 nm e 750 nm. os sensibilizadores úteis podem ser selecionados a partir dos corantes sensibilizadores divulgados na US 6.410.205; US
5.049.479; EP 1 079 276, EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0124460, EP 1 241 002 e EP 1 288 720.
Composto absorvente de infravermelho
[0052] Em uma outra modalidade preferível, o revestimento pode incluir um composto absorvente de infravermelho. O composto absorvente de IV pode ser um corante ou pigmento absorvente de luz infravermelha. É preferível um corante absorvente de luz infravermelha, também aqui referido como corante de IR. O corante absorvente de luz infravermelha tem preferencialmente um espectro de absorção entre 750 nm e 1300 nm, preferencialmente entre 780 nm e 1200 nm, mais preferencialmente entre 800 nm e 1100 nm. O composto absorvente de IV absorve a luz infravermelha e converte a energia absorvida em calor.
[0053] A concentração dos corantes de IR em relação ao total peso seco do revestimento, é preferencialmente de 0,25 % em peso a 25,0 % em peso, mais preferencialmente de 0,5 % em peso a 20,0 % em peso, mais preferível de 1,0 % em peso a 10,0 % em peso.
[0054] O composto absorvente de infravermelho pode estar presente na camada fotopolimerizável; e/ou na camada de sobrerrevestimento; e/ou em outra camada opcional. Os compostos absorventes de IR preferíveis são corantes tais como corantes cianina, merocianina, indoanilina, oxonol, pirilio e esquarilio ou pigmentos tais como negro de fumo. Exemplos de absorvedores de IV adequados são descritos em p. EP 823 327, EP 978 376, EP 1
029 667, EP 1 053 868, EP 1 093 934; WO 97/39894 e WO 00/29214. Os corantes preferíveis particulares são os corantes de heptametineciano, especialmente os corantes divulgados no documento EP 1 359 008, parágrafos [0030] a
[0032].
Aglutinante
[0055] O revestimento preferencialmente inclui um aglutinante, preferencialmente, a aglutinante está presente na camada fotopolimerizável. O aglutinante pode ser selecionado a partir de uma ampla série de polímeros orgânicos. As composições de aglutinantes diferentes também podem ser usadas. Os aglutinantes úteis são descritos nas WO2005/111727, página 17, linha 21 à página 19, linha 30 EP 1 043 627, no parágrafo [0013] e no MWO2005/029187, página 16, linha 26 à página 18, linha 11. Os aglutinantes adequados incluem aglutinantes hidrofílicos, como homopolímeros e copolímeros de álcool vinílico, acrilamida, metilol acrilamida, metilol metacrilamida, ácido acrílico, ácido metacrílico, hidroxietil acrilato, hidroxietil metacrilato e copolímeros de anidrido maleico/éter vinil metílico.
Outros ingredientes
[0056] Opcionalmente, o revestimento pode ainda conter ingredientes adicionais. Estes ingredientes podem estar presentes na camada fotopolimerizável ou em uma outra camada opcional.
[0057] Por exemplo, a camada fotopolimerizável também pode compreender partículas que aumentam a resistência do revestimento contra danos manuais ou mecânicos. As partículas podem ser partículas inorgânicas,
partículas orgânicas ou cargas como descrito em, por exemplo, US 7.108.956. Mais detalhes das partículas espaçadoras adequadas descritas nas EP 2 916 171 [0053] a
[0056] são aqui incorporados por referência.
[0058] A camada fotopolimerizável também pode compreender um inibidor. Os inibidores específicos para o uso no revestimento de fotopolímero são divulgados em US
6.410.205, EP 1 288 720 e EP 1 749 240.
[0059] A camada fotopolimerizável pode ainda compreender um composto promotor de adesão que pode melhorar a adesão entre o revestimento e o suporte e a durabilidade da placa no processo de impressão. O composto promotor de adesão é um composto capaz de interagir com o suporte, preferencialmente um composto com uma ligação etilenicamente insaturada polimerizável por adição e um grupo funcional capaz de interagir com o suporte; por exemplo, um grupo fosfato, um grupo fosfonato e um grupo trialcoxissilano. O composto pode estar presente na camada fotopolimerizável ou em uma camada intermediária entre o suporte e a camada fotopolimerizável. Exemplos adequados são divulgados em EP 1 788 434 em [0010], WO 2013/182328, EP 851 299, EP 1 091 251, US 2004/214105, EP 1 491 356, US 2005/39620, EP 1 495 866, EP 1 500 498, EP 1 520 694 e EP 1 557 262, EP 2 212 746 e EP 2007/059379.
[0060] Vários tensoativos podem ser adicionados à camada fotopolimerizável para permitir ou melhorar a capacidade de desenvolvimento do precursor; especialmente desenvolvendo com uma solução de goma. Tanto os tensoativos poliméricos quanto de pequenas moléculas, por exemplo, tensoativos não iônico são preferíveis. Mais detalhes são descritos em EP 2 916 171 [0059] e são incorporados aqui por referência.
