WO2014146364A1 - 掩膜板、oled透明显示面板及其制造方法 - Google Patents

掩膜板、oled透明显示面板及其制造方法 Download PDF

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WO2014146364A1
WO2014146364A1 PCT/CN2013/077679 CN2013077679W WO2014146364A1 WO 2014146364 A1 WO2014146364 A1 WO 2014146364A1 CN 2013077679 W CN2013077679 W CN 2013077679W WO 2014146364 A1 WO2014146364 A1 WO 2014146364A1
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cathode
display panel
substrate
transparent display
oled
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崔子巍
吴昊
邢红燕
薛静
尹岩岩
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北京京东方光电科技有限公司
京东方科技集团股份有限公司
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Definitions

  • Embodiments of the present invention relate to a mask, an OLED transparent display panel, and a method of fabricating the same. Background technique
  • OLED Organic Light Emitting Diode
  • OLED has no self-illumination, no backlight, high contrast, thin thickness, wide viewing angle, fast response, flexible panel, wide temperature range, construction and The process is superior to the single-chip, and is considered to be an emerging application technology for the next generation of flat panel displays.
  • the cathode of the existing OLED transparent display panel requires two depositions to achieve conduction of each cathode.
  • the mask used in the fabrication of the cathode of the OLED transparent display panel in the prior art method In the mask, the inverted "T" shaped region 101 is a hollowed out region for forming a region of the cathode material of the OLED. After the cathode is deposited using the mask, the mask is moved by a set offset, and then a second deposition of the cathode is performed to form a cathode pattern as shown in FIG.
  • each cathode needs to be electrically connected to each other.
  • Embodiments of the present invention provide a mask for preparing an organic electroluminescent diode (OLED) transparent display panel, an OLED transparent display panel, and a method of fabricating the same, which can shorten cathode production time and reduce cost.
  • OLED organic electroluminescent diode
  • An embodiment of the present invention provides a mask for preparing an OLED transparent display panel, including a substrate, a plurality of hollow regions disposed on the substrate, and a plurality of occlusion regions, wherein the hollow region pattern corresponds to In the cathode pattern of the OLED transparent display panel to be prepared, each of the hollowed regions is in communication with each other.
  • the hollowed out area may have a shape of a triangle, a diamond, a circle, or a rectangle.
  • an OLED transparent display panel including: a substrate; a cathode disposed on the substrate, the cathode includes a plurality of cathode units connected to each other, and the cathode is used to have any of the above Made of a mask.
  • the cathode unit may have a shape of a triangle, a diamond, a circle, or a rectangle.
  • the OLED transparent display panel may further include: a first transport layer, a light emitting layer, a second transport layer, and an anode disposed on the substrate.
  • the first transport layer or the second transport layer may be a multilayer structure formed by stacking a barrier layer, an implant layer, and a transport layer.
  • the material of the luminescent layer may be a single organic or doped organic.
  • the doped organic material may be a fluorescent material or a phosphorescent material.
  • Still another embodiment of the present invention provides a method of fabricating an OLED transparent display panel, comprising: forming a cathode on a substrate using a patterning process, the cathode including a plurality of cathode units that are in communication with each other.
  • the method for forming a cathode on a substrate by using a patterning process may include: forming a cathode film on the substrate; forming a photoresist on the cathode film; exposing the photoresist to forming after development a photoresist retention region and a photoresist removal region, wherein the photoresist retention region corresponds to the cathode; and the cathode film corresponding to the photoresist removal region is etched to form the cathode.
  • the manufacturing method of the OLED transparent display panel may further include: forming a first transport layer, a light emitting layer, a second transport layer, and an anode on the substrate.
  • a method of forming a first transport layer, a light-emitting layer, a second transport layer, and an anode on the substrate may include: forming the anode on the substrate; forming a first transport layer on a substrate that completes the above process; A light emitting layer is formed on the substrate on which the above process is completed; and a second transport layer is formed on the substrate on which the above process is completed.
  • a further embodiment of the present invention further provides a method for manufacturing an OLED transparent display panel, wherein the OLED transparent display panel comprises a cathode, the cathode is formed by using any one of the mask sheets described above, and the cathode is steamed once. A plating process is formed, and the hollow region corresponds to a cathode region.
  • the method for fabricating the OLED transparent display panel may further include: forming a first transport layer, a light emitting layer, a second transport layer, and an anode on the substrate.
  • a method of forming a first transport layer, a light-emitting layer, a second transport layer, and an anode on the substrate may include: forming the anode on the substrate; forming a first transport layer on a substrate that completes the above process; A light emitting layer is formed on the substrate on which the above process is completed; and a second transport layer is formed on the substrate on which the above process is completed.
