WO2015190363A1 - Mems構造体 - Google Patents

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WO2015190363A1
WO2015190363A1 PCT/JP2015/066008 JP2015066008W WO2015190363A1 WO 2015190363 A1 WO2015190363 A1 WO 2015190363A1 JP 2015066008 W JP2015066008 W JP 2015066008W WO 2015190363 A1 WO2015190363 A1 WO 2015190363A1
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fixed electrode
mems structure
movable weight
main body
substrate
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崇 溝田
威 岡見
夕輝 植屋
潤弥 松岡
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株式会社村田製作所
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
    • G01C19/5719Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
    • G01C19/5733Structural details or topology
    • G01C19/5755Structural details or topology the devices having a single sensing mass
    • G01C19/5762Structural details or topology the devices having a single sensing mass the sensing mass being connected to a driving mass, e.g. driving frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/84Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of applied mechanical force, e.g. of pressure

Definitions

  • the present invention relates to a MEMS structure manufactured using MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology.
  • MEMS structures manufactured using MEMS technology have been used in various sensors (for example, acceleration sensors and gyro sensors) for detecting physical quantities.
  • the MEMS structure used for such a sensor has a movable part that can be displaced by an external factor, and detects a physical quantity by converting the deformation and displacement of the movable part into an electrical signal and outputting it. Composed.
  • An angular velocity sensor described in Patent Document 1 includes a driving mass unit supported to be vibrated in a predetermined direction using a driving beam, and a detection mass supported to be swingable around the detection beam inside the driving mass unit. And the angular velocity is detected by the displacement accompanying the oscillation of the detection mass unit.
  • the detection mass unit is formed in a substantially rectangular flat plate shape, and can be swung so as to approach and separate from the detection electrode by a detection beam connected to one end side. It is supported by.
  • the detection weight portion is shaken by the detection beam with respect to the drive mass portion that is arranged so as to be able to vibrate in a predetermined direction horizontal to the substrate surface.
  • the drive mass unit and the movable unit are arranged so as to constantly vibrate in a direction orthogonal to the swing axis direction of the detection beam, and the gap is placed above the detection electrode fixed on the substrate surface. It will move apart.
  • the detection electrode disposed on the substrate surface is disposed in a range narrower than the range of the movable portion in plan view (see FIGS. 1 and 3 in Patent Document 1). ), Electrostatic attraction generated in the detection electrode acts on the movable portion so as to be drawn toward the detection electrode.
  • a part of the movable part moves so as to deviate from immediately above the detection electrode in accordance with the vibration of the drive mass part or the like, so that the facing area between the movable part and the detection electrode varies. Due to the change in the facing area, the electrostatic attractive force generated between the movable part and the detection electrode changes, and thus the torque in the movable part changes.
  • the position of the swing shaft (for example, the detection beam) that supports the movable part is displaced in accordance with the vibration of the drive mass part and the like.
  • the detection electrode is not displaced because it is fixed on the substrate. Therefore, since the distance between the point of action where the electrostatic attractive force generated by the detection electrode acts on the movable part and the swinging shaft that supports the movable part so as to swing is changed according to the vibration of the driving mass part, etc. The fluctuation of the torque in the movable part occurs.
  • the movable part swings due to a factor other than the Coriolis force.
  • the capacitance between the movable part and the detection electrode changes, and an interference signal (Quadrature Error) that may be confused with the Coriolis force may occur.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and relates to a MEMS structure having a movable portion that is swingably disposed above a fixed electrode fixed to a substrate, and constitutes a sensor with less interference signal.
  • a possible MEMS structure is provided.
  • a MEMS structure is disposed so as to be able to vibrate in a first direction that is positioned above a substrate, a fixed electrode fixed on the substrate, and above the substrate, and is horizontal to the substrate plane.
  • the fixed electrode is disposed in a range wider than the end of the weight portion in the first direction.
  • the MEMS structure includes a substrate, a fixed electrode, a drive unit, a weight unit, and a torsion bar, and the displacement of the weight unit in a state where the drive unit vibrates in the first direction is fixed electrode.
  • the external factors acting on the MEMS structure can be detected.
  • the fixed electrode is disposed in a wider range than the end portion of the weight portion in the first direction. Therefore, according to the MEMS structure, the state in which the entire weight portion is positioned on the fixed electrode can be lengthened in the process in which the driving portion and the weight portion vibrate in the first direction, and the torque acting on the weight portion can be increased. Variations can be reduced.
  • production of an interference signal (Quadrature Error) can be reduced by reducing the fluctuation
  • a MEMS structure according to another aspect of the present invention is the MEMS structure according to claim 1, wherein the weight portion is swingably supported by a torsion bar at one end portion in the first direction.
  • the fixed electrode is disposed on the other end side of the weight portion in the first direction in a range wider than the vibration width of the driving portion in the first direction.
  • the weight portion is swingably supported by a torsion bar at one end portion in the first direction, and the fixed electrode is related to the first direction at the other end side of the weight portion in the first direction. It is arranged in a range wider than the vibration width of the drive unit. Therefore, according to the MEMS structure, it is possible to reduce fluctuations in electrostatic attraction in the process of vibration in the first direction with respect to the other end side of the weight portion having a large displacement with respect to the fixed electrode. As a result, according to the MEMS structure, it is possible to reduce the variation in torque related to the weight portion and to suppress the generation of interference signals.
  • a MEMS structure according to another aspect of the present invention is the MEMS structure according to claim 2, wherein the fixed electrode is a vibration of the drive unit with respect to the first direction at one end side of the weight portion in the first direction. It is arranged in a range wider than the width.
  • the fixed electrode is arranged in a range wider than the vibration width of the driving unit in the first direction on one end side of the weight portion in the first direction. That is, the fluctuation of the electrostatic attractive force in the process of vibration in the first direction can be reduced also on one end side of the weight portion supported by the torsion bar. As a result, according to the MEMS structure, it is possible to eliminate the fluctuation of the torque related to the weight portion and to suppress the generation of the interference signal.
