WO2022181795A1

WO2022181795A1 - 表面処理剤

Info

Publication number: WO2022181795A1
Application number: PCT/JP2022/008033
Authority: WO
Inventors: 祥太澁谷; 晋吾奥野
Original assignee: ダイキン工業株式会社
Priority date: 2021-02-26
Filing date: 2022-02-25
Publication date: 2022-09-01
Also published as: JP7425347B2; US20230406974A1; JP2022132171A; CN116940634A; KR20230133907A; TW202302760A; EP4299677A1

Abstract

本発明は、（Ａ）フルオロポリエーテル基含有ポリマー、及び（Ｂ）シロキサンポリマーを含む表面処理剤であって、前記フルオロポリエーテル基含有ポリマーは、下記式（１）又は（２）で表される共重合体であり、前記シロキサンポリマーの数平均分子量は、３５０超１０，０００未満である、表面処理剤を提供する。

Description

表面処理剤

　本開示は、フルオロポリエーテル基含有ポリマー、及びシロキサンポリマーを含む表面処理剤に関する。

　ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。特許文献１には、摩擦耐久性に優れた表面処理層を与えることができる含フッ素ポリマー及び含ケイ素ポリマーを含む組成物が開示されている。

特開２０１４－１９８８５０号公報

　上記した特許文献１に記載の組成物は、基材に撥水撥油性などの機能を与え得るが、次第に高まる表面滑り性に対する要求に応えるには十分でない場合がある。

　本開示は、基材に、撥水撥油性に加え、高い表面滑り性を与え、かつ、優れた溶剤への溶解性を有する含フッ素ポリマー及び含ケイ素ポリマーを含む表面処理剤を提供することを目的とする。

　本開示は、以下の態様を含む。
［１］　（Ａ）フルオロポリエーテル基含有ポリマー、及び（Ｂ）シロキサンポリマーを含む組成物であって、
　前記フルオロポリエーテル基含有ポリマーは、下記式（１）又は（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａ又はＲ^４ｂであり；
　Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有する２価の有機基であり；
　Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有しない２価の有機基であり；
　前記架橋性基は、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
　ｎは１～１００の整数であり；
　Ｘ^ａは、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｒ^ａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

であり；
　Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５及びＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基又はフェニル基であり；
　Ｒ^ａ７は、水素又はハロゲン原子である。］
で表される共重合体であり、
　前記シロキサンポリマーの数平均分子量は、３５０超１０，０００未満である、組成物。
［２］　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］に記載の組成物。
［３］　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［２］に記載の組成物。
［４］　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）又は（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の組成物。
［５］　Ｒ^４は、Ｒ^４ａである、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の組成物。
［６］　Ｒ^４ａは、下記式：

［式中：
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又はアルキル基であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよいアルキル基であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基であり；
　Ｙ^１は、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、芳香環、置換基を有する芳香環又はカルバゾリレンであり；
　Ｒ^ｃは、有機基であり、
　Ｙ^２は、単結合又は主鎖の原子数が１～１６であるリンカーである。］
で表される基である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の組成物。
［７］　前記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、置換されていてもよいアクリロイル基、シンナモイル基、２，４－ヘキサジエノイル基、ビニルエーテル基、水酸基、オキセタニル基、イソシアネート基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、ハロゲン原子、又はシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基である、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の組成物。
［８］　前記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載の組成物。
［９］　ｎは、２～５０の整数である、上記［１］～［８］のいずれか１項に記載の組成物。
［１０］　前記シロキサンポリマーは、下記式：

［式中：
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２３は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２４は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２５は、水素原子又は１価の有機基であり、
　Ｒ^２６は、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｐは、任意の整数である。］
で表されるシロキサンポリマーである、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の組成物。
［１１］　Ｒ^２５及びＲ^２６は、Ｃ_１－６アルキル基である、上記［１０］に記載の組成物。
［１２］　Ｒ^２５はＣ_１－６アルキル基であり
　Ｒ^２６は、－Ｒ^２７－Ｒ^２８であり、
　Ｒ^２７は、２価の有機基、酸素原子又は単結合であり、
　Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、エポキシ基、脂環式エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ビニル基、アルコキシ基、又はチオール基である、
上記［１０］に記載の組成物。
［１３］　Ｒ^２５及びＲ^２６は、－Ｒ^２７－Ｒ^２８であり、
　Ｒ^２７は、２価の有機基、酸素原子又は単結合であり、
　Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、エポキシ基、脂環式エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ビニル基、アルコキシ基、又はチオール基である、
上記［１０］に記載の組成物。
［１４］　前記シロキサンポリマーの数平均分子量は、８００～８，０００である、上記［１］～［１３］のいずれか１項に記載の組成物。
［１５］　前記シロキサンポリマーの含有量は、前記フルオロポリエーテル基含有ポリマー１００質量部に対して１～３００質量部である、上記［１］～［１４］のいずれか１項に記載の組成物。
［１６］　上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の組成物を含む表面処理剤。
［１７］　上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の組成物、上記［１６］に記載の表面処理剤；及び
　マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
［１８］　前記マトリックスを形成する組成物は、アクリル樹脂、又はエポキシ樹脂である、上記［１７］に記載の硬化性組成物。
［１９］　上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の組成物、上記［１６］に記載の表面処理剤、及び／又は上記［１７］又は［１８］に記載の硬化性組成物により形成された膜。
［２０］　基材と、該基材の表面に上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の組成物、上記［１６］に記載の表面処理剤、及び／又は上記［１７］又は［１８］に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
［２１］　上記物品が光学部材である、上記［２０］に記載の物品。
［２２］　ＬｉＤＡＲカバー部材である、上記［２０］に記載の物品。
［２３］　センサー部材である、上記［２０］に記載の物品。
［２４］　インストルメントパネルカバー部材である、上記［２０］に記載の物品。
［２５］　自動車内装部材である、上記［２０］に記載の物品。

　本開示の表面処理剤は、基剤に撥水撥油性に加え、高い表面滑り性を与え、かつ、優れた溶剤への溶解性を有する。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に記載が無い限り、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

［組成物］
　以下、本開示の組成物について説明する。

　本開示の組成物は、（Ａ）フルオロポリエーテル基含有ポリマー、及び（Ｂ）シロキサンポリマーを含む。

［（Ａ）フルオロポリエーテル基含有ポリマー］
　上記フルオロポリエーテル基含有ポリマーは、下記式（１）又は（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａ又はＲ^４ｂであり；
　Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有する２価の有機基であり；
　Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有しない２価の有機基であり；
　上記架橋性基は、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
　ｎは１～１００の整数であり；
　Ｘ^ａは、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｒ^ａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

であり；
　Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５及びＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基又はフェニル基であり；
　Ｒ^ａ７は、水素又はハロゲン原子である。］
で表される共重合体である。

　上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特に直鎖のＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６ペルフルオロアルキル基である。

　上記Ｃ_１－１６ペルフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６ペルフルオロアルキル基、特にＣ_１－３ペルフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６ペルフルオロアルキル基、特に直鎖のＣ_１－３ペルフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

　上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３ペルフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６ペルフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３ペルフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３ペルフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

　上記式において、ｑは、それぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

　Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

　Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

　一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

　一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ５）のいずれかで表される基である。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］；
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは０である。別の態様において、ｅは１である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））_ｅ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－で表される基である。

　上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、および－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－または－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