[0061] Preferenciamente, o revestimento inclui um agente de impressão, isto é, um composto que é capaz de mudar a cor do revestimento após a exposição. Depois de expor o precursor em termos de imagem, uma imagem visível pode ser produzida, também chamada de “imagem impressa”. O agente de impressão pode ser um composto conforme descrito nos documentos EP-A-1 491 356, parágrafos [0116] a [0119] nas páginas 19 e 20, e no documento US 2005/008971 parágrafos [0168] a [0172] na página 17. Os agentes de impressão preferíveis são os compostos descritos na EP 1 765 592 da linha 1 página 9 à linha 27 na página 20. Mais preferíveis são os corantes de IR descritos na EP 1 736 312 da linha 32 página 5 à linha 9 página 32. O contraste da imagem formada após a exposição e o processamento por imagem permite ao usuário final determinar imediatamente se o precursor já foi exposto ou processado ou não, distinguir as diferentes seleções de cores e inspecionar a qualidade da imagem no precursor da placa. Para obter um bom contraste visual para um observador humano, o tipo de cor do corante também pode ser importante. As cores preferíveis para o corante são as cores ciano ou azul, isto é, na cor azul entendemos uma cor que parece azul para o olho humano.
Método para fabricar um precursor de placa de impressão litográfico
[0062] De acordo com a presente invenção foi também fornecido um método para fabricar uma placa de impressão litográfica de funcionamento negativo compreendendo as etapas de expor na forma de imagem o precursor de placa de impressão da presente invenção seguido por desenvolvimento o precursor na forma de imagem exposto de modo que as áreas não expostas sejam dissolvidas na solução do desenvolvedor. O precursor de placa de impressão litográfico pode ser preparado por (1) aplicar em um suporte como descrito acima o revestimento como descrito acima e (ii) secar o precursor.
Etapa de exposição
[0063] O precursor de placa de impressão é preferencialmente exposto à luz do laser. Preferenciamente, a etapa da exposição na forma de imagem é realizada fora da impressora em uma da máquina de montar placa, isto é, um aparelho de exposição adequado para exposição na forma de imagem do precursor com um laser como um diodo de laser, emitindo em torno de 830 nm, um laser de Nd YAG, emitindo em torno de 1060 nm, um laser violeta emitindo em torno de 400 nm ou um laser de gás, como um laser de Ar, ou com uma instalação de exposição de UV modulada digitalmente usando, por exemplo, espelho digital, ou por uma exposição convencional em contato com uma máscara. De preferência, o precursor é exposto em termos de imagem por um laser que emite luz infravermelha (isto é, comprimentos de onda variando entre 750 e 1500 nm) ou luz violeta (isto é, comprimentos de onda variando entre 350 e 450 nm); mais preferível por um laser que emite luz violeta.
Etapa de pré-aquecimento
[0064] Depois da etapa de exposição, o precursor é pré-aquecido como descrito acima pelo qual o composto capaz de gerar produtos de decomposição voláteis gera gases e também a reação de polimerização e/ou reticulação da camada de fotopolimerização pode ser aprimorada. O aquecimento é preferencialmente em uma temperatura entre 80 ºC e 300 ºC mais preferencialmente entre 100 ºC e 250 ºC e o mais preferencialmente entre 120º e 200 ºC. O período aplicado deste calor; isto é o tempo de espera, é preferencialmente entre 2 s e 30 minutos, mais preferencialmente entre 10 s e 15 minutos e o mais preferencialmente entre 15 s e 10 minutos. Esta etapa de aquecimento pode ser realizada em um unidade de pré- aquecimento compreendendo um elemento de aquecimento como, por exemplo, uma lâmpada de IR, um lâmpada de UV, ar aquecido ou um rolo aquecido.
Etapa de desenvolvimento
[0065] Subsequentemente à etapa de exposição e a etapa de pré-aquecimento, o precursor de placa pode ser processado. Antes de desenvolver o precursor representado visualmente, uma etapa de pré-enxague pode ser realizado para remover a barreira de oxigênio protetora ou acabamento. Essa etapa de pré-enxague pode ser realizada em um aparelho independente ou enxaguando manualmente o precursor representado visualmente com água ou a etapa de pré-enxague pode ser realizada em uma unidade de lavagem que é integrada em um processador usado para desenvolver o precursor representado visualmente. O líquido de lavagem é preferencialmente água, mais preferencialmente água da torneira. Mais detalhes sobra a etapa de lavagem são descritos em EP 1 788 434 em [0026].