  • a MEMS structure according to another aspect of the present invention is the MEMS structure according to any one of claims 1 to 3, wherein the fixed electrode is associated with the vibration of the drive unit in the first direction. Regardless of the position of the drive unit, the drive unit is arranged in a range that is always below the drive unit or a range that is not always below the drive unit.
  • the fixed electrode is always in a range that is always below the drive unit or is always driven regardless of the position of the drive unit in accordance with the vibration of the drive unit in the first direction. It is arrange
  • the drive unit and the like are arranged in the first direction by disposing the fixed electrode in a range wider than the end of the weight unit with respect to the first direction in which the drive unit and the weight unit vibrate.
  • the state in which the entire weight portion is located on the fixed electrode can be lengthened, and fluctuations in torque acting on the weight portion can be reduced.
  • the MEMS structure reduces the occurrence of an interference signal (Quadrature Error) as the torque fluctuation acting on the weight portion is reduced.
  • FIG. 5 is a side cross-sectional view of a MEMS structure in a state where the MEMS structure is moved to a maximum amplitude in a ⁇ X direction.
  • the MEMS structure 1 according to the present embodiment is manufactured using a known MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology, and constitutes a capacitive angular velocity sensor.
  • MEMS Micro Electro Mechanical Systems
  • the MEMS structure 1 has a main body 20 and a movable weight 30 disposed above a fixed electrode 10 fixed on the surface of a substrate 2 by an anchor 22 or the like formed on the substrate 2. Configured.
  • the substrate 2 is chipped into a plate shape having a substantially rectangular shape.
  • the direction along the longitudinal direction of the substrate 2 is the X direction
  • the direction perpendicular to the X direction and along the short direction of the substrate 2 is the Y direction
  • the direction perpendicular to both the X direction and the Y direction is defined as the Z direction.
  • the substrate 2 has an insulating layer formed so as to cover the upper surface of the flat core substrate, and the fixed electrode 10 is formed on the surface of the insulating layer of the substrate.
  • the fixed electrode 10 is formed to have a length dimension of the fixed electrode range L in the X direction (see FIGS. 2 to 4).
  • a main body portion 20, a movable weight 30, and the like are formed by performing an etching process on a conductive low resistance silicon material or the like.
  • a main body 20 and a plate-shaped movable weight 30 are disposed in the central portion of the substrate 2, and the main body 20 and the movable weight 30 are erected at the four corners of the substrate 2.
  • the anchor 22 and the like are arranged in parallel to the surface of the substrate 2 at a predetermined interval.
  • the main body 20 has a vibration movable electrode (not shown), and cooperates with a vibration fixed electrode (not shown) disposed on the surface of the substrate 2 to thereby have a predetermined maximum amplitude d.
  • a vibration movable electrode not shown
  • a vibration fixed electrode not shown
  • the anchor 22 is erected in a rectangular parallelepiped shape at the four corners of the substrate 2, and a drive spring 21 formed at a corner of the main body 20 is connected thereto.
  • Each driving spring 21 has one end connected to the corner of the main body 20 and the other end connected to the anchor 22, and is configured to be expandable and contractable in the X direction. Therefore, the main body portion 20 is held in a state of being floated on the substrate 2 by being supported by the driving springs 21 on the respective anchors 22 fixed to the four corners of the substrate 2.
  • Each anchor 22 has a through hole 23 in which a conductive material is embedded. The through hole 23 is electrically connected to an electrode layer formed in the substrate 2.
  • a movable weight 30 is formed at the center of the main body 20. As shown in FIGS. 1 to 4, the movable weight 30 is formed in a substantially rectangular plate shape in plan view, and is arranged so that the long side is along the X direction. The movable weight 30 is formed to be movable relative to the main body portion 20 via the torsion bar 31 and faces the fixed electrode 10 disposed on the surface of the substrate 2 with a predetermined interval. Are arranged to be.
  • a pair of torsion bars 31 is formed on one end side in the long side direction of the movable weight 30 (that is, the end portion on the ⁇ X direction side), and the gap between the movable weight 30 and the main body portion 20 is formed. Connected. Therefore, the movable weight 30 is supported so as to be swingable with respect to the main body 20 around the torsion bar 31 as an axis, and the other end side of the movable weight 30 can be displaced in the Z direction. Thereby, since the electrostatic capacitance between the movable weight 30 and the fixed electrode 10 can be changed, the change in angular velocity can be detected by the change in the electrostatic capacitance.
  • the movable weight 30 in a normal state (that is, a state in which no external factor is acting), the movable weight 30 is formed so as to be located on substantially the same plane as the main body portion 20, The upper surface of the movable weight 30 has the same position in the Z direction as the upper surface of the main body 20.
  • the torsion bar 31 is formed on one end side of the movable weight 30 in the long side direction (that is, the end portion on the ⁇ X direction side) and has a rod shape extending along the short side direction (Y direction) of the movable weight 30. ing.
  • One end of the torsion bar 31 is connected to the main body 20, and the other end is connected to one end of the movable weight 30 in the X direction. Therefore, the torsion bar 31 supports one end side of the movable weight 30 in the X direction so as to be swingable with respect to the main body 20, and twists and deforms as the movable weight 30 swings.
  • the main body 20 and the movable weight 30 are provided with the vibration movable electrode disposed on the main body 20 and the vibration disposed on the surface of the substrate 2.
  • the fixed electrode By cooperating with the fixed electrode, it is possible to vibrate in the X direction (that is, + X direction and ⁇ X direction) with a predetermined maximum amplitude d.
  • the positional relationship between the main body 20 and the movable weight 30 accompanying the vibration in the X direction and the fixed electrode 10 will be described in three cases.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II of the MEMS structure 1 according to the present embodiment, and shows the positional relationship between the main body 20 and the movable weight 30 and the fixed electrode 10 in the initial state.
  • the initial state means a state in which the main body 20 and the movable weight 30 are not vibrating in the X direction, and the movable weight 30 is not displaced in the Z direction at all and is substantially horizontal.
