WO2023021900A1 - 活性エステル化合物 - Google Patents
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Classifications
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- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
Definitions
- the present invention relates to an active ester compound and a composition and cured product using the same.
- Epoxy resin is used as an insulating material with excellent electrical properties for printed wiring boards and sealants.
- it is necessary to further reduce the dielectric loss tangent in order to suppress transmission loss. It has been demanded.
- Patent Document 1 discloses the presence or absence of a catalyst in an epoxy resin, polyvalent carboxylic acid, phenols, naphthol esters with compounds containing hydroxy groups or mercapto groups selected from heterocyclic compounds having N, O and/or S atoms, or benzoic acid and aromatic hydroxy compounds, aromatic sulfur compounds, hydroquinone, polyhydric alcohols, phenols
- An epoxy resin curable composition is disclosed which comprises one or more esters with a compound containing a hydroxy group or a mercapto group selected from resins and polyvinylphenols.
- Insulating layers formed on multilayer printed wiring boards and the like in recent years are required to have a low dielectric loss tangent.
- it is effective to use an active ester curing agent as the curing agent.
- the epoxy resin curable composition disclosed in Patent Document 1 does not have a sufficient dielectric loss tangent, and is difficult to use as an electric/electronic material for high frequencies.
- the number average molecular weight of the active ester compound is preferably 500 or more, more preferably 800 or more, still more preferably 1000 or more. Also, it is preferably 5,000 or less, more preferably 4,000 or less, and still more preferably 3,000 or less. By setting it within the above range, the dielectric loss tangent of the cured product with the epoxy resin can be improved.
- the terminal structure of the active ester compound is preferably represented by Formula (1) or Formula (2).
- the terminal structures of formulas (1) and (2) are preferably those obtained by the reaction between the phenolic hydroxyl group and the carboxylic acid.
- the terminal structure has the formula (1) or formula (2), it has high reactivity with the epoxy resin and can prevent or suppress generation of hydroxy groups caused by ring-opening of the epoxy groups.
- the active ester compound preferably has a total of two or more terminal structures of formula (1) and formula (2), and may have three or more. Also, the number is preferably 6 or less, more preferably 4 or less.
- Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, and undecyloxy groups.
- the halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.
- a combination of a plurality of these aromatic compounds may also be used, for example, ring-assembled aromatic compounds such as biphenyl, binaphthalene, bipyridine, bithiophene, phenylpyridine, phenylthiophene, terphenyl, diphenylthiophene, and quaterphenyl.
- ring-assembled aromatic compounds such as biphenyl, binaphthalene, bipyridine, bithiophene, phenylpyridine, phenylthiophene, terphenyl, diphenylthiophene, and quaterphenyl.
- Aralkyl groups include benzyl, phenethyl, phenylpropyl, naphthylmethyl and naphthylethyl groups.
- R is more preferably an aryl group, more preferably benzene, toluene, naphthalene, or anthracene from which one hydrogen atom has been removed, and benzene or naphthalene from which one hydrogen atom has been removed. is particularly preferred, and benzene from which one hydrogen atom has been removed is most preferred.
- n in formula (1) and formula (2) is an integer of 0 to 5, preferably an integer of 1 to 4, more preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2 Yes, preferably 1.
- m is an integer of 0 to 7, preferably an integer of 1 to 4, more preferably an integer of 1 to 3, still more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1. * indicates a bond with the active ester compound.
- the method for producing an active ester compound of the present invention preferably includes a step of reacting a dimer acid and/or dimer diol with a compound having a phenolic hydroxyl group and a polycarboxylic acid compound or an acid halide thereof.
- a dimer acid when used, an active ester compound can be obtained by reacting the dimer acid with a compound having a phenolic hydroxyl group.
- dimer diol an active ester compound can be obtained by reacting a compound obtained by reacting a polycarboxylic acid compound or an acid halide thereof with a compound having a phenolic hydroxyl group with dimer diol.
- phenol, 1-naphthol and 2-naphthol are more preferred. It is preferable that the compound having the phenolic hydroxyl group forms the terminal structure of the active ester compound.
- the above-mentioned compounds having phenolic hydroxyl groups may be used alone or in combination of two or more.
- the amount of the compound having a phenolic hydroxyl group is preferably 1 mol or more, more preferably 1.5 mol or more, and still more preferably 2 mol or more, relative to 1 mol of the dimer skeleton. Also, it is preferably 10 mol or less, more preferably 8 mol or less, and still more preferably 4 mol or less.
- reaction conditions for the active ester compound are not particularly limited, and known methods can be employed as appropriate.
- the pH during the reaction is not particularly limited, it is preferably 11 or more.
- a base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, or ammonia can be used to adjust the pH.
- the reaction temperature is also not particularly limited, preferably 20 to 100°C, more preferably 40 to 80°C.
- the reaction pressure is also not particularly limited, and normal pressure is more preferable.
- the reaction time is also not particularly limited, preferably 0.5 to 12 hours, more preferably 1 to 6 hours.
- the epoxy resin preferably contains two or more epoxy groups in the molecule and is a curable resin that can be cured by forming a crosslinked network with the epoxy groups.
- the number of epoxy groups contained in the molecule is preferably 3 or more, more preferably 4 or more. Also, it is preferably 10 or less, more preferably 6 or less.
- the epoxy resin is not particularly limited, but phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, ⁇ -naphthol novolak type epoxy resin, ⁇ -naphthol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin.
- Novolak type epoxy resins such as resins; aralkyl type epoxy resins such as phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, phenol biphenyl aralkyl type epoxy resin; bisphenol A type epoxy resin, bisphenol AP type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin , bisphenol B type epoxy resin, bisphenol BP type epoxy resin, bisphenol C type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, tetrabromobisphenol A type epoxy resin, etc.
- the content of the active ester compound in the composition is not particularly limited, it is preferably 1 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, based on the solid content of the composition.
- the content of the active ester compound is 1% by mass or more or 90% by mass or less, it is preferable because the cured product can have a low dielectric loss tangent.
- the term "solid content of the composition” means the total mass of the components excluding the solvent in the composition.
- the mass ratio of the content of the active ester compound to the content of the epoxy resin is preferably 1 or more, more preferably greater than 1, and preferably 1.1 or more. More preferably, it is particularly preferably 1.2 or more. It is preferable that the mass ratio is 1 or more because the cured product can have a lower dielectric loss tangent. Also, it is preferably 5 or less, more preferably 2 or less. Curability becomes favorable because the said mass ratio is 5 or less. In general, when the content of the active ester compound exceeds the content of the epoxy resin, the dielectric loss tangent becomes low as the content of the active ester compound relatively increases.
- ⁇ Other curing agents In the composition, other curing agents may be used together with the active ester compound according to the present invention.
- Other curing agents include, but are not particularly limited to, other active ester compounds, amine curing agents, imidazole curing agents, acid anhydride curing agents, phenolic curing agents, and the like.
- the other active ester compounds are not particularly limited, but include active ester compounds other than the active ester compounds described above.
- Specific examples of other active ester compounds include, but are not limited to, a first aromatic compound having two or more phenolic hydroxyl groups, a second aromatic compound having a phenolic hydroxyl group, and two or more carboxyl groups. or a reaction product with a third aromatic compound having
- polyhydric phenol compound examples include catechol, resorcinol, hydroquinone, bisphenol A, bisphenol F, bisphenolfluorene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, and trihydroxybenzophenone. , tetrahydroxybenzophenone, and the like.
- the phenolic hydroxyl group-containing compound is not particularly limited, but includes the aforementioned polyhydric phenol compounds, phenol, 1-naphthol, 2-naphthol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, and the like.