[0066] Durante a etapa de desenvolvimento, as áreas não expostas da camada de gravação de imagem são pelo menos parcialmente removidas sem essencialmente remover as áreas expostas. O processamento líquido, também denominado como desenvolvedor, pode ser aplicado à placa, por exemplo, esfregando com uma compressa impregnada, mergulhando, imergindo, revestindo, girando, pulverizando, despejando, manualmente ou em um aparelho de processamento automático. O tratamento com um líquido de processamento pode ser combinado com fricção mecânica, por exemplo, uma escova rotativa. Durante a etapa de desenvolvimento, qualquer camada protetora solúvel em água presente é de preferência também removida. o desenvolvimento é realizado de preferência a temperaturas 20 e 40 ºC em unidades de processamento automatizadas.
[0067] Em uma modalidade altamente preferida, a etapa de processamento como descrita acima é substituída por um processamento de impressão em que oO precursor representado visualmente é montado em uma impressora e processado na impressora girando o referido cilindro de placa enquanto alimenta o líquido de amortecimento e/ou tinta ao revestimento do precursor para remover as áreas não expostas do suporte. Em uma modalidade preferível, apenas o líquido de amortecimento é fornecido à placa durante o arranque da impressora. Depois de várias rotações do cilindro da placa, preferencialmente menos do que 50 e Oo mais preferencialmente menos do que 5 rotações, também o fornecimento de tinta é ativado. Em uma modalidade alternativa, o fornecimento de líquido de amortecimento e tinta pode ser iniciado simultaneamente ou apenas tinta pode ser fornecida durante várias rotações antes de ativar o fornecimento de líquido de amortecimento.
[0068] A etapa de processamento também pode ser realizada combinando-se as modalidades descritas acima, por exemplo, combinando o desenvolvimento com um processamento líquido com desenvolvimento na impressora aplicando-se tinta e/ou fonte.
Processamento líquido
[0069] O processamento líquido pode ser um desenvolvedor alcalino ou desenvolvedor com base em solvente. Os desenvolvedores alcalinos adequados foram descritos em US2005/0162505. Um desenvolvedor alcalino é uma solução aquosa que possui um pH de pelo menos 11, mais tipicamente pelo menos 12, preferencialmente de 12 a 14. Os reveladores alcalinos contêm tipicamente agentes alcalinos para obter altos valores de pH, podendo ser agentes alcalinos inorgânicos ou orgânicos. Os desenvolvedores podem compreender tensoativos aniônicos, não iônicos e anfotéricos (até 3 % no peso total da composição); biocidas (agentes antimicrobianos e/ou antifúngicos), agentes antiespuma ou agentes quelantes (como gluconatos alcalinos e agentes espessantes (compostos poli-hidroxi solúveis em água ou dispersáveis em água, como glicerina ou polietileno glicol).
[0070] Preferenciamente, o processamento líquido é uma solução de goma na qual durante a etapa de desenvolvimento as áreas não expostas da camada fotopolimerizável são removidas do suporte e a placa é gomada em uma única etapa. O desenvolvimento com uma solução de goma tem o benefício adicional de que, devido à goma remanescente na placa nas áreas não expostas, não é necessária uma etapa de goma adicional para proteger a superfície do suporte nas áreas sem impressão. Como resultado, o precursor é processado e gomado em uma única etapa que envolve um aparelho de desenvolvimento menos complexo do que um aparelho de desenvolvimento que compreende um tanque desenvolvedor, uma seção de enxágue e uma seção de goma. A seção de goma pode compreender pelo menos uma unidade de goma ou pode compreender duas ou mais unidades de goma. Essas unidades de goma podem ter a configuração de um sistema em cascata, ou seja, a solução de goma, usada na segunda unidade de goma e presente no segundo tanque, transborda do segundo tanque para o primeiro tanque quando a solução de reposição de goma é adicionada na segunda unidade de goma ou quando a solução de goma na segunda unidade de goma é usada apenas uma vez, isto é, apenas a solução de goma inicial é usada para desenvolver o precursor nesta segunda unidade de goma, preferencialmente por uma técnica de pulverização Ou jateamento. Mais detalhes sobre esse desenvolvimento de goma estão descritos em EP1l 788 444.
[0071] Uma solução de goma é tipicamente um líquido aquoso que compreende um ou mais compostos de proteção de superfície que são capazes de proteger a imagem litográfica de uma placa de impressão contra contaminação, por exemplo, por oxidação, impressões digitais, gorduras, óleos ou poeira ou danos, por exemplo arranhões durante o manuseio da placa. Exemplos adequados de tais compostos protetores de superfície são polímeros ou tensoativos hidrofílicos formadores de filme. A camada que permanece na placa após o tratamento com a solução de goma compreende preferencialmente entre 0,005 e 20 g/m? do composto de proteção de superfície, mais preferencialmente entre 0,010 e 10 g/m, mais preferencialmente entre 0,020 e 5 g/mº. Mais detalhes sobre os compostos de proteção de superfície na solução de goma podem ser encontrados no documento WO 2007/057348 na página 9 da linha 3 à página 11 da linha 6. Como o precursor de placa desenvolvido é desenvolvido e gomado em uma única etapa, não há pós-tratamento na placa processada.
