WO2013118289A1 - パターン転写方法 - Google Patents

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WO2013118289A1
WO2013118289A1 PCT/JP2012/053097 JP2012053097W WO2013118289A1 WO 2013118289 A1 WO2013118289 A1 WO 2013118289A1 JP 2012053097 W JP2012053097 W JP 2012053097W WO 2013118289 A1 WO2013118289 A1 WO 2013118289A1
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layer
transfer
stamper
curable resin
coated film
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PCT/JP2012/053097
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Inventor
田切　孝夫
智施 神野
Original Assignee
パイオニア株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates

Definitions

  • the present invention relates to a pattern transfer method for transferring an uneven surface of a stamper to a base material, and more particularly to a pattern transfer method that can be used in a method for manufacturing a multilayer optical disc having two or more recording layers.
  • DVDs Digital multi-use discs
  • BDs Blu-ray discs
  • the BD has a maximum storage capacity of 50 GB in two layers of L0 recording layer and L1 recording layer on the substrate (1.1 mm thickness), while BDXL (multi-layer optical disc), which is the extended specification of BD, Those having two types of storage capacities of 100 Gbyte and 128 Gbyte are commercially available.
  • BD has a single recording layer with a storage capacity of 25 Gbytes and two layers (L0 and L1 recording layers), but BDXL has two types of recording layers: three layers and four layers; The storage capacity of the L2 recording layer is 100 Gbytes, and the storage capacity of the four-layer type (L0 to L3 recording layers) is 128 Gbytes.
  • the thickness of the spacer layer is selected, for example, from about 10 to 20 ⁇ m, and strict film thickness error accuracy is required for formation of the spacer layer, that is, pattern transfer.
  • a metal stamper and a photopolymer (so-called 2P) method using an ultraviolet curable resin are widely used for pattern transfer (see Patent Documents 1 to 4).
  • the transfer method in the reproduction-only two-layer optical disc manufacturing of BD using the 2P method when forming a spacer layer of an ultraviolet curable resin between two recording layers using a metal stamper, The UV curable resin is cured as a spacer layer by irradiation with UV. This is because the metal stamper does not transmit ultraviolet light. Further, in the case of a BD only for reproduction, since the reflective layer on the substrate side is a semi-transmissive film, an ultraviolet-curable resin spacer layer can be formed by ultraviolet rays from the substrate side.
  • the ultraviolet ray transmittance of the recording layer is low, so that the ultraviolet ray curable resin can not be sufficiently cured by transmitting through the substrate. Therefore, in the spacer layer formation of the recording type multi-layered optical disk, that is, the spacer layer transfer method, the spacer layer is formed by UV irradiation from the transparent stamper side using a transparent resin stamper or the like instead of the metal stamper.
  • an ultraviolet-curable adhesive sheet is used to form the spacer layer, and UV irradiation is performed from the substrate side by sandwiching the adhesive sheet with the overheated metal stamper and substrate, so the transmittance is low.
  • the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive sheet can not be cured and can not be applied to a recordable multilayer optical disc.
  • the ultraviolet curable adhesive sheet is used, there exists a problem of becoming expensive.
  • the spacer layer is formed by UV irradiation from the substrate side, so when the recording layer has a low transmittance, a multilayer structure is used.
  • the resin can not be cured and can not be applied to the recordable multilayer optical disc.
  • Patent Document 2 when a transparent stamper such as glass is used, UV irradiation is possible from the side of the transparent stamper, but it is not practical to produce a transparent stamper of high strength that can be used repeatedly. Furthermore, since the transparent resin stamper is disposable, there is a problem that the number of manufacturing steps and material cost of the transparent resin stamper are extra and the cost becomes high.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and provides a pattern transfer method capable of transferring a transfer layer such as two or more recording layers to a base material such as an optical disc substrate in a simple process. Is an example of the task.
  • the pattern transfer method is a pattern transfer method for transferring a pattern of a concavo-convex surface of a stamper to a transfer target surface of a base material,
  • a first ultraviolet curable resin having a first glass transition temperature is coated on the uneven surface of the stamper to obtain a coated film, and the coated film is cured by irradiating the coated film with ultraviolet light through the exposed major surface of the coated film,
  • a transfer step of forming a transfer layer made of the first ultraviolet curable resin An adhesion step of laminating the transfer layer and the transfer surface by interposing an intermediate layer made of a second ultraviolet curing resin having a second glass transition temperature lower than the first glass transition temperature; And a peeling step of peeling the stamper from the transfer layer.
  • two or more transfer layers can be transferred to the base material in a simple process, and the organic EL layer in the pattern transfer method of the hologram laminate or the method of manufacturing an organic EL element It can be applied to a transfer method and the like.
  • pattern transfer becomes possible without being influenced by the transmittance of the recording layer, and the number of process steps using the separate member such as a UV curable adhesive sheet or a transparent stamper is reduced. It can be done.
  • Tg glass transition temperature
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a single-sided dual layer optical disc manufactured by the manufacturing method of the present invention.
  • This single-sided dual-layer optical disc has a configuration in which a first recording layer L0, an intermediate layer 2, a transfer layer 3, a second recording layer L1, and a cover layer 4 are sequentially stacked on a substrate 1 .
  • a guide groove or pit is formed in the first recording layer L0 formed on the substrate 1, and the intermediate layer 2 and the transfer layer 3 which are spacer layers having a total thickness of 25 ⁇ m are laminated thereon.
  • a second recording layer L1 having the same guiding groove or pit is formed.
  • a cover layer 4 for protecting an optical disc is formed on the second recording layer L1.