  • the movable weight 30 is located above the substrate 2 and the fixed electrode 10 in the central portion of the substrate 2 and the fixed electrode 10 in the X direction.
  • the fixed electrode 10 is configured to have a dimension of the fixed electrode range L with respect to the X direction, and is a dimension obtained by adding the maximum amplitude d to the end of the movable weight 30 showing a substantially horizontal posture.
  • the edge of the fixed electrode 10 is formed so as to be located at a position further separated in the + X direction and the ⁇ X direction.
  • the main body 20 has a movable weight 30 at the center thereof, and has a certain gap with the outer edge of the movable weight 30. And since the main-body part 20 is connected to the movable weight 30 via the torsion bar 31, the main-body part 20 is located in the center part of the board
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line II of the MEMS structure 1 according to this embodiment, and shows the positional relationship between the main body 20 and the movable weight 30 and the fixed electrode 10 in a state where the MEMS structure 1 vibrates in the + X direction with the maximum amplitude d. ing.
  • the fixed electrode 10 is located at a position further separated in the + X direction and the ⁇ X direction than the dimension obtained by adding the maximum amplitude d to the end of the movable weight 30 showing a substantially horizontal posture.
  • the fixed electrode 10 is formed so that the end edge thereof is located. Therefore, when moving in the + X direction by the maximum amplitude d, the end of the movable weight 30 in the + X direction is located above the fixed electrode 10. At this time, the end of the movable weight 30 in the ⁇ X direction is also located above the fixed electrode 10.
  • the inner opening edge of the main body portion 20 formed so as to surround the movable weight 30 is located at a position away from the end edge of the fixed electrode 10 toward the + X side and the ⁇ X side by the maximum amplitude d with respect to the X direction. Is located. Therefore, like the movable weight 30, even when the main body 20 moves in the + X direction by the maximum amplitude d, the inner opening edge of the main body 20 on the ⁇ X direction side is fixed on the ⁇ X direction side. It is not located on the electrode 10 but located outside the fixed electrode 10 in the X direction (see FIG. 3).
  • the inner opening edge of the main body 20 on the + X direction side is located in the + X direction with respect to the end portion of the fixed electrode 10 on the + X direction side. Therefore, even when the main body 20 moves in the + X direction by the maximum amplitude d, the inner opening edge of the main body 20 on the + X direction side is not located on the fixed electrode 10, It is located outside the fixed electrode 10.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the MEMS structure 1 according to the present embodiment taken along the line II, showing the positional relationship between the main body 20 and the movable weight 30 and the fixed electrode 10 in a state of oscillating with the maximum amplitude d in the ⁇ X direction. Show.
  • the fixed electrode 10 has an end edge of the fixed electrode 10 at a position further separated in the + X direction and the ⁇ X direction than the dimension obtained by adding the maximum amplitude d to the end of the movable weight 30 showing a substantially horizontal posture. Is formed to be positioned. Therefore, as shown in FIG. 4, when moving by the maximum amplitude d in the ⁇ X direction, the end of the movable weight 30 in the ⁇ X direction (the end on the side supported by the torsion bar 31) is fixed. Located above the electrode 10. At this time, the end of the movable weight 30 in the + X direction is also located above the fixed electrode 10.
  • the inner opening edge of the main body 20 formed so as to surround the movable weight 30 is located at a position farther from the maximum amplitude d on the + X side and the ⁇ X side than the end edge of the fixed electrode 10 in the X direction. positioned. Accordingly, like the movable weight 30, even when the main body 20 moves in the ⁇ X direction by the maximum amplitude d, the inner opening edge of the main body 20 on the + X direction side is fixed electrode on the + X direction side. It is not located on 10 but located outside the fixed electrode 10 in the X direction (see FIG. 4).
  • the inner opening edge of the main body 20 on the ⁇ X direction side is located in the ⁇ X direction with respect to the end portion of the fixed electrode 10 on the ⁇ X direction side. Therefore, even when the main body 20 moves in the ⁇ X direction by the maximum amplitude d, the inner opening edge of the main body 20 on the ⁇ X direction side is not positioned on the fixed electrode 10, and X Located outside the fixed electrode 10 in the direction.
  • the movable weight 30 is always placed above the fixed electrode 10 in the process in which the main body 20 and the movable weight 30 vibrate in the X direction. Can be located.
  • the electrostatic attractive force acting between the fixed electrode 10 and the movable weight 30 does not fluctuate.
  • the action point where the electrostatic attractive force generated by the fixed electrode 10 acts on the movable weight 30 that is, the start point or the end point of the electric lines of force
  • the movable weight 30 can be swung.
  • the distance from the torsion bar 31 to be supported does not change as the main body 20 vibrates in the X direction.
  • the MEMS structure 1 in the process in which the main body portion 20 and the like vibrate in the X direction, torque fluctuation in the movable weight 30 does not occur, and the movable weight 30 is a factor other than the Coriolis force. And the capacitance between the fixed electrode 10 and the movable weight 30 does not fluctuate. As a result, according to the MEMS structure 1, it is possible to suppress the generation of an interference signal (Quadrature Error) that may be confused with the Coriolis force in the process of vibrating in the X direction.
  • an interference signal Quadadrature Error
  • the main body 20 in the process in which the main body 20 and the movable weight 30 vibrate in the X direction, the main body 20 is always positioned outside the fixed electrode 10 in the X direction. (See FIGS. 2 to 4). That is, according to the MEMS structure 1, the relative situation between the main body 20 and the fixed electrode 10 is not changed in the process in which the main body 20 vibrates in the X direction. The capacitance does not change between the two. As a result, according to the MEMS structure 1, since no signal due to the variation in the capacitance is output, the generation of the interference signal is reduced without affecting the sensitivity of the sensor. be able to.
  • the MEMS structure according to the present embodiment includes the substrate 2, the fixed electrode 10, the main body 20, the movable weight 30, and the torsion bar 31, and the main body 20 is X.