[0072] A solução de goma tem preferencialmente um valor de pH entre 3 e 11, mais preferencialmente entre 4 e 10, ainda mais preferencialmente entre 5 e 9, e mais preferencialmente entre 6 e 8. Uma solução de goma adequada é descrita no exemplo EP 1 342 568 em [0008] a [0022] e WO2005/111727. A solução de goma pode ainda compreender um sal inorgânico, um surfactante aniônico, um agente umectante, um composto quelato, um composto anti-séptico, um composto antiespumante e/ou um agente de receptividade de tinta e/ou combinações dos mesmos. Mais detalhes sobre esses ingredientes adicionais são descritos em WO 2007/057348 página 11 linha 22 a página 14 linha 19.
Etapa de secagem e cozimento
[0073] Depois da etapa de processamento, a placa pode ser seca em uma unidade de secagem. Em uma modalidade preferível, a placa é seca aquecendo-se a placa na unidade de secagem que pode conter pelo menos um elemento de aquecimento selecionado a partir de uma lâmpada de IR, uma lâmpada de UV, um rolo de metal aquecido ou ar aquecido.
[0074] Depois de secar, a placa pode opcionalmente ser aquecida em uma unidade de cozimento. Mais detalhes sobre o aquecimento em uma unidade de cozimento podem ser encontrados em WO 2007/057348 página 44 linha 26 à página 45 linha 20.
[0075] A placa de impressão, assim, obtida pode ser usada para a assim chamada impressão em offset úmida, convencional, em que a tinta e um líquido de amortecimento aquoso são fornecidos à placa. Um outro método de impressão adequado usa um assim chamado tinta de fluido único sem um líquido de amortecimento. As tintas de fluido único adequadas foram descritas em US 4.045.232; US 4.981.517 e US 6.140.392. Em uma modalidade mais preferível, a tinta de fluido único compreende uma fase de tinta, também chamada a fase hidrofóbica ou oleofílica, e uma fase de poliol como descrita em WO 00/32705.
EXEMPLOS
1. Preparação dos suportes litográficos S-01 e S-02 Suporte S-01
[0076] Uma folha de alumínio com 0,3 mm de espessura foi desengordurada por pulverização com uma solução aquosa contendo 26 g/l de NaOH a 65 “C durante 2 segundos e enxaguada com água desmineralizada por 1,5 segundos. A folha foi granulada eletroquimicamente durante segundos usando uma corrente alternada em uma solução aquosa contendo 15 g/l de HCl, íons de SO/- a 15 g/l e íons de Al* a 5 g/l em uma temperatura de 37 “*C e uma densidade de corrente de cerca de 100 A/dmº. Depois, a folha de alumínio foi então desmutada por condicionamento com uma solução aquosa contendo 5,5 g/l de NaOH a 36 “C durante 2 segundos e enxaguada com água desmineralizada durante 2 segundos. A folha foi subsequentemente sujeita a oxidação anódica durante 15 segundos em uma solução aquosa contendo 145 g/l1 de ácido sulfúrico em uma temperatura de 50 ºC e uma densidade de corrente de 17 A/dmº, em seguida, lavada com água desmineralizada durante 11 segundos e seca a 120 ºC durante 5 segundos.
[0077] o suporte, assim, obtido foi caracterizado por uma rugosidade de superfície Ra de 0,35 a 0,4 pum (medido com interferômetro NT1100) e tinha um peso anódico de 3,0 g/mº.
Suporte S-02
[0078] Uma folha de alumínio com 0,3 mm de espessura foi desengordurada por pulverização com uma solução aquosa contendo 26 g/l de NaOH a 65 ºC durante 2 segundos e enxaguada com água desmineralizada durante 1,5 segundos. A folha foi granulada eletroquimicamente durante segundos usando uma corrente alternada em uma solução aquosa contendo 15 g/l de HCl, íons SO,” a 15 g/l1 e íons de Ala 5 g/l1 em uma temperatura de 37 ºC e uma densidade de corrente de cerca de 100 A/dmº. Depois, a folha de alumínio foi então desmutada por condicionamento com uma solução aquosa contendo 5,5 g/l de NaOH a 36 “C durante 2 segundos e enxaguada com água desmineralizada durante 2 segundos. A folha foi subsequentemente submetida a oxidação anódica durante 15 segundos em uma solução aquosa contendo 145 g/1 de ácido sulfúrico em uma temperatura de 50 “*C e uma densidade de corrente de 17 A/dmº, em seguida, lavada com água desmineralizada por 11 segundos e pós-tratado por 3 segundos (por pulverização) com uma solução contendo 1,1 g/1 de PVPA a 70 ºC, enxaguado com água desmineralizada durante 1 segundos e seco a 120 ºC durante 5 segundos.