  • Recording and reproduction of an information signal are performed, for example, by focusing laser light on the two recording layers from one side through the cover layer 4.
  • the first recording layer L0 performs recording / reproduction from one side by the laser light focused by the objective lens (not shown), and the second recording layer L1 performs recording / reproduction from the laser light focused by the objective lens. Therefore, the intermediate layer 2 and the transfer layer 3 of the spacer layer between the first recording layer L0 and the second recording layer L1 need to be light transmissive.
  • the intermediate layer 2 and the transfer layer 3 of the spacer layer are formed of an ultraviolet curable resin having different glass transition temperatures.
  • the intermediate layer 2 is formed of an ultraviolet curable resin composed of a second ultraviolet curable resin having a second glass transition temperature lower than the first glass transition temperature.
  • the transfer layer 3 is made of a first ultraviolet curable resin having a relatively high first glass transition temperature.
  • the first UV-curable resin for the transfer layer 3 tends to have good transferability and peelability as the glass transition temperature (Tg) is higher, and for example, it is desirable to use one having a glass transition temperature of 100 ° C. or higher.
  • the intermediate layer 2 is formed of a second UV curable resin having a relatively low second glass transition temperature.
  • the second ultraviolet curable resin for the intermediate layer 2 has a low glass transition temperature and a low elastic modulus in order to reduce warpage after completion of the disk.
  • a glass transition temperature 50 ° C. or less and an elastic modulus of 100 Mpa or less are desirable.
  • the intermediate layer 2 is preferably formed of a second UV curable resin having a second glass transition temperature lower than at least the first glass transition temperature.
  • an inorganic material such as glass or a resin material such as a polycarbonate resin, a polyolefin resin, or an acrylic resin can be used as a material of the substrate 1, it is preferable to use a resin material in consideration of cost and the like.
  • the first recording layer L0 and the second recording layer L1 sandwiching the spacer layer are, for example, gold (Au), when the optical disc is a read only type.
  • a reflective film made of silver (Ag), a silver alloy, aluminum (Al), an aluminum alloy or the like is formed.
  • a recording layer is formed by sequentially laminating a reflective film and a recording film made of an organic or inorganic material.
  • the optical disc is a rewritable type, for example, a recording layer is formed by sequentially laminating a reflective film, a lower dielectric film, a phase change recording film, and an upper dielectric film.
  • a wet coating method such as spin coating is used for film formation of an organic material
  • a dry coating method such as sputtering is used for film formation of an inorganic material.
  • the cover layer 4 has a thickness of about 75 ⁇ m, and as the cover layer 4, for example, an adhesive layer and a polycarbonate sheet, an ultraviolet curable resin, or an ultraviolet curable resin and a polycarbonate sheet can be used.
  • the cover layer 4 can be composed of a UV curable resin layer having a thickness of 15 ⁇ m and a polycarbonate sheet having a thickness of 60 ⁇ m.
  • the metal stamper 11 shown in FIG. 2A is manufactured.
  • a master substrate is prepared by using a technique combining electron beam lithography and RIE (Reactive Ion Etching) processing in a mastering step, nickel is deposited thereon, and then it is grown by plating and made of nickel.
  • the metal stamper 11 can be manufactured.
  • a reversed shape bpS of the guide groove or pit to be transferred to the substrate as a recording layer hereinafter simply referred to as a stamper uneven surface
  • nickel is generally used for the metal stamper, it is not particularly limited.
  • the first ultraviolet curable resin (liquid) having good transferability with the metal stamper and releasability is thinly spin coated on the stamper uneven surface bpS in an amount to achieve a predetermined thickness, and then a coated film And UV irradiation through the exposed major surface of the coating film to completely cure the coating film. If the ultraviolet curing resin is not completely cured, the transfer of pits and grooves will be incomplete, the recording and reproducing characteristics will deteriorate, and the peeling from the metal stamper will also be difficult. As described above, the transfer layer 3 made of the completely cured first ultraviolet curable resin is formed on the uneven surface of the stamper (transfer step). By completely curing, the second layer uneven surface bp1 is completed in the transfer layer 3.
  • the transparent substrate 1 of the single-sided dual layer optical disc shown in FIG. 2C is prepared.
  • the substrate 1 is a transparent disk on which a guide groove or pit (so-called base uneven surface bp0) to be transferred as a first recording layer is formed on the main surface.
  • the same metal stamper as the metal stamper 11 described above is mounted on a molding machine, and a substrate 1 made of, for example, polycarbonate to which the pattern (base uneven surface bp0) of the metal stamper is transferred is manufactured by injection molding method (injection method).
  • injection method injection method
  • the method of molding the substrate 1 is not limited, for example, the base uneven surface bp0 can also be formed using a photopolymer method (2P method) using an ultraviolet curing resin other than the injection molding method.
  • a predetermined recording film or the like is stacked by sputtering on a plurality of layers on the pattern surface of the substrate 1 to which the base uneven surface bp0 of the same metal stamper has been transferred. To form a film.
  • the second ultraviolet curable resin (liquid) for the intermediate layer is applied on the first recording layer L0 of the substrate 1 by a spin coating method in an amount so as to obtain a predetermined thickness. . Then, a coating film is obtained, and ultraviolet rays are irradiated through the exposed main surface of the coating film to cure the second ultraviolet curing resin to a curing state to the extent that the surface maintains adhesiveness, and the intermediate layer 2 is used as the substrate 1 (The intermediate layer forming step) on the surface to be transferred (the first recording layer L0).
  • the intermediate layer 2 may be formed using a second ultraviolet curable resin material having adhesiveness on the surface even in a completely cured state.