  • 1 is a schematic top view of a conventional mask layout
  • FIG. 2 is a schematic plan view showing a cathode layout of a conventional display panel
  • FIG. 3 is a schematic plan view showing a layout of a mask according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a top plan view of a cathode layout of a display panel according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 5 is a schematic top view of a cathode layout of a display panel according to an embodiment of the present invention
  • an embodiment of the present invention provides a mask 2 for preparing an organic electroluminescent diode (OLED) transparent display panel.
  • the reticle 2 includes a substrate 20, a plurality of hollow regions 21 disposed on the substrate 20, and a plurality of occlusion regions 22.
  • the hollow region 22 corresponds to the cathode of the OLED transparent display panel to be prepared, and the respective hollow regions 22 communicate with each other.
  • each hollowed out area may be various suitable shapes, such as a triangle, a diamond, a circle, or a rectangle.
  • the opaque regions may be directly connected to each other at the ends as shown in Fig. 3, or may be connected to each other by a connection electrode.
  • These opaque regions are obtained, for example, by depositing a film such as metal Cr or an oxide thereof on the substrate 20, followed by a photolithography process.
  • the mask provided in this embodiment includes a substrate, a plurality of hollow regions disposed on the substrate, and a plurality of occlusion regions, wherein the hollow corresponds to the cathode of the OLED transparent display panel to be prepared, and each hollow region is mutually Connected.
  • the cathode of the OLED transparent display panel can be formed by one patterning process or one evaporation process, and the formed cathode includes a plurality of cathode units that communicate with each other, so the mask is used compared with the existing method.
  • the preparation method reduces the number of times the cathode is fabricated, shortens the cathode fabrication time, and reduces the cost.
  • the prepared cathode has a small area, which increases the aperture ratio and transmittance.
  • an OLED transparent display panel including: a substrate; a cathode disposed on the substrate, the cathode includes a plurality of cathode units connected to each other, and the cathode is used to have any of the above Made of a mask.
  • the cathode units may be triangular in shape and connected to each other.
  • the shape of the hollow region of the mask plate proposed in the above embodiment may also be a diamond shape, a circular shape or another shape (for example, a rectangle), the display made by the mask plate is displayed.
  • the shape of the cathode unit 110 included in the cathode 11 of the panel 1 may also be a triangle, a diamond, a circle, a rectangle, or the like.
  • the effect of the transparent display of the display panel is inferior to that of the triangle, the diamond, and the rectangle, because the larger the area of the cathode is, the more the display panel is transmitted.
  • Triangle, diamond, and rectangular cathodes can achieve 50% penetration The rate, the transparency effect is better, and both are superior to the transmittance of the display panel of the prior art.
  • a rectangular design may be preferably employed. If the mask region can correspond to the transmissive window of each pixel unit in the above embodiment, The purpose of improving the transmittance of the display panel can be further achieved.
  • the shape of the cathode unit of the present embodiment may also be a pattern other than a circle (which varies mainly depending on the layout of the mask), and the transmittance of the display panel will be greatly improved.
  • the reduction of the cathode area will bring about a decrease in the driving capability of the display panel.
  • it When it is displayed on the display of the display panel, it may be a phenomenon of low contrast, abnormal color, etc., if it is in the cathode in the future.
  • Both the material and the display panel characteristics can be improved, that is to say, the cathode of the d and the area can be fully driven, and the pattern other than the circle is better for improving the transmittance of the display panel. s method.
  • the display panel of the embodiment of the invention may further include a first transport layer, a light emitting layer, a second transport layer and an anode disposed on the substrate.
  • the display panel 1 of the embodiment of the present invention may include: a substrate 10; an anode 12 disposed on the substrate 10; and a first transmission disposed on the anode 12. a layer 13; a light-emitting layer 14 disposed on the first transport layer 13; a second transport layer 15 disposed on the light-emitting layer 14; and a cathode 11 disposed on the second transport layer 15.
  • the cathode 11 includes a plurality of cathode cells interconnected, the cathode 11 being fabricated using a mask having any of the above embodiments.
  • the luminescent layer can be a variety of useful luminescent layers, such as red, green, blue or white light.
  • the first transport layer is a hole transport layer
  • the second transport layer may also be an electron transport layer.
  • electrons and holes are injected from the cathode and the anode, respectively, after a suitable bias voltage is applied between the electrodes of the anode and the cathode. Since the mobility of holes in the organic layer is higher than that of electrons, holes and electrons are present. Usually, recombination occurs at the interface of the luminescent layer close to the cathode, thereby realizing display panel illumination.
  • the above display panel as an embodiment of the present invention is top-emitting.
  • the OLED transparent display panel, and the display panel as another embodiment of the present invention may be a bottom-emitting OLED transparent display panel.
  • the cathode may be disposed between the substrate and the first transmission layer, and the anode may be disposed on the second transmission layer, and the structure of the cathode is the same as that of the above embodiment, and is also within the scope of the present invention.
  • first transport layer or the second transport layer may also be a barrier layer, an injection layer, and a transmission layer A multilayer structure formed by stacking layers.