[0079] Oo suporte, assim, obtido foi caracterizado por uma rugosidade de superfície Ra de 0,35 a 0,4 um (medido com interferômetro NT1100) e tinha um peso anódico de 3,0 g/m.
2. Preparação do precursores de placa de impressão Camada fotossensível
[0080] Os precursores de placa de impressão foram produzidos por revestimento nos suportes S-01 e S-02 descritos acima, as camadas fotopolimerizáveis PL-O01l e PL- 02, conforme definido na Tabela 1, dissolvidas em uma mistura de 36 % em volume de MEK e 64 % em volume de Dowanol PM (l-metoxi-2-propanol, comercialmente disponível na DOW CHEMICAL Company). As soluções de revestimento PL-0O1l e PL-02 foram aplicadas com uma espessura de revestimento úmido de 30 um e depois secas a 120 º C durante 1 minuto em um forno de circulação.
Tabela 1: Peso de revestimento seco da camada fotossensível PL-01 e PL-0O02 Ingredientes PL-O01 PL-02 mg/m? mg/m? (Peso seco) | conseFIMER E 5407 (9) [ao [E 265 Fora (6) | DESTA s236/2 a (1) Tegoglide 410” é um tensoativo comercialmente disponível de Evonik Tego Chemie GmbH;
"a Os (2) GOHSEFIMER L 5407 comercialmente disponível de ALDRICH;
TT (3) FST510 é um di-uretanodimetacrilato comercialmente disponível de AZ Electronic; o Ao o n o ço A TD o H o (4) SR368 comercialmente disponível de Sartomer;
DE PRE
2.0 AA ó x o A (5) HABI é 2, 2'-bis (o-clorofenil)-4, 4", 5, 5"- tetrafenilbi-imidazol comercialmente disponível de SUMITOMO;
in)
TOO e. O N É ) . (6) Fluomix é uma mistura de sensitizador violeta consistindo nos compostos a seguir: d x
ADA P
UIQ » % em peso d PAR. N X < é Or O Da
P 38 % em peso /
S x a >
N Pro dna o / 47 % em peso (7) MBI é 2-mercapto-benzimidazol; (8) Aerosil 150 é uma partícula de sílica com um área de superfície (BET) de 135 a 165 m/g comercialmente disponível de DEGUSSA; (9) DISI 43236/2 é uma dispersão de pigmento de 20 % de MK9352, DCC blue ASRN, indanthrone blue comercialmente disponível de DOMINION COLOUR CORPORATION e 20 % de DISPERBYK 182 comercialmente disponível de BYK Chemie GmbH em Dowanol PM (1-metóxi-2-propanol é comercialmente disponível de DOW CHEMICAL Company); (10) Albritect CP30 é um copolímero poli (ácido acrílico) poli (ácido vinilfosfônico) 70/30 comercialmente disponível de RHODIA; (11) Sipomer PAM 100 é um éster de fosfato de monometacrilato de polietilenoglicol comercialmente disponível de RHODIA. Camada superior
[0081] Na parte superior da camada fotossensível uma solução aquosa incluindo a composição como definida na tabela 2 foi revestida (40 um de espessura úmida) e seca a 120 ºC durante 2 minutos. As composições das camadas superiores diferentes são definidas na tabela
2. Tabela 2: Composição dos sobrerrevestimentos OC- 01 a OC-04 mg/m? mg/m? mg/m? Peso seco a EE a (1) Mowiol 4 - 88" é álcoois polivinílicos parcialmente hidrolisados comercialmente disponível de Kuraray; (2) SE-O0l é uma dispersão de 10 % (composto de síntese) e % de Poval 4-88 comercialmente disponível de Kuraray; (3) SE-02 é uma dispersão de 10 % de Celogen OT(p.p'- oxibis (benzenossulfonil hidrazida) comercialmente disponível de Chempoint e 5 % de Poval 4-88 comercialmente disponível de Kuraray; VR q HNNSA(O)-0(O)—s-tno o o o " o " o
À À o o o o “. oH (4) Lutensol A8"”" é um agente ativo de superfície comercialmente disponível de BASF.
[0082] Os precursores de placa de impressão PPP-01 a PPP-06 foram obtidas. A Tabela 3 fornece uma visão geral dos precursores de placa de impressão Inventivos e Comparativos PPP-01 a PPP-06. Tabela 3: Visão geral dos precursores de placa de impressão PPP-01l a PPP-O6 Precursor de Substrato Composição de Revestimento | Sobrerrevestimento placa de impressão PPP-O1 s-01 PL-01 Oc-01 Comparativa PPP-02 s-01 PL-01 0c-02 Inventiva PPP-03 s-01 PL-01 0C-03 Inventiva
[FFFIL LEI E EEE PPP-05 s-01 PL-02 0c-02
EP O
PPP Inventiva PL-02
3. Tratamento térmico
[0083] Os precursores de placa de impressão PPP-01 a PPP-06 foram tratados durante 5 minutos em um forno de circulação a 160 “*C. A cada placa foi colocada no mesmo local no forno e removida a partir do forno depois do tratamento térmico. Um Heraeus UT 6120 furnace"" com uma circulação de ar forçada foi usado para o tratamento térmico.