　上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

　上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。

　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。

　上記フルオロポリエーテル基含有化合物において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。

　上記式において、Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂである。

　上記Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有する２価の有機基である。

　上記架橋性基とは、所定の条件下で反応を起こし、架橋構造を形成することが可能な基を意味する。

　上記架橋性基は、好ましくは、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基を含む基である。

　上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、置換されていてもよいアクリロイル基、シンナモイル基、２，４－ヘキサジエノイル基、ビニルエーテル（ビニルオキシ）基、水酸基、オキセタニル基、イソシアネート基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、ハロゲン原子、又はシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基が挙げられる。

　上記脂環式エポキシ基は、好ましくは下記式：

（式中、ｎは、１～５の整数である。）
で表される基である。

　上記脂環式エポキシ基は、より好ましくは

である。

　上記置換されていてもよいアクリロイル基とは、ＣＨ_２＝ＣＸ^１－Ｃ（Ｏ）－で表される基である。

　上記Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１～１０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～３のアルキル基、例えばメチル基である。

　上記置換されていてもよいアクリロイル基は、好ましくは、アクリロイル基又はメタクリロイル基である。以下、アクリロイル基及びメタクリロイル基を合わせて、「（メタ）アクリロイル基」とも言う。

　上記リン酸含有基は、リン酸基を含有している基であれば特に限定されず、例えばＣ_１－６アルキレン－ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）（ＯＲ）（式中、Ｒは水素原子又はＣ_１－３アルキルである。）であり得る。

　一の態様において、上記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、シンナモイル基、２，４－ヘキサジエノイル基、又はビニルエーテル（ビニルオキシ）基であり得る。

　好ましい態様において、上記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基又はＣＨ_２＝ＣＸ^１’－Ｃ（Ｏ）－（式中、Ｘ^１’は、水素原子、塩素原子、フッ素原子又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基を表す）であり、好ましくはエポキシ基、グリシジル基、又は（メタ）アクリロイル基であり得る。

　別の好ましい態様において、上記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、又は（メタ）アクリロイル基、好ましくはエポキシ基、グリシジル基、又は脂環式エポキシ基、より好ましくはエポキシ基又はグリシジル基であり得る。

　好ましい態様において、Ｒ^４ａは、下記式：

［式中：
　Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、又はアルキル基であり；
　Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよいアルキル基であり；
　Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、架橋性基であり；
　Ｙ^１は、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、芳香環、置換基を有する芳香環又はカルバゾリレンであり；
　Ｒ^ｃは、有機基であり、
　Ｙ^２は、単結合又は主鎖の原子数が１～１６のリンカーである。］
で表される基である

　上記式中、Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、又はアルキル基を表す。上記アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基である。Ｒ^３１は、好ましくは水素原子である。

　上記式中、Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよいアルキル基を表す。上記アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基である。Ｒ^３２は、好ましくはメチル基又は水素原子であり、より好ましくは水素原子である

　上記Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、架橋性基である。当該架橋性基は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、Ｒ^３３は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、置換されていてもよいアクリロイル基、シンナモイル基、２，４－ヘキサジエノイル基、ビニルエーテル（ビニルオキシ）基、水酸基、オキセタニル基、イソシアネート基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、ハロゲン原子、又はシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基であり得る。

　より好ましい態様において、Ｒ^３３は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、シンナモイル基、２，４－ヘキサジエノイル基、又はビニルエーテル（ビニルオキシ）基であり得る。

　さらに好ましい態様において、上記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、又は（メタ）アクリロイル基、好ましくはエポキシ基、グリシジル基、又は（メタ）アクリロイル基であり得る。

　上記式中、Ｙ^１は、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、フェニレン又はカルバゾリレンである。ここでＲ^ｃは有機基を表し、好ましくはアルキル基である。上記アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基である。Ｙ^１に関するこれらの基は、左側が式中のＣに結合し、右側がＹ^２に結合する。

　一の態様において、Ｙ^１は、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、フェニレン又はカルバゾリレンである。ここでＲ^ｃは有機基を表し、好ましくはアルキル基である。

　Ｙ^１は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－、又はカルバゾリレンであり、より好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－又は－Ｏ－であり、さらに好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－である。

　上記式中、Ｙ^２は、単結合又は主鎖の原子数が１～１６、好ましくは２～１２、より好ましくは２～１０であるリンカーを表す。ここに、上記主鎖とは、Ｙ^２中、Ｙ^１とＲ^３３を最小原子数で結ぶ部分を意味する。

　当該Ｙ^２としては、特に限定されるものではないが、例えば、
　－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｐ１－（ｐ１は、１～１０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数を表す）、
　－（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２－Ｏ－（ｐ２は、１～４０の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは１～６の整数、さらに好ましくは１～４の整数、さらに好ましくは２～４の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、又はメチル基を表す）、
　－（ＣＨ_２）_ｐ３－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｐ４－（ｐ３は、１～１０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数であり、ｐ４は、０～１０の整数、好ましくは０～６の整数、より好ましくは０～４の整数であり、一の態様において、１～１０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数を表す）、
　－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｐ５－ＣＯ－ＮＨ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（ｐ５は、１～１０の整数を表す）、
　－（ＣＨ_２）_ｐ６－（ｐ６は１～６の整数を表す）、
　－（ＣＨ_２）_ｐ７－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｐ８－（ｐ７は１～８の整数、好ましくは、２又は４を表し、ｐ８は１～６の整数、好ましくは３を表す）、
　－（ＣＨ_２）_ｐ９－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_ｐ１０－（ｐ９は１～６の整数、好ましくは３を表し、ｐ１０は１～８の整数、好ましくは、２又は４を表す）、又は
　－Ｏ－（但し、Ｙ^１は－Ｏ－ではない）が挙げられる。

　好ましいＹ^２としては、－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｐ１－（ｐ１は、１～１０の整数を表す）、－（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２－Ｏ－（ｐ２は、１～４０の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、又はメチル基を表す）、は－（ＣＨ_２）_ｐ３－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｐ４－（ｐ３は、１～１０の整数であり、ｐ４は、１～１０の整数を表す）又は－（ＣＨ_２）_ｐ７－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｐ８－（ｐ７は１～８の整数、好ましくは、２又は４を表し、ｐ８は１～６の整数、好ましくは３を表す）が挙げられる。なお、これらの基は、左端が分子主鎖側（Ｙ^１側）に結合し、右端が置換基群Ａより選択される官能基側（Ｒ^３３側）に結合する。

　Ｒ^４ａは、さらに好ましくは、下記式：

（式中、Ｒ^３３は、上記と同意義であり、ｑ２は、１～１０の整数であり、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数、さらに好ましくは２～４の整数であり、ｑ３は、１～１０の整数であり、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数、さらに好ましくは１～２の整数である。）
で表される基である。

　上記Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有しない２価の有機基である。

　Ｒ^４ｂは、好ましくは、－ＣＨＲ^４ｃ－ＣＲ^４ｄＲ^４ｅ－である。ここに、Ｒ^４ｃ及びＲ^４ｄは、それぞれ独立して、水素原子、又はアルキル基を表し、Ｒ^４ｅ基は、－Ｙ^３－Ｒ^４ｆである。ここに、Ｙ^３は上記Ｙ^１と同意義であり、Ｒ^４ｆは、架橋性基を有しない有機基であり、後記の基Ｒ^４ｇがリンカーを介して、又は直接Ｙ^３に結合する基である。即ち、Ｒ^４ｆは、－リンカー－Ｒ^４ｇ、又は－Ｒ^４ｇである。