  • the material of the light-emitting layer may be a single organic substance or a doped organic substance.
  • the doped organic material may be a fluorescent material or a phosphorescent material.
  • a display panel includes a substrate and a cathode disposed on the substrate, the cathode including a plurality of cathode units that are in communication with each other. Since the cathode can be formed by one patterning process or one evaporation process, the formed cathode includes a plurality of cathode units connected to each other, which reduces the number of times of making the cathode, shortens the cathode fabrication time, and reduces the cost compared with the existing method. , and the cathode occupies a small area, which increases the aperture ratio and transmittance.
  • Another embodiment of the present invention provides a method of fabricating an OLED transparent display panel, comprising: forming a cathode on a substrate using a patterning process, the cathode comprising a plurality of cathode cells in communication with each other.
  • the patterning process is a photolithographic patterning method, including coating a photoresist on a structure layer to be patterned, exposing the photoresist to a mask, developing the exposed photoresist to obtain a photoresist mask, and using the mask.
  • the photoresist mask is used as an etch mask to etch the structure layer to form a pattern, and then the photoresist mask is removed.
  • a positive photoresist is used.
  • the entire photoresist may be exposed step by step by exposing a partial region of the mask, and after the development, the same etching is performed. The process forms the structural layer into the desired pattern.
  • One embodiment of the present invention provides a method of fabricating an OLED transparent display panel, the method comprising the following steps.
  • PET Polyethylene Terephthalate
  • surface treated polymer soft film as a substrate.
  • the anode of the OLED is usually made of Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), or Al-doped ZnO (AZO) doped with aluminum or aluminum.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • IZO Indium Zinc Oxide
  • AZO Al-doped ZnO
  • first transport layer on the substrate forming the anode by chemical vapor deposition, physical vapor deposition (PVD) or spin coating.
  • PVD physical vapor deposition
  • the first transport layer is a hole transport layer, and the hole transport layer may be a tri-aromatic centered on biphenyl.
  • Amines such as N, N'-bis (naphthalen- 1 -y)-N, N'-bis(phenyl)benzidin (NPB), diamine biphenyl derivatives and the like generally have a thickness in the range of 10 nm to 50 nm.
  • a light-emitting layer is formed on the substrate on which the first transport layer is formed by evaporation, spin coating or inkjet printing.
  • the luminescent layer may be a single organic substance such as aluminum quinolate (Alq3), rubrene or the like, and the organic substance may also contain a dopant such as 4, 4'-fluorene, ⁇ '-dicarbazole- Biphenyl (CBP) is incorporated into rubrene or the like, or a phosphorescent material such as fac-tris(2-phenylpyridine) ruthenium [Ir(ppy) 3] or the like, or a fluorescent material, the thickness of the luminescent layer is generally In the range of 1 nm to 50 nm.
  • Alq3 aluminum quinolate
  • rubrene or the like may also contain a dopant such as 4, 4'-fluorene, ⁇ '-dicarbazole- Biphenyl (CBP) is incorporated into rubrene or the like, or a phosphorescent material such as fac-tris(2-phenylpyridine) ruthenium [Ir(ppy) 3] or the like, or
  • a deposition process may be performed using a mask, for example, sequentially depositing a red light-emitting layer material, a green light-emitting layer material, and blue on the substrate.
  • Light-emitting layer material When each pixel of the prepared OLED display panel is composed of, for example, red, green, and blue sub-pixels, a deposition process may be performed using a mask, for example, sequentially depositing a red light-emitting layer material, a green light-emitting layer material, and blue on the substrate. Light-emitting layer material.
  • Forming a second transport layer on the substrate on which the light-emitting layer is formed by chemical vapor deposition, PVD or spin coating.
  • the second transport layer formed in step 105 may be an electron transport layer.
  • the electron transport layer may be Alq3, 2, 2', 2 - (1, 3,
  • 5-benzenetriyl)tris [ 1 -phenyl- 1 H-benzimidazole] (TPBI), 4 , 7-diphenyl- 1 , lO-phenanthroline (Bphen) is doped with metal ruthenium (Cs), etc., and its thickness is generally 10 ⁇ to Within the range of lOOnm.
  • S106 includes sub-steps S106a-S106d:
  • the photoresist is exposed, developed to form a photoresist retention region and a photoresist removal region, and the photoresist retention region corresponds to the cathode.
  • a negative photoresist is used in the exposure process, and after exposure, the mask blank region corresponds to the photoresist retention region, and the occlusion region corresponds to the photoresist removal region.
  • the etching process used may be, for example, a dry etching process or a wet etching process.
  • the work function of the cathode material In order to efficiently inject electrons into organic materials, the work function of the cathode material must be low enough, and the OLED device with a low work function metal as the cathode responds more quickly.
  • single-layer metal cathodes used in OLED devices have Mg (3.7 eV), Li (2.9 eV), Ca (2.9 eV), Sr (2.4 eV), Na (2.3 eV), Cs (2.1 eV), Gd et al.
