WO2018070635A1 - 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 그 제조 방법 - Google Patents

입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 그 제조 방법 Download PDF

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WO2018070635A1
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magnetic field
dimensional
coil structure
field generating
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PCT/KR2017/006323
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최시영
김성대
류정호
송경
최홍수
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한국기계연구원
재단법인대구경북과학기술원
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Definitions

  • the present invention relates to a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a magnetic field generating device including a substrate and a spiral three-dimensional helmholz coil having a line width of a predetermined size formed on the substrate. And a method for manufacturing the device.
  • TEMs Transmission Electron Microscopes accelerate electrons emitted from an electron gun at very high speeds and transmit them through a thin flake-like specimen, thereby allowing the interaction of electrons and specimens to react (eg, diffraction, etc.).
  • In-situ TEM (TEM) is a real-time observation of internal structural changes caused by the application of external stimuli (e.g., heat, electrical signals, mechanical stress, magnetic fields, etc.) to specimens. Real-time transmission electron microscopy) is actively used in the related art.
  • the specimen to be observed in the transmission electron microscope is mounted on the end of the rod-shaped specimen holder, and then the holder is mounted on the transmission electron microscope objective lens to position the specimen on the electron beam optical axis. Therefore, in order to add an external stimulus to the specimen for in-situ TEM analysis, a separate device for applying the external stimulus to the holder portion on which the specimen is mounted should be provided.
  • the objective lens portion which is the location of the specimen in the transmission electron microscope. That is, the objective lens of the transmission electron microscope is composed of a pair of electromagnetic lenses up and down to control the focal length of the electron beam, the specimen is located in the gap (polepiece gap) between the two lenses. Since the polepiece gap is inversely proportional to the spatial resolution of the transmission electron microscope, it is desirable to reduce the distance between the lenses in order to improve the resolution. Therefore, the specimen holder for in-situ TEM analysis is a space occupied by heating elements (e.g. heat), magnetic coils (e.g. magnetic fields), electrical circuits (e.g. electrical signals), etc., which are additional devices for applying external stimuli to the specimen. It is necessary to minimize this.
  • heating elements e.g. heat
  • magnetic coils e.g. magnetic fields
  • electrical circuits e.g. electrical signals
  • the transmission electron microscope is composed of a plurality of electromagnetic lenses, the increase in the input current for applying the magnetic field affects the intensity of the electromagnetic lens for imaging can cause a reduction in image resolution.
  • the present invention has been made as a countermeasure for the above-described problem, and provides a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure for efficiently applying a magnetic field to a holder on which a specimen for a transmission electron microscope is mounted.
  • MEMS Micro Electro Mechanical Systems
  • a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure and a method for manufacturing such a device may be provided.
  • a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure includes a substrate and a spiral three-dimensional Helmholz coil having a line width of a predetermined size formed on the substrate, and applied to the Helmholtz coil formed spirally on the substrate The magnetic field may be generated in a direction parallel to the substrate by the applied current.
  • the substrate according to an embodiment of the present invention is a substrate manufactured using silicon
  • the predetermined size may be a size of a micrometer or less unit.
  • a specimen may be located in the middle portion of the Helmholtz coil, and at least one hole may be formed in an area of the substrate corresponding to the middle portion to allow the electron beam to pass therethrough.
  • the hole may have a size of a micrometer or less unit.
  • At least one pole for mounting the specimen may be formed in an area adjacent to the hole on the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention.
  • the back surface of the substrate corresponding to the area where the hole is formed is etched, the back surface is etched in a predetermined shape before the hole is formed, and the predetermined shape may be a trapezoidal shape.
  • Method for manufacturing a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure the step of depositing a metal thin film on a substrate and patterning to form a spiral three-dimensional Helmholtz coil having a line width of a predetermined size on the substrate And a step of depositing and patterning is repeatedly performed to form a spiral three-dimensional Helmholtz coil having a line width of a predetermined size on the substrate, and the substrate is formed by a current applied to the spirally formed Helmholtz coil on the substrate.
  • Magnetic fields can be generated in parallel directions.
  • a part of the back surface of the substrate may be etched before the step of depositing a metal thin film on the substrate is performed, and part of the back surface may be an area of the substrate through which the electron beam will be transmitted.
  • a specimen may be located at a middle portion of the Helmholtz coil, and the manufacturing method may include at least one of which an electron beam may be transmitted to an area of the substrate corresponding to the middle portion of the Helmholtz coil.
  • the method may further include forming a hole of the hole, and the hole may have a size of a micrometer or less unit.
  • the method according to an embodiment of the present invention may further comprise forming at least one pole for mounting the specimen with respect to the area adjacent the hole on the substrate.
  • a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure When using a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention, the magnetic field can be concentrated in the local region, thereby reducing the current strength for applying the magnetic field, but the strength of the magnetic field required for the inspection of the specimen, etc. Can be sufficiently achieved.
