JP2008159175A - 光ディスク及び多層光ディスクの製造方法 - Google Patents

光ディスク及び多層光ディスクの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008159175A
JP2008159175A JP2006347432A JP2006347432A JP2008159175A JP 2008159175 A JP2008159175 A JP 2008159175A JP 2006347432 A JP2006347432 A JP 2006347432A JP 2006347432 A JP2006347432 A JP 2006347432A JP 2008159175 A JP2008159175 A JP 2008159175A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
resin
groove
laminated
resin stamper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006347432A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoaki Oshima
清朗 大島
Takao Tagiri
孝夫 田切
Kenichi Ishiguro
賢一 石黒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Electronic Corp
Priority to JP2006347432A priority Critical patent/JP2008159175A/ja
Publication of JP2008159175A publication Critical patent/JP2008159175A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

【課題】製造工程中の歪みの発生、再生専用光ディスクとしての多層化におけるピット形状のバラツキの回避等が可能な光ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】グルーブ付樹脂スタンパ1上に、紫外線硬化型の樹脂Xを滴下し、樹脂X上に平板状樹脂スタンパ2を積層させ、平板状樹脂スタンパ2を介して紫外線UVを照射して紫外線樹脂Xを硬化させてグルーブ転写層GTを形成し、グルーブ付樹脂スタンパ1を剥離し、平板状樹脂スタンパ2に積層されたグルーブ転写層GT上に記録層4を形成することを繰り返し実行し、グルーブ転写層GT及び記録層4がこの順に積層された平板状樹脂スタンパ2の記録層4上に基板6を接着し、次いで平板状樹脂スタンパ2のみを剥離して記録層4及びグルーブ転写層GTが積層された基板6を形成する。
【選択図】図3

Description

本願は、光ディスク及び光ディスクの製造方法の技術分野に属し、より詳細には、高記録密度化された光ディスク及び当該高記録密度化のための光ディスクの製造方法の技術分野に属する。
従来、高記録密度の光ディスクとして、いわゆるDVD(Digital Versatile Disc)が広く一般化しつつあるが、近年では、当該DVDを更に高記録密度化し、例えばいわゆるハイビジョン規格に則って放送された映画等の動画像を例えば二時間程度記録することが可能な光ディスクに関する研究開発が活発に行われている(以下、当該光ディスクを単に高記録密度光ディスクと称する)。
ここで、当該高記録密度光ディスクは、上記DVDに対するその構造上の特徴として、例えば、
(ア)DVDにおいて基板側から記録/再生光を入射させるのに対し、保護層側から当該記録/再生光を入射させる。
(イ)当該保護層の厚さが、例えば0.1ミリメートル程度であり、DVDより格段に薄い。
(ウ)当該記録/再生光の波長がDVD用のものより短い
等の特徴を有している。
一方、更なる高記録密度化を図るべく、上記高記録密度光ディスクにおいても多層化のための研究開発が行われている。
ここで、一般的な上記光ディスクの多層化においては、例えばDVDについての下記特許文献1に例示されるように、例えばポリカーボネイト素材の基板に対して直接紫外線硬化樹脂を用いてグルーブ(グルーブトラック)を転写形成する方法が数多く提案されている。
特開2005−108343公報(第1図、第2図)
しかしながらこの場合、色素媒体等の塗布型の高記録密度光ディスクを形成する場合は、いわゆるグルーブトラックとランドトラック夫々の位相が本来の位相に対して逆となるため、結果として記録/再生信号の位相も逆にする必要があり、また当該記録/再生信号の信号品質自体も余り良好なものが得られ難いという問題点がある。