- the polymerizable compound is not particularly limited, but aliphatic diene compounds such as 1,3-butadiene, 1,5-hexadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene, tetracyclopentadiene, pentacyclopentadiene, and hexacyclopentadiene; aromatic diene compounds such as divinylbenzene and divinylbiphenyl; be done.
- aliphatic diene compounds such as 1,3-butadiene, 1,5-hexadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene, tetracyclopentadiene, pentacyclopentadiene, and hexacyclopentadiene
- aromatic diene compounds such as divinylbenzene and divinylbiphenyl
- the third aromatic compound or derivative thereof is not particularly limited, but includes the above-described polycarboxylic acid compound or derivative thereof.
- the amine curing agent is not particularly limited, but diethylenetriamine (DTA), triethylenetetramine (TTA), tetraethylenepentamine (TEPA), dipropylenediamine (DPDA), diethylaminopropylamine (DEAPA), N-aminoethyl Aliphatic amines such as piperazine, mencenediamine (MDA), isophoronediamine (IPDA), 1,3-bisaminomethylcyclohexane (1,3-BAC), piperidine, N,N,-dimethylpiperazine, triethylenediamine; m-xylylenediamine (XDA), metaphenylenediamine (MPDA), diaminodiphenylmethane (DDM), diaminodiphenylsulfone (DDS), benzylmethylamine, 2-(dimethylaminomethyl)phenol, 2,4,6-tris(dimethyl and aromatic amines such as aminomethyl)phenol.
- DTA diethylenetriamine
- imidazole curing agent examples include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, and epoxy-imidazole adducts.
- the acid anhydride curing agent examples include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis trimellitate, glycerol tri trimellitate, maleic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, dodecenylsuccinic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, and methylcyclohexenedicarboxylic anhydride.
- phenol-based curing agent examples include phenol novolak resin, cresol novolak resin, naphthol novolak resin, bisphenol novolak resin, biphenyl novolak resin, dicyclopentadiene-phenol addition type resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, and triphenol methane type resin. , tetraphenol ethane type resin, aminotriazine-modified phenol resin, and the like.
- the above-mentioned other curing agents may be used alone or in combination of two or more.
- the composition of the invention may contain a solvent.
- the solvent does not react with the active ester compound, the epoxy resin, or the like, and has a function of adjusting the viscosity of the composition.
- the solvent include, but are not limited to, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and carbitol acetate; Examples include carbitols, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
- the amount of solvent used is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, relative to the total mass of the composition. It is preferable that the amount of the solvent used is 10% by mass or more because the handleability is excellent. On the other hand, when the amount of the solvent used is 80% by mass or less, the impregnating property with other substrates is excellent, which is preferable.
- composition of the present invention may contain additives.
- additives include curing accelerators, flame retardants, fillers, and the like.
- the curing accelerator is not particularly limited as long as it accelerates the curing reaction between the active ester compound and the epoxy resin.
- Examples of the phosphorus curing accelerator include organic phosphine compounds such as triphenylphosphine, tributylphosphine, tripparatolylphosphine, diphenylcyclohexylphosphine and tricyclohexylphosphine; organic phosphine compounds such as trimethylphosphite and triethylphosphite; ethyltriphenyl phosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, butylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetra-p-tolylborate, triphenylphosphine triphenylborane, tetraphenylphosphonium thiocyanate, tetraphenylphosphonium dicyanamide, Examples include phosphonium salts such as butylpheny
- Amine curing accelerators include triethylamine, tributylamine, N,N-dimethyl-4-aminopyridine (DMAP), 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, 1,8-diazabicyclo[5,4 ,0]-undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-nonene-5 (DBN) and the like.
- DMAP N,N-dimethyl-4-aminopyridine
- DBU 1,8-diazabicyclo[5,4 ,0]-undecene-7
- DBN 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-nonene-5
- imidazole curing accelerators examples include 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl- 4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl- 4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-d
- Guanidine curing accelerators include dicyandiamide, 1-methylguanidine, 1-ethylguanidine, 1-cyclohexylguanidine, 1-phenylguanidine, dimethylguanidine, diphenylguanidine, trimethylguanidine, tetramethylguanidine, pentamethylguanidine, 1,5 , 7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene, 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene, 1-methylbiguanide, 1-ethylbiguanide, 1-butylbiguanide, 1-cyclohexylbiguanide, 1-allylbiguanide, 1-phenylbiguanide and the like.
- urea curing accelerator examples include 3-phenyl-1,1-dimethylurea, 3-(4-methylphenyl)-1,1-dimethylurea, chlorophenylurea, 3-(4-chlorophenyl)-1,1 -dimethylurea, 3-(3,4-dichlorophenyl)-1,1-dimethylurea and the like.
- the above curing accelerators it is preferable to use 2-ethyl-4-methylimidazole and 4-dimethylaminopyridine (DMAP).
- DMAP 4-dimethylaminopyridine
- the above curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.
- the amount of curing accelerator used is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 parts by mass, based on 100 parts by mass of the epoxy resin. It is preferable that the amount of the curing accelerator used is 0.01 parts by mass or more because the curability is excellent. On the other hand, when the amount of the curing accelerator used is 5 parts by mass or less, the moldability is excellent, which is preferable.
- the flame retardant is not particularly limited, but includes inorganic phosphorus flame retardants, organic phosphorus flame retardants, halogen flame retardants, and the like.
- the inorganic phosphorus-based flame retardant is not particularly limited, but includes red phosphorus; ammonium phosphates such as monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, and ammonium polyphosphate; and phosphate amides.
- the organic phosphorus flame retardant is not particularly limited, but methyl acid phosphate, ethyl acid phosphate, isopropyl acid phosphate, dibutyl phosphate, monobutyl phosphate, butoxyethyl acid phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, bis(2-ethylhexyl) phosphate, monoisodecyl acid phosphate, lauryl acid phosphate, tridecyl acid phosphate, stearyl acid phosphate, isostearyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, butylpyrophosphate, tetracosyl acid phosphate, ethylene glycol acid phosphate, (2-hydroxyethyl ) Phosphate esters such as methacrylate acid phosphate; 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, diphenylphosphine oxide and the like diphenylpho
- the halogen-based flame retardant is not particularly limited, but brominated polystyrene, bis(pentabromophenyl)ethane, tetrabromobisphenol A bis(dibromopropyl ether), 1,2-bis(tetrabromophthalimide), 2,4 ,6-tris(2,4,6-tribromophenoxy)-1,3,5-triazine, tetrabromophthalic acid and the like.
- the above flame retardants may be used alone or in combination of two or more.
- the amount of the flame retardant used is preferably 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 1 to 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the epoxy resin. It is preferable that the amount of the flame retardant used is 0.1 parts by mass or more because flame retardancy can be imparted. On the other hand, when the amount of the flame retardant used is 50 parts by mass or less, it is preferable because flame retardancy can be imparted while maintaining dielectric properties.
- fillers examples include organic fillers and inorganic fillers.
- a filler has a function of improving elongation, a function of improving mechanical strength, and the like.
- the organic filler is not particularly limited, but may include polyamide particles and the like.
- the inorganic filler is not particularly limited, but silica, alumina, glass, cordierite, silicon oxide, barium sulfate, barium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, nitride Boron, aluminum nitride, manganese nitride, aluminum borate, strontium carbonate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, zirconium oxide, barium titanate, barium zirconate titanate, barium zirconate , calcium zirconate, zirconium phosphate, zirconium tungstate phosphate, talc, clay, mica powder, zinc oxide, hydrotalcite, boehmite, carbon black and the like.