  • alloy cathodes Ca/Al, Mg/Ag, Mg/MgAg, Gd/Al, Al Li, Sn/Al and Ag/Al may also be used.
  • the cathode of the OLED in this embodiment may be a magnesium aluminum alloy, a magnesium silver alloy, a calcium silver alloy or the like, and the thickness thereof is generally in the range of 10 ⁇ to 200 ⁇ .
  • the cathode unit in the case of poor conduction may be connected to other normal cathode units by a point connection method to ensure that the display panel as a whole can work normally. .
  • the entire display device can be packaged with a cover or a thin film encapsulation layer to prevent water and oxygen from eroding the organic layer.
  • Another embodiment of the present invention further provides a method of fabricating a display panel, which differs from the above-described manufacturing method in that:
  • the step S106 can also be formed by a single evaporation process, and only the mask plate mentioned above is used in the evaporation process, and the plurality of hollow regions correspond to the plurality of cathode units of the OLED panel, and at the same time, since the plurality of hollow regions are connected to each other, steaming
  • the individual cathode cells on the substrate after plating are also in communication with one another to form an integrally connected cathode.
  • cathode material can likewise be as described above.
  • the entire display device can be packaged with a cover or a thin film encapsulation layer to prevent water and oxygen from invading the organic layer.
  • a cathode is formed on a substrate by a patterning process, and the cathode includes a plurality of cathode units that communicate with each other. Since the cathode is formed by one patterning process or one evaporation process, the formed cathode includes a plurality of cathode units connected to each other, which reduces the number of times of making the cathode, shortens the cathode fabrication time, and reduces the cost compared with the prior art. .
  • the manufacturing method of the display panel of the invention can realize one-time forming of the cathode, reduce the area of the cathode and still realize the conduction of the cathode, the method greatly reduces the manufacturing cost of the OLED cathode, and the single-time non-overlapping deposition makes the cathode more Flattening, better achieving the conduction effect.

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Abstract