  • a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure may be manufactured as a chip type MEMS device including a fine helmholtz coil using a semiconductor process.
  • the magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention can generate a magnetic field by using a small Helmholtz coil, thereby greatly improving the spatial resolution.
  • a type of bulky electromagnetic coil is generally used to generate a magnetic field
  • the volume of the site where the specimen is to be placed increases.
  • the distance between the lenses is inevitably increased, so that a decrease in spatial resolution is inevitable.
  • the magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention it is possible to effectively reduce the distance (polepiece gap) between the lenses, it is possible to achieve improved spatial resolution compared to the conventional.
  • FIG. 1A shows the structure and specimen holder of a typical transmission electron microscope (TEM).
  • TEM transmission electron microscope
  • FIG. 1B shows the structure of the polepiece gap in a typical transmission electron microscope (TEM) and the form of magnetic field generation at the specimen holder end.
  • TEM transmission electron microscope
  • FIG. 2 shows a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • FIG 3 shows an exemplary side view of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 shows an example of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure and a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is an example of a manufacturing process of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 illustrates a scanning electron microscope (SEM) image of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • SEM scanning electron microscope
  • FIG. 8 and 9 illustrate an operation state test result of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure and a method for manufacturing such a device may be provided.
  • a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure includes a substrate and a spiral three-dimensional Helmholz coil having a line width of a predetermined size formed on the substrate, and applied to the Helmholtz coil formed spirally on the substrate The magnetic field may be generated in a direction parallel to the substrate by the applied current.
  • the substrate according to an embodiment of the present invention is a substrate manufactured using silicon
  • the predetermined size may be a size of a micrometer or less unit.
  • a specimen may be located in the middle portion of the Helmholtz coil, and at least one hole may be formed in an area of the substrate corresponding to the middle portion to allow the electron beam to pass therethrough.
  • the hole may have a size of a micrometer or less unit.
  • At least one pole for mounting the specimen may be formed in an area adjacent to the hole on the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention.
  • the back surface of the substrate corresponding to the area where the hole is formed is etched, the back surface is etched in a predetermined shape before the hole is formed, and the predetermined shape may be a trapezoidal shape.
  • Method for manufacturing a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure the step of depositing a metal thin film on a substrate and patterning to form a spiral three-dimensional Helmholtz coil having a line width of a predetermined size on the substrate And a step of depositing and patterning is repeatedly performed to form a spiral three-dimensional Helmholtz coil having a line width of a predetermined size on the substrate, and the substrate is formed by a current applied to the spirally formed Helmholtz coil on the substrate.
  • Magnetic fields can be generated in parallel directions.
  • a part of the back surface of the substrate may be etched before the step of depositing a metal thin film on the substrate is performed, and part of the back surface may be an area of the substrate through which the electron beam will be transmitted.
  • a specimen may be located at a middle portion of the Helmholtz coil, and the manufacturing method may include at least one of which an electron beam may be transmitted to an area of the substrate corresponding to the middle portion of the Helmholtz coil.
  • the method may further include forming a hole of the hole, and the hole may have a size of a micrometer or less unit.
  • the method according to an embodiment of the present invention may further comprise forming at least one pole for mounting the specimen with respect to the area adjacent the hole on the substrate.
  • the present invention provides a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure that can be used in a transmission electron microscope that can visualize the microstructure inside the material such as a specimen with a very high spatial resolution (for example, 10 -10 m or less) and the manufacturing of the device It is about a method.
  • a magnetic field may be generated parallel to the substrate by forming the coil in three-dimensional (3D) on the substrate.
  • FIG. 1A shows a structure of a typical transmission electron microscope (TEM) and a specimen holder
  • FIG. 1B shows a polepiece gap structure and a magnetic field generating form at the specimen holder end in a typical transmission electron microscope (TEM).
  • TEM transmission electron microscope
  • the transmission electron microscope 10 accelerates the electrons emitted from the electron gun at a very high speed and transmits them to the thin flake-shaped specimens.
  • the diffraction phenomenon between the transmitted electrons and the specimens is related to crystal structure, defect and component distribution in the specimen. It is an analysis device that derives information.
  • a specimen which is generally a target of the transmission electron microscope 10
  • the holder 20 on which the specimen is mounted is a transmission electron microscope.
  • Imaging is performed by placing the specimen on the electron beam optical axis by being inserted into the objective lens portion of.
  • an external magnetic pole eg, a heat, an electric field, a magnetic field, etc.
  • a separate device eg, a heating element, an electric circuit, or a magnetic coil
  • Etc. are attached and utilized.
  • the conventional separate device occupies a considerable volume, there is a problem that the spatial resolution is inhibited by increasing the distance between the lenses (polepiece gap).