　当該リンカーは、好ましくは、
（ａ）－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｓ１－（ｓ１は、１～１０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数を表す。）、
（ｂ）－（ＣＨＲ^４ｈ）_ｓ２－Ｏ－（ｓ２は、１～４０の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは１～６の整数、さらに好ましくは１～４の整数、さらに好ましくは２～４の整数である繰り返し数を表す。Ｒ^４ｈは、水素又はメチル基を表す。）、
（ｃ）－（ＣＨ_２）_ｓ３－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｓ４－（ｓ３は、１～１０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数であり、ｓ４は、０～１０の整数、好ましくは０～６の整数、より好ましくは０～４の整数であり、一の態様において、１～１０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数を表す）、
（ｄ）－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｓ１－ＣＯ－ＮＨ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（ｓ１は、上記と同意義である。）、
（ｅ）－（ＣＨ_２）_ｓ５－（ｓ５は１～６の整数を表す。）、又は
（ｆ）－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｓ７－（ｓ６は１～８の整数、好ましくは、２又は４を表す。ｓ７は１～６の整数、好ましくは３を表す。）、又は
（ｇ）－Ｏ－（但し、Ｙ^３は－Ｏ－ではない）
である。

　Ｒ^４ｇは、好ましくは以下の基である。
　（ｉ）アルキル基
　例：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシル、オクタデシル

　（ｉｉ）フッ素で置換されたアルキル基を含有する鎖状基
　例：

　（ｉｉｉ）単環式炭素環、二環式炭素環、三環式炭素環、及び四環式炭素環からなる群より選択される１個以上の環状部を含有する基
　例：

　（ｉｖ）水素（ただし、該水素原子は、リンカーの酸素原子とは結合しない）
　（ｖ）イミダゾリウム塩を含有する基
　例：

（ｖｉ）ケイ素を含有する基

　上記式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７は、それぞれ独立して、アルキル基又はアリール基を表す。

　上記アルキル基としては、特に限定されるものではないが、炭素数１～１０のアルキル基、及び炭素数３～２０のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、具体的には、Ｒ^１１に関しては炭素数ｎ－ブチル基であり、Ｒ^１２～Ｒ^１７に関してはメチル基である。

　上記アリール基としては、特に限定されるものではないが、炭素数６～２０のアリール基が挙げられる。当該アリール基は、２個又はそれ以上の環を含んでいてもよい。好ましいアリール基は、フェニル基である。

　上記アルキル基及びアリール基は、所望により、その分子鎖又は環中に、ヘテロ原子、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含有していてもよい。

　さらに、上記アルキル基及びアリール基は、所望により、ハロゲン；１個又はそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基、５～１０員のヘテロアリール基から選択される、１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

　上記式中、Ｒ^１８は、２価の有機基を表す。

　上記Ｒ^１８は、好ましくは、－（ＣＨ_２）_ｒ”－（式中、ｒ”は１以上２０以下の整数、好ましくは１以上１０以下の整数である）であり、より好ましくは、－（ＣＨ_２）_ｒ”－（式中、ｒ”は１以上１０以下の整数である）である。

　上記式中、ｎ４は、それぞれ独立して、１以上５００以下の整数である。当該ｎ４は、好ましくは１以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下である。

　Ｒ^４ｇは、より好ましくは、水素原子（ただし、Ｏに結合し水酸基を形成するものを除く）、又はフッ素化されていてもよく、かつエチレン鎖又はオキシエチレン鎖を介して結合してもよいアルキル基であり、より好ましくは、水素原子、メトキシエチル基、イソブチル基、又はＲ^４ｉ－ＣＦ_２－（ＣＦ_２）_ｓ６－（ＣＨ_２）_ｓ７－Ｏ－（ＣＨ_２）_２－（Ｒ^４ｉはフッ素原子又は水素原子であり、ｓ６は０～６の整数であり、ｓ７は１～６の整数である）であり、さらに好ましくは、３－（ペルフルオロエチル）プロポキシエチル基［示性式：ＣＦ_３－（ＣＦ_２）－（ＣＨ_２）_３－Ｏ－（ＣＨ_２）_２－］である。

　上記Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、それぞれがブロックを形成していてもよく、ランダムに結合していてもよい。

　一の態様において、Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、それぞれがブロックを形成する。

　一の態様において、Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、ランダムに結合する。

　一の態様において、Ｒ^４は、Ｒ^４ａである。即ち、Ｒ^４は、架橋性基を有する構成単位Ｒ^４ａからなる。

　好ましい態様において、Ｒ^４ａの数（重合度）は、１～１００であり、好ましくは２～７０、より好ましくは２～５０、さらに好ましくは３～３０、さらにより好ましくは３～２０、特に好ましくは５～１０である。

　一の態様において、Ｒ^４は、Ｒ^４ｂである。即ち、Ｒ^４は、架橋性基を有しない構成単位Ｒ^４ｂからなる。

　好ましい態様において、Ｒ^４ｂの数（重合度）は、１～１００であり、好ましくは２～７０、より好ましくは２～５０、さらに好ましくは３～３０、さらにより好ましくは３～２０、特に好ましくは５～１０である。

　上記式において、ｎは１～１００の整数であり、好ましくは２～７０の整数、より好ましくは２～５０の整数、さらに好ましくは３～３０の整数、さらにより好ましくは３～２０の整数、特に好ましくは５～１０の整数である。

　上記式（１）及び（２）において、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、２価の有機基である。

　上記式（１）及び（２）において、Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、２価の有機基である。

　上記式中、－Ｘ^ａ－Ｘ^ｂ－は、式（１）及び（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有ポリマーにおいて、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２と、Ｒ^４とを連結するリンカーの一部と解される。したがって、Ｘ^ａおよびＸ^ｂは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２価の有機基であってもよい。

　一の態様において、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、下記式：
　　　－（Ｑ）_ｅ－（ＣＦＺ）_ｆ－（ＣＨ_２）_ｇ－
で表される基である。式中、ｅ、ｆおよびｇは、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｅ、ｆおよびｇの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。なお、上記基は、左側がＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に、右側がＸ^ｂに結合する。

　上記式中、Ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ^ｑ－（式中、Ｒ^ｑ１は、水素原子または有機基を表す）または２価の極性基である。好ましくは、Ｑは、酸素原子または２価の極性基である。

　上記Ｑにおける「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ^ｂ）－、および－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｑ２－（これらの式中、Ｒ^ｑ２は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

　上記式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

　Ｘ^ａは、好ましくは、下記式：
　　　－（Ｏ）_ｅ－（ＣＦ_２）_ｆ－（ＣＨ_２）_ｇ－
［式中、ｅ、ｆおよびｇは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である］
で表される基である。なお、これらの基は左端がＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に、右側がＸ^ｂに結合する。

　一の態様において、Ｘ^ａは、
　　－（Ｏ）_ｅ１－（ＣＨ_２）_ｇ２－Ｏ－［（ＣＨ_２）_ｇ３－Ｏ－］_ｇ４、
　　－（Ｏ）_ｅ１－（ＣＦ_２）_ｆ２－（ＣＨ_２）_ｇ２－Ｏ－［（ＣＨ_２）_ｇ３－Ｏ－］_ｇ４
［式中、
　ｅ１は０または１であり、
　ｆ２、ｇ２およびｇ３は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、
　ｇ４は、０または１である］
で表される基であり得る。これらの基は左端がＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に、右側がＸ^ｂに結合する。

　好ましい態様において、Ｘ^ａは、
　　－（ＣＨ_２）_ｇ２－Ｏ－
［式中、ｇ２は、１～１０の整数である。］
で表される基であり得る。これらの基は左端がＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に、右側がＸ^ｂに結合する。

　上記式中、Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、二価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^ｂは、下記式：
　　　－ＣＯ－Ｒ^ｂ３－ＣＲ^ｂ１Ｒ^ｂ２－
［式中：
　Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－３アルキル基、フェニル基または－ＣＮであり、
　Ｒ^ｂ３は、単結合または置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。］
で表される基であり得る。なお、かかる基は左端がＸ^ａに、右端がＲ^４に結合する。