  • the transfer layer 3 formed on the metal stamper 11 is adhered to the intermediate layer 2 formed on the substrate 1 and the spacer layer (bonded intermediate layer 2 and the like) is not irradiated.
  • the transfer layer 3) is formed.
  • the transfer layer 3 side of the metal stamper 11 and the first recording layer L0 (transferred surface of the base material) side of the substrate 1 are bonded (adhesion step) .
  • the attaching step of attaching the metal stamper 11 to the substrate 1 may be performed under reduced pressure in order to reduce the inclusion of air bubbles at the interface between the intermediate layer 2 and the transfer layer 3.
  • the metal stamper 11 is peeled off from the transfer layer 3 of the spacer layer made of an ultraviolet curable resin (peeling step).
  • peeling step When the metal stamper 11 is removed, the uneven surface bp1 of the second layer is exposed. Since the first ultraviolet curable resin with good releasability is used for the transfer layer 3, the transfer layer 3 remains on the substrate side, and it is possible to separate only the metal stamper.
  • the transfer layer 3 and the intermediate layer 2 can be formed even with a combination of the recording layer with low transmittance and the metal stamper 11.
  • the first ultraviolet curing resin for transfer is made of a material having a high glass transition temperature so as to have good releasability from the metal stamper, and also to have good transferability.
  • the second UV-curable resin for the intermediate layer 2 uses a material having a low glass transition temperature and a low elastic modulus so that the disc is less warped and in close contact with the transfer layer 3.
  • the step of irradiating the ultraviolet ray again from the side of the transfer layer 3 to completely cure the ultraviolet curing resin for the intermediate layer 2 may be performed.
  • an ultraviolet re-irradiation step may be provided to increase the degree of curing of the intermediate layer 2 . If the degree of cure of the intermediate layer 2 is sufficient, such an ultraviolet re-irradiation step can be omitted. If the transfer layer 3 is formed to be thinner than the intermediate layer 2, curing is promoted, and thus the irradiation time of the ultraviolet light re-irradiation step for the intermediate layer 2 can be shortened.
  • a predetermined recording film or the like is stacked on a plurality of layers by sputtering on the second layer uneven surface bp1 of the transferred substrate 1 to form a second recording layer L1. .
  • a further multilayer optical disc having three or more recording layers also has a second recording layer in place of the step using the metal stamper 11 shown in FIGS. 2A and 2B and the cover layer forming step shown in FIG. 2J. It can be manufactured by repeating the steps (FIGS. 2E to 2I) of forming an additional intermediate layer 2 on L1. That is, the multilayer optical disc is manufactured by repeating the sequence of the transfer step, the intermediate layer forming step, the sticking step and the peeling step at least once, with the transfer layer 3 obtained in the peeling step as the transferred surface side of the substrate 1 can do.
  • the second ultraviolet curable resin is applied onto the transferred surface (recording layer L0) of the substrate 1 and UV irradiation is performed from the second ultraviolet curable resin side to cure the intermediate layer 2
  • the UV curable resin for intermediate layer 2 is superimposed on the metal stamper side on which the transfer layer 3 is formed, and is bonded to the substrate. Also good.
  • the second ultraviolet curable resin (liquid) for the intermediate layer is applied by spin coating in an amount to obtain a predetermined thickness to obtain a coated film, and ultraviolet irradiation is performed through the exposed main surface of the coated film. Then, the second UV curable resin is cured to a cured state to the extent that the surface of the second UV curable resin is kept adhesive to form the intermediate layer 2 on the metal stamper 11 side (intermediate layer forming step).
  • movement about the member same as the figure shown in FIG. 2 attaches the same member number, and abbreviate
  • the intermediate layer 2 formed on the metal stamper 11 is closely attached to the first recording layer L0 formed on the substrate 1, and the spacer layer (bonded The intermediate layer 2 and the transfer layer 3) are formed. Even with this configuration, the intermediate layer 2 can be interposed, and the transfer layer 3 side of the metal stamper 11 and the first recording layer L 0 (transferred surface of the base material) side of the substrate 1 can be bonded to each other. (Sticking step).
  • the application step (apparatus) of the ultraviolet curable resin can be put together in one place, so the degree of freedom in design of the equipment increases.
  • the completed transfer layer 3 on the metal stamper 11 The second UV curable resin (liquid) for the above intermediate layer is applied by spin coating in an amount to obtain a predetermined thickness, and UV irradiation from the second UV curable resin keeps the surface tacky.
  • the intermediate layer 2 is formed in advance on the side of the metal stamper 11 by curing to a certain degree of curing (intermediate layer forming step).
  • movement about the member same as the figure shown in FIG. 2 attaches the same member number, and abbreviate
  • the intermediate layer 2 formed in advance on the metal stamper 11 is adhered to the intermediate layer 2 formed on the substrate 1, and the spacer layer (intermediate layer 2 bonded) is not irradiated. And the transfer layer 3). Even with this configuration, the intermediate layer 2 can be interposed, and the transfer layer 3 side of the metal stamper 11 and the first recording layer L 0 (transferred surface of the base material) side of the substrate 1 can be bonded to each other. (Sticking step).
  • the spacer layer (transferred to the bonded intermediate layer is transferred by bonding the transfer layer, which has been thinly formed in advance on the metal stamper, to the substrate via the intermediate layer dropped by UV irradiation from the intermediate layer side. Since a layer can be formed, an optical disc having two or more recording layers can be manufactured inexpensively with a small number of processes without wasting material such as a transparent stamper.
  • Table 1 shows the specifications of the created write-once dual-layer optical disc.