他方、再生専用の高記録密度光ディスクの場合でも、反射膜を積層した面が読み取り面となるため、膜厚によって位相ピットの形状が変化し、これにより所望の特性に位相ピットの形状を合わせるのが難しくなるという問題点がある。そして、この問題点を解決すべく、例えばいわゆるナノインプリント技術等を用いて厚さ0.1ミリメートルのフィルムにグルーブを形成する方法が提案されているが、この方法では、当該厚さのフィルムのまま例えば色素膜のコーティングやスパッタ等の工程に入れなければならず、結果として、工程中に当該フィルム自体に歪み変形等が生じるおそれがあるという問題点があった。
そこで、本願は上記の各問題点に鑑みて為されたもので、その課題の一例は、製造工程中の歪みの発生、再生専用光ディスクとしての多層化する場合における膜厚に起因するピット形状のバラツキ、及び記録/再生光ディスクにおけるグルーブトラックとランドトラックとの構造上の位相の逆転の回避、のいずれもが可能な多層型光ディスクの製造方法及び当該製造方法により製造された光ディスクを提供することにある。
上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、記録層と、樹脂層と、が積層されてなる単位層が、基板上に一又は複数積層されてなる光ディスクにおいて、一の前記単位層を構成する前記樹脂層上に他の前記単位層を構成する前記記録層が積層され、各前記単位層内において、前記樹脂層は前記記録層側にグルーブ及び/又はピットを有する構成とされており、更に各前記単位層において、前記樹脂層側から再生光又は記録光のいずれか一方を前記記録層に照射することで、当該記録層に対して情報の再生又は記録のいずれか一方を行うように構成されている。
上記の課題を解決するために、請求項7に記載の発明は、グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパ上に、液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第1工程と、前記紫外線硬化樹脂上に平板状樹脂スタンパを積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、第1グルーブ及び/又はピット転写層を形成する第2工程と、前記グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び/又はピット転写層が積層された前記平板状樹脂スタンパを形成する第3工程と、前記平板状樹脂スタンパに積層された第1グルーブ及び/又はピット転写層上に記録層を形成する第4工程と、を繰り返し実行し、グルーブ及び/又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、前記第4工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び/又はピット転写層が積層された前記基板を形成する第5工程と、前記第5工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び/又はピット転写層上に、前記第4工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第6工程と、を含む。
上記の課題を解決するために、請求項8に記載の発明は、グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパ上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第1工程と、硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパより密着性の良い平板状樹脂スタンパを前記紫外線硬化樹脂上に積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線樹脂を硬化させ、第1グルーブ及び/又はピット転写層を形成する第2工程と、前記グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び/又はピット転写層が積層された平板状樹脂スタンパを形成する第3工程と、前記平板状樹脂スタンパに積層された第1グルーブ及び/又はピット転写層上に記録層を形成する第4工程と、を繰り返し実行し、グルーブ及び/又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、前記第4工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に、硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記平板状樹脂スタンパより密着性の良い基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び/又はピット転写層が積層された基板を形成する第5工程と、前記第5工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び/又はピット転写層上に、前記第4工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第6工程と、を含む。