  • the fixed electrode 10 is configured to detect the displacement of the movable weight 30 due to an external factor that has acted in a state of vibrating in the direction.
  • the fixed electrode 10 is disposed on the surface of the substrate 2 so as to have a fixed electrode range L wider than the movable weight 30 in the X direction. Therefore, according to the MEMS structure 1, the state in which the entire movable weight 30 is positioned above the fixed electrode 10 can be lengthened in the process in which the main body 20 and the movable weight 30 vibrate in the X direction. The fluctuation of the torque acting on 30 can be reduced.
  • the fixed electrode 10 is moved from the free end side of the movable weight 30 supported by the torsion bar 31 (that is, the + X direction side end) to the + X direction in the main body portion 20 and the like. It is arranged over a wider range than the maximum amplitude d.
  • the free end of the movable weight 30 has a large amount of displacement with respect to the fixed electrode 10, and is strongly affected by fluctuations in torque with respect to the movable weight 30.
  • at least the free end portion of the movable weight 30 is always positioned above the fixed electrode 10 in the process in which the main body 20 and the like vibrate in the X direction. (See FIGS.
  • the fluctuation of the electrostatic attractive force with respect to the movable weight 30 can be efficiently reduced, thereby reducing the fluctuation of the torque related to the movable weight 30 and suppressing the generation of the interference signal. can do.
  • the fixed electrode 10 has a main body in the ⁇ X direction from the fixed end side (that is, the end portion on the ⁇ X direction side) of the movable weight 30 on which the torsion bar 31 is formed. It is arranged over a wider range than the maximum amplitude d in the part 20 or the like. That is, according to the MEMS structure 1 according to the present embodiment, the entire movable weight 30 can always be positioned above the fixed electrode 10 in the process in which the main body 20 and the like vibrate in the X direction (see FIG. 2 to 4). Therefore, according to the MEMS structure 1, it is possible to eliminate the fluctuation of the electrostatic attractive force with respect to the movable weight 30, thereby reducing the fluctuation of the torque related to the movable weight 30 and suppressing the generation of the interference signal. .
  • the main-body part 20 is always located in the outer side of the fixed electrode 10 in a X direction in the process in which the main-body part 20 and the movable weight 30 vibrate in the X direction ( (See FIGS. 2 to 4). That is, according to the MEMS structure 1, the relative situation between the main body 20 and the fixed electrode 10 is not changed in the process in which the main body 20 vibrates in the X direction. The capacitance does not change between the two. As a result, according to the MEMS structure 1, since no signal due to the variation in the capacitance is output, the generation of the interference signal is reduced without affecting the sensitivity of the sensor. be able to.
  • the present invention has been described above based on the embodiments.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
  • the physical quantity detected by the sensor using the MEMS structure is not limited to the angular velocity described above, and the direction in which the physical quantity can be detected (such as the Z direction) can be changed as appropriate.
  • the shape and configuration of each part constituting the MEMS structure 1 is an example, and may be changed as appropriate.
  • the torsion bar 31 is formed in a bar shape extending in the Y direction on one end side of the movable weight 30 in the X direction, and is supported so as to be swingable with respect to the main body portion 20. It is not limited to this aspect. In other words, if the plate-like movable weight is swingably supported by a bar-like torsion bar extending in the Y direction, the position for swingably supporting can be set as appropriate.
  • the range of the fixed electrode 10 is set so that the main body 20 does not be above the fixed electrode 10 in any state where the main body 20 and the movable weight 30 vibrate in the X direction.
  • the present invention is not limited to this mode.
  • the fixed electrode range L is set so that the edge of the fixed electrode 10 in the X direction is located at a position spaced apart from the outer edge of the main body 20 in the X direction by a maximum amplitude d in the + X direction and the ⁇ X direction. It is also possible to do.
  • the main body portion 20 is always positioned above the fixed electrode 10 when vibrating in the X direction.
  • the MEMS structure 1 is an example of the MEMS structure of the present invention.
  • the substrate 2 is an example of a substrate.
  • the fixed electrode 10 is an example of a fixed electrode.
  • the main body 20 is an example of a drive unit.
  • the movable weight 30 is an example of a weight portion.
  • the torsion bar 31 is an example of a torsion bar.
  • the X direction and the Y direction are examples of plane directions parallel to the plane of the substrate.
  • the Z direction is an example of a direction perpendicular to the plane of the substrate.