一种用于制备OLED透明显示面板的掩膜板、OLED透明显示面板及其制造方法，其中掩膜板（2）包括：衬底（20）、设置于衬底（20）上的多个镂空区域（21）和多个遮挡区域（22），多个镂空区域（21）的图案对应于待制备的OLED透明显示面板（1）的阴极图案（11），其中各个多个镂空区域（21）之间互相连通。

Description

掩膜板、 OLED透明显示面板及其制造方法 技术领域
本发明的实施例涉及一种掩膜板、 OLED透明显示面板及其制造方法。 背景技术
有机电激发光二极管 （ Organic Light Emitting Diode, OLED ) 由于同时 具备自发光， 不需背光源、 对比度高、 厚度薄、 视角广、 反应速度快、 可用 于曲性面板、 使用温度范围广、 构造及制程较筒单等优异之特性， 而被认为 是适用于下一代的平面显示器的新兴应用技术。
现有的 OLED透明显示面板的阴极， 需经过两次沉积才能实现各阴极的 导通。 如图 1所示， 为现有的方法中制作 OLED透明显示面板的阴极时所采 用的掩膜板。 在该掩膜板中， 倒" T"形区域 101为镂空区域， 用于形成 OLED 的阴极材料的区域。 在使用该掩膜板沉积一次阴极后， 需要将掩膜板移动一 个设定的偏移量， 然后进行第二次沉积阴极， 进而形成如图 2所示阴极图形
102, 各阴极之间需相互导通。
然而， 由现有的 OLED透明显示面板的阴极布局可知， 在制作工艺中， 需两次沉积才能实现阴极的导通（各阴极之间需相互重叠才能实现导通） 。 这样工艺较复杂， 费用相对较高， 且阴极所占面积较大， 导致开口率较小、 透过率较低。 发明内容
本发明的实施例提供一种用于制备有机电激发光二极管 （OLED )透明 显示面板的掩膜板、 OLED透明显示面板及其制造方法， 从而可缩短阴极制 作时间， 降低成本。
本发明的一个实施例提供了一种用于制备 OLED透明显示面板的掩膜 板， 包括衬底， 设置于所述衬底上的多个镂空区域和多个遮挡区域， 所述镂 空区域图案对应于待制备的 OLED透明显示面板的阴极图案， 各个所述镂空 区域之间相互连通。 例如， 所述镂空区域的形状可以为三角形、 菱形、 圓形或矩形。
本发明的另一个实施例提供了一种 OLED透明显示面板， 包括： 基板； 设置于所述基板上的阴极， 所述阴极包括多个相互连通的阴极单元， 所述阴 极为使用具有上述任一掩膜板制作而成的。
例如， 所述阴极单元的形状可以为三角形、 菱形、 圓形或矩形。
例如， 所述 OLED透明显示面板还可以包括： 设置于所述基板上的第一 传输层、 发光层、 第二传输层及阳极。
例如， 所述第一传输层或第二传输层可以为由阻挡层、 注入层和传输层 叠加而形成的多层结构。
例如， 所述发光层的材料可以为单一的有机物或掺杂的有机物。
例如， 所述掺杂的有机物可以为荧光材料或磷光材料。
本发明的再一个实施例提供了一种 OLED透明显示面板的制造方法， 包 括： 采用一次构图工艺在基板上形成阴极， 所述阴极包括多个相互连通的阴 极单元。
例如， 所述采用一次构图工艺在基板上形成阴极的方法可以包括： 在所 述基板上形成阴极薄膜； 在所述阴极薄膜上形成光刻胶； 对所述光刻胶进行 曝光， 显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域， 所述光刻胶保留区域 对应于所述阴极； 刻蚀所述光刻胶去除区域对应的所述阴极薄膜， 以形成所 述阴极。
例如， 所述 OLED透明显示面板的制造方法还可以包括： 在所述基板上 形成第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极。
例如， 在所述基板上形成第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极的方 法可以包括： 在所述基板上形成所述阳极； 在完成上述工艺的基板上形成第 一传输层； 在完成上述工艺的基板上形成发光层； 在完成上述工艺的基板上 形成第二传输层。
本发明的再一个实施例还提供了一种 OLED透明显示面板的制造方法， 所述 OLED透明显示面板包括阴极， 所述阴极采用上述任意一种的掩膜板形 成， 且所述阴极采用一次蒸镀工艺形成， 所述镂空区域对应阴极区域。
例如， 所述 OLED透明显示面板的制作方法还可以包括： 在所述基板上 形成第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极。 例如， 在所述基板上形成第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极的方 法可以包括： 在所述基板上形成所述阳极； 在完成上述工艺的基板上形成第 一传输层； 在完成上述工艺的基板上形成发光层； 在完成上述工艺的基板上 形成第二传输层。 附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 筒单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。
图 1为现有的掩膜板布局俯视示意图一；
图 2为现有的显示面板的阴极布局俯视示意图；
图 3为本发明实施例提供的掩膜板布局俯视示意图；
图 4为本发明实施例提供的显示面板的阴极布局俯视示意图一； 图 5为本发明实施例提供的显示面板的阴极布局俯视示意图二； 图 6为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。 具体实施方式