  • a Helmholtz coil having a small size eg, several micrometers or less
  • a MEMS process since a Helmholtz coil having a small size (eg, several micrometers or less) is three-dimensionally formed by using a MEMS process, a local region The density of the magnetic field applied to (for example, a hole to be provided in the substrate) can be improved.
  • MEMS chip magnetic field generating device chip
  • the objective lens portion which is the location of the specimen in the transmission electron microscope. That is, the objective lens of the transmission electron microscope is composed of a pair of electromagnetic lenses up and down to control the focal length of the electron beam, the specimen is located in the space (polepiece gap) between the two lenses. Since the distance between the lenses is inversely proportional to the spatial resolution of the transmission electron microscope, it is desirable to reduce the distance between these lenses in order to improve the spatial resolution.
  • a Helmholtz coil having a small size is three-dimensionally formed by using a MEMS process, thereby reducing the distance between lenses. Can be effectively reduced.
  • the transmission electron microscope is composed of a plurality of electromagnetic lenses
  • the increase in the input current for applying the magnetic field affects the intensity of the electromagnetic lens for the imaging can lead to a reduction in the resolution of the image. Therefore, in order to reduce the intensity of the input current for applying the magnetic field and to obtain the magnetic field strength required for effective imaging, the magnetic field may be concentrated in the local region as in the magnetic field generating element having the three-dimensional coil structure according to the embodiment of the present invention. It must be in a form that can.
  • a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure is manufactured by stacking a metal line having a line width of several micrometers or less on a silicon substrate in the form of a three-dimensional coil and applying a current to the metal line. Therefore, the conventional problem can be improved by applying a magnetic field to the center of the coil.
  • FIG. 2 shows a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention
  • Figure 4 shows an example of a magnetic field generating device and a three-dimensional coil structure having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention .
  • the magnetic field generating device 100 having a three-dimensional coil structure includes a substrate 110 and a spiral three-dimensional helmholz coil 120 having a line width of a predetermined size formed on the substrate.
  • a magnetic field may be generated in a direction parallel to the substrate 110 by a current applied to the Helmholtz coil 120 formed spirally on the substrate 110.
  • the substrate 110 is a substrate manufactured using silicon, and a predetermined size may be a size of a micrometer or less unit.
  • FIG 3 shows an exemplary side view of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • the hole may have a size of a micrometer or less unit.
  • the at least one hole 111 may be formed in a size corresponding to the coil opening interval.
  • At least one pole 113 for mounting the specimen may be formed in an area adjacent to the hole on the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention.
  • the rear surface of the substrate corresponding to the region where the hole 111 is formed is etched, and the rear surface is etched in a predetermined shape before the hole is formed.
  • the shape may be a trapezoidal shape or the like (FIG. 3B).
  • FIG. 5 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention
  • Figure 6 is a manufacturing of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention
  • 7 shows a scanning electron microscope (SEM) image of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • SEM scanning electron microscope
  • Method for manufacturing a magnetic field generating device 100 having a three-dimensional coil structure the step of depositing a metal thin film on a substrate (S100) and the spiral three-dimensional having a line width of a predetermined size on the substrate Patterned to form a Helmholtz coil (S200), and the step of depositing (S100) and patterning (S200) is repeatedly performed to form a spiral three-dimensional Helmholtz coil having a line width of a predetermined size on the substrate,
  • the magnetic field may be generated in a direction parallel to the substrate by the current applied to the Helmholtz coil formed spirally on the substrate.
  • a portion of the rear surface of the substrate may be etched before the step S100 of depositing a metal thin film on the substrate is performed, and a portion of the rear surface may be an area of the substrate through which the electron beam is to be transmitted. Such etching may facilitate the manufacture of a window allowing the electron beam in the transmission electron microscope to transmit.
  • a specimen may be located at a middle portion of the Helmholtz coil, and the manufacturing method may include at least one of which an electron beam may be transmitted to an area of the substrate corresponding to the middle portion of the Helmholtz coil.
  • Forming a hole of (S300) further comprises, the hole may have a size of a unit of less than a micrometer.
  • the step S300 for forming the hole 111 is additionally performed. Can be performed. In general, since the area for observing the transmission electron microscope is within several tens of micrometers, holes may be formed through microfabrication of this size.
  • FIB ion focused beam apparatus
  • FIB devices unlike electron microscopy, can focus ion (eg, Ga +) beams to enable local processing of objects (eg, micro to nanometer-level cutting).
  • a hole having a size of several tens of micrometers or less for electron beam transmission may be formed in the device having completed the above-described steps (S100 and S200) using FIB.
  • the method according to an embodiment of the present invention may further include forming at least one pole 113 for mounting the specimen with respect to the region adjacent to the hole 111 on the substrate 110 (S400).
  • the at least one pole 113 formed may be utilized to fix the microscopic specimen.
  • the height of the at least one pole 113 may be one half (1/2) of the coil height, and the fine specimen may be fixed by bonding to the at least one pole 113.