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Abstract

 MEMS構造体(1)は、基板(2)と、固定電極(10)と、本体部(20)と、可動錘(30)と、トーションバー(31)とを有しており、本体部(20)がX方向に振動している状態における可動錘(30)の変位を、固定電極(10)によって検出可能に構成されている。固定電極(10)は、本体部(20)等の振動方向であるX方向に関して、可動錘(30)よりも広い固定電極範囲(L)となるように、基板(2)表面に配設されており、固定電極(10)の端縁は、X方向における可動錘(30)の端縁から、本体部(20)等の振動に係る最大振幅(d)よりも離れた位置に位置する。本体部(20)及び可動錘(30)がX方向に振動する過程において、可動錘(30)は、常に固定電極(10)上に位置する。このような構成により、干渉信号の少ないセンサを構成可能なMEMS構造体を提供する。

Description

MEMS構造体
 本発明は、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を用いて製造されたMEMS構造体に関する。
 近年、MEMS技術を用いて製造されたMEMS構造体は、物理量を検出する為の種々のセンサ(例えば、加速度センサやジャイロセンサ等)に用いられている。このようなセンサに用いられるMEMS構造体は、外因によって変位可能な可動部を有しており、当該可動部の変形や変位を電気信号に変換して出力することで、物理量を検出するように構成される。
 このようなMEMS構造体に関する発明として、例えば、特許文献1記載の発明が知られている。特許文献1記載の角速度センサは、駆動梁を用いて所定方向へ振動可能に支持された駆動質量部と、当該駆動質量部の内部において、検出梁を軸として揺動可能に支持された検出質量部を、基板に固設された検出電極上に有して構成されており、検出質量部の揺動に伴う変位によって、角速度を検出する。特許文献1記載の角速度センサにおいては、検出質量部は、略四角形の平板状に形成されており、一端側に接続された検出梁によって、検出電極に対して近接・離間するように揺動可能に支持されている。
特開2010-096538号公報
 ここで、上述した特許文献1記載の角速度センサのように、基板表面に対して水平な所定方向に振動可能に配置された駆動質量部に対して、検出用の錘部を、検出梁によって揺動可能に支持した構成について、検出梁による揺動軸の軸方向と直交する方向へ振動する場合について考察する。この構成の場合、駆動質量部及び可動部は、検出梁の揺動軸方向に直交する方向へ、常に振動するように配置されており、基板表面に固定された検出電極の上方を、間隔を隔てて移動することになる。
 特許文献1記載の角速度センサのように、基板表面に配設される検出電極は、平面視で可動部の範囲よりも狭い範囲に配置されており(特許文献1の図1、図3等参照)、検出電極に発生する静電引力は、可動部に対して、検出電極側に引き込むように作用している。このような構成の場合、駆動質量部等の振動に伴って、可動部の一部が検出電極の直上から外れるように移動する為、可動部と検出電極の間における対向面積が変動する。この対向面積の変動によって、可動部と検出電極の間に生じる静電引力が変化する為、可動部におけるトルクの変動が生じてしまう。
 又、駆動質量部等の振動に伴って、可動部を支持する揺動軸(例えば、検出梁)の位置も変位する。一方、検出電極は、基板上に固定されている為、変位することはない。従って、検出電極によって生じた静電引力が可動部に作用する作用点と、可動部を揺動可能に支持する揺動軸との距離が、駆動質量部等の振動に伴って変化する為、可動部におけるトルクの変動が生じてしまう。
 このように、可動部におけるトルクが駆動質量部等の振動に伴って変動した場合、可動部は、コリオリ力以外の要因で揺動してしまう。これにより、可動部と検出電極の間における静電容量が変化する為、コリオリの力と混同される可能性のある干渉信号(Quadrature Error)が発生してしまう場合がある。
 本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、基板に固定された固定電極の上方において、揺動可能に配置された可動部を有するMEMS構造体に関し、干渉信号の少ないセンサを構成可能なMEMS構造体を提供する。
 本発明の一側面に係るMEMS構造体は、基板と、基板上に固定された固定電極と、基板の上方に位置し、基板平面に対して水平な第1方向に対して振動可能に配設された駆動部と、矩形板状に形成され、基板から遊離した錘部と、駆動部と錘部の間を接続し、駆動部に対して錘部を揺動可能に支持するトーションバーと、を有し、固定電極は、第1方向に関して、錘部の端部よりも広い範囲に配設されている。
 当該MEMS構造体は、基板と、固定電極と、駆動部と、錘部と、トーションバーを有しており、駆動部が第1方向に振動している状態における錘部の変位を、固定電極によって検出し、当該MEMS構造体に作用する外因を検出可能に構成されている。ここで、当該MEMS構造体において、固定電極は、第1方向に関して、錘部の端部よりも広い範囲に配設されている。従って、当該MEMS構造体によれば、駆動部及び錘部が第1方向に振動する過程で、錘部全体が固定電極上に位置する状態を長くすることができ、錘部に作用するトルクの変動を低減することができる。これにより、当該MEMS構造体によれば、錘部に作用するトルクの変動を低減することで、干渉信号(Quadrature Error)の発生を低減することができる。
 そして、本発明の他の側面に係るMEMS構造体は、請求項1に記載のMEMS構造体であって、錘部は、第1方向における一端部において、トーションバーによって揺動可能に支持されており、固定電極は、第1方向における錘部の他端側において、第1方向に関して駆動部の振動幅よりも広い範囲に配設されている。
 当該MEMS構造体において、錘部は、第1方向における一端部において、トーションバーによって揺動可能に支持されており、固定電極は、第1方向における錘部の他端側において、第1方向に関して駆動部の振動幅よりも広い範囲に配設されている。従って、当該MEMS構造体によれば、固定電極に対する変位量の大きな錘部の他端側に関して、第1方向への振動の過程における静電引力の変動を低減することができる。この結果、当該MEMS構造体によれば、錘部に係るトルクの変動を低減することができ、干渉信号の発生を抑制することができる。
 又、本発明の他の側面に係るMEMS構造体は、請求項2記載のMEMS構造体であって、固定電極は、第1方向における錘部の一端側において、第1方向に関して駆動部の振動幅よりも広い範囲に配設されている。
 当該MEMS構造体においては、固定電極は、第1方向における錘部の一端側において、第1方向に関して駆動部の振動幅よりも広い範囲に配設されている。即ち、トーションバーによって支持されている錘部の一端側においても、第1方向への振動の過程における静電引力の変動を低減することができる。この結果、当該MEMS構造体によれば、錘部に係るトルクの変動をなくすことができ、干渉信号の発生を抑制することができる。