为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
除非另作定义， 此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领 域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。 本发明专利申请说明书以及权 利要求书中使用的"第一"、 "第二 "以及类似的词语并不表示任何顺序、 数量 或者重要性， 而只是用来区分不同的组成部分。 同样， "一个"、 "一"或者"该" 等类似词语也不表示数量限制， 而是表示存在至少一个。 "包括"或者"包含" 等类似的词语意指出现在该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举 的元件或者物件及其等同， 并不排除其他元件或者物件。 "连接"或者"相连" 等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接， 不管是直接的还是间接的。 "上"、 "下"、 "左"、 "右"等仅用于表示相对位置 关系， 当被描述对象的绝对位置改变后， 则该相对位置关系也可能相应地改 变。
如图 3所示， 本发明的一个实施例提供一种用于制备有机电激发光二极 管 （OLED )透明显示面板的掩膜板 2。 该掩模板 2包括衬底 20、 设置于所 述衬底 20上的多个镂空区域 21和多个遮挡区域 22。 镂空区域 22对应于待 制备的 OLED透明显示面板的阴极， 各个镂空区域 22之间相互连通。
进一步地，每个镂空区域的形状可以为各种适当的形状，例如为三角形、 菱形、 圓形或矩形。 不透光区域之间可以如图 3所示在端部彼此直接连接， 也可以通过连接电极彼此连接。
这些不透光区域例如通过在衬底 20上沉积例如金属 Cr或其氧化物的薄 膜， 然后通过光刻工艺得到。
本实施例所提供的掩膜板包括衬底， 设置于所述衬底上的多个镂空区域 和多个遮挡区域， 镂空对应于待制备的 OLED透明显示面板的阴极， 各个镂 空区域之间相互连通。 通过使用该掩模板， OLED透明显示面板的阴极可以 经过一次构图工艺或者一次蒸镀工艺形成， 所形成的阴极包括多个相互连通 的阴极单元， 因此与现有的方法相比， 采用该掩模板的制备方法减少了制作 阴极的次数， 缩短了阴极制作时间， 降低了成本。 而且所制备的阴极所占面 积较小， 提高了开口率及透过率。
本发明的另一个实施例提供了一种 OLED透明显示面板， 包括： 基板； 设置于所述基板上的阴极， 所述阴极包括多个相互连通的阴极单元， 所述阴 极为使用具有上述任一掩膜板制作而成的。 与图 3所示的掩膜板相对应， 阴 极单元的形状可以为三角形， 且为彼此连接的。
如图 4、 图 5所示， 由于上述实施例所提出的掩膜板的镂空区域的形状 还可以为菱形、 圓形或其他形状（例如矩形） ， 那么由该掩膜板制作而成的 显示面板 1的阴极 11所包括的阴极单元 110的形状也可以为三角形、 菱形、 圓形或矩形等。
需要说明的是， 若阴极单元的形状为圓形， 则显示面板的透明显示的效 果与三角形、 菱形、 矩形相比差一些， 因为从图形上来看， 阴极的面积越大， 显示面板的透过率越低。 三角形、 菱形、 矩形阴极面积均能达到 50%的透过 率， 透明效果较好， 而且其均优于现有技术的显示面板的透过率。 但是， 若 需要与现有的彩膜相结合， 则可以优选采用矩形设计， 如能将掩模板区域与 上述实施例中则各阴极单元与各个像素单元的透过窗 （ transmissive window ) 对应， 则可以进一步实现提高显示面板的透过率的目的。
另外， 本实施例的阴极单元的形状还可以为除圓形外的图形 （其主要根 据掩膜板的布局变化而变化） ， 那么显示面板的透过率将有一个大幅度的提 高。 但是， 从现有的工艺和材料方面考虑， 阴极面积的缩小将带来显示面板 驱动能力的下降， 体现到显示面板的显示上时， 可能是对比度较低， 颜色异 常等现象， 若未来在阴极制成材料和显示面板特性方面都能得到提升， 也就 是说较 d、面积的阴极完全能够实现正常驱动， 那么采用除圓形外的图形也会 是提高显示面板的透过率的一个较好的手段。
进一步地， 本发明实施例的显示面板， 还可以包括设置于所述基板上的 第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极。
作为本发明的显示面板的一种实施例， 如图 6所示， 本发明实施例的显 示面板 1可以包括： 基板 10; 设置于基板 10上的阳极 12; 设置于阳极 12 上的第一传输层 13; 设置于第一传输层 13上的发光层 14; 设置于发光层 14 上的第二传输层 15;设置于第二传输层 15上的阴极 11。 阴极 11包括多个相 互连通的阴极单元，该阴极 11为使用具有上述任一实施例的掩膜板制作而成 的。
该发光层可以为各种可用的发光层， 例如可以发红、 绿、 蓝或白光等。 例如， 第一传输层为空穴传输层， 第二传输层还可以为电子传输层。 本 发明的实施例中， 在阴阳两个电极之间施加合适的偏压后， 电子和空穴分别 从阴极和阳极注入， 由于在有机层中空穴的迁移率高于电子， 故空穴和电子 通常在靠近阴极的发光层的界面发生复合， 进而实现显示面板发光。
需要说明的是， 上述作为本发明的一种实施例的显示面板为顶部发光的
OLED透明显示面板， 而作为本发明的另一种实施例的显示面板可以为底部 发光的 OLED透明显示面板。 在此实施例中， 阴极可以设置于基板与第一传 输层之间， 阳极可以设置于第二传输层上， 而阴极的结构与上述实施例相同， 故也在本发明的保护范围内。