　上記Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は、それぞれ独立して、好ましくは、Ｃ_１－３アルキル基、フェニル基または－ＣＮであり、より好ましくは、Ｃ_１－３アルキル基または－ＣＮである。Ｃ_１－３アルキル基は、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^ｂ１は、Ｃ_１－３アルキル基、好ましくはメチル基であり、Ｒ^ｂ２は、水素原子または－ＣＮである。

　上記Ｒ^ｂ３における「置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基」における置換基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基またはフェニル基であり、好ましくはＣ_１－３アルキル基である。Ｃ_１－３アルキル基は、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくはメチル基である。該置換基は、１つであってもよく、または２つ以上であってもよい。

　上記Ｒ^ｂ３におけるＣ_１－６アルキレン基は、好ましくはＣ_１－３アルキレン基、より好ましくはＣ_２－３アルキレン基、例えばジメチレン基であり得る。

　一の態様において、Ｒ^ｂ３は、単結合である。

　別の態様において、Ｒ^ｂ３は、置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくはＣ_１－６アルキレン基である。

　上記式中、Ｒ^ａは、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

である。Ｒ^ａは、いわゆるＲＡＦＴ剤の一部であり得る。

　上記式中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５及びＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基又はフェニル基である。

　上記Ｒ^ａ１は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、より好ましくはＣ_３－１８アルキル基、さらに好ましくはＣ_４－１２アルキル基である。

　上記Ｒ^ａ２は、好ましくはフェニル基又はＣ_１－２０アルキル基である。該Ｃ_１－２０アルキル基は、好ましくはＣ_１－１０アルキル基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒ^ａ３は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、より好ましくはＣ_１－１０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらにより好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒ^ａ４は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記Ｒ^ａ５は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記Ｒ^ａ６は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記Ｒ^ａ７は、水素又はハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素、好ましくは塩素）である。

　一の態様において、Ｒ^ａは、－ＳＲ^ａ１又は－ＯＲ^ａ２である。

　一の態様において、（Ａ）フルオロポリエーテル基含有ポリマーは、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有ポリマーであり得る。

　一の態様において、（Ａ）フルオロポリエーテル基含有ポリマーは、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有ポリマーであり得る。

　上記フルオロポリエーテル基含有ポリマーの数平均分子量は、特に限定されるものではないが、２×１０^２～１×１０^５、好ましくは１×１０^３～５×１０^４、より好ましくは３×１０^３～２×１０^４であり得る。かかる範囲の数平均分子量を有することにより、溶剤への溶解性および表面処理層の接触角をより大きくすることができる。当該数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めることができる。

　上記フルオロポリエーテル基含有ポリマーの多分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．５以下、さらに好ましくは２．０以下、さらにより好ましくは１．５以下であり得る。多分散度を小さくすることにより、より均質な表面処理層を形成することができ、表面処理層の耐久性を向上させることができる。

　上記フルオロポリエーテル基含有ポリマーは、例えば、いわゆるＲＡＦＴ（Reversible addition-fragmentation chain transfer）型のラジカル重合を利用して合成することができる。

　まず、ペルフルオロポリエーテル基を有するＲＡＦＴ剤を調製する。例えば、ペルフルオロポリエーテルを有する化合物（Ａ）とＲＡＦＴ骨格（－ＳＣ（＝Ｓ）－）を有する化合物（Ｂ１）または（Ｂ２）：

［式中、Ｒ^ａ、Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｘ^ａおよびＸ^ｂは、上記と同意義であり；
　Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ、脱離部分である。］
を反応させて、ペルフルオロポリエーテル基を有する連鎖移動剤（１ａ）または（２ａ）：

［式中、Ｒ^ａ、Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｘ^ａおよびＸ^ｂは、上記と同意義である。］
を得ることができる。

　上記で得られた連鎖移動剤（１ａ）または（２ａ）と、不飽和結合を有する単量体とを反応させることにより、上記式（１）または（２）で表される化合物を得ることができる。かかる反応は、いわゆるＲＡＦＴ重合であり、反応条件は、ＲＡＦＴ重合で一般的に用いられる条件を用いることができる。

［（Ｂ）シロキサンポリマー］
　上記シロキサンポリマーは、下記式：

［式中：
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２３は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２４は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２５は、水素原子又は１価の有機基であり、
　Ｒ^２６は、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｐは、任意の整数である。］
で表されるシロキサンポリマーである。

　上記式中、Ｒ^２１、及びＲ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はアリール基である。

　上記式中、Ｒ^２３、及びＲ^２４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はアリール基である。

　Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、及びＲ^２４は、同じ基であってもよく、異なる基であってもよい。好ましい態様において、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、及びＲ^２４は、同じ基である。

　上記Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。また、上記Ｃ_１－６アルキル基は、環状構造を含んでいてもよい。一の態様において、当該Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖である。別の態様において、当該Ｃ_１－６アルキル基は、分枝鎖である。別の態様において、当該Ｃ_１－６アルキル基は、Ｃ_３－６環状アルキル基である。

　上記Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－４アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。

　上記アリール基は、単環であっても、多環であってもよい。

　上記アリール基は、好ましくはＣ_５－２０アリール基、より好ましくはＣ_６－１６アリール基、さらに好ましくはＣ_６－１２アリール基、さらにより好ましくはＣ_６－１０アリール基である。

　一の態様において、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、及びＲ^２４は、水素原子である。

　別の態様において、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、及びＲ^２４は、Ｃ_１－６アルキル基、又はアリール基、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記Ｒ^２５及びＲ^２６は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。

　上記１価の有機基は、好ましくは、－Ｒ^２７－Ｒ^２８である。

　上記Ｒ^２７は、上記シロキサンポリマーのシロキサン骨格と、末端官能基であるＲ^２８とを連結するリンカーの一部と解される。したがって、Ｒ^２７は、上記シロキサンポリマーが安定に存在し得るものであれば、いずれの２価の有機基であってもよい。

　上記Ｒ^２７は、２価の有機基、酸素原子又は単結合である。

　一の態様において、上記２価の有機基は、
　　　－（Ｒ^５１）_ｑ５－（Ｒ^５２）_ｑ６－（Ｒ^５３）_ｑ７－
［式中：
　Ｒ^５１及びＲ^５３は、それぞれ独立して、－（ＣＨ_２）_ｒ１－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｒ１－であり、
　ｒ１は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－および－（ＣＨ_２）_ｒ２－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）または炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｒ２は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｑ５は、０または１であり、
　ｑ６は、０～１０の整数、好ましくは０～５の整数、より好ましくは０～３の整数であり、
　ｑ７は、０または１であり、
　ただし、ｑ５、ｑ６及びｑ７の少なくとも１つは１である。］
で表される２価の有機基が挙げられる。

　上記Ｒ^２７は、好ましくは、単結合、酸素結合、式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｑ５－（Ｒ^６１）_ｑ６－（Ｒ^５３）_ｑ７－
［式中：
　Ｒ^５１及びＲ^５３は、それぞれ独立して、－（ＣＨ_２）_ｒ１－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｒ１－であり、
　ｒ１は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、及び－ＮＲ^５４－からなる群から選択される基、好ましくは－Ｏ－であり、
　ｑ５は、０または１であり、
　ｑ６は、０～１０の整数、好ましくは０～５の整数、より好ましくは０～３の整数であり、
　ｑ７は、０または１であり、
　ただし、ｑ５、ｑ６及びｑ７の少なくとも１つは１である。］
で表される基である。

　上記Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、エポキシ基、脂環式エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ビニル基、アルコキシ基、又はチオール基である。