  • the respective films of the first recording layer L0 and the second recording layer L0 were appropriately formed by DC sputtering and RF sputtering.
  • the composition of the BiGeN recording film of the L0 layer and the L1 layer was adjusted to the degree of nitriding to optimize the optical constant.
  • the transfer layer and the intermediate layer were each coated with a predetermined ultraviolet curable resin by spin coating, exposed to ultraviolet light and cured.
  • the transfer layer (first UV curable resin) and the intermediate layer (second UV curable resin) were prepared by preparing acrylic resins Sample A to H of UV curable resin.
  • Table 2 shows the glass transition temperatures Tg (° C.) of Samples A to H.
  • the intermediate layer was formed of Sample H having a low glass transition temperature, and the transfer layer was formed of Sample A to H.
  • the single-sided, double-layered optical disc manufactured in this manner was evaluated.
  • the parameters of the evaluation system and the evaluation conditions for recording and reproduction are shown in Table 3.
  • the evaluation was performed using a disk evaluation apparatus manufactured by Pioneer Corporation.
  • the storage capacity was 25 GB in each recording layer.
  • Jitter (Jitter) was equalized using a limit equalizer and evaluated with Data to Clock.
  • the length of each multipulse was optimized for recording of the L0 layer and the L1 layer. Also, the recording strategy was based on BD's White Paper.
  • the optical disk has a transfer layer (first ultraviolet curing resin) having a high glass transition temperature, it has been confirmed that the jitter is favorably reduced.

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Abstract

　スタンパの凹凸面のパターンをベース材の被転写面に転写するパターン転写方法は、第１ガラス転移温度を有する第１紫外線硬化樹脂をスタンパの凹凸面上に塗布し、塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して第１紫外線硬化樹脂を硬化させて転写層を凹凸面上に形成し、第１ガラス転移温度よりも低い第２ガラス転移温度を有する第２紫外線硬化樹脂からなる中間層を介在させて、スタンパの転写層とベース材の被転写面とを貼り合わせ、被転写面に接した中間層と接合した転写層からスタンパを剥離するステップを含む。

Description

パターン転写方法
　本発明は、スタンパの凹凸面をベース材に転写するパターン転写方法に関し、特に、記録層を２層以上有する多層光ディスクの製造方法に用い得るパターン転写方法に関する。
　多層光ディスクとしてデジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）及びブルーレイディスク（ＢＤ）が知られている。
　ＢＤでは基板（１．１ｍｍ厚）上のＬ０記録層とＬ１記録層の２層で記憶容量が最大５０Ｇバイトを有するのに対し、ＢＤの拡張仕様であるＢＤＸＬ（登録商標）の多層光ディスクでは、１００Ｇバイトと１２８Ｇバイトの２種類の記憶容量を持つものが市販されている。ＢＤは記録層１層で記憶容量が２５Ｇバイト、２層（Ｌ０，Ｌ１記録層）で５０Ｇバイトであるが、ＢＤＸＬでは記録層が３層と４層の２種類があり、３層タイプ（Ｌ０～Ｌ２記録層）の記憶容量は１００Ｇバイト、４層タイプ（Ｌ０～Ｌ３記録層）記憶容量は１２８Ｇバイトである。
　それぞれ記録層には凹凸である案内用グルーブ（又はピット）が形成されており、記録層間に挟まれるスペーサ層は、隣接記録層からの信号が干渉しないように層分離し且つ、浅い記録層はより深くの記録層へレーザ光を透過し又は反射光を透過する機能を担う。よって、スペーサ層の厚さは例えば１０～２０μm程度から選択され、スペーサ層の形成すなわちパターン転写には厳しい膜厚誤差精度が要求されている。かかる膜厚誤差精度を達成するためにパターン転写には金属スタンパと紫外線硬化樹脂を用いたフォトポリマー（所謂２Ｐ）法などが広く用いられる（特許文献１～４、参照）。
　例えば２Ｐ法を用いるＢＤの再生専用２層光ディスク製造における転写方法では、金属スタンパを使用して２層の記録層の間にある紫外線硬化樹脂のスペーサ層を形成する場合、透明基板側から紫外線（ＵＶ）を照射して紫外線硬化樹脂をスペーサ層として硬化させている。金属スタンパは紫外線を透過しないからである。また、ＢＤの再生専用ディスクの場合、基板側の反射層が半透過膜なので、基板側からの紫外線で紫外線硬化樹脂スペーサ層が形成できる。
