WO2009101898A1 - ベンズアルデヒド化合物の製造方法 - Google Patents

ベンズアルデヒド化合物の製造方法 Download PDF

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WO2009101898A1
WO2009101898A1 PCT/JP2009/052014 JP2009052014W WO2009101898A1 WO 2009101898 A1 WO2009101898 A1 WO 2009101898A1 JP 2009052014 W JP2009052014 W JP 2009052014W WO 2009101898 A1 WO2009101898 A1 WO 2009101898A1
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benzaldehyde
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benzal
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Koichi Nakazawa
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Sumitomo Chemical Company, Limited
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a benzaldehyde compound.
  • Q represents a hydrogen atom or a halogen atom
  • 1: represents a phenyl group optionally substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom. Represents a dil group.
  • the present invention is a.
  • Q represents a hydrogen atom or a halogen atom
  • 8: 1 represents a phenyl group which may be substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom.
  • R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • ⁇ 3> A benzaldehyde facetal compound according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein Ar is a phenyl group substituted with at least one alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
  • benzaldehyde compound according to ⁇ 3> wherein the phenyl group substituted with at least one alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is 2,5-dimethylphenyl group;
  • Q represents a hydrogen atom or a halogen atom
  • 8: 1 represents a phenyl group which may be substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom.
  • R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • ⁇ 7> The method for producing a benzaldehyde compound according to ⁇ 6>, wherein the acid is Brensteadic acid; ⁇ 8> The method for producing a benzaldehyde compound according to ⁇ 7>, wherein the Brenstead acid is sulfuric acid;
  • Q represents a hydrogen atom or a halogen atom
  • X represents a halogen atom
  • Ar is substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom. Represents an optional phenyl group.
  • R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • M represents an alkali metal atom.
  • a method for producing a benzaldehyde dialkylacetal compound represented by the formula: ⁇ 10> An benzal halide compound represented by the formula (1) and an alkali metal alkoxide represented by the formula (2): A process for producing a benzaldehyde dialkylacetal compound according to ⁇ 9>, wherein the reaction is carried out in the presence of
  • ⁇ 1 1> The method for producing a benzaldehyde dialkylacetal compound according to ⁇ 1 0>, wherein the silicon compound is an alkali metal metal oxide;
  • ⁇ 1 2> Any of ⁇ 9> to ⁇ 1 1> in which a benzal halide compound represented by the formula (1) is reacted with an alkali metal alkoxide represented by the formula (2) in the presence of a phase transfer catalyst.
  • the phase transfer catalyst is a quaternary ammonium salt according to ⁇ 2>.
  • Q represents a hydrogen atom or a halogen atom
  • X represents a halogen atom
  • Ar is substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom. Represents an optional phenyl group.
  • Ar is a phenyl group substituted with at least one alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the benzal aldehyde compound according to ⁇ 14> or ⁇ 15>;
  • ⁇ 1 7> The benzal aldehyde compound according to 1>, wherein the phenyl group substituted with at least one alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is 2,5-dimethylphenyl group;
  • X is a chlorine atom
  • Ar force 2,5-dimethylphenyl group
  • a benzal halide compound represented by formula (5) is reacted with a phenol compound represented by formula (6) in the presence of a phase transfer catalyst.
  • a method of producing a compound
  • Q represents a hydrogen atom or a halogen atom
  • X represents a halogen atom
  • Ar is substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom. Represents an optional phenyl group.
  • R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • M represents an alkali metal atom.
  • a process for producing a benzaldehyde compound represented by the following:
  • the method for producing a benzaldehyde compound described in 2 2> which comprises a step of obtaining a benzal halide compound represented by the formula: BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • acetal compound (3) A benzaldehyde acetal compound (hereinafter abbreviated as acetal compound (3)) will be described.
  • Q represents a hydrogen atom or a halogen atom, and preferably a hydrogen atom.
  • halogen meridians include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms.
  • Ar represents a phenyl group which may be substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom.
  • alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group.
  • a halogen atom includes a fluorine atom, A chlorine atom etc. are mentioned.
  • phenyl group which may be substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom
  • a phenyl group a 2-methylphenyl group, a 4-methylenophenyl group, and 5 —Methylphenyl group, 2,5-Dimethylphenyl group, 2, 4-Dimethylphenyl group, 2, 6 —Dimethylphenyl group, 2, 4, 6 — Trimethylphenyl group, 2 —Ethylphenyl group, 4— Ethynyl phenyl group, 5-ethylphenyl group, 2,5-decylphenyl group, 2,4-decylphenyl group, 2,6-decylphenyl group, 2,4,6 — triphenylphenyl group, 2_propylphenyl group , 4 -propylphenyl group, 5 -propylphenyl group, 2,5-d
  • the acetal compound (3) is a novel compound, and specific examples include 2- (phenoxymethyl) benzanorede de dimenoreacetanole, 2- (2-methinolev enoxymethyle ⁇ le) benzanorede de dimenorea cetanol, 2 -(2-Echinolev Enoximeti Benzanorede de Dimethi / Rarecetanol, 2-(2-Isopropyrphenoxymethinore) Benzaldehyde Dimethylacetanol, 2- (4-Methylphenoxymethyl) Benzaldehyde dimethyl Acetal, 2- (4-Sopropylpyroxymethyl) benzaldehyde dimethylacetal, 2- (2,5-Dimethylphenoxymethyl) benzaldehyde dimethylacetal, 2- (2,5-jetyl Phenoxymethyl) benzaldehyde dimethylacetal, 2— (2,5 Diisopropylphenoxymethyl) benzaldehyde dimethyl acetal,
  • benzaldehyde compound (4) The benzaldehyde compound represented by (hereinafter abbreviated as benzaldehyde compound (4)) can be obtained.
  • the acid examples include Brenstead acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and sulfuric acid is preferred.
  • a commercially available acid is usually used. If necessary, it may be diluted with water or a solvent described later.
  • the acid is usually used as an aqueous solution.
  • the amount of the acid used is usually not less than 0.01 mol, preferably 1 to 5 mol, per 1 mol of the acetal compound (3).
  • the amount of water used is usually 2 mol or more per 1 mol of the acetal compound (3), and there is no upper limit, and a large excess amount may be used also as a solvent.
  • the reaction between the acetal compound (3) and water is usually carried out in the presence of an organic solvent.
  • organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, toluene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and cyclohexane; jetinoreethenore, tert-butinoremethinoreethenore, Ether solvents such as cyclopentinolemethinoyl ether; alcohol solvents such as methanol, ethanol, butanol, alcohol, isobutanol, tert-butanol, etc., aromatic hydrocarbons Solvents are preferred, xylene and toluene are more preferred.
  • the amount of the organic solvent used is not limited, but from the viewpoint of volumetric efficiency, it is usually 100 parts by weight or less with respect to 1 part by weight of the acetal compound (3).
  • the reaction temperature is usually 1 ° C. or higher and lower than the boiling point of the solvent, preferably 10 to 100 ° C.
  • the reaction may be performed under normal pressure or under pressure.
  • the reaction is carried out by mixing the acid, the acetal compound (3) and water, and the order of mixing is not limited, but it is preferable to add an aqueous acid solution to the acetal compound (3) adjusted to the reaction temperature.
  • a reaction mixture containing the benzaldehyde compound (4) is obtained, and the benzaldehyde compound (4) can be taken out by concentrating the reaction mixture, for example, as it is or after washing.
  • the extracted aldehyde compound (4) may be further purified by ordinary purification means such as recrystallization, distillation, column chromatography and the like.
  • the benzaldehyde compounds (4) thus obtained include 2— (phenoxymethyl) benzaldehyde, 2_ (2-methylphenoxymethyl) benzaldehyde, 2— (2-ethylphenoxy). Methyl) Benzaldehyde, 2— (2-Isopropylphenoxymethyl) Benzaldehyde, 2— (4-Methylphenoxymethyl) Benzaldehyde, 2— (4-Isopropylphenoxymethyl) benzaldehyde 2— (2,5-Dimethylphenoxymethyl) benzaldehyde, 2— (2,5—Jetylphenoxymethyl) Benzaldehyde, 2_ (2,5-Dipropylpropyloxymethyl) Benzaldehyde, 2— (2, 4, 5—trimethylphenoxymethyl) Benzaldehyde, 2— (2, 4, 6—trimethylphenoxymethyl) Benzaldehyde, 2 _ (3, 4, 5— trimethylphen
  • Benzal halide compound (1) Benzal halide compound (hereinafter abbreviated as benzal halide compound (1)) and formula (2)
  • alkali metal alkoxide (2) By reacting with an alkali metal alkoxide (hereinafter abbreviated as alkali metal alkoxide (2)) Can be manufactured.
  • X represents a halogen atom
  • examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom is preferred.
  • the benzal halide compound (1) is also a new compound. Specific examples thereof include 2 (phenoxymethyl) benzal chloride, 2- (2-methylphenoxymethyl) benzanol chloride, 2- (2-ethyl). Enoxymethinole) Benzanol chloride, 2 1 (2-Isopropylphenoxymethinole) Benzanolec lid, 2-— (4-Methylphenoxymethyl) Benzalkine lid, 2— (4-Isopropyl) Enoxymethi Benzal chloride, 2 -— (2,5-Dimethylphenoxymethyl) Benzalkyl chloride, 2 -— (2,5-Deethylphenoxymethyl) benzanoleclide, 2 -— (2,5— Diisopropylphenoxymethyl) benzal chloride, 2- (2, 4, 5-, trimethylphenoxymethyl) benzalkoxide, 2 _ (2, 4, 6_ trimethylphenoxymethyl) benzalkoxide, 2— (3, 4, 5
  • ⁇ represents an alkali metal atom
  • examples of the alkali metal atom include a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom, a cesium atom, and a francium atom.
  • the sodium atom is preferred.
  • Alkali metal alkoxides (2) include lithium methoxide, lithium ethoxide, lithium propoxide, lithium butoxide, lithium isopropoxide, lithium isobutoxide, lithium tert-butoxide and other lithium alkoxides; sodium methoxide, nitroxide Sodium alkoxides such as sodium prevailoxide, sodium triumbutoxide, sodium triumph propoxide, sodium prevail butoxide, sodium tert-butoxide, etc .; force rummetoxide, force lympropoxide, force ridium propoxide, force ridium propoxide Power lithium alkoxides such as isopropoxide, potassium isobutoxide, potassium tert-butoxide; rubidium metsoxide, rubi Rubidium alkoxides such as um ethoxide, rubidium propoxide, rubidium butoxide, rubidium isopropoxide, norevidium isobutoxide, norevidium tert _butoxide;
  • the alkali metal alkoxide (2) a commercially available product may be used, or a product prepared by reacting a corresponding alcohol with an alkali metal hydride or an alkaline metal hydroxide may be used. .
  • a benzal halide compound (1) with the corresponding alcohol and an alkali metal hydride or an alkaline metal hydroxide, the preparation of the alkali metal alkoxide (2) and the benzal halide compound (1)
  • the reaction with the alkali metal alkoxide (2) may be performed simultaneously.
  • the amount of the alkali metal alkoxide (2) to be used is not limited, but is usually 2 to 10 mol, preferably 3 to 5 mol, per 1 mol of the benzal halide compound (1).
  • the reaction of the benzal halide compound (1) and the alkaryl metal alkoxide (2) may be carried out in the presence of a solvent or in the absence of a solvent. It is preferable to carry out the reaction in the presence of a solvent.
