明 細 書
樹脂組成物および光学部品
技術分野
[0001] 本発明は、光線透過率等の光学特性に優れる榭脂組成物、該榭脂組成物を成形 して得られる光学部品、および光学部品を用いた光ピックアップ装置に関するもので ある。より詳しくは、 405nm前後の、いわゆる青紫光のレーザー光源を用いる光ピッ クアップ装置、および光ピックアップ装置に用いられる光学部品への使用に最適な榭 脂組成物、該榭脂組成物を成形して得られる光学部品および、光学部品を用いた光 ピックアップ装置に関する。
背景技術
[0002] 現在までに、 CD (コンパクト 'ディスク)、 DVD (ディジタル 'ビデオ'ディスク、あるい はディジタル ·バーサタイル ·ディスク)などの光情報記録媒体 (光ディスク、ある ヽはメ ディアともいう)に対して情報の再生 ·記録を行うための光ピックアップ装置 (光ヘッド、 光ヘッド装置などともいわれる)が開発および製造され、一般に普及している。また最 近では、より高密度の情報記録を可能とした光情報記録媒体の規格についても研究 開発が行われている。
このような光ピックアップ装置は、レーザーダイオードなどの光源から出射された光 束を、ビーム整形プリズム、コリメータ、ビームスプリッタ、対物レンズ等の光学部品か らなる光学系を介して光ディスクの情報記録面に集光させてスポットを形成する。そし て、記録面上の情報記録孔、いわゆるピットからの反射光を、再度光学系を介して今 度はセンサー上に集光させ、電気信号に変換することにより情報を再生する。この際 、情報記録孔の形状によって反射光の光束も変化するため、これを利用して、「0」、「 1」の情報を区別する。なお、光ディスクの情報記録面の上には保護基板として、ブラ スティック製の保護層、カバーガラスとも言われる保護層が設けられている。
[0003] また CD— R、 CD— RW等の記録型メディアに情報の記録を行う場合、記録面上に レーザー光束によるスポットを形成し、記録面上の記録材に熱化学変化を生ぜしめる 。これによつて、たとえば CD— Rの場合は熱拡散性色素が不可逆変化することにより
、情報記録孔と同様の形状が形成される。 CD— RWの場合は相変化型材料を用い ているため、熱化学変化によって結晶状態と非晶質状態との間で可逆変化するので 、情報の書き換えが可能となる。
そして CD規格の光ディスク力 情報を再生するための光ピックアップ装置は、対物 レンズの開口数 (NA)が 0. 45前後であり、用いられる光源の波長は 785nm前後で ある。また記録用としては、開口数 0. 50程度のものが用いられることが多い。なお、 CD規格の光ディスクの保護基板厚さは 1. 2mmである。
光情報記録媒体として CDが広く普及しているが、ここ数年、 DVDが普及してきて いる。 DVDは、 CDに比べて保護基板厚を薄くし、さらに情報記録孔を小さくすること により、情報記録量を多くしたものである。 DVDは、 CDが約 600〜700MB程度で あるのに対し、約 4. 7GBという大容量の記録容量を有し、映画等の動画像を記録し た頒布媒体として用いられることが多 、。
DVD規格の光ディスク力 情報を再生するための光ピックアップ装置は、原理的に は CD用の光ピックアップ装置と同様の構造を有している。し力しながら、前述のよう に情報記録孔が小さくなつていること等から、 NAが 0. 60前後の対物レンズや、 655 nm前後の光源波長が用いられている。また記録用としては、 NAが 0. 65程度の対 物レンズが用いられることが多い。なお、 DVD規格の光ディスクの保護基板厚さは 0 . 6mmである。
また DVD規格の光ディスクについても記録型のものが既に実用化されており、 DV D— RAM、 DVD-RW/R, DVD+RW/Rなどの各規格がある。これらに関する 技術的原理もまた、 CD規格の場合と同じである。そして上述の通り、さらに高密度- 高容量の光ディスクが提案されつつある。このような光ディスクに対しては、 405nm 前後の光源波長を有する、いわゆる青紫光のレーザー光源が用いられている。「高 密度'高容量の光ディスク」については、使用される波長が決まったとしても、保護基 板厚、記憶容量、 NA等は一律には決まらない。
記録密度を大幅に向上させるためには、光ディスクの保護基板厚を薄くし、それに ともなって NAを大きくすることになる。逆に、保護基板厚および NAを、 DVDなどの 従来の光ディスクの規格と同様とすることもできる。この際は物理的な記録密度は大
幅には増大しないものの、光学系として要求される性能が比較的緩やかになる。 具体的には、保護基板の厚さが 0. 1mmとなるように薄くしたものや、 DVDと同じ 0 . 6mmにしたものなどが提案されている。
[0005] 上述してきたような光ピックアップ装置に用いられる光学部品の多くは、プラステイツ ク榭脂によって射出成形されたものか、またはガラス製の押圧成形されたものがほと んどである。このうち、後者のガラス製の光学部品は、一般に温度変化に対する屈折 率変化が小さい。そのため、熱源となる光源近くに配置されるビーム整形プリズムに 用いられる力 その一方で製造コストが比較的高いという問題がある。このため、コリメ ータ、カップリングレンズ、対物レンズなどの各光学部品への採用は減少している。こ れに対して前者のブラスティック榭脂製の光学部品は、射出成形によって安価に製 造できるというメリットがあるため、最近では非常に多く用いられている。しかしながら、 ブラスティック素材は使用波長域に吸収を有し、使用に伴 、光学性能が劣化すること がある。
[0006] また、情報の再生、いわゆる読み出しを高速で行ったり、あるいは情報の記録を高 速で行うためには、光量を向上させて、集光スポットを確実に形成する必要がある。 光量を向上させる最も簡単な方法は、レーザーダイオードのパワーをあげることによ つて、ダイオードの発光量を上昇させることである。し力しながら、使用に伴う光学部 品の光学性能の劣化が大きくなり、設計通りの光学性能を達成できなくなるという問 題が生じる。また、レーザーのパワー上昇に伴い、雰囲気温度が上昇することも、榭 脂の劣化を促進する要因となる。また、高速で作動させるためには、ァクチユエータを 高速で稼動する必要がある。これにより熱が発生するため、同様に榭脂の劣化を促 進する要因となる。
そこで光学部品に用いられるブラスティックの、使用時の光学性能の変化を抑制す るための様々な工夫が提案されている。
[0007] 例えば、特許文献 1には、 1, 4—メタノ一 1, 4, 4a, 9a—テトラヒドロフルオレンの開 環重合体の水素添加物などの熱可塑性ノルボルネン系榭脂 100質量部に対し、ヒン ダードアミン系耐光安定剤 0. 03〜1質量部、フエノール系酸ィ匕防止剤 0. 002〜2質 量部、およびリン系酸ィ匕防止剤 0. 002〜1質量部を含有する榭脂組成物が記載さ
れている。しかし、特許文献 1に記載の榭脂組成物は、光に対する安定性が充分で なく青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのに適さない。また、フエ ノール系酸ィ匕防止剤とヒンダードアミン系耐光安定剤とから形成される塩により着色 するため、透過率を悪化させる欠点があった。また、成形時の発泡が起こりやすぐ 複屈折が悪いため高精度の光学部品が得られない問題もある。
[0008] また、特許文献 2には、ビニル脂環式炭化水素重合体と、数平均分子量 (Mn)が 1 , 000〜10, 000のヒンダードアミン系耐光安定剤とを含有する榭脂組成物が記載さ れている。この榭脂組成物は、加工安定性に優れ、耐光安定性、耐熱性、透明性に 優れた成形体を得ることができると記載されて 、る。この榭脂組成物は前記技術に比 較して成形時の発泡性および複屈折は改善されるものの、光に対する安定性は充分 でなく青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのに適さない。また、 特許文献 2に記載の榭脂組成物は、青紫レーザー光照射により白濁してしまうという 欠点があった。
[0009] また、特許文献 3には、環状ポリオレフイン系榭脂、分子量が 300以上、温度 20°C における蒸気圧が 1 X 10_8Pa以下であり加熱減量測定での 5%質量減少温度が 20 0°C以上であるべンゾトリアゾール系紫外線吸収剤および、分子量が 500以上、温度 20°Cにおける蒸気圧が 1 X 10_6Pa以下であり加熱減量測定での 5%質量減少温度 力 S250°C以上であるヒンダードアミン系光安定剤を含有する、耐候性榭脂組成物が 開示される。この榭脂組成物は、耐候性および耐光性に優れるとともに、透明性、耐 熱性に優れ、成形加工時の発塵性が少なぐ光学部品に成形加工した際に優れた 光学特性を発揮すると記載されている。この榭脂組成物によれば、耐熱性が向上し、 前技術同様に成形時の発泡は抑えられるものの、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収 剤による吸収があり実際には青紫レーザー光源を用 、る光ピックアップ装置に用いる のに適さない。また、吸水率が高いという欠点もあった。
[0010] また、特許文献 4には、ビニル脂環式炭化水素重合体 100質量部および酸化防止 剤 0. 001〜2. 0質量部を含有する榭脂組成物からなるペレット Aと、ビニル脂環式 炭化水素重合体 100質量部および耐光安定剤 2〜20質量部を含有する榭脂組成 物からなるペレット Bとを、質量比で 5≤AZB≤50の比率で混合し、次いで、溶融成
形する技術が記載されている。この方法によれば、着色がなぐ長期に紫外線を照射 しても色調変化しない成形体を得ることができると記載されている。し力しながら、成 形時の安定性、榭脂の透明性および光に対する安定性ともに充分でなぐ実際に青 紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置に用いるのに適さない。また、製造およ び成形工程が煩雑で、大量生産に向!、て 、る方法とは言えな!/、。
また、特許文献 5には、芳香族ビニル単量体を付加重合反応させ、次いで芳香環 を水素化することによって得られた脂環基含有エチレン性不飽和単量体単位を有す る重合体 (A)と、 6—〔3—(3— t—ブチルー 4ーヒドロキシー5—メチルフエ-ル)プロ ポキシ〕ー2, 4, 8, 10—テトラキスー tーブチルジベンゾ〔d, f〕〔1. 3. 2〕ジォキサフ ォスフエピンのような一分子内に燐酸エステル構造とフエノール構造とを有する酸ィ匕 防止剤 (B)とを含有する榭脂組成物が開示されて!、る。この榭脂組成物の成形体は 、機械的強度に優れ、さらに青紫色レーザーなどの短波長で高強度の光線を照射し ても着色しないと記載されている。し力しながら、使用中の樹脂の劣化により光学性 能は充分に安定しているとは言えず、青紫レーザー光源を用いる光ピックアップ装置 に用いるのが困難であつた。
特許文献 1:特開平 9 - 268250号公報
特許文献 2 :WO 01/092412
特許文献 3:特開 2001 - 72839号公報
特許文献 4:特開 2003 - 276047号公報
特許文献 5:特開 2004— 83813号公報
発明の開示
[0011] 本発明の課題は、成形性、低複屈折、耐熱性、大量生産性、機械強度、光線透過 率を維持しつつ、青紫レーザー光源使用中の光線透過率の低下のみならず光学性 能劣化の極めて小さい、光学部品に好適な榭脂組成物、該榭脂組成物を成形して 得られる光学部品、および光学部品を使用した光ピックアップ装置を提供することで ある。
[0012] 本発明者らは、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体 および、特定のヒンダートアミン系化合物を含む榭脂組成物が、上記課題を解決でき
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
[0013] すなわち本発明は、(1)榭脂組成物、(2)光学部品、(3)光ピックアップ装置を提 供する。
(1)繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体および一般式 ( 1)で表わされるヒンダートアミン系化合物を含む榭脂組成物であって、該重合体 100 質量部に対して、ヒンダートアミン系化合物 0. 05〜5質量部を含む榭脂組成物。
[0014] (化 1)
(式(1)中、 Rは水素原子、炭素原子数 1〜9のアルキル基、炭素原子数 1〜9のアル コキシ基または炭素原子数 2〜9のァシル基を示す。
Xは直接結合、または、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子から 選ばれる少なくとも 1種を含み、分子量 12〜: L0000である a+b価の基を示す。
Yは直接結合、または、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子から 選ばれる少なくとも 1種を含む分子量 12〜: L0000の基を示す。
R、 Xおよび Yは、それぞれ 1種であってもよぐ 2種以上を任意の割合で有していて ちょい。
aは 1〜50の実数、 bは 1〜50の実数、 mは 0〜50の実数である。)
(2)上記(1)に記載の榭脂組成物を成形して得られる光学部品。
(3)上記(2)の光学部品を用いた、光ピックアップ装置。
本発明の榭脂組成物によれば、成形性、低複屈折、耐熱性、大量生産性、機械強 度、光線透過率を維持しつつ、青紫レーザー光源使用中の光線透過率の低下のみ ならず光学性能劣化が極めて小さいため、光学部品に好適に用いることができる。本 発明の榭脂組成物力 なる光学部品および光ピックアップ装置は、充分な光学性能 を持ちながら、紫外に近い領域のレーザ光で用いても劣化を起こし難ぐまた使用に 際して性能に変化が生じ難いことから、工業的に極めて価値がある。
図面の簡単な説明
[0016] 上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実 施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
[0017] 圆 1]本発明に関わる光ピックアップ装置の図である。
発明を実施するための最良の形態
[0018] 以下、本発明について詳細に説明する。
[0019] [繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体]
本発明の繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体 (以下、 単に「脂環族構造を有する重合体」とも 、う)は、重合体の繰り返し単位の少なくとも 一部に脂環族構造を有するものであればよぐ具体的には一般式(2)で表される 1種 な!、し 2種以上の重合体を含むことが好まし 、。
[0020] (化 2)
式(2)中、 X, yは共重合比を示し、 OZlOO≤yZx≤95Z5を満たす実数である。
X, yはモル基準である。
nは置換基 Qの置換数を示し、 0≤n≤2の実数であり、好ましくは 0である。 Raは、炭素原子数 2〜20、好ましくは 2〜 12の炭化水素基よりなる群力も選ばれる
2 +n価の基である。
Rbは、水素原子、又は、炭素原子数 1〜10の炭化水素基よりなる群力も選ばれる 1 価の基である。
Reは、炭素原子数 2〜 10、好ましくは 2〜5の炭化水素基よりなる群力 選ばれる 4 価の基である。
Qは、 COORdである。 Rdは、水素原子、又は炭素原子数 1〜10の炭化水素基より
なる群力 選ばれる 1価の基である。好ましくは、水素原子、又は炭素原子数 1〜3の 炭化水素基である。
なお、 Ra、 Rb、 Reおよび Qは、それぞれ 1種であってもよぐ 2種以上を任意の割合 で有していてもよい。
[0021] また前記一般式 (2)において、 Raは、好ましくは、炭素原子数 2〜12の炭化水素基 力 選ばれる 1種ないし 2種以上の 2価の基であり、さらに好ましくは n=0の場合、一 般式(3)で表される 2価の基であり、最も好ましくは、前記一般式(3)において、 pが 0 または 1である 2価の基である。 Raの構造は 1種のみ用いても、 2種以上を併用しても 構わない。
[0022] (化 3)
ここで、式(3)中、 pは、 0〜 2の整数である。
[0023] また、前記一般式(2)にお 、て、 Rbの例としては水素原子、メチル基、ェチル基、 n プロピル基、 i—プロピル基、 n—ブチル基、 2—メチルプロピル基等が挙げられる 1S 好ましくは、水素原子および Zまたはメチル基であり、最も好ましくは水素原子で ある。
[0024] また、前記一般式(2)において、 Reの例としては、 n=0の場合、以下の一般式 (4)
〜(6)などが挙げられる。
[0025] (化 4)
式 (4)〜式 (6)中、 R
aは一般式 (2)に同じ。
[0026] また、前記一般式(2)にお 、て、 nは好ましくは 0である。
[0027] また、重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなぐ付加重合、開環 重合等の公知の様々な重合タイプを適用することができる。付加重合としては、ラン ダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合等を挙げることができる。本発明に おいては、光学性能の劣化を抑制する観点力 ランダム共重合体を用いることが好 ましい。
[0028] 主たる成分として用いられる榭脂の構造が上記のものであると、透明性、屈折率お よび複屈折率等の光学物性に優れ、高精度の光学部品を得ることができる。
[0029] (繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体の例示)
前記一般式(2)で表される重合体を大きくわけると、以下の(i)〜 (iv)の 4種の重合 体に大別される。
(i)エチレンまたは α—ォレフインと環状ォレフィンとの共重合体
(ii)開環重合体またはその水素添加物
(iii)ポリスチレン誘導体の水素添加物
(iv)その他の重合体
以下、順に説明する。
[0030] [ (i)エチレンまたは α—ォレフインと環状ォレフィンとの共重合体]
(i)エチレンまたは α—ォレフィンと環状ォレフィンとの共重合体は、一般式(7)で 表現される環状ォレフィン系共重合体である。例えば、エチレンまたは炭素原子数が 3〜30の直鎖状または分岐状の α—ォレフイン由来の構成単位 (Α)と、環状ォレフ イン由来の構成単位 (B)とからなる。
[0031] (化 5)
式 (7)中、 R
aは、炭素原子数 2〜20、好ましくは 2〜12の炭化水素基よりなる群か ら選ばれる 2価の基である。
Rbは、水素原子、又は炭素原子数 1〜10、好ましくは 1〜5の炭化水素基よりなる 群から選ばれる 1価の基である。
なお、 Raおよび Rbは、それぞれ 1種であってもよぐ 2種以上を任意の割合で有して いてもよい。
X, yは共重合比を示し、 5Z95≤yZx≤95Z5を満たす実数である。好ましくは 5 0/50≤y/x≤95/5,さらに好ましくは、 55,45≤yZx≤ 80,20である。 x, y はモル基準である。
[0032] (エチレンまたは ex—ォレフイン由来の構成単位 (A) )
エチレンまたは (Xーォレフイン由来の構成単位 (A)は、下記のようなエチレン、また は炭素原子数が 3〜30の直鎖状または分岐状の oc一才レフイン由来の構成単位で ある。
具体的には、エチレン、プロピレン、 1—ブテン、 1—ペンテン、 1—へキセン、 3—メ チルー 1ーブテン、 3—メチルー 1 ペンテン、 3 ェチルー 1 ペンテン、 4 メチル 1 ペンテン、 4ーメチルー 1一へキセン、 4, 4 ジメチルー 1一へキセン、 4, 4 ジメチルー 1 ペンテン、 4ーェチルー 1一へキセン、 3 ェチルー 1一へキセン、 1 —オタテン、 1—デセン、 1—ドデセン、 1—テトラデセン、 1—へキサデセン、 1—オタ タデセン、 1 エイコセンなどが挙げられる。これらのなかでは、エチレンが好ましい。 これらのエチレンまたは α—ォレフイン由来の構成単位は、本発明の効果を損なわ な!、範囲で 2種以上含まれて 、てもよ 、。
[0033] (環状ォレフィン由来の構成単位 (Β) )
環状ォレフィン由来の構成単位 (Β)は、下記一般式 (8)、一般式(9)および一般式 (10)で表される環状ォレフィン由来の構成単位よりなる群力 選ばれる少なくとも 1 種からなる。
一般式 (8)で表される環状ォレフィン由来の構成単位 (Β)は、以下の構造を有する ものである。
[0034] (化 6)
式(8)中、 uは 0または 1であり、 Vは 0または正の整数であり、 wは 0または 1である。 なお、 wが 1の場合には、 wを用いて表される環は 6員環となり、 wが 0の場合には、こ の環は 5員環となる。 R
61〜R
78ならびに R
alおよび R
blは、互いに同一でも異なってい てもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基である。
ノ、ロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。 また炭化水素基としては、通常、炭素原子数 1〜20のアルキル基、炭素原子数 1〜2 0のハロゲン化アルキル基、炭素原子数 3〜 15のシクロアルキル基または芳香族炭 化水素基が挙げられる。
[0035] より具体的には、アルキル基としては、メチル、ェチル、プロピル、イソプロピル、アミ ル、へキシル、ォクチル、デシル、ドデシル、ォクタデシルなどが挙げられる。ハロゲン 化アルキル基としては、上記炭素原子数 1〜20のアルキル基に 1個または複数のハ ロゲン原子が置換した基が挙げられる。またシクロアルキル基としては、シクロへキシ ルなどが挙げられ、芳香族炭化水素基としてはフエニル、ナフチルなどが挙げられる
[0036] さらに上記一般式 (8)において、 R75と R76とが、 R77と R78とが、 R75と R77とが、 R76と R 78とが、 R75と R78とが、または R76と R77とがそれぞれ結合して、すなわち互いに共同し て、単環または多環の基を形成していてもよい。さらに、このようにして形成された単 環または多環が二重結合を有して 、てもよ 、。単環よりも多環のほうが少な 、含有量 で高 ヽガラス転移温度 (Tg)の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が好 ましい。またさらに、少ない環状ォレフィン仕込み量で製造できる利点がある。ここで
形成される単環または多環の基としては、具体的に以下のようなものが挙げられる。
(化 7)
上記例示において、 1または 2の番号を付した炭素原子は、上記一般式 (8)におい てそれぞれ R
75 (R
76)または R
77 (R
78)が結合して 、る炭素原子を表す。
R75と R76とで、または R77と R78とでアルキリデン基を形成していてもよい。このアルキ リデン基は、通常は炭素原子数 2〜20である。アルキリデン基の具体的な例としては 、ェチリデン、プロピリデン、イソプロピリデンなどが挙げられる。
[0038] 一般式(9)で表される環状ォレフィン由来の構成単位 (Β)は、以下の構造を有する ものである。
[0039] (化 8)
式(9)中、 Xおよび dは 0または 1以上の正の整数であり、 yおよび zは 0、 1または 2で ある。また、 R81〜R99は、お互いに同一でも異なっていてもよぐ水素原子、ハロゲン 原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはアルコキシ基であり、 R89および
R9C>が結合して 、る炭素原子と、 R93が結合して 、る炭素原子または R91が結合して!/ヽ る炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数 1〜3のアルキレン基を介して結合してい てもよい。また y=z = 0のとき、 R95と R92または R95と R"とは互いに結合して単環また は多環の芳香族環を形成して 、てもよ 、。
[0040] ハロゲン原子としては、上記式(8)中のハロゲン原子と同じものを例示することがで きる。
脂肪族炭化水素基としては、炭素原子数 1〜20のアルキル基または炭素原子数 3 〜 15のシクロアルキル基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としては、メチル 、ェチル、プロピル、イソプロピル、ァミル、へキシル、ォクチル、デシル、ドデシル、ォ クタデシルなどが挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロへキシルなどが挙げ られる。
芳香族炭化水素基としては、ァリール基、ァラルキル基などが挙げられ、具体的に は、フエ-ル、トリル、ナフチル、ベンジル、フエ-ルェチルなどが挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロホキシなどが挙げられる。ここで、 R89 および R9が結合して 、る炭素原子と、 R93が結合して 、る炭素原子または R91が結合 している炭素原子とは、直接または炭素原子数 1〜3のアルキレン基を介して結合し ていてもよい。すなわち、上記二個の炭素原子がアルキレン基を介して結合している 場合には、 R89と R93とが、または、 R9Gと R91とが互いに共同して、メチレン基(-CH
2 一)、エチレン基(一CH CH一)またはプロピレン基(一CH CH CH一)の内のい
2 2 2 2 2
ずれかのアルキレン基を形成して 、る。
さらに、 y=z = 0のとき、 R95と R92または R95と R"とは互いに結合して単環または多 環の芳香族環を形成していてもよい。具体的には、 y=z = 0のとき、 R95と R92とにより 形成される以下のような芳香族環が挙げられる。単環よりも多環のほうが少ない含有 量で高!ヽガラス転移温度 (Tg)の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が 好ましい。またさらに、少ない環状ォレフィン仕込み量で製造できる利点がある。
1は上記一般式(9)における dと同じである。
一般式(10)で表される環状ォレフィン由来の構成単位 (B)は、以下の構造を有す るものである。
[0042] (化 10)
式(10)中、 R と R皿は、互いに同一でも異なっていてもよぐ水素原子または炭 素原子数 1〜5の炭化水素基であり、また fは l≤f≤18である。炭素原子数 1〜5の 炭化水素基としては好ましくはアルキル基、ハロゲンィ匕アルキル基またはシクロアル キル基を挙げることができる。これらの具体例は上記式 (8)の R
61〜R
78の具体例から 明らかである。
[0043] 上記のような一般式 (8)、 (9)または(10)で表される環状ォレフィン由来の構成単 位 (B)として、具体的には、ビシクロ— 2—ヘプテン誘導体 (ビシクロへブト— 2—ェン 誘導体)、トリシクロー 3—デセン誘導体、トリシクロー 3—ゥンデセン誘導体、テトラシ クロー 3—ドデセン誘導体、ペンタシクロー 4 ペンタデセン誘導体、ペンタシクロべ ンタデカジエン誘導体、ペンタシクロー 3—ペンタデセン誘導体、ペンタシクロー 4
へキサデセン誘導体、ペンタシクロー 3—へキサデセン誘導体、へキサシクロー 4 ヘプタデセン誘導体、ヘプタシクロー 5—エイコセン誘導体、ヘプタシクロー 4 エイ コセン誘導体、ヘプタシクロー 5—ヘンエイコセン誘導体、ォクタシクロー 5—ドコセン 誘導体、ノナシクロー 5—ペンタコセン誘導体、ノナシクロー 6—へキサコセン誘導体 、シクロペンタジェン一ァセナフチレン付カ卩物の誘導体、 1, 4—メタノー 1, 4, 4a, 9a —テトラヒドロフルオレン誘導体、 1, 4—メタノー 1, 4, 4a, 5, 10, 10a へキサヒドロ アントラセン誘導体、炭素原子数 3〜20のシクロアルキレン誘導体などが挙げられる
[0044] また上記の一般式 (8)、(9)または(10)で表わされる環状ォレフィン由来の構成単 位 (B)の中で、テトラシクロ [4. 4. 0. 12' 5. l7' 10]— 3 ドデセン誘導体およびへキサ シクロ [6. 6. 1. I3' 6. I10' 13. 02' 7. °9' 14]— 4 ヘプタデセン誘導体が好ましぐ特 にテトラシクロ [4. 4. 0. I2' 5. I7' 10]— 3 ドデセンが好ましい。
[0045] 上記のような一般式 (8)または(9)で表される環状ォレフィン由来の構成単位 (B) は、シクロペンタジェンと対応する構造を有するォレフィン類とをディールス ·アルダ 一反応させることによって製造することができる。これらの一般式 (8)、(9)または(10 )で表される環状ォレフィン由来の構成単位 (B)は、 2種以上含まれていてもよい。ま た、上記モノマーを用いて重合したものは必要に応じて変成することができ、その場 合にモノマー由来の構造単位の構造を変化させることができる。たとえば水素添加処 理によって、条件によりモノマー由来の構造単位中のベンゼン環等をシクロへキシル 環とすることができる。
本発明にお 、て、「(i)エチレンまたは α—ォレフインと環状ォレフィンとの共重合体 」としては、エチレンと、テトラシクロ [4. 4. 0. I2' 5. I7' 10]— 3 ドデセンと力らなる共 重合体であることが好ま 、。
また、共重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなぐランダムコポ リマー、ブロックコポリマー、交互共重合等、公知の様々な共重合タイプを適用するこ とができる力 好ましくはランダムコポリマーである。
[0046] [ (ii)開環重合体またはその水素添加物]
(ii)開環重合体またはその水素添加物とは、前記一般式(2)における好ましい例と
して挙げた構造のうち、一般式(5)で表わされる構成単位を含む環式ォレフイン重合 体である。
また、環式ォレフイン重合体は、極性基を有するものであってもよい。極性基として は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、エポキシ基、グリシジル基、ォキ シカルボニル基、カルボ-ル基、アミノ基、エステル基などが挙げられる。
環式ォレフイン重合体は、通常、環式ォレフインを重合することによって、具体的に は、脂環式ォレフインを開環重合することによって得られる。また、極性基を有する環 式ォレフイン重合体は、例えば、前記環式ォレフイン重合体に極性基を有する化合 物を変性反応により導入することによって、あるいは極性基を含有する単量体を共重 合成分として共重合することによって得られる。
環式ォレフイン重合体を得るために使用される脂環式ォレフインとして具体的には、 ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン(慣用名:ノルボルネン)、 5—メチルービシクロ [2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5, 5 ジメチルービシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェ ン、 5 ェチル一ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5 ブチル一ビシクロ〔2. 2 . 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5 へキシル一ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5— ォクチルービシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5—ォクタデシルービシクロ〔2. 2 . 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5 ェチリデン一ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5 —メチリデン一ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプト一 2 ェン、 5 ビュル一ビシクロ〔2. 2. 1 〕一ヘプトー 2 ェン、 5 プロべ-ルービシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5—メ トキシ一カルビ-ルービシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5 シァノービシクロ〔2 . 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5—メチル 5—メトキシカルボ-ルービシクロ〔2. 2. 1〕 —ヘプトー 2 ェン、 5 エトキシカルボ-ルービシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン 、ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 5 ェ-ルー 2 メチルプロビオネイト、ビシクロ〔2. 2 . 1〕一ヘプトー 5 ェ-ルー 2 メチルオタタネイト、ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ーェン—5, 6 ジカルボン酸無水物、 5 ヒドロキシメチルビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプ トー 2 ェン、 5, 6 ジ(ヒドロキシメチル)一ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2 ェン、 5 —ヒドロキシ一 i—プロピルビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプト一 2 ェン、 5, 6 ジカルボキ シ一ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2—ェン、ビシクロ〔2. 2. 1〕一ヘプトー 2—ェン一
5, 6 ジカルボン酸イミド、 5 シクロペンチルービシクロ〔2.2.1〕一ヘプトー 2 ェ ン、 5 シクロへキシノレ一ビシクロ〔2.2.1〕 一ヘプトー 2 ェン、 5 シクロへキセ- ルービシクロ〔2.2.1〕一ヘプトー 2 ェン、 5—フエ-ルービシクロ〔2.2.1〕一ヘプ トー 2 ェン、トリシクロ〔4.3.0. I2' 5〕デカー 3, 7 ジェン (Ή用名:ジシクロペンタ ジェン)、トリシクロ〔4.3.0. I2,5〕デカ一 3 ェン、トリシクロ〔4.4.0. I2' 5〕ゥンデ力 —3, 7 ジェン、トリシクロ〔4.4.0. I2' 5〕ゥンデ力一 3, 8 ジェン、トリシクロ〔4.4 .0. I2' 5〕ゥンデ力一 3 ェン、テトラシクロ〔7.4.0. I10'13.02'7〕一トリデカ一 2, 4, 6— 11—テトラェン(別名: 1, 4—メタノー 1, 4, 4a, 9a—テトラヒドロフルオレン)、テ トラシクロ〔8.4.0. I11'14.03'8〕一テトラデカ一 3, 5, 7, 12— 11—テトラエン (別名 :1, 4—メタノー 1, 4, 4a, 5, 10, 10a へキサヒドロアントラセン)、テトラシクロ〔4. 4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン (慣用名:テトラシクロドデセン)、 8—メチル一 テトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン、 8 ェチルーテトラシクロ〔4. 4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン、 8—メチリデン一テトラシクロ〔4.4.0. I2'5. 丄7, )〕—ドデ力— 3—ェン、 8—ェチリデン—テトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17'10〕—ド デカ一 3 ェン、 8 ビュル一テトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン 、 8 プロべ-ルーテトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン、 8—メトキ シカルボ-ルーテトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン、 8—メチルー 8—メトキシカルボ-ルーテトラシクロ〔4.4.0. I2'5. 17'10〕ードデ力一 3 ェン、 8— ヒドロキシメチルーテトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン、 8 カルボ キシ一テトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン、 8 シクロペンチル一 テトラシクロ〔4.4.0. I2'5.17' 10〕一ドデ力一 3 ェン、 8 シクロへキシルーテトラシ クロ〔4.4.0. I2'5. 17'10〕一ドデカー 3 ェン、 8 シクロへキセ-ルーテトラシクロ〔 4.4.0. I2'5.17'10〕一ドデ力一 3 ェン、 8 フエ-ル一テトラシクロ〔4.4.0. I2'5 . 17'10〕一ドデ力一 3 ェン、ペンタシクロ〔6.5.1. I3'6.02'7.09'13〕一ペンタデカ —3, 10 ジェン、ペンタシクロ〔7.4.0. I3'6. I10'13.02'7〕一ペンタデ力一 4, 11 ジェンなどのノルボルネン系単量体;
シクロブテン、シクロペンテン、シクロへキセン、 3, 4ージメチルシクロペンテン、 3— メチルシクロへキセン、 2—(2—メチルブチル) 1ーシクロへキセン、シクロオタテン
、 3a, 5, 6, 7a—テトラヒドロ一 4, 7—メタノ一 1H—インデン、シクロヘプテンのごとき 単環のシクロアルケン;ビュルシクロへキセンやビュルシクロへキサンなどのビュル脂 環式炭化水素系単量体;
シクロペンタジェン、シクロへキサジェンなどの脂環式共役ジェン系単量体;などが 挙げられる。脂環式ォレフインは、それぞれ単独で、あるいは 2種以上を組み合わせ て用いることができる。
[0048] なお、共重合可能な単量体を必要に応じて共重合させることができる。その具体例 としては、エチレン、プロピレン、 1ーブテン、 1 ペンテン、 1一へキセン、 3—メチノレ — 1—ブテン、 3—メチル 1—ペンテン、 3 ェチル 1—ペンテン、 4—メチル 1 ペンテン、 4ーメチルー 1一へキセン、 4, 4 ジメチルー 1一へキセン、 4, 4ージメ チル— 1—ペンテン、 4 ェチル—1—へキセン、 3 ェチル—1—へキセン、 1—ォ クテン、 1—デセン、 1—ドデセン、 1—テトラデセン、 1—へキサデセン、 1—ォクタデ セン、 1—エイコセンなどの炭素数 2〜20のエチレンまたは α ォレフィン;シクロブ テン、シクロペンテン、シクロへキセン、 3, 4ージメチノレシクロペンテン、 3—メチノレシ クロへキセン、 2—(2 メチルブチル) 1ーシクロへキセン、シクロオタテン、 3a, 5, 6, 7a—テトラヒドロ一 4, 7—メタノ一 1H—インデンなどのシクロォレフイン; 1, 4 へ キサジェン、 4ーメチルー 1, 4一へキサジェン、 5—メチルー 1, 4一へキサジェン、 1 , 7—ォクタジェンなどの非共役ジェン;等が挙げられる。これらの単量体は、それぞ れ単独で、あるいは 2種以上を組み合わせて使用することができる。
脂環式ォレフインの重合方法は、格別な制限はなぐ公知の方法に従って行うこと ができる。これらの開環重合物は、耐熱性、安定性、光学物性の面から、水素添加し て用いることが好まし 、。水素添加方法は公知の方法を用いることができる。
[0049] [ (iii)ポリスチレン誘導体の水素添加物]
(iii)ポリスチレン誘導体の水素添加物としては、ビ-ルイ匕合物を単量体として得ら れる(共)重合体の水素添加物である。ビュルィ匕合物としては、ビニル芳香族化合物 、ビュル脂環式炭化水素化合物などを挙げることができる。
ビュル芳香族化合物としては、スチレン、 ひ一メチルスチレン、 α—ェチルスチレン ゝ α 一プロピノレスチレン、 α イソプロピノレスチレン、 α— tーブチノレスチレン、 2—メ
チノレスチレン、 3—メチノレスチレン、 4—メチノレスチレン、 2, 4 ジイソプロピルスチレ ン、 2, 4 ジメチルスチレン、 4—tーブチルスチレン、 5—t ブチルー 2—メチルス チレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフノレオロスチレン、 4—フエ-ノレス チレンなどのスチレン類等を挙げることができる。
ビュル脂環式炭化水素化合物としては、ビュルシクロへキサン、 3—メチルイソプロ ぺ -ルシクロへキサンなどのビュルシクロへキサン類; 4 ビュルシクロへキセン、 4 イソプロぺニルシクロへキセン、 1ーメチノレー 4ービニルシクロへキセン、 1ーメチノレー 4 イソプロぺニルシクロへキセン、 2—メチルー 4ービニルシクロへキセン、 2—メチ ルー 4 イソプロべ-ルシクロへキセンなどのビュルシクロへキセン類等を挙げること ができる。
[0050] 本発明においては、前述の単量体と共重合可能な他の単量体を共重合させてもよ い。共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、イソブテン、 2—メチルー 1 —ブテン、 2—メチル 1—ペンテン、 4—メチル 1—ペンテンなどの α ォレフィン 系単量体;シクロペンタジェン、 1ーメチルシクロペンタジェン、 2—メチルシクロペン タジェン、 2 ェチルシクロペンタジェン、 5—メチルシクロペンタジェン、 5, 5 ジメ チルシクロペンタジェン、ジシクロペンタジェンなどのシクロペンタジェン系単量体; シクロブテン、シクロペンテン、シクロへキセンなどのモノ環状ォレフィン系単量体;ブ タジェン、イソプレン、 1, 3 ペンタジェン、フラン、チォフェン、 1, 3 シクロへキサ ジェンなどの共役ジェン系単量体;アクリロニトリル、メタタリ口-トリル、 α—クロロアク リロ-トリルなどの-トリル系単量体;メタクリル酸メチル、メタクリル酸ェチル、メタタリ ル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、アクリル酸ェチル、アクリル酸 プロピル、アクリル酸ブチル、などの(メタ)アクリル酸エステル系単量体;アクリル酸、 メタクリル酸、無水マレイン酸などの不飽和脂肪酸系単量体;フエニルマレイミド;メチ ルビ-ルエーテル; N -ビュルカルバゾール、 N -ビュル— 2—ピロリドンなどの複素 環含有ビュルィヒ合物系単量体等が挙げられる。
[0051] 重合に用いる上記単量体の混合物は、耐熱性、低複屈折性、機械強度等の観点 から、ビニル芳香族化合物および zまたはビニル脂環式炭化水素化合物を、通常、
50質量%以上、好ましくは 70〜: L00質量%、より好ましくは 80〜: L00質量%含有す
るものが好ましい。単量体混合物は、ビュル芳香族化合物およびビニル脂環式炭化 水素化合物の双方を含有して 、ても構わな 、。
[0052] [ (iv)その他の重合体]
(iv)その他の重合体としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノル ボルネン系単量体の付カ卩重合体、ノルボルネン系単量体とビニル化合物(エチレン や、 α—ォレフインなど)との付加重合体、単環シクロアルケンの重合体、脂環式共 役ジェン系単量体の重合体、ビニル脂環式炭化水素系単量体の重合体、芳香族ォ レフイン重合体などが挙げられる力 前記 (i)〜(iii)に含まれない構造であっても、一 般式(2)の範囲内において、任意に選択可能である。例えば、前記、(i)〜(m)相互 、あるいは、公知の共重合可能なモノマーを共重合せしめたものが挙げられる。
[0053] また、共重合のタイプは本発明にお 、て全く制限されるものではなぐランダムコポ リマー、ブロックコポリマー、交互共重合等、公知の様々な共重合タイプを適用するこ とができる力 好ましくはランダムコポリマーである。
上記 (i)〜 (iv)で大別される 4種のポリマーのうち、光学特性上好ま 、ものは (i)ェ チレンまたは α—ォレフインとシクロォレフインとの共重合体であり、その中でも最も好 ましいものはエチレン'テトラシクロ [4. 4. 0. I2' 5. I7' 10]— 3—ドデセン共重合体で ある。
[0054] (主鎖の一部として用いることのできるその他の構造)
また本発明で用いられる、脂環族構造を有する重合体は、本発明の成形方法によ つて得られる製品の良好な物性を損なわない範囲で、必要に応じて他の共重合可能 な単量体力 誘導される繰り返し構造単位を有していてもよい。その共重合比は限定 されないが、好ましくは 20モル%以下、さらに好ましくは 0〜10モル%であり、共重合 量が 20モル%以下であれば、光学物性を損なうことなぐ高精度の光学部品を得る ことができる。また、共重合の種類は限定されない。
[0055] (繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体の分子量)
本発明で用いられる脂環族構造を有する重合体の分子量は限定されるものではな いが、分子量の代替指標として極限粘度 [ r? ]を用いた場合、好ましくは、温度 135 °Cのデカリン中で測定される極限粘度 [ 7? ]が、 0. 03〜: LOdlZg、さらに好ましくは 0
. 05〜5dlZgであり、最も好ましくは 0. 10〜2dlZgである。極限粘度 [ r? ]が上記範 囲にあると、良好な成形性を得ることができるとともに、成形物の機械的強度が損な われることがない。
[0056] (繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体のガラス転移温度 )
本発明で使用される繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重 合体のガラス転移温度 (Tg)は、好ましくは、 50〜240°Cである。さらに好ましくは 50 〜160°Cである。最も好ましくは、 100〜150°Cである。ガラス転移温度 (Tg)が上記 範囲であると、成形品を光学部品として使用する際に、十分な耐熱性を得ることがで きるとともに、良好な成形性を得ることができる。
ガラス転移温度の測定装置等は限定されるものではな 、。例えば示差走査熱量計
(DSC)を用いて、熱可塑性非晶性榭脂のガラス転移温度を測定することができる。 例えば、 SEIKO電子工業 (株)製 DSC— 20を用いて昇温速度 10°CZ分で測定す る方法などが挙げられる。
[0057] このような脂環族構造を有する重合体は、各々以下のようにして製造することができ る。
(i)エチレンまたは α—ォレフインと環状ォレフインとの共重合体は、例えば、特開 昭 60— 168708号公報、特開昭 61— 120816号公報、特開昭 61— 115912号公 報、特開昭 61— 115916号公報、特開昭 61— 271308号公報、特開昭 61— 2722 16号公報、特開昭 62— 252406号公報、特開昭 62— 252407号公報などの方法 に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。 (ii)開環重合体またはそ の水素添加物は、特開昭 60— 26024号公報、特開平 9— 268250号公報、特開昭 63— 145324号公報、特開 2001— 72839号公報などの方法に従い適宜条件を選 択すること〖こより製造することができる。(iii)ポリスチレン誘導体の水素添加物は、 W O 01/092412,特開 2003— 276047号公報、特開 2004— 83813号公報など の方法に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。
さらに、脂環族構造を有する重合体の製造工程において、少なくとも一度、該重合 体または該重合体および原料である単量体を含む系に、水素添加触媒および水素
を接触させて、該重合体および zまたは単量体が持つ不飽和結合の少なくとも一部 を水素化することで、該重合体の耐熱性、透明性等の光学性能を向上させることが できる。なお、上記水素化いわゆる水素添加は、従来公知の方法で行うことができる
[0058] [ヒンダートアミン系化合物]
本発明で使用される、ヒンダートアミン系化合物としては、以下の一般式(1)で表わ される化合物が挙げられる。本発明にお ヽて用いられるヒンダートアミン系化合物は
、立体障害アミン構造を有する。
[0059] (化 11)
式(1)中、 Rは水素原子、炭素原子数 1〜9のアルキル基、炭素原子数 1〜9のアル コキシ基または炭素原子数 2〜9のァシル基であり、好ましくは水素原子またはメチル 基、さらに好ましくは水素原子である。このような構造である場合、十分な耐候性を得 ることがでさる。
Xは直接結合、または、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子から 選ばれる少なくとも 1種を含み、分子量 12〜: LOOOOである a+b価の基を示す。基の 構造は限定されないが、分子量が 10000以下であると、榭脂中での十分な移動速 度が得られ、光学性能を損なうことなく良好な耐光性を得ることができる。
Yは直接結合、または、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子から 選ばれる少なくとも 1種を含む分子量 12〜: LOOOOの基を示す。
なお、 R、 Xおよび Yは、それぞれ 1種であってもよぐ 2種以上を任意の割合で有し ていてもよい。
[0060] aおよび bはそれぞれの構造単位の分子内における数を示し、いずれも 1以上の実 数である。 aが 0より大きいと耐光性が発現し、 bが 0より大きいと榭脂との親和性が得 られる。製造方法によっては、 aおよび/または bの一部が 0となるものが混入する場
合がある。その場合、 aおよび Zまたは bの一部が 0となるものも用いることができる。ま た aは 1〜50、好ましくは 1〜40の実数、 bは 1〜50、好ましくは 1〜40の実数であり、 a, bがこれらの数字範囲内であると、ヒンダートアミン系化合物の榭脂中での十分な 移動速度が得られ、光学性能のバランスを損なうことがな 、。
また mは 0〜50の実数、好ましくは 1〜50の実数、より好ましくは 3〜50の実数、さ らに好ましくは 5〜50、特に好ましくは 5〜34の実数である。上記範囲であると、榭脂 との親和性が得られ、良好な耐光性を得ることができる。
[0061] また、前記一般式(1)で表わされるヒンダートアミン系化合物の好ましい例としては
、入手のし易さと安定性等の理由により、以下の一般式(11)〜(13)から選ばれる少 なくとも 1種の構造であることが好ま 、。
[0062] (化 12)
式(11)中、 Aは酸素原子または NHである。 R
1は水素原子、炭素原子数 1〜9のァ ルキル基、炭素原子数 1〜9のアルコキシ基または炭素原子数 2〜9のァシル基を示 す。 X
1は 1種ないし 2種以上の分子量 12〜: LOOの炭化水素基を示す。なお、 A、 R
1 および X
1は、それぞれ 1種であってもよぐ 2種以上を任意の割合で有していてもよい 。 m
1は 0〜50の実数、 a
1は 1〜3の実数、 b
1は 1〜3の実数である。
[0063] (化 13)
(式(12)中、 R2は水素原子、炭素原子数 1〜9のアルキル基、炭素原子数 1〜9のァ ルコキシ基または炭素原子数 2〜9のァシル基を示す。 X2は分子量 12〜 10000の 1
種ないし 2種以上の炭化水素基を示す。なお、 R2および X2は、それぞれ 1種であって もよぐ 2種以上を任意の割合で有していてもよい。 m2は 0〜50の実数、 a2は 1〜50 の実数、 b2は 1〜50の実数である。 )
(化 14)
式(13)中、 R
3および R
4は、各々独立に水素原子、炭素原子数 1〜9のアルキル基 、炭素原子数 1〜9のアルコキシ基、または炭素原子数 2〜9ァセチル基であり、好ま しくは、炭素原子数 1〜4のアルキル基、炭素原子数 1〜8のアルコキシ基およびァセ チル基であり、特に好ましくは水素原子とメチル基である。
R5は水素原子または炭素原子数 1〜9のアルキル基であり、好ましくは水素原子お よび炭素原子数 1〜4のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子とメチル基である
X3は NHまたは酸素原子であり、特に好ましくは NHである。
W1および W2は、各々独立に酸素原子または N (R6)を示し、好ましくは N (R6)であ る。 W1または W2が N (R6)である場合、 R6は水素原子または炭素原子数 1〜9のアル キル基であり、特に炭素原子数 2〜6のアルキル基が好ましぐ n—ブチル基が最も好 ましい。
なお、 R
3、 R
4、 R
5、 R
6、
W
2および X
3は、それぞれ 1種であってもよぐ 2種以上 を任意の割合で有して 、てもよ 、。
また、 m3は 0〜50の実数であり、好ましくは 1〜50の実数、より好ましくは 3〜50の 実数、さらに好ましくは 5〜34の実数、特に好ましくは 5〜 17の実数である。 n3は 2ま たは 3であり、好ましくは 3である。 a3は 1または 2であり、好ましくは 2である。 b3は 1ま
たは 2であり、好ましくは 1である。
式(13)の化合物における m3の下限値が 1以上であると、式(13)の化合物は、脂 環族構造を有する重合体のうちでも特に、「(i)エチレンまたは α—才レフインと環状 ォレフインとの共重合体」との相溶性に優れる。そのため、榭脂組成物から得られる 成形体は、青紫色レーザに対する光線透過率の低下のみならず光学性能の劣化を 効果的に抑制することができる。
[0065] 一般式(11)のヒンダートアミン系化合物の具体例としては以下の化学式 [1]〜 [6] が挙げられる。
[0066] (化 15)
一般式(12)の好ましい態様としては、一般式(14)に示される構造を例示すること ができる。
ここで、 R2および m2は一般式(12)と同様であり、 nは重合度を示し 2〜50の実数で ある。
[0068] 一般式(14)の具体例としては、以下の化学式 [7]およびィ匕学式 [8]が挙げられる [0069] (化 17)
ここで、 nは重合度を示し、 2〜50の実数である。
[0070] また、一般式(13)の具体例としては、以下の化学式 [9]〜[17]が挙げられる c [0071] (化 18)
一般式(1)で表されるヒンダートアミン系化合物の分子量は限定されるものではな
いが、光学部品としての具体的な用途、成形物の形状に応じた最適な分子量のもの を選択する必要がある。例えば、光ピックアップ装置に用いられる光学部品にはさま ざまな形状のものがあり、一概に言えるものではないが、分子量は好ましくは 500〜5 0000、さらに好まし <は 1000〜20000、最も好まし <は 1000〜10000である。分子 量が上記範囲内であれば、榭脂中でのヒンダートアミン系化合物の十分な移動速度 を得ることができ、本発明で使用される脂環構造を有する重合体の持つ光学性能を 損なうことなぐ良好な耐光安定性と光学性能を得ることができる。さらに、ヒンダート アミン系化合物が必要以上に成形体の表面に浮き出ることがなく光学性能も損なわ れず好ましい。
[0074] (ヒンダートアミン系化合物の添カロ量)
本発明で使用されるヒンダートアミン系化合物の添加量は、脂環族構造を有する重 合体 100質量部に対し、好ましくは 0. 05〜5質量部であり、さらに好ましくは 0. 2〜5 質量部であり、最も好ましくは、 0. 4〜4質量部である。ヒンダートアミン系化合物を上 記範囲で使用することで、脂環族構造を有する重合体の成形性、機械強度、耐熱性 および透明性を損なうことなぐ良好な耐光性を得ることができる。
[0075] (ヒンダートアミン系化合物の製法)
本発明で使用されるヒンダートアミン系化合物として、一般式(11)および一般式(1 2)で表わされる化合物は、巿場力 容易に入手可能であり、例えば、旭電化工業( 株)製、 ADKSTAB LA— 67、 BASF社製、 Uvinul 5050Hなどが例示できる。 また一般式(13)で表わされる化合物は、以下の一般式(15)で表わされる化合物と 一般式(16)で表わされる化合物とを、カップリングさせることにより製造することがで きる。
[0076] (化 20)
式(15)中、 R
3および R
4は水素原子、炭素原子数 1〜9のアルキル基、炭素原子数 1〜9のアルコキシ基および炭素原子数 2〜9ァシル基であり、好ましくは炭素原子数 1〜4のアルキル基、炭素原子数 1〜8のアルコキシ基およびァシル基であり、特に好 ましくは水素原子とメチル基である。 W
1および W
2は同一または異なっていてもよぐ 酸素原子または N (R
6)を示し、好ましくは N (R
6)である。 W
1または W
2が N (R
6)であ る場合、 R
6は水素原子または炭素原子数 1〜9のアルキル基であり、特に炭素原子 数 2〜6のアルキル基が好ましぐ n—ブチル基が最も好ましい。
[0077] (化 21)
式(16)中、 R
5は水素原子および炭素原子数 1〜9のアルキル基であり、好ましくは 水素原子および炭素原子数 1〜4のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子とメ チル基である。 X
3は NHまたは酸素原子であり、特に好ましくは NHである。
また、 m3は 0〜50の実数であり、好ましくは 5〜34の実数、さらに好ましくは 5〜17 の実数である。 n3は 2または 3であり、好ましくは 3である。 a3は 1または 2であり、好まし くは 2である。 b3は 1または 2であり、好ましくは 1である。
[0078] 一般式(16)で表わされる 2つのアミノ基末端を持つ化合物は、分子内に直鎖また は分岐鎖のアルキル鎖末端を持つ市販品のァミンから既知の合成法により入手する ことができ、例えば特表平 9— 506501号公報、特表平 9— 508170号公報に記載の 方法で合成することができる。
[0079] 以下に、一般式(15)で表される化合物と一般式(16)で表される化合物の反応に
より、本発明の一般式(13)で表される化合物を得る方法について、さらに詳細に説 明する。
一般式( 15)で表される化合物と一般式( 16)で表される化合物とのモル比は、最も 好ましくは 2 : 1である力 いずれか片方の化合物を過剰量供給してもよい。過剰量を 用いる場合、その量は好ましい量に対して 1. 01〜: L0. 0倍である。両化合物の反応 器への仕込み方は特に制限はなぐ例えば、両ィ匕合物全量を一括して反応器に移し 、反応を開始させてもよいし、片方の化合物中に、もう片方の化合物を反応させなが ら徐々に添カ卩してもよい。
反応は、脱酸剤の存在下に実施してもよい。使用する脱酸剤としては、水酸化ナト リウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩;トリエチルァミン、 トリブチルァミン、ピリジン、 N, N ジメチルァ-リン、 N—メチルイミダゾール、 1, 8- ジァザビシクロ [5. 4. 0]ゥンデ力一 7 ェン (DBU)などの有機塩基を挙げることが できる。
[0080] 反応に用いる溶媒としては、反応に影響しない溶媒であればよぐ特に限定されな いが、例えば、水;ペンタン、へキサン、ヘプタン、シクロへキサンなどの飽和炭化水 素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ェチルベンゼンなどの芳香族炭化 水素類;ジクロロメタン、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類;エチレングリコールジメチルエーテル 、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、 1, 3 ジォキサン、 1, 4 ジォキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、ジェチ ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル類; N, N- ジメチルホルムアミドなどのアミド類;ァセトニトリルなどの-トリル類;アセトン、メチル ェチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;酢酸メチル、酢酸ェチルなどの エステル類;ジメチルスルホキシドなどの含硫黄溶媒; 1, 3 ジメチル— 2—イミダゾリ ジノン(DMI)などを挙げることができる。
[0081] これらの溶媒は単独あるいは混合物として使用することができ、混合物として用いる 場合、任意の比で使用できる。なお、原料の一般式(15)で表される化合物と一般式 (16)で表される化合物は、反応溶媒に溶解させて反応させてもよいし、スラリー状態
で反応させてもょ ヽ。なお水と相溶しな ヽ有機溶媒と水との混合物を反応溶媒として 選択した場合は、テトラプチルアンモ-ゥム塩 (例えば硫酸水素テトラプチルアンモ- ゥム)などの相間移動触媒を共存させてもよい。
反応溶媒の使用量は特に限定されないが、原料の一般式 (15)で表される化合物 lgに対して、 1〜: LOOOg、好ましくは l〜500g、より好ましくは 1〜: LOOgの範囲であ る。
本反応は、 0°Cから溶媒の沸点までの温度範囲で実施される。好ましくは、 50-15 0°Cで実施される。なお、オートクレープ中で反応する場合は、前記の温度範囲に限 定されず、 0〜300°C、好ましくは 0〜250°Cの範囲で実施される。
反応時間は特に限定されず、原料、反応条件等に応じて適宜決められるが、通常 10分〜 72時間である。
[0082] 本発明の一般式(13)で表される化合物の単離方法については、特に限定されな い。生成物が反応溶媒から析出した場合は、濾取もしくは遠心分離することによって 単離が可能であり、反応溶媒に溶解している場合は、減圧下溶媒を留去する方法や 適当な溶媒を加えて析出させ、濾取もしくは遠心分離する方法が採用可能である。 また適当な酸と処理することにより、塩を形成させて前記操作を行ってもよぐこれら の方法を組み合わせて実施してもよ 、。
[0083] [リン系安定剤]
本発明の榭脂組成物は、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有す る重合体 100質量部に対して、リン系安定剤を 0. 01〜1質量部含むことが好ましい
。リン系安定剤によって、本発明の榭脂組成物にレーザー照射を行った際に発生す る白濁を抑えることができ、上記数値範囲において特にその効果に優れる。
[0084] リン系安定剤としては、一般の榭脂工業で通常使用される物であれば格別な限定 はなぐ例えば、トリフエ-ルホスフアイト、ジフエ-ルイソデシルホスファイト、フエ-ル ジイソデシルホスフアイト、トリス(ノ -ルフエ-ル)ホスファイト、トリス(ジノ-ルフエ-ル )ホスフアイト、トリス(2, 4—ジ— t—ブチルフエ-ル)ホスファイト、トリス(2— t—ブチ ルー 4—メチルフエ-ル)ホスファイト、トリス(シクロへキシルフエ-ル)ホスファイト、 2, 2—メチレンビス(4, 6—ジ一 t—ブチルフエ-ル)ォクチルホスファイト、 9, 10—ジヒ
ドロ一 9—ォキサ 10 ホスファフェナントレン一 10—オキサイド、 10- (3, 5 ジ一 t ブチル 4 ヒドロキシベンジル) - 9, 10 ジヒドロ一 9—ォキサ 10 ホスファ フエナントレン 10 オキサイド、 10 デシロキシ 9, 10 ジヒドロー 9 ォキサ 10 ホスファフェナントレンなどのモノホスファイト系化合物; 4, 4,ーブチリデンービ ス(3—メチルー 6— t—ブチルフエ-ルージ—トリデシルホスフアイト)、 4, 4, 一イソプ 口ピリデン—ビス(フエ-ル―ジ—アルキル(C12〜C15)ホスファイト)、 4, 4,—イソ プロピリデン—ビス(ジフエ-ルモノアルキル(C12〜C15)ホスファイト)、 1, 1, 3 ト リス(2 メチル 4 ジ—トリデシルホスファイト 5 t ブチルフエ-ル)ブタン、テ トラキス(2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ル) 4, 4,一ビフエ-レンジホスファイト、サイク リックネオペンタンテトライルビス(イソデシルホスフアイト)、サイクリックネオペンタンテ トライルビス(ノユルフェ-ルホスフアイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ルホスフアイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2, 4ージメチルフエ-ルホスフアイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2, 6 ジ t ブチルフエ-ルホスフアイト)などのジホスファイト系化合物等を挙げることがで きる。その他、耐加水分解性を上げる目的で、立体障害の高い基を周囲に持つ比較 的高分子量のリン系安定剤、たとえば、トリス [2— [ [2, 4, 8, 10—テトラー t—プチ ルジベンゾ [d, f] [l, 3, 2]ジォキサフォスフエフィンー6 ィル]ォキシ]ェチル]アミ ン、一分子内に燐酸エステル構造とフエノール構造とを有するものとして例えば、 6— 〔3— (3— t—ブチル—4 ヒドロキシ— 5—メチルフエ-ル)プロポキシ〕—2, 4, 8, 1 0—テトラキスー tーブチルジベンゾ〔d, f〕〔1. 3. 2〕ジォキサフォスフエピン、 6—〔3 — (3, 5 ジ— t—ブチル—4 ヒドロキシフエ-ル)プロポキシ〕—2, 4, 8, 10—テト ラキスー tーブチルジベンゾ〔d, f〕〔l. 3. 2〕ジォキサフォスフエピンなどを用いること ちでさる。
これらの中でも、 6—〔3— (3— t—ブチル 4 ヒドロキシ一 5—メチルフエ-ル)プ 口ポキシ〕 2, 4, 8, 10—テトラキスー tーブチルジベンゾ〔d, f〕〔1. 3. 2〕ジォキサ フォスフエピン、トリス(ノユルフェ-ル)ホスファイト、トリス [2— [ [2, 4, 8, 10—テトラ —tーブチルジベンゾ [d, f] [l, 3, 2]ジォキサフォスフエフィンー6 ィル]ォキシ] ェチル]ァミン、トリス(ジノユルフェ-ル)ホスファイト、トリス(2, 4 ジ一 t ブチルフ
ェ -ル)ホスファイト、トリス [2— [ [2, 4, 8, 10—テトラー tーブチルジベンゾ [d, f] [l , 3, 2]ジォキサフォスフエフィンー6 ィル]ォキシ]ェチル]ァミンなどが特に好まし い。
[0086] [親水性安定剤]
本発明の榭脂組成物は、榭脂の耐湿熱特性の向上や、成形時の離型性の向上等 を目的として、親水性の安定剤を添加することが好ましい。親水性安定剤として例え ば、特開平 9— 241484号公報に記載の多価アルコール類、特開 2001— 26718号 公報に記載の多価アルコール、多価アルコールと脂肪酸のエステル、ソルビトール系 誘導体、親水基と疎水基とを有する化合物などが挙げられる。
[0087] (多価アルコール)
多価アルコールとしては、分子量が 2000以下で、同一分子中のヒドロキシル基の 数に対する炭素原子数の比率が 1. 5〜30、好ましくは 3〜20、特に好ましくは 6〜2 0で、炭素原子数が 6以上のものが挙げられる。この比率と炭素原子数の範囲内であ れば、熱可塑性榭脂との相溶性が良ぐ溶融混練時に発泡を起こして透明性に悪影 響を及ぼすこともない。好ましい炭素原子数の範囲は 6〜: L00であり、さらに好ましく は、 6〜60である。
この多価アルコールとしては、分子中の少なくとも 1個のヒドロキシル基が、 1級炭素 原子と結合しているもの、あるいは、炭素原子数 Ζヒドロキシル基数の比率が 1. 5〜 30で炭素原子数 6以上の多価アルコールが好まし 、。
本発明の多価アルコールには、分子内にエーテル結合、チォエーテル結合、脂環 族炭化水素基、芳香族炭化水素基を有しているものも含まれるが、好ましくは脂肪族 多価アルコールである。
[0088] 多価アルコールの具体例としては、 3,7, 11,15—テトラメチル— 1,2,3 トリヒドロキ シへキサデカン、ジヒドロキシオクタン、トリヒドロキシオクタン、テトラヒドロキシオクタン 、ジヒドロキシノナン、トリヒドロキシノナン、テトラヒドロキシノナン、ペンタヒドロキシノナ ン、へキサヒドロキシノナン、ジヒドロキシトリアコンタン、トリヒドロキシトリアコンタン、ェ ィコサヒドロキシトリアコンタンなどが挙げられる。これらの中では、 3,7,11, 15—テトラ メチル 1,2,3 トリヒドロキシへキサデカンが好ましい。
また、多価アルコールとして、具体的には 1,2—へキサデカンジオール、 2,3 ヘプ タデカンジオール、 1,3—ォクタデカンジオール、 1,2—デシルテトラデカンジオール なども挙げられる。
[0089] (多価アルコールと脂肪酸のエステル)
多価アルコールと脂肪酸のエステルとしては、たとえば、特開 2001— 26682号公 報に記載のソルビトール系誘導体等が透明性に優れ、高温高湿度雰囲気下におけ る透明性低下が少な ヽ榭脂組成物が得られるので好適に用いられる。
その他のエステルとしては、特公平 07— 007529号公報記載の多価アルコールの 脂肪酸エステルがグリセリンまたはペンタエリスリトールの一部をエステルイ匕したもの であるものも好適な例として挙げられる。
[0090] (ソルビトール系誘導体)
ソルビトール系誘導体としては、下記の一般式(17)〜(22)で表される化合物を挙 げることができる。
[0091] (化 22)
式(17)中、各 R、 R'は互いに同一でも異なっていてもよぐ炭素原子数 1〜8のァ ルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数 1〜4のアルコキシ基のいずれかであり、 mお よび nはそれぞれ独立に 0〜3の整数である。
[0092] 上記式(17)で表される化合物として具体的には、 1,3,2,4 ジベンジリデンソルビ トール、 1,3 べンジリデン 2,4— p—メチルベンジリデンソルビトール、 1,3 ベン ジリデン—2,4— p ェチルベンジリデンソルビトール、 1,3— p—メチルベンジリデン - 2,4-ベンジリデンソルビトール、 1 , 3— p ェチルベンジリデン 2,4 ベンジリデ ンソルビトール、 1,3— p メチルベンジリデン 2,4— p ェチルベンジリデンソルビ トール、 1,3— p ェチルベンジリデン—2,4— p—メチルベンジリデンソルビトール、 1
, 3,2,4—ジ(p メチルベンジリデン)ソルビトール、 1 ,3, 2,4—ジ(p ェチルベンジリ デン)ソルビトール、 1,3,2,4 ジ(p—n—プロピルべンジリデン)ソルビトール、 1,3,2 ,4 ジ(p— i プロピルべンジリデン)ソルビトール、 1,3,2,4 ジ(p— n—ブチルベ ンジリデン)ソルビトール、 1, 3, 2,4 ジ(p— s ブチルベンジリデン)ソルビトール、 1, 3, 2,4 ジ(p— t ブチルベンジリデン)ソルビトール、 1 , 3, 2,4 ジ(2' ,4' ジメチル ベンジリデン)ソルビトール、 1,3,2,4 ジ(p—メトキシベンジリデン)ソルビトール、 1, 3, 2,4 ジ(p—エトキシベンジリデン)ソルビトール、 1,3-ベンジリデン 2,4— p— クロルべンジリデンソルビトール、 1 , 3— p クロルべンジリデン 2,4 ベンジリデン ソルビトール、 1 ,3—p—クロルべンジリデン 2,4— p メチルベンジリデンソルビトー ル、 1,3—p—クロルべンジリデン 2,4— p ェチルベンジリデンソルビトール、 1,3 p メチルベンジリデン 2,4— p クロルべンジリデンソルビトール、 1 , 3— p ェ チルベンジリデン 2,4— p—クロルべンジリデンソルビトールおよび 1 , 3, 2,4 ジ(p —クロルべンジリデン)ソルビトールおよびこれらの 2個以上の混合物を例示でき、特 に 1,3, 2,4 ジベンジリデンソルビトール、 1,3, 2,4 ジ(p—メチルベンジリデン)ソル ビトール、 1,3,2,4 ジ(p ェチルベンジリデン)ソルビトール、 1,3— p クロルベン ジリデン—2,4— p—メチルベンジリデンソルビトール、 1,3, 2,4 ジ(p—クロルべンジ リデン)ソルビトールおよびそれらの 2種以上の混合物が好適に使用できる。
[0093] 上記のソルビトール系誘導体の中では、下記の一般式(18)で表される化合物を好 まし 、例として挙げることができる。
[0094] (化 23)
式(18)中、 R、 R'は互いに同一でも異なっていてもよぐメチル基またはェチル基 を示す。
[0095] (化 24)
式(19)中、各 Rは互いに同一でも異なっていてもよぐ炭素原子数 1〜8のアルキ ル基、ハロゲン原子、炭素原子数 1〜4のアルコキシ基のいずれかであり、 mは 0〜3 の整数である。
[0096] 上記の一般式(19)で表される化合物として具体的には、 2,4 べンジリデンソルビ トール、 2,4— p—n—プロピルべンジリデンソルビトール、 2,4— p—i—プロピルベン ジリデンソルビトール、 2,4— p—n—ブチルベンジリデンソルビトール、 2,4— p— s— ブチルベンジリデンソルビトール、 2,4— p— t ブチルベンジリデンソルビトール、 2, 4一(2',4' ジメチルベンジリデン)ソルビトール、 2,4— p—メトキシベンジリデンソル ビトール、 2,4— p—エトキシベンジリデンソルビトール、 2,4— p—クロルべンジリデン ソルビトールおよびこれらの 2種以上の混合物が使用できる。
[0097] (化 25)
式(20)中、各 Rは互いに同一でも異なっていてもよぐ炭素原子数 1〜8のアルキ ル基、ハロゲン原子、炭素原子数 1〜4のアルコキシ基のいずれかであり、 nは 0〜3 の整数である。
[0098] 上記の式(20)で表される化合物として具体的には、 1,3 べンジリデンソルビトー ル、 1,3—p—n—プロピルべンジリデンソルビトール、 1,3—p—i—プロピルべンジリ デンソルビトール、 1,3— p—n—ブチルベンジリデンソルビトール、 1,3—p— s ブチ ルベンジリデンソルビトール、 1, 3— p—t ブチルベンジリデンソルビトール、 1,3—(
2',4' ジメチルベンジリデン)ソルビトール、 1 , 3—ρ—メトキシベンジリデンソルビトー ル、 1,3— ρ エトキシベンジリデンソルビトール、 1,3— ρ クロルべンジリデンソルビ トールおよびこれらの 2種以上の混合物が使用できる。
[0099] (化 26)
式 (21)中、 R -R
4は炭素原子数 10〜30の脂肪族ァシル基または水素原子であ る。
[0100] 上記の一般式(21)で表される化合物として具体的には、 1,5 ソルビタンモノステ アレート、 1,5 ソノレビタンジステアレート、 1,5 ソルビタントリステアレート、 1,5 ソ ルビタンモノラウレート、 1,5 ソルビタンジラウレート、 1,5 ソルビタントリラウレート、 1,5 ソルビタンモノパルミテート、 1,5 ソルビタンジパルミテート、 1,5 ソルビタント リパルミテートおよびこれらの 2種以上の混合物が使用できる。
[0101] (化 27)
式 (22)中、 〜 R
8は炭素原子数 10〜30の脂肪族ァシル基または水素原子であ る。
[0102] 上記の式(22)で表される化合物として具体的には、 1,4ーソルビタンモノステアレ ート、 1,4ーソノレビタンジステアレート、 1,4ーソルビタントリステアレート、 1,4ーソノレビ タンモノラウレート、 1,4 ソルビタンジラウレート、 1,4 ソルビタントリラゥレート、 1,4 ーソルビタンモノパルミテート、 1,4ーソルビタンジパルミテート、 1,4ーソルビタントリパ ルミテートおよびこれらの 2種以上の混合物が使用できる。
上記のソルビトール系誘導体のなかでは、前記式(17)〜(20)で表されるベンジリ デンソルビトール誘導体が好ましぐさらには、前記式(17)で表されるジベンジリデン ソルビトール誘導体が好まし 、。また上記の式( 17)〜(22)で表されるソルビトール 系誘導体は、 1種単独でも、 2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[0103] 本発明においては、上述したソルビトール系誘導体の分散性向上のために、それ を脂肪酸と混合して使用してもよい。用いられる脂肪酸としては、炭素原子数 10〜3 0の脂肪酸が挙げられる。
[0104] (その他のエステル)
その他の多価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、アルコール性水酸基の一 部がエステルイ匕されたものを使用する。したがって、使用される多価アルコール脂肪 酸エステルの具体例の一部としてグリセリンモノステアレート、グリセリンモノラウレート 、グリセリンモノミリステート、グリセリンモノパルミテート、グリセリンジステアレート、グリ セリンジラウレート等のグリセリン脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールモノステアレー ト、ペンタエリスリトーノレモノラウレート、ペンタエリスリトーノレジステアレート、ペンタエリ スリトールジラウレート、ペンタエリスリトールトリステアレート等のペンタエリスリトール の脂肪酸エステルが例示できる。
[0105] (親水基と疎水基とを有する化合物)
親水基と疎水基とを有する化合物としては、分子中に親水基と疎水基とを有する化 合物において、該化合物の親水基がヒドロキシアルキル基であり、疎水基が炭素原 子数 6以上のアルキル基であるアミンィ匕合物またはアミドィ匕合物が挙げられる。
[0106] 具体的には、たとえば、ミリスチルジエタノールァミン、 2-ヒドロキシェチル- 2-ヒドロ キシドデシルァミン、 2-ヒドロキシェチル- 2-ヒドロキシトリデシルァミン、 2-ヒドロキシェ チル- 2-ヒドロキシテトラデシルァミン、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエ リスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ジ- 2-ヒドロキシェチ ル- 2-ヒドロキシドデシルァミン、アルキル(炭素原子数 8〜 18)ベンジルジメチルアン モ -ゥムクロライド、エチレンビスアルキル(炭素原子数 8〜 18)アミド、ステアリルジェ タノールアミド、ラウリルジエタノールアミド、ミリスチルジエタノールアミド、パルミチル ジエタノールアミド、などが挙げられる。これらのうちでも、ヒドロキシアルキル基を有す
るアミンィ匕合物またはアミド化合物が好ましく用いられる。
[0107] 上記のような親水性安定剤の配合量は、本発明で使用される脂環族構造を有する 重合体 100質量部に対して、好ましくは 0.0001〜: LO質量部、さらに好ましくは 0. 05 〜5質量部、特に好ましくは 0. 1〜3質量部である。上記の量で用いることにより、温 度や湿度変化における光線透過率の低下や、微小なクラックの発生を防止すること ができ、該重合体の持つ良好な光学性能を損なうことがない。
[0108] [その他の安定剤]
本発明で用いる榭脂組成物には、上述の成分に加えてさらに、本発明の光学部品 の良好な特性を損なわない範囲で、公知の親水性安定剤、耐候安定剤、耐熱安定 剤、帯電防止剤、難燃剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、天然油 、合成油、ワックス、有機または無機の充填剤などが配合されていてもよい。
[0109] たとえば、任意成分として配合される耐候安定剤は、ベンゾフエノン系化合物、ベン ゾトリアゾール系化合物、ニッケル系化合物、ヒンダードアミン系化合物等の紫外線 吸収剤が挙げられる。
[0110] ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、具体的には、 2- (5—メチル 2 ヒ ドロキシフエ-ル)ベンゾトリアゾール、 2, 2 ヒドロキシ一 3, 5 ビス(α , α—ジメチ ルベンジル)フエ-ル、 2— (2,一ヒドロキシ一 5,一メチルーフエ-ル)ベンゾトリァゾ ール、 2— (2,—ヒドロキシ— 3,, 5,—ジ— t—ブチル—フエ-ル)ベンゾトリアゾール 、 2- (2,一ヒドロキシ一 3,一 t—ブチル一 5,一メチルーフエ-ル)一5 クロ口'ベン ゾトリァゾール、 2- (2,一ヒドロキシ一 3,, 5,一ジ一 t—ブチル一フエ-ル) 5 クロ 口 ·べンゾトリァゾール、 2- (2,一ヒドロキシ一 4,一n—オタトキシ 'フエ-ル)ベンゾト リアゾールなどや、市販されている Tinuvin 328、 Tinuvin PS (共に、チノく'ガイギ 一社製)、や SEESORB709 (2— (2,一ヒドロキシ一 5,一t—ォクチルフエ-ル)ベン ゾトリァゾール、白石カルシウム社製)などのベンゾトリアゾール誘導体などが例示さ れる。
[0111] ベンゾフエノン系紫外線吸収剤としては、具体的には、 2, 4ージヒドロキシ 'ベンゾ フエノン、 2 ヒドロキシー4ーメトキシ 'ベンゾフエノン、 2, 2'—ジヒドロキシー4ーメト キシ 'ベンゾフエノン、 2, 2,ージヒドロキシ 4, 4'ージメトキシ 'ベンゾフエノン、 2, 2
'—ジヒドロキシ一 4, 4'—ジメトキシ一 5—スルフォベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4 ーメトキシー 2'—力ノレボキシ 'ベンゾフエノン、 2 ヒドロキシー 4ーメトキシー 5—スノレ フォベンゾフエノン 'トリヒドレート、 2 ヒドロキシ 4 n オタトキシ ·ベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4—ォクタデシロキシ 'ベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4— n—ドデシ 口キシ.ベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4 ベンジロキシベンゾフエノン、 2, 2' , 4, 4 ,ーテトラヒドロキシ 'ベンゾフエノン、 2 ヒドロキシー4ードデシロキシ一べンゾフエノ ン、 2—ヒドロキシ一 4— (2—ヒドロキシ一 3—メタクリロキシ)プロポキシベンゾフエノン などや、 Uvinul 490 (2, 2,一ジヒドロキシ一 4, 4,一ジメトキシ 'ベンゾフエノンと他 の四置換べンゾフエノンの混合物、 GAF社製)、 Permyl B— 100 (ベンゾフエノン 化合物、 Ferro社製)などが例示される。
ヒンダードアミン系化合物としては、たとえば、 2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリ ジルステアレート、 1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチル— 4 ピベリジルステアレート、 2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリジルベンゾエー K N— (2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4 —ピペリジル)ドデシルコハク酸イミド、 1 - [ (3, 5—ジ第三ブチル—4—ヒドロキシフ ェ -ル)プロピオ-ルォキシェチル〕 2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピベリジルー( 3, 5 ジ第三ブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネート、ビス(2, 2, 6, 6—テ トラメチル 4 ピペリジル)セバケート、ビス(1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチル一 4 ピ ペリジル)セノケート、ビス(1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチル— 4 ピペリジル)—2 ブ チル— 2— (3, 5 ジ第三ブチル—4 ヒドロキシベンジル)マロネート、 N, N'—ビ ス(2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリジル)へキサメチレンジァミン、テトラキス(2 , 2, 6, 6—テトラメチル— 4 ピペリジル) 1, 2, 3, 4 ブタンテトラカルボキシレート 、テトラキス(1, 2, 2, 6, 6, —ペンタメチル— 4 ピペリジル)—1, 2, 3, 4 ブタン テトラカルボキシレート、ビス(2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリジル) 'ジ(トリデシ ル)— 1, 2, 3, 4 ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチル —4 ピペリジル) 'ジ(トリデシル)— 1, 2, 3, 4 ブタンテトラカルボキシレート、 3, 9 —ビス〔1, 1—ジメチル一 2— {トリス(2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ピベリジルォキ シカルボ-ルォキシ)ブチルカルボ-ルォキシ}ェチル〕 2, 4, 8, 10—テトラォキ サスピロ〔5. 5〕ゥンデカン、 3, 9 ビス〔1, 1—ジメチル一 2— {トリス(1, 2, 2, 6, 6
ペンタメチル 4 ピペリジルォキシカルボニルォキシ)ブチルカルボニルォキシ } ェチル〕ー2, 4, 8, 10—テトラオキサスピロ〔5. 5〕ゥンデカン、 1, 5, 8, 12—テトラ キス〔4, 6 ビス {N— (2, 2, 6, 6—テトラメチル— 4 ピペリジル)ブチルアミノ}—1 , 3, 5 トリアジン一 2—ィル〕 1, 5, 8, 12—テトラァザドデカン、 1— (2 ヒドロキ シェチル)—2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピベリジノール Zコハク酸ジメチル縮合 物、 2 第三ォクチルァミノ一 4, 6 ジクロロ一 s トリァジン/ N, Ν'—ビス(2, 2, 6 , 6—テトラメチル一 4 ピペリジル)へキサメチレンジァミン縮合物、 Ν, N'—ビス(2 , 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリジル)へキサメチレンジァミン Ζジブロモェタン縮 合物、 2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーヒドロキシピペリジン Ν—ォキシル、ビス(2, 2, 6, 6—テトラメチルー Ν—ォキシルビペリジン)セバケート、テトラキス(2, 2, 6, 6 ーテトラメチルー Ν—ォキシピペリジル)ブタン 1, 2, 3, 4ーテトラカルボキシレート 、 3, 9 ビス(1, 1—ジメチル一 2— (トリス(2, 2, 6, 6—テトラメチル一 Ν—ォキシル ピベリジルー 4 ォキシカルボ-ル)ブチルカルボ-ルォキシ)ェチル)2, 4, 6, 10 —テトラォキサロスピロ〔5. 5〕ゥンデカン、 1, 6 ビス(2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ーピペリジルァミノ)へキサン Ζジブロモェタン重縮合物、 1, 6 ビス(2, 2, 6, 6— テトラメチル 4 ピペリジルァミノ)へキサン /2, 4 -ジクロロ 6 第三ォクチルァ ミノ s トリアジン重縮合物、 1, 6 ビス(2, 2, 6, 6—テトラメチル— 4 ピペリジル ァミノ)へキサン Ζ2, 4 -ジクロロ一 6 -モルホリノ一 s -トリアジン重縮合物等が挙げ られる。
また、任意成分として配合される耐熱安定剤としては、テトラキス [メチレン— 3— (3 , 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]メタン、 j8 (3, 5—ジ —tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオン酸アルキルエステル、 2, 2,ーォキ ザミドビス [ェチルー 3— (3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロビオネ ートなどのフエノール系酸ィ匕防止剤、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、 1, 2—ヒドロキシステアリン酸カルシウムなどの脂肪酸金属塩、グリセリンモノステアレー ト、グリセリンジステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトー ルジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレートなどの多価アルコール脂肪酸 エステルなどを挙げることができ、また、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファ
イト、フエ-ルー 4, 4,一イソプロピリデンジフエノールーペンタエリスリトールジフォス ファイト、ビス(2, 6 ジ tーブチルー 4 メチルフエ-ル)ペンタエリスリトールジフォ スフアイト、トリス(2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ル)フォスファイト等のリン系安定剤を使 用してちょい。
[0114] これらは単独で配合してもよいが、組み合わせて配合してもよい。たとえばテトラキ ス [メチレン一 3— (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]メ タンとステアリン酸亜鉛とグリセリンモノステアレートとの組み合わせなどを例示できる 。これらの安定剤は、 1種または 2種以上組み合わせて用いることができる。
また、プロセス酸ィ匕防止剤として、フエノール系酸ィ匕防止剤、リン系酸化防止剤、ィ ォゥ系酸ィ匕防止剤などが挙げられ、これらの中でもフ ノール系酸ィ匕防止剤、特にァ ルキル置換フエノール系酸化防止剤が好まし!/、。
[0115] フエノール系酸ィ匕防止剤としては、例えば、 2 第 3ブチルー 6—(3 第 3ブチルー 2 ヒドロキシ一 5—メチルベンジル) 4—メチルフエ-ルアタリレート、 2, 4 ジ一第 3アミルー 6— (1— (3, 5 ジ—第 3アミルー 2 ヒドロキシフエ-ル)ェチル)フエ-ル アタリレートなどの特開昭 63— 179953号公報ゃ特開平 1— 168643号公報に記載 されるアタリレート系フエノール化合物; 2, 6 ジー第 3ブチルー 4 メチルフエノール 、 2, 6 ジ—第 3ブチル—4 ェチルフエノール、ォクタデシルー 3— (3, 5 ジ—第 3ブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネート、 2, 2,ーメチレン ビス(4 メチル —6—第 3ブチルフエノール)、 4, 4,—ブチリデン—ビス(6—第 3ブチル—m—タレ ゾール)、 4, 4,ーチォビス(3—メチルー 6—第 3ブチルフエノール)、ビス(3—シクロ へキシル 2 ヒドロキシ一 5—メチルフエ-ル)メタン、 3, 9 ビス(2— (3— (3 第 3ブチルー 4ーヒドロキシー5 メチルフエ-ル)プロピオ-ルォキシ)—1, 1 ジメチ ルェチル)— 2, 4, 8, 10—テトラオキサスピロ [5, 5]ゥンデカン、 1, 1, 3 トリス(2 —メチルー 4 ヒドロキシ一 5 第 3ブチルフエニル)ブタン、 1, 3, 5 トリメチルー 2, 4, 6—トリス(3, 5—ジ一第 3ブチル 4—ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス( メチレン一 3— (3' , 5,一ジ一第 3ブチル 4,一ヒドロキシフエ-ルプロピオネート)メ タン [すなわち、ペンタエリスリメチルーテトラキス(3— (3, 5—ジ一第 3ブチル 4— ヒドロキシフエ-ルプロピオネート)]、トリエチレングリコールビス(3—(3—第 3ブチル
—4—ヒドロキシ一 5—メチルフエ-ル)プロピオネート)、トコフエノールなどのアルキ ル置換フエノール系化合物; 6—(4ーヒドロキシ—3, 5—ジー第 3ブチルァ-リノ) 2, 4 ビスォクチルチオ一 1, 3, 5 トリァジン、 6— (4 ヒドロキシ一 3, 5 ジメチル ァ-リノ)一 2, 4 ビスォクチルチオ一 1, 3, 5 トリァジン、 6— (4 ヒドロキシ一 3— メチル—5 第 3ブチルァ-リノ)— 2, 4 ビスォクチルチオ— 1, 3, 5 トリアジン、 2 ーォクチルチオ—4, 6 ビス一(3, 5 ジー第 3ブチルー 4ーォキシァ-リノ)一 1, 3 , 5—トリァジンなどのトリアジン基含有フエノール系化合物;などが挙げられ、これら の中でも、アタリレート系フエノール化合物やアルキル置換フエノール系化合物が好 ましぐアルキル置換フエノール系化合物が特に好ましい。更にテトラキス (メチレン 3—(3,, 5,一ジー第 3ブチルー 4,ーヒドロキシフエ-ルプロピオネート)メタンは而熱 性、安定性に優れ、好ましい。
[0116] ィォゥ系酸化防止剤は、例