　一方、ＢＤの記録型光ディスクの場合は、記録層の紫外線透過率が低い故に基板を透過して紫外線硬化樹脂を十分硬化させることができない。その為、記録型多層光ディスクのスペーサ層形成すなわちスペーサ層転写方法では、金属スタンパの代わりに透明な樹脂スタンパなどを使用して、透明スタンパ側からＵＶ照射してスペーサ層を形成している。
特開２００５－００４８０８号公報 特開２００７－０９５２４８号公報 特開２００９－２７７２６５号公報 特開２００９－１７００８４号公報
　特許文献１に開示の技術においては、スペーサ層の形成に紫外線硬化型粘着シートを使用し、当該粘着シートを過熱した金属スタンパ及び基板で挟み基板側からＵＶ照射しているので、透過率の低い記録層では紫外線硬化型粘着シートを硬化させることができず、記録型多層光ディスクに適応できない。また、紫外線硬化型粘着シートを使用しているので、コスト高になるという問題がある。
　特許文献２に開示の技術においては、紫外線硬化樹脂を真空中で透明樹脂スタンパと基板で挟み貼り合せて透明樹脂スタンパ側からＵＶ照射してスペーサ層を転写しているので、透明樹脂スタンパを使用する故にコスト高になる。
　特許文献３及び４に開示の金属スタンパを使用した多層光ディスク作製方法においては、基板側からＵＶ照射してスペーサ層形成をしているので、透過率の低い記録層では多層構造としたとき紫外線硬化樹脂を硬化することができず、記録型多層光ディスクに適応できない。
　特許文献２に開示のように、ガラスなどの透明スタンパを使用した場合は透明スタンパ側からＵＶ照射可能だが、繰り返し使用可能な高強度の透明スタンパを作製するのはコストが掛かり現実的ではない。さらに、透明樹脂スタンパは使い捨てなので、透明樹脂スタンパの作製の工数及び材料費が余分にかかりコスト高となってしてしまう問題がある。
　そこで本発明は、上述した問題に鑑みなされたもので、２層以上の記録層などの転写層を光ディスクの基板などのベース材へ簡素な工程で転写することができるパターン転写方法を提供することが課題の一例として挙げられる。
　本発明によるパターン転写方法は、スタンパの凹凸面のパターンをベース材の被転写面に転写するパターン転写方法であって、
　第１ガラス転移温度を有する第１紫外線硬化樹脂を前記スタンパの凹凸面上に塗布し塗布膜を得て、前記塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して前記塗布膜を硬化させて、前記第１紫外線硬化樹脂からなる転写層を形成する転写ステップと、
　第１ガラス転移温度よりも低い第２ガラス転移温度を有する第２紫外線硬化樹脂からなる中間層を介在させて、前記転写層と前記被転写面とを貼り合わせる貼着ステップと、
前記転写層から前記スタンパを剥離する剥離ステップと、を含むことを特徴とする。
　上記の本発明の構成によれば、簡素な工程で２層以上の転写層をベース材へ転写することができ、ホログラム積層体のパターン転写方法や、有機ＥＬ素子の製造方法における有機ＥＬ層の転写方法などに応用できる。例えば、多層光ディスク製造方法において、記録層の透過率に影響されずにパターン転写が可能となり、また、紫外線硬化型粘着シートや透明スタンパなど別部材を作成してこれを用いるプロセスの工程数を減少させることができる。
本発明のパターン転写方法の一例の実施形態としての２層光ディスクの製造方法により製造される光ディスクの概略部分断面図である。 本発明の実施形態の片面２層光ディスクの製造過程における基板とその上に形成された構造物を示す断面図である。 本発明の他の実施形態の片面２層光ディスクの製造過程における基板とその上に形成された構造物を示す断面図である。 本発明の他の実施形態の片面２層光ディスクの製造過程における基板とその上に形成された構造物を示す断面図である。 実施例の片面２層光ディスクの既記録の第２記録層Ｌ１からの再生信号のジッタ（Jitter）のガラス転移温度Ｔｇ（℃）に対する依存性を示すグラフである。
　以下に、本発明のパターン転写方法の一例の実施形態としての片面２層光ディスクのＢＤとその製造方法を、図面を参照しつつ説明する。
　図１は、本発明の製造方法によって製造される片面２層光ディスクの断面図である。
　この片面２層光ディスクは、基板１上に、第１層目の記録層Ｌ０、中間層２、転写層３、第２層目の記録層Ｌ１、カバー層４が順次に積層された構成を有する。基板１に形成された第１層目の記録層Ｌ０には案内用グルーブ又はピットが形成され、その上には、合計厚さ２５μｍを有するスペーサ層である中間層２及び転写層３が積層されている。転写層３には同様の案内用グルーブ又はピットを有する第２層目の記録層Ｌ１が形成されている。第２層目の記録層Ｌ１上には、光ディスクの保護を目的としたカバー層４が形成されている。
　情報信号の記録再生は、例えば、レーザ光がカバー層４を通じて片側から２つの記録層にそれぞれ集光されることによって行われる。第１層目の記録層Ｌ０は対物レンズ（図示せず）によって集束されたレーザ光によって、第２層目の記録層Ｌ１は対物レンズによって集束されたレーザ光によって、各々片側から記録再生を行うため、第１層目の記録層Ｌ０と第２層目の記録層Ｌ１の間にあるスペーサ層の中間層２及び転写層３は、光透過性を有している必要がある。
　スペーサ層の中間層２及び転写層３は、それぞれ異なるガラス転移温度を有する紫外線硬化樹脂から成膜される。中間層２は、第１ガラス転移温度よりも低い第２ガラス転移温度を有する第２紫外線硬化樹脂からなる紫外線硬化樹脂から成膜される。転写層３は比較的高い第１ガラス転移温度を有する第１紫外線硬化樹脂からなる。転写層３用の第１紫外線硬化樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が高い方が転写性及び剥離性が良い傾向があり、例えば、ガラス転移温度が１００℃以上のものの使用が望ましい。中間層２は比較的低い第２ガラス転移温度を有する第２紫外線硬化樹脂から形成される。中間層２用の第２紫外線硬化樹脂は、ディスク完成後の反りを少なくするためにガラス転移温度が低くさらに弾性率も低いものが望まれる。例えば、はガラス転移温度が５０℃以下、弾性率が１００Ｍｐａ以下のものが望ましい。中間層２は少なくとも第１ガラス転移温度よりも低い第２ガラス転移温度を有する第２紫外線硬化樹脂から形成されることが好ましい。
　基板１の材料としては、ガラスなど無機材料またはポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂もしくはアクリル系樹脂等の樹脂材料を使用できるが、コスト等の点を考慮すると、樹脂材料を使用することが好ましい。