 そして、本発明の他の側面に係るMEMS構造体は、請求項1から3の何れかに記載のMEMS構造体であって、固定電極は、第1方向に関して、駆動部の振動に伴って当該駆動部が如何なる位置に位置した場合であっても、常に駆動部の下方となる範囲、若しくは、常に駆動部の下方とはならない範囲の何れかの範囲に配置されている。
 当該MEMS構造体において、固定電極は、第1方向に関して、駆動部の振動に伴って当該駆動部が如何なる位置に位置した場合であっても、常に駆動部の下方となる範囲、若しくは、常に駆動部の下方とはならない範囲の何れかの範囲に配置されている。つまり、当該MEMS構造体によれば、駆動部が第1方向への振動する過程で、駆動部と固定電極の間の相対的な状況が変更されることはない。この結果、当該MEMS構造体によれば、第1方向への振動の過程における固定電極との間における静電容量の変動を招くことはなく、当該静電容量の変動に起因する信号が出力されることもないので、センサの感度に影響を与えることなく、干渉信号の発生を低減することができる。
 本発明に係るMEMS構造体によれば、駆動部及び錘部が振動する第1方向に関して、固定電極を錘部の端部よりも広い範囲に配設することで、駆動部等が第1方向に振動する過程で、錘部全体が固定電極上に位置する状態を長くし、錘部に作用するトルクの変動を低減し得る。そして、錘部に作用するトルクの変動を低減することに伴い、当該MEMS構造体は、干渉信号(Quadrature Error)の発生を低減する。
本実施形態に係るMEMS構造体の概略構成を示す平面図である。 図1のI-I断面におけるMEMS構造体の側断面図である。 +X方向に最大振幅まで移動した状態のMEMS構造体の側断面図である。 -X方向に最大振幅まで移動した状態のMEMS構造体の側断面図である。
 以下、本発明に係るMEMS構造体を、静電容量型の角速度センサの一部を構成するMEMS構造体1に適用した実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。尚、下記の説明に用いる図面は、説明の便宜上、実際の寸法・縮尺とは異なって図示されている部分がある。
 先ず、本実施形態に係るMEMS構造体1の概略構成について、図面を参照しつつ詳細に説明する。上述したように、本実施形態に係るMEMS構造体1は、公知のMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を用いて製造されており、静電容量型の角速度センサを構成している。
 (MEMS構造体の構成)
 図1に示すように、MEMS構造体1は、基板2上に形成されたアンカー22等によって、基板2表面に固設された固定電極10の上方に、本体部20、可動錘30を配置して構成されている。基板2は、略長方形状を為す板状にチップ化されている。
 尚、以下の説明においては、図1に矢印で示すように、基板2の長手方向に沿った方向をX方向、X方向に対して直角で基板2の短手方向に沿った方向をY方向、X方向とY方向との両方に直角となる方向をZ方向と定義して説明する。
 基板2は、平板状のコア基板の上面を覆うように形成された絶縁層を有しており、当該基板の絶縁層の表面には、固定電極10が形成されている。当該固定電極10は、X方向に関して固定電極範囲Lの長さ寸法となるように形成されている(図2~図4参照)。そして、基板2上面には、例えば導電性を有する低抵抗なシリコン材料等にエッチング加工を施すことによって、本体部20、可動錘30等が形成されている。
 図1に示すように、基板2の中央部分には、本体部20と、平板状の可動錘30が配置されており、本体部20及び可動錘30は、基板2の四隅に立設されたアンカー22等によって、基板2表面に対して所定の間隔を隔てて平行に配置されている。当該本体部20は、振動用可動電極(図示せず)を有しており、基板2表面に配設された振動用固定電極(図示せず)と協働させることにより、所定の最大振幅dで、X方向(即ち、+X方向、-X方向)へ振動可能に形成されている。
 アンカー22は、基板2の四隅において、直方体形状に立設されており、本体部20の角部に形成された駆動用バネ21が接続されている。各駆動用バネ21は、一端部が本体部20の角部に接続され、他端部がアンカー22に接続されており、X方向に伸縮可能に構成されている。従って、本体部20は、基板2の四隅に固定された各アンカー22に駆動用バネ21により支持されることによって、基板2上に浮いた状態で保持されている。又、各アンカー22は、それぞれ、導電材料が埋め込まれたスルーホール23を有している。当該スルーホール23は、基板2に形成された電極層と電気的に接続されている。
 そして、本体部20の中央部分には、可動錘30が形成されている。図1~図4に示すように、可動錘30は、平面視が略長方形の板状に形成されており、長辺がX方向に沿うように配置されている。可動錘30は、トーションバー31を介して、本体部20に対して相対的に運動可能に形成されており、基板2表面に配置された固定電極10に対して、所定の間隔を隔てて対向するように配置されている。
 具体的には、可動錘30の長辺方向における一端側(即ち、-X方向側の端部)には、一対のトーションバー31が形成されており、可動錘30と本体部20の間を接続している。従って、可動錘30は、本体部20に対して、トーションバー31を軸として揺動可能に支持されており、可動錘30の他端側をZ方向へ変位させることができる。これにより、可動錘30と固定電極10の間の静電容量を変化させることができるので、当該静電容量の変化によって、角速度の変化を検出することができる。
 尚、図2に示すように、通常状態(即ち、何等の外因も作用していない状態)においては、可動錘30は、本体部20と略同一平面上に位置するように形成されており、可動錘30上面は、本体部20上面とZ方向における位置が同一となる。
 トーションバー31は、長辺方向における可動錘30の一端側(即ち、-X方向側の端部)に形成されており、可動錘30の短辺方向(Y方向)に沿って伸びる棒状をなしている。トーションバー31の一端部は、本体部20に対して接続されており、他端部は、X方向における可動錘30の一端側に接続されている。従って、当該トーションバー31は、X方向における可動錘30の一端側を、本体部20に対して揺動可能に支持しており、可動錘30の揺動に伴って捩れ変形する。
 (X方向への振動に伴う固定電極と可動錘等の位置関係)
 上述したように、本実施形態に係るMEMS構造体1においては、本体部20及び可動錘30は、本体部20に配設された振動用可動電極と、基板2表面に配設された振動用固定電極と協働させることにより、所定の最大振幅dで、X方向(即ち、+X方向、-X方向)へ振動可能に形成されている。ここで、X方向への振動に伴う本体部20及び可動錘30と、固定電極10の位置関係について、3つの場合に分けて説明する。