进一步地， 第一传输层或第二传输层还可以为由阻挡层、 注入层和传输 层叠加而形成的多层结构。
进一步地， 发光层的材料可以为单一的有机物或掺杂的有机物。
进一步地， 掺杂的有机物可以为荧光材料或磷光材料。
本发明实施例所提供的显示面板包括基板和设置于基板上的阴极， 该阴 极包括多个相互连通的阴极单元。 由于阴极可以经过一次构图工艺或者一次 蒸镀工艺形成， 所形成的阴极包括多个相互连通的阴极单元， 与现有的方法 相比减少了制作阴极的次数， 缩短了阴极制作时间， 降低了成本， 且阴极所 占面积较小， 提高了开口率及透过率。
本发明的另一个实施例提供一种 OLED透明显示面板的制造方法，包括： 采用一次构图工艺在基板上形成阴极， 所述阴极包括多个相互连通的阴极单 元。
这里构图工艺为光刻构图方法， 包括待构图的结构层上涂覆光刻胶， 对 光刻胶使用掩模板进行曝光， 将曝光后的光刻胶显影得到光刻胶掩模， 以及 使用得到的光刻胶掩模作为刻蚀掩模对结构层进行刻蚀形成图案， 之后除去 光刻胶掩模。 所使用的例如正性光刻胶。 在同一次构图工艺中， 对于待构图 的结构层上涂覆的光刻胶， 可以采用掩模板每次曝光部分区域的方式逐步进 行来将全部光刻胶曝光， 在显影之后， 进行同一刻蚀工艺将结构层形成为需 要的图案。
本发明的一个实施例提供的一种 OLED透明显示面板的制造方法， 该方 法包括如下步骤。
5101、 选取基板。
可以选取玻璃、 石英片、 硅片、 金属片、 聚对苯二曱酸乙二醇脂
( Polyethylene Terephthalate, PET )或表面经处理后的聚合物软膜作为基板。
5102、 在基板上形成阳极。
OLED的阳极通常采用铟锡氧化物（Indium Tin Oxide, ITO ) 、 铟辞氧 化物（ Indium Zinc Oxide, IZO )或氧化辞铝或铝掺杂的氧化辞（ Al-doped ZnO, AZO )等材料。
5103、 采用化学气相沉积、 物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition, PVD)或旋涂的方法， 在形成阳极的基板上形成第一传输层。
第一传输层为空穴传输层， 空穴传输层可以采用以联苯为核心的三芳香 胺， 如 N, N'-bis(naphthalen- 1 -y)-N , N'-bis(phenyl)benzidin(NPB) , 二胺联苯 衍生物等材料， 厚度一般在 10nm至 50nm的范围内。
5104、 采用蒸镀、 旋涂或喷墨打印的方法， 在形成第一传输层的基板上 形成发光层。
发光层可以为单一的有机物， 如 8羟基喹啉铝 (Alq3)、 红荧烯 (Rubrene) 等， 该有机物也可以含有掺杂物， 如 4, 4'-Ν, Ν'-二咔唑 -联苯 (CBP)掺入红 荧烯 (Rubrene)等， 或磷光材料， 如 fac-三 (2-苯基吡啶)铱 [Ir(ppy)3]等， 或荧光 材料， 该发光层的厚度一般在 lnm至 50nm的范围内。
当所制备 OLED显示面板的每个像素例如由红、绿和蓝色子像素构成时， 则可以使用掩模板进行沉积工艺， 例如依次在基板上沉积形成红色发光层材 料、 绿色发光层材料和蓝色发光层材料。
5105、 采用化学气相沉积、 PVD或旋涂的方法， 在形成发光层的基板上 形成第二传输层。
本发明实施例中， 步骤 105中形成的第二传输层可以为电子传输层， 例 如， 该电子传输层可以是 Alq3、 2, 2', 2 -(1 , 3 ,
5-benzenetriyl)tris [ 1 -phenyl- 1 H-benzimidazole] (TPBI)、 4 , 7-diphenyl- 1 , lO-phenanthroline(Bphen)掺入金属铯 (Cs)等材料， 其厚度一般在 10匪至 lOOnm的范围内。
5106、 采用一次构图工艺在形成第二传输层的基板上形成阴极， 阴极包 括多个相互连通的阴极单元。
如下所述， S106的一个具体示例包括子步骤 S106a-S106d:
S106a、 在所述基板上形成阴极薄膜。
S106b、 在所述阴极薄膜上形成光刻胶。
S106c、对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去 除区域， 所述光刻胶保留区域对应于所述阴极。
例如， 利用上述实施例的掩膜板， 对所述光刻胶进行曝光， 显影后形成 光刻胶保留区域和光刻胶去除区域， 所述光刻胶保留区域对应于所述阴极。
在此步骤中， 曝光过程中采用负性光刻胶， 在曝光后， 掩膜板镂空区域 对应为光刻胶保留区域， 遮挡区域对应的为光刻胶去除区域。
S106d、 刻蚀所述光刻胶去除区域对应的所述阴极薄膜， 以形成所述阴 极。 所采用的刻蚀工艺例如可以为干刻工艺， 也可以为湿刻工艺。
要想有效地往有机材料中注入电子， 阴极材料的功函数必须足够低， 用 低功函数金属作阴极的 OLED器件的响应更快。 目前， 在 OLED器件中获 得应用的单层金属阴极有 Mg ( 3.7 eV ) , Li ( 2.9 eV ) , Ca ( 2.9 eV ) , Sr ( 2.4 eV ) , Na ( 2.3 eV ) , Cs ( 2.1 eV ) 、 Gd等。 为了防止水和氧气对低 功函数金属阴极产生不利影响， 还可以采用合金阴极 Ca/Al , Mg/Ag , Mg/MgAg, Gd/Al, Al Li, Sn/Al和 Ag/Al等。 在该实施例中的 OLED的阴 极可以是镁铝合金、 镁银合金、 钙银合金等， 其厚度一般在 10匪至 200匪 范围内。