　スペーサ層（中間層２及び転写層３）を挟む第１層目の記録層Ｌ０及び第２層目の記録層Ｌ１は、光ディスクが再生専用型である場合には、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銀合金、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム合金等からなる反射膜が形成される。光ディスクが追記型である場合には、例えば、反射膜と有機若しくは無機材料からなる記録膜とを順次積層した記録層が構成される。光ディスクが書き換え可能型である場合には、例えば、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜及び上層誘電体膜を順次積層した記録層が構成される。有機材料の成膜にはスピンコート法など湿式塗布法が用いられ、無機材料の成膜にはスパッタ法など乾式塗布法が用いられる。
　カバー層４は７５μｍ程度の厚さを有し、カバー層４としては、例えば、接着層とポリカーボネートシート、紫外線硬化樹脂、または紫外線硬化樹脂とポリカーボネートシートを用いることができる。例えば、厚さ１５μｍを有する紫外線硬化樹脂層と厚さ６０μｍを有するポリカーボネートシートとから構成できる。
　かかるＢＤ２層光ディスクの作製ステップを図２に従って説明する。
　まず、図２Ａに示す金属スタンパ１１を作製する。例えば、マスタリングステップにて電子ビーム描画法とＲＩＥ（Reactive Ion Etching）処理とを併用する技術を用いて、マスタ基板を作成し、それにニッケルを蒸着した後、メッキ法により成長させて、ニッケル製の金属スタンパ１１を作製できる。金属スタンパ１１には、記録層として基板に転写すべき案内用グルーブ又はピットの反転形状ｂｐＳ（以下、単にスタンパ凹凸面という）が形成されている。金属スタンパにはニッケルが一般的に用いられているが、特に限定するものではない。
　図２Ｂに示すように、金属スタンパとの転写性及び剥離性の良好な第１紫外線硬化樹脂（液状）を、所定の厚さとなるような分量でスタンパ凹凸面ｂｐＳに薄くスピンコートした後に塗布膜を得て、この塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して該塗布膜を完全硬化させる。紫外線硬化樹脂が完全に硬化していないと、ピットやグルーブの転写が不完全となり、記録再生特性が悪化し、さらに金属スタンパとの剥離も困難となる。このように、完全硬化した第１紫外線硬化樹脂からなる転写層３をスタンパ凹凸面上に形成する（転写ステップ）。完全硬化させることによって、転写層３に第２層目の凹凸面ｂｐ１が完成する。
　一方、図２Ｃに示す片面２層光ディスクの透明な基板１を用意する。基板１は、主面に第１層目の記録層として転写すべき案内用グルーブ又はピット（所謂、ベース凹凸面ｂｐ０）が形成された透明円盤である。例えば上記の金属スタンパ１１と同一の金属スタンパを成形機に装着し、射出成形法（インジェクション法）で金属スタンパのパターン（ベース凹凸面ｂｐ０）が転写された例えばポリカーボネート製の基板１を作製する。基板１の成形方法は、限定されないが、例えば、射出成形法の他、紫外線硬化樹脂を使うフォトポリマー法（２Ｐ法）を用いベース凹凸面ｂｐ０を形成することもできる。
　図２Ｄに示すように、同一の金属スタンパのベース凹凸面ｂｐ０が転写された基板１のパターン面上に複数層をスパッタ法で所定の記録膜などを積層し、第１層目の記録層Ｌ０を成膜する。
　図２Ｅに示すように、基板１の第１層目の記録層Ｌ０上に上記中間層用の第２紫外線硬化樹脂（液状）を、所定の厚さとなるような分量でスピンコート法で塗布する。そして、塗布膜を得て、この塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して第２紫外線硬化樹脂をその表面が粘着性を保つ程度の硬化状態まで硬化させて、中間層２を基板１の被転写面（第１層目の記録層Ｌ０）上に形成する（中間層形成ステップ）。なお、完全硬化状態でも表面に粘着性を有する第２紫外線硬化樹脂材料を用いて中間層２を形成しても良い。
　次に、図２Ｆに示すように、基板１上に形成した中間層２上に金属スタンパ１１上に形成した転写層３を密着させ、紫外線光の照射なく、スペーサ層（接合した中間層２と転写層３）を形成する。このように、中間層２を介在させて、金属スタンパ１１の転写層３側と基板１の第１層目の記録層Ｌ０（ベース材の被転写面）側とを貼り合わせる（貼着ステップ）。金属スタンパ１１を基板１へ貼着させる貼着ステップは、中間層２と転写層３の界面への気泡の混入を減少させるために、減圧下で実行されても良い。
　図２Ｇに示すように、金属スタンパ１１を紫外線硬化樹脂からなるスペーサ層の転写層３から剥離する（剥離ステップ）。金属スタンパ１１を除去すると、第２層目の凹凸面ｂｐ１が露出する。剥離性の良い第１紫外線硬化樹脂を転写層３に用いているため、転写層３は基板側に残り、金属スタンパのみ剥離することが可能である。
　このように本実施形態では、金属スタンパ側にあらかじめ転写層３となる第１紫外線硬化樹脂の層を形成しておき、さらに基板にも接着機能をもたせた第２紫外線硬化樹脂による中間層２を形成して密着させる事により、透過率の低い記録層と金属スタンパ１１の組み合わせでも転写層３と中間層２形成が可能となる。
　転写層３用と中間層２用の第１及び２紫外線硬化樹脂はそれぞれ必要な性質が異なるため、それぞれ最適な材料を選定すべきである。転写用の第１紫外線硬化樹脂は金属スタンパとの剥離性が良く、さらに転写性も良好となるようにガラス転移温度が高い材料を使用する。中間層２用の第２紫外線硬化樹脂はディスクの反りが少なく、転写層３と密着するように、ガラス転移温度及び弾性率の低い材料を使用する。
　図２Ｈに示すように、金属スタンパ剥離後に、転写層３側から紫外線を再度照射し、中間層２用の紫外線硬化樹脂を完全硬化させるステップを実行してもよい。使用する記録層との組み合わせによっては、中間層２の硬化が不足すると記録再生特性に影響があることが考えられるため、中間層２の硬化度を上げるために紫外線再照射ステップを設けても良い。中間層２の硬化度が十分である場合、かかる紫外線再照射ステップを省くこともできる。中間層２よりも薄く転写層３が形成されていれば、硬化が促進される故に中間層２のための紫外線再照射ステップの照射時間を短縮できる。
　図２Ｉに示すように、転写された基板１の第２層目の凹凸面ｂｐ１上に複数層をスパッタ法で所定の記録膜などを積層し、第２層目の記録層Ｌ１を成膜する。