 先ず、初期状態における本体部20及び可動錘30と、固定電極10の位置関係について、図2を参照しつつ説明する。図2は、本実施形態に係るMEMS構造体1のI-I断面図であり、初期状態における本体部20及び可動錘30と、固定電極10の位置関係を示している。尚、初期状態とは、本体部20及び可動錘30がX方向へ振動していない状態で、且つ、可動錘30がZ方向に何ら変位しておらず、略水平をなす状態を意味する。
 図2に示すように、初期状態の場合、可動錘30は、基板2及び固定電極10の上方において、X方向における基板2及び固定電極10の中央部分に位置している。ここで、固定電極10は、X方向に関して、固定電極範囲Lの寸法を有して構成されており、略水平な姿勢を示す可動錘30の端部に対して、最大振幅dを加えた寸法よりも、更に+X方向、-X方向へ離間した位置に、固定電極10の端縁が位置するように形成されている。
 又、本体部20は、その中央部分に、可動錘30を有しており、可動錘30の外縁との間に一定の間隙を有している。そして、本体部20は、トーションバー31を介して、可動錘30に接続されているので、本体部20は、可動錘30と同様に、X方向における基板2及び固定電極10の中央部分に位置している。図2に示すように、可動錘30を囲むように形成された本体部20の内側開口縁は、X方向に関して、固定電極10の端縁よりも、+X側及び-X側へ離れた位置に位置している。
 次に、初期状態から、本体部20及び可動錘30が+X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合について、図3を参照しつつ説明する。図3は、本実施形態に係るMEMS構造体1のI-I断面図であり、+X方向へ最大振幅dで振動した状態における本体部20及び可動錘30と、固定電極10の位置関係を示している。
 図3に示すように、固定電極10は、略水平な姿勢を示す可動錘30の端部に対して、最大振幅dを加えた寸法よりも、更に+X方向、-X方向へ離間した位置に、固定電極10の端縁が位置するように形成されている。従って、+X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合、+X方向における可動錘30の端部は、固定電極10の上方に位置する。この時、-X方向における可動錘30の端部も、固定電極10の上方に位置する。
 ここで、可動錘30を囲むように形成された本体部20の内側開口縁は、X方向に関して、固定電極10の端縁よりも、+X側及び-X側へ最大振幅dよりも離れた位置に位置している。従って、可動錘30と同様に、本体部20が+X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合であっても、-X方向側における本体部20の内側開口縁が、-X方向側の固定電極10上に位置することはなく、X方向における固定電極10の外側に位置する(図3参照)。
 尚、図2に示すように、初期状態において、+X方向側における本体部20の内側開口縁は、+X方向側における固定電極10の端部よりも+X方向に位置している。従って、本体部20が+X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合であっても、+X方向側における本体部20の内側開口縁は、固定電極10上に位置することはなく、X方向における固定電極10の外側に位置する。
 続いて、初期状態から、本体部20及び可動錘30が-X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合について、図4を参照しつつ説明する。図4は、本実施形態に係るMEMS構造体1のI-I断面図であり、-X方向へ最大振幅dで振動した状態における本体部20及び可動錘30と、固定電極10の位置関係を示している。
 固定電極10は、略水平な姿勢を示す可動錘30の端部に対して、最大振幅dを加えた寸法よりも、更に+X方向、-X方向へ離間した位置に、固定電極10の端縁が位置するように形成されている。従って、図4に示すように、-X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合、-X方向における可動錘30の端部(トーションバー31によって支持されている側の端部)は、固定電極10の上方に位置する。この時、+X方向における可動錘30の端部も、固定電極10の上方に位置する。
 又、可動錘30を囲むように形成された本体部20の内側開口縁は、X方向に関して、固定電極10の端縁よりも、+X側及び-X側へ最大振幅dよりも離れた位置に位置している。従って、可動錘30と同様に、本体部20が-X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合であっても、+X方向側における本体部20の内側開口縁が、+X方向側の固定電極10上に位置することはなく、X方向における固定電極10の外側に位置する(図4参照)。
 尚、図2に示すように、初期状態において、-X方向側における本体部20の内側開口縁は、-X方向側における固定電極10の端部よりも-X方向に位置している。従って、本体部20が-X方向へ最大振幅dの分だけ移動した場合であっても、-X方向側における本体部20の内側開口縁は、固定電極10上に位置することはなく、X方向における固定電極10の外側に位置する。
 図2~図4に示すように、本実施形態に係るMEMS構造体1によれば、本体部20及び可動錘30がX方向に振動する過程において、可動錘30を、常に固定電極10の上方に位置させることができる。これにより、当該MEMS構造体1によれば、固定電極10と可動錘30との間に作用する静電引力が変動することはない。又、当該MEMS構造体1によれば、固定電極10によって生じた静電引力が可動錘30に作用する作用点(即ち、電気力線の始点又は終点)と、可動錘30を揺動可能に支持するトーションバー31との距離が、本体部20によるX方向への振動に伴って変化することもない。
 即ち、本実施形態に係るMEMS構造体1によれば、本体部20等がX方向に振動する過程において、可動錘30におけるトルクの変動が生じることはなく、可動錘30がコリオリ力以外の要因で揺動し、固定電極10と可動錘30との間の静電容量が変動することもない。この結果、当該MEMS構造体1によれば、X方向への振動する過程において、コリオリの力と混同される可能性のある干渉信号(Quadrature Error)の発生を抑制することができる。
 そして、本実施形態に係るMEMS構造体1によれば、本体部20及び可動錘30がX方向に振動する過程において、本体部20を、X方向における固定電極10の外側に、常に位置させることができる(図2~図4参照)。即ち、当該MEMS構造体1によれば、本体部20がX方向への振動する過程で、本体部20と固定電極10の間の相対的な状況が変更されることはない為、固定電極10との間における静電容量の変動を招くことはない。この結果、当該MEMS構造体1によれば、当該静電容量の変動に起因する信号が出力されることもないので、センサの感度に影響を与えることなく、もって、干渉信号の発生を低減することができる。