  • the specimens may be positioned where the strength of the magnetic field generated by the coil is greatest using the holes 111 and the poles 113 provided on the substrate.
  • the above-described numerical values and the numerical values shown in FIG. 6 are used for convenience of description, and are not necessarily limited to these numerical values in the manufacturing process of the magnetic field generating device having the three-dimensional coil structure according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 and 9 illustrate an operation state test result of a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure according to an embodiment of the present invention.
  • Coil # 1 of FIG. 8 refers to a coil located on the left side on the substrate 110 with respect to the hole 111
  • coil # 2 refers to a coil located on the right side on the substrate 110 with respect to the hole 111.
  • Holes 111 processed with FIB for electron beam transmission may be identified in the TEM image. In other words, since the electron beam is transmitted only in the holed portion, imaging may be performed with electrons transmitted only in the hole 111 portion.
  • FIG. 8 it may be determined whether a magnetic field is generated by the actual metal coil 120.
  • the electron beam image in the form of a circle may be obtained by focusing the electron beam on a portion of the hole 111 formed in the device 100. Subsequently, when the intensity of the current applied to the coil 120 is changed, it can be seen that the circular electron beam is moved as shown in FIG. 8, which is a magnetic field having a negative charge by Fleming's left hand law. It can be finely diffracted by interaction with. In other words, according to Fleming's left hand law, the electron beam is moved by the magnetic field generated by the magnetic field generated by the coil 120. Through this test it can be confirmed that the magnetic field applied by the coil 120 is possible.
  • the above description of the apparatus eg, a magnetic field generating device having a three-dimensional coil structure
  • the description of the same contents as those of the above-described apparatus is omitted.

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Abstract

본 발명의 일 실시예로써, 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 이러한 소자를 제조하기 위한 방법이 제공될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자는 기판 및 기판 상에 형성된 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠(helmholz) 코일을 포함하고, 기판 상에서 나선형으로 형성된 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생될 수 있다.

Description

입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 그 제조 방법
본 발명은 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판과 이러한 기판 상에 형성된 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠(helmholz) 코일이 포함된 자기장 발생 소자 및 그 소자의 제조 방법에 관한 것이다.
투과 전자 현미경(Transmission Electron Microscope, TEM)은, 전자총에서 방출된 전자를 매우 빠른 속도로 가속하여 얇은 박편 형태의 시편(specimen)에 투과시킴으로써, 투과되는 전자와 시편 간의 상호 반응(예컨대, 회절 등)에 의해 시편의 내부의 결정 구조, 결함 및 성분 분포 등과 관련한 정보를 도출하는 분석 장치이다. 이같은 투과 전자 현미경(TEM)을 활용한 분석 기법 중 시편에 외부 자극(예컨대, 열, 전기 신호, 기계적 응력, 자기장 등)을 인가함에 따라 발생하는 내부 구조 변화를 실시간으로 관찰하는 In-situ TEM (실시간 투과 전자 현미경 분석) 분야가 관련 기술 범위에서 활발하게 사용되고 있다. 일반적으로, 투과 전자 현미경의 관찰 대상인 시편은, 막대기 형태의 시편 홀더 끝단에 장착되고, 이어 시편이 장착된 홀더가 투과 전자 현미경 대물렌즈부에 삽입됨으로써 시편이 전자빔 광축에 위치된다. 따라서, In-situ TEM 분석을 위해 시편에 외부 자극을 부가하기 위해서는 시편이 장착된 홀더 부위에 외부 자극 인가가 가능하도록 하는 별도의 장치가 마련되어야 한다.
In-situ TEM 분석과 관련하여 기계적 측면에 있어 주요하게 고려해야 할 점은, 투과 전자 현미경 내에 시편이 위치하는 부위인 대물렌즈 부분의 공간적 한계이다. 즉, 투과 전자 현미경의 대물렌즈는 위,아래 한쌍의 전자기 렌즈로 구성되어 전자빔의 초점 거리를 제어하게 되는데, 이 두 렌즈 사이의 공간(polepiece gap)에 시편이 위치하게 된다. 이같은 렌즈간의 거리(polepiece gap)는 투과 전자 현미경의 공간 분해능과 반비례 하기 때문에, 분해능의 향상을 도모하기 위해서는 이러한 렌즈간 거리를 줄이는 것이 바람직하다. 따라서 In-situ TEM 분석을 위한 시편 홀더는, 시편에 외부 자극을 인가하기 위한 부가 장치인 발열체(예컨대, 열), 자기 코일(예컨대, 자기장), 전기 회로(예컨대, 전기 신호)등이 차지하는 공간을 최소화 하는 것이 필요하다.