次に、本願を実施するための最良の形態について、図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する実施形態は、上記高記録密度光ディスクを製造する場合に対して本願を適用した場合の実施の形態である。
(I)高記録密度光ディスクの実施形態
始めに、本願に係る第1実施形態について、図1乃至図3を用いて説明する。なお、図1は第1実施形態に係る高記録密度光ディスクの構造を示す断面図であり、図2は第1実施形態に係る高記録密度光ディスク(単層型)の製造方法を示す工程図であり、図3は第1実施形態に係る高記録密度光ディスク(多層型)の製造方法を示す工程図である。
第1実施形態に係る高記録密度光ディスクとしては、図1(a)に示す如き単層型の高記録密度光ディスクDと、図1(b)に示す如き多層型(図1(b)の場合は二層型)の高記録密度DLと、がある。
このとき、高記録密度光ディスクDは、図1(a)に示すように、アルミニウム又は金蒸着膜等よりなる反射膜5と、例えば色素膜等からなり、情報が光学的に記録されるグルーブトラックGが形成されている記録層4と、当該記録層4及びグルーブトラックGを保護する機能を担う樹脂層3と、が、PC基板よりなる基板6上に積層された構造を備えている。この構成において、基板の厚さは例えば1.1ミリメートル程度であり、樹脂層3におけるその表面からグルーブトラックGまでの厚さは例えば0.1ミリメートル程度である。
ここで、当該グルーブトラックGに対する情報の記録/再生用の光ビームBは、当該記録/再生の対象となるグルーブトラックGに集光するように樹脂層3側から入射し、反射膜5により反射されて図示しない光ディテクタにおいて受光される。
これに対し、多層型の上記高記録密度光ディスクDLは、高記録密度光ディスクDの場合と同様の構成を備える反射膜5、記録層4B及び樹脂層3Bと、半透過性の反射膜7と、高記録密度光ディスクDの場合と同様の構成を備える記録層4A及び樹脂層3Aと、が、高記録密度光ディスクDの場合と同様の構成を備える基板6上に積層された構造を備えている。この構成において、第1層としての記録層3Aには第1グルーブトラックG1が形成されており、更に第2層としての記録層3Bには第2グルーブトラックG2が形成されている。
ここで、各グルーブトラックG1及びG2に対する情報の記録/再生用の光ビームBは、当該記録/再生の対象となるグルーブトラックG1又はG2に集光するように樹脂層3A側から入射される。そして、第1グルーブトラックG1に対して情報の記録/再生を実行する場合には、当該光ビームBは当該第1グルーブトラックG1に集光するように入射され、反射膜7により反射されて図示しない光ディテクタにおいて受光される。
これに対し、第2グルーブトラックG2に対して情報の記録/再生を実行する場合には、当該光ビームBの一部が反射膜7を透過した上で当該第2グルーブトラックG2に集光するように入射され、反射膜5により反射されて図示しない光ディテクタにおいて受光される。
(II)高記録密度光ディスクの製造方法の第1実施形態
次に、図1にその構造を示した高記録密度光ディスクD又はDLの製造方法の第1実施形態について、図2乃至図4を用いて説明する。なお、図2は第1実施形態に係る製造方法の原理を説明する図であり、図3は当該製造方法を用いて単層型の高記録密度光ディスクDを製造する際の工程を示す工程図であり、図4は当該製造方法を用いて多層型の高記録密度光ディスクDLを製造する際の工程を示す工程図である。
(A)第1実施形態に係る製造方法の原理
初めに、本願の第1実施形態に係る製造方法について具体的に説明する前に、当該第1実施形態に係る製造方法の原理について、図2を用いて説明する。
上記高記録密度光ディスクD又はDLの開発過程において、本願の発明者らは、上記樹脂層3(又は3A或いは3B)の材料として紫外線硬化樹脂を用いる場合、当該硬化用の紫外線の照射方向により樹脂基板への密着度に相違があることを発見した。
すなわち、例えば図2(a)に示すように、液状の紫外線硬化樹脂Xを同一材料の樹脂基板(例えば、非晶質ポリオレフィン系樹脂「Zeonor(登録商標。以下、同様)1430」)100と101とを用いて挟み込み、これに対して図2(b)に示すように樹脂基板101側から硬化用の紫外線UVを照射し、当該紫外線硬化樹脂Xを高記録密度光ディスクD又はDLの製造時と同様の条件で硬化させる。
そして、図2(c)に示すように、紫外線硬化樹脂Xが硬化して樹脂層102が形成された後、樹脂基板100及び101を夫々に樹脂層102から剥離させる実験を行ったところ、紫外線UVが照射された側で樹脂層102に密着していた樹脂基板101の方が、樹脂基板100よりも樹脂層102から剥がれ難いことが確認された。