　好ましい態様において、上記Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２である。

　一の態様において、Ｒ^２５及びＲ^２６は、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　好ましい態様において、
　Ｒ^２５はＣ_１－６アルキル基であり
　Ｒ^２６は、－Ｒ^２７－Ｒ^２８であり、
　Ｒ^２７は、２価の有機基、酸素原子又は単結合であり、
　Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、エポキシ基、脂環式エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ビニル基、アルコキシ基、又はチオール基である。

　他の好ましい態様において、
　Ｒ^２５およびＲ^２６は、－Ｒ^２７－Ｒ^２８であり、
　Ｒ^２７は、２価の有機基、酸素原子又は単結合であり、
　Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、エポキシ基、脂環式エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ビニル基、アルコキシ基、又はチオール基である。

　上記シロキサンポリマーの数平均分子量は、３５０超１０，０００未満、好ましくは８００～８，０００、より好ましくは９００～７，０００である。上記シロキサンポリマーの数平均分子量を、上記の範囲とすることにより、本開示の組成物により得られる表面処理層の表面滑り性及び外観が向上する。

　上記シロキサンポリマーの含有量は、前記フルオロポリエーテル基含有ポリマー１００質量部に対して０．１～３００質量部、好ましくは１～３００質量部、より好ましくは１～２５０質量部、さらにより好ましくは１～２００質量部、特に好ましくは１～１５０質量部である。

［他の成分］
　本開示の組成物は、さらに含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）を含有していてもよい。また、本開示の組成物は、溶媒、活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤、熱酸発生剤、活性エネルギー線カチオン硬化開始剤等の他の成分を含み得る。

　上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６　　　・・・（３）
　式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ａ）
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ｂ）
　これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

　上記含フッ素オイルは、５００～１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、又は極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩耗耐久性と表面滑り性を得ることができる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩耗耐久性及び高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記溶媒としては、フッ素含有有機溶媒及びフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。

　上記フッ素含有有機溶媒としては、例えば、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロデカリン、ペルフルオロアルキルエタノール、ペルフルオロベンゼン、ペルフルオロトルエン、ペルフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、ペルフルオロアルキルエーテル、ペルフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ－７１００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、含フッ素アルコール、ペルフルオロアルキルブロミド、ペルフルオロアルキルヨージド、ペルフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２－（ペルフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２－（ペルフルオロアルキル）エチル、ペルフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、及びヘキサフルオロプロペンオリゴマーが挙げられる。

　また、上記フッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２－ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、エタノール、メタノール、及びジアセトンアルコールが挙げられる。

　上記溶媒は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　上記溶媒は、上記フルオロポリエーテル基含有ポリマー、及びシロキサンポリマー、ならびに、存在する場合、下記する含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、５～１００，０００質量部、好ましくは５～５０，０００質量部で含まれる。

　上記活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤としては、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などが照射されることによって初めてラジカルを発生し、上記フルオロポリエーテル基含有ポリマーの硬化性部位（例えば、炭素－炭素二重結合）の硬化（架橋反応）を開始させる触媒として働くものであり、通常、紫外光線でラジカルを発生させるものを使用する。

　上記活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤は、上記フルオロポリエーテル基含有ポリマー中の硬化性部位の種類、使用する活性エネルギー線の種類（波長域など）と照射強度などによって適宜選択されるが、一般に紫外線領域の活性エネルギー線を用いてラジカル反応性の硬化性部位（炭素－炭素二重結合）を有する上記フルオロポリエーテル基含有ポリマーを硬化させる開始剤としては、例えば、以下のものが例示できる。

・アセトフェノン系
　アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α－アミノアセトフェノン、ヒドロキシプロピオフェノン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパンー１－オンなど

・ベンゾイン系
　ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなど

・ベンゾフェノン系
　ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ－プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなど

・チオキサンソン類
　チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルチオキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソンなど

・その他
　ベンジル、α－アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３－ケトクマリン、２－エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノンなど

　これらの活性エネルギー線硬化開始剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　上記活性エネルギー線硬化開始剤は、特に限定されるものではないが、上記フルオロポリエーテル基含有ポリマー及びシロキサンポリマー、ならびに、存在する場合、含フッ素オイルの合計１００質量部に対して、０．０１～１，０００質量部、好ましくは０．１～５００質量部で含まれる。

　上記熱酸発生剤を用いることにより、熱によりカチオン種を含む化合物の分解反応が起こり、硬化性部位を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマーの硬化性部位（例えば、環状エーテル）の硬化（架橋反応）を開始させる。

　上記熱酸発生剤としては、例えば、下記一般式（ａ）：
（Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＲ^４ _ｄＺ）^＋ｍ（ＡＸ_ｎ）^－ｍ　　　（ａ）
（式中、Ｚは、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｎ及びハロゲン元素からなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、有機基を表す。ａ、ｂ、ｃ及びｄは、０又は正数であり、ａ、ｂ、ｃ及びｄの合計はＺの価数に等しい。カチオン（Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＲ^４ _ｄＺ）^＋ｍはオニウム塩を表す。Ａは、ハロゲン化物錯体の中心原子である金属元素又は半金属元素（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）を表し、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏからなる群より選ばれる少なくとも一つである。Ｘは、ハロゲン元素を表す。ｍは、ハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷である。ｎは、ハロゲン化物錯体イオン中のハロゲン元素の数である。）で表される化合物が好適である。

　上記一般式（ａ）の陰イオン（ＡＸ_ｎ）^－ｍの具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ_４ ^－）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ_６ ^－）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ_６ ^－）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ_６ ^－）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ_６ ^－）等が挙げられる。更に一般式ＡＸｎ（ＯＨ）^－で表される陰イオンも用いることができる。また、その他の陰イオンとしては、過塩素酸イオン（ＣｌＯ_４ ^－）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ_３ＳＯ_３ ^－）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ_３ ^－）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸イオン等が挙げられる。

　上記熱酸発生剤の具体的な商品としては、例えば、ＡＭＥＲＩＣＵＲＥシリーズ（アメリカン・キャン社製）、ＵＬＴＲＡＳＥＴシリーズ（アデカ社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）等のジアゾニウム塩タイプ；ＵＶＥシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＵＶ９３１０Ｃ（ＧＥ東芝シリコーン社製）、Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ　２０７４（ローヌプーラン社製）、ＷＰＩシリーズ（和光純薬社製）等のヨードニウム塩タイプ；ＣＹＲＡＣＵＲＥシリーズ（ユニオンカーバイド社製）、ＵＶＩシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＣＤシリーズ（サトーマー社製）、オプトマーＳＰシリーズ・オプトマーＣＰシリーズ（アデカ社製）、サンエイドＳＩシリーズ（三新化学工業社製）、ＣＩシリーズ（日本曹達社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）、ＣＰＩシリーズ（サンアプロ社製）等のスルホニウム塩タイプ等が挙げられる。

　これらの熱酸発生剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　上記熱酸発生剤は、特に限定されるものではないが、フルオロポリエーテル基含有ポリマー及びシロキサンポリマー、ならびに、存在する場合、含フッ素オイルの合計１００質量部に対して、０．０１～１，０００質量部、好ましくは０．１～５００質量部で含まれる。

　上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤を用いることにより、光によりカチオン種を含む化合物が励起されて光分解反応が起こり、フルオロポリエーテル基含有ポリマーの硬化性部位（例えば、環状エーテル）の硬化（架橋反応）を開始させる。

　上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４－クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４－クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４－（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート、ビス［４－（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ－ヘキサフルオロホスフェート、ジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が好適である。