또한, 시편에 자기장을 인가하기 위해 필요한 입력 전류의 세기를 최소화 할 필요가 있다. 즉, 투과 전자 현미경은 다수의 전자기 렌즈들로 구성되어 있는데, 자기장 인가를 위한 입력 전류가 증가하게 되면 이미징을 위한 전자기 렌즈의 세기에 영향을 미치게 되어 이미지 해상도 저하를 야기할 수 있다.
본 발명은 전술한 문제점에 대한 대응안으로서 창안된 것으로, 투과 전자 현미경에 대한 시편이 장착되는 홀더에 자기장(magnetic field)을 효율적으로 인가하기 위한 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제공하고자 한다. 이를 위하여 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 기법을 활용한 초소형 자기장 인가 소자를 개발하여, 전술한 종래 기술의 공간적 한계점를 극복하고자 한다.
본 발명의 일 실시예로써, 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 이러한 소자를 제조하기 위한 방법이 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자는 기판 및 기판 상에 형성된 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠(helmholz) 코일을 포함하고, 기판 상에서 나선형으로 형성된 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판은 실리콘을 이용하여 제작된 기판이고, 소정의 크기는 마이크로 미터 이하 단위의 크기일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 헬름홀츠 코일의 중단(middle)부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고, 중단부에 상응하는 기판의 영역에는 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀이 형성되어 있으며, 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상의 홀과 인접한 영역에는 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(pole)이 형성되어 있을 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 홀이 형성된 영역에 상응하는 기판의 후면은 식각된 형태이고, 후면은 홀이 형성되기 이전에 소정의 형태로 식각되며, 소정의 형태는 사다리꼴 형태일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법은, 기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계 및 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되도록 패터닝하는 단계를 포함하고, 증착하는 단계와 패터닝하는 단계가 반복적으로 수행됨으로써 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되며, 기판 상에서 나선형으로 형성된 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 기판의 후면 중 일부는 기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계가 수행되기 전에 식각되고, 이러한 후면 중 일부는 전자빔이 투과될 기판의 영역일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 헬름홀츠 코일의 중단(middle)부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고, 제조 방법은 중단부에 상응하는 기판의 영역에 대하여 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀을 형성하는 단계를 더 포함하고, 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 방법은 기판 상의 홀과 인접한 영역에 대하여 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(pole)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 이용하면, 국부적 영역에 자기장이 집중될 수 있도록 함으로써 자기장 인가를 위한 전류 세기를 감소시키되 시편의 검사 등을 위하여 요구되는 자기장의 세기를 충분히 달성할 수 있다. 예를 들어, 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자는 반도체 공정을 활용한 미세 헬름홀츠(helmholtz) 코일이 포함된 chip 형태의 MEMS 소자로써 제조될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자는 미소의 헬름홀츠 코일을 이용하여 자기장을 발생시킬 수 있으므로 공간 분해능을 대폭 향상시킬 수 있다. 다시 말해서, 기존의 자기장 인가를 위한 시편 홀더의 경우에는, 자기장 발생을 위해 일반적으로 상당한 크기(bulky)의 전자기 코일을 장착하여 사용하는 형태이므로 시편이 위치될 부위의 부피가 증가되고, 이에 따라 이러한 종래의 시편 홀더를 사용하기 위해서는 렌즈간 거리를 증가시킬수 밖에 없으므로, 공간 분해능의 저하가 불가피하다. 이에 비하여 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 이용하면, 렌즈간의 거리(polepiece gap)를 효과적으로 감축시킬 수 있으므로, 종래 대비 향상된 공간 분해능을 달성할 수 있다.
도 1a은 일반적인 투과 전자 현미경(TEM)의 구조 및 시편 홀더를 나타낸다.
도 1b는 일반적인 투과 전자 현미경(TEM)에서의 렌즈간의 거리(polepiece gap) 구조 및 시편 홀더 단부에서의 자기장 생성 형태를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자의 예시적인 측면도를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 입체형 코일 구조의 일 예를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법을 나타낸 순서도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자의 제조 공정의 일 예이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자에 대한 주사 전자 현미경(SEM) 이미지를 나타낸다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자의 동작 상태 테스트 결과를 나타낸다.
본 발명의 일 실시예로써, 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 이러한 소자를 제조하기 위한 방법이 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자는 기판 및 기판 상에 형성된 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠(helmholz) 코일을 포함하고, 기판 상에서 나선형으로 형성된 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판은 실리콘을 이용하여 제작된 기판이고, 소정의 크기는 마이크로 미터 이하 단위의 크기일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 헬름홀츠 코일의 중단(middle)부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고, 중단부에 상응하는 기판의 영역에는 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀이 형성되어 있으며, 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상의 홀과 인접한 영역에는 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(pole)이 형성되어 있을 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 홀이 형성된 영역에 상응하는 기판의 후면은 식각된 형태이고, 후면은 홀이 형성되기 이전에 소정의 형태로 식각되며, 소정의 형태는 사다리꼴 형태일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법은, 기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계 및 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되도록 패터닝하는 단계를 포함하고, 증착하는 단계와 패터닝하는 단계가 반복적으로 수행됨으로써 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되며, 기판 상에서 나선형으로 형성된 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 기판의 후면 중 일부는 기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계가 수행되기 전에 식각되고, 이러한 후면 중 일부는 전자빔이 투과될 기판의 영역일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 헬름홀츠 코일의 중단(middle)부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고, 제조 방법은 중단부에 상응하는 기판의 영역에 대하여 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀을 형성하는 단계를 더 포함하고, 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 방법은 기판 상의 홀과 인접한 영역에 대하여 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(pole)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
본 명세서에서 사용되는 용어에 대해 간략히 설명하고, 본 발명에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
본 발명에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 발명의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 발명에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 발명의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다.