ここで、上述した如く、硬化用の紫外線UVの照射方法により樹脂基板100又は101への密着度に相違がある(換言すれば、剥がれ易さに相違がある)ことの理由としては、本願の発明者らは、
(ア)紫外線UVが入射される側の方が、その反対側よりも紫外線硬化樹脂Xの重合が多く進行し、それによって、その入射側に配置されている樹脂基板101との密着性も強くなるから。
(イ)紫外線硬化樹脂Xの重合に寄与する結合手の数自体が紫外線UVの入射側ほど多くなるため、その側にある樹脂基板101の密着に影響を与える当該結合手も多くなり、結果的に樹脂基板101の方が密着度が高くなるから。
の二つを考察する。
そして、第1実施形態に係る製造方法では、上記の実験結果を応用して新規且つ有用な製造方法を実現した。
(B)第1実施形態に係る製造方法
次に、当該第1実施形態に係る製造方法を、具体的に図3及び図4を用いて説明する。
初めに、単層型の高記録密度光ディスクDの製造に用いられる第1実施形態に係る製造方法について、図3を用いて説明する。
単層型の高記録密度光ディスクDの製造に用いられる第1実施形態に係る製造方法は、図3に示すように、初めに図1(a)に示すグルーブトラックGを形成するためのグルーブ(溝)が形成されたグルーブ付樹脂スタンパ1(その材質は、図2に示す樹脂基板100等と同様である)上に液状の紫外線硬化樹脂Xを滴下し(図3(a)参照)、次に、グルーブ付樹脂スタンパ1と同一材料の平板型樹脂スタンパ2を紫外線硬化樹脂X側から押し付け、当該紫外線硬化樹脂Xをグルーブ付樹脂スタンパ1の各グルーブ内に充填させる(図3(b)参照)。
次に、紫外線硬化樹脂Xを硬化させるための紫外線UVを、平板型樹脂スタンパ2の側から予め設定されている時間及び強度にて照射し、当該紫外線硬化樹脂X全体を完全に硬化させて樹脂層3とする(図3(c)参照)。その後、上記グルーブ付樹脂スタンパ1を当該樹脂層3から剥離してグルーブ転写層GTを形成する(図3(d)参照)。
そして、当該グルーブ転写層GTの天地を逆にした後に、将来的にグルーブトラックG及び記録層4となる色素をグルーブ側にコーティングして当該記録層4を形成し(図3(e)参照)、更に当該記録層4上に反射層5を形成する(図3(f)参照)。
その後、当該反射層5上に基板6となるポリカーボネート樹脂基板を積層/接着し(図3(g)参照)、最後に平板型樹脂スタンパ2を樹脂層3から剥離することで、グルーブトラックGがその記録層4内に形成された単層型の高記録密度光ディスクDが完成する。
次に、多層型の高記録密度光ディスクDLの製造に用いられる第1実施形態に係る製造方法について、図4を用いて説明する。なお、図4に示す工程において、図3に示す工程と同一の構成部材については、同一の部材番号を付して細部の説明は省略する。
多層型の高記録密度光ディスクDLの製造に用いられる第1実施形態に係る製造方法は、図4に示すように、初めに、図3に示したグルーブ転写層GT上に記録層4としての色素をコーティングし更に半透過性の反射層7を形成した積層単位層Uを、「積層数−1」の数(第1実施形態の場合は一個)だけ形成する(図4(a)及び(b)参照)。
次に、図3に示した工程をもって高記録密度光ディスクDを形成する。このとき、当該高記録密度光ディスクDにおける樹脂層3は高記録密度光ディスクDLにおける樹脂層3Bに相当し、更に記録層4は記録層4Bに相当することとなる(図1(b)参照)。そして、当該樹脂層3B側の表面に、上記積層単位層Uの反射層7側の表面を貼り合わせる(図4(c)参照)。その後、当該貼り合わせた積層単位層Uにおける平板型樹脂スタンパ2を樹脂層3Aから剥離して、多層型の高記録密度光ディスクDLが完成する(図4(d)参照)。
なお、積層単位層Uを二層以上積層する場合は、平板型樹脂スタンパ2を剥離したその表面に、更に積層する積層単位層Uの反射層7側の表面を貼り合わせることを、最終的な積層数に対応する数だけ繰り返すこととなる。
以上説明したように、第1実施形態に係る高記録密度光ディスクD又はDLの製造方法によれば、硬化後の紫外線硬化樹脂Xに対する各樹脂スタンパの密着性が、当該紫外線硬化樹脂における紫外線UVの入射方向と当該紫外線硬化樹脂に対する樹脂スタンパが配置される位置との関係により異なることを利用してグルーブ転写層GTを形成し、これを用いて当該グルーブ転写層及び記録層を形成した平板状樹脂スタンパを複数形成して積層することで高記録密度光ディスクD又はDLを形成するので、グルーブ転写層GT及び記録層4が平板状樹脂スタンパ2に密着した状態で取り扱われることで、当該グルーブ転写層GT及び記録層4に対する工程上の歪みの発生を抑制することができる。
また、グルーブ転写層GTを形成した上で記録層4を形成するので、再生専用の高記録密度光ディスクDLを多層化する場合における膜厚に起因するピット形状のバラツキ、及び記録/再生光ディスクとしての高記録密度光ディスクD又はDLにおけるグルーブトラックGとランドトラックとの構造上の位相の逆転を回避することができる。
なお、上述した第1実施形態に係る製造方法においては、それに用いられる紫外線硬化樹脂Xは一種類に限定されるものではない。