  • Solvents include aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, toluene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and cyclohexane; tetrahydrofuran, jetyl ether, tert-butanol And etherol solvents such as methylol ether and cyclopentinol methyl etherol; alcohol solvents such as methanol, ethanol, butanol, isopropanol, isobutanol, and tert-butanol.
  • an alcohol solvent is preferable, and an alcohol solvent having the same alkoxy group as the alkoxy group of the alkali metal alkoxide (2) used is more preferable.
  • the amount of the solvent to be used is not limited, but is usually 100 parts by weight or less with respect to 1 part by weight of the benzal halide compound (1) from the viewpoint of economy.
  • Phase transfer catalysts include quaternary such as tetra-ammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, tetra-ammonium hydrogensulfate, and trimethylammonium chloride.
  • Ammonium salts Phosphonium salts such as triphenylphosphine bromide
  • Polyester compounds such as 18-crown 16 and polyethylene gallic; Of these, quaternary ammonium salts are preferred, and tetra-n-butyl ammonium salt is more preferred.
  • phase transfer catalyst is usually a commercially available one.
  • the amount of the phase transfer catalyst used is usually at least 0.1 mol, preferably 0.05-1 mol, per 1 mol of the benzal halide compound (1).
  • reaction can be caused to proceed more smoothly by carrying out the reaction between the benzal halide compound (1) and the alkali metal alkoxide (2) in the presence of iodine or an iodine compound.
  • iodine compounds examples include potassium iodide, sodium iodide, and lithium iodide.
  • Al strength lithium metal iodides such as: Al strength lithium metal iodides are preferred, and potassium iodide is more preferred.
  • Commercially available iodine and iodine compounds are usually used.
  • the amount of iodine or iodine compound used is usually at least 0.01 mol, preferably from 0.05 to 1 mol, per 1 mol of the benzal halide compound (1).
  • the reaction temperature is usually ⁇ 5 ° C. or higher and below the boiling point of the solvent, preferably 10 to 100 ° C.
  • the reaction is carried out by mixing the benzal halide compound (1) and the alkali metal alkoxide (2).
  • the order of mixing is not limited, but it is preferable to add the alkali metal alkoxide (2) to the benzal halide compound (1) adjusted to the reaction temperature.
  • the reaction may be performed under normal pressure or under pressure.
  • the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analytical means such as gas chromatography, high-performance liquid chromatography, and NMR.
  • a reaction mixture containing the acetal compound (3) is obtained, and the acetal compound (3) can be taken out by concentrating the reaction mixture as it is or after washing with water.
  • the acetal compound (3) taken out may be further purified by ordinary purification means such as recrystallization, distillation, column chromatography and the like.
  • the reaction mixture may be used as it is for the reaction with water in the presence of the above-mentioned acid, or the reaction mixture is washed with water to remove alkali metal alkoxide and the like remaining in the reaction mixture. Later, it may be used for reaction with water in the presence of acid.
  • the reaction mixture When the reaction mixture is washed with water, if necessary, it is added to water such as an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene, toluene, or benzene, or an aliphatic hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, heptane, or cyclohexane. An insoluble organic solvent may be added.
  • an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene, toluene, or benzene
  • an aliphatic hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, heptane, or cyclohexane.
  • An insoluble organic solvent may be added.
  • the benzal halide compound (1) has the formula (5)
  • benzal halide compound (5) The benzal halide compound shown below (hereinafter abbreviated as benzal halide compound (5)) and formula (6)
  • phenol compound (6) Can be produced by reacting in the presence of a base with a phenol compound (hereinafter abbreviated as phenol compound (6)).
  • Benzal halide compounds (5) include 2— (chloromethyl) benzal chloride, 2— (bromomethyl) benzal bromide, 2 _ (iodomethyl) benzal cuzido, 3 — black mouth 1— (chloromethinore) benzalk mouth 2-(Chloromethinore) Benzanolole chloride, 4-Bromo (Bromomethinole) Benzyl bromide, 4-Rhodo2-(Chloromethinore) Benzaluzide, 5-Cloroclosure-2-(Chloromethyl) Benza / Rechlori 5-bromo-1 (bromomethinole) benzal bromide, 5- ododo _ 2 _ (ododomethinore) benzaluzide, 6-chloro 2- (chloromethyl) benzal chloride, and the like from the viewpoint of availability. Chloromethyl) Benzyl chloride is preferred.
  • a commercially available benzal halide compound (5) may be used, or a method in which an o-xylene compound and a halogen are reacted in the presence of a radical initiator or under light irradiation (Japanese Patent Laid-Open No. 20 0 6 — Refer to the publication No. 3 3 5 7 3 7)).
  • Phenolic compounds (6) include: phenol, 2-methylphenol, 2-ethinoleunoenore, 2_isopropinoleenoenore, 4-methinoleenoenole, 4 isopropylphenol, 2, 5— Dimethinophenol, 2,5-Deethylphenol, 2,5-Diisopropylphenol, 2,4,5-Trimethylphenol, 2,4,6-Trimethylphenol, 3,4,5-Trimethylphenol , 2—Black-mouthed Fuenore, 4-—Black-headed Huenole, 2-—Funoleolofenore, 4-Funoleolofenole, 2, 4-—Diphnoleolofenole, 2, 4, 6— 2,5-Dimethylphenol is preferred.
  • a commercially available phenol compound (6) may be used, or J. Am. m. S oc., 1 2 8, 1 0 6 9 4 (2 0 0 6), T etrahedron Letters, 3 0, 5 2 1 5 (1 9 8 9), JP-A 2 0 0 2— 3 4 A product produced by a known method described in No. 26 may be used.
  • An excessive amount of phenol compound (6) may be used relative to the benzal halide compound (5), or an excessive amount of benzal halide compound (5) relative to the phenol compound (6).
  • 0.1 to 10 mol, more preferably 1 to 3 mol of phenol compound (6) is used per mol of benzal halide compound (5).
  • Bases include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, etc .; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, strong tert-butoxide; lithium hydroxide, hydroxy acid Metal hydride hydroxides such as sodium hydride and hydroxide hydroxide; Hydrogen hydride metal compounds such as sodium hydride, hydrogen hydride and lithium hydride; sodium carbonate; Examples thereof include alkaline metal carbonates such as lithium carbonate and lithium carbonate; alkaline metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and lithium hydrogen carbonate; and the like. Of these, alkali metal hydroxides are preferable, and sodium hydroxide is more preferable. A commercially available base is usually used as it is. Further, it may be diluted with water or a solvent described later.
  • the amount of base used is usually 1 mol or more per 1 mol of benzal halide compound (5) and phenol compound (6), which has the least amount used. Is a mole.
  • the reaction between the benzal halide compound (5) and the phenol compound (6) is usually carried out in the presence of a solvent.
  • solvents include: aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, toluene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and cyclohexane; tetrahydrofuran, jetyl ether, tert-butyl Ethenole solvents such as chinoremethyl etherenole and cyclopentinolemethinole etherenole; Nitryl solvents such as acetate-tolyl and propionitrile; Ketone solvents such as tert-butylmethylketone; N, N-dimethylform Amide solvent such as amide; Sulfoxide solvent such as dimethyl sulfoxide; Water; Among them, water and aromatic charcoal A mixed solvent with a hydrogen fluoride solvent is preferable, and a mixed solvent of
  • the reaction between the benzal halide compound (5) and the phenol compound (6) is preferably carried out in the presence of a phase transfer catalyst.
  • Phase transfer catalysts include quaternary ammonium such as tetra-n-butylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, tetra- n -butylammonium hydrogen sulfate, and trioctylmethylammonium chloride. Salts; phosphonium salts such as triphenylenophosphine bromide; poly ether compounds such as 18-crown 16 and polyethylene dallicol; quaternary ammonium salts are preferred, tetra bromide n- Butyl ammonium is more preferred.
  • the amount of phase transfer catalyst used is usually at least 0.01 mol, preferably at least 0.1 mol, per 1 mol of the lesser of the benzal halide compound (5) and phenol compound (6). 05 to 1 mole.
  • iodine compound examples include alkali metal lithium iodides such as potassium iodide, sodium iodide, and lithium iodide; preferred are alkaline metal iodides, and potassium iodide is preferable. More preferred. Commercially available iodine and iodine compounds are usually used as they are.
  • the amount of iodine or iodine compound used is usually at least 0.01 mole, preferably 0.005 moles per mole of the lesser of the benzal halide compound (5) and phenol compound (6) used. ⁇ 1 mole.
  • the reaction temperature is usually _5 ° C or higher and lower than the boiling point of the solvent, preferably 10 to 10
  • the reaction may be performed under normal pressure or under pressure.
  • the reaction is usually carried out by mixing a benzal halide compound (5), a phenol compound (6) and a base.
  • the order of mixing is not limited and Benzalhalai
  • the compound (5), phenol compound (6) and base may be added simultaneously to the reaction vessel, or the base may be added to the mixture of the benzal halide compound (5) and phenol compound (6).
  • the phenol compound (6) may be added to the mixture of the benzal halide compound (5) and the base, or the mixture of the phenol compound (6) and the base may be added to the benzal halide compound (5).
  • the method of adding a mixture of a phenol compound (6) and a base to the benzal halide compound (5) is preferred.
  • the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analytical means such as gas chromatography, high performance liquid chromatography, and NMR.
  • reaction mixture containing the benzal halide compound (1) is obtained.
  • the reaction mixture is washed with an aqueous acid solution as necessary, and then concentrated to take out the benzal halide compound (1). be able to.
  • the extracted benzal halide compound (1) may be further purified by ordinary purification means such as recrystallization, distillation, column chromatography and the like.
  • the obtained reaction mixture may be used as it is for the reaction with the alkali metal alkoxide (2).
  • Example 1 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples. The analysis was performed by high performance liquid chromatography internal standard method. Example 1
  • the resulting reaction mixture was cooled to an internal temperature of 60 ° C., and 22 mL of xylene and 225 mL of water were added. The obtained mixture was separated, and 35% by weight sulfuric acid aqueous solution 150.O g was added to the obtained organic layer. The resulting mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours, and 18 mL of xylene was added. The obtained mixture was separated at the same temperature, and the obtained organic layer was cooled to room temperature. The organic layer was was washed with 75.0 g of 5 wt% aqueous sodium hydroxide solution and then with 15 OmL of water.
  • the resulting reaction mixture was cooled to an internal temperature of 60 ° C., and 7 mL of xylene and 40 mL of water were added thereto.
  • the obtained mixture was subjected to liquid separation, and 40.0 g of 35% by weight sulfuric acid aqueous solution was added to the obtained organic layer.
  • the resulting mixture was stirred at 60 ° C for 2 hours. 3 mL was added.
  • the obtained mixture was separated at the same temperature, and the obtained organic layer was cooled to room temperature.
  • the organic layer was washed with 20.0 g of 5 wt% aqueous sodium hydroxide solution and then with 40. O g of water.
  • the obtained reaction mixture was cooled to an internal temperature of 60 ° C., and 1 mL of xylene and 10 mL of water were added thereto.
  • the obtained mixture was separated, and 35 wt% sulfuric acid solution 4.
  • O g was added to the obtained organic layer.
  • the resulting mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours, and 10 mL of xylene was added.
  • the obtained mixture was subjected to liquid separation at the same temperature, and the obtained organic layer was cooled to room temperature.
  • the organic layer was washed with 2.0 g of 5 wt% aqueous sodium hydroxide solution and then with 4.0 g of water.
  • the resulting reaction mixture was cooled to an internal temperature of 60 ° C., and 3 mL of xylene and 25 mL of water were added thereto.
  • the obtained mixture was subjected to liquid separation, and 35% by weight sulfuric acid aqueous solution (10.O g) was added to the obtained organic layer.
  • the resulting mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours, and 2 mL of xylene was added.
  • the obtained mixture was separated at the same temperature, and the obtained organic layer was cooled to room temperature.
  • the organic layer was washed with 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution (5.0 g) and then with water (10.O g).
  • a benzaldehyde compound useful as an intermediate for producing a fungicide can be produced in high yield by reacting a benzaldehyde compound which is a novel compound of the present invention with water in the presence of an acid. .

Abstract

式（３）（式中、Ｑは水素原子またはハロゲン原子を表わし、Ａｒは炭素数１～４のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよいフェニル基を表わし、Ｒは炭素数１～４のアルキル基を表わす。）で示されるベンズアルデヒド　アセタール化合物。

Description

ベンズアルデヒ ド化合物の製造方法 技術分野
本発明は、 ベンズアルデヒ ド化合物の製造方法に関 明
京技術
式 （4 )
書
Figure imgf000002_0001
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 1：は炭素数 1〜4のァル キル基およびハ口ゲン原子からなる群から選ばれる少なく とも一つで置換されて いてもよいフエ二ル基を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド化合物が殺菌剤の製造中間体と して有用である （例 えば、特開平 9 - 9 5 4 6 2号公報および米国特許第 5 1 4 5 9 8 0号公報参照）。 式 （4 ) で示されるベンズアルデヒ ド化合物の製造方法と して、 特開平 9 一 9 5 4 6 2号公報には、 対応するベンジルハライ ド化合物を酸化する方法が開示さ れており、 米国特許第 5 2 4 5 9 8 0号公報には、 対応するべンゾニトリル化合 物を酸化する方法が開示されている。 発明の開示
本発明は、
< 1 >式 （ 3 )
Figure imgf000002_0002
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 八 1：は炭素数 1〜4のァル キル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なく とも一つで置換されて いてもよいフエ二ル基を表わし、 Rは炭素数 1〜 4のアルキル基を表わす。） で示されるベンズアルデヒ ド ァセタール化合物 ；
< 2 > Rがメチル基である < 1 >に記載のベンズアルデヒ ド ァセタール化合 物 ；
< 3 > A rが少なく とも一つの炭素数 1〜4のアルキル基で置換されたフエ二 ル基である < 1 >または < 2 >に記載のベンズアルデヒ ド ァセタール化合物 ；
< 4 > 少なく とも一つの炭素数 1〜4のアルキル基で置換されたフヱニル基が 2， 5 —ジメチルフエニル基である < 3 >に記載のベンズアルデヒ ド ァセター ル化合物 ；
< 5 > Rがメチル基であり、 A rが 2 , 5 —ジメチルフエニル基であり、 Qが 水素原子であるく 1 >に記載のベンズアルデヒ ド ァセタール化合物 ；
Figure imgf000003_0001
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 八 1：は炭素数1〜4のァル キル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なく とも一つで置換されて いてもよいフエ二ル基を表わし、 Rは炭素数 1〜4のアルキル基を表わす。） で示されるベンズアルデヒ ド ァセタール化合物と水とを、 酸の存在下に反応さ る式 （4 )
Figure imgf000003_0002
(式中、 Qおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド化合物の製造方法 ；
< 7 > 酸がブレンステツ ド酸である < 6 >に記載のベンズアルデヒ ド化合物の 製造方法 ； < 8 > ブレンステヅド酸が硫酸である < 7 >に記載のベンズアルデヒ ド化合物 の 造方法 ；
Figure imgf000004_0001
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 Xはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜 4のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少 なく とも一つで置換されていてもよいフエ二ル基を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （2 )
RO— M (2)
(式中、 Rは炭素数 1〜4のアルキル基を表わし、 Mはアルカ リ金属原子を表わ す。）
で示されるアル力リ金属アルコキシドとを反応させることを特徴とする式 （3 )
Figure imgf000004_0002
(式中、 Q、 A rおよび Rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法 ； < 1 0 > 式 （ 1 ) で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （2 ) で示され るアル力リ金属アルコキシドとを、 ヨウ素またはョゥ素化合物の存在下で反応さ せる < 9 >に記載のベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方 法 ；
< 1 1 > ョ ゥ素化合物がアル力リ金属ョゥ化物である < 1 0〉に記載の ベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法 ；
< 1 2 > 式 （ 1 ) で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （2 ) で示され るアル力リ金属アルコキシドとを、 相間移動触媒の存在下で反応させる < 9 >〜 < 1 1 >のいずれかに記載のベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の 製造方法； < 1 3 > 相間移動触媒が四級アンモニゥム塩である < 2 >に記載の. ンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法；
Figure imgf000005_0001
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 Xはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜4のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少 なく とも一つで置換されていてもよいフエ二ル基を表わす。）
で示さ るベンザルハライ ド化合物 ；
< 1 5 > ハロゲン原子が塩素原子であるく 1 4 >に記載のベンザルアル デヒ ド化合物 ；
< 1 6 > A rが少なく とも一つの炭素数 1〜 4のアルキル基で置換され たフヱニル基であるく 1 4 >またはく 1 5 〉に記載のベンザルアルデヒ ド化合 物 ；
< 1 7 > 少なく とも一つの炭素数 1〜4のアルキル基で置換されたフエ ニル基が 2 , 5 —ジメチルフヱニル基であるく 1 6 >に記載のベンザルアルデヒ ド化合物 ；
< 1 8 > Xが塩素原子であり、 A r力 2， 5—ジメチルフエニル基であり、
Qが水素原子である < 1 4〉に記載のベンザルアルデヒ ド化合物 ；
Figure imgf000005_0002
(式中、 Qおよび Xはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （ 6 )
Ar-OH (6)
(式中、 A rは上記と同一の意味を表わす。）
で示されるフエノール化合物とを、 塩基の存在下に反応させることを特徴とする 式 （ 1 )
Figure imgf000006_0001
(式中、 Q、 Xおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物の製造方法 ；
< 2 0 > 式（6 )で示されるフエノール化合物と塩基との混合物を、式（ 5 ) で示されるベンザルハライ ド化合物に加えて、 反応を実施する < 1 9 >に記載の ベンザルハライ ド化合物の製造方法 ；
< 2 1 > 式 （ 5 ) で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （6 ) で示され るフエノール化合物とを、 相間移動触媒の存在下に反応させる < 1 9〉またはく 2 0 >に記載のベンザルハライ ド化合物の製造方法；
1 )
Figure imgf000006_0002
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 Xはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜4のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少 なく とも一つで置換されていてもよいフエ二ル基を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （ 2.)
RO— M (2)
(式中、 Rは炭素数 1〜4のアルキル基を表わし、 Mはアルカリ金属原子を表わ す。）
で示されるアルカリ金属アルコキシドとを反応させて、 式 （ 3 )
Figure imgf000006_0003
(式中、 Q、 A rおよび Rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。） で示されるベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物を得る工程、および、 (B) 式 （3) で示されるベンズアルデヒ ド ァセタール化合物と水とを、 酸の 存在下に反応させて、 式 （4)
Figure imgf000007_0001
(式中、 Qおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド化合物を得る工程、 を含むことを特徴とするベンズ アルデヒ ド化合物の製造方法 ；
< 2 3 > さらに、 （C) 式 （ 5)
Figure imgf000007_0002
(式中、 Qおよび Xはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （6)
Ar-OH (6)
(式中、 A rは上記と同一の意味を表わす。）
で示されるフユノール化合物とを、 塩基の存在下に反応させて、 式 （ 1 )
Figure imgf000007_0003
(式中、 Q、 Xおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物を得る工程を含むく 2 2 >に記載のベンズァ ルデヒ ド化合物の製造方法 ； を提供するものである。 発明を実施するための最良の形態
まず、 式 （ 3)
Figure imgf000008_0001
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜4のアル キル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されて いてもよいフエ二ル基を表わし、 Rは炭素数 1〜 4のアルキル基を表わす。） で示されるベンズアルデヒ ド ァセタール化合物 （以下、 ァセタール化合物 （3 ) と略記する。） について説明する。
ァセタール化合物 （3 ) の式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 水素原子が好ましい。 ハロゲン原午と しては、 フッ素原子、塩素原子、 臭素原子、 ョゥ素原子が挙げられる。
ァセタール化合物 （3 ) の式中、 A rは炭素数 1〜4のアルキル基およびハロ ゲン原子からなる群から選ばれる少なく とも一つで置換されていてもよいフエ二 ル基を表わす。 炭素数 1〜4のアルキル基と しては、 メチル基、 ェチル基、 プロ ピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 t e r t 一ブチル基等が挙 げられ、 ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子等が挙げられる。
かかる炭素数 1〜4のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる 少なく とも一つで置換されていてもよいフエニル基としては、 フエニル基、 2— メチルフエニル基、 4ーメチノレフェニル基、 5—メチルフエ二ノレ基、 2， 5—ジ メチルフエニル基、 2 , 4—ジメチルフエニル基、 2 , 6 —ジメチルフエ二ノレ基、 2， 4， 6 — ト リ メチルフエニル基、 2 —ェチルフエニル基、 4—ェチノレフエ二 ル基、 5—ェチルフエニル基、 2 , 5—ジェチルフエニル基、 2 , 4—ジェチル フエニル基、 2 , 6—ジェチルフエニル基、 2， 4 , 6 — ト リェチルフエ二ノレ基、 2 _プロピルフエニル基、 4 —プロピルフエ二ノレ基、 5 —プロピルフエ二ノレ基、 2 , 5—ジプロピルフエニル基、 2， 4 —ジプロピルフエニル基、 2 , 6—ジプ 口ピルフエニル基、 2 , 4 , 6 — ト リプロピルフエニル基、 2 _イ ソプロピルフ ェニル基、 4 —イソプロピルフエニル基、 5 _イソプロピルフエニル基、 2， 5 —イ ソプロピルフエニル基、 2， 4ージイ ソプロピルフエニル基、 2， 6—ジィ ソプロ ピルフエニル基、 2， 4 , 6 — ト リイ ソプロ ピルフエニル基、 2 _ブチル フエニル基、 4 _ブチルフエニル基、 5—ブチルフエニル基、 2 , 5 _ジブチル フエニル基、 2, 4—ジブチルフエ-ル基、 2， 6 _ジブチルフエニル基、 2 , 4， 6— ト リブチルフエニル基、 2 _イソブチルフエニル基、 4一イソブチルフ ェニル基、 5 _イ ソブチルフエニル基、 2 , 5—ジイソブチルフエニル基、 2， 4—ジイソブチルフエニル基、 2 , 6—ジイ ソブチルフエニル基、 2, 4 , 6 - ト リイ ソブチルフエ二ノレ基、 2— t e r t—ブチルフエ二ノレ基、 4— t e r t— ブチルフエニル基、 5— t e r t—ブチルフエニル基、 2 , 5—ジ一 t e r t— ブチルフエニル基、 2 , 4—ジ— t e r t—ブチルフエ二ノレ基、 2 , 6—ジ— t e r t—ブチルフエニル基、 2， 4, 6— ト リ — t e r t —ブチルフエニル基、 2—フノレオロフェニノレ基、 4—フノレオロフェニノレ基、 2 , 4—ジフノレオロフェニ ノレ基、 2, 4， 6— ト リ フノレオロフェニノレ基、 ペンタフノレオロフェニ レ基、 2 - クロ口フエ二ル基、 4一クロ口フエ二ル基、 2 , 4—ジクロロフェニル基、 2， 4, 6— ト リ クロ口フエ二ノレ基、 ペンタク ロロフエニル基等が挙げられる。 なか でも、 少なく とも一つの炭素数 1〜4のアルキル基で置換されたフエニル基が好 ましく 、 2, 5—ジメチルフヱニル基がよ り好ましい。
ァセタール化合物 （ 3) は新規化合物であり、 その具体例と しては、 2— (フ エノキシメチル） ベンズァノレデヒ ド ジメチノレアセターノレ、 2 - ( 2—メチノレフ エノキシメチ ^レ） ベンズァノレデヒ ド ジメチノレアセタ一ノレ、 2 - ( 2—ェチノレフ エノキシメチ ベンズァノレデヒ ド ジメチ /レアセタ一ノレ、 2 - ( 2—イ ソプロ ピルフエノキシメチノレ） ベンズアルデヒ ド ジメチルァセターノレ、 2 - (4—メ チルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— (4—ィ ソプロ ピルフエノキシメチル）ベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2 - (2 , 5ージェチルフエノキシメチル）ベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— ( 2， 5—ジイ ソプロ ピルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド ジメチル ァセタール、 2 _ (2， 4 , 5— ト リ メチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— ( 2 , 4， 6— ト リ メチルフエノキシメチル） ベ ンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— （3， 4, 5— ト リ メチルフエノキ シメチル） ベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2 _ ( 2 , 4， 5— ト リ メ チルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド ジメチノレアセターノレ、 2 - ( 2, 5 ージメチルフエノキシメチル） 一 3 _クロ 口べンズアルデヒ ド ジメチノレアセタ ール、 2 - (2, 5—ジメチノレフエノキシメチノレ） 一 4一クロ口べンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— （2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） 一 5—ク ロロべンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— （2， 5—ジメチルフエノキ シメチノレ） _ 6—クロ口べンズアルデヒ ド ジメチルァセターノレ、 2 - ( 2, 5 ージェチルフエノキシメチル） _ 3—クロ口べンズアルデヒ ド ジメチルァセタ 一ノレ、 2 - (2, 5—ジェチノレフエノキシメチノレ） 一 4—クロ口べンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— ( 2, 5—ジェチルフエノキシメチル） 一 5—ク ロロべンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— （2 , 5—ジェチルフエノ.キ シメチル） 一 6—クロ口べンズアルデヒ ド ジメチルァセターノレ、 2— （ 2， 5 —ジイ ソプロピルフエノキシメチル） 一 3—クロ口べンズァノレデヒ ド ジメチノレ ァセタール、 2— （ 2， 5—ジイ ソプロピルフエノキシメチル） 一 4—クロ口べ ンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2 _ (2 , 5—ジイソプロ ピルフエノキ シメチノレ） 一 5—クロ口べンズァノレデヒ ド ジメチノレアセターノレ、 2 - ( 2, 5 —ジイ ソプロピルフエノキシメチル） 一 6 _クロ口べンズァノレデヒ ド ジメチノレ ァセタール、 2— （ 2， 5—ジメチルフエノキシメチル） 一 4—ブロモベンズァ ルデヒ ド ジメチルァセタ一ノレ、 2 - ( 2， 5—ジェチノレフエノキシメチル） 一 4 _ブロモベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2— ( 2， 5—ジイ ソプロ ピノレフエノキシメチル） 一 4—ブロモベンズアルデヒ ド ジメチルァセタール、 2 - ( 2, 5—ジメチルフエノキシメチル） 一 4—ョー ドベンズアルデヒ ド ジ メチルァセタール、 2 - ( 2 , 5—ジメチノレフエノキシメチノレ） ベンズアルデヒ ド ジェチルァセタール、 2 - ( 2， 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズァ ルデヒ ド ジプロ ピルァセタール、 2— （ 2, 5—ジメチルフエノキシメチノレ） ベンズアルデヒ ド ジブチルァセタール、 2 - (2 , 5—ジメチルフエノキシメ チル） ベンズアルデヒ ド ジイ ソプロピルァセタール、 2— （ 2 , 5—ジメチル フエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド ジイソプチルァセタール、 2— （2， 5 -ジメチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド ジ t e r t—ブチルァセター ル等が挙げられる。 かかるァセタール化合物（ 3 ) と水とを、酸の存在下に反応させることにより、
Figure imgf000011_0001
(式中、 Qおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド化合物 （以下、 ベンズアルデヒ ド化合物 （4 ) と略 記する。） を得ることができる。
酸と しては、 塩酸、 硫酸、 硝酸等のブレンステッ ド酸が挙げられ、 硫酸が好ま しい。 かかる酸は、 通常、 市販のものが用いられる。 必要に応じて、 水や後述す る溶媒で希釈して用いてもよい。 酸は、 通常、 水溶液と して用いられる。
酸の使用量は、 ァセタール化合物 （3 ) 1モルに対して、 通常 0 . 0 1モル以 上であり、 好ましくは 1〜 5モルである。
水の使用量は、 ァセタール化合物 （3 ) 1モルに対して、 通常 2モル以上であ り、 その上限はなく、 溶媒を兼ねて大過剰量用いてもよい。
ァセタール化合物 （ 3 ) と水との反応は、 通常、 有機溶媒の存在下で実施され る。 有機溶媒と しては、 キシレン、 トルエン、 ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒 ； ペンタン、 へキサン、 ヘプタン、 シクロへキサン等の脂肪族炭化水素溶媒 ； ジェ チノレエーテノレ、 t e r t —ブチノレメチノレエーテノレ、 シクロペンチノレメチノレエ一テ ル等のエーテル溶媒； メタノール、 ェタノ一ル、 ブタノ一ノレ、 ィ ソプロパノ一ル、 イソブタノール、 t e r t —ブタノール等のアルコール溶媒 ； 等が挙げられ、 芳 香族炭化水素溶媒が好ましく、 キシレンおよびトルエンがより好ましい。 有機溶 媒の使用量は限定されないが、 容積効率の観点から、 ァセタール化合物 （ 3 ) 1 重量部に対して、 通常 1 0 0重量部以下である。
反応温度は、通常 1 °C以上、溶媒の沸点以下であり、好ましくは 1 0〜 1 0 0 °C である。
反応は、 常圧下で行ってもよいし、 加圧下で行ってもよい。
反応の進行は、 ガスクロマ トグラフィー、 高速液体クロマ トグラフィー、 N M R等の通常の分析手段により確認することができる。
反応は、 酸とァセタール化合物 （ 3) と水とを混合することにより実施され、 それらの混合順序は限定されないが、反応温度に調整したァセタール化合物 （ 3) に酸の水溶液を加えることが好ましい。
かく して、 ベンズアルデヒ ド化合物 （4) を含む反応混合物が得られ、 該反応 混合物を、 例えば、 そのままもしくは洗浄した後、 濃縮することにより、 ベンズ アルデヒ ド化合物 （4) を取り出すことができる。 取り出しだべンズアルデヒ ド 化合物 （4) は、 再結晶、 蒸留、 カラムクロマトグラフィー等の通常の精製手段 により さらに精製してもよい。
かく して得られるベンズアルデヒ ド化合物 （4) と しては、 2— (フエノキシ メチル） ベンズアルデヒ ド、 2 _ ( 2—メチルフエノキシメチル） ベンズアルデ ヒ ド、 2— ( 2—ェチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド、 2— (2—イ ソ プロピルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド、 2— (4—メチルフエノキシメ チル） ベンズアルデヒ ド、 2— (4—イ ソプロピルフエノキシメチル） ベンズァ ルデヒ ド、 2— ( 2, 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド、 2— ( 2 , 5—ジェチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド、 2 _ ( 2, 5—ジィ ソプロピルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド、 2— ( 2 , 4， 5— ト リ メチ ルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド、 2— (2, 4， 6— ト リ メチルフエノ キシメチル） ベンズアルデヒ ド、 2 _ (3 , 4, 5— ト リ メチルフエノキシメチ ノレ） ベンズアルデヒ ド、 2— （ 2 , 4， 5— ト リメチルフエノキシメチル） ベン ズアルデヒ ド、 2— ( 2 , 5—ジメチノレフエノキシメチノレ） 一 3—クロ口べンズ ァノレデヒ ド、 2— （ 2， 5—ジメチルフエノキシメチノレ） 一 4 _クロ口べンズァ ノレデヒ ド、 2— (2 , 5—ジメチノレフエノキシメチル） 一 5—クロ口べンズァノレ デヒ ド、 2— (2， 5—ジメチノレフエノキシメチル） 一 6 _クロ口べンズァノレデ ヒ ド、 2— ( 2， 5—ジェチルフエノキシメチノレ） 一 3—クロ口べンズアルデヒ ド、 2— （ 2 , 5ージェチルフエノキシメチル） 一 4一クロ口べンズアルデヒ ド、 2 - ( 2， 5—ジェチノレフエノキシメチル） 一 5—クロ 口べンズァノレデヒ ド、 2 — (2 , 5—ジェチルフエノキシメチル） _ 6 _クロ口べンズアルデヒ ド、 2— (2 , 5—ジイ ソプロ ピルフエノキシメチル） 一 3—クロ口べンズアルデヒ ド、 2 - ( 2, 5—ジイ ソプロピルフエノキシメチル） 一 4一クロ口べンズァノレデヒ ド、 2— ( 2， 5—ジイ ソプロピルフエノキシメチル） 一 5—クロ口べンズアル デヒ ド、 2— （ 2 , 5—ジイ ソプロピノレフエノキシメチノレ） 一 6—クロ口べンズ ァノレデヒ ド、 2 _ ( 2 , 5—ジメチノレフエノキシメチル） 一 4—ブロモベンズァ ルデヒ ド、 2— ( 2， 5—ジェチルフエノキシメチル） 一 4—ブロモベンズアル デヒ ド、 2 _ ( 2， 5—ジイ ソプロピルフエノキシメチル） 一 4—ブロモベンズ アルデヒ ド、 2— (2， 5—ジメチルフエノキシメチル） 一 4—ョードベンズァ ルデヒ ド等が挙げられる。 ァセタール化合物 （ 3) は、 式 （ 1 )
Figure imgf000013_0001
(式中、 Qおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わし、 Xはハロゲン原子 を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物 （以下、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) と略 記する。） と式 （2)
RO— M (2)
(式中、 Rは上記と同一の意味を表わし、 Mはアルカリ金属原子を表わす。） で示されるアルカ リ金属アルコキシド （以下、 アルカリ金属アルコキシド （ 2 ) と略記する。） とを反応させることにより製造することができる。
ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) の式中、 Xはハロゲン原子を表わし、 ハロゲン 原子としては、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子が挙げられ、 塩素原子が好まし レ、。
ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) も新規化合物であり、 その具体例としては、 2 一 （フエノキシメチル） ベンザルクロ リ ド、 2— ( 2—メチルフエノキシメチル） ベンザノレクロ リ ド、 2— （ 2—ェチルフエノキシメチノレ） ベンザノレクロ リ ド、 2 一 （ 2—イ ソプロピルフエノキシメチノレ） ベンザノレク口 リ ド、 2— （ 4—メチル フエノキシメチル） ベンザルク口 リ ド、 2— （4—ィソプロピルフエノキシメチ ル） ベンザルクロ リ ド、 2— ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンザルク 口 リ ド、 2— ( 2 , 5—ジェチルフエノキシメチル）ベンザノレク口 リ ド、 2— （ 2， 5—ジイソプロピルフエノキシメチル） ベンザルクロリ ド、 2— (2， 4 , 5 - ,トリメチルフエノキシメチル） ベンザルク口 リ ド、 2 _ ( 2， 4 , 6 _ トリメチ ルフエノキシメチル） ベンザルク口リ ド、 2— (3， 4 , 5— トリメチルフエノ キシメチル） ベンザルクロ リ ド、 2— ( 2， 4， 5 _ ト リメチルフエノキシメチ ル） ベンザルクロ リ ド、 2— ( 2， 5—ジメチルフエノキシメチル） 一 3—クロ 口べンザルクロリ ド、 2 _ ( 2， 5—ジメチノレフエノキシメチル） 一 4—クロ口 ベンザルクロ リ ド、 2— (2， 5—ジメチルフエノキシメチノレ） 一 5—クロ口べ ンザルクロ リ ド、 2 _ (2 , 5—ジメチルフエノキシメチノレ） 一 6—クロ口ベン ザノレクロリ ド、 2— ( 2， 5—ジェチノレフエノキシメチノレ） 一 3—クロ口ベンザ ルクロリ ド、 2 _ (2， 5—ジェチルフエノキシメチル） 一 4—クロ口べンザル クロリ ド、 2 _ ( 2， 5—ジェチノレフエノキシメチノレ） 一 5—クロ口ベンザノレク 口 リ ド、 2— (2 , 5 -ジェチノレフエノキシメチル） _ 6—クロ口ベンザノレク口 リ ド、 2— ( 2， 5—ジイソプロピルフエノキシメチル） 一 3—クロ口べンザル クロリ ド、 2— （ 2 , 5—ジイソプロピルフエノキシメチ — 4—クロ口ベン ザルクロリ ド、 2 _ ( 2， 5—ジイソプロピ フエノキシメチノレ） 一 5—クロ口 ベンザノレクロリ ド、 2— （2， 5—ジイソプロピルフエノキシメチノレ） 一 6—ク ロロべンザルクロ リ ド、 2— ( 2， 5—ジェチルフエノキシメチル） ベンザルブ 口 ミ ド、 2— ( 2， 5—ジェチルフエノキシメチル）ベンザノレョージド、 2— ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） 一 4—ブロモベンザルブロミ ド、 2 _ (2, 5 —ジェチノレフエノキシメチノレ） 一 4一ブロモベンザ/レブ口 ミ ド、 2 _ ( 2 , 5 - ジイソプロピルフエノキシメチノレ） 一 4—ブロモベンザ/レブ口 ミ ド、 2— (2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） _ 4ーョードベンザルョージド等が挙げられる。 アルカリ金属アルコキシド （ 2) の式中、 Μはアルカリ金属原子を表わし、 ァ ルカリ金属原子と しては、 リチウム原子、 ナトリ ウム原子、 カリ ウム原子、 ルビ ジゥム原子、 セシウム原子、 フランシウム原子が挙げられ、 ナトリ ウム原子が好 ましい。 アルカリ金属アルコキシド （ 2 ) と しては、 リチウムメ トシキド、 リチウムェ トキシド、 リチウムプロポキシド、 リチウムブトキシド、 リチウムイソプロポキ シド、 リチウムイソブトキシド、 リチウム t e r t —ブトキシド等のリチウムァ ルコキシド ； ナトリ ゥムメ トシキド、 ナト リ ゥムェ トキシド、 ナトリ ゥムプロボ キシド、 ナトリ ゥムブトキシド、 ナトリ ゥムィソプロポキシド、 ナトリ ゥムィソ ブトキシド、 ナトリ ウム t e r t —ブトキシド等のナトリ ウムアルコキシド ； 力 リ ゥムメ トシキド、 力リ ゥムェトキシド、 力リ ゥムプロポキシド、 力リ ゥムブト キシド、 カリ ウムイソプロポキシド、 カリ ウムイソブトキシド、 カリ ウム t e r t —ブトキシド等の力リ ウムアルコキシド ； ルビジゥムメ トシキド、 ルビジゥム エトキシド、 ルビジウムプロポキシド、 ルビジウムブトキシド、 ルビジウムイソ プロポキシド、 ノレビジゥムイソブトキシド、 ノレビジゥム t e r t _ブトキシド等 のルビジウムアルコキシド ； セシウムメ トシキド、 セシウムエトキシド、 セシゥ ムプロポキシド、 セシウムブトキシド、 セシウムイソプロポキシド、 セシウムィ ソブトキシド、 セシウム t e r t—ブトキシド等のセシウムアルコキシド ； フラ ンシゥムメ トシキド、 フランシウムエトキシド、 フランシウムプロポキシド、 フ ランシゥムブトキシド、 フランシウムイソプロポキシド、 フランシウムイソブト キシド、 フランシウム t e r t —ブトキシド等のフランシウムアルコキシド ； 等 が挙げられる。 なかでもナトリ ゥムアルコキシドが好ましく、 ナトリ ゥムメ トキ シドがより好ましい。
アルカリ金属アルコキシド （ 2 ) は、 市販のものを用いてもよいし、 対応する アルコールとアル力リ金属水素化物またはアル力リ金属水酸化物とを反応させる ことにより調製したものを用いてもよい。 また、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) と対応するアルコールとアル力リ金属水素化物またはアル力リ金属水酸化物とを 混合することにより、 アルカリ金属アルコキシド （ 2 ) の調製とベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) とアルカリ金属アルコキシド （2 ) との反応とを、 同時に行って もよい。
アルカリ金属アルコキシド （ 2 ) の使用量は限定されないが、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) 1モルに対して、 通常 2〜 1 0モル、 好ましくは 3〜 5モルであ る。 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) とアル力リ金属アルコキシド （ 2 ) との反応は、 溶媒の存在下に実施してもよいし、 溶媒の非存在下に実施してもよい。 溶媒の存 在下に反応を実施することが好ましい。
溶媒と しては、 キシレン、 トルエン、 ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒； ペン タン、 へキサン、 ヘプタン、 シクロへキサン等の脂肪族炭化水素溶媒； テ トラヒ ドロフラン、 ジェチルエーテル、 t e r t —ブチノレメチノレエーテル、 シクロペン チノレメチルエーテノレ等のエーテノレ溶媒 ； メタノーノレ、 エタ ノール、 ブタノーノレ、 ィソプロパノール、イソブタノール、 t e r t—ブタノ一ノレ等のアルコール溶媒； 等が挙げられる。 なかでも、 アルコール溶媒が好ましく、 用いるアルカリ金属ァ ルコキシド （ 2 ) のアルコキシ基と同じアルコキシ基を有するアルコール溶媒が より好ましい。
溶媒の使用量は限定されないが、 経済性の観点から、 ベンザルハライ ド化合物 ( 1 ) 1重量部に対して、 通常 1 0 0重量部以下である。
ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) とアル力リ金属アルコキシド （ 2 ) との反応を、 相間移動触媒の存在下に実施することにより、 反応をよりスムーズに進行させる ことができる。
相間移動触媒と しては、 臭化テ トラ n—プチルアンモニゥム、 塩化ベンジルト リエチルアンモニゥム、 硫酸水素テ トラ n —ブチルアンモニゥム、 塩化ト リオク チルメチルアンモニゥム等の四級アンモニゥム塩 ；臭化ト リフエニルホスフィン 等のホスホニゥム塩； 1 8—クラウン一 6、 ポリエチレンダリ コール等のポリェ 一テル化合物 ；等が挙げられる。 なかでも、 四級アンモニゥム塩が好ましく、 臭 化テトラ n—ブチルアンモニゥムがより好ましレ、。
かかる相間移動触媒は、 通常、 市販されているものが用いられる。
相間移動触媒の使用量は、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) 1モルに対して、 通 常 0 . 0 1モル以上であり、 好ましくは 0 . 0 5〜1モルである。
また、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) とアルカリ金属アルコキシド （2 ) との 反応を、 ヨウ素またはヨウ素化合物の存在下に実施することによつても、 反応を よりスムーズに進行させることができる。
ヨウ素化合物と しては、 ヨウ化カリ ウム、 ヨウ化ナトリ ウム、 ヨウ化リチウム 等のアル力リ金属ョゥ化物 ； 等が挙げられ、 アル力リ金属ョゥ化物が好ましく、 ヨウ化カリ ウムがより好ましい。 ヨウ素およびヨウ素化合物は、 通常、 市販され ているものが用いられる。
ヨウ素またはヨウ素化合物の使用量は、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) 1モル に対して、 通常 0. 0 1モル以上であり、 好ましくは 0. 0 5〜 1モルである。 反応温度は、 通常— 5°C以上、 溶媒の沸点以下であり、 好ましくは 1 0〜 1 0 0 °Cである。
反応は、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) とアルカリ金属アルコキシド （2) と を混合することにより実施される。 これらの混合順序は限定されないが、 反応温 度に調整したベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) に、 アルカリ金属アルコキシド （2) を加えることが好ましい。
反応は、 常圧下で行ってもよいし、 加圧下で行ってもよい。
反応の進行は、 ガスクロマ トグラフィー、 高速液体クロマ トグラフィー、 NM R等の通常の分析手段により確認することができる。
かく して、 ァセタール化合物 （ 3) を含む反応混合物が得られ、 反応混合物を そのままもしくは水で洗浄した後、 濃縮することにより、 ァセタール化合物 （3) を取り出すことができる。 取り出したァセタール化合物 （ 3) を、 再結晶、 蒸留、 カラムクロマトグラフィ一等の通常の精製手段により さらに精製してもよい。 また、 かかる反応混合物を、 そのまま、 上記した酸の存在下、 水との反応に用 いてもよいし、 該反応混合物を水で洗浄して、 反応混合物中に残存するアルカリ 金属アルコキシド等を除去した後、 酸の存在下、 水との反応に用いてもよい。 反 応混合物を水で洗浄する場合、 必要に応じて、 キシレン、 トルエン、 ベンゼン等 の芳香族炭化水素溶媒、 ペンタン、 へキサン、 ヘプタン、 シクロへキサン等の脂 肪族炭化水素溶媒等の水に不溶の有機溶媒を加えてもよい。 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) は、 式 （ 5
Figure imgf000017_0001
(式中、 Qおよび Xはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物 （以下、 ベンザルハライ ド化合物 （ 5 ) と略 記する。） と式 （6)
Ar-OH (6)
(式中、 A rは上記と同一の意味を表わす。）
で示されるフエノール化合物（以下、 フエノール化合物（6) と略記する。） とを、 塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
ベンザルハライ ド化合物 （5) と しては、 2— (クロロメチル） ベンザルクロ リ ド、 2— (ブロモメチル） ベンザルブロ ミ ド、 2 _ (ョードメチル） ベンザル ョージド、 3—クロ口 一 2— (クロロメチノレ） ベンザルク口 リ ド、 4—クロ口 一 2— （クロロメチノレ） ベンザノレクロリ ド、 4ーブロモ一 （ブロモメチノレ） ベンザ ルブロミ ド、 4— ョードー 2— (ョードメチノレ） ベンザルョージド、 5—クロ口 — 2— (クロロメチル） ベンザ/レクロリ ド、 5—ブロモ一 （ブロモメチノレ） ベン ザルブロミ ド、 5—ョード _ 2 _ (ョードメチノレ） ベンザルョージド、 6—クロ ロー 2— （クロロメチル） ベンザルクロリ ド等が挙げられ、 入手性の観点から、 2— （クロロメチル） ベンザルクロ リ ドが好ましレ、。
ベンザルハライ ド化合物 （5) は、 市販のものを用いてもよいし、 o—キシレ ン化合物とハロゲンとを、 ラジカル開始剤の存在下もしくは光照射下で反応させ る方法（特開 2 0 0 6— 3 3 5 7 3 7号公報参照。） 等の公知の方法に準じて製造 したものを用いてもよレ、。
フエノール化合物 （6) と しては、 フエノール、 2—メチルフエノール、 2— ェチノレフエノーノレ、 2 _イソプロピノレフエノーノレ、 4—メチノレフエノーノレ、 4一 イソプロピルフエノール、 2 , 5—ジメチノレフエノ一ル、 2， 5—ジェチルフエ ノール、 2、 5—ジイソプロピルフエノーノレ、 2 , 4, 5— トリメチルフエノー ル、 2 , 4， 6— トリメチルフエノーノレ、 3， 4 , 5— トリメチルフエノール、 2—クロ口フエノーノレ、 4—クロ口フエノーノレ、 2—フノレオロフエノーノレ、 4 - フノレオロフエノーノレ、 2, 4—ジフノレオロフエノーノレ、 2， 4， 6— ト リ フノレオ 口フエノール等が挙げられ、 2, 5—ジメチルフエノールが好ましレ、。
フエノール化合物 （6) は、 市販のものを用いてもよいし、 J . Am. C h e m. S o c .， 1 2 8 , 1 0 6 9 4 (2 0 0 6)、 T e t r a h e d r o n L e t t e r s , 3 0 , 5 2 1 5 ( 1 9 8 9)、 特開 2 0 0 2— 3 4 2 6号公報等に記 載の公知の方法により製造したものを用いてもよい。
ベンザルハライ ド化合物 （ 5) に対して、 過剰量のフエノール化合物 （ 6) を 用いてもよいし、 フエノール化合物 （6) に対して、 過剰量のベンザルハライ ド 化合物 （ 5) を用いてもよい。 好ましくは、 ベンザルハライ ド化合物 （ 5 ) 1モ ルに対して、 0. 1〜 1 0モル、 より好ましくは 1〜 3モルのフエノール化合物 (6) が用いられる。
塩基としては、 ト リ メチルァミ ン、 ト リェチルァミン、 ジイ ソプロピルェチル アミン等の三級ァミン ； ナトリ ウムメ トキシド、 ナトリ ウムエ トキシド、 力リ ウ ム t e r t—ブトキシド等のアル力リ金属アルコキシド ； 水酸化リチウム、 水酸 化ナトリ ウム、 水酸化力リ ゥム等のアル力リ金属水酸化物 ；水素化ナトリ ゥム、 水素化力リ ウム、 水素化リチウム等の水素化アル力リ金属化合物 ； 炭酸ナトリ ウ ム、炭酸力リ ウム、炭酸リチウム等のアル力リ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリ ウム、 炭酸水素カリ ウム、 炭酸水素リチウム等のアルカ リ金属炭酸水素塩；等が挙げら れる。 なかでも、 アルカリ金属水酸化物が好ましく、 水酸化ナトリ ウムがより好 ましい。 かかる塩基は、 通常、 市販のものがそのまま用いられる。 また、 水や後 述する溶媒で希釈して用いてもよい。
塩基の使用量は、 ベンザルハライ ド化合物 （5) およびフエノール化合物 （6) のうちの使用量が少ない方 1モルに対して、 通常 1モル以上であり、 その上限は ないが、 好ましくは 1〜 3モルである。
ベンザルハライ ド化合物 （5) とフエノール化合物 （6) との反応は、 通常、 溶媒の存在下で実施される。 かかる溶媒と しては、 キシレン、 トルエン、 ベンゼ ン等の芳香族炭化水素溶媒 ； ペンタン、 へキサン、 ヘプタン、 シクロへキサン等 の脂肪族炭化水素溶媒 ； テ トラヒ ドロフラン、 ジェチルエーテル、 t e r t—ブ チノレメチルエーテノレ、 シクロペンチノレメチノレエーテノレ等のエーテノレ溶媒 ； ァセ ト -トリル、 プロピオ二 トリル等の二トリル溶媒 ； t e r t—ブチルメチルケトン 等のケ トン溶媒 ； N， N—ジメチルホルムァミ ド等のァミ ド溶媒 ； ジメチルスル ホキシド等のスルホキシド溶媒 ； 水 ； 等が挙げられる。 なかでも、 水と芳香族炭 化水素溶媒との混合溶媒が好ましく、水と トルエンとの混合溶媒がより好ましレ、。 溶媒の使用量は限定されないが、 容積効率の観点から、 ベンザルハライ ド化合物 (5) 1重量部に対して、 通常 1 00重量部以下である。
ベンザルハライ ド化合物 （5) とフエノール化合物 （6) との反応は、 相間移 動触媒の存在下に実施することが好ましい。
相間移動触媒としては、 臭化テ トラ n—ブチルアンモニゥム、 塩化ベンジルト リエチルアンモニゥム、 硫酸水素テ トラ n—ブチルアンモニゥム、 塩化トリオク チルメチルァンモニゥム等の四級アンモニゥム塩； 臭化トリ フェニノレホスフィ ン 等のホスホニゥム塩 ； 1 8—クラウン一 6、 ポリエチレンダリ コール等のポリェ 一テル化合物 ；等が挙げられ、 四級アンモニゥム塩が好ましく、 臭化テ トラ n— ブチルアンモニゥムがより好ましい。
相間移動触媒の使用量は、 ベンザルハライ ド化合物 （5) およびフエノール化 合物 （6) のうちの使用量が少ない方 1モルに対して、 通常 0. 0 1モル以上で あり、 好ましくは 0. 05〜 1モルである。
ベンザルハライ ド化合物 （5) とフエノール化合物 （6) との反応を、 ヨウ素 またはョゥ素化合物の存在下に実施することにより、 よりスムーズに反応を進行 させることができる。
ヨウ素化合物と しては、 ヨウ化カリ ウム、 ヨウ化ナトリ ウム、 ヨウ化リチウム 等のアル力リ金属ョゥ化物 ； 等が挙げられ、 アル力リ金属ョゥ化物が好ましく、 ヨウ化カリ ウムがより好ましい。 ヨウ素およびヨウ素化合物は、 通常、 市販のも のがそのまま用いられる。
ヨウ素またはヨウ素化合物の使用量は、 ベンザルハライ ド化合物 （5) および フエノール化合物 （6) のうちの使用量が少ない方 1モルに対して、 通常 0. 0 1モル以上であり、 好ましくは 0. 05〜 1モルである。
反応温度は、 通常 _ 5°C以上、 溶媒の沸点以下であり、 好ましくは 1 0〜 1 0
0 °Cである。
反応は、 常圧下で行ってもよいし、 加圧下で行ってもよい。
反応は、 通常、 ベンザルハライ ド化合物 （5) とフエノール化合物 （6) と塩 基とを混合することにより実施される。 混合順序は制限されず、 ベンザルハライ ド化合物 （5) とフエノール化合物 （6) と塩基とを同時に反応容器中に加えて もよいし、 ベンザルハライ ド化合物 （5) とフエノール化合物 （6 ) との混合物 に塩基を加えてもよい。 ベンザルハライ ド化合物 （ 5) と塩基との混合物にフエ ノール化合物 （6 ) を加えてもよいし、 フエノール化合物 （6 ) ど塩基との混合 物をベンザルハライ ド化合物 （5) に加えてもよい。 なかでも、 フエノール化合 物 （6) と塩基との混合物をべンザルハライ ド化合物 （ 5) に加える方法が好ま しい。
反応の進行は、 ガスクロマ トグラフィー、 高速液体クロマトグラフィー、 NM R等の通常の分析手段により確認することができる。
かく して、ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) を含む反応混合物が得られ、例えば、 反応混合物を、 必要に応じて、 酸の水溶液で洗浄した後、 濃縮することにより、 ベンザルハライ ド化合物 （ 1 ) を取り出すことができる。 取り出したベンザルハ ライ ド化合物 （ 1 ) は、 再結晶、 蒸留、 カラムクロマトグラフィー等の通常の精 製手段により さらに精製してもよい。 また、 得られた反応混合物をそのまま上述 したアルカリ金属アルコキシド （ 2) との反応に用いてもよい。 実施例
以下、 実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、 本発明はこれら実施例 に限定されるものではない。 なお、 分析は、 高速液体クロマトグラフィー内部標 準法により行なった。 実施例 1
5 0 OmL丸底フラスコに、 2， 5—ジメチルフエノール 5 0. 2 g と トルェ ン l O OmL とを加えた。 得られた混合物に、 室温で、 1 0重量％水酸化ナト リ ゥム水溶液 1 7 1. 6 gを滴下した。 得られた混合物を 8 0°Cで 1時間攪拌した 後、 4 0°Cまで冷却し、 混合物 Aを調製した。
別の 5 0 0 m L丸底フラスコに、 2— (クロロメチル）ベンザルクロ リ ド 7 6. 4 g (含量 ： 9 8. ◦重量0 /0) と臭化テ トラ n—ブチルアンモニゥム 5. 8 g と トルエン 7 5 mLとを加えた。 得られた混合物に、 4 0°Cで、 上記で調製した混 合物 Aの水層を 6時間かけて滴下し、 引き続き混合物 Aの油層を 0. 5時間かけ て滴下した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 4時間攪拌した。
得られた反応混合物を室温まで冷却し、 そこに 2 0重量％硫酸水溶液 4. 0 g を加えた。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層を水 1 5 3. O gで洗浄し た。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、 黄褐色固体として、 粗製の 2 _ (2， 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンザルクロリ ド 1 1 0. 9 gを得た。 含量 ： 8 7. 2重量％。 収率 9 1. 7 % ( 2— （ク口ロメチノレ) ベンザルク口 リ ド基準）
1 H-NMR (CDC 1 3 ) δ Ρ ρ m ： 2. 2 5 ( 3 H, s ), 2. 3 8 ( 3 H, s ), 5 - 2 0 ( 2 H, s ), 6 7 6 - 6. 8 1 ( 2 H， m), 7. 0 9 ( 1 H, d , J = 7. 4 1 H z ), 7. 1 8 ( 1 H, s ), 7. 4 1 - 7. 5 4 ( 3 H, m),
7. 9 7 ( 1 H, d， J = 7 6 9 H z )
融点： 6 2— 6 5 °C 実施例 2
2 0 0 m L丸底フラスコに 、 2 , 5—ジメチノレフエノ一ノレ 3 2. 8 g とキシレ ン 5 7mLとを加えた。 得られた混合物に、 室温で、 2 0重量％水酸化ナトリウ ム水溶液 5 1. 3 gを滴下した。 得られた混合物を 8 0°Cで 1時間攪拌した後、 4 0°Cまで冷却し、 混合物 Bを調製した。
別の 5 0 0 m L丸底フラスコに、 2— (クロロメチル）ベンザルクロリ ド 5 0.
0 g (含量： 9 8. 0重量％) と臭化テトラ n _プチルアンモニゥム 3. 8 gと キシレン 5 7 mLとを加えた。 得られた混合物に、 4 0°Cで、 上記で調製した混 合物 Bの水層を 6時間かけて滴下し、 引き続き混合物 Bの油層を 0. 5時間かけ て滴下した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 4時間攪拌した。
得られた反応混合物を室温まで冷却し、 そこに 2 0重量％硫酸水溶液 2. 8 g を加えた。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層を水 1 0 0. 0 gで洗浄し た。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、 黄褐色固体として、 粗製の 2— ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンザルクロ リ ド 7 3. 5. gを得た。 含 量 ： 8 5. 5重量0 /。。 収率 ： 9 1. 0 % ( 2— (クロロメチル） ベンザルク口 リ ド基準） 実施例 3
2 0 OmL丸底フラスコに、 2, 5—ジメチルフエノール 1 9 · l g と トルェ ン 3 OmLとを加えた。 得られた混合物に、 室温で、 1 0重量％水酸化ナトリウ ム水溶液 6 5. 5 gを滴下した。 得られた混合物を 8 0°Cで 1時間攪拌した後、 4 0°Cまで冷却し、 混合物 Cを得た。
別の 5 0 0 m L丸底フラスコに、 2— (クロロメチル）ベンザルクロリ ド 3 0 · 0 g (含量： 9 8. 0重量％) と塩化べンジルトリェチルアンモニゥム 1. 6 g と トルエン 3 0 m Lとを加えた。 得られた混合物に、 4 0°Cで、 上記で調製した 混合物 Cの水層を 6時間かけて滴下し、 引き続き混合物 Cの油層を 0. 5時間か かけて滴下した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 4時間攪拌した。
得られた反応混合物を室温まで冷却し、 そこに 2 0重量％硫酸水溶液 1. 7 g を加えた。得られた混合物を分液し、得られた有機層を水 6 0. 0 gで洗浄した。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、黄褐色固体として、粗製の 2— (2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンザルクロ リ ド 3 9. 7 gを得た。 含量： 7 5. 1重量％。 収率： 7 2. 1 % (2— (クロロメチル） ベンザルクロリ ド基準） 実施例 4
1 0 OmL丸底フラスコに、 2, 5—ジメチルフエノール 6. 3 5 g と炭酸力 リ ウム 7. 6 6 g とヨウ化カリ ウム 0. 4 g とァセ トニ トリル 3 0 m Lとを加え た。 得られた混合物に、 室温で、 2— (クロロメチル） ベンザルクロリ ド 1 0. 0 g (含量： 9 8. 0重量％) を滴下した。 滴下終了後、 得られた混合物を 8 0°C で 3 0時間攪拌した。
得られた反応混合物を室温まで冷却し、 水 5 0 gと トルエン 1 0 0 gとを加え た。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層を水 2 0. O gで洗浄した。 得ら れた有機層を減圧濃縮することにより、 黄褐色固体として、 粗製の 2— ( 2， 5 —ジメチルフエノキシメチル） ベンザルクロ リ ド 1 5. 3 gを得た。含量： 7 7. 5重量0 /0。 収率 ： 8 5. 8 % ( 2 - (クロロメチル） ベンザルク口 リ ド基準） 実施例 5
50 OmL丸底フラスコに、 メタノール 1 88 m Lと 2— （2, 5—ジメチル フエノキシメチル） ベンザルクロ リ ド 75. 1 g (含量 ： 9 9. 0重量0 /0) とを 加えた。得られた溶液を加熱し、 メタノールの一部を排出させながら、内温 85 °C に調整した。 溶液に、 内温 80〜85°Cで、 28重量％ナト リ ムメ トキシド Zメ タノール溶液 242. 9 gを 7時間かけて滴下した。 滴下中、 メタノールの一部 を反応混合物から排出させることにより、内温を 80〜8 5°Cの範囲に維持した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 1 6時間攪拌した„
得られた反応混合物を内温 60°Cまで冷却し、 キシレン 22mLと水 2 25m Lとを加えた。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層に 3 5重量％硫酸水溶 液 1 50. O gを加えた。 得られた混合物を 60°Cで 2時間攪拌し、 キシレン 1 8 7mLを加えた。 得られた混合物を同温度で分液し、 得られた有機層を室温ま で冷却した。 有機層を、 5重量％水酸化ナトリ ゥム水溶液 7 5. 0 g、 次いで水 1 5 OmLで洗浄した。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、 黄色固体と し て、 粗製の 2— ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド 6 1. 1 gを得た。 含量： 9 7. 2重量0 /0。 収率 ： 98. 1 % ( 2 - ( 2 , 5—ジメチ ルフ； nノキシメチル） ベンザルクロ リ ド基準） 実施例 6
50 OmL丸底フラスコに、 2— (2, 5—ジメチルフエノキシメチノレ） ベン ザルクロリ ド 20. O g (含量 ： 9 5. 0重量％) を加えた。 これに、 内温 80 〜85°Cで、 28重量0 /0ナトリムメ トキシド /メタノール溶液 3 7. 3 gを 7時 間かけて滴下した。 滴下中、 メタノールの一部を排出させることにより、 内温を 80〜85°Cの範囲に維持した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 40時 間攪拌した。
得られた反応混合物を内温 6 0°Cまで冷却し、 そこにキシレン 7mLと水 40 mLとを加えた。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層に 3 5重量％硫酸水 溶液 40. 0 gを加えた。 得られた混合物を 60°Cで 2時間攪拌し、 キシレン 2 3mLを加えた。 得られた混合物を同温度で分液し、 得られた有機層を室温まで 冷却した。有機層を 5重量％水酸化ナト リ ゥム水溶液 20.0 g、次いで、水 40. O gで洗浄した。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、 黄色固体と して、 粗製の 2— （2， 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド 1 6. 2 g を得た。 含量 ： 94. 5重量％。 収率 ： 99. 0 % ( 2 - ( 2 , 5—ジメチルフ エノキシメチル） ベンザルクロリ ド基準） 実施例 7
30mL丸底フラスコに、 2— (2， 5—ジメチルフエノキシメチノレ） ベンザ ルクロリ ド 2. 0 g (含量： 95. 0重量0 /0) とョゥ化カリ ウム 0. 05 gとを 加えた。 得られた混合物に、 内温 80〜8 5°Cで、 28重量％ナトリムメ トキシ ドノメタノール溶液 3. 25 gを 7時間かけて滴下した。 滴下中、 メタノールの 一部を反応混合物から排出させることにより、 内温を 80〜8 5°Cの範囲に維持 した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 1 6時間攪袢した。
得られた反応混合物を内温 60°Cまで冷却し、 そこにキシレン 1 mLと水 1 0 mLとを加えた。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層に 3 5重量％硫酸水 溶液 4. O gを加えた。 得られた混合物を 60°Cで 2時間攪拌し、 キシレン 1 0 mLを加えた。 得られた混合物を同温度で分液し、 得られた有機層を室温まで冷 却した。 有機層を 5重量％水酸化ナトリ ウム水溶液 2. 0 g、 次いで、 水 4. 0 gで洗浄した。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、 黄色固体と して、 粗 製の 2— (2, 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズアルデヒ ド 1. 58 gを 得た。 含量 ： 94. 6重量0 /。。 収率 ： 9 7. 1 % ( 2 - ( 2， 5—ジメチルフエ ノキシメチル） ベンザルクロ リ ド基準） 実施例 8
50mL丸底フラスコに、 2 _ (2, 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンザ ルクロ リ ド 5. O g (含量： 85. 0重量0 /。） と臭化テ トラブチルアンモニゥム 0. 23 gとを加えた。 得られた混合物に、 内温 80〜85°Cで、 28重量％ナ トリムメ トキシド/メタノール溶液 8.3 3 gを 7時間かけて滴下した。滴下中、 メタノールの一部を反応混合物から排出させることにより、 内温を 8 0〜8 5°C の範囲に維持した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 2 5時間攪拌した。 得られた反応混合物を内温 6 0°Cまで冷却し、 そこにキシレン 3 mLと水 2 5 mLとを加えた。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層に 3 5重量％硫酸水 溶液 1 0. O gを加えた。 得られた混合物を 6 0°Cで 2時間攪拌し、 キシレン 2 2mLを加えた。 得られた混合物を同温度で分液し、 得られた有機層を室温まで 冷却した。 有機層を 5重量％水酸化ナトリ ゥム水溶液 5. 0 g、 次いで、水 1 0. O gで洗浄した。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、 黄色固体と して、 粗製の 2— ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチノレ） ベンズアルデヒ ド 4 · 0 1 g を得た。 含量 ： 8 4. 0重量％。 収率 ： 9 7. 3 % ( 2— (2， 5—ジメチルフ エノキシメチル） ベンザルクロリ ド基準） 実施例 9
5 0 OmL丸底フラスコに、 2— （2， 5—ジメチルフエノキシメチノレ） ベン ザルクロリ ド 7 5. 0 g (含量： 9 9. 0重量％) とメタノール 1 8 8 m Lとを加 えた。 得られた溶液を加熱し、 メタノールの一部を排出させながら、 内温 8 5°C に調整した。 溶液に、 内温 8 0〜8 5°Cで、 2 8重量。 /0ナトリムメ トキシド Zメ タノール溶液 24 2. 9 gを 7時間かけて滴下した。 滴下中、 メタノールの一部 を反応混合物から排出させることにより、内温を 8 0〜8 5 °Cの範囲に維持した。 滴下終了後、 得られた混合物を同温度で 1 6時間攪拌した。
得られた反応混合物を室温まで冷却し、 そこにキシレン 7 8 mLと水 2 2 5 m Lとを加えた。 得られた混合物を分液し、 得られた有機層を減圧濃縮することに より、 黄色油状物として、 粗製の 2— （ 2， 5—ジメチルフエノキシメチル） ベ ンズアルデヒ ド ジメチルァセタール 7 3. 7 gを得た。含量： 9 6. 3重量0 /0。 収率： 9 9. 1 % ( 2 - ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンザノレクロ リ ド基準）
1 H-NMR (CDC 1 a ) δ p p m ： 2. 2 8 ( 3 H, s )， 2. 3 6 ( 3 H, s )， 3. 3 8 ( 6 H, s ), 5. 2 2 ( 2 H, s ), 5 - 6 0 ( 1 H, s )， 6. 7 3 ( 1 H， d , J = 7. 5 3 H z ), 6. 7 8 ( 1 H, s )， 7. 0 7 ( 1 H, d, J = 7. 43H z), 7. 35 - 7. 44 ( 2 H, m), 7. 6 3 ( 1 H, s ), 7. 64 ( 1 H, d; J = 7. 2 9 H z ) 実施例 1 0
実施例 9で得た粗製の 2— （2， 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズアル デヒ ド ジメチルァセタール 73. 7 gとキシレン 22 m Lと 3 5重量％硫酸水 溶液 1 50. O gとを混合した。 得られた混合物を 60°Cで 2時間攪拌した。 そ こに、 キシレン 1 8 7 m Lを加え、 得られた混合物を同温度で分液した。 得られ た有機層を室温まで冷却した後、 5重量％水酸化ナトリ ウム水溶液 75. 0 g、 次いで、 水 1 50mLで洗浄した。 得られた有機層を減圧濃縮することにより、 黄色固体と して、 粗製の 2— （2， 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンズアル デヒ ド 60. 5 gを得た。 含量： 97. 1重量0 /0。 収率： 9 7. 1 % ( 2 - ( 2 , 5—ジメチルフエノキシメチル） ベンザルクロリ ド基準） 産業上の利用可能性
本発明の新規な化合物であるべンズアルデヒ ド ァセタール化合物と水とを、 酸の存在下に反応させることにより、 殺菌剤の製造中間体として有用なベンズァ ルデヒ ド化合物を収率よく製造することができる。

Claims

求 の 範 式 （3 )
Figure imgf000028_0001
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 1：は炭素数 1〜4のァル キル基およぴハロゲン原子からなる群から選ばれる少なく とも一つで置換されて いてもよいフエ二ル基を表わし、 Rは炭素数 1〜 4のアルキル基を表わす。） で示されるベンズアルデヒ ド ァセタール化合物。
2 . Rがメチル基である請求項 1に記載のベンズアルデヒ ド ァセ タール化合物。
3 . A rが少なく とも一つの炭素数 1〜 4のアルキル基で置換され たフエニル基である請求項 1に記載のベンズアルデヒ ド ァセタール化合物。
4 . 少なく とも一つの炭素数 1〜 4のアルキル基で置換されたフエ ニル基が 2， 5—ジメチルフヱニル基である請求項 3に記載のベンズアルデヒ ド ァセタ一ノレィ匕合物。
5 . Rがメチル基であり、 A rが 2， 5—ジメチルフエニル基であり、 Qが水素原子である請求項 1に記載のベンズアルデヒ ド ァセタール化合物。
6 . 式 （ 3 )
Figure imgf000028_0002
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜4のアル キル基およびハ口ゲン原子からなる群から選ばれる少なく とも一つで置換されて いてもよいフエ二ル基を表わし、 Rは炭素数 1〜 4のアルキル基を表わす。） で示されるベンズアルデヒ ド ァセタール化合物と水とを、 酸の存在下に反応さ せることを特徴とする式 （4 )
Figure imgf000029_0001
(式中、 Qおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド化合物の製造方法。
7 . 酸がブレンステツ ド酸である請求項 6に記載のベンズアルデヒ ド化合物の製造方法。
8 . ブレンステツ ド酸が硫酸である請求項 7に記載のベンズアルデ ヒ ド化合物の製造方法。
（ 1 )
Figure imgf000029_0002