명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "...부", "모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미한다. 또한, 명세서 전체에서 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, "그 중간에 다른 소자를 사이에 두고" 연결되어 있는 경우도 포함한다.
본 발명은 시편 등의 소재 내부의 미세 구조를 매우 높은 공간 분해능(예컨대, 10-10m 이하)으로 시각화 할 수 있는 투과 전자 현미경에서 사용될 수 있는 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 그 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 종래 대비 코일의 부피를 획기적으로 줄일 수 있을 뿐만 아니라 코일을 통하여 발생될 자기장의 밀도를 증가시킬 수 있다. 또한, 기판 상에 코일을 입체적(3D)으로 형성함으로써 기판에 평행하게 자기장이 발생될 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
도 1a은 일반적인 투과 전자 현미경(TEM)의 구조 및 시편 홀더를 나타내고, 도 1b는 일반적인 투과 전자 현미경(TEM)에서의 렌즈간의 거리(polepiece gap) 구조 및 시편 홀더 단부에서의 자기장 생성 형태를 나타낸다.
투과 전자 현미경(10)은 전자총에서 방출된 전자를 매우 빠른 속도로 가속하여 얇은 박편 형태의 시편에 투과시킴으로써, 투과되는 전자와 시편 간의 회절 현상에 의해 시편 내부의 결정 구조, 결함 및 성분 분포 등과 관련한 정보를 도출하는 분석 장치이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 일반적으로 투과 전자 현미경(10)의 관찰 대상인 시편은 막대기 형태의 시편 홀더(20) 끝단(21)에 장착되고, 시편이 장착된 홀더(20)는 투과 전자 현미경의 대물렌즈부에 삽입됨으로써 시편이 전자빔 광축에 위치하도록 하여 이미징이 진행된다. 이에 따라 시편에 외부 자극(예컨대, 열, 전기장, 자기장 등)을 부가하기 위해서는 시편이 장착 되는 홀더(20) 부위에 외부 자극 인가가 가능하도록 하는 별도의 장치(예컨대, 발열체, 전기회로, 자기 코일 등)가 부착되어 활용된다. 다만, 이러한 종래의 별도의 장치는 적지 않은 부피를 차지하므로, 렌즈간의 거리(polepiece gap)를 증가시켜 공간 분해능을 저해한다는 문제점이 존재한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자에서는 MEMS 공정을 활용하여 미세한 크기(에컨대, 수 마이크로 미터 이하)의 헬름홀츠(helmholtz) 코일이 3차원으로 입체적으로 형성되므로, 국부 영역(예컨대, 기판에 마련될 홀 등)에 가해지는 자기장의 밀도를 향상시킬 수 있다. 다시 말해서, 미세 코일이 포함된 자기장 발생 소자 칩(MEMS chip)에 투과 전자 현미경의 시편을 장착함으로써 시편에 자기장을 인가하는 동시에 미세 구조의 변화를 관찰할 수도 있다.
In-situ TEM 분석과 관련하여 기계적 측면에 있어 주요하게 고려해야 할 점은 투과 전자 현미경 내에 시편이 위치하는 부위인 대물렌즈 부분의 공간적 한계이다. 즉, 투과 전자 현미경의 대물렌즈는 위,아래 한쌍의 전자기 렌즈로 구성되어 전자빔의 초점거리를 제어하게 되는데, 이러한 두 렌즈 사이의 공간(polepiece gap)에 시편이 위치하게 된다. 렌즈간의 거리는 투과 전자 현미경 공간 분해능과 반비례 하기 때문에, 공간 분해능을 향상시키기 위해서는 이러한 렌즈간 거리를 감소시키는 것이 바람직하다. 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자에서는 MEMS 공정을 활용하여 미세한 크기(에컨대, 수 마이크로 미터 이하)의 헬름홀츠 코일이 3차원으로 입체적으로 형성되므로 종래 대비 렌즈간 거리를 효과적으로 감소키실 수 있다.