また、当該第1実施形態では、積層単位層Uを複数形成し、最後にそれらを貼り合せて多層型の高記録密度光ディスクDLを形成したが、紫外線UVを常に平板状樹脂スタンパ2の側から照射することにより、グルーブ形成用樹脂スタンパの転写、剥離及び成膜を繰り返して積層し、最後に基板6と貼り合せた後平板状樹脂スタンパ2を剥離するように構成することも可能である。
(III)高記録密度光ディスクの製造方法の第2実施形態
次に、図1にその構造を示した高記録密度光ディスクD又はDLの製造方法の第2実施形態について、図5を用いて説明する。なお、図5は第2実施形態に係る製造方法を用いて多層型の高記録密度光ディスクDLを製造する際の工程を示す工程図であり、図3又は図4に示す工程図と同一の部材については、同一の部材番号を付して細部の説明は省略する。
上述した第1実施形態に係る製造方法においては、グルーブ付樹脂スタンパ1及び平板状樹脂スタンパ2としては同一の材料を用いていたが、以下に説明する第2実施形態に係る製造方法においては、硬化後の紫外線硬化樹脂(樹脂層3)に対する密着度が、後述するグルーブ付樹脂スタンパ11、平板状樹脂スタンパ12及び基板夫々において、元々、
「グルーブ付樹脂スタンパ11の密着度」<「平板状樹脂スタンパ12の密着度」
<「基板の密着度」
となるように、当該グルーブ付樹脂スタンパ11、平板状樹脂スタンパ12及び基板夫々の材料が選択されている。例えば、グルーブ付樹脂スタンパ11は、非晶質ポリオレフィン系樹脂「Zeonor1430」、平板状樹脂スタンパ12は、非晶質ポリオレフィン系樹脂「Zeonor1060」、基板をポリカーボネート樹脂とする。
そして、積層型の高記録密度光ディスクDLの製造に用いられる第2実施形態に係る製造方法は、図5に示すように、初めに図1(b)に示すグルーブトラックG1を形成するためのグルーブ(溝)が形成されたグルーブ付樹脂スタンパ11上に液状の紫外線硬化樹脂Xを滴下し(図5(a)参照)、次に、上記平板型樹脂スタンパ12を紫外線硬化樹脂X側から押し付け、当該紫外線硬化樹脂Xをグルーブ付樹脂スタンパ11の各グルーブ内に充填させる(図5(b)参照)。
次に、紫外線硬化樹脂Xを硬化させるための紫外線UVを、平板型樹脂スタンパ12の側から予め設定されている時間及び強度にて照射し、当該紫外線硬化樹脂X全体を完全に硬化させて樹脂層3とする(図5(c)参照)。その後、上記グルーブ付樹脂スタンパ11を当該樹脂層3から剥離してグルーブ転写層GT2を形成する(図5(d)参照)。
そして、当該グルーブ転写層GT2の天地を逆にした後に、将来的にグルーブトラックG及び記録層4となる色素をグルーブ側にコーティングして当該記録層4を形成し(図5(e)参照)、更に半透過性の反射層7を形成した積層単位層U2を、「積層数−1」の数(第2実施形態の場合は一個)だけ形成する(図5(f)参照)。
次に、他のグルーブ付樹脂スタンパ11上に液状の紫外線硬化樹脂Xを滴下し(図5(g)参照)、上記図5(f)に示す積層単位層U2の工程により形成された積層単位層U2の天地を逆としたものを重ね合わせ(図5(h)参照)、上記図5(c)に示した校庭に戻って紫外線UVを照射する。
これ以降、図5(c)乃至(h)に示した工程を積層数に対応する数だけ繰り返し、最後に基板6となるPC基板を反射層5が形成された積層単位層U2の当該反射層5側に接着した後に残っている平板状樹脂スタンパ13を剥離することで、多層型の高記録密度光ディスクDLが完成する。
なお、第2実施形態に係る製造方法を用いて単層型の高記録密度光ディスクDを形成する場合には、図5(f)に示す反射膜7に代えて、記録層4上に反射膜5を形成し、更に当該反射膜5の表面に基板6を接着した上で平板状樹脂スタンパ12を樹脂層3から剥離すればよい。
以上説明したように、第2実施形態に係る高記録密度光ディスクD又はDLの製造方法によれば、硬化後の紫外線硬化樹脂Xに対する各樹脂スタンパの密着性が相互に異なることを利用してグルーブ転写層GT2を形成し、これを用いて当該グルーブ転写層GT2及び記録層4を形成した平板状樹脂スタンパ12を複数形成して積層することで高記録密度光ディスクD又はDLを形成するので、グルーブ転写層GT2及び記録層4が平板状樹脂スタンパ12に密着した状態で取り扱われることで、当該グルーブ転写層GT2及び記録層4に対する工程上の歪みの発生を抑制することができる。
また、グルーブ転写層GT2を形成した上で記録層4を形成するので、再生専用の高記録密度光ディスクDLを多層化する場合における膜厚に起因するピット形状のバラツキ、及び記録/再生光ディスクとしての高記録密度光ディスクD又はDLにおけるグルーブトラックGとランドトラックとの構造上の位相の逆転を回避することができる。
なお、上述した第1実施形態及び第2実施形態に係る製造方法は、夫々に、上述した高記録密度光ディスクD又はDLとしての色素系追記型光ディスク、書き換え型光ディスクその他の光ディスクの製造に適用可能である。