　上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤の具体的な商品としては、例えば、ＵＶＩ－６９５０、ＵＶＩ－６９７０、ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０（ユニオンカーバイド社製）；アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５１、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７２（ＡＤＥＫＡ社製）；Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０（チバ・ジャパン社製）；ＣＩ－２４８１、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２０６４（日本曹達社製）；ＣＤ－１０１０、ＣＤ－１０１１、ＣＤ－１０１２（サートマー社製）；ＤＴＳ－１０２、ＤＴＳ－１０３、ＮＡＴ－１０３、ＮＤＳ－１０３、ＴＰＳ－１０３、ＭＤＳ－１０３、ＭＰＩ－１０３、ＢＢＩ－１０３（みどり化学社製）；ＰＣＩ－０６１Ｔ、ＰＣｌ－０６２Ｔ、ＰＣｌ－０２０Ｔ、ＰＣｌ－０２２Ｔ（日本化薬社製）；ＣＰｌ－１００Ｐ、ＣＰＴ－１０１Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ（サンアプロ社製）；サンエイドＳＩ－６０Ｌ、サンエイドＳＩ－８０Ｌ、サンエイドＳＩ－１００Ｌ、サンエイドＳＴ－１１０Ｌ、サンエイドＳＩ－１４５、サンエイドＳＩ－１５０、サンエイドＳＩ－１６０、サンエイドＳＩ－１８０Ｌ（三新化学工業社製）；ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）等のジアゾニウム塩タイプ、ヨードニウム塩タイプ、スルホニウム塩タイプが好ましい。__

　これらの活性エネルギー線カチオン硬化開始剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　上記活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤は、特に限定されるものではないが、フルオロポリエーテル基含有ポリマー及びシロキサンポリマー、ならびに、存在する場合、含フッ素オイルの合計１００質量部に対して、０．０１～１，０００質量部、好ましくは０．１～５００質量部で含まれる。

［表面処理剤］
　本開示の組成物は、表面処理剤として有用である。従って、本開示は、本開示の組成物を含む表面処理剤を提供する。

　好ましい態様において、本開示の組成物は、表面処理剤である。

［硬化性組成物］
　本開示は、上記した本開示の組成物、表面処理剤、及び／又はマトリックスを形成する組成物を含む硬化性組成物を提供する。

［マトリックスを形成する組成物］
　上記マトリックスを形成する組成物とは、少なくとも１つの炭素―炭素二重結合を有する化合物、例えば、特に限定されるものではないが、単官能及び／又は多官能アクリレート及びメタクリレート（以下、アクリレート及びメタクリレートを合わせて、「（メタ）アクリレート」とも言う）、単官能及び／又は多官能ウレタン（メタ）アクリレート、単官能及び／又は多官能エポキシ（メタ）アクリレートである化合物を含有する組成物を意味する。当該マトリックスを形成する組成物としては、特に限定されるものではないが、一般的にハードコーティング剤又は反射防止剤とされる組成物であり、例えば多官能性（メタ）アクリレートを含むハードコーティング剤又は含フッ素（メタ）アクリレートを含む反射防止剤が挙げられる。当該ハードコーティング剤は、例えば、ビームセット５０２Ｈ、５０４Ｈ、５０５Ａ－６、５５０Ｂ、５７５ＣＢ、５７７、１４０２（商品名）として荒川化学工業株式会社から、ＥＢＥＣＲＹＬ４０（商品名）としてダイセルサイテックから、ＨＲ３００系（商品名）として横浜ゴムから市販されている。上記反射防止剤は、例えばオプツールＡＲ－１１０（商品名）としてダイキン工業株式会社から市販されている。

　上記マトリックスを形成する組成物として単官能及び／又は多官能エポキシである化合物を含有する組成物も好ましい。例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’－ビス（４－グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）－５，５－スピロ－（３，４－エポキシシクロヘキサン）－１，３－ジオキサン、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２－シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ化合物を使用できる。また、前述と重なるが、水添型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、又はイソシアヌレート環を含有するエポキシ樹脂あるいは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、前記各種エポキシ樹脂の芳香環を水素添加した水添型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用できる。

　一の態様において、上記硬化性組成物は、フルオロポリエーテル基含有ポリマーとシロキサンポリマーを、マトリックス形成組成物の固形分に対して、０．０１～２０質量％、好ましくは０．０１～１０質量％、より好ましくは０．１～１０質量％含有する。

　本開示の硬化性組成物は、さらに、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤などを含んでいてもよい。

［物品］
　次に、本開示の物品について説明する。

　本開示は、基材と、該基材の表面に本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物により形成された層（表面処理層）とを含む物品を提供する。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

　まず、基材を準備する。本開示に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料、好ましくは、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリイミド樹脂、モディファイド（透明）ポリイミド樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、銀、鉄等の金属単体又は合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、位相差フィルム、有機ＥＬ表示モジュール及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物から表面処理層を形成する。

　本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物の膜形成は、上記の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法を使用できる。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷及び類似の方法が挙げられる。

　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。当該溶媒としては、上記したフッ素含有有機溶媒及びフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のペルフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン及びペルフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、ペルフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）、ペルフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）、ペルフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）、ペルフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）などのアルキルペルフルオロアルキルエーテル（ペルフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶剤；ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチルなどのエステル系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノンなどのケトン系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテル、グリコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤が好ましく、ペルフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）及び／又はペルフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールが特に好ましい。

　次に、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などを照射することにより行われる。もしくは所定時間加熱することにより行われる。かかる後処理を施すことにより、フルオロポリエーテル基含有ポリマーの硬化性部位、ならびに存在する場合にはマトリックスを形成する組成物の硬化性部位の硬化を開始させ、これらの化合物間、また、これらの化合物と基材間に結合が形成される。

　上記のようにして、基材の表面に、本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物に由来する表面処理層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性及び表面滑り性に加えて、使用する組成物、表面処理剤又は硬化性組成物の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　本発明の表面処理組成物から形成される膜の動摩擦係数は、好ましくは０．８５以下であり、より好ましくは０．８０以下であり、さらに好ましくは０．７７以下である。動摩擦係数を低くすることにより、より良好な触感を有する塗膜とすることができる。

　上記動摩擦係数は、摩擦測定機（「トライボマスターＴＬ２０１Ｔｓ、株式会社トリニティーラボ製）等を用いて、摩擦子として触覚接触子を用い、荷重２０ｇｆ、走査速度１０ｍｍ／ｓｅｃにて測定することができる。

　本発明の表面処理組成物から形成される膜の水の静的接触角の範囲は、好ましくは１１１度以上、より好ましくは１１２度以上、さらに好ましくは１１３度以上である。接触角を高くすることにより、より防汚性に優れる塗膜とすることができる。

　上記接触角は、接触角計（協和界面科学社製、「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ」）等を用いて、着滴量２μＬにて測定することができる。

　本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、フィルム又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

　一の態様において、本開示によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、飛散防止フィルム、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

　一の態様において、本開示によって得られる表面処理層を有する物品としては、例えば、ＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging）カバー部材、センサー部材、インストルメントパネルカバー部材、自動車内装部材等、特に自動車用のこれらの部材が挙げられる。

　表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、０．１～３０μｍ、好ましくは０．５～２０μｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性及び防汚性の点から好ましい。

　以上、本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の組成物、表面処理剤又は硬化性組成物の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

　以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、ペルフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２）等）の存在順序は任意である。