또한, 시편에 자기장을 인가하기 위하여 요구되는 입력 전류의 세기를 최소화할 필요가 있다. 다시 말해서, 투과 전자 현미경은 다수의 전자기 렌즈들로 구성되어 있는데, 자기장 인가를 위한 입력 전류가 증가하게 되면 이미징을 위한 전자기 렌즈의 세기에 영향을 미치게 되어 이미지의 해상도 저하를 초래할 수 있다. 그러므로, 자기장 인가를 위한 입력 전류의 세기를 줄이되 효과적인 이미징을 위하여 요구되는 자기장 세기를 획득하기 위해서는 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자에서와 같이 국부적 영역에 자기장이 집중될 수 있는 형태이어야 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자는 수 마이크로 미터 이하의 선폭을 갖는 금속 라인을 3차원 코일의 형태로 실리콘 기판에 적층하여 chip으로써 제조하고, 금속 라인에 전류를 인가하여 코일의 중앙부에 자기장이 인가되도록 함으로써 종래의 문제점을 개선할 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 나타내고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자 및 입체형 코일 구조의 일 예를 나타낸다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자(100)는 기판(110) 및 기판 상에 형성된 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠(helmholz) 코일(120)을 포함하고, 기판(110) 상에서 나선형으로 형성된 헬름홀츠 코일(120)에 인가된 전류에 의하여 기판(110)과 평행한 방향으로 자기장이 발생될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판(110)은 실리콘을 이용하여 제작된 기판이고, 소정의 크기는 마이크로 미터 이하 단위의 크기일 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자의 예시적인 측면도를 나타낸다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 헬름홀츠 코일(120)의 중단(middle)부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고, 중단부에 상응하는 기판의 영역에는 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀(111)이 형성되어 있으며, 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 가질 수 있다. 예를 들면, 적어도 하나의 홀(111)은 코일 개방 간격과 상응하는 크기로 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상의 홀과 인접한 영역에는 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(pole)(113)이 형성되어 있을 수 있다.
도 3를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따르면 홀(111)이 형성된 영역에 상응하는 기판의 후면은 식각된 형태이고, 후면은 홀이 형성되기 이전에 소정의 형태로 식각되며, 소정의 형태는 사다리꼴 형태 등일 수 있다(도 3의 (b)).
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법을 나타낸 순서도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자의 제조 공정의 일 예이다. 또한, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자에 대한 주사 전자 현미경(SEM) 이미지를 나타낸다.
본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자(100)를 제조하기 위한 방법은, 기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계(S100) 및 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되도록 패터닝하는 단계(S200)를 포함하고, 증착하는 단계(S100)와 패터닝하는 단계(S200)가 반복적으로 수행됨으로써 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되며, 기판 상에서 나선형으로 형성된 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 기판의 후면 중 일부는 기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계(S100)가 수행되기 전에 식각되고, 이러한 후면 중 일부는 전자빔이 투과될 기판의 영역일 수 있다. 이러한 식각에 의하여 투과 전자 현미경에서의 전자빔이 투과할 수 있도록 하는 윈도우 제작이 보다 용이해질 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 헬름홀츠 코일의 중단(middle)부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고, 제조 방법은 중단부에 상응하는 기판의 영역에 대하여 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀을 형성하는 단계(S300)를 더 포함하고, 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 가질 수 있다.
전술한 단계들을 거친 본 발명의 일 실시예에 따른 소자(100)에는 아직 전자가 투과될 수 있는 홀(111)이 형성되어 있지 않기 때문에, 홀(111)을 형성하기 위한 단계(S300)가 추가적으로 수행될 수 있다. 일반적으로 투과 전자 현미경을 관찰하는 영역이 수십 마이크로 미터 이내이므로, 이 정도 크기의 미세 가공을 통하여 홀이 형성될 수 있다.
홀 형성을 위한 미세 가공을 위하여 이온 집속 빔장치(Focused Ion Beam, FIB)이 활용될 수 있다. FIB 장치는 전자 현미경과 달리 이온(예컨대, Ga+)빔을 집속하여 물체의 국부적 가공(예컨대, 마이크로 내지 나노 미터 이하 수준의 절삭 가공)을 가능케 할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면 전술한 단계(S100 및 S200)를 마친 소자에 FIB를 이용하여 전자빔 투과를 위한 수십 마이크로 미터 이하 크기의 홀을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 방법은 기판(110) 상의 홀(111)과 인접한 영역에 대하여 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(113)을 형성하는 단계(S400)를 더 포함할 수 있다. 형성된 적어도 하나의 폴(113)은 미소의 시편을 고정시키기 위하여 활용될 수 있다. 예를 들면, 적어도 하나의 폴(113)의 높이는 코일 높이의 절반(1/2)일 수 있고, 미소의 시편은 적어도 하나의 폴(113)에 접합됨으로써 고정될 수 있다. 기판 상에 마련된 홀(111) 및 폴(113)을 이용하여 코일에 의하여 발생되는 자기장의 세기가 가장 큰 곳에 시편을 위치시킬 수 있다. 전술한 수치 및 도 6 등에 나타난 수치는 설명의 편의를 위하여 사용된 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자의 제조 공정에서 반드시 이러한 수치에 제한되는 것은 아니다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자의 동작 상태 테스트 결과를 나타낸다.