また、グルーブ付樹脂スタンパ1又は11を用いてグルーブを転写する構成を示したが、ピット付き樹脂スタンパ又はグルーブ及びピット付樹脂スタンパを用いてピット、又はピット及びグルーブを転写し、グルーブ及び/又はピットを有する多層ディスクとしても良い。
実施形態に係る高記録密度光ディスクの概要構成を示す断面図であり、(a)は単層型の高記録密度光ディスクの概要構成を示す断面図であり、(b)は積層型の高記録密度光ディスクの概要構成を示す断面図である。 第1実施形態に係る製造方法の原理を示す工程図であり、(a)は第一工程を示す断面図であり、(b)は第二工程を示す断面図であり、(c)は第三工程を示す断面図であり、(d)は第四工程を示す断面図である。 第1実施形態に係る単層型の高記録密度光ディスクの製造方法を示す工程図であり、(a)は第一工程を示す断面図であり、(b)は第二工程を示す断面図であり、(c)は第三工程を示す断面図であり、(d)は第四工程を示す断面図であり、(e)は第五工程を示す断面図であり、(f)は第六工程を示す断面図であり、(g)は第七工程を示す断面図であり、(h)は第八工程を示す断面図である。 第1実施形態に係る積層型の高記録密度光ディスクの製造方法を示す工程図であり、(a)は第一工程を示す断面図であり、(b)は第二工程を示す断面図であり、(c)は第三工程を示す断面図であり、(d)は第四工程を示す断面図である。 第2実施形態に係る積層型の高記録密度光ディスクの製造方法を示す工程図であり、(a)は第一工程を示す断面図であり、(b)は第二工程を示す断面図であり、(c)は第三工程を示す断面図であり、(d)は第四工程を示す断面図であり、(e)は第五工程を示す断面図であり、(f)は第六工程を示す断面図であり、(g)は第七工程を示す断面図であり、(h)は第八工程を示す断面図である。
符号の説明
1、11 グルーブ付樹脂スタンパ
2、12 平板型樹脂スタンパ
3、3A、3B、102 樹脂層
4、4A、4B 記録層
5、7 反射膜
6、100、102 基板
G グルーブトラック
B 光ビーム
D、DL 高記録密度光ディスク
X 紫外線硬化樹脂
G1 第1グルーブトラック
G2 第2グルーブトラック
UV 紫外線
GT、GT2 グルーブ転写層
U、U2 積層単位層

Claims (8)

  1. 記録層と、樹脂層と、が積層されてなる単位層が、基板上に一又は複数積層されてなる光ディスクにおいて、
    一の前記単位層を構成する前記樹脂層上に他の前記単位層を構成する前記記録層が積層され、
    各前記単位層内において、前記樹脂層は前記記録層側にグルーブ及び/又はピットを有する構成とされており、
    更に各前記単位層において、前記樹脂層側から再生光又は記録光のいずれか一方を前記記録層に照射することで、当該記録層に対して情報の再生又は記録のいずれか一方を行うことを特徴とする光ディスク。
  2. 請求項1に記載の光ディスクにおいて、
    当該光ディスクにおいて最も外側に積層されている前記樹脂層の前記再生光又は前記記録光の入射側の表面が、実質的に平坦であることを特徴とする光ディスク。
  3. 請求項1に記載の光ディスクにおいて、
    各前記記録層は、反射層と色素記録層とを夫々含み、
    当該各前記記録層において、前記反射層が前記基板側に、前記色素記録層が前記基板側と反対の側に夫々配置されていることを特徴とする光ディスク。
  4. 請求項3に記載の光ディスクにおいて、
    前記基板に最も近い前記反射層を除く他の各前記反射層は、前記再生光又は前記記録光に対して半透過性を有することを特徴とする光ディスク。
  5. 請求項1に記載の光ディスクにおいて、
    各前記樹脂層は紫外線硬化樹脂により夫々形成されていることを特徴とする光ディスク。
  6. 請求項1に記載の光ディスクにおいて、
    各前記単位層における前記記録層及び前記グルーブ及び/又はピットが、前記光ディスクにおける前記基板とは反対の側から見て相互に同一の位相構造を有することを特徴とする光ディスク。
  7. グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパ上に、液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第1工程と、
    前記紫外線硬化樹脂上に平板状樹脂スタンパを積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、第1グルーブ及び/又はピット転写層を形成する第2工程と、
    前記グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び/又はピット転写層が積層された前記平板状樹脂スタンパを形成する第3工程と、
    前記平板状樹脂スタンパに積層された第1グルーブ及び/又はピット転写層上に記録層を形成する第4工程と、