　１．ペルフルオロポリエーテル含有連鎖移動剤の合成
　合成例１
　連鎖移動剤（Ａ－１）の合成
　フラスコに２－［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸（富士フイルム和光純薬株式会社製）０．５０５ｇ、４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（東京化成工業株式会社製）０．０１９ｇ、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）（東京化成工業株式会社製）０．２９３ｇ、及びＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（ｎの平均値≒２５）で表されるペルフルオロポリエーテルを含有するアルコール（ダイキン工業株式会社製）５．０ｇをとり、アサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社製）１３ｍＬを加えて室温で撹拌し、反応を行った。一晩撹拌後、反応液を、飽和重曹水、及び食塩水で洗浄した。有機層を分離して濃縮し、メタノール中に滴下して、黄色油状の目的物（Ａ－１）４．５６ｇを得た。

　２．エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマーの合成
　合成例２
　（１）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１）の合成
　反応容器内に連鎖移動剤（Ａ－１）１．０ｇ、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（４ＨＢＡＧＥ）（三菱ケミカル株式会社製）０．２３ｇ、及びＮ，Ｎ’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（富士フイルム和光純薬株式会社製）１２ｍｇを加え、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業株式会社製）２．９ｍＬに溶解した。７５℃で１７時間加熱し、反応液をヘキサンに滴下してブロックポリマー（Ｐ－１）を沈殿させて回収した。ＮＭＲ測定より４ＨＢＡＧＥの重合度は５と算出された。

　合成例３
（２）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－２）の合成
　合成例２と同様にして、４ＨＢＡＧＥの仕込み量を０．４６ｇに変更することにより、４ＨＢＡＧＥの重合度１０のブロックポリマー（Ｐ－２）を合成した。

　３．（メタ）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマーの合成
　合成例４
　（１）水酸基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－３）の合成
　反応容器内に（Ａ－１）１．３ｇ、２－ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）（東京化成工業株式会社製）０．１８ｇ、及びＡＩＢＮ１５．５ｍｇを加え、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２．１ｍＬに溶解した。７０℃で２２．５時間加熱し重合させ、ブロックポリマー（Ｐ－３）の溶液を得た。ＮＭＲ測定よりＨＥＡの重合度は５と算出された。

　合成例５
　（２）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－４）の合成
　（１）の反応溶液に、ポリマー（Ｐ－３）中ＨＥＡユニットに対して１．１当量のカレンズＡＯＩ（昭和電工株式会社製）、及び０．０１当量のジブチルスズジラウレート（ＤＢＴＤＬ）（東京化成工業株式会社製）を加え、４０℃で２時間撹拌した。ＮＭＲ測定により、水酸基が１００％反応していることを確認したのち反応液をメタノールに滴下してアクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ－４）を沈殿させ、回収した。

　合成例６
　（３）メタクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－５）の合成
　カレンズＡＯＩをカレンズＭＯＩ（昭和電工社製）に変更したこと以外は、合成例５の（２）と同様にして、メタクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ－５）を合成した。

　比較合成例１
　４．アクリル基を有するＰＦＰＥ化合物（Ｐ－６）の合成
　滴下ロート、コンデンサー、温度計、撹拌装置を装着した１Ｌの４口フラスコにスミジュール（登録商標）Ｎ３３００（住化バイエルウレタン株式会社製、ＮＣＯ基含有率２１．８％、３６．６ｇ）を、アサヒクリンＡＫ－２２５（２１９．４ｇ）に溶解させ、ジブチルスズジラウレート（富士フイルム和光純薬株式会社製、０．３０ｇ）を加え、窒素気流下、４０℃で撹拌しながら、平均組成：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１４ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表されるパーフルオロポリエーテルを含有するアルコール（６０．０ｇ）をアサヒクリンＡＫ－２２５（６０．０ｇ）に溶解した溶液を滴下し、撹拌した。ＨＥＡ（１９．６ｇ）を滴下し、撹拌した。ＩＲにてＮＣＯの吸収が完全に消失したことを確認した。ジブチルヒドロキシトルエン０．０５ｇを加え、溶剤を完全に除去し、アクリル基を有するＰＦＰＥ化合物（Ｐ－６）を合成した。

　合成例７
　５．エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－７）の合成
　反応容器内に連鎖移動剤（Ａ－１）１．０ｇ、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（４ＨＢＡＧＥ）（三菱ケミカル株式会社製）０．２０ｇ、ｎ－ブチルアクリレート（東京化成工業株式会社製）０．１０ｇ及びＮ，Ｎ’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（富士フイルム和光純薬株式会社製）１２ｍｇを加え、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業株式会社製）３．１ｍＬに溶解した。７５℃で２０時間加熱し、反応液をヘキサンに滴下してブロックポリマー（Ｐ－７）を沈殿させて回収した。ＮＭＲ測定よりブロックポリマー１分子中に４ＨＢＡＧＥ単位が４つ、ｎ－ブチルアクリレート単位が３つ導入されていることを確認した。

　５．塗液調製・塗膜作成
　（１）エポキシ系コーティング
　マトリックスを形成するエポキシ化合物としてセロキサイド２０２１Ｐ（株式会社ダイセル製）をＭＩＢＫに溶解し、その溶液に合成例２、及び３で合成したＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１）、（Ｐ－２）および（Ｐ－７）をエポキシ化合物固形分に対して、それぞれ固形分濃度換算で１％になるように、さらにシリコーン化合物（Ｓ－１）～（Ｓ－９）をエポキシ化合物固形分に対して、それぞれ固形分濃度換算で下記表１に示す組み合わせ及び添加量（対マトリックス形成化合物）で添加し、５０質量％のエポキシ化合物溶液を調製した（実施例１～９、１８～２１、比較例４～７）。また、ＰＦＰＥブロックポリマーを添加せずシリコーン化合物（Ｓ－２）のみ添加した溶液（比較例１）、シリコーン化合物を添加せずＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１）又は（Ｐ－２）のみ添加した溶液（比較例２及び３）も調製した。さらに熱酸発生剤であるサンエイドＳＩ－６０Ｌ（三新化学工業株式会社製）をエポキシ化合物固形分に対して、３質量％添加してコーティング剤を得た。ＰＥＴ基板にコーティング剤をバーコーターで塗装し、９０℃、２時間の条件で加熱し、硬化被膜を得た。

　（２）アクリル系コーティング
　マトリックスを形成するアクリル化合物を含む組成物としてビームセット５７５ＣＢ（荒川化学工業社製）をＭＩＢＫに溶解し、その溶液に合成例５、及び６で合成したＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－４）及び（Ｐ－５）を、ビームセット５７５ＣＢの樹脂固形分に対して、それぞれ固形分濃度換算で１％になるように、さらにシリコーン化合物（Ｓ－１）、（Ｓ－４）及び（Ｓ－６）をビームセット５７５ＣＢの樹脂固形分に対して、それぞれ固形分濃度換算で下記表２に示す組み合わせ及び添加量（対マトリックス形成化合物）で添加し、５０質量％のコーティング組成物を得た（実施例１０～１７、比較例１０、１１、１３、及び１４）。また、ＰＦＰＥブロックポリマーを添加せずシリコーン化合物（Ｓ－４）のみ添加したコーティング剤（比較例８）、シリコーン化合物を添加せずＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－４）又は（Ｐ－５）のみ添加したコーティング剤（比較例９及び１２）、およびＰＦＰＥブロックポリマーに替えて比較合成例１で合成したアクリル基を有するＰＦＰＥ化合物（Ｐ－６）を添加したコーティング剤（比較例１５及び１６）も調製した。ＰＥＴ基板に前記のコーティング組成物をバーコーターで塗装し、７０℃、１０分間の条件で乾燥後、紫外線照射して硬化被膜を得た。紫外線照射はベルトコンベア式の紫外線照射装置を用い、照射量は６００ｍＪ／ｃｍ^２とした。