[0084] Quando o precursores de placa de impressão foram resfriado até a temperatura ambiente, os precursores de placa de impressão obtidos foram exposto à luz branca (ver abaixo).
[0085] Também um precursor de placa de impressão não aquecido PPP-06 (Exemplo de Referência) foi exposto à luz branca (ver abaixo).
4. Teste de estabilidade da luz branca
[0086] Em uma primeira etapa, um precursor de placa é coberto com uma cunha cinza (incluindo etapas de uma constante de 0,15) e subsequentemente exposto à luz (tubos fluorescentes TL-D58W/840) por um período de 5 minutos. Os tubos fluorescentes produzem uma iluminância medida na superfície da placa de cerca de 1000 Lux.
[0087] A Tabela 4 fornece a correlação entre as etapas na cunha cinza, transmissão de luz e a quantidade de Lux. Por exemplo, a etapa 1 não possui filtro e a luz passa completamente, resultando em 1000 Lux, enquanto na etapa 2 apenas 71 % da luz passa, resultando em 708 Lux. Tabela 4: Correlação entre as etapas na cunha cinza e de transmissão resultante Etapa na cunha Transmissão de luz Iluminância % Lux 1000 2 1 LFL LA IEEE Ea 8 9 Ls a é === Po 3 Poa 1 ag
[0088] Em uma segunda etapa, depois da exposição à luz (5 minutos), o precursor de placa obtido é processado (ver abaixo) e a etapa da cunha em que nenhuma polimerização do revestimento ocorreu, é determinada. As áreas onde ocorreu a polimerização são visíveis como áreas coloridas no suporte. Quanto menor o número da etapa, melhor a estabilidade da luz branca do precursor da placa de impressão. De fato, o melhor resultado é obtido quando nenhuma etapa é observada ou, em outras palavras, quando não ocorre polimerização na etapa 1, o que significa que a amostra é estável sob 1000 Lux por pelo menos 5 minutos. Se, por exemplo, a etapa da cunha na qual não ocorre polimerização for a etapa 4, a amostra é estável sob 350
Lux (35 % da iluminação total) por 5 minutos.
[0089] A estabilidade da luz branca é definida como a quantidade de Lux multiplicada pelo tempo de exposição, assim a estabilidade da luz branca para o último exemplo é 350 Lux x 5 minutos = 1750 Lux*min.
5. Desenvolvimento
[0090] Os precursores de placa de impressão PPP-01l a PPP-06 foram processados com Violet CF GOMA-NP** comercialmente disponível de Agfa Graphics NV em um Azura C95 processador"" (Velocidade 60 cm/min, a 21 ºC), disponível de Agfa Graphics NV, para remover o revestimento nas áreas sem imagem do suporte. As placas de impressão PP- 01 a PP-06 foram obtidas.
6. Resultados
[0091] Os resultados do teste de estabilidade da luz branca estão resumidos na tabela 5 abaixo. Tabela 5: Estabilidade da luz branca das placas de impressão PP-01 a PP-05* O ea II Es | cunha sem Relacionada da luz polimerização branca Lux Lux*min a a | 6a 126 629 * * *tratamento térmico de 5 minutos
[0092] Os resultados na tabela 5 mostram que a estabilidade da luz branca das placas de impressão inventivas (isto é PP-03 e PP-O05) incluindo os compostos inventivos no sobrerrevestimento é substancialmente mais alta em comparação com as placas de impressão comparativas (PP-01 e PP-04).
2. Efeito do suporte
[0093] Os resultados da estabilidade da luz branca para placa de impressão PP-06 são dados na tabela 6. A PP-06 foi preparada usando o suporte S-02 que foi pós- tratado com um polímero hidrofílico. Uma placa de impressão que não foi tratada por calor é incluída no Exemplo como um Exemplo de Referência. Tabela 6: Estabilidade da luz branca da placa de impressão PP-06 Placa de Tratamento Etapa na cunha sem Ilumin | Es- impressão térmico de polimerização ação tabili minutos Relaci | dade onada da luz branca Lux Lux*mi n Referência não 10 de PP-O6 45 223 PP-06 sim 1 Inventiva 1000 > 5000
[0094] Os resultados na Tabela 6 mostram que a PP-06 apresenta, após tratamento térmico, uma estabilidade à luz superior a 5000 Lux e ilustra o efeito significativo do pós-tratamento do suporte.

Claims (15)

REIVINDICAÇÕES
1. Precursor de placa de impressão litográfico incluindo em um suporte um revestimento fotopolimerizável e um sobrerrevestimento fornecido no dito revestimento, caracterizado pelo fato de que o sobrerrevestimento inclui um composto capaz de gerar um produto de decomposição volátil.