투과 전자 현미경의 시편 홀더에 본 발명의 일 실시예에 따른 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자(100)를 장착하여 실제 투과 전자 현미경에 홀더를 삽입한 후, 소자(100)의 동작 여부 등을 확인 해보았다. 도 8의 코일 #1은 홀(111)을 기준으로 기판(110) 상에서 왼편에 위치한 코일을 지칭하고, 코일 #2는 홀(111)을 기준으로 기판(110) 상에서 오른편에 위치한 코일을 지칭한다.
전자빔 투과를 위해 FIB로 가공한 홀(111)은 TEM 이미지에서 확인될 수 있다. 다시 말해서, 구멍을 낸 부분에서만 전자빔이 투과되므로 홀(111) 부분에서만 투과된 전자로 이미징이 수행될 수 있다.
도 8을 참조하면, 실제 금속 코일(120)에 의해 자기장이 발생되는지 여부가 확인될 수 있다. 소자(100)에 조성된 홀(111) 부위에 전자빔을 집속하여 원(cirle) 형태의 전자빔 이미지가 획득될 수 있다. 이후, 코일(120)에 가해지는 전류의 세기를 달리하였을 때, 원 형태의 전자빔이 도 8에서와 같이 위치 이동함을 확인할 수 있는데, 이는 플레밍의 왼손 법칙에 의해 음의 전하를 띄는 전자빔은 자기장과의 상호 작용에 의해 미세하게 회절될 수 있음을 나타낸다. 다시 말해서, 플레밍의 왼손법칙에 따라 코일(120)에서 발생한 자기장에 의해 전기자기력을 받아 전자빔이 이동하게 된 것이다. 이러한 테스트를 통하여 코일(120)에 의한 자기장 인가가 가능함을 확인할 수 있다.
도 9에서와 같이, 코일(120)에 인가되는 전류량에 따른 전자빔의 이동 이미지를 중첩해보면, 코일(120)에 의해 인가되는 자기장의 세기가 전류 량에 비례하며 그 방향도 일정하다는 것을 확인할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 방법(예컨대, 소자 제조 방법)과 관련하여서는 전술한 장치(예컨대, 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자)에 대한 내용이 적용될 수 있다. 따라서, 방법과 관련하여, 전술한 장치에 대한 내용과 동일한 내용에 대하여는 설명을 생략하였다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (9)

  1. 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자로서,
    기판; 및
    상기 기판 상에 형성된 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠(helmholz) 코일을 포함하고,
    상기 기판 상에서 나선형으로 형성된 상기 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 상기 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생되는 것인 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판은 실리콘을 이용하여 제작된 기판이고,
    상기 소정의 크기는 마이크로 미터 이하 단위의 크기인 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 헬름홀츠 코일의 중단부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고,
    상기 중단부에 상응하는 상기 기판의 영역에는 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀이 형성되어 있고,
    상기 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 갖는 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 기판 상의 상기 홀과 인접한 영역에는 상기 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(pole)이 형성되어 있는 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 홀이 형성된 영역에 상응하는 상기 기판의 후면은 식각된 형태이고,
    상기 후면은 상기 홀이 형성되기 이전에 소정의 형태로 식각되며,
    상기 소정의 형태는 사다리꼴 형태인 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자.
  6. 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법으로서,
    기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계; 및
    상기 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되도록 패터닝하는 단계를 포함하고,
    상기 증착하는 단계와 상기 패터닝하는 단계가 반복적으로 수행됨으로써 상기 기판 상에서 소정 크기의 선폭을 갖는 나선형의 입체형 헬름홀츠 코일이 형성되며,
    상기 기판 상에서 나선형으로 형성된 상기 헬름홀츠 코일에 인가된 전류에 의하여 상기 기판과 평행한 방향으로 자기장이 발생되는 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 기판의 후면 중 일부는 상기 기판 상에 메탈 박막을 증착하는 단계가 수행되기 전에 식각되고,
    상기 후면 중 일부는 전자빔이 투과될 상기 기판의 영역인 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 헬름홀츠 코일의 중단부에는 시편(specimen)이 위치할 수 있고, 상기 중단부에 상응하는 상기 기판의 영역에 대하여 전자빔이 투과될 수 있는 적어도 하나의 홀을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 홀은 마이크로 미터 이하 단위의 크기를 갖는 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 기판 상의 상기 홀과 인접한 영역에 대하여 상기 시편을 장착하기 위한 적어도 하나의 폴(pole)을 형성하는 단계를 더 포함하는 입체형 코일 구조를 갖는 자기장 발생 소자를 제조하기 위한 방법.
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