　シリコーン化合物
　Ｓ－１：ＦＭ－０４１１（ＪＮＣ株式会社製、片末端ＯＨポリジメチルシロキサン、数平均分子量１，０００）
　Ｓ－２：ＦＭ－０４２１（ＪＮＣ株式会社製、片末端ＯＨポリジメチルシロキサン、数平均分子量５，０００）
　Ｓ－３：ＦＭ－０４２５（ＪＮＣ株式会社製、片末端ＯＨポリジメチルシロキサン、数平均分子量１０，０００）
　Ｓ－４：ＫＦ－２０１２（信越化学工業株式会社製、片末端メタクリレートポリジメチルシロキサン、数平均分子量４，６００）
　Ｓ－５：ＫＦ－９６－２ｃｓ（信越化学工業株式会社製、末端無変性ポリジメチルシロキサン数平均分子量３５０）
　Ｓ－６：ＫＦ－９６－１００ｃｓ（信越化学工業株式会社製、末端無変性ポリジメチルシロキサン数平均分子量６，０００）
　Ｓ－７：Ｘ－２２－１７３ＤＸ（信越化学工業株式会社製、片末端エポキシポリジメチルシロキサン、数平均分子量４，６００）
　Ｓ－８：Ｘ－２２－１６３Ｂ（信越化学工業株式会社製、両末端エポキシポリジメチルシロキサン、数平均分子量３，６００）
　Ｓ－９：ＤＭＳ－Ａ１５（Ｇｅｌｅｓｔ社製、両末端アミンポリジメチルシロキサン、数平均分子量３，０００）

＜評価＞
　上記の実施例及び比較例について、下記の通り、相溶性、塗膜外観、接触角、及び表面滑り性を評価した。結果を下記表３（エポキシ系コーティング）及び表４（アクリル系コーティング）に示す。

　６．相溶性評価
　上記５で調製した塗液について、溶液状態を目視で確認した。評価基準は以下の通りとした。
　　　Ｇ：透明かつ均一に溶解した。
　　　ＮＧ：濁り又は油滴の分離が認められる。

　７．塗膜外観
　上記５で作製した硬化被膜について目視観察した。評価基準は以下の通りとした。
　　　Ｇ：ムラがなく平滑である。
　　　ＮＧ：ムラ、ハジキが認められる。

　８．接触角評価
　上記５で作製した硬化被膜について、水の静的接触角を接触角計（協和界面科学社製、「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ」）を用いて、２μＬの液量で測定した。塗膜外観ＮＧのものに関しては測定を行わなかった。

　９．表面滑り性評価
　上記５で作製した硬化被膜について摩擦測定機（「トライボマスターＴＬ２０１Ｔｓ、株式会社トリニティーラボ製）を用いて、摩擦子として触覚接触子を用いて、荷重２０ｇｆ、走査速度１０ｍｍ／ｓｅｃにて静止摩擦係数及び動摩擦係数を測定した。塗膜外観ＮＧのものに関しては測定を行わなかった。

　以上のように、本発明の範囲に含まれるフルオロポリエーテル基含有ポリマー（Ｐ－１～Ｐ－５、Ｐ－７）とシロキサンポリマー（Ｓ－１、Ｓ－２、Ｓ－４、Ｓ－６～Ｓ－９）を含む組成物は、相溶性が高く、塗膜外観が良好で、１１３度以上の大きな対水接触角と高い滑り性を両立することが確認された。

　本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims

　（Ａ）フルオロポリエーテル基含有ポリマー、及び（Ｂ）シロキサンポリマーを含む組成物であって、
　前記フルオロポリエーテル基含有ポリマーは、下記式（１）又は（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａ又はＲ^４ｂであり；
　Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有する２価の有機基であり；
　Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基を有しない２価の有機基であり；
　前記架橋性基は、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
　ｎは１～１００の整数であり；
　Ｘ^ａは、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｒ^ａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

であり；
　Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５及びＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基又はフェニル基であり；
　Ｒ^ａ７は、水素又はハロゲン原子である。］
で表される共重合体であり、
　前記シロキサンポリマーの数平均分子量は、３５０超１０，０００未満である、組成物。
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１に記載の組成物。
　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項２に記載の組成物。
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）又は（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
　Ｒ^４は、Ｒ^４ａである、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
　Ｒ^４ａは、下記式：

［式中：
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又はアルキル基であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよいアルキル基であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、架橋性基であり；
　Ｙ^１は、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、芳香環、置換基を有する芳香環又はカルバゾリレンであり；
　Ｒ^ｃは、有機基であり、
　Ｙ^２は、単結合又は主鎖の原子数が１～１６であるリンカーである。］
で表される基である、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
　前記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、置換されていてもよいアクリロイル基、シンナモイル基、２，４－ヘキサジエノイル基、ビニルエーテル基、水酸基、オキセタニル基、イソシアネート基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、ハロゲン原子、又はシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基である、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
　前記架橋性基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
　ｎは、２～５０の整数である、請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物。
　前記シロキサンポリマーは、下記式：

［式中：
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２３は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２４は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基又はアリール基であり、
　Ｒ^２５は、水素原子又は１価の有機基であり、
　Ｒ^２６は、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｐは、任意の整数である。］
で表されるシロキサンポリマーである、請求項１～９のいずれか１項に記載の組成物。
　Ｒ^２５及びＲ^２６は、Ｃ_１－６アルキル基である、請求項１０に記載の組成物。
　Ｒ^２５はＣ_１－６アルキル基であり、
　Ｒ^２６は、－Ｒ^２７－Ｒ^２８であり、
　Ｒ^２７は、２価の有機基、酸素原子又は単結合であり、
　Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、エポキシ基、脂環式エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ビニル基、アルコキシ基、又はチオール基である、
請求項１０に記載の組成物。
　Ｒ^２５及びＲ^２６は、－Ｒ^２７－Ｒ^２８であり、
　Ｒ^２７は、２価の有機基、酸素原子又は単結合であり、
　Ｒ^２８は、水素原子、－ＯＨ、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＯ－Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、エポキシ基、脂環式エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ビニル基、アルコキシ基、又はチオール基である、
請求項１０に記載の組成物。
　前記シロキサンポリマーの数平均分子量は、８００～８，０００である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の組成物。
　前記シロキサンポリマーの含有量は、前記フルオロポリエーテル基含有ポリマー１００質量部に対して１～３００質量部である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の組成物。
　請求項１～１５のいずれか１項に記載の組成物を含む表面処理剤。
　請求項１～１５のいずれか１項に記載の組成物、請求項１６に記載の表面処理剤；及び
　マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
　前記マトリックスを形成する組成物は、単官能及び／又は多官能アクリレート及びメタクリレート、単官能及び／又は多官能ウレタンアクリレート及びメタクリレート、単官能及び／又は多官能エポキシアクリレート及びメタクリレートである化合物を含有する組成物、又は単官能及び／又は多官能エポキシである化合物を含有する組成物である、請求項１７に記載の硬化性組成物。
　請求項１～１５のいずれか１項に記載の組成物、請求項１６に記載の表面処理剤、及び／又は請求項１７又は１８に記載の硬化性組成物により形成された膜。
　基材と、該基材の表面に請求項１～１５のいずれか１項に記載の組成物、請求項１６に記載の表面処理剤、及び／又は請求項１７又は１８に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
　上記物品が光学部材である、請求項２０に記載の物品。
　ＬｉＤＡＲカバー部材である、請求項２０に記載の物品。
　センサー部材である、請求項２０に記載の物品。
　インストルメントパネルカバー部材である、請求項２０に記載の物品。
　自動車内装部材である、請求項２０に記載の物品。