　図２Ｊに示すように、第２層目の記録層Ｌ１上にカバー層４を形成すれば、片面２層光ディスクのＢＤが完成する。
　なお、３層以上の記録層を有する更なる多層光ディスクも、図２Ａと図２Ｂに示す金属スタンパ１１を用いるステップと、図２Ｊに示すカバー層形成ステップに代えて、第２層目の記録層Ｌ１上に更なる中間層２を形成するステップ（図２Ｅ～図２Ｉ）を繰り返すことによって製造することができる。すなわち、多層光ディスクは、剥離ステップにて得られた転写層３を基板１の被転写面側として、転写ステップ、中間層形成ステップ、貼着ステップ及び剥離ステップの一連を少なくとも１回繰り返すことによって製造することができる。
　図２に示す実施形態では、第２紫外線硬化樹脂を基板１の被転写面（記録層Ｌ０）上に塗布し、第２紫外線硬化樹脂側からＵＶ照射して硬化させて、中間層２を基板１の被転写面上に形成して、金属スタンパ１１と貼り合せを行ったが、転写層３の形成された金属スタンパ側に中間層２用の紫外線硬化樹脂を重ねて、基板と貼り合せても良い。
　例えば、図３に示す更なる実施形態では、図２Ｅに示す基板１上の中間層２の形成に代えて、図３Ｅ’に示すように、金属スタンパ１１上の完成された転写層３上に上記中間層用の第２紫外線硬化樹脂（液状）を、所定の厚さとなるような分量でスピンコート法で塗布して、塗布膜を得て、この塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して第２紫外線硬化樹脂をその表面が粘着性を保つ程度の硬化状態まで硬化させて、中間層２を金属スタンパ１１側に形成する（中間層形成ステップ）。なお、図３において、図２に示す図と同一の部材についての動作は、同一の部材番号を付して細部の説明は省略する。
　そして、図３Ｆに示すように、基板１上に形成した第１層目の記録層Ｌ０上に金属スタンパ１１上に形成した中間層２を密着させ、紫外線光の照射なく、スペーサ層（接合した中間層２と転写層３）を形成する。このようにしても、中間層２を介在させて、金属スタンパ１１の転写層３側と基板１の第１層目の記録層Ｌ０（ベース材の被転写面）側とを貼り合わせることができる（貼着ステップ）。金属スタンパ１１側に中間層２を形成することにより、紫外線硬化樹脂の塗布ステップ（装置）を１箇所にまとめる事ができる故に、装置設備の設計上の自由度が上がる。
　さらに、図４に示す他の更なる実施形態では、図２Ｅに示す基板１上の中間層２の形成に加えて、図４Ｅ’に示すように、金属スタンパ１１上の完成された転写層３上に上記中間層用の第２紫外線硬化樹脂（液状）を、所定の厚さとなるような分量でスピンコート法で塗布して、第２紫外線硬化樹脂からＵＶ照射して表面が粘着性を保つ程度の硬化状態まで硬化させて、予め中間層２を金属スタンパ１１側に形成する（中間層形成ステップ）。なお、図４において、図２に示す図と同一の部材についての動作は、同一の部材番号を付して細部の説明は省略する。
　そして、図４Ｆに示すように、基板１上に形成した中間層２上に、金属スタンパ１１上に予め形成した中間層２を密着させ、紫外線光の照射なく、スペーサ層（接合した中間層２と転写層３）を形成する。このようにしても、中間層２を介在させて、金属スタンパ１１の転写層３側と基板１の第１層目の記録層Ｌ０（ベース材の被転写面）側とを貼り合わせることができる（貼着ステップ）。
　これら実施形態によれば、金属スタンパに予め薄く形成した転写層を、中間層側からのＵＶ照射で降下した中間層を介して、基板と貼り合せることにより、スペーサ層（接合した中間層と転写層）を形成することができるので、記録層を２層以上有する光ディスクを、透明スタンパなど材料を無駄に用いることなく、少ないプロセスで、安価に製造することができる。
　実施例として図２に示す形態の追記型２層光ディスクを作成し、評価した。作成した追記型２層光ディスクの仕様を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　第１記録層Ｌ０及び第２記録層Ｌ０の各膜は適宜、ＤＣスパッタ、ＲＦスパッタで成膜した。Ｌ０層とＬ１層のＢｉＧｅＮ記録膜の組成は窒化度を調整して光学定数を最適化した。転写層及び中間層はそれぞれ所定の紫外線硬化樹脂をスピンコート法によって塗布し、紫外線を露光して硬化させた。
　転写層（第１紫外線硬化樹脂）及び中間層（第２紫外線硬化樹脂）は紫外線硬化樹脂のアクリル系樹脂Sample A～Hを用意して作製した。表２にSample A～Hのガラス転移温度Tg(℃）を示す。中間層をガラス転移温度の低いSample Hで成膜し、転写層をSample A～Hでそれぞれ成膜した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　このようにして作製した片面２層光ディスクを評価した。評価システムのパラメーターと記録再生の評価条件を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　評価はパイオニア株式会社製ディスク評価装置で行った。記憶容量は、各記録層で２５ＧＢであった。ジッタ（Jitter）はリミットイコライザを用いて等化し、Data to Clockで評価した。Ｌ０層とＬ１層の記録には、それぞれのマルチパルスの長さを最適化した。また、記録ストラテジはＢＤのWhite Paperに依った。
　Sample A～Hからなる既記録の第２記録層Ｌ１からの再生信号のジッタ（Jitter）のガラス転移温度Tg(℃）に対する依存性の結果を、上記の表２及び図５に示す。
　ガラス転移温度が高い転写層（第１紫外線硬化樹脂）を有する光ディスクほど良好なジッタの低下が確認できた。
　１　基板
　Ｌ０　第１層目の記録層
　２　中間層
　３　転写層
　Ｌ１　第２層目の記録層
　４　カバー層
　ｂｐ０　ベース凹凸面
　ｂｐ１　第２層目の凹凸面
　ｂｐＳ　スタンパ凹凸面
　１１　金属スタンパ

Claims (12)

  1. 　スタンパの凹凸面のパターンをベース材の被転写面に転写するパターン転写方法であって、
    　第１ガラス転移温度を有する第１紫外線硬化樹脂を前記スタンパの凹凸面上に塗布し塗布膜を得て、前記塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して前記塗布膜を硬化させて、前記第１紫外線硬化樹脂からなる転写層を形成する転写ステップと、
    　第１ガラス転移温度よりも低い第２ガラス転移温度を有する第２紫外線硬化樹脂からなる中間層を介在させて、前記転写層と前記被転写面とを貼り合わせる貼着ステップと、
    　前記転写層から前記スタンパを剥離する剥離ステップと、を含むことを特徴とするパターン転写方法。