2. Precursor de placa de impressão, de acordo com a reivindicação 1, em que o composto capaz de gerar um produto de decomposição volátil é um produto decomposto por calor.
3. Precursor de placa de impressão, de acordo com as reivindicações 1 ou 2, em que o composto capaz de gerar um produto de decomposição volátil é um agente de expansão.
4. Precursor de placa de impressão, de acordo com as reivindicações 2 ou 3, em que o produto decomposto por calor é selecionado a partir de carbonatos, carbamatos e hidrazidas.
5. Precursor de placa de impressão, de acordo com a reivindicação 4, em que o produto decomposto por calor é selecionado a partir de carbonato de amônio, hidrogenocarbonato de amônio, carbamato de amônio, benzenossulfonil hidrazida ou p-toluenossulfonil hidrazida.
6. Precursor de placa de impressão, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, em que oO produto de decomposição volátil é um gás não condensável na temperatura ambiente, ou um gás inerte.
7. Precursor de placa de impressão, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, em que o(s produto(s) de decomposição volátil é(são) selecionado(s) a partir de dióxido de carbono, monóxido de carbono, amônia, oxigênio, gás hidrogênio e/ou gás nitrogênio.
8. Precursor de placa de impressão, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, em que o composto capaz de gerar um produto de decomposição volátil está presente no revestimento em um nível entre 10 % em peso e 60 % em peso.
9. Precursor de placa de impressão, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, em que oO revestimento —"fotopolimerizável compreende um composto polimerizável e um iniciador de radical livre.
10. Precursor de placa de impressão, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, em que oO suporte é granulado e alumínio anodizado que é pós-tratado com ácido polivinilfosfônico, ácido polivinilmetilfosfônico, ésteres de ácido fosfórico de álcool polivinílico, ácido polivinilsulfônico, ácido polivinilbenzenossulfônico, ésteres de ácido sulfúrico de álcool polivinílico, e/ou acetais de álcoois polivinílicos formados pela reação com um aldeído alifático sulfonado.
11. Método para fabricar uma placa de impressão incluindo as etapas de - expor na forma de imagem o precursor de placa de impressão como definido em qualquer uma das reivindicações anteriores ao calor e/ou luz; — aquecer o precursor; — desenvolver o precursor.
12. Método, de acordo com a reivindicação 7, em que o precursor é exposto com luz do laser tendo um comprimento de onda entre 350 e 450 nm.
13. Método, de acordo com as reivindicações 7 ou 8, em que o precursor é aquecido a uma temperatura entre 80 ºC e 300 “C.
14. Método, de acordo com as reivindicações 7 a 9, em que o precursor é aquecido durante um tempo de espera entre 2 s e 30 minutos.
15. Método, de acordo com as reivindicações 7 a 10, em que a etapa de desenvolvimento é realizada na impressão montando-se o precursor exposto em um cilindro da placa de uma máquina de impressão litográfica e girando o cilindro da placa enquanto alimenta líquido de amortecimento e/ou tinta ao revestimento.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability

Family Cites Families (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4045232A (en) 1973-11-12 1977-08-30 Topar Products Corporation Printing ink composition
JPS5956403A (ja) 1982-09-27 1984-03-31 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
DE3832032A1 (de) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US4981517A (en) 1989-06-12 1991-01-01 Desanto Jr Ronald F Printing ink emulsion
JPH05303195A (ja) * 1992-04-24 1993-11-16 Konica Corp 湿し水不要感光性平版印刷版およびその製造方法
CA2225567C (en) 1996-04-23 2003-01-21 Horsell Graphic Industries Limited Heat-sensitive composition and method of making a lithographic printing form with it
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
EP0851299B1 (en) 1996-12-26 2000-10-25 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
WO2000029214A1 (en) 1998-11-16 2000-05-25 Mitsubishi Chemical Corporation Positive-working photosensitive lithographic printing plate and method for producing the same
US6140392A (en) 1998-11-30 2000-10-31 Flint Ink Corporation Printing inks
DE69909734T2 (de) 1999-02-02 2004-04-15 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung positiv arbeitender Druckplatten
JP3996305B2 (ja) 1999-02-15 2007-10-24 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷用材料
DE19915717A1 (de) 1999-04-08 2000-10-12 Agfa Gevaert Ag Aufzeichnungsmaterial mit pigmentgefärbter strahlungsempfindlicher Schicht
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
DE60042764D1 (de) 1999-05-21 2009-09-24 Fujifilm Corp Lichtempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplattenbasis damit
DE19940921A1 (de) 1999-08-27 2001-03-01 Agfa Gevaert Ag Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19944073A1 (de) 1999-09-14 2001-03-15 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit Deckschicht
JP4037015B2 (ja) 1999-09-22 2008-01-23 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、画像形成材料及び平版印刷版用版材
US6558873B1 (en) 1999-10-05 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
ATE259301T1 (de) 1999-10-19 2004-02-15 Fuji Photo Film Co Ltd Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet
JP2001171250A (ja) * 1999-12-17 2001-06-26 Konica Corp 感光性平版印刷版材料、その製造方法及び画像形成方法
JP4098483B2 (ja) 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US6893797B2 (en) 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
EP1288720B1 (en) 2001-08-29 2012-02-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of printing plate
JP2003252939A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
EP1586448B1 (en) 2002-03-06 2007-12-12 Agfa Graphics N.V. Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
EP1356926B1 (en) 2002-04-26 2008-01-16 Agfa Graphics N.V. Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support.