    を繰り返し実行し、グルーブ及び/又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、
    前記第4工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び/又はピット転写層が積層された前記基板を形成する第5工程と、
    前記第5工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び/又はピット転写層上に、前記第4工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第6工程と、
    を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。
  8. グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパ上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第1工程と、
    硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパより密着性の良い平板状樹脂スタンパを前記紫外線硬化樹脂上に積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線樹脂を硬化させ、第1グルーブ及び/又はピット転写層を形成する第2工程と、
    前記グルーブ及び/又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び/又はピット転写層が積層された平板状樹脂スタンパを形成する第3工程と、
    前記平板状樹脂スタンパに積層された第1グルーブ及び/又はピット転写層上に記録層を形成する第4工程と、
    を繰り返し実行し、グルーブ及び/又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、
    前記第4工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に、硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記平板状樹脂スタンパより密着性の良い基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び/又はピット転写層が積層された基板を形成する第5工程と、
    前記第5工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び/又はピット転写層上に、前記第4工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第6工程と、
    を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。
JP2006347432A 2006-12-25 2006-12-25 光ディスク及び多層光ディスクの製造方法 Pending JP2008159175A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006347432A JP2008159175A (ja) 2006-12-25 2006-12-25 光ディスク及び多層光ディスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006347432A JP2008159175A (ja) 2006-12-25 2006-12-25 光ディスク及び多層光ディスクの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008159175A true JP2008159175A (ja) 2008-07-10

Family

ID=39659917

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006347432A Pending JP2008159175A (ja) 2006-12-25 2006-12-25 光ディスク及び多層光ディスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008159175A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8568851B2 (en) 2009-03-31 2013-10-29 Nec Corporation Method for manufacturing optical information recording medium, and optical information recording medium