 以上説明したように、本実施形態に係るMEMS構造体は、基板2と、固定電極10と、本体部20と、可動錘30と、トーションバー31とを有しており、本体部20がX方向に振動している状態で作用した外因による可動錘30の変位を、固定電極10によって検出可能に構成されている。図1~図4に示すように、固定電極10は、X方向に関して、可動錘30よりも広い固定電極範囲Lとなるように、基板2表面に配設されている。従って、当該MEMS構造体1によれば、本体部20及び可動錘30がX方向に振動する過程で、可動錘30全体が固定電極10の上方に位置する状態を長くすることができ、可動錘30に作用するトルクの変動を低減することができる。この結果、当該MEMS構造体1によれば、可動錘30に作用するトルクの変動を低減することで、干渉信号(Quadrature Error)の発生を低減することができる。
 図2、図3に示すように、固定電極10は、トーションバー31によって支持されている可動錘30の自由端側(即ち、+X方向側の端部)から、+X方向へ本体部20等における最大振幅dよりも広い範囲にわたって配設されている。ここで、可動錘30の自由端は、固定電極10に対する変位量が大きく、可動錘30に対するトルクが変動した影響を強く受ける。この点、本実施形態に係るMEMS構造体1によれば、本体部20等がX方向に振動する過程において、少なくとも可動錘30の自由端部分を、常に固定電極10の上方に位置させておくことができる(図2、図3参照)。従って、当該MEMS構造体1によれば、可動錘30に対する静電引力の変動を、効率よく低減することができ、もって、可動錘30に係るトルクの変動を低減し、干渉信号の発生を抑制することができる。
 更に、図2、図4に示すように、固定電極10は、トーションバー31が形成されている可動錘30の固定端側(即ち、-X方向側の端部)から、-X方向へ本体部20等における最大振幅dよりも広い範囲にわたって配設されている。即ち、本実施形態に係るMEMS構造体1によれば、本体部20等がX方向に振動する過程において、可動錘30全体を、常に固定電極10の上方に位置させておくことができる(図2~図4参照)。従って、当該MEMS構造体1によれば、可動錘30に対する静電引力の変動をなくすことができ、もって、可動錘30に係るトルクの変動を低減し、干渉信号の発生を抑制することができる。
 そして、本実施形態に係るMEMS構造体1において、本体部20は、本体部20及び可動錘30がX方向に振動する過程で、常に、X方向における固定電極10の外側に位置している(図2~図4参照)。即ち、当該MEMS構造体1によれば、本体部20がX方向への振動する過程で、本体部20と固定電極10の間の相対的な状況が変更されることはない為、固定電極10との間における静電容量の変動を招くことはない。この結果、当該MEMS構造体1によれば、当該静電容量の変動に起因する信号が出力されることもないので、センサの感度に影響を与えることなく、もって、干渉信号の発生を低減することができる。
 以上、実施形態に基づき本発明を説明したが、本発明は上述した実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変更が可能である。例えば、当該MEMS構造体が用いられるセンサによって検出される物理量は、上述した角速度に限定されるものでなく、更に、物理量を検出可能な方向(Z方向等)も適宜変更することができる。又、MEMS構造体1を構成する各部の形状・構成等は一例であり、適宜変更してもよい。
 又、上述した実施形態においては、トーションバー31を、X方向における可動錘30の一端側に、Y方向に延びる棒状に形成し、本体部20に対して揺動可能に支持していたが、この態様に限定されるものではない。即ち、Y方向に延びる棒状のトーションバーによって板状の可動錘を揺動可能に支持する構成であれば、揺動可能に支持する位置は適宜設定することができる。
 更に、上述した実施形態においては、本体部20及び可動錘30がX方向に振動する何れの状態であっても、本体部20が固定電極10の上方とならないように、固定電極10の範囲を設定していたが、この態様に限定されるものではない。例えば、X方向における固定電極10の端縁が、X方向における本体部20の外側端縁から+X方向、-X方向へ最大振幅d以上離間した位置に位置するように、固定電極範囲Lを設定することも可能である。この構成の場合、本体部20は、X方向への振動に際して、常に固定電極10の上方に位置する。
 この構成を採用した場合であっても、本体部20がX方向へ振動する過程において、本体部20と固定電極10の間の相対的な状況が変更されることはない為、固定電極10との間における静電容量の変動を招くことはない。従って、この構成の場合においても、当該静電容量の変動に起因する信号が出力されることがなく、センサの感度に影響を与えることないので、干渉信号の発生を低減することができる。
 尚、上述した各実施形態において、MEMS構造体1は、本発明のMEMS構造体の一例である。基板2は、基板の一例である。固定電極10は、固定電極の一例である。本体部20は、駆動部の一例である。可動錘30は錘部の一例である。トーションバー31は、トーションバーの一例である。X方向及びY方向は、基板の平面に平行な平面方向の一例である。Z方向は、基板の平面に対して垂直な方向の一例である。
 今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
 1 MEMS構造体、2 基板、10 固定電極、20 本体部、30 可動錘部、31 トーションバー、d 最大振幅、L 固定電極範囲。

Claims (4)

  1.  基板と、
     前記基板上に固定された固定電極と、
     前記基板の上方に位置し、前記基板平面に対して水平な第1方向に対して振動可能に配設された駆動部と、
     矩形板状に形成され、前記基板から遊離した錘部と、
     前記駆動部と前記錘部の間を接続し、前記駆動部に対して前記錘部を揺動可能に支持するトーションバーと、を有し、
     前記固定電極は、
     前記第1方向に関して、前記錘部の端部よりも広い範囲に配設されている、
     MEMS構造体。
  2.  前記錘部は、
     前記第1方向における一端部において、前記トーションバーによって揺動可能に支持されており、
     前記固定電極は、
     前記第1方向における前記錘部の他端側において、前記第1方向に関して前記駆動部の振動幅よりも広い範囲に配設されている、
     請求項1に記載のMEMS構造体。
  3.  前記固定電極は、
     前記第1方向における前記錘部の一端側において、前記第1方向に関して前記駆動部の振動幅よりも広い範囲に配設されている、
     請求項2に記載のMEMS構造体。
  4.  前記固定電極は、
     前記第1方向に関して、前記駆動部の振動に伴って当該駆動部が如何なる位置に位置した場合であっても、
     常に前記駆動部の下方となる範囲、若しくは、常に前記駆動部の下方とはならない範囲の何れかの範囲に配置されている、
     請求項1から3の何れかに記載のMEMS構造体。
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