- silica it is preferable to use silica.
- silica amorphous silica, fused silica, crystalline silica, synthetic silica, hollow silica, and the like can be used.
- the filler may be surface-treated as necessary.
- Surface treatment agents that can be used at this time are not particularly limited, but aminosilane coupling agents, epoxysilane coupling agents, mercaptosilane coupling agents, silane coupling agents, organosilazane compounds, and titanate coupling agents. agents and the like can be used.
- Specific examples of surface treatment agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, hexamethyldimethoxysilane, silazane and the like.
- the above fillers may be used alone or in combination of two or more.
- the average particle size of the filler is not particularly limited, and is preferably 0.01 to 10 ⁇ m, more preferably 0.03 to 5 ⁇ m, even more preferably 0.05 to 3 ⁇ m.
- particle size means the maximum length of the distances between two points on the contour line of the particle.
- average particle size is measured by measuring the particle size of arbitrary 100 particles in one screen in an image obtained by a scanning electron microscope (SEM) and calculating the average value. shall be adopted.
- the amount of filler used is preferably 0.5 to 95 parts by mass, more preferably 5 to 80 parts by mass, based on 100 parts by mass of the epoxy resin. It is preferable that the amount of the filler used is 0.5 parts by mass or more because low thermal expansion can be imparted. On the other hand, when the amount of filler used is 95 parts by mass or less, it is preferable because the balance between properties and moldability is excellent.
- the cured product of the present invention is a cured product obtained by curing the composition described above. That is, it is obtained by curing at least the active ester compound and the epoxy resin. Since the cured product of the present invention is excellent in dielectric loss tangent, it can be used for electronic material applications such as semiconductor package substrates, printed wiring boards, build-up adhesive films, and semiconductor sealing materials. In addition, it can also be applied to uses such as adhesives and paints.
- the heating temperature for heat-curing the composition is not particularly limited, but is preferably 150 to 300°C. It is more preferably 175 to 250°C, still more preferably 180 to 200°C. Further, the heating time depends on the heating temperature, but is preferably 30 minutes to 10 hours, more preferably 1 to 5 hours.
- the dielectric loss tangent (tan ⁇ ) of the cured product of the present invention at a frequency of 10 GHz is preferably 0.007 or less. It is more preferably 0.006 or less, still more preferably 0.005 or less, because it is suitable for electronic material applications.
- the lower limit of the dielectric loss tangent (tan ⁇ ) is not particularly limited, it may be industrially 0.001 or more, or 0.002 or more.
- the dielectric constant ( ⁇ c ) of the cured product of the present invention at a frequency of 10 GHz is preferably 2.85 or less. It is more preferably 2.82 or less, still more preferably 2.80 or less, because it is suitable for electronic material applications.
- the lower limit of the dielectric constant ( ⁇ c ) is not particularly limited, but may be industrially 2.00 or more, or 2.50 or more.
- Example 1 26 parts by mass of jER (registered trademark) 152 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 74 parts by mass of active ester compound 1, 0.05 parts by mass of 4-dimethylaminopyridine, uniformly dispersed using a mixer to obtain a resin composition. got stuff The resulting resin composition was poured into a mold (100 mm ⁇ 3 mm ⁇ 1 mm) and cured by heating at 110° C. for 1 hour. Then, after heat pressing at 180° C. and 3 MPa for 10 minutes, heat curing was performed at 180° C. for 3 hours to obtain a cured product (measurement sample) 1.
- compositions 1 to 8 and cured products 1 to 8 were prepared in the same manner as in Example 1, and Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were performed.
- jER registered trademark
- Tetrad registered trademark
- Tetrad-X manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Curing agents 1 to 8 produced in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 2 were used to measure relative permittivity and dielectric loss tangent.
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Abstract
優れた誘電正接を示すエポキシ樹脂硬化物に用いられる活性エステル化合物を提供すること。 ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格を分子内に有することを特徴とする活性エステル化合物。
Description
本発明は、活性エステル化合物並びにこれを用いた組成物および硬化物に関する。
近年、通信情報量の増加にともない高周波数帯域での情報送信が盛んに行われており、通信用絶縁材料の伝送損失を抑えることが重要となっている。エポキシ樹脂は、電気特性の優れた絶縁材料としてプリント配線基板や封止剤などに用いられているが、高周波通信用絶縁材料として用いるには、伝送損失を抑えるために、誘電正接のさらなる低減が求められている。
従来、エポキシ樹脂の硬化剤としては、第一アミン、第二アミン、多官能性カルボン酸、フェノール樹脂などの活性水素を有する化合物が用いられていたが、これら硬化剤によりエポキシ樹脂を硬化させた場合には、エポキシ樹脂とこれら硬化剤の反応により分子鎖末端に極性の高いヒドロキシ基が生じるため低い誘電正接が得られなかった。
極性の高いヒドロキシ基を抑制し、それに起因する電気特性の低下をなくす試みとして、例えば、特許文献1には、エポキシ樹脂に触媒の存在下又は不存在下、多価カルボン酸とフェノール類、ナフトール類、N,O及び/又はS原子を有する複素環化合物より選ばれたヒドロキシ基又はメルカプト基含有化合物とのエステル又は安息香酸と芳香族ヒドロキシ化合物、芳香族イオウ化合物、ヒドロキノン、多価アルコール、フェノール樹脂、ポリビニルフェノールより選ばれたヒドロキシ基又はメルカプト基含有化合物とのエステルの1種以上を加えてなるエポキシ樹脂硬化性組成物が開示されている。
近年の多層プリント配線板等に形成される絶縁層には、誘電正接が低いことが要求されている。エポキシ樹脂硬化物の誘電正接を低くするために、硬化剤として活性エステル硬化剤を使用することが有効である。しかしながら、特許文献1に開示されたエポキシ樹脂硬化性組成物では誘電正接が十分ではなく、高周波用の電気電子材料として使用することが困難である。
そこで、本発明は、新規な活性エステル化合物、および誘電正接が良好な前記活性エステル化合物とエポキシ樹脂との硬化物を提供することを目的とする。
本発者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、活性エステル化合物の分子内にダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格を組み込むことによって、エポキシ樹脂硬化物に優れた誘電正接を与えることを見出し、本発明は完成するに至ったものである。
すなわち、本発明は以下の構成を含むものである。
[1] ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格を分子内に有することを特徴とする活性エステル化合物。
[2] 分子中にエステル結合を4つ以上有する[1]記載の活性エステル化合物。
[3] 末端構造が式(1)又は式(2)
(式中Rはそれぞれ独立して、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基のいずれかであり、nは0~5の整数、mは0~7の整数である。*は活性エステル化合物との結合手を示す。) で表される[1]から[2]いずれか一項に記載の活性エステル化合物。
[4] 数平均分子量が500~5000である[1]から[3]いずれか一項に記載の活性エステル化合物。
[5] [1]から[4]いずれか一項に記載の活性エステル化合物およびエポキシ樹脂を含有する組成物。
[6] [5]に記載の組成物の硬化物。
[1] ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格を分子内に有することを特徴とする活性エステル化合物。
[2] 分子中にエステル結合を4つ以上有する[1]記載の活性エステル化合物。
[3] 末端構造が式(1)又は式(2)
[4] 数平均分子量が500~5000である[1]から[3]いずれか一項に記載の活性エステル化合物。
[5] [1]から[4]いずれか一項に記載の活性エステル化合物およびエポキシ樹脂を含有する組成物。
[6] [5]に記載の組成物の硬化物。
本発明によれば、活性エステル化合物の分子内にダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格を有することを特徴としている。前記活性エステル化合物とエポキシ樹脂との硬化物は優れた誘電正接を有する。
<活性エステル化合物>
本発明の活性エステル化合物は、エポキシ樹脂の硬化剤としての機能等を有する。さらに、ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格(以下、両者を合わせてダイマー骨格ともいう。)を分子内(構造中)に有することにより、誘電正接に優れた硬化物が得られる。その理由は必ずしも明らかではないが以下の理由によるものと推察される。すなわち、ダイマー骨格を分子内に有することにより、活性エステル化合物の極性が大幅に低下する。そのため、エポキシ樹脂との硬化物においても極性を低くすることが可能となり、誘電特性を低下させることができる。
本発明の活性エステル化合物は、エポキシ樹脂の硬化剤としての機能等を有する。さらに、ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格(以下、両者を合わせてダイマー骨格ともいう。)を分子内(構造中)に有することにより、誘電正接に優れた硬化物が得られる。その理由は必ずしも明らかではないが以下の理由によるものと推察される。すなわち、ダイマー骨格を分子内に有することにより、活性エステル化合物の極性が大幅に低下する。そのため、エポキシ樹脂との硬化物においても極性を低くすることが可能となり、誘電特性を低下させることができる。
ダイマー酸は、特に限定されないが、植物系油脂を原料とする炭素数10~30の不飽和脂肪酸の二量化によって生成された炭素数20~60の脂肪族ジカルボン酸であることが好ましい。ダイマー酸の炭素数は特に限定されないが、30~50の範囲であることが好ましく、より好ましくは36~44の範囲である。またダイマージオールは、特に限定されないが、不飽和脂肪酸の二量化によって生成された脂肪族カルボン酸の酸基を水素化することによって製造されたジオールであることが好ましい。ダイマージオールの炭素数は特に限定されないが、30~50の範囲であることが好ましく、より好ましくは36~44の範囲である。
ダイマー骨格は、活性エステル化合物の分子内に1個有していればよく、2個以上有していてもよい。好ましくは1個である。ダイマー骨格としては、ダイマー酸骨格またはダイマージオール骨格のいずれでもよいが、ダイマージオール骨格であることが好ましい。また、ダイマー酸骨格は活性エステル化合物にダイマー酸の残基として存在し、ダイマージオール骨格はダイマージオールの残基として存在する。
活性エステル化合物が有するエステル結合は、フェノール性水酸基とカルボン酸との反応物(フェノール性水酸基とカルボン酸とがエステル化したもの)であることが好ましい。このようなエステル結合を有することで、後述するエポキシ樹脂が有するエポキシ基と高い反応性を有する。この高い反応性により、エポキシ基の開環により生じるヒドロキシ基の発生を防止または抑制することができる。活性エステル化合物は前記エステル結合を2つ以上有することが好ましい。より好ましくは4つ以上である。また、10個以下が好ましく、より好ましくは6個以下である。前記エステル結合を前記範囲内で有することで、ヒドロキシ基の発生を抑制しやすくなり、エポキシ樹脂との硬化物の誘電正接がさらに良好となる。
また、本発明の活性エステル化合物は、分子中にヒドロキシ基を有さない、または水酸基価が30eq/tоn以下であることが好ましく、さらに好ましくは15eq/tоn以下である。このため、活性エステル化合物が反応して得られる硬化物中に、活性エステル化合物由来のヒドロキシ基は存在しない、またはほとんど存在しない。
このように、本発明の活性エステル化合物によれば、硬化時におけるヒドロキシ基の発生を防止または抑制することができる。一般に、極性が高いヒドロキシ基は、誘電正接を上昇させることが知られているが、本発明の活性エステル化合物を用いることで硬化物における低誘電正接を実現することができる。
また、本発明の活性エステル化合物は、ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格を有することから、分子のモル体積が大きくなる。また、ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格は極性の小さい構造であることから分子内の極性が小さくなる。そのため、硬化物全体としての極性も低下し低誘電正接を実現することができたと推察される。
前記活性エステ化合物は、エポキシ樹脂と硬化反応する際のハンドリング性や、その硬化物の耐熱性、誘電特性とのバランスにより優れる観点から、常温(25℃)で液体であるか、あるいは、その軟化点又は融点が40℃~200℃の範囲であることが好ましい。
活性エステル化合物の数平均分子量は500以上であることが好ましく、より好ましくは800以上であり、さらに好ましくは1000以上である。また、5000以下であることが好ましく、より好ましくは4000以下であり、さらに好ましくは3000以下である。前記範囲内とすることでエポキシ樹脂との硬化物の誘電正接が良好となり得る。
活性エステル化合物の末端構造は、式(1)または式(2)であることが好ましい。式(1)および式(2)の末端構造は、前記フェノール性水酸基とカルボン酸との反応により得られるものであることが好ましい。末端構造が式(1)または式(2)であることで、エポキシ樹脂と高い反応性を有し、エポキシ基の開環により生じるヒドロキシ基の発生を防止または抑制することができる。また、活性エステル化合物は式(1)および式(2)の末端構造が合計で2個以上有していることが好ましく、3個以上でも構わない。また、6個以下が好ましく、より好ましくは4個以下である。式(1)または式(2)の末端構造を複数有することでエポキシ樹脂との反応性をさらに高めることができ、エポキシ基の開環により生じるヒドロキシ基の発生をより効果的に防止または抑制することができる。活性エステル化合物は分子中に式(1)の末端構造と式(2)の末端構造の両方が含まれていても良いが、製造の簡便性から複数含まれる場合は、すべてが同じ末端構造であることが好ましい。
式(1)、および式(2)中のRはそれぞれ独立して、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基のいずれかである。
脂肪族炭化水素基としては、特に限定されないが、炭素数1~30の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、tert-ペンチル基、ネオペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、n-ノニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基等が挙げられる。中でもメチル基が好ましい。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
アリール基としては、特に限定されないが、炭素数5~30の置換基を有してもよいアリール基、または炭素数3~30の置換基を有してもよいヘテロアリール基であることが好ましい。置換基としては前記脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、またはハロゲン原子が挙げられる。また、置換基を有する場合の前記炭素数は置換基の炭素を含めるものとする。具体的には、ベンゼン、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、トリアジン等の単環芳香族化合物から水素原子が1つ除かれたもの;ナフタレン、アントラセン、フェナレン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、プテリジン、クマリン、インドール、ベンゾイミダゾール、ベンゾフラン、アクリジン等の縮環芳香族化合物から水素原子が1つ除かれたもの等が挙げられる。また、これらの芳香族化合物を複数組み合わせたものであってもよく、例えば、ビフェニル、ビナフタレン、ビピリジン、ビチオフェン、フェニルピリジン、フェニルチオフェン、テルフェニル、ジフェニルチオフェン、クアテルフェニル等の環集合芳香族化合物から水素原子が1つ除かれたもの;ジフェニルメタン、ジフェニルエタン、1,1-ジフェニルエタン、2,2-ジフェニルプロパン、ナフチルフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジナフチルメタン、ジナフチルプロパン、フェニルピリジルメタン、フルオレン、ジフェニルシクロペンタン等のアルキレンにより連結される芳香族化合物から水素原子が1つ除かれたもの等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
上記のうちRはアリール基がより好ましく、その中でもベンゼン、トルエン、ナフタレン、アントラセンから水素原子が1つ除かれたものであることがさらに好ましく、ベンゼン、ナフタレンから水素原子が1つ除かれたものであることが特に好ましく、ベンゼンから水素原子が1つ除かれたものであることが最も好ましい。
式(1)、および式(2)中のnは0~5の整数であり、好ましくは1~4の整数であり、より好ましくは1~3の整数であり、さらに好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。また、mは0~7の整数であり、好ましくは1~4の整数であり、より好ましくは1~3の整数であり、さらに好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。*は活性エステル化合物との結合手を示す。
<活性エステル化合物の製造方法>
活性エステル化合物の製造方法は特に制限されず、適宜公知の方法により製造することができる。
活性エステル化合物の製造方法は特に制限されず、適宜公知の方法により製造することができる。
本発明の活性エステル化合物の製造方法は、ダイマー酸および/またはダイマージオールとフェノール性水酸基を有する化合物とポリカルボン酸化合物またはその酸ハロゲン化物とを反応させる工程を含むことが好ましい。具体的には、ダイマー酸を使用する場合、ダイマー酸とフェノール性水酸基を有する化合物とを反応させて活性エステル化合物を得ることができる。また、ダイマージオールを使用する場合、ポリカルボン酸化合物またはその酸ハロゲン化物とフェノール性水酸基を有する化合物を反応させた化合物をダイマージオールと反応させて活性エステル化合物を得ることができる。
具体的なポリカルボン酸化合物またはその酸ハロゲン化物としては、特に制限されないが、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等のベンゼンジカルボン酸;トリメリット酸等のベンゼントリカルボン酸;ナフタレン-1,5-ジカルボン酸、ナフタレン-2,3-ジカルボン酸、ナフタレン-2,6-ジカルボン酸、ナフタレン-2,7-ジカルボン酸等のナフタレンジカルボン酸;2,4,5-ピリジントリカルボン酸等のピリジントリカルボン酸;1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリカルボン酸等のトリアジンカルボン酸;これらの酸ハロゲン化物等が挙げられる。これらのうち、ベンゼンジカルボン酸、ベンゼントリカルボン酸であることが好ましく、イソフタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸ジクロリド、テレフタル酸ジクロリド、1,3,5-ベンゼントリカルボン酸、1,3,5-ベンゼントリカルボニルトリクロリドであることがより好ましく、イソフタル酸ジクロリド、テレフタル酸ジクロリド、1,3,5-ベンゼントリカルボニルトリクロリドであることがさらに好ましい。上述のポリカルボン酸化合物またはその酸ハロゲン化物は単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
フェノール性水酸基を有する化合物は、置換または非置換の芳香族環基を有している。具体的なフェノール性水酸基を有する化合物としては、特に制限されないが、フェノール、4-tert―ブチルフェノール、1-ナフトール、2-ナフトール、1-アントロール、2-アントロール、9-アントロール、4-フェニルフェノール等が挙げられる。これらのうち、フェノール、4-tert―ブチルフェノール、1-ナフトール、2-ナフトール、4-フェニルフェノールであることが好ましく、フェノール、1-ナフトール、2-ナフトール、4-フェニルフェノールであることがより好ましく、フェノール、1-ナフトール、2-ナフトールであることがさらに好ましい。前記フェノール性水酸基を有する化合物が活性エステル化合物の末端構造となることが好ましい。上述のフェノール性水酸基を有する化合物は単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
ポリカルボン酸化合物またはその酸ハロゲン化物、およびフェノール性水酸基を有する化合物のモル比率としては、特に制限されないが、フェノール性水酸基を有する化合物のヒドロキシ基のモル数に対するポリカルボン酸化合物またはその酸ハロゲン化物のカルボキシ基と酸ハロゲン化物基の合計のモル数のモル比〔(カルボキシ基とハロゲン化アシル基の合計)/(ヒドロキシ基)〕が、0.6~3.0であることが好ましく、0.8~2.0であることがより好ましく、1.0~1.2であることがさらに好ましい。
フェノール性水酸基を有する化合物は、ダイマー骨格1モルに対して、1モル以上であることが好ましく、より好ましくは1.5モル以上であり、さらに好ましくは2モル以上である。また、10モル以下であることが好ましく、より好ましくは8モル以下であり、さらに好ましくは4モル以下である。
活性エステル化合物の反応条件については特に制限されず、適宜公知の手法が採用されうる。
反応時のpHは、特に制限されないが、11以上であることが好ましい。この際、pHの調整は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、アンモニア等の塩基が使用されうる。
反応温度も特に制限されず、20~100℃であることが好ましく、40~80℃であることがより好ましい。反応圧力も特に制限されず、常圧であることがより好ましい。反応時間も特に制限されず、0.5~12時間であることが好ましく、1~6時間であることがより好ましい。
<エポキシ樹脂>
エポキシ樹脂は、分子中に2以上のエポキシ基を含み、前記エポキシ基で架橋ネットワークを形成することで硬化させることができる硬化性樹脂であるであることが好ましい。分子中に含まれるエポキシ基は3以上であることが好ましく、より好ましくは4以上である。また、10以下が好ましく、より好ましくは6以下である。前記範囲内のエポキシ基を有することで活性エステル化合物との反応性が向上し、硬化性が良好となる。
エポキシ樹脂は、分子中に2以上のエポキシ基を含み、前記エポキシ基で架橋ネットワークを形成することで硬化させることができる硬化性樹脂であるであることが好ましい。分子中に含まれるエポキシ基は3以上であることが好ましく、より好ましくは4以上である。また、10以下が好ましく、より好ましくは6以下である。前記範囲内のエポキシ基を有することで活性エステル化合物との反応性が向上し、硬化性が良好となる。
前記エポキシ樹脂としては、特に制限されないが、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、α-ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、β-ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂等のアラルキル型エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAP型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビスフェノールB型エポキシ樹脂、ビスフェノールBP型エポキシ樹脂、ビスフェノールC型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格およびジグリシジルオキシベンゼン骨格を有するエポキシ樹脂等のビフェニル型エポキシ樹脂;ナフタレン型エポキシ樹脂;ビナフトール型エポキシ樹脂;ビナフチル型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン型エポキシ樹脂、トリグリシジル-p-アミノフェノール型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルスルホンのグリシジルアミン型エポキシ樹脂等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;2,6-ナフタレンジカルボン酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ヘキサヒドロ無水フタル酸のグリシジルエステル型エポキシ樹脂等のジグリシジルエステル型エポキシ樹脂;ジベンゾピラン、ヘキサメチルジベンゾピラン、7-フェニルヘキサメチルジベンゾピラン等のベンゾピラン型エポキシ樹脂等が挙げられる。上述のエポキシ樹脂は単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<組成物>
本発明の組成物は、前記活性エステル化合物、および前記エポキシ樹脂を含むものである。その他、必要に応じて、他の樹脂、溶媒、他の硬化剤、添加剤等をさらに含んでいてもよい。
本発明の組成物は、前記活性エステル化合物、および前記エポキシ樹脂を含むものである。その他、必要に応じて、他の樹脂、溶媒、他の硬化剤、添加剤等をさらに含んでいてもよい。
前記組成物における活性エステル化合物の含有量は、特に制限されないが、組成物の固形分に対して、1~90質量%であることが好ましく、5~80質量%であることがより好ましい。活性エステル化合物の含有量が1質量%以上または90質量%以下であると、硬化物での低誘電正接化できることから好ましい。なお、本明細書において、「組成物の固形分」とは、組成物中において、溶媒を除いた成分の総質量を意味する。
エポキシ樹脂の含有量に対する活性エステル化合物の含有量の質量比(活性エステル化合物/エポキシ樹脂)は、1以上であることが好ましく、1超であることがより好ましく、1.1以上であることがさらに好ましく、1.2以上であることが特に好ましい。前記質量比が1以上であると、硬化物でより低誘電正接となりうることから好ましい。また、5以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましい。前記質量比が5以下であることで硬化性が良好となる。なお、一般的には、活性エステル化合物の含有量がエポキシ樹脂の含有量を上回ると、活性エステル化合物の含有量の相対的な増加に伴い低誘電正接となる。
<他の硬化剤>
前記組成物には、本発明に係る活性エステル化合物とともに、他の硬化剤を併用してもよい。他の硬化剤としては、特に制限されないが、他の活性エステル化合物、アミン硬化剤、イミダゾール硬化剤、酸無水物硬化剤、フェノール系硬化剤等が挙げられる。
前記組成物には、本発明に係る活性エステル化合物とともに、他の硬化剤を併用してもよい。他の硬化剤としては、特に制限されないが、他の活性エステル化合物、アミン硬化剤、イミダゾール硬化剤、酸無水物硬化剤、フェノール系硬化剤等が挙げられる。
前記他の活性エステル化合物としては、特に制限されないが、上述の活性エステル化合物以外の活性エステル化合物が挙げられる。他の活性エステル化合物の具体例としては、特に制限されないが、2以上のフェノール性水酸基を有する第1の芳香族化合物と、フェノール性水酸基を有する第2の芳香族化合物と、2以上のカルボキシ基を有する第3の芳香族化合物またはその誘導体との反応生成物が挙げられる。
前記第1の芳香族化合物としては、特に制限されないが、多価フェノール化合物、フェノール性水酸基含有化合物と重合性化合物との重合体等が挙げられる。
前記多価フェノール化合物としては、カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールフルオレン、1,5-ジヒドロキシナフタレン、1,6-ジヒドロキシナフタレン、2,6-ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
また、フェノール性水酸基含有化合物としては、特に制限されないが、前記多価フェノール化合物、およびフェノール、1-ナフトール、2-ナフトール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール等が挙げられる。
さらに重合性化合物としては、特に制限されないが、1,3-ブタジエン、1,5-ヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエン、ペンタシクロペンタジエン、ヘキサシクロペンタジエン等の脂肪族ジエン化合物;ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等の芳香族ジエン化合物;ジメトキシメチルベンゼン、ジメトキシメチルビフェニル、ビスフェノールAメトキシ付加物、ビスフェノールAエトキシ付加物、ビスフェノールFメトキシ付加物、ビスフェノールFエトキシ付加物等のアルコキシメチル化合物が挙げられる。
前記第3の芳香族化合物またはその誘導体としては、特に制限されないが、上述のポリカルボン酸化合物またはその誘導体が挙げられる。
前記アミン硬化剤としては、特に制限されないが、ジエチレントリアミン(DTA)、トリエチレンテトラミン(TTA)、テトラエチレンペンタミン(TEPA)、ジプロプレンジアミン(DPDA)、ジエチルアミノプロピルアミン(DEAPA)、N-アミノエチルピペラジン、メンセンジアミン(MDA)、イソフオロンジアミン(IPDA)、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン(1,3-BAC)、ピペリジン、N,N,-ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン等の脂肪族アミン;m-キシレンジアミン(XDA)、メタフェニレンジアミン(MPDA)、ジアミノジフェニルメタン(DDM)、ジアミノジフェニルスルホン(DDS)、ベンジルメチルアミン、2-(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の芳香族アミン等が挙げられる。
前記イミダゾール硬化剤としては、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、エポキシ-イミダゾールアダクト等が挙げられる。
前記酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、グリセロールトリストリメリテート、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
前記フェノール系硬化剤としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラック樹脂、ビフェニルノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン-フェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェノールメタン型樹脂、テトラフェノールエタン型樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂等が挙げられる。
上述の他の硬化剤は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<溶媒>
本発明の組成物は溶媒を含んでいてもよい。前記溶媒は、前記活性エステル化合物や前記エポキシ樹脂等と反応せず、組成物の粘度を調整する機能等を有するものであることが好ましい。
本発明の組成物は溶媒を含んでいてもよい。前記溶媒は、前記活性エステル化合物や前記エポキシ樹脂等と反応せず、組成物の粘度を調整する機能等を有するものであることが好ましい。
溶媒の具体例としては、特に制限されないが、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等のエステル;セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶媒の使用量としては、組成物の全質量に対して、10~80質量%であることが好ましく、20~70質量%であることがより好ましい。溶媒の使用量が10質量%以上であると、ハンドリング性に優れることから好ましい。一方、溶媒の使用量が80質量%以下であると、他基材との含浸性に優れることから好ましい。
<添加剤>
本発明の組成物は添加剤を含んでいてもよい。当該添加剤としては、硬化促進剤、難燃剤、充填剤等が挙げられる。
本発明の組成物は添加剤を含んでいてもよい。当該添加剤としては、硬化促進剤、難燃剤、充填剤等が挙げられる。
<硬化促進剤>
硬化促進剤としては、前記活性エステル化合物とエポキシ樹脂との硬化反応を促進させるものであれば特に制限されないが、リン系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、尿素系硬化促進剤等が挙げられる。
硬化促進剤としては、前記活性エステル化合物とエポキシ樹脂との硬化反応を促進させるものであれば特に制限されないが、リン系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、尿素系硬化促進剤等が挙げられる。
前記リン系硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリパラトリルホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等の有機ホスフィン化合物;トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト等の有機ホスファイト化合物;エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート、トリフェニルホスフィントリフェニルボラン、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムジシアナミド、ブチルフェニルホスホニウムジシアナミド、テトラブチルホスホニウムデカン酸塩等のホスホニウム塩等が挙げられる。
アミン系硬化促進剤としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン(DMAP)、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-ウンデセン-7(DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-ノネン-5(DBN)等が挙げられる。
イミダゾール系硬化促進剤としては、2-メチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2-フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3-ジヒドロ-1H-ピロロ[1,2-a]ベンズイミダゾール、1-ドデシル-2-メチル-3-ベンジルイミダゾリウムクロライド、2-メチルイミダゾリン等が挙げられる。
グアニジン系硬化促進剤としては、ジシアンジアミド、1-メチルグアニジン、1-エチルグアニジン、1-シクロヘキシルグアニジン、1-フェニルグアニジン、ジメチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、トリメチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、ペンタメチルグアニジン、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン、7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン、1-メチルビグアニド、1-エチルビグアニド、1-ブチルビグアニド、1-シクロヘキシルビグアニド、1-アリルビグアニド、1-フェニルビグアニド等が挙げられる。
前記尿素系硬化促進剤としては、3-フェニル-1,1-ジメチル尿素、3-(4-メチルフェニル)-1,1-ジメチル尿素、クロロフェニル尿素、3-(4-クロロフェニル)-1,1-ジメチル尿素、3-(3,4-ジクロルフェニル)-1,1-ジメチル尿素等が挙げられる。
上述の硬化促進剤のうち、2-エチル-4-メチルイミダゾール、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP)を用いることが好ましい。なお、上述の硬化促進剤は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
硬化促進剤の使用量は、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.01~5質量部であることが好ましく、0.1~3であることがさらに好ましい。硬化促進剤の使用量が0.01質量部以上であると、硬化性に優れることから好ましい。一方、硬化促進剤の使用量が5質量部以下であると、成形性に優れることから好ましい。
<難燃剤>
難燃剤としては、特に制限されないが、無機リン系難燃剤、有機リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤等が挙げられる。
難燃剤としては、特に制限されないが、無機リン系難燃剤、有機リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤等が挙げられる。
前記無機リン系難燃剤としては、特に制限されないが、赤リン;リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム;リン酸アミド等が挙げられる。
前記有機リン系難燃剤としては、特に制限されないが、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、イソプロピルアシッドホスフェート、ジブチルホスフェート、モノブチルホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、2-エチルヘキシルアシッドホスフェート、ビス(2-エチルヘキシル)ホスフェート、モノイソデシルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホスフェート、トリデシルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフェート、イソステアリルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、ブチルピロホスフェート、テトラコシルアシッドホスフェート、エチレングリコールアシッドホスフェート、(2-ヒドロキシエチル)メタクリレートアシッドホスフェート等のリン酸エステル;9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、ジフェニルホスフィンオキシド等ジフェニルホスフィン;10-(2,5-ジヒドロキシフェニル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(1,4-ジオキシナフタレン)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、ジフェニルホスフィニルヒドロキノン、ジフェニルホスフェニル-1,4-ジオキシナフタリン、1,4-シクロオクチレンホスフィニル-1,4-フェニルジオール、1,5-シクロオクチレンホスフィニル-1,4-フェニルジオール等のリン含有フェノール;9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,5-ジヒドロオキシフェニル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,7-ジヒドロオキシナフチル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド等の環状リン化合物;前記リン酸エステル、前記ジフェニル
ホスフィン、前記リン含有フェノールと、エポキシ樹脂やアルデヒド化合物、フェノール化合物と反応させて得られる化合物等が挙げられる。
ホスフィン、前記リン含有フェノールと、エポキシ樹脂やアルデヒド化合物、フェノール化合物と反応させて得られる化合物等が挙げられる。
前記ハロゲン系難燃剤としては、特に制限されないが、臭素化ポリスチレン、ビス(ペンタブロモフェニル)エタン、テトラブロモビスフェノールAビス(ジブロモプロピルエーテル)、1,2-ビス(テトラブロモフタルイミド)、2,4,6-トリス(2,4,6-トリブロモフェノキシ)-1,3,5-トリアジン、テトラブロモフタル酸等が挙げられる。
上述の難燃剤は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
難燃剤の使用量は、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1~50質量部であることが好ましく、1~30であることがより好ましい。難燃剤の使用量が0.1質量部以上であると、難燃性を付与できることから好ましい。一方、難燃剤の使用量が50質量部以下であると、誘電特性を維持しながら難燃性を付与できることから好ましい。
<充填剤>
充填剤としては、有機充填剤、無機充填剤が挙げられる。充填剤は、伸びを向上させる機能、機械的強度を向上させる機能等を有する。
充填剤としては、有機充填剤、無機充填剤が挙げられる。充填剤は、伸びを向上させる機能、機械的強度を向上させる機能等を有する。
前記有機充填剤としては、特に制限されないが、ポリアミド粒子等が挙げられる。
前記無機充填剤としては、特に制限されないが、シリカ、アルミナ、ガラス、コーディエライト、シリコン酸化物、硫酸バリウム、炭酸バリウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化マンガン、ホウ酸アルミニウム、炭酸ストロンチウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸タングステン酸ジルコニウム、タルク、クレー、雲母粉、酸化亜鉛、ハイドロタルサイト、ベーマイト、カーボンブラック等が挙げられる。
これらのうち、シリカを用いることが好ましい。この際、シリカとしては、無定形シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ等が用いられうる。
また、上記充填剤は、必要に応じて表面処理されていてもよい。この際使用されうる表面処理剤としては、特に制限されないが、アミノシラン系カップリング剤、エポキシシラン系カップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤、シラン系カップリング剤、オルガノシラザン化合物、チタネート系カップリング剤等が使用されうる。表面処理剤の具体例としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。
なお、上述の充填剤は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
充填剤の平均粒径は、特に制限されず、0.01~10μmであることが好ましく、0.03~5μmであることがより好ましく、0.05~3μmであることがさらに好ましい。なお、本明細書において「粒径」とは、粒子の輪郭線上の2点間の距離のうち、最大の長さを意味する。また、「平均粒径」は、走査型電子顕微鏡(SEM)により得られたイメージにおいて、1画面中の任意の100個の粒子の粒径を測定し、その平均値を算出の方法により測定された値を採用するものとする。
充填剤の使用量は、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.5~95質量部であることが好ましく、5~80質量部であることがより好ましい。充填剤の使用量が0.5質量部以上であると、低熱膨張性を付与できることから好ましい。一方、充填剤の使用量が95質量部以下であると、特性と成形性のバランスに優れることから好ましい。
<硬化物(組成物の硬化物)>
本発明の硬化物は、上述の組成物を硬化してなる硬化物である。すなわち、少なくとも前記活性エステル化合物と前記エポキシ樹脂とを硬化したものである。本発明の硬化物は、誘電正接に優れることから、半導体パッケージ基板、プリント配線基板、ビルドアップ接着フィルム、半導体封止材料等の電子材用途に使用することができる。また、その他、接着剤、塗料等の用途にも適用することができる。
本発明の硬化物は、上述の組成物を硬化してなる硬化物である。すなわち、少なくとも前記活性エステル化合物と前記エポキシ樹脂とを硬化したものである。本発明の硬化物は、誘電正接に優れることから、半導体パッケージ基板、プリント配線基板、ビルドアップ接着フィルム、半導体封止材料等の電子材用途に使用することができる。また、その他、接着剤、塗料等の用途にも適用することができる。
前記組成物を加熱硬化する際の加熱温度は、特に制限されないが、150~300℃であることが好ましい。より好ましくは175~250℃であり、さらに好ましくは180~200℃である。また、加熱時間は加熱温度との兼ね合いになるが、30分~10時間であることが好ましく、1~5時間であることがより好ましい。
本発明の硬化物の周波数10GHzにおける誘電正接(tanδ)は0.007以下であることが好ましい。電子材料用途に好適であることから、より好ましくは、0.006以下であり、さらに好ましくは0.005以下である。誘電正接(tanδ)の下限は特に限定されないが、工業的には0.001以上であってもよく、0.002以上であっても差し支えない。
本発明の硬化物の周波数10GHzにおける比誘電率(εc)は2.85以下であることが好ましい。電子材料用途に好適であることから、より好ましくは、2.82以下であり、さらに好ましくは2.80以下である。比誘電率(εc)の下限は特に限定されないが、工業的には2.00以上であってもよく、2.50以上であっても差し支えない。
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明は実施例の記載に制限されるものではない。
[合成例1]
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにイソフタル酸ジクロリド250g(1.1mol)を仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、系内を100℃に制御して、イソフタル酸ジクロリドを溶解させたのちフェノール12g(0.1mоl)をクロロホルム20mlに溶かし、15分間かけて滴下した。滴下終了後、140℃に昇温し、2.0時間撹拌した。反応終了後、未反応のイソフタル酸ジクロリドを加熱減圧濃縮により除去し、下記化学式で表される化合物(A-1)を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにイソフタル酸ジクロリド250g(1.1mol)を仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、系内を100℃に制御して、イソフタル酸ジクロリドを溶解させたのちフェノール12g(0.1mоl)をクロロホルム20mlに溶かし、15分間かけて滴下した。滴下終了後、140℃に昇温し、2.0時間撹拌した。反応終了後、未反応のイソフタル酸ジクロリドを加熱減圧濃縮により除去し、下記化学式で表される化合物(A-1)を得た。
[製造例1]
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにダイマージオール:P2033(CRODA社製)15g(29mmol)、THF100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、トリエチルアミン9g(86mmоl)を加えたのち、化合物(A-1)15g(58mmol)を滴下した。窒素ガスパージ処理を行いながら、系内を55℃に制御して、3.0時間撹拌した。反応終了後、水200gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥によって有機溶媒除去し、活性エステル化合物1を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにダイマージオール:P2033(CRODA社製)15g(29mmol)、THF100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、トリエチルアミン9g(86mmоl)を加えたのち、化合物(A-1)15g(58mmol)を滴下した。窒素ガスパージ処理を行いながら、系内を55℃に制御して、3.0時間撹拌した。反応終了後、水200gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥によって有機溶媒除去し、活性エステル化合物1を得た。
[製造例2]
ダイマージオール(P2033)に代えて、ダイマージオール(P2043(トリマートリオール15モル%含有):CRODA社製)14g(28mmol)を用いたことを除いては、製造例1と同様の方法で、活性エステル化合物2を得た。
ダイマージオール(P2033)に代えて、ダイマージオール(P2043(トリマートリオール15モル%含有):CRODA社製)14g(28mmol)を用いたことを除いては、製造例1と同様の方法で、活性エステル化合物2を得た。
[製造例3]
化合物(A-1)に代えて、化合物(A-2)18g(58mmol)を用いたことを除いては、製造例1と同様の方法で、活性エステル化合物3を得た。
化合物(A-1)に代えて、化合物(A-2)18g(58mmol)を用いたことを除いては、製造例1と同様の方法で、活性エステル化合物3を得た。
[製造例4]
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにダイマージオール:P2033(CRODA社製)15g(29mmol)、フェノール3g(29mmol)、THF100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、トリエチルアミン5g(48mmоl)を加えたのち、イソフタル酸ジクロリド11g(44mmol)をTHFgに溶解させ滴下した。窒素ガスパージ処理を行いながら、系内を55℃に制御して、3.0時間撹拌した。反応終了後、水100gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥させることで有機溶媒を除去し、活性エステル化合物4を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにダイマージオール:P2033(CRODA社製)15g(29mmol)、フェノール3g(29mmol)、THF100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、トリエチルアミン5g(48mmоl)を加えたのち、イソフタル酸ジクロリド11g(44mmol)をTHFgに溶解させ滴下した。窒素ガスパージ処理を行いながら、系内を55℃に制御して、3.0時間撹拌した。反応終了後、水100gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥させることで有機溶媒を除去し、活性エステル化合物4を得た。
[製造例5]
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにダイマー酸:P1009(CRODA社製)10g(19mmol)、フェノール3.5g(37mmol)、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド7.8g(41mmоl)、ジクロロメタン100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。窒素ガスパージ処理を行いながら、室温で4.0時間撹拌した。反応終了後、水100gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥させることで有機溶媒を除去し、活性エステル化合物5を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにダイマー酸:P1009(CRODA社製)10g(19mmol)、フェノール3.5g(37mmol)、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド7.8g(41mmоl)、ジクロロメタン100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。窒素ガスパージ処理を行いながら、室温で4.0時間撹拌した。反応終了後、水100gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥させることで有機溶媒を除去し、活性エステル化合物5を得た。
[製造例6]
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにビスフェノールA9g(38mmol)、THF100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、トリエチルアミン9.3g(92mmоl)を加えたのち、化合物(A-1)20g(77mmol)を滴下した。窒素ガスパージ処理を行いながら、系内を60℃に制御して、3.0時間撹拌した。反応終了後、水200gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥によって有機溶媒除去し、下記化学式で表される活性エステル化合物(A-3)を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコにビスフェノールA9g(38mmol)、THF100gを仕込み、系内を減圧窒素置換した。次いで、トリエチルアミン9.3g(92mmоl)を加えたのち、化合物(A-1)20g(77mmol)を滴下した。窒素ガスパージ処理を行いながら、系内を60℃に制御して、3.0時間撹拌した。反応終了後、水200gで3回洗浄し、加熱減圧乾燥によって有機溶媒除去し、下記化学式で表される活性エステル化合物(A-3)を得た。
[実施例1]
jER(登録商標)152(三菱ケミカル株式会社製)を26質量部、活性エステル化合物1を74質量部、4-ジメチルアミノピリジンを0.05質量部、ミキサーを用いて均一に分散して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物を型枠(100mm×3mm×1mm)に流し込み、110℃で1時間加熱硬化させた。その後、180℃、3MPaで10分間ヒートプレスを行ったのち、180℃で3時間加熱硬化を行い、硬化物(測定サンプル)1を得た。
jER(登録商標)152(三菱ケミカル株式会社製)を26質量部、活性エステル化合物1を74質量部、4-ジメチルアミノピリジンを0.05質量部、ミキサーを用いて均一に分散して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物を型枠(100mm×3mm×1mm)に流し込み、110℃で1時間加熱硬化させた。その後、180℃、3MPaで10分間ヒートプレスを行ったのち、180℃で3時間加熱硬化を行い、硬化物(測定サンプル)1を得た。
[実施例2]~[実施例6]、[比較例1]~[比較例2]
表1に記載の試剤を用いて、実施例1と同様にして、組成物1~8および硬化物1~8を作製し、実施例2~6、比較例1~2を行った。
なお、jER(登録商標)152(三菱ケミカル株式会社製)はフェノールノボラック型エポキシ樹脂であり、Tetrad(登録商標)-X(三菱ガス化学株式会社製)は、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミンである。
表1に記載の試剤を用いて、実施例1と同様にして、組成物1~8および硬化物1~8を作製し、実施例2~6、比較例1~2を行った。
なお、jER(登録商標)152(三菱ケミカル株式会社製)はフェノールノボラック型エポキシ樹脂であり、Tetrad(登録商標)-X(三菱ガス化学株式会社製)は、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミンである。
(比誘電率及び誘電正接)
比誘電率及び誘電正接は、ネットワークアナライザMS46122B(アンリツ株式会社製)を用いて空洞共振法で、温度23℃、周波数10GHzの条件で測定した。得られた結果を下記表1に示す。
比誘電率及び誘電正接は、ネットワークアナライザMS46122B(アンリツ株式会社製)を用いて空洞共振法で、温度23℃、周波数10GHzの条件で測定した。得られた結果を下記表1に示す。
[評価]
実施例1~6および比較例1~2で製造した硬化剤1~8を用いて、比誘電率及び誘電正接を測定した。
実施例1~6および比較例1~2で製造した硬化剤1~8を用いて、比誘電率及び誘電正接を測定した。
表1の結果から、実施例1~6の活性エステル化合物を用いた硬化物1~6は、比較例1~2の活性エステル化合物を用いた硬化物7~8に比べて、誘電正接が低い値となっており、良好な結果が得られたことが分かる。
Claims (6)
- ダイマー酸骨格および/またはダイマージオール骨格を分子内に有することを特徴とする活性エステル化合物。
- 分子中にエステル結合を4つ以上有する請求項1記載の活性エステル化合物。
- 数平均分子量が500~5000である請求項1または2に記載の活性エステル化合物。
- 請求項1または2に記載の活性エステル化合物およびエポキシ樹脂を含有する組成物。
- 請求項5に記載の組成物の硬化物。
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-
2022
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KOKEGUCHI, YUKI ET AL.: "Applications and characteristics of novel dimer acid esters -Application of dimer acid esters and Hailucent ISDA-", FUREGURANSU JANARU - FRAGRANCE JOURNAL., FUREGURANSU JANARUSHA, TOKYO, JP, vol. 33, no. 7, 1 January 2005 (2005-01-01), JP , pages 35 - 40, XP009543552, ISSN: 0288-9803 * |
Also Published As
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