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08306085A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Sony Corp 多層構造光学記録媒体の製造方法
JP2003067984A (ja) * 2001-08-24 2003-03-07 Toshiba Corp 光ディスク製造方法とこれにより製造される光ディスク
JP2003115130A (ja) * 2001-10-02 2003-04-18 Bridgestone Corp 光情報記録媒体及びその製造方法
JP2003157591A (ja) * 2001-11-22 2003-05-30 Toshiba Corp 光ディスク及びその製造方法並びに光ディスク記録再生装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08306085A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Sony Corp 多層構造光学記録媒体の製造方法
JP2003067984A (ja) * 2001-08-24 2003-03-07 Toshiba Corp 光ディスク製造方法とこれにより製造される光ディスク
JP2003115130A (ja) * 2001-10-02 2003-04-18 Bridgestone Corp 光情報記録媒体及びその製造方法
JP2003157591A (ja) * 2001-11-22 2003-05-30 Toshiba Corp 光ディスク及びその製造方法並びに光ディスク記録再生装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8568851B2 (en) 2009-03-31 2013-10-29 Nec Corporation Method for manufacturing optical information recording medium, and optical information recording medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006059533A (ja) 光情報記録媒体の製造方法及び光情報記録媒体
JP2002042379A (ja) 多層光学記録媒体およびその製造方法
JP2003281791A (ja) 片面2層光ディスク及びその製造方法及び装置
US20080032100A1 (en) Multilayer Information Recording Medium and Production Method Therefor, and Photosensitive Adhesive Sheet
JP2003091868A (ja) 光ディスク及びその製造方法。
JP4080741B2 (ja) 多層光記録媒体の製造方法および多層光記録媒体
JP4616914B2 (ja) 多層光記録媒体の製造方法
JP2008159175A (ja) 光ディスク及び多層光ディスクの製造方法
US7844984B2 (en) Optical recording medium and manufacturing method thereof
JP4360269B2 (ja) 多層光ディスクの製造方法
JP4516414B2 (ja) 光ディスクの製造方法および光ディスク
JP2007234092A (ja) 光ディスク及び光ディスクの製造方法
JP4306705B2 (ja) 光ディスク及び光ディスクの製造方法
WO2009139216A1 (ja) 光ディスク記録媒体の製造方法
JP2006196146A (ja) 光ディスク及び光ディスク製造方法
JPH0954985A (ja) 光デイスク及び光デイスクの製造方法
JP2005092927A (ja) 多層光ディスク
JP2006351057A (ja) 光記録媒体およびその製造方法
WO2013118289A1 (ja) パターン転写方法
JP4088953B2 (ja) 光学情報媒体の製造方法
JP2006040530A (ja) 光記録媒体の製造方法
EP1770695A1 (en) Multilayer optical recording medium and manufacturing method thereof
JP2005353144A (ja) 光ディスクおよび光ディスク製造方法
JP2016085770A (ja) 両面光記録媒体及びその製造方法
JP2008186509A (ja) 光情報記録媒体及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091028

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101207

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110405