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 Xはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜4のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少 なく とも一つで置換されていてもよいフエ二ル基を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （ 2 )
RO— M
(式中、 Rは炭素数 1〜 4のアルキル基を表わし、 Mはアルカリ金属原子を表わ す。）
リ金属アルコキシドとを反応させることを特徴とする式 （3 )
Figure imgf000029_0003
(式中、 Q、 A rおよび Rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法。
1 0 . 式 （ 1 ) で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （ 2 ) で示され るアル力リ金属アルコキシドとを、 ョゥ素化合物の存在下で反応させる請求項 9 に記載のベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法。
1 1 . ョゥ素化合物がアル力リ金属ョゥ化物である請求項 1 0に記载 のべンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法。
1 2 . 式 （ 1 ) で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （2 ) で示され るアル力リ金属アルコキシドとを、 相間移動触媒の存在下で反応させる請求項 9 に記載のベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法。
1 3 . 相間移動触媒が四級アンモニゥム塩である請求項 1 2に記載の ベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物の製造方法。
（ 1 )
Figure imgf000030_0001
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 Xはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜 4のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少 なく とも一つで置換されていてもよいフエ-ル基を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物。
1 5 . ハロゲン原子が塩素原子である請求項 1 4に記載のベンザルァ ルデヒ ド化合物。
1 6 . A rが少なく とも一つの炭素数 1〜4のアルキル基で置換され たフエニル基である請求項 1 4に記載のベンザルアルデヒ ド化合物。
1 7 . 少なく とも一つの炭素数 1〜 4のアルキル基で置換されたフエ ニル基が 2 , 5 —ジメチルフヱニル基である請求項 1 6に記載のベンザルアルデ ヒ ド化合物。
1 8 . Xが塩素原子であり、 A rが 2 , 5—ジメチルフエニル基であり、 Qが水素原子である請求項 1 4に記載のベンザルアルデヒ ド化合物。
式 （ 5 )
Figure imgf000030_0002
Qおよび Xはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。） で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （6)
Ar-OH
(式中、 A rは上記と同一の意味を表わす。）
で示されるフエノール化合物とを、 塩基の存在下に反応させることを特徴とする
Figure imgf000031_0001
(式中、 Q、 Xおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物の製造方法。
2 0. 式（6)で示されるフ-ノール化合物と塩基との混合物を、式（5) で示されるベンザルハライ ド化合物に加えて、 反応を実施する請求項 1 9に記載 のべンザルハヲィ ド化合物の製造方法。
2 1. 式 （ 5) で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （6) で示され るフエノール化合物とを、 相間移動触媒の存在下に反応させる請求項 1 9に記載 のベンザルハライ ド化合物の製造方法。
A) 式 （ 1 )
Figure imgf000031_0002
(式中、 Qは水素原子またはハロゲン原子を表わし、 Xはハロゲン原子を表わし、 A rは炭素数 1〜4のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少 なく とも一つで置換されていてもよいフエ二ル基を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （ 2)
RO— M
(式中、 Rは炭素数 1〜4のアルキル基を表わし、 Mはアルカリ金属原子を表わ す。）
で示されるアルカリ金属アルコキシドとを反応させて、 式 （3)
Figure imgf000032_0001
(式中、 Q、 A rおよび Rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド ジアルキルァセタール化合物を得る工程、および、
( B ) 式 （ 3 ) で示されるベンズアルデヒ ド ァセタール化合物と水とを、 酸の 存在下に反応させて、 式 （4 )
Figure imgf000032_0002
(式中、 Qおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンズアルデヒ ド化合物を得る工程、 を含むことを特徴とするベンズ アルデヒ ド化合物の製造方法。
) 式 （ 5 )
Figure imgf000032_0003
(式中、 Qおよび Xはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物と式 （6 )
Ar-OH (6)
(式中、 A rは上記と同一の意味を表わす。）
とを、 塩基の存在下に反応させて、
Figure imgf000032_0004
(式中、 Q、 Xおよび A rはそれぞれ上記と同一の意味を表わす。）
で示されるベンザルハライ ド化合物を得る工程を含む請求項 2 2に記載のベンズ アルデヒ ド化合物の製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013002266A1 (ja) * 2011-06-29 2013-01-03 住友化学株式会社 ２－（アリールオキシメチル）ベンズアルデヒド化合物の製造方法
WO2013002264A1 (ja) * 2011-06-27 2013-01-03 住友化学株式会社 ２－（アリールオキシメチル）ベンズアルデヒド化合物の製造方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5314330B2 (ja) * 2008-06-16 2013-10-16 住友化学株式会社 ２−（アリールオキシメチル）ベンズアルデヒドの製造方法およびその中間体
MY180206A (en) 2013-03-15 2020-11-25 Global Blood Therapeutics Inc Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
AP2015008718A0 (en) 2013-03-15 2015-09-30 Global Blood Therapeutics Inc Compounds and uses thereof for the modulation of hemoglobin
DK3102208T3 (da) 2014-02-07 2021-03-08 Global Blood Therapeutics Inc Krystallinsk polymorf af den frie base af 2-hydroxy-6-((2-(1-isopropyl-1h-pyrazol-5-yl)pyridin-3-yl)methoxy)benzaldehyd
CN104130116B (zh) * 2014-08-18 2015-11-11 朱丽平 一种制备罗氟司特中间体的方法
MA43373A (fr) 2015-12-04 2018-10-10 Global Blood Therapeutics Inc Régimes posologiques pour 2-hydroxy-6-((2- (1-isopropyl-1h-pyrazol-5-yl)pyridin-3-yl)méthoxy)benzaldéhyde
AR108435A1 (es) * 2016-05-12 2018-08-22 Global Blood Therapeutics Inc Proceso para sintetizar 2-hidroxi-6-((2-(1-isopropil-1h-pirazol-5-il)-piridin-3-il)metoxi)benzaldehído

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5223075A (en) * 1975-08-14 1977-02-21 Sankyo Co Ltd Preparation of pyrazole derivatives
JPS6483039A (en) * 1987-09-24 1989-03-28 Toso Yuki Kagaku Kk Meta-substituted benzaldehyde acetal derivative
JPH01228931A (ja) * 1988-03-09 1989-09-12 Osaka Organic Chem Ind Ltd 芳香族アセタールの増炭方法
US5145980A (en) 1989-05-27 1992-09-08 Basf Aktiengesellschaft Oxime ethers, and fungicides containing same
US5245980A (en) 1992-06-23 1993-09-21 Kinetronic Industries, Inc. Torque adjustable arrow rest
JPH0995462A (ja) 1995-09-29 1997-04-08 Shionogi & Co Ltd α−ヒドロキシフェニル酢酸誘導体の製法
JP2002003426A (ja) 1999-12-15 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd ２，５−キシレノールおよび２，３，６−トリメチルフェノールの製造方法
JP2006335737A (ja) 2005-06-03 2006-12-14 Ihara Nikkei Kagaku Kogyo Kk ベンゾ［ｃ］ヘテロ５員環化合物の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2933979A1 (de) * 1979-08-22 1981-03-12 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Neue 4-fluor-3-phenoxy-benzaldehydacetale und verfahren zu deren herstellung sowie neue zwischenprodukte hierfuer und verfahren zu deren herstellung.
AU635453B2 (en) * 1990-12-17 1993-03-18 Mitsui Toatsu Chemicals Inc. Benzaldehyde acetal compounds, preparation process thereof, and herbicidal compositions containing the same as active ingredients
CN101679172B (zh) * 2007-05-22 2013-05-29 住友化学株式会社 苯甲醛化合物的制造方法
US7851659B2 (en) * 2007-05-22 2010-12-14 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for producing benzaldehyde compound
JP5314330B2 (ja) * 2008-06-16 2013-10-16 住友化学株式会社 ２−（アリールオキシメチル）ベンズアルデヒドの製造方法およびその中間体

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5223075A (en) * 1975-08-14 1977-02-21 Sankyo Co Ltd Preparation of pyrazole derivatives
JPS6483039A (en) * 1987-09-24 1989-03-28 Toso Yuki Kagaku Kk Meta-substituted benzaldehyde acetal derivative
JPH01228931A (ja) * 1988-03-09 1989-09-12 Osaka Organic Chem Ind Ltd 芳香族アセタールの増炭方法
US5145980A (en) 1989-05-27 1992-09-08 Basf Aktiengesellschaft Oxime ethers, and fungicides containing same
US5245980A (en) 1992-06-23 1993-09-21 Kinetronic Industries, Inc. Torque adjustable arrow rest
JPH0995462A (ja) 1995-09-29 1997-04-08 Shionogi & Co Ltd α−ヒドロキシフェニル酢酸誘導体の製法
JP2002003426A (ja) 1999-12-15 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd ２，５−キシレノールおよび２，３，６−トリメチルフェノールの製造方法
JP2006335737A (ja) 2005-06-03 2006-12-14 Ihara Nikkei Kagaku Kogyo Kk ベンゾ［ｃ］ヘテロ５員環化合物の製造方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J. AM. CHEM. SOC., vol. 128, 2006, pages 10694
TETRAHEDRON LETTERS, vol. 30, 1989, pages 5215
TOMIOKA K.: "Yuki Gosei no Senryaku -Gyaku Gosei no KnowHow", 1998, KAGAKU-DOJIN PUBLISHING CO., INC., pages: 36 - 37, XP008142173 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013002264A1 (ja) * 2011-06-27 2013-01-03 住友化学株式会社 ２－（アリールオキシメチル）ベンズアルデヒド化合物の製造方法
US9000225B2 (en) 2011-06-27 2015-04-07 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for producing 2-(aryloxymethyl) benzaldehyde compound
WO2013002266A1 (ja) * 2011-06-29 2013-01-03 住友化学株式会社 ２－（アリールオキシメチル）ベンズアルデヒド化合物の製造方法
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