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
JP2004012706A (ja) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
EP1369231A3 (en) 2002-06-05 2009-07-08 FUJIFILM Corporation Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
US7108956B2 (en) 2002-07-03 2006-09-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Thermosensitive lithographic printing plate
JP2005014348A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP4418714B2 (ja) 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US7183038B2 (en) 2003-07-22 2007-02-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US6992688B2 (en) 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
JP2005067006A (ja) 2003-08-22 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
WO2005029187A1 (en) 2003-09-22 2005-03-31 Agfa-Gevaert Photopolymerizable composition.
CN1882881A (zh) 2003-09-22 2006-12-20 爱克发-格法特公司 感光聚合物印刷版前体
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
ATE378174T1 (de) 2004-01-23 2007-11-15 Fujifilm Corp Lithographiedruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
WO2005109103A1 (en) 2004-05-06 2005-11-17 Agfa-Gevaert Photopolymer printing plate precursor.
EP1751625B9 (en) 2004-05-19 2012-03-14 Agfa Graphics N.V. Method of making a photopolymer printing plate
WO2006005688A1 (en) 2004-07-08 2006-01-19 Agfa-Gevaert Method for making negative-working heat-sensitive lithographic printing plate precursor.
ATE391014T1 (de) 2005-06-21 2008-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindliches bildaufzeichnungselement
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
US20090274979A1 (en) 2008-05-02 2009-11-05 Gary Ganghui Teng Device and method for removing overcoat of on-press developable lithographic plate
PL1788443T3 (pl) 2005-11-18 2014-12-31 Agfa Nv Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej
DE602005013536D1 (de) 2005-11-18 2009-05-07 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
PL1788444T3 (pl) 2005-11-18 2011-06-30 Agfa Nv Sposób wytwarzania kliszy do druku litograficznego
DK1788435T3 (da) * 2005-11-21 2013-06-17 Agfa Graphics Nv Fremgangsmåde til fremstilling af en litografisk trykplade
EP1843203A1 (en) 2006-04-03 2007-10-10 Agfa Graphics N.V. Method of making a photopolymer printing plate
CN101174090A (zh) * 2006-11-02 2008-05-07 乐凯集团第二胶片厂 光聚合型平版印刷版
KR100946022B1 (ko) 2007-05-07 2010-03-09 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 패턴 형성 방법
WO2008138966A1 (en) 2007-05-15 2008-11-20 Agfa Graphics Nv A method for making a lithographic printing plate precursor
JP2009091555A (ja) * 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
JP5258062B2 (ja) * 2007-09-28 2013-08-07 三菱製紙株式会社 感熱記録材料及びその製造方法
EP2212746B1 (en) 2007-11-16 2020-04-29 Agfa Nv Method of making a lithographic printing plate
US7829260B2 (en) 2007-12-31 2010-11-09 Gary Ganghui Teng Treatment of laser exposed lithographic printing plate before development
US8148048B2 (en) 2008-02-14 2012-04-03 Gary Ganghui Teng Method of processing on-press developable lithographic printing plate having overcoat
JP5264387B2 (ja) * 2008-09-25 2013-08-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
US9329479B2 (en) 2012-06-05 2016-05-03 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precusor
BR112015030811A2 (pt) 2013-06-14 2017-07-25 Agfa Graphics Nv precursor de placa de impressão litográfica
US20150177618A1 (en) 2013-12-20 2015-06-25 Gary Ganghui Teng Method for on-press developable lithographic plate utilizing light-blocking material
EP2916171B1 (en) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv A method for making a lithographic printing plate precursor

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Publication number Publication date
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US20200319558A1 (en) 2020-10-08
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Free format text: EM VIRTUDE DO ARQUIVAMENTO PUBLICADO NA RPI 2650 DE 19-10-2021 E CONSIDERANDO AUSENCIA DE MANIFESTACAO DENTRO DOS PRAZOS LEGAIS, INFORMO QUE CABE SER MANTIDO O ARQUIVAMENTO DO PEDIDO DE PATENTE, CONFORME O DISPOSTO NO ARTIGO 12, DA RESOLUCAO 113/2013.