若制备得到的阴极单元之间存在导通不良的情况， 则可以使用点连接的 方法， 将存在导通不良的情况的阴极单元与其他正常的阴极单元连接， 以保 证显示面板整体上能够正常工作。
至此， 制造完成了如图 6所示的显示面板。
最后， 还可以利用封盖或薄膜封装层将上述整个显示装置进行封装， 用 以防止水和氧对有机层造成侵蚀。
本发明的另一实施例还提供了的另一种显示面板的制造方法， 与上述制 造方法的区别在于：
S106步骤也可以采用一次蒸镀工艺形成，仅需在蒸镀时采用上述的掩膜 板， 多个镂空区域对应 OLED面板的多个阴极单元， 同时由于多个镂空区域 是彼此连通的， 因此蒸镀之后的基板上的各个阴极单元也是彼此连通的， 形 成整体连接的阴极。
对于阴极材料的选择可同样如上所述。
最后， 可以利用封盖或薄膜封装层将上述整个显示装置进行封装， 用以 防止水和氧对有机层造成侵独。
本发明实施例所提供的显示面板的制造方法， 采用一次构图工艺在基板 上形成阴极， 阴极包括多个相互连通的阴极单元。 由于阴极是经过一次构图 工艺或者一次蒸镀工艺形成的，所形成的阴极包括多个相互连通的阴极单元， 与现有技术相比减少了制作阴极的次数，缩短了阴极制作时间，降低了成本。
本发明实施例中， 在阴阳两个电极之间施加合适的偏压后， 电子和空穴 分别从阴极和阳极注入， 由于在有机层中空穴的迁移率高于电子， 故空穴和 电子通常在靠近阴极的发光层的界面发生复合， 进而实现显示面板发光。 本 发明的显示面板的制造方法可实现阴极的一次成形， 减小阴极的面积并且依 然能够实现阴极的导通， 该方法大大降低了 OLED阴极的制作成本， 单次无 交叠的沉积使得阴极更加平整化， 更好地实现了导通效果。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式， 而非用于限制本发明的保护范 围， 本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims

权利要求书
1、一种用于制备有机电激发光二极管（ OLED )透明显示面板的掩膜板， 包括衬底， 设置于所述衬底上的多个镂空区域和多个遮挡区域， 所述镂空区 域图案对应于待制备的 OLED透明显示面板的阴极图案， 其中， 各个所述镂 空区域之间相互连通。
2、根据权利要求 1所述的掩膜板，其中，所述镂空区域的形状为三角形、 菱形、 圓形或矩形。
3、 一种有机电激发光二极管 （OLED )透明显示面板， 包括：
基板；
设置于所述基板上的阴极， 所述阴极包括多个相互连通的阴极单元， 所 述阴极为使用如权利要求 1或 2中任一项所述的掩膜板制作而成的。
4、 根据权利要求 3所述的 OLED透明显示面板， 其中， 所述阴极单元 的形状为三角形、 菱形、 圓形或矩形。
5、 根据权利要求 3或 4所述的 OLED透明显示面板， 其中， 还包括： 设置于所述基板上的第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极。
6、 根据权利要求 5所述的 OLED透明显示面板， 其中， 所述第一传输 层或第二传输层为由阻挡层、 注入层和传输层叠加而形成的多层结构。
7、 根据权利要求 6所述的 OLED透明显示面板， 其中， 所述发光层的 材料为单一的有机物或掺杂的有机物。
8、 根据权利要求 7所述的 OLED透明显示面板， 其中， 所述掺杂的有 机物为荧光材料或磷光材料。
9、 一种 OLED透明显示面板的制造方法， 其中， 包括：
采用一次构图工艺在基板上形成阴极， 所述阴极包括多个相互连通的阴 极单元。
10、 根据权利要求 9所述的 OLED透明显示面板的制造方法， 其中， 所 述采用一次构图工艺在基板上形成阴极的方法具体包括：
在所述基板上形成阴极薄膜；
在所述阴极薄膜上形成光刻胶；
对所述光刻胶进行曝光,显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域， 所述光刻胶保留区域对应于所述阴极；
刻蚀所述光刻胶去除区域对应的所述阴极薄膜， 以形成所述阴极。
11、 根据权利要求 9或 10所述的 OLED透明显示面板的制造方法， 其 中， 还包括：
在所述基板上形成第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极。
12、 根据权利要求 11所述的 OLED透明显示面板的制造方法， 其中， 所述在所述基板上形成第一传输层、发光层、第二传输层及阳极的方法包括： 在所述基板上形成所述阳极；
在完成上述工艺的基板上形成第一传输层；
在完成上述工艺的基板上形成发光层；
在完成上述工艺的基板上形成第二传输层。
13、 一种有机电激发光二极管 （OLED )透明显示面板的制造方法， 其 中， 所述 OLED透明显示面板包括阴极， 所述阴极采用如权利要求 1或 2任 一所述的掩膜板形成， 且所述阴极采用一次蒸镀工艺形成， 所述镂空区域对 应 OLED透明显示面板的阴极。
14、 根据权利要求 13所述的 OLED透明显示面板的制造方法， 还包括： 在所述基板上形成第一传输层、 发光层、 第二传输层及阳极。
15、 根据权利要求 14所述的 OLED透明显示面板的制造方法， 其中， 所述在所述基板上形成第一传输层、发光层、第二传输层及阳极的方法包括： 在所述基板上形成所述阳极；
在完成上述工艺的基板上形成第一传输层；
在完成上述工艺的基板上形成发光层；
在完成上述工艺的基板上形成第二传输层。
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