  2. 　前記剥離ステップ後に露出した前記転写層の主面を前記被転写面として、前記転写ステップ、前記貼着ステップ及び前記剥離ステップの一連を少なくとも１回繰り返すことを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  3. 　前記剥離ステップ後に、前記中間層から前記転写層へ紫外線照射するステップを含むことを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  4. 　前記貼着ステップは、減圧下にて実行されることを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  5. 　前記貼着ステップは、前記第２紫外線硬化樹脂を前記ベース材の前記被転写面上に塗布し塗布膜を得て、前記塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して前記塗布膜を硬化させて、前記中間層を前記ベース材の前記被転写面上に形成するステップを含むことを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  6. 　前記貼着ステップは、前記第２紫外線硬化樹脂を前記スタンパの前記転写層上に塗布し塗布膜を得て、前記塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して前記塗布膜を硬化させて、前記中間層を前記スタンパの前記転写層上に形成するステップを含むことを特徴とする請求項１又は５記載のパターン転写方法。
  7. 　前記貼着ステップは、前記第２紫外線硬化樹脂を前記ベース材の前記被転写面上に塗布し塗布膜を得て、前記塗布膜の露出主面を介して紫外線照射して前記塗布膜を硬化させて、前記中間層を前記ベース材の前記被転写面上に形成するステップと、前記第２紫外線硬化樹脂を前記スタンパの前記転写層上に塗布し、前記第２紫外線硬化樹脂から紫外線照射して硬化させて、前記中間層を前記スタンパの前記転写層上に形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  8. 　前記ベース材は前記被転写面にベース凹凸面が形成された基板であることを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  9. 　前記スタンパは金属スタンパであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載のパターン転写方法。
  10. 　前記第１紫外線硬化樹脂の前記第１ガラス転移温度が１００℃以上であることを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  11. 　前記第２紫外線硬化樹脂の前記第２ガラス転移温度が５０℃以下であり且つ前記第２紫外線硬化樹脂の弾性率が１００ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
  12. 　前記中間層よりも薄く前記転写層が形成されることを特徴とする請求項１記載のパターン転写方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10283682A (ja) * 1997-04-01 1998-10-23 Nippon Columbia Co Ltd 光ディスク及び光ディスク製造方法
JP2003203402A (ja) * 2001-12-28 2003-07-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光情報記録媒体の製造方法、および光情報記録媒体
JP2007294076A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体の製造装置
JP2009245508A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Taiyo Yuden Co Ltd 光情報記録媒体
JP2010118114A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Panasonic Corp 光情報記録媒体
JP2011076691A (ja) * 2009-10-01 2011-04-14 Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd 光記録媒体

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007287329A (ja) * 1997-08-20 2007-11-01 Sony Corp 光ディスクの製造方法
TWI256045B (en) * 2000-09-12 2006-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical information recording medium

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10283682A (ja) * 1997-04-01 1998-10-23 Nippon Columbia Co Ltd 光ディスク及び光ディスク製造方法
JP2003203402A (ja) * 2001-12-28 2003-07-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光情報記録媒体の製造方法、および光情報記録媒体
JP2007294076A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体の製造装置
JP2009245508A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Taiyo Yuden Co Ltd 光情報記録媒体
JP2010118114A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Panasonic Corp 光情報記録媒体
JP2011076691A (ja) * 2009-10-01 2011-04-14 Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd 光記録媒体

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