WO2022210589A1 - フマル酸ジエステル系樹脂、フィルム、及び偏光板 - Google Patents

フマル酸ジエステル系樹脂、フィルム、及び偏光板 Download PDF

Info

Publication number
WO2022210589A1
WO2022210589A1 PCT/JP2022/015143 JP2022015143W WO2022210589A1 WO 2022210589 A1 WO2022210589 A1 WO 2022210589A1 JP 2022015143 W JP2022015143 W JP 2022015143W WO 2022210589 A1 WO2022210589 A1 WO 2022210589A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
ring
resin
film
carbon atoms
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/015143
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
飛鳥 吉村
拓也 小峯
竜一 坂下
洋樹 一條
Original Assignee
東ソー株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 東ソー株式会社 filed Critical 東ソー株式会社
Priority to CN202280025364.8A priority Critical patent/CN117157337A/zh
Priority to EP22780800.3A priority patent/EP4299283A1/en
Priority to JP2023511295A priority patent/JPWO2022210589A1/ja
Priority to KR1020237034141A priority patent/KR20230163431A/ko
Publication of WO2022210589A1 publication Critical patent/WO2022210589A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F222/14—Esters having no free carboxylic acid groups, e.g. dialkyl maleates or fumarates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2335/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2335/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of esters

Definitions

  • the present disclosure relates to a novel fumarate diester-based resin, a film using the resin, and a polarizing plate in which the film is arranged on at least one side of a polarizer, and more specifically, has an excellent retardation function.
  • the present invention relates to a novel fumarate diester resin suitable for optical compensation films for displays.
  • FPDs Flat panel displays
  • liquid crystals and organic EL are widely used in mobile phones, computer monitors, notebook computers, and televisions as the most important display devices in the multimedia society.
  • Many optical compensation films are used in FPDs to improve display characteristics.
  • the optical compensation film is a member necessary for improving visibility when viewed from the front or obliquely.
  • optical compensation films Quarter-wave and half-wave plates are known as optical compensation films, and a stretched polycarbonate film is used as the material.
  • the optical compensation film is also used as an antireflection layer for reflective liquid crystal display devices, touch panels, and organic EL.
  • a large optical compensation film (hereinafter referred to as "reverse wavelength dispersion film”) is required.
  • Patent Document 4 describes a fumarate diester/(meth)acrylate copolymer.
  • optical compensation films made of polycarbonate have several problems.
  • Most polycarbonate resins have an aromatic component in the main chain, and when formed into a stretched film, the wavelength dispersion of the retardation tends to increase.
  • the wavelength dispersion means that the phase difference changes depending on the measurement wavelength, and the ratio of the phase difference R 450 measured at a wavelength of 450 nm and the phase difference R 550 measured at a wavelength of 550 nm is R 450 / It can be expressed as R550 .
  • macromolecules with an aromatic structure have a strong tendency for this R 450 /R 550 to be greater than 1.1, resulting in lower contrast and viewing angle characteristics in the short wavelength region.
  • the fumaric acid diester/(meth)acrylate copolymer described in Patent Document 4 does not have sufficient wavelength dispersion.
  • the object of the present disclosure is a resin that has a small R 450 /R 550 and can improve contrast and viewing angle characteristics in a wide wavelength range when used as a stretched film, a film using the resin, and at least the film
  • An object of the present invention is to provide a polarizing plate arranged on one side of a polarizer.
  • the present disclosure is a fumarate diester resin containing a fumarate diester residue unit represented by the following formula (1) and a (meth)acrylic acid ester residue unit represented by the following formula (2).
  • R 1 and R 2 each independently represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms.
  • R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • S 1 , S 2 and S 3 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms
  • an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms may contain at least one selected from the group consisting of an ether group, an ester group, a carbonate group, and an amide group, and at least one selected from the group consisting of a branched structure, an alicyclic ring, and an aromatic ring in the chain
  • Each of R 4 to R 12 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, a cyanophenyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
  • a film that has a small R 450 /R 550 ratio and that can improve contrast and viewing angle characteristics in a wide wavelength range, especially a resin that is useful as an optical compensation film.
  • the fumaric acid diester-based resin which is one aspect of the present disclosure, will be described in detail below.
  • the present disclosure provides a fumaric acid diester-based resin (hereinafter referred to as “the present disclosure of It is called “resin”.).
  • the resin of the present disclosure is a resin containing a fumaric acid diester residue unit represented by the formula (1).
  • R 1 and R 2 each independently represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. .
  • linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.
  • branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms are , for example, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, etc.
  • examples of cyclic alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group, etc. .
  • ethyl group, isopropyl group, tert-butyl group, and cyclohexyl group are preferable, and ethyl group and isopropyl group are more preferable, because of good polymerizability with the residue unit represented by formula (2).
  • Specific fumarate ester residue units represented by formula (1) include, for example, monomethyl fumarate residue units, monoethyl fumarate residue units, monopropyl fumarate residue units, and monoisopropyl fumarate residue units. residue unit, monopentyl fumarate residue unit, monohexyl fumarate residue unit, mono n-butyl fumarate residue unit, monoisobutyl fumarate residue unit, mono sec-butyl fumarate residue unit, fumarate acid mono-tert-butyl residue unit, monocyclopropyl fumarate residue unit, monocyclobutyl fumarate residue unit, monocyclohexyl fumarate residue unit, dimethyl fumarate residue unit, diethyl fumarate residue unit, fumarate dipropyl acid residue unit, dipentyl fumarate residue unit, dihexyl fumarate residue unit, diisopropyl fumarate residue unit, di-n-butyl fumarate residue unit, diisobutyl
  • diethyl fumarate residue unit, diisopropyl fumarate residue unit, di-tert-butyl fumarate residue unit, fumarate residue unit, Acid dicyclohexyl residue units are preferred, and diethyl fumarate residue units and diisopropyl fumarate residue units are more preferred.
  • the resin of the present disclosure is a resin containing a (meth)acrylic acid ester residue unit represented by the formula (2).
  • the (meth)acrylic acid ester residue unit means an acrylic acid ester residue unit or a methacrylic acid ester residue unit.
  • R3 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • S 1 , S 2 and S 3 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the alkylene group having 1 to 12 carbon atoms may contain at least one selected from the group consisting of an ether group, an ester group, a carbonate group, and an amide group, and has a branched structure, an alicyclic ring, and It may contain at least one selected from the group consisting of aromatic rings.
  • the above alkylene group may contain one or more of each species.
  • Examples of the alicyclic ring that the alkylene group may contain include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, and the like, with a cyclohexane ring being preferred.
  • Examples of the aromatic ring that the alkylene group may contain include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, and phenanthrene ring, with a benzene ring being preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 2 to 8, more preferably 3 to 6, from the viewpoint that the wavelength dispersion R 450 /R 550 of the film obtained by stretching the resin of the present disclosure can be made smaller. more preferred.
  • the alkylene group contains an ester group, a carbonate group, an amide group, an alicyclic ring, or an aromatic ring, the number of carbon atoms contained therein is also included in the number of carbon atoms.
  • the alkylene group contains a functional group
  • S 1 is preferably a single bond, and S 2 and S 3 are each independently preferably the above alkylene group.
  • the above alkylene group containing an ether group includes the following structure.
  • the bonding direction of the divalent groups and chemical structures eg, ester bonds and repeating units in the polymer structure
  • examples of the alkylene group containing an ester group include the following structures.
  • the alkylene group containing a carbonate group includes the following structure.
  • the alkylene group containing an amide group includes the following structures.
  • examples of the alkylene group containing two groups selected from the group consisting of an ether group, an ester group, a carbonate group, and an amide group include the following structures.
  • alkylene group include the following structures.
  • ring A, ring B, and ring C are each independently an aromatic or heterocyclic ring having atoms selected from the group consisting of carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms as ring-constituting atoms. represents preferably an aromatic or heterocyclic ring composed of 3 to 20 carbon atoms which may contain a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • Examples of the aromatic or heterocyclic ring having a ring-constituting atom selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, tetracene ring, phenanthrene ring, fluorene ring, azulene ring, pentacene ring, pyrene ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, indole ring, phthalimide ring, tetrahydrophthalimide ring, triazole ring, benzotriazole ring, triazine ring, pyrrole ring, thiophene ring, benzothiophene ring, benzoxazole ring, benzothiazole
  • benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, benzotriazole ring, triazine ring and tetrahydrophthalimide ring are preferable, and benzene ring and benzotriazole ring are more preferable.
  • At least one ring selected from the group consisting of ring A, ring B, and ring C is preferably any one of the rings represented by the following structures (I) to (IX), at least ring A or ring B is any one of the rings represented by structures (I) to (IX) below.
  • ring A is bonded to any one of R 4 to R 6 and S 1
  • ring B is bonded to S 1 and S 2
  • ring C is bonded to S 2 and S 3 at the meta, para, or amphi positions. is preferred, and it is more preferred to be bound at the para position.
  • the wavelength dispersion R 450 /R 550 of the film using the resin of the present disclosure can be made smaller.
  • Rings (I) to (IX) are S in formula (2) above. 1 , S 2 , or S 3 , and is bonded at any carbon atom or nitrogen atom constituting the ring.
  • At least one ring selected from the group consisting of ring A, ring B, and ring C is any of the rings represented by the following structures (I), (IV), (V), and (VI) More preferred.
  • R l , R m , and R n each independently have the same meaning as R 4 to R 12 in formula (2) above
  • R 4 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, a cyanophenyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a an alkoxy group, an alkylcarboxylic acid group having 2 to 11 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl alcohol group having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom It represents an aromatic ring group or a heterocyclic group having ring-constituting atoms selected from the group, preferably a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, cyclic or branched, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl and n-butyl. group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group and the like. Among them, a linear alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms examples include methoxy, ethoxy, and propoxy groups.
  • the alkylcarboxylic acid group having 2 to 11 carbon atoms is a group obtained by substituting a part of the hydrogen atoms of the above alkyl group having 1 to 10 carbon atoms with a carboxyl group.
  • 2-carboxyethyl group (--CH 2 CH 2 COOH)
  • 3-carboxypropyl group (--CH 2 CH 2 CH 2 COOH).
  • halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms examples include groups in which some or all of the hydrogen atoms of the above alkyl group having 1 to 10 carbon atoms have been substituted with halogen atoms.
  • a fluorinated alkyl group is preferred, and a perfluoroalkyl group is particularly preferred.
  • the alkyl alcohol group having 1 to 10 carbon atoms is a group obtained by substituting a portion of the hydrogen atoms of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms with a hydroxyl group, such as a hydroxymethyl group (--CH 2 OH), A 2-hydroxyethyl group (--CH 2 CH 2 OH) and a 3-hydroxypropyl group (--CH 2 CH 2 CH 2 OH) can be mentioned.
  • Examples of the aromatic ring group or heterocyclic group having a ring-constituting atom selected from the group consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracyl group, a tetracyl group and a phenanthryl group.
  • substituents include halogen atoms, hydroxyl groups, carboxyl groups, group, cyano group, cyanophenyl group, alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, alkylcarboxylic acid group having 2 to 11 carbon atoms, halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon Examples include alkyl alcohol groups of numbers 1 to 10.).
  • a and b can make the wavelength dispersion R 450 /R 550 of the film using the resin of the present disclosure smaller, so a is 0 or 1 and b is 1. and more preferably a is 0 and b is 1.
  • the residue unit represented by formula (2) preferably has a structure derived from one of the groups consisting of the monomers represented by the following formula.
  • the residue units represented by formula (2) are (2-1-1) to (2-1-20), (2-2-1) to (2-2-20), (2 -2-36) to (2-2-55), (2-3-1) to (2-3-20), (2-4-1) to (2-4-20), (2-4 -36) to (2-4-40), (2-5-1) to (2-5-20), (2-5-36) to (2-5-40) It is preferably a structure derived from (2-4-8), (2-4-10), (2-4-37), (2-5-8), (2-5-10), ( Structures derived from one of the group consisting of 2-5-37) are particularly preferred.
  • Examples of the fumaric acid diester-based resin of the present disclosure include the following structures.
  • the composition of the resin of the present disclosure is 50 mol% or more and 99 mol% or less of the residue unit represented by formula (1), and 1 mol% or more and 50 mol% or less of the residue unit represented by formula (2). It preferably contains 70 mol% or more and 99 mol% or less of the residue unit represented by formula (1), and more preferably contains 1 mol% or more and 30 mol% or less of the residue unit of formula (2), and formula (1) It is particularly preferable that the residue unit represented by is contained in 80 mol% or more and 99 mol% or less and the residue unit represented by formula (2) is contained in an amount of 1 mol% or more and 20 mol% or less.
  • the weight-average molecular weight of the resin of the present disclosure is preferably 150,000 or more and 450,000 or less because it exhibits better mechanical strength. In order to develop even better mechanical strength, it is more preferably 200,000 or more and 450,000 or less, and particularly preferably 240,000 or more and 450,000 or less. Thereby, the film obtained from the resin of the present disclosure exhibits better mechanical strength.
  • the weight average molecular weight can be expressed in terms of standard polystyrene measured by gel permeation chromatography.
  • any method may be used as long as the resin can be obtained.
  • it can be produced by carrying out radical polymerization using monomers corresponding to the residue units represented by formulas (1) and (2).
  • the radical polymerization method for example, any one of bulk polymerization method, solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method, and the like can be adopted.
  • polymerization initiators for radical polymerization examples include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide and dicumyl peroxide.
  • t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxybenzoate organic peroxides such as 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane; 2,2'-azobis ( 2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis(2-butyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis Azo initiators such as (cyclohexane-1-carbonitrile) and the like are included.
  • organic peroxides such as 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane
  • 2,2'-azobis 2,4-dimethylvaleronitrile
  • 2,2′-azobis(2-butyronitrile) 2,2′-azobisisobutyronitrile
  • dimethyl-2′-azobisisobutyrate
  • solvent that can be used when solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, or emulsion polymerization is employed.
  • aromatic solvents such as benzene, toluene, and xylene
  • methanol, ethanol, Alcohol solvents such as propanol and butanol
  • cyclohexane dioxane
  • tetrahydrofuran acetone
  • methyl ethyl ketone N,N-dimethylformamide
  • the polymerization temperature at the time of radical polymerization can be appropriately set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator, and the reaction is easily controlled. is preferred.
  • the resin of the present disclosure can be suitably used as a film for optical members.
  • it can be used as an optical compensation film because it exhibits an excellent retardation by forming it into a film and stretching it uniaxially or more, and it can be used as an optical compensation film in displays by expressing a desired retardation can be used.
  • the optical compensation film is characterized by exhibiting the desired retardation properties. That is, since the film made of the resin of the present disclosure can be stretched to reduce the wavelength dispersion R 450 /R 550 , an optical compensation film with excellent retardation properties can be obtained.
  • the retardation property of the film using the resin of the present disclosure has retardation for the purpose of optical compensation of optical members.
  • the thickness of the film using the resin of the present disclosure is preferably 80 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or less, and particularly preferably 30 ⁇ m or less. Thinning of the film makes it possible to reduce the thickness of displays and the like.
  • the wavelength dispersion of the film using the resin of the present disclosure can be represented by the ratio R 450 / R 550 of the retardation R 450 at 450 nm and the retardation R 550 at 550 nm, and the condition of R 450 / R 550 ⁇ 1.015 is preferably satisfied, and when within the above range, the contrast of an optical member such as a display can be adjusted satisfactorily. Furthermore, in order to improve the contrast of optical members such as displays, R 450 /R 550 ⁇ 1.00 is more preferable because the wavelength dispersion exhibits reverse wavelength dispersion, and R 450 /R 550 ⁇ 0.90. Especially preferred.
  • the lower limit of R 450 /R 550 is 0.80 or more, and the range of R 450 /R 550 is preferably 0.80 or more and less than 1.015, more preferably 0.80 or more and less than 1.00. , 0.80 or more and less than 0.90 are particularly preferred.
  • the film made of the resin of the present disclosure preferably has an in-plane retardation (Re) of 10 to 300 nm because the in-plane retardation of an optical member such as a display can be adjusted and optically compensated. Furthermore, in order to adjust the contrast of displays and the like well, it is more preferably 50 to 280 nm, particularly preferably 70 to 200 nm. Further, the out-of-plane retardation (Rth) is preferably ⁇ 200 to 50 nm because the out-of-plane retardation (Rth) of an optical member such as a display can be adjusted and optically compensated. Furthermore, in order to adjust the contrast of a display, etc., it is more preferably -160 to 30 nm, particularly preferably -90 to 0 nm.
  • the members that make up the display and the like often have a positive Rth, which increases the Nz coefficient of the display as a whole, causing problems such as color shift in IPS mode liquid crystal displays and the like. If the film made of the resin of the present disclosure has a negative Rth, the Rth of the entire display construction can be adjusted. Therefore, when such a resin is used as an optical compensation film, it is possible to widen the viewing angle of the display.
  • the in-plane retardation (Re) of the film can be calculated by the following formula (a).
  • the out-of-plane retardation (Rth) of the film can be calculated by the following formula (b).
  • Re (nx ⁇ ny) ⁇ d(a)
  • Rth ⁇ (nx+ny)/2 ⁇ nz ⁇ d (b)
  • nx represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane.
  • ny represents the refractive index in the fast axis direction in the film plane.
  • nz represents the refractive index out of the film plane.
  • Refractive index, d indicates film thickness (nm).
  • the fast axis direction represents the direction with the lowest refractive index
  • the slow axis direction represents the direction with the highest refractive index
  • the Nz coefficient is preferably -5.0 or more and 0.9 or less because the film made of the resin of the present disclosure enables a wide viewing angle when used as an optical compensation film for optical members such as displays.
  • -1.0 or more and 0.7 or less are more preferable, and -0.5 or more and 0.5 or less are particularly preferable.
  • Nz (nx-nz)/(nx-ny) (c) (In formula (c), nx, ny, and nz are synonymous with formulas (a) and (b))
  • the film made of the resin of the present disclosure may contain a wavelength dispersion modifier exhibiting positive birefringence in order to improve wavelength dispersion characteristics.
  • a wavelength dispersion adjusting agent that exhibits positive birefringence is an additive that has positive birefringence and large wavelength dispersion characteristics. It is possible to adjust the wavelength dispersion of a resin with negative birefringence using a wavelength dispersion control agent with positive birefringence.
  • An aromatic compound is preferable because it has a large positive wavelength dispersion characteristic and an excellent wavelength dispersion adjusting function. Examples of aromatic compounds include naphthalene, anthracene, ultraviolet absorbers, liquid crystal materials, and the like. Ultraviolet absorbers and liquid crystal materials are particularly preferable because they are easily stress-oriented and have a large positive birefringence.
  • UV absorbers include benzotriazole-based compounds, benzophenone-based compounds, triazine-based compounds, and benzoate-based compounds. At least one of a benzotriazole-based compound and a triazine-based compound is preferable as the ultraviolet absorber because it has a particularly large positive wavelength dispersion characteristic and an excellent wavelength dispersion adjusting function.
  • a preferable example of a liquid crystal material is a nematic liquid crystal, which is particularly easy to be stress-oriented and has a large positive birefringence.
  • Preferred examples of nematic liquid crystals include biphenyl-based compounds and terphenyl-based compounds.
  • As the liquid crystal material at least either a cyanobiphenyl-based compound or a cyanoterphenyl-based compound is preferable because it has a particularly large positive wavelength dispersion characteristic and an excellent wavelength dispersion adjusting function.
  • the wavelength dispersion adjusting agent exhibiting positive birefringence is preferably at least one selected from the group consisting of benzotriazole-based compounds, benzophenone-based compounds, triazine-based compounds, benzoate-based compounds, biphenyl-based compounds, and terphenyl-based compounds. preferable.
  • wavelength dispersion modifiers exhibiting positive birefringence include 2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole and 2-(2'-hydroxy-5'-t-butylphenyl)benzotriazole. , 2-(2′-hydroxy-5′-t-octylphenyl)benzotriazole, 2-(2′-hydroxy-3′,5′-di-t-butylphenyl)benzotriazole, 2-(2′- Hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-[2-hydroxy-3,5-bis( ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl)phenyl]benzotriazole, 2,2 '-methylenebis[6-(benzotriazol-2-yl)-4-t-octylphenol], 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl) Benzotriazo
  • the wavelength dispersion modifier that exhibits positive birefringence preferably has a molecular weight of 150 to 5,000, more preferably 250 to 2,000, from the viewpoint of compatibility with the resin, in-plane retardation, and wavelength dispersion adjustment. is more preferred, and 280 to 1,000 is particularly preferred.
  • the molecular weight indicates the molecular weight if the wavelength dispersion modifier showing positive birefringence is a low-molecular compound whose molecular weight can be calculated from the chemical structure, and the weight in terms of standard polystyrene if it is a high-molecular compound having repeating units. Indicates average molecular weight.
  • the ratio of the wavelength dispersion modifier exhibiting positive birefringence in the composition contained in the optical film of the present disclosure is 0.00, from the viewpoint of improvement in mechanical properties, compatibility with resins, in-plane retardation and wavelength dispersion adjustment. 01 to 19% by mass is preferable, 2 to 10% by mass is more preferable, and 3 to 8% by mass is particularly preferable.
  • the film made of the resin of the present disclosure may contain an antioxidant in order to improve the thermal stability of the optical film.
  • antioxidants include hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, lactone-based antioxidants, amine-based antioxidants, hydroxylamine-based antioxidants, and vitamin E-based antioxidants.
  • Antioxidants, other antioxidants, etc. may be mentioned, and these antioxidants may be used alone or in combination of two or more.
  • the film made of the resin of the present disclosure uses a compound known as a so-called plasticizer for the purpose of improving mechanical properties when making an optical film, imparting flexibility, imparting water absorption resistance, reducing water vapor transmission rate, adjusting phase difference, etc.
  • plasticizers include phosphoric acid esters and carboxylic acid esters. Acrylic polymers and the like are also used.
  • phosphate esters examples include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, and phenyldiphenyl phosphate.
  • carboxylic acid esters include phthalate esters, citric acid esters, fatty acid esters, glycerol esters, alkylphthalyl alkylglycolate, and the like.
  • phthalates include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, dioctyl phthalate and diethylhexyl phthalate.
  • citrates include acetyltriethyl citrate and acetyltributyl citrate.
  • fatty acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, and dibutyl sebacate.
  • Examples of glycerol esters include triacetin, trimethylolpropane tribenzoate, and alkylphthalyl alkyl glycol.
  • Examples of the rate include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, and ethyl phthalyl glycolate.
  • glycolate methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, propyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl glycolate
  • Ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalyl ethyl glycolate and the like can be mentioned.
  • These plasticizers may be used alone or in combination of two or more.
  • the film made of the resin of the present disclosure contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, pigments, dyes, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc., within the scope of the invention. may be
  • a film made of the resin of the present disclosure can be laminated with a film containing other resins, if necessary.
  • resins include, for example, polyether sulfone, polyarylate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polycarbonate, cyclic polyolefin, maleimide-based resin, fluorine-based resin, and polyimide. It is also possible to laminate a hard coat layer or a gas barrier layer.
  • the optical compensation film is preferably a film obtained by stretching the film made of the resin of the present disclosure in one or more directions.
  • the method for producing a film obtained from the resin of the present disclosure is not particularly limited, and examples thereof include methods such as a melt film forming method and a solution casting method.
  • the method of melt film formation specifically includes a melt extrusion method using a T-die, a calendar molding method, a hot press method, a co-extrusion method, a co-melting method, a multi-layer extrusion method, an inflation molding method, and the like.
  • a melt extrusion method using a T-die is preferred because of ease of subsequent stretching treatment.
  • the forming temperature is preferably 200 to 200, because the forming method is suitable for making the film thickness more uniform and preventing defects and coloring of the film. 265°C, more preferably 210 to 260°C, particularly preferably 220 to 258°C.
  • the molding temperature is the temperature at the time of molding in the melt film-forming method, and is usually a value obtained by measuring the temperature at the outlet of the die for extruding the molten resin.
  • the solution casting method is a method in which a solution obtained by dissolving the resin of the present disclosure in a solvent (hereinafter referred to as “dope”) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film.
  • the method of casting the dope onto the support base includes the T-die method, the doctor blade method, the bar coater method, the roll coater method, and the lip coater method. etc. are used.
  • the most common method is to continuously extrude the dope from a die onto a belt-shaped or drum-shaped support substrate.
  • supporting substrates that can be used include glass substrates, metal substrates such as stainless steel and ferrotype, and films such as polyethylene terephthalate.
  • the solution viscosity of the dope is an extremely important factor when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, and is preferably 10 to 20000 cPs. , 100 to 10000 cPs.
  • the film made of the resin of the present disclosure is preferably formed by further stretching the film obtained by the film forming method, and particularly preferably by uniaxial stretching or unbalanced biaxial stretching.
  • the stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 50 to 200°C, more preferably 90 to 180°C, since good retardation properties can be obtained.
  • the stretch ratio for uniaxial stretching is preferably 1.05 to 3.5 times, more preferably 1.1 to 3.0 times, since good retardation properties can be obtained.
  • the stretch ratio of unbalanced biaxial stretching is preferably 1.05 to 3.5 times in the length direction, more preferably 1.1 to 3.0 times, since good retardation characteristics can be obtained, and the width direction is preferably 1.0 to 1.2 times, more preferably 1.0 to 1.1 times.
  • the in-plane retardation (Re) can be controlled by stretching temperature and stretching ratio.
  • the film made of the resin of the present disclosure can be a polarizing plate in which the film is arranged on at least one side of a polarizer.
  • the structure of the polarizing plate is as follows. , are mentioned.
  • Synthesis Example 1 (synthesis of acrylate A) In a 300 mL three-necked flask, 4.12 g (20.8 mmol) of biphenyl-2-carboxylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.254 g (2.08 mmol) of diaminopyridine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are added to dehydrated dichloromethane (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dissolved at 0° C. under a nitrogen atmosphere.
  • biphenyl-2-carboxylic acid manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
  • diaminopyridine manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
  • Synthesis Example 2 (synthesis of acrylate B) 4.99 g (34.6 mmol) of 4-hydroxybutyl acrylate, 35 mL of dehydrated dichloromethane, 7.0 g (69 mmol) of triethylamine (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 0.85 g (6.9 mmol) of diaminopyridine in a 200 mL three-necked flask.
  • DMAP Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • p-toluenesulfonyl chloride manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
  • acrylate B 4-tosyloxybutyl acrylate
  • Synthesis Example 3 (synthesis of acrylate C) 25.0 g (138 mmol) of 6-bromo-1-hexanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 16.1 g (159 mmol) of triethylamine, and 200 mL of dehydrated dichloromethane were added to a 500 mL three-necked flask and dissolved at 0°C. A solution of 9.6 g (106 mmol) of acrylic acid chloride (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) in 50 mL of dehydrated dichloromethane was added dropwise. It was allowed to warm to room temperature and stirred for 3 hours.
  • acrylate C 6-bromohexyl acrylate
  • Synthesis Example 4 (synthesis of acrylate D) 4-phenylphenol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.4 g (26 mmol), potassium carbonate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 7.2 g (52.1 mmol), the acrylate obtained in Synthesis Example 2 in a 300 mL three-necked flask 10.1 g (33.9 mmol) of B and 50 mL of dehydrated DMF (manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added and dissolved at 50°C. After reacting for 5 hours, 50 mL of ion-exchanged water was added to terminate the reaction.
  • the reactant was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with deionized water three times and brine three times, and dried over sodium sulfate.
  • Synthesis Example 5 (synthesis of acrylate E) 6.7 g (39.2 mmol) of 4-phenylphenol, 12.0 g (51.0 mmol) of acrylate C obtained in Synthesis Example 3, 10.9 g (78.5 mmol) of potassium carbonate, potassium iodide ( FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.065 g (0.4 mmol) and 50 mL of dehydrated DMF were added and dissolved at 120°C. After stirring for 3 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 100 mL of ion-exchanged water was added to stop the reaction.
  • acrylate E 6-([1,1'-biphenyl]-4-yloxy)hexyl. 6.02 g of acrylate (hereinafter referred to as "acrylate E”) was obtained.
  • Synthesis Example 6 (synthesis of acrylate F) 18.0 g (83.2 mmol) of 2-succinoyloxyethyl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 11.8 g (69.3 mmol) of 4-phenylphenol, 13.3 g of EDC hydrochloride (69 .3 mmol), 0.85 g (6.9 mmol) of DMAP, and 50 mL of dehydrated dichloromethane were added and dissolved at 0°C. After returning to room temperature and stirring for 3 hours, 200 mL of ion-exchanged water was added to stop the reaction.
  • Synthesis Example 7 (synthesis of acrylate G) In a 300 mL three-necked flask, 6.00 g (41.6 mmol) of 2-carboxyethyl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.51 g (4.2 mmol) of diaminopyridine (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter referred to as "DMAP ” was dissolved in 150 mL of dehydrated dichloromethane at 0° C. under a nitrogen atmosphere.
  • 2-carboxyethyl acrylate manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
  • diaminopyridine manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter referred to as "DMAP ”
  • Synthesis Example 8 (synthesis of acrylate H) 7.55 g (33.5 mmol) of 2-(2-benzotriazolyl)-p-cresol, 9.26 g (67.0 mmol) of potassium carbonate, and 15.0 g of acrylate B obtained in Synthesis Example 2 were placed in a 300 mL three-necked flask. (50.3 mmol) and 100 mL of dehydrated DMF were added and dissolved at 50°C. After stirring for 5 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 50 mL of ion-exchanged water was added to stop the reaction.
  • Synthesis Example 9 (synthesis of acrylate I) 5.03 g (25.8 mmol) of 4-cyano-4'-hydroxybiphenyl (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), 7.13 g (51.6 mmol) of potassium carbonate, and acrylate B10 obtained in Synthesis Example 2 were placed in a 300 mL three-necked flask. 0 g (33.5 mmol) and 50 mL of dehydrated DMF were added and dissolved at 50°C. After stirring for 5 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 50 mL of ion-exchanged water was added to stop the reaction.
  • Synthesis Example 10 (Synthesis of Acrylate J) 20.0 g (64.9 mmol) of 2-(acryloyloxy)ethyl (2-hydroxyethyl) phthalate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 200 mL of dehydrated dichloromethane, 13.1 g (130.0 mmol) of triethylamine, and 1.59 g of DMAP are placed in a 500 mL three-necked flask. (13.0 mmol) and 14.8 g (77.8 mmol) of p-toluenesulfonyl chloride were added and dissolved at 0°C.
  • Synthesis Example 11 (synthesis of acrylate K) 2.83 g (16.6 mmol) of 4-phenylphenol, 4.60 g (33.3 mmol) of potassium carbonate, 10.0 g (21.6 mmol) of acrylate J obtained in Synthesis Example 10, and 50 mL of dehydrated DMF were added to a 300 mL three-necked flask. , and dissolved at 50°C. After stirring for 5 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 50 mL of ion-exchanged water was added to stop the reaction. The reactant was extracted with chloroform, and the organic layer was washed with ion-exchanged water three times and brine three times, and dried over sodium sulfate.
  • Example 1 38.00 g (190 mmol) of diisopropyl fumarate, 6.78 g (21.0 mmol) of 2-(2-biphenyloxy)ethyl acrylate, and 0.42 g (1.7 mmol) of Perbutyl PV (manufactured by NOF CORPORATION) were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL. ) was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the container was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours.
  • Perbutyl PV manufactured by NOF CORPORATION
  • Resin 1 a resin (hereinafter referred to as “resin 1”).
  • Example 2 40.00 g (200 mmol) of diisopropyl fumarate, 4.09 g (22.2 mmol) of acrylate A obtained in Synthesis Example 1, and 0.46 g (1.85 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, followed by nitrogen replacement and depressurization. was repeated and then sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 2 This polymer solution was dropped into 3 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 2”).
  • the weight average molecular weight of Resin 2 obtained was 203,000. Further, it was confirmed by 1 H-NMR measurement that the composition of Resin 2 was diisopropyl fumarate residue unit/acrylate A residue unit 93/7 (mol %).
  • Example 3 20.02 g (100 mmol) of diisopropyl fumarate and 1.67 g of 2-[2-hydroxy-5-[2-(methacryloyloxy)ethyl]phenyl]-2H-benzotriazole (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) in a 75 mL glass ampoule (5.2 mmol) and 0.22 g (0.89 mmol) of perbutyl PV were added, and after repeating nitrogen replacement and depressurization, the flask was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours.
  • Resin 3 a resin (hereinafter referred to as “resin 3”).
  • the weight average molecular weight of Resin 3 obtained was 243,000.
  • Example 4 9.12 g (45.5 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.72 g (2.4 mmol) of acrylate D, and 0.106 g (0.42 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, and the pressure was reduced after repeating nitrogen replacement and depressurization. fused in place. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 4 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 4”).
  • the weight average molecular weight of Resin 4 obtained was 299,000. Also, by 1 H-NMR measurement, it was confirmed that the composition of Resin 4 was diisopropyl fumarate residue unit/acrylate D residue unit 95/5 (mol %).
  • Example 5 6.45 g (32.2 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.55 g (1.7 mmol) of acrylate E obtained in Synthesis Example 5, 0.070 g (0.28 mmol) of perbutyl PV, and 1.24 g of toluene were placed in a 75 mL glass ampoule. After repeating nitrogen replacement and depressurization, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 5 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 5”).
  • the weight average molecular weight of Resin 5 obtained was 153,000. Also, by 1 H-NMR measurement, it was confirmed that the composition of Resin 5 was diisopropyl fumarate residue unit/acrylate E residue unit 93/7 (mol %).
  • Example 6 4.13 g (20.8 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.42 g (1.1 mmol) of acrylate F obtained in Synthesis Example 6, and 0.038 g (0.15 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, followed by nitrogen substitution. After repeatedly depressurizing, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 6 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 6”).
  • the weight average molecular weight of Resin 6 obtained was 367,000. Also, by 1 H-NMR measurement, it was confirmed that the composition of Resin 6 was diisopropyl fumarate residue unit/acrylate F residue unit 94/6 (mol %).
  • Example 7 3.75 g (18.7 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.60 g (1.6 mmol) of acrylate F obtained in Synthesis Example 6, and 0.041 g (0.17 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, followed by nitrogen substitution. After repeatedly depressurizing, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 7 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 7”).
  • the weight average molecular weight of Resin 7 obtained was 330,000. Also, by 1 H-NMR measurement, it was confirmed that the composition of Resin 7 was diisopropyl fumarate residue unit/acrylate F residue unit 91/9 (mol %).
  • Example 8 4.13 g (20.8 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.42 g (1.1 mmol) of acrylate G obtained in Synthesis Example 7, and 0.038 g (0.15 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, followed by nitrogen substitution. After repeatedly depressurizing, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 8 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 8”).
  • the weight average molecular weight of Resin 8 obtained was 367,000. Also, by 1 H-NMR measurement, it was confirmed that the composition of Resin 8 was diisopropyl fumarate residue unit/acrylate G residue unit 94/6 (mol %).
  • Example 9 6.87 g (34.3 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.37 g (1.1 mmol) of acrylate H obtained in Synthesis Example 8, and 0.068 g (0.27 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL. After repeatedly depressurizing, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 9 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 9”).
  • 1 H-NMR measurement confirmed that the composition of Resin 9 was diisopropyl fumarate residue unit/acrylate H residue unit 97/3 (mol %).
  • Example 10 10.21 g (51.0 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.51 g (1.6 mmol) of acrylate I obtained in Synthesis Example 9, and 0.11 g (0.44 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, followed by nitrogen substitution. After repeatedly depressurizing, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 10 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 10”).
  • Example 11 9.83 g (49.1 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.83 g (2.6 mmol) of acrylate I obtained in Synthesis Example 9, and 0.11 g (0.44 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL. After repeatedly depressurizing, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 90 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 11 This polymer solution was dropped into 0.5 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 11”).
  • Example 12 1.55 g (7.6 mmol) of diisopropyl fumarate and 0.083 g (0.24 mmol) of 4-[(6-acryloyloxy)hexyloxy]-4'-cyanobiphenyl (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL. ) and 0.016 g (0.065 mmol) of perbutyl PV were added, and after repeating nitrogen replacement and depressurization, the container was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours.
  • Resin 12 a resin (hereinafter referred to as “resin 12”).
  • the weight average molecular weight of the obtained Resin 12 was 365,000.
  • Example 13 1.11 g (5.5 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.22 g (0.5 mmol) of acrylate K obtained in Synthesis Example 11, and 0.015 g (0.072 mmol) of perbutyl PV were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL. After repeatedly depressurizing, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 40 g of tetrahydrofuran.
  • Resin 13 This polymer solution was dropped into 0.3 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a resin (hereinafter referred to as “resin 13”).
  • Example 14 6.99 g (34.9 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.33 g (1.9 mmol) of diethyl fumarate, 4-[(6-acryloyloxy)hexyloxy]-4′-cyanobiphenyl 0.9 g (34.9 mmol), 4-[(6-acryloyloxy)hexyloxy]-4′-cyanobiphenyl were placed in a 75 mL glass ampoule. 43 g (1.2 mmol) and 0.068 g (0.27 mmol) of perbutyl PV were added, and after repeating nitrogen replacement and depressurization, the flask was sealed under reduced pressure.
  • Example 15 6.99 g (34.9 mmol) of diisopropyl fumarate, 0.70 g (4.1 mmol) of diethyl fumarate, 4-[(6-acryloyloxy)hexyloxy]-4′-cyanobiphenyl 0.9 g (34.9 mmol), 4-[(6-acryloyloxy)hexyloxy]-4′-cyanobiphenyl were placed in a 75 mL glass ampoule. 49 g (1.4 mmol) and 0.084 g (0.34 mmol) of perbutyl PV were added, and after repeating nitrogen replacement and depressurization, the flask was sealed under reduced pressure.
  • Example 16 Diisopropyl fumarate 7.01 g (35.0 mmol), diethyl fumarate 1.10 g (6.4 mmol), 4-[(6-acryloyloxy)hexyloxy]-4′-cyanobiphenyl 0.2 g (6.4 mmol) were placed in a 75 mL glass ampoule. 54 g (1.6 mmol) and 0.071 g (0.29 mmol) of perbutyl PV were added, and after repeating nitrogen replacement and depressurization, the flask was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours.
  • Resin 16 a resin (hereinafter referred to as “resin 16”).
  • the weight average molecular weight of the obtained resin 16 was 245,000.
  • Example 17 4.0 g of Resin 1 obtained in Example 1 was dissolved in 16.0 g of tetrahydrofuran (THF) to obtain a 20 mass % resin solution.
  • the resin solution was poured onto a polyethylene terephthalate film using a coater, dried at 80° C. for 4 minutes, and then dried at 130° C. for 4 minutes in two steps to obtain a film.
  • the resulting film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched at 118° C. to 1.2 times. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film.
  • the obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 18 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that the resin solution was prepared using the resin 2 obtained in Example 2 instead of the resin 1, and the stretching temperature was changed to 106 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 19 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that resin 3 obtained in Example 3 was used instead of resin 1 to prepare a resin solution and the stretching temperature was changed to 151 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 20 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that the resin solution was prepared using the resin 4 obtained in Example 4 instead of the resin 1, and the stretching temperature was changed to 140 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 21 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that the resin solution was prepared using the resin 5 obtained in Example 5 instead of the resin 1, and the stretching temperature was changed to 101 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 22 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that the resin solution was prepared using the resin 6 obtained in Example 6 instead of the resin 1, and the stretching temperature was changed to 117 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 23 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that the resin solution was prepared using the resin 7 obtained in Example 7 instead of the resin 1, and the stretching temperature was changed to 117 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 24 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that the resin solution was prepared using the resin 8 obtained in Example 8 instead of the resin 1, and the stretching temperature was changed to 160 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 25 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that the resin solution was prepared using Resin 9 obtained in Example 9 instead of Resin 1, and the stretching temperature was changed to 140 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 26 In the same manner as in Example 14, except that the resin solution was prepared using the resin 10 obtained in Example 10 instead of the resin 1, and the stretching temperature was changed to 159° C. and the stretching ratio was changed to 1.4 times. A film was prepared and the retardation properties of the obtained film were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 27 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that resin 11 obtained in Example 11 was used instead of resin 1 to prepare a resin solution and the stretching temperature was changed to 140 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 28 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that resin 12 obtained in Example 12 was used in place of Resin 1 to prepare a resin solution and the stretching temperature was changed to 140 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 29 A film was prepared and obtained in the same manner as in Example 14 except that resin 13 obtained in Example 13 was used in place of Resin 1 to prepare a resin solution and the stretching temperature was changed to 140 ° C. The retardation properties of the films were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 30 Resin 12 obtained in Example 12 was used instead of Resin 1, and 2,2′-methylenebis[6-(benzotriazol-2-yl)-4-t-octylphenol] was added as an additive to the resin.
  • a resin solution was prepared by adding 4% by weight with respect to the total 100% by weight, and a film was prepared in the same manner as in Example 17 except that the stretching temperature was changed to 117 ° C. The retardation of the obtained film properties were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 31 Resin 12 obtained in Example 12 was used in place of Resin 1, and 2,4-bis(2,4-dimethylphenyl)-6-(2-hydroxy-4-n-octyloxyphenyl) was used as an additive. )-1,3,5-triazine was added in an amount of 3% by mass based on the total 100% by mass with the resin to prepare a resin solution, and the stretching temperature was changed to 115°C in the same manner as in Example 17. A film was prepared by the method, and the retardation properties of the obtained film were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 32 Example 17 except that resin 14 obtained in Example 14 was used instead of Resin 1, methyl ethyl ketone (MEK) was used instead of THF, and the stretching temperature was changed to 138°C. A film was prepared in the same manner as in , and the retardation properties of the obtained film were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Resin 1 Resin 1
  • MEK methyl ethyl ketone
  • Example 33 Resin 15 obtained in Example 15 was used instead of Resin 1, MEK was used instead of THF to prepare a resin solution, and the stretching temperature was changed to 124°C. A film was prepared by the method, and the retardation properties of the obtained film were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Example 34 Resin 16 obtained in Example 16 was used instead of Resin 1, MEK was used instead of THF to prepare a resin solution, and the stretching temperature was changed to 116°C. A film was prepared by the method, and the retardation properties of the obtained film were measured. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film. The obtained films had smaller wavelength dispersion than those of Comparative Examples 1-3.
  • Comparative example 1 40.02 g (200 mmol) of diisopropyl fumarate and 0.41 g (1.7 mmol) of Perbutyl PV (manufactured by NOF Corporation) were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, and after repeating nitrogen replacement and pressure release, the ampoule was sealed under reduced pressure. . Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C.
  • the resulting diisopropyl fumarate homopolymer had a weight average molecular weight of 257,000.
  • 4.0 g of the resulting diisopropyl fumarate homopolymer was dissolved in 16.0 g of tetrahydrofuran to obtain a 20% by weight resin solution.
  • the resin solution was poured onto a polyethylene terephthalate film using a coater, dried at 80° C. for 4 minutes, and then dried at 130° C. for 4 minutes in two stages to obtain a film.
  • the resulting film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched at 140° C. to 1.2 times. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film.
  • Comparative example 2 40.01 g (200 mmol) of diisopropyl fumarate, 2.11 g (11.5 mmol) of n-octyl acrylate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), 0.45 g (1. 81 mmol) was added, and after repeating nitrogen substitution and depressurization, the container was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran.
  • This polymer solution was dropped into 3 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain a copolymer.
  • 4.0 g of the resulting resin was dissolved in 16.0 g of tetrahydrofuran to obtain a 20% by weight resin solution.
  • the resin solution was poured onto a polyethylene terephthalate film using a coater, dried at 80° C. for 4 minutes, and then dried at 130° C. for 4 minutes in two steps to obtain a film.
  • the resulting film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched at 140° C. to 1.3 times. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film.
  • Comparative example 3 39.04 g (195 mmol) of diisopropyl fumarate, 3.89 g (21.1 mmol) of n-octyl acrylate, and 0.43 g (1.74 mmol) of Perbutyl PV (manufactured by NOF CORPORATION) were placed in a glass ampoule with a capacity of 75 mL, followed by nitrogen substitution. After repeating depressurization, it was sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 50° C. and holding it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran.
  • This polymer solution was dropped into 3 L of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain copolymer B.
  • 4.0 g of the resulting resin was dissolved in 16.0 g of tetrahydrofuran to obtain a 20% by weight resin solution.
  • the resin solution was poured onto a polyethylene terephthalate film using a coater, dried at 80° C. for 4 minutes, and then dried at 130° C. for 4 minutes in two steps to obtain a film.
  • the resulting film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched at 105° C. to 1.3 times. Table 1 shows the retardation properties of the obtained film.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０が小さく、広い波長領域でのコントラストや視野角特性を向上することができる樹脂及びそれを用いたフィルムを提供する。　フマル酸ジエステル系樹脂は、下記式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位と下記式（２）で示される（メタ）アクリル酸エステル残基単位を含む。　

Description

フマル酸ジエステル系樹脂、フィルム、及び偏光板
　本開示は、新規なフマル酸ジエステル系樹脂、該樹脂を用いたフィルム、及び該フィルムを少なくとも偏光子の片面側に配置した偏光板に関するものであり、より詳しくは、優れた位相差機能を有するディスプレイ用の光学補償フィルムに適した新規なフマル酸ジエステル系樹脂に関する。
　液晶や有機ＥＬなどのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）は、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュ－タ－用モニタ－、ノ－トパソコン、テレビまで幅広く使用されている。ＦＰＤには、表示特性向上のため、多くの光学補償フィルムが用いられている。特に、光学補償フィルムは正面や斜めから見た場合の視認性向上に必要な部材である。
　光学補償フィルムは、１／４波長、１／２波長板が知られており、材料としてポリカーボネートの延伸フィルムが用いられている。（例えば、特許文献１～３参照。）一般に光学補償フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ＥＬの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、特に長波長域ほど位相差が大きい光学補償フィルム（以下、「逆波長分散フィルム」という）が求められるものである。
　また、特許文献４には、フマル酸ジエステル／（メタ）アクリレート共重合体が記載されている。
特許２８１８９８３号公報 特開平５－２９７２２３号公報 特開平５－３２３１２０号公報 特開２０１７－１４９９３２号公報
　しかしながら、本発明者らが検討した結果、ポリカーボネートからなる光学補償フィルムはいくつか課題がある。ポリカーボネート樹脂の多くは、主鎖に芳香族成分を有しており、延伸フィルムとした際に、位相差の波長分散性が大きくなりやすい。ここで、波長分散性とは、位相差が測定波長に依存して変化することを意味し、波長４５０ｎｍで測定した位相差Ｒ４５０と波長５５０ｎｍで測定した位相差Ｒ５５０の比をＲ４５０／Ｒ５５０として表すことができる。一般に芳香族構造の高分子ではこのＲ４５０／Ｒ５５０が１．１より大きくなる傾向が強く、短波長領域でのコントラストや視野角特性が低下する。
　また、本発明者らが検討した結果、特許文献４に記載されたフマル酸ジエステル／（メタ）アクリレート共重合体は波長分散性が十分ではない。
　したがって、短波長領域でのコントラストや視野角特性を改善することが可能な、波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０が低いフィルム用の樹脂が求められる。
　本開示の目的は延伸フィルムとして使用した際、Ｒ４５０／Ｒ５５０が小さく、広い波長領域でのコントラストや視野角特性を向上することができる樹脂、該樹脂を用いたフィルム、及び該フィルムを少なくとも偏光子の片面側に配置した偏光板を提供することである。
　本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、残基単位としてフマル酸ジエステルと特定の（メタ）アクリル酸エステルを含む樹脂、それを用いたフィルムが、上記課題を解決することを見出し、本開示を完成するに至った。
　すなわち、本開示は、下記式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位と下記式（２）で示される（メタ）アクリル酸エステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基または炭素数３～１２の環状アルキル基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 （式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表す。Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３はそれぞれ独立して単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表す。炭素数１～１２のアルキレン基はエーテル基、エステル基、カーボネート基、及びアミド基からなる群より選択される少なくとも１種を含有してもよく、鎖中に分岐構造、脂環、及び芳香環からなる群より選択される少なくとも１種を含んでもよい。環Ａ、環Ｂ、環Ｃはそれぞれ独立して、炭素原子、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環または複素環を表す。Ｒ４～Ｒ１２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、シアノフェニル基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１１のアルキルカルボン酸基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～１０のアルキルアルコール基、または、炭素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環基もしくは複素環基の１種を表す。ａ、ｂはそれぞれ独立して０または１を表す。）
　本開示によれば、Ｒ４５０／Ｒ５５０が小さく、広い波長領域でのコントラストや視野角特性を向上することができるフィルム、特に光学補償フィルムとして有用な樹脂を提供することができる。
　以下に本開示の一態様であるフマル酸ジエステル系樹脂について、詳細に説明する。
　本開示は、前記式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位と前記式（２）で示される（メタ）アクリル酸エステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂（以下、「本開示の樹脂」という。）である。
　本開示の樹脂は前記式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位を含有する樹脂である。
　式（１）中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基または炭素数３～１２の環状アルキル基を表す。
　炭素数１～１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数３～１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられ、炭素数３～１２の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、式（２）で示される残基単位との重合性が良好であることから、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、エチル基、イソプロピル基がさらに好ましい。
　そして、具体的な式（１）で表されるフマル酸エステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノプロピル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノペンチル残基単位、フマル酸モノへキシル残基単位、フマル酸モノｎ－ブチル残基単位、フマル酸モノイソブチル残基単位、フマル酸モノｓｅｃ－ブチル残基単位、フマル酸モノｔｅｒｔ－ブチル残基単位、フマル酸モノシクロプロピル残基単位、フマル酸モノシクロブチル残基単位、フマル酸モノシクロヘキシル残基単位、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジプロピル残基単位、フマル酸ジペンチル残基単位、フマル酸ジヘキシル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジｎ－ブチル残基単位、フマル酸ジイソブチル残基単位、フマル酸ジｓｅｃ－ブチル残基単位、フマル酸ジｔｅｒｔ－ブチル残基単位、フマル酸ジシクロプロピル残基単位、フマル酸ジシクロブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、式（２）で示される残基単位との重合性が良好であることから、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジｔｅｒｔ－ブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位が好ましく、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位がさらに好ましい。
　本開示の樹脂は前記式（２）で示される（メタ）アクリル酸エステル残基単位を含有する樹脂である。ここで、（メタ）アクリル酸エステル残基単位とは、アクリル酸エステル残基単位またはメタアクリル酸エステル残基単位を意味する。
　式（２）中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表す。
　式（２）中、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３はそれぞれ独立して単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表す。ここで炭素数１～１２のアルキレン基はエーテル基、エステル基、カーボネート基、及びアミド基からなる群より選択される少なくとも１種を含有してもよく、鎖中に分岐構造、脂環、及び芳香環からなる群より選択される少なくとも１種を含んでもよい。上記アルキレン基はそれぞれの種を１つ含有してもよいし２つ以上含有してもよい。
　上記アルキレン基が含んでもよい脂環としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等が挙げられ、なかでもシクロヘキサン環が好ましい。また、上記アルキレン基が含んでもよい芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられ、なかでもベンゼン環が好ましい。
　本開示の樹脂を延伸して得られるフィルムの波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０をより小さくできる点から、上記アルキレン基の炭素数は２～８であることが好ましく、３～６であることがより好ましい。上記アルキレン基が、エステル基やカーボネート基、アミド基、脂環、芳香環を含有する場合、これらに含まれる炭素原子の数も上記炭素数に算入する。
　本開示の樹脂を延伸して得られるフィルムの波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０をより小さくできる点から、上記アルキレン基が官能基を含有する場合、エーテル基及び／又はエステル基を含有することが好ましく、エーテル基を含有することがより好ましい。
　Ｓ１は単結合であることが好ましく、Ｓ２、Ｓ３は、それぞれ独立して、上記アルキレン基であることが好ましい。
　例えば、エーテル基を含む上記アルキレン基としては、下記構造を挙げることができる。なお、本明細書において、例示される二価の基や化学構造（例えば、エステル結合やポリマー構造中の繰り返し単位）の結合方向は、化学的に許容される範囲で、特に制限されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　例えば、エステル基を含む上記アルキレン基としては、下記構造を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　例えば、カーボネート基を含む上記アルキレン基としては、下記構造を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　例えば、アミド基含む上記アルキレン基としては、下記構造を挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　例えば、エーテル基、エステル基、カーボネート基、及びアミド基からなる群より選択される２種を含有する上記アルキレン基としては、下記構造を例示することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　上記アルキレン基の具体的な好ましい例示としては、例えば下記構造が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　式（２）中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃはそれぞれ独立して、炭素原子、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環または複素環を表し、好ましくは窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含んでいてもよい３～２０個の炭素原子により構成される芳香環または複素環を表す。
　炭素原子、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環または複素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、テトラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、アズレン環、ペンタセン環、ピレン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、キノリン環、イソキノリン環、インドール環、フタルイミド環、テトラヒドロフタルイミド環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、トリアジン環、ピロール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサジアゾール環、ジベンゾオキサゾール環、ジベンゾチオフェン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ピペリジン環、ピペリドン環、ピペラジン環、チオモルホリン環、モルホリン環が挙げられる。なかでも、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ベンゾトリアゾール環、トリアジン環、テトラヒドロフタルイミド環が好ましく、ベンゼン環、ベンゾトリアゾール環がより好ましい。
　環Ａ、環Ｂ、及び環Ｃからなる群より選択される少なくとも１つの環は、下記構造（Ｉ）～（ＩＸ）で示される環のいずれかであることが好ましく、少なくとも環Ａまたは環Ｂのいずれかが下記構造（Ｉ）～（ＩＸ）で示される環のいずれかであることがさらに好ましい。また、環ＡはＲ４～Ｒ６のいずれか及びＳ１と、環ＢはＳ１及びＳ２と、環ＣはＳ２及びＳ３と、メタ位、パラ位、又はアンフィ位で結合していることが好ましく、パラ位で結合していることがさらに好ましい。これにより、本開示の樹脂を用いたフィルムの波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０をより小さくすることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、Ｒｌ、Ｒｍ、Ｒｎはそれぞれ独立して前記式（２）におけるＲ４～Ｒ１２と同意義である。環（Ｉ）～（ＩＸ）は前記式（２）におけるＳ１、Ｓ２、Ｓ３のいずれかと結合しており、環を構成するいずれかの炭素原子または窒素原子で結合する。）
　環Ａ、環Ｂ、及び環Ｃからなる群より選択される少なくとも１つの環は、下記構造（Ｉ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）で示される環のいずれかであることがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ｒｌ、Ｒｍ、Ｒｎはそれぞれ独立して前記式（２）におけるＲ４～Ｒ１２と同意義である）
　式（２）中、Ｒ４～Ｒ１２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、シアノフェニル基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１１のアルキルカルボン酸基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～１０のアルキルアルコール基、または、炭素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環基もしくは複素環基を表し、水素原子、ヒドロキシル基、シアノ基、または、炭素数１～１０のアルキル基が好ましい。
　炭素数１～１０のアルキル基としては、直鎖状、環状、分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げられる。なかでも、直鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
　炭素数１～１０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が挙げられる。
　炭素数２～１１のアルキルカルボン酸基は、上述の炭素数１～１０のアルキル基の水素原子の一部をカルボキシル基で置換した基であり、例えば、カルボキシメチル基（－ＣＨ２ＣＯＯＨ）、２－カルボキシエチル基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）、３－カルボキシプロピル基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）が挙げられる。
　炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基としては、上述の炭素数１～１０のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としてはフッ素化アルキル基が好ましく、特にパーフルオロアルキル基が好ましい。
　炭素数１～１０のアルキルアルコール基としては、上述の炭素数１～１０のアルキル基の水素原子の一部をヒドロキシル基で置換した基であり、例えば、ヒドロキシメチル基（－ＣＨ２ＯＨ）、２－ヒドロキシエチル基（－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）、３－ヒドロキシプロピル基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）が挙げられる。
　炭素原子、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環基または複素環基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラシル基、テトラシル基、フェナントリル基、フルオリル基、アズリル基、ペンタシル基、ピリル基、ピリジニル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、インドニル基、フタルイミドイル基、テトラヒドロフタルイミドイル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、トリアジニル基、ピロリル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジベンゾオキサゾリル基、ジベンゾチオフェニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジニル基、ピペリドニル基、ピペラジニル基、チオモルホリニル基、モルホリニル基（これらの環は環状基上の水素が任意の置換基で置換されていてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、シアノフェニル基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１１のアルキルカルボン酸基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～１０のアルキルアルコール基が挙げられる。）が挙げられる。
　式（２）中、ａ、ｂは、本開示の樹脂を用いたフィルムの波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０をより小さくすることができることから、ａが０または１であり、ｂが１であることが好ましく、ａが０であり、ｂが１であることがより好ましい。
　本開示の樹脂において、式（２）で示される残基単位は、下記式で示されるモノマーからなる群の１種に由来する構造であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　これらの中でも、式（２）で示される残基単位は、（２－１－１）から（２－１－２０）、（２－２－１）から（２－２－２０）、（２－２－３６）から（２－２－５５）、（２－３－１）から（２－３－２０）、（２－４－１）から（２－４－２０）、（２－４－３６）から（２－４－４０）、（２－５－１）から（２－５－２０）、（２－５－３６）から（２－５－４０）からなる群の１種に由来する構造であることが好ましく、（２－４－８）、（２－４－１０）、（２－４－３７）、（２－５－８）、（２－５－１０）、（２－５－３７）からなる群の１種に由来する構造であることが特に好ましい。
　本開示のフマル酸ジエステル系樹脂としては、例えば、以下の構造が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　本開示の樹脂の組成は式（１）で示される残基単位が５０モル％（ｍｏｌ％）以上９９モル％以下、式（２）で示される残基単位が１モル％以上５０モル％以下含むことが好ましく、式（１）で示される残基単位が７０モル％以上９９モル％以下、式（２）残基単位１モル％以上３０モル％以下含むことがさらに好ましく、式（１）で示される残基単位が８０モル％以上９９モル％以下、式（２）で示される残基単位が１モル％以上２０モル％以下含むことが特に好ましい。これにより、本開示の樹脂をフィルムとした際に波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０がより小さくなり、光学補償フィルムとして使用した際にディスプレイをより高コントラスト化させることができる。
　本開示の樹脂の重量平均分子量は、より良好な機械的強度を発現することから１５０，０００以上４５０，０００以下が好ましい。さらに良好な機械的強度を発現させるためには、２００，０００以上４５０，０００以下がさらに好ましく、２４０，０００以上４５０，０００以下が特に好ましい。これにより本開示の樹脂より得られるフィルムがより良好な機械的強度を発現する。ここで、重量平均分子量はゲル・パーミエーション・クロマトグラフにより測定した標準ポリスチレン換算で表すことができる。
　本開示の樹脂の製造方法としては、該樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。例えば、式（１）、式（２）で示される残基単位にかかる単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれかの方法を採用することができる。
　ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン等の有機過酸化物；２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－ブチロニトリル）、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル－２’－アゾビスイソブチレート、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。
　そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法を採用する場合において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
　また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には３０～１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
　以下に本開示の一態様であるフィルムについて、詳細に説明する。
　本開示の樹脂は、光学部材向けのフィルムとして好適に使用することができる。特に、フィルム状に成形し、一軸以上で延伸することにより優れた位相差を発現するため、光学補償フィルムとして使用することができ、所望の位相差を発現させることでディスプレイ等における光学補償フィルムとして使用することできる。本開示の樹脂を光学補償フィルムとして用いる場合、該光学補償フィルムが目的の位相差特性を発現することを特徴とするものである。すなわち、本開示の樹脂からなるフィルムは、延伸により波長分散性Ｒ４５０／Ｒ５５０を小さくすることができることから、位相差特性に優れる光学補償フィルムを得ることができる。
　本開示の樹脂を用いたフィルムの位相差特性は、光学部材の光学補償を目的とした位相差を有したものである。
　本開示の樹脂を用いたフィルムの膜厚は、８０μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がさらに好ましく、３０μｍ以下が特に好ましい。フィルムの膜厚が薄くなることでディスプレイ等の薄膜化を可能とする。
　本開示の樹脂を用いたフィルムの波長分散性は４５０ｎｍにおける位相差Ｒ４５０と５５０ｎｍにおける位相差Ｒ５５０の比Ｒ４５０／Ｒ５５０で表すことができ、Ｒ４５０／Ｒ５５０＜１．０１５の条件を満たすことが好ましく、上記範囲のとき、ディスプレイ等の光学部材のコントラストを良好に調節することができる。さらにディスプレイ等の光学部材のコントラストを向上させるためには、波長分散性が逆波長分散性を示すことからＲ４５０／Ｒ５５０＜１．００がさらに好ましく、Ｒ４５０／Ｒ５５０＜０．９０が特に好ましい。Ｒ４５０／Ｒ５５０の下限を規定すると、０．８０以上であり、Ｒ４５０／Ｒ５５０の範囲としては、０．８０以上１．０１５未満が好ましく、０．８０以上１．００未満がさらに好ましく、０．８０以上０．９０未満が特に好ましい。
　本開示の樹脂からなるフィルムはディスプレイ等の光学部材の面内の位相差を調節し光学補償できることから面内位相差（Ｒｅ）が１０～３００ｎｍであることが好ましい。さらにディスプレイ等のコントラストを良好に調節させるためには、５０～２８０ｎｍがさらに好ましく、７０～２００ｎｍが特に好ましい。また、面外位相差（Ｒｔｈ）においてもディスプレイ等の光学部材の面外位相差を調節し、光学補償できることから面外位相差（Ｒｔｈ）が－２００～５０ｎｍであることが好ましい。さらにディスプレイ等のコントラストを良好に調節させるためには、－１６０～３０ｎｍがさらに好ましく、－９０～０ｎｍが特に好ましい。
　ディスプレイ等を構成する部材は、正のＲｔｈを有している場合が多く、ディスプレイの構成全体としてのＮｚ係数が大きくなり、ＩＰＳモードの液晶ディスプレイ等ではカラーシフトが起こる等問題がある。本開示の樹脂からなるフィルムが負のＲｔｈを有する場合、ディスプレイの構成全体のＲｔｈを調節することができる。したがって、このような樹脂を光学補償フィルムとして用いた場合、ディスプレイの広視野角化を可能とする。
　ここで、フィルムの面内位相差（Ｒｅ）は下記式（ａ）で計算することできる。また、フィルムの面外位相差（Ｒｔｈ）は下記式（ｂ）で計算することができる。
　　　　Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ　　　　　　　　　　（ａ）
　　　　Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ｝×ｄ　　　（ｂ）
（式（ａ）及び式（ｂ）中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示す。ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示す。ｎｚはフィルム面外の屈折率を示す。ｄはフィルム厚み（ｎｍ）を示す。）
　ここで、進相軸方向とは、最も屈折率の小さい方向を表し、遅相軸方向とは、最も屈折率の大きい方向を表す。
　本開示の樹脂からなるフィルムはディスプレイ等の光学部材の光学補償フィルムとして使用された際に広視野角化を可能とすることからＮｚ係数は－５．０以上０．９以下が好ましい。さらに広視野角化させるためには、－１．０以上０．７以下がさらに好ましく、－０．５以上０．５以下が特に好ましい。
　ここで、フィルムのＮｚ係数（Ｎｚ）は下記式（ｃ）で計算することができる。
　　　　Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ）　　　（ｃ）
（式（ｃ）中、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは式（ａ）及び（ｂ）と同義である）
　本開示の樹脂からなるフィルムは、波長分散特性を向上させるために正の複屈折を示す波長分散調整剤を含有していても良い。
　正の複屈折を示す波長分散調整剤とは、正の複屈折を有し、波長分散特性が大きい添加剤である。負の複屈折を持つ樹脂の波長分散を、正の複屈折を有する波長分散制御剤を用いて調整することが可能である。正の波長分散特性が大きく、波長分散調整機能が優れることから、芳香族化合物であることが好ましい。芳香族化合物としては、例えば、ナフタレン、アントラセン、紫外線吸収剤、液晶材料等が挙げられ、特に応力配向しやすく、正の複屈折が大きいことから、紫外線吸収剤又は液晶材料であることが好ましい。
　紫外線吸収剤の好ましい例としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物が挙げられる。紫外線吸収剤としては、特に正の波長分散特性が大きく、波長分散調整機能が優れることから、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物の少なくともいずれかが好ましい。
　液晶材料の好ましい例としては、特に応力配向しやすく、正の複屈折が大きいことから、ネマチック液晶が挙げられる。ネマチック液晶の好ましい例としては、ビフェニル系化合物、テルフェニル系化合物等が挙げられる。液晶材料としては、特に正の波長分散特性が大きく、波長分散調整機能が優れることから、シアノビフェニル系化合物又はシアノテルフェニル系化合物の少なくともいずれかが好ましい。
　正の複屈折を示す波長分散調整剤としては、特にベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ビフェニル系化合物、テルフェニル系化合物からなる群の少なくとも１種であることが好ましい。
　正の複屈折を示す波長分散調整剤としては、例えば、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２，２’－メチレンビス［６－（ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ｔ－オクチルフェノール］、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール等のベンゾトリアゾール系化合物；２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４，４′－メトキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′，４，４′－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－エトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－プロポキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－６－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，６－ジフェニル－４－（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－６－（２－ヒドロキシ－４－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］フェニル）－１，３，５－トリアジン等のトリアジン系化合物；２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、２，４－ジ－ｔ－ペンチルフェニル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系化合物；４－シアノ－４’－メチルビフェニル、４－シアノ－４’－エチルビフェニル４－シアノ－４’－プロピルビフェニル、４－シアノ－４’－ブチルビフェニル、４－シアノ－４’－ペンチルビフェニル、４－シアノ－４’－ヘキシルビフェニル、４－シアノ－４’－ヘプチルビフェニル、４－シアノ－４’－ｎ－オクチルビフェニル、４－シアノ－４’－ノニルビフェニル、４－シアノ－４’－デシルビフェニル、４－シアノ－４’－ウンデシルビフェニル、４－シアノ－４’－ドデシルビフェニル、４－シアノ－４’－メトキシビフェニル、４－シアノ－４’－エトキシビフェニル、４－シアノ－４’－プロポキシビフェニル、４－シアノ－４’－ブトキシビフェニル、４－シアノ－４’－ペンチルオキシビフェニル、４－シアノ－４’－ヘキシルオキシビフェニル、４－シアノ－４’－ヘプチルオキシビフェニル、４－シアノ－４’－ｎ－オクチルオキシビフェニル、４－シアノ－４’－ノニルオキシビフェニル、４－シアノ－４’－デシルオキシビフェニル、４－シアノ－４’－ウンデシルオキシビフェニル、４－シアノ－４’－ドデシルオキシビフェニル、４－４’－ビス（ｔｒａｎｓ－４－プロピルシクロヘキシル）ビフェニル、ｔｒａｎｓ－４－シアノ－４’－（４－ペンチルシクロヘキシル）ビフェニル等のビフェニル系化合物；４－シアノ－４’’－メチル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－エチル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－プロピル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ブチル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ペンチル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ヘキシル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ヘプチル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ｎ－オクチル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ノニル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－デシル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ウンデシル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ドデシル－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－メトキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－エトキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－プロポキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ブトキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ペンチルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ヘキシルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ヘプチルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ｎ－オクチルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ノニルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－デシルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ウンデシルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－シアノ－４’’－ドデシルオキシ－ｐ－テルフェニル、４－アミノ－ｐ－テルフェニル、４，４’’－ジアミノ－ｐ－テルフェニル、４－ニトロ－ｐ－テルフェニル、４，４’’－ジニトロ－ｐ－テルフェニル、４’’－エチル－２’－フルオロ－４－プロピル－ｐ－テルフェニル、２’－フルオロ－４－ペンチル－４’’－プロピル－ｐ－テルフェニル２’，３，４－トリフルオロ－４’’－プロピル－ｐ－テルフェニル、２’，３，４，５－テトラフルオロ－４’’－プロピル－ｐ－テルフェニル等のテルフェニル系化合物が挙げられる。
　正の複屈折を示す波長分散調整剤は、樹脂との相溶性、面内位相差及び波長分散調整の観点から、分子量が１５０～５，０００であることが好ましく、２５０～２，０００であることがさらに好ましく、２８０～１，０００であることが特に好ましい。ここで分子量とは、正の複屈折を示す波長分散調整剤が化学構造から分子量を計算できる低分子化合物であればその分子量を示し、繰り返し単位を有する高分子化合物であれば標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を示す。
　本開示の光学フィルムに含まれる組成物における正の複屈折を示す波長分散調整剤の割合は、機械的性質向上、樹脂との相溶性、面内位相差及び波長分散調整の観点から、０．０１～１９質量％が好ましく、さらに好ましくは２～１０質量％であり、特に好ましくは３～８質量％である。
　本開示の樹脂からなるフィルムは、光学フィルムとする際の熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤等が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
　本開示の樹脂からなるフィルムは、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、光学フィルムとする際の機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、位相差調整等の目的で添加してもよく、可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。また、アクリル系ポリマーなども用いられる。
　リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることが出来る。
　カルボン酸エステルとしては、例えば、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリセロールエステル、アルキルフタリルアルキルグリコレート等を挙げることができる。フタル酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等が挙げられ、またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等を挙げることが出来る。また、脂肪酸エステルとしては、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル等が挙げられ、グリセロールエステルとしては、例えば、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等が挙げられ、アルキルフタリルアルキルグリコレートとしては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来る。これら可塑剤は単独でもよく、２種以上混合して使用してもよい。
　本開示の樹脂からなるフィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。
　本開示の樹脂からなるフィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハードコート層やガスバリア層を積層することも可能である。
　本開示の樹脂からなるフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、光学補償フィルムは、本開示の樹脂からなるフィルムを一軸以上の方向に延伸して得られたフィルムであることが好ましい。
　本開示の樹脂より得られるフィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶融製膜法、溶液キャスト法等の方法が挙げられる。
　溶融製膜する方法は、具体的にはＴダイを用いた溶融押出法、カレンダ－成形法、熱プレス法、共押出法、共溶融法、多層押出、インフレ－ション成形法等があり、特に限定されないが、中でも後の延伸処理のし易さから、Ｔダイを用いた溶融押出法が好ましい。
　溶融製膜法でフィルムを成形する場合、よりフィルム厚みを均一にするのに好適で、かつ、よりフィルムの欠陥や着色を防ぐのに好適な成形方法となるため、成形温度は好ましくは２００～２６５℃、さらに好ましくは２１０～２６０℃、特に好ましくは２２０～２５８℃である。ここで、該成形温度とは、溶融製膜法における成形時の温度であって、通常、溶融樹脂を押出すダイス出口の温度を測定した値である。
　溶液キャスト法は、本開示の樹脂を溶媒に溶解した溶液（以下、「ド－プ」という。）を支持基盤上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際、ド－プを支持基盤上に流延する方法としては、Ｔダイ法、ドクタ－ブレ－ド法、バ－コ－タ－法、ロ－ルコ－タ－法、リップコ－タ－法等が用いられる。特に工業的にはダイからド－プをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレ－ト等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ド－プの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０～２００００ｃＰｓが好ましく、１００～１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。
　本開示の樹脂からなるフィルムは、前記製膜法により得られた膜をさらに延伸製膜することが好ましく、一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが特に好ましい。
　延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０～２００℃、さらに好ましくは９０～１８０℃である。一軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、１．０５～３．５倍が好ましく、１．１～３．０倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、長さ方向には１．０５～３．５倍が好ましく、１．１～３．０倍がさらに好ましく、幅方向には１．０～１．２倍が好ましく、１．０～１．１倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。
　本開示の樹脂からなるフィルムは、フィルムを少なくとも偏光子の片面側に配置した偏光板とすることができる。ここで、偏光板の構成としては、本開示の樹脂からなるフィルム／偏光子、偏光子／本開示の樹脂からなるフィルム、本開示の樹脂からなるフィルム／偏光子／本開示の樹脂からなるフィルム、が挙げられる。
　以下、本開示を実施例により説明するが、本開示はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
　＜モノマー及び重合体の解析＞
　核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ－ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。また、１Ｈ－ＮＭＲスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、元素分析装置（Ｐｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ製、商品名２４００ＩＩ）を用い、ＣＨＮ元素分析により求めた。
　＜平均分子量の測定＞
　ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名ＨＬＣ８３２０ＧＰＣ（カラムＧＭＨＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
　＜位相差特性の測定＞
　試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いてフィルムの面内位相差Ｒｅ、面外位相差Ｒｔｈ、Ｎｚ係数を測定した。
　＜波長分散特性の測定＞
　試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒ４５０と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒ５５０の比としてフィルムの波長分散特性を測定した。
　合成例１（アクリレートＡの合成）
　３００ｍＬの三口フラスコにビフェニル－２－カルボン酸（東京化成工業社製）４．１２ｇ（２０．８ｍｍｏｌ）とジアミノピリジン（東京化成工業社製）０．２５４ｇ（２．０８ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（富士フイルム和光純薬社製）５０ｍＬに窒素雰囲気下０℃にて溶解させた。これに１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（東京化成工業社製）４．３９ｇ（２２．９ｍｍｏｌ）加え、３０分撹拌した。そこへアクリル酸－４－ヒドロキシブチル（東京化成工業社製）３．００ｇを加え室温に戻し一晩反応させた。水を加えて反応を停止させ、水層をジクロロメタンで３回、有機層を飽和食塩水で３回洗浄し有機層を取り出し無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、溶媒を減圧留去した。得られたオイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、溶媒を減圧留去して、単黄色液体として４－（アクロイルオキシ）ブチル［１，１‘－ビフェニル］－２－カルボキシレート（以下、「アクリレートＡ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．８２－７．８０（ｍ，２Ｈ）、７．５３－７．４９（ｍ，１Ｈ）、７．４２－７．２８（ｍ，６Ｈ）、６．１２－６．０５（ｍ，１Ｈ）、６．３８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、５．８１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、４．０４（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ）、３．９９（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ）、１．４５－１．３０（ｍ，４Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
　合成例２（アクリレートＢの合成）
　２００ｍＬ三口フラスコにアクリル酸－４ヒドロキシブチル４．９９ｇ（３４．６ｍｍｏｌ）、脱水ジクロロメタン３５ｍＬ、トリエチルアミン（富士フイルム和光純薬社製）７．０ｇ（６９ｍｍｏｌ）、ジアミノピリジン０．８５ｇ（６．９ｍｍｏｌ）（富士フイルム和光純薬社製，以下、「ＤＭＡＰ」という。）、ｐ－トルエンスルホニルクロリド（東京化成工業社製）７．９ｇ（４１．５ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて溶解させた。
　３時間反応し、２Ｎ塩酸１００ｍＬを加えて反応を停止した。
　反応液を分液漏斗に移し、クロロホルムで３回抽出し、有機層を蒸留水で１回洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層をエバポレーターで濃縮し、真空ポンプを用いて室温で真空乾燥し、４－トシルオキシブチルアクリレート１０．７ｇ（以下、「アクリレートＢ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．８０－７．７８（ｍ，２Ｈ）、７．３６－７．３４（ｍ，２Ｈ）、６．４０－６．３５（ｍ，１Ｈ）、６．１２－６．０５（ｍ，１Ｈ）、５．８４－５．８１（ｍ，１Ｈ）、４．１３－４．０５（ｍ，４Ｈ）、２．４５（ｓ，３Ｈ）、１．７５－１．７０（ｍ，４Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
　合成例３（アクリレートＣの合成）
　５００ｍＬ三口フラスコに６－ブロモ－１－ヘキサノール（東京化成工業社製）２５．０ｇ（１３８ｍｍｏｌ）トリエチルアミン１６．１ｇ（１５９ｍｍｏｌ）、脱水ジクロロメタン２００ｍＬを加え、０℃にて溶解させた。
　アクリル酸クロリド（東京化成工業社製）９．６ｇ（１０６ｍｍｏｌ）の脱水ジクロロメタン溶液５０ｍＬを滴下させながら加えた。室温まで昇温させ、３時間撹拌した。２Ｎ塩酸２００ｍＬを加え、反応を停止した。反応物をジクロロメタンで抽出し、有機層をイオン交換水で３回、ブラインで３回洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥した。
　有機層をエバポレーターで濃縮し、６－ブロモへキシルアクリレート２４．５ｇ（以下、「アクリレートＣ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ６．３９（ｄ，Ｊ＝１８．４Ｈｚ，１Ｈ）、６．１５－６．０８（ｍ，１Ｈ）、５．８２（ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，１Ｈ）、１．９０－１．３７（ｍ，１２Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
　合成例４（アクリレートＤの合成）
　３００ｍＬ三口フラスコに４－フェニルフェノール（東京化成工業社製）４．４ｇ（２６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（富士フイルム和光純薬社製）７．２ｇ（５２．１ｍｍｏｌ）、合成例２で得られたアクリレートＢ１０．１ｇ（３３．９ｍｍｏｌ）、脱水ＤＭＦ（富士フイルム和光純薬社製）５０ｍＬを加え、５０℃にて溶解させた。５時間反応し、イオン交換水５０ｍＬを加えて反応を停止した。反応物を酢酸エチルで抽出し、有機層をイオン交換水で３回、ブラインで３回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。
　有機層をエバポレーターで濃縮し、中圧カラムクロマトグラフィー（クロロホルム／ヘキサン＝８０Ｖｏｌ％～２０Ｖｏｌ％）（シリカゲル)で精製して、４－（［１，１‘－ビフェニル］－４－イルオキシ）ブチルアクリレート（以下、「アクリレートＤ」という。）５．７９ｇを得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．５５－７．５０（ｍ，４Ｈ）、７．４３－７．３９（ｍ，２Ｈ）、７．３１－７．２５（ｍ，１Ｈ）、６．９８－６．９４（ｍ，２Ｈ）、６．４１（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ）、６．１６－６．０９（ｍ，１Ｈ）、５．８２（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、４．２６－４．２４（ｍ，２Ｈ）、４．０５－４．０２（ｍ，２Ｈ）、１．９５－１．８５（ｍ，４Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　合成例５（アクリレートＥの合成）
　３００ｍＬの三口フラスコに４－フェニルフェノール６．７ｇ（３９．２ｍｍｏｌ）、合成例３で得られたアクリレートＣ１２．０ｇ（５１．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０．９ｇ（７８．５ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（富士フイルム和光純薬社製）０．０６５ｇ（０．４ｍｍｏｌ）、脱水ＤＭＦ５０ｍＬを加え、１２０℃にて溶解させた。３時間撹拌後、室温まで冷却し、イオン交換水１００ｍＬを加えて反応を停止した。
　反応物をクロロホルムで抽出し、有機層をイオン交換水で３回、ブラインで３回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層をエバポレーターで濃縮し、中圧カラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／ヘキサン＝８０Ｖｏｌ％／２０Ｖｏｌ％）（シリカゲル）で精製して、６－（［１，１‘－ビフェニル］－４－イルオキシ）へキシルアクリレート６．０２ｇ（以下、「アクリレートＥ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．５６－７．４９（ｍ，４Ｈ）、７．４２－７．３８（ｍ，２Ｈ）、７．３１－７．２７（ｍ，１Ｈ）、６．９７－６．９４（ｍ，２Ｈ）、６．４０（ｄ，Ｊ＝２０．０Ｈｚ，１Ｈ）、６．１５－６．０８（ｍ，１Ｈ）、５．８１（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ）、４．１９－４．１６（ｍ，２Ｈ）、４．０１－３．９８（ｍ，２Ｈ）、１．８５－１．７８（ｍ，２Ｈ）、１．７５－１．６８（ｍ，２Ｈ）、１．５６－１．４２（ｍ，４Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
　合成例６（アクリレートＦの合成）
　３００ｍＬの三口フラスコにアクリル酸－２－サクシノイルオキシエチル（共栄社化学社製）１８．０ｇ（８３．２ｍｍｏｌ）、４－フェニルフェノール１１．８ｇ（６９．３ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ塩酸塩１３．３ｇ（６９．３ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ０．８５ｇ（６．９ｍｍｏｌ）、脱水ジクロロメタン５０ｍＬを加え、０℃にて溶解させた。室温まで戻し、３時間撹拌後、イオン交換水２００ｍＬを加え反応を停止した。
　反応物をジクロロメタンで抽出し、有機層をイオン交換水で３回、ブラインで３回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層をエバポレーターで濃縮し、中圧カラムクロマトグラフィー（クロロホルム＝１００Ｖｏｌ％）（シリカゲル）で精製して、[１，１‘－ビフェニル]－４－イル（２－（アクリロイルオキシ）エチル）サクシネート１９．８ｇ（以下、「アクリレートＦ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．５９－７．５２（ｍ，４Ｈ）、７．４６－７．３９（ｍ，２Ｈ）、７．３７－７．３２（ｍ，１Ｈ）、７．１８－７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．４３（ｄ，Ｊ＝２０．０Ｈｚ，１Ｈ）、６．１５－６．０９（ｍ，１Ｈ）、５．８４（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ）、４．４２－４．３４（ｍ，４Ｈ）、２．９３－２．８９（ｍ，２Ｈ）、２．８０－２．７７（ｍ，２Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
　合成例７（アクリレートＧの合成）
　３００ｍＬの三口フラスコにアクリル酸－２カルボキシエチル（東京化成工業社製）６．００ｇ（４１．６ｍｍｏｌ）とジアミノピリジン０．５１ｇ（４．２ｍｍｏｌ）（富士フイルム和光純薬社製，以下、「ＤＭＡＰ」という。）を脱水ジクロロメタン１５０ｍＬに窒素雰囲気下０℃にて溶解させた。これにＥＤＣ塩酸塩（東京化成工業社製）８．７８ｇ（４５．８ｍｍｏｌ）加え、３０分撹拌した。２－（２－ベンゾトリアゾリル）－ｐ－クレゾール（東京化成工業社製）６．９８ｇ（３１．０ｍｍｏｌ）を加え室温に戻し一晩反応させた。水を加えて反応を停止させ有機層を抽出し、水／ジクロロメタンにて分液操作を３回、飽和食塩水／ジクロロメタンにて分液操作を３回実施し、硫酸ナトリウムにて水分を除去した。有機層を減圧留去し、単黄色液体を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢エチ）で精製し３－（２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－４－メチルフェノキシ）－３－オキソプロピルアクリレート（以下、「アクリレートＧ」という。）５．１ｇを得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．９９－７．９８（ｍ，１Ｈ）、７．９３－７．９１（ｍ，２Ｈ）、７．４２－７．４０（ｍ，２Ｈ）、７．３２－７．２８（ｍ，１Ｈ）、７．２０－７．１８（ｍ，１Ｈ）、６．３７（ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，１Ｈ）、６．０８－６．０１（ｍ，１Ｈ）５．７９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、４．１４－４．０８（ｍ，４Ｈ）、２．４１（ｓ，３Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
　合成例８（アクリレートＨの合成）
　３００ｍＬの三口フラスコに２－（２－ベンゾトリアゾリル）－ｐ－クレゾール７．５５ｇ（３３．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９．２６ｇ（６７．０ｍｍｏｌ）、合成例２で得られたアクリレートＢ１５．０ｇ（５０．３ｍｍｏｌ）、脱水ＤＭＦ１００ｍＬを加え、５０℃にて溶解させた。５時間撹拌後、室温まで冷却し、イオン交換水５０ｍＬを加え反応を停止した。
　反応物をクロロホルムで抽出し、有機層をイオン交換水で３回、ブラインで３回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。
　有機層をエバポレーターで濃縮し、中圧カラムクロマトグラフィー（クロロホルム／ヘキサン＝８０Ｖｏｌ％／２０Ｖｏｌ％）（シリカゲル）で精製して、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾル－２－イル）－４－メチルフェノール１０．７ｇ（以下、「アクリレートＨ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．９６－７．９４（ｍ，２Ｈ）、７．４９－７．４９（ｍ，１Ｈ）、７．４３－７．４１（ｍ，２Ｈ）、７．２８－７．２５（ｍ，１Ｈ）、７．０３－７．０１（ｍ，１Ｈ）、６．３２（ｄ，Ｊ＝１８．８Ｈｚ，１Ｈ）、６．０７－６．００（ｍ，１Ｈ）、５．７７（ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，１Ｈ）、４．０９－４．０３（ｍ，４Ｈ）、２．３７（ｓ、３Ｈ）、１．７７－１．６７（ｍ，４Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
　合成例９（アクリレートＩの合成）
　３００ｍＬの三口フラスコに４－シアノ－４‘－ヒドロキシビフェニル（東京化成工業社製）５．０３ｇ（２５．８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム７．１３ｇ（５１．６ｍｍｏｌ）、合成例２で得られたアクリレートＢ１０．０ｇ（３３．５ｍｍｏｌ）、脱水ＤＭＦ５０ｍＬを加え、５０℃にて溶解させた。５時間撹拌後、室温まで冷却し、イオン交換水５０ｍＬを加え反応を停止した。
　反応物をクロロホルムで抽出し、有機層をイオン交換水で３回、ブラインで３回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。
　有機層をエバポレーターで濃縮し、中圧カラムクロマトグラフィー（クロロホルム＝１００Ｖｏｌ％）（シリカゲル）で精製して、４－（（４‘－シアノ－［１，１’－ビフェニル］－４－イル）オキシ）ブチルアクリレート２．０１ｇ（以下、「アクリレートＩ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．７０－７．６１（ｍ，４Ｈ）、７．５５－７．４６（ｍ，２Ｈ）、７．００－６．９８（ｍ，２Ｈ）、６．４３－６．３５（ｍ，１Ｈ）、６．１７－６．０５（ｍ，１Ｈ）、５．８５－５．８１（ｍ，１Ｈ）、４．２７－４．２４（ｍ，２Ｈ）、４，１５－４．０４（ｍ，２Ｈ）、１．９２－１．９０（ｍ，４Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
　合成例１０（アクリレートＪの合成）
　５００ｍＬ三口フラスコに２－（アクリロイルオキシ）エチル（２－ヒドロキシエチル）フタレート２０．０ｇ（共栄社化学社製）（６４．９ｍｍｏｌ）、脱水ジクロロメタン２００ｍＬ、トリエチルアミン１３．１ｇ（１３０．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ１．５９ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）、ｐ－トルエンスルホニルクロリド１４．８ｇ（７７．８ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて溶解させた。
　３時間反応し、２Ｎ塩酸２００ｍＬを加えて反応を停止した。
　反応液を分液漏斗に移し、クロロホルムで３回抽出し、有機層を蒸留水で１回洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層をエバポレーターで濃縮し、真空ポンプを用いて室温で真空乾燥し、２－（アクリロイルオキシ）エチル（２－（トシルオキシ）エチル）　フタレート１０．７ｇ（以下、「アクリレートＪ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．９２－７．６４（ｍ，４Ｈ）、７．５９－７．５３（ｍ，２Ｈ）、７．４１－７．２５（ｍ，２Ｈ）、６．４７－６．３４（ｍ，１Ｈ）、６．１８－６．００（ｍ，１Ｈ）、５．８８－５．８２（ｍ，１Ｈ）、４．６１－４．１８（ｍ，８Ｈ）、２．３４（ｓ，３Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
　合成例１１（アクリレートＫの合成）
　３００ｍＬの三口フラスコに４－フェニルフェノール２．８３ｇ（１６．６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４．６０ｇ（３３．３ｍｍｏｌ）、合成例１０で得られたアクリレートＪ１０．０ｇ（２１．６ｍｍｏｌ）、脱水ＤＭＦ５０ｍＬを加え、５０℃にて溶解させた。５時間撹拌後、室温まで冷却し、イオン交換水５０ｍＬを加え反応を停止した。
　反応物をクロロホルムで抽出し、有機層をイオン交換水で３回、ブラインで３回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。
　有機層をエバポレーターで濃縮し、中圧カラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン＝１００Ｖｏｌ％）（シリカゲル）で精製して、２－（［１，１‘－ビフェニル］－４－イルオキシ）エチル（２－（アクリロイルオキシ）エチル）フタレート０．８９ｇ（以下、「アクリレートＫ」という。）を得た。（１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．７８－７．２５（ｍ，１１Ｈ）、７．０５－６．９３（ｍ，２Ｈ）、６．４７－６．３９（ｍ，１Ｈ）、６．２０－６．００（ｍ，１Ｈ）、５．８７－５．８１（ｍ，１Ｈ）、４．６８－４．２４（ｍ，８Ｈ））
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
　実施例１
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル３８．００ｇ（１９０ｍｍｏｌ）、２－（２－ビフェニルオキシ）エチルアクリレート６．７８ｇ（２１．０ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ（日本油脂社製）０．４２ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１」という。）を得た。得られた樹脂１の重量平均分子量は２９０，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／２－（２－ビフェニルオキシ）エチルアクリレート残基単位＝９３／７（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
　実施例２
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４０．００ｇ（２００ｍｍｏｌ）、合成例１で得られたアクリレートＡ４．０９ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．４６ｇ（１．８５ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂２」という）を得た。得られた樹脂２の重量平均分子量は２０３，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂２の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＡ残基単位＝９３／７（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
　実施例３
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル２０．０２ｇ（１００ｍｍｏｌ）、２－［２－ヒドロキシ－５－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（大塚化学社製）１．６７ｇ（５．２ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．２２ｇ（０．８９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂３」という）を得た。得られた樹脂３の重量平均分子量は２４３，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂３の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／２－［２－ヒドロキシ－５－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール残基単位＝９７／３（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
　実施例４
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル９．１２ｇ（４５．５ｍｍｏｌ）、アクリレートＤ０．７２ｇ（２．４ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．１０６ｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂４」という）を得た。得られた樹脂４の重量平均分子量は２９９，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂４の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＤ残基単位＝９５／５（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
　実施例５
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル６．４５ｇ（３２．２ｍｍｏｌ）、合成例５で得られたアクリレートＥ０．５５ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０７０ｇ（０．２８ｍｍｏｌ）、トルエン１．２４ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂５」という）を得た。得られた樹脂５の重量平均分子量は１５３，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂５の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＥ残基単位＝９３／７（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
　実施例６
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４．１３ｇ（２０．８ｍｍｏｌ）、合成例６で得られたアクリレートＦ０．４２ｇ（１．１ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０３８ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂６」という）を得た。得られた樹脂６の重量平均分子量は，３６７，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂６の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＦ残基単位＝９４／６（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
　実施例７
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル３．７５ｇ（１８．７ｍｍｏｌ）、合成例６で得られたアクリレートＦ０．６０ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０４１ｇ（０．１７ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂７」という）を得た。得られた樹脂７の重量平均分子量は，３３０，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂７の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＦ残基単位＝９１／９（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
　実施例８
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４．１３ｇ（２０．８ｍｍｏｌ）、合成例７で得られたアクリレートＧ０．４２ｇ（１．１ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０３８ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂８」という）を得た。得られた樹脂８の重量平均分子量は，３６７，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂８の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＧ残基単位＝９４／６（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
　実施例９
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル６．８７ｇ（３４．３ｍｍｏｌ）、合成例８で得られたアクリレートＨ０．３７ｇ（１．１ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０６８ｇ（０．２７ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂９」という）を得た。得られた樹脂９の重量平均分子量は，３９６，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂９の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＨ残基単位＝９７／３（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
　実施例１０
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１０．２１ｇ（５１．０ｍｍｏｌ）、合成例９で得られたアクリレートＩ０．５１ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．１１ｇ（０．４４ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１０」という）を得た。得られた樹脂１０の重量平均分子量は，２４７，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１０の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＩ残基単位＝９７／３（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
　実施例１１
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル９．８３ｇ（４９．１ｍｍｏｌ）、合成例９で得られたアクリレートＩ０．８３ｇ（２．６ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．１１ｇ（０．４４ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン９０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１１」という）を得た。得られた樹脂１１の重量平均分子量は，２２１，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１１の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＩ残基単位＝９５／５（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
　実施例１２
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１．５５ｇ（７．６ｍｍｏｌ）、４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル（東京化成工業社製）０．０８３ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０１６ｇ（０．０６５ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１２」という）を得た。得られた樹脂１２の重量平均分子量は，３６５，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１２の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル残基単位＝９７／３（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
　実施例１３
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１．１１ｇ（５．５ｍｍｏｌ）、合成例１１で得られたアクリレートＫ０．２２ｇ（０．５ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０１５ｇ（０．０７２ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１３」という）を得た。得られた樹脂１３の重量平均分子量は，１７０，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１３の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリレートＫ残基単位＝９３／７（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
　実施例１４
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル６．９９ｇ（３４．９ｍｍｏｌ）、フマル酸ジエチル０．３３ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル０．４３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０６８ｇ（０．２７ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン１００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１４」という）を得た。得られた樹脂１４の重量平均分子量は，２９７，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１４の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ジエチル残基単位／４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル残基単位＝９１／６／３（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　実施例１５
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル６．９９ｇ（３４．９ｍｍｏｌ）、フマル酸ジエチル０．７０ｇ（４．１ｍｍｏｌ）、４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル０．４９ｇ（１．４ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０８４ｇ（０．３４ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン１００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１５」という）を得た。得られた樹脂１５の重量平均分子量は，２７１，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１５の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ジエチル残基単位／４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル残基単位＝８６／１０／４（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
　実施例１６
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル７．０１ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）、フマル酸ジエチル１．１０ｇ（６．４ｍｍｏｌ）、４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル０．５４ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ０．０７１ｇ（０．２９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン１００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を０．５Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより樹脂（以下「樹脂１６」という）を得た。得られた樹脂１６の重量平均分子量は，２４５，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂１６の組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ジエチル残基単位／４－［（６－アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］－４‘－シアノビフェニル残基単位＝８２／１４／４（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
　実施例１７
　実施例１で得られた樹脂１　４．０ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１６．０ｇに溶解させて２０質量％の樹脂溶液を得た。その樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度８０℃、４分の後１３０℃、４分にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１１８℃で１．２倍に一軸延伸した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000077
　実施例１８
　樹脂１に代えて、実施例２で得られた樹脂２を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１０６℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例１９
　樹脂１に代えて、実施例３で得られた樹脂３を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１５１℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２０
　樹脂１に代えて、実施例４で得られた樹脂４を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１４０℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２１
　樹脂１に代えて、実施例５で得られた樹脂５を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１０１℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２２
　樹脂１に代えて、実施例６で得られた樹脂６を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１１７℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２３
　樹脂１に代えて、実施例７で得られた樹脂７を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１１７℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２４
　樹脂１に代えて、実施例８で得られた樹脂８を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１６０℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２５
　樹脂１に代えて、実施例９で得られた樹脂９を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１４０℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２６
　樹脂１に代えて、実施例１０で得られた樹脂１０を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１５９℃、延伸倍率を１．４倍に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２７
　樹脂１に代えて、実施例１１で得られた樹脂１１を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１４０℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２８
　樹脂１に代えて、実施例１２で得られた樹脂１２を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１４０℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例２９
　樹脂１に代えて、実施例１３で得られた樹脂１３を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１４０℃に変更したこと以外は実施例１４と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例３０
　樹脂１に代えて、実施例１２で得られた樹脂１２を用い、さらに添加剤として２，２’－メチレンビス［６－（ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ｔ－オクチルフェノール］を、樹脂との合計１００質量％に対して４質量％添加して樹脂溶液を調製し、延伸温度を１１７℃に変更したこと以外は実施例１７と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例３１
　樹脂１に代えて、実施例１２で得られた樹脂１２を用い、さらに添加剤として２，４－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－６－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジンを、樹脂との合計１００質量％に対して３質量％添加して樹脂溶液を調製し、延伸温度を１１５℃に変更したこと以外は実施例１７と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例３２
　樹脂１に代えて、実施例１４で得られた樹脂１４を用い、ＴＨＦに代えて、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）を用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１３８℃に変更したこと以外は実施例１７と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例３３
　樹脂１に代えて、実施例１５で得られた樹脂１５を用い、ＴＨＦに代えて、ＭＥＫを用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１２４℃に変更したこと以外は実施例１７と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　実施例３４
　樹脂１に代えて、実施例１６で得られた樹脂１６を用い、ＴＨＦに代えて、ＭＥＫを用いて樹脂溶液を調製し、延伸温度を１１６℃に変更したこと以外は実施例１７と同様にしてフィルムを調製し、得られたフィルムの位相差特性を測定した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。得られたフィルムは比較例１～３と比べ波長分散性が小さくなった。
　比較例１
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４０．０２ｇ（２００ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ（日本油脂社製）０．４１ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することによりフマル酸ジイソプロピルホモポリマーを得た。得られたフマル酸ジイソプロピルホモポリマーの重量平均分子量は２５７，０００であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 　得られたフマル酸ジイソプロピルホモポリマー４．０ｇをテトラヒドロフラン１６．０ｇに溶解させて２０重量％の樹脂溶液を得た。その樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度８０℃、４分の後１３０℃、４分にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．２倍に一軸延伸した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。
　比較例２
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４０．０１ｇ（２００ｍｍｏｌ）、ｎ－オクチルアクリレート（東京化成工業社製）２．１１ｇ（１１．５ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ（日本油脂社製）０．４５ｇ（１．８１ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより共重合体を得た。得られた共重合体の重量平均分子量は３５１，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／ｎ－オクチルアクリレート残基単位＝９６／４（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 　得られた樹脂４．０ｇをテトラヒドロフラン１６．０ｇに溶解させて２０重量％の樹脂溶液を得た。その樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度８０℃、４分の後１３０℃、４分にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．３倍に一軸延伸した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。
　比較例３
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル３９．０４ｇ（１９５ｍｍｏｌ）、ｎ－オクチルアクリレート３．８９ｇ（２１．１ｍｍｏｌ）、パーブチルＰＶ（日本油脂社製）０．４３ｇ（１．７４ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させたのち、８０℃で１０時間真空乾燥することにより共重合体Ｂを得た。得られた共重合体の重量平均分子量は３７１，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／ｎ－オクチルアクリレート残基単位＝９１／９（ｍｏｌ％）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 　得られた樹脂４．０ｇをテトラヒドロフラン１６．０ｇに溶解させて２０重量％の樹脂溶液を得た。その樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度８０℃、４分の後１３０℃、４分にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１０５℃で１．３倍に一軸延伸した。得られたフィルムの位相差特性を表１に示す。

 

Claims (11)

  1. 　下記式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位と下記式（２）で示される（メタ）アクリル酸エステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基または炭素数３～１２の環状アルキル基を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表す。Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３はそれぞれ独立して単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表す。炭素数１～１２のアルキレン基はエーテル基、エステル基、カーボネート基、及びアミド基からなる群より選択される少なくとも１種を含有してもよく、鎖中に分岐構造、脂環、及び芳香環からなる群より選択される少なくとも１種を含んでもよい。環Ａ、環Ｂ、環Ｃはそれぞれ独立して、炭素原子、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環または複素環を表す。Ｒ４～Ｒ１２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、シアノフェニル基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１１のアルキルカルボン酸基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～１０のアルキルアルコール基、または、炭素原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる原子を環構成原子とする芳香環基もしくは複素環基を表す。ａ、ｂはそれぞれ独立して０または１を表す。）
  2. 　前記式（２）中の環Ａ、環Ｂ、及び環Ｃからなる群より選択される少なくとも１つの環が下記構造（Ｉ）～（ＩＸ）で示される環のいずれかである請求項１に記載のフマル酸ジエステル系樹脂。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒｌ、Ｒｍ、Ｒｎはそれぞれ独立して前記式（２）におけるＲ４～Ｒ１２と同意義である。環（Ｉ）～（ＩＸ）は、前記式（２）におけるＳ１、Ｓ２、Ｓ３のいずれかと結合しており、環を構成するいずれかの炭素原子または窒素原子で結合する。）
  3. 　前記式（１）で示される残基単位を５０モル％以上９９モル％以下、前記式（２）で示される残基単位を１モル％以上５０モル％以下含む請求項１乃至２いずれか一項に記載のフマル酸ジエステル系樹脂。
  4. 　ゲル・パーミエーション・クロマトグラフにより測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が１５０，０００～４５０，０００である請求項１乃至３いずれか一項に記載のフマル酸ジエステル系樹脂。
  5. 　請求項１乃至４いずれか一項に記載のフマル酸ジエステル系樹脂を用いたフィルム。
  6. 　一軸以上で延伸されている請求項５に記載のフィルム。
  7. 　膜厚が８０μｍ以下である請求項５乃至６いずれか一項に記載のフィルム。
  8. 　下記式（ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）が１０～３００ｎｍであり、下記式（ｂ）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が－２００～５０ｎｍである請求項５乃至７いずれか一項に記載のフィルム。
    　　Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ　　　　　　　　　　　　　　（ａ）
    　　Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ｝×ｄ　　　　　　　（ｂ）
    （式中、ｎｘは面内遅相軸の屈折率を示し、ｎｙは面内進相軸の屈折率を示し、ｎｚは面外の屈折率を示し、ｄは膜厚を示す。）
  9. 　波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒ４５０）と波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒ５５０）の比Ｒ４５０／Ｒ５５０が、Ｒ４５０／Ｒ５５０＜１．０１５の条件を満たす請求項５乃至８いずれか一項に記載のフィルム。
  10. 　下記式（ｃ）で示されるＮｚ係数（Ｎｚ）が－５．０≦Ｎｚ≦０．９である請求項５乃至９いずれか一項に記載のフィルム。
    　　Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ）　　　　　　　　（ｃ）
    （式（ｃ）中、ｎｘは面内遅相軸の屈折率を示し、ｎｙは面内進相軸の屈折率を示し、ｎｚは面外の屈折率を示す。）
  11. 　請求項５乃至１０いずれか一項に記載のフィルムを少なくとも偏光子の片面側に配置した偏光板。

     
PCT/JP2022/015143 2021-03-30 2022-03-28 フマル酸ジエステル系樹脂、フィルム、及び偏光板 WO2022210589A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202280025364.8A CN117157337A (zh) 2021-03-30 2022-03-28 富马酸二酯类树脂、膜及偏振片
EP22780800.3A EP4299283A1 (en) 2021-03-30 2022-03-28 Fumaric acid diester resin, film and polarizing plate
JP2023511295A JPWO2022210589A1 (ja) 2021-03-30 2022-03-28
KR1020237034141A KR20230163431A (ko) 2021-03-30 2022-03-28 푸마르산디에스테르계 수지, 필름, 및 편광판

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021056714 2021-03-30
JP2021-056714 2021-03-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022210589A1 true WO2022210589A1 (ja) 2022-10-06

Family

ID=83459315

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/015143 WO2022210589A1 (ja) 2021-03-30 2022-03-28 フマル酸ジエステル系樹脂、フィルム、及び偏光板

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP4299283A1 (ja)
JP (1) JPWO2022210589A1 (ja)
KR (1) KR20230163431A (ja)
CN (1) CN117157337A (ja)
TW (1) TW202307035A (ja)
WO (1) WO2022210589A1 (ja)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05297223A (ja) 1992-04-22 1993-11-12 Fuji Photo Film Co Ltd 複屈折性フィルムの製造方法、それを用いた位相差板及び液晶表示装置
JPH05323120A (ja) 1992-05-21 1993-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd 複屈折性フィルムの製造方法、並びに位相差板及び液晶表示装置
JP2818983B2 (ja) 1990-10-24 1998-10-30 日東電工株式会社 複屈折性フィルムの製造方法
JP2002220423A (ja) * 2001-01-24 2002-08-09 Tdk Corp 架橋性低比誘電性高分子材料ならびにそれを用いたフィルム、基板および電子部品
JP2009037110A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Tosoh Corp 光学補償フィルム
JP2012021101A (ja) * 2010-07-15 2012-02-02 Tosoh Corp フマル酸エステル系ブロック重合体及びその製造方法
WO2015064205A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 日東電工株式会社 液晶パネル及び該液晶パネルに用いられる偏光子積層体
JP2017149932A (ja) 2016-02-25 2017-08-31 東ソー株式会社 フマル酸ジエステル／（メタ）アクリレート共重合体及びその製造方法
JP2021173861A (ja) * 2020-04-24 2021-11-01 東ソー株式会社 位相差フィルム
JP2021189286A (ja) * 2020-05-29 2021-12-13 東ソー株式会社 光学フィルム

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2818983B2 (ja) 1990-10-24 1998-10-30 日東電工株式会社 複屈折性フィルムの製造方法
JPH05297223A (ja) 1992-04-22 1993-11-12 Fuji Photo Film Co Ltd 複屈折性フィルムの製造方法、それを用いた位相差板及び液晶表示装置
JPH05323120A (ja) 1992-05-21 1993-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd 複屈折性フィルムの製造方法、並びに位相差板及び液晶表示装置
JP2002220423A (ja) * 2001-01-24 2002-08-09 Tdk Corp 架橋性低比誘電性高分子材料ならびにそれを用いたフィルム、基板および電子部品
JP2009037110A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Tosoh Corp 光学補償フィルム
JP2012021101A (ja) * 2010-07-15 2012-02-02 Tosoh Corp フマル酸エステル系ブロック重合体及びその製造方法
WO2015064205A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 日東電工株式会社 液晶パネル及び該液晶パネルに用いられる偏光子積層体
JP2017149932A (ja) 2016-02-25 2017-08-31 東ソー株式会社 フマル酸ジエステル／（メタ）アクリレート共重合体及びその製造方法
JP2021173861A (ja) * 2020-04-24 2021-11-01 東ソー株式会社 位相差フィルム
JP2021189286A (ja) * 2020-05-29 2021-12-13 東ソー株式会社 光学フィルム

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IINUMA FUJIO, ET AL: "Functional Polymers:Synthesis and Polymerization of Vinyl and Methacrylate Monomers Containing the Pendant 1, 3, 5-Triphenyl-2- pyrazoline Group", POLYMER JOURNAL, vol. 13, no. 7, 31 December 1981 (1981-12-31), pages 641 - 650, XP055332413 *

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2022210589A1 (ja) 2022-10-06
CN117157337A (zh) 2023-12-01
TW202307035A (zh) 2023-02-16
EP4299283A1 (en) 2024-01-03
KR20230163431A (ko) 2023-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7771616B2 (en) Polymerizable liquid crystal compound having fused ring and homo- and copolymer of the polymerizable liquid crystal compound
JP5830949B2 (ja) 位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなる位相差フィルム
US8009264B2 (en) Composition for photo-alignment film, photo-alignment film, and optically anisotropic medium
EP2295477B1 (en) Polymerizable liquid crystal compounds, polymerizable liquid crystal compositions, liquid crystal polymers and optically anisotropic materials
US8450517B2 (en) Photosensitive compound and its photosensitive polymer
WO2006052001A1 (ja) 光学フィルム
JP2007297606A (ja) 紫外線硬化性組成物、位相差フィルム、および、位相差フィルムの製造方法
WO2014013982A1 (ja) フマル酸ジイソプロピル－ケイ皮酸誘導体系共重合体及びそれを用いた位相差フィルム
JP5740971B2 (ja) フマル酸ジエステル系樹脂およびそれを用いた位相差フィルム
WO2022210589A1 (ja) フマル酸ジエステル系樹脂、フィルム、及び偏光板
JP5343360B2 (ja) 光学補償フィルム
JP5831174B2 (ja) 位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなる位相差フィルム
JP2015197492A (ja) 光学異方性膜とその製造方法、積層体とその製造方法、偏光板、液晶表示装置及び有機ｅｌ表示装置
JP2019026678A (ja) 樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム
JP5625898B2 (ja) フマル酸ジエステル系樹脂及びそれを用いた位相差フィルム
KR20090070093A (ko) 위상차 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정 표시 장치
JP6515503B2 (ja) フマル酸ジエステル−アルコキシケイ皮酸エステル共重合体及びそれを用いた位相差フィルム
JP6603998B2 (ja) フマル酸ジエステル−アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体及びその製造方法
KR20120031139A (ko) 감광성 화합물 및 그 화합물로 이루어지는 감광성 폴리머
WO2016084747A1 (ja) アルコキシケイ皮酸エステル系重合体及びそれを用いた位相差フィルム
JP5466149B2 (ja) 光学異方性化合物及びこれを含む樹脂組成物
JP5920085B2 (ja) フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸エステル共重合体及びそれを用いた位相差フィルム
JP6015838B2 (ja) アルコキシケイ皮酸エステル系重合体及びそれを用いた位相差フィルム
JP5983300B2 (ja) フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸共重合体およびそれを用いた位相差フィルム
JP5958516B2 (ja) フマル酸ジエステル系樹脂およびそれを用いた位相差フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22780800

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023511295

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2022780800

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 18552950

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20237034141

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022780800

Country of ref document: EP

Effective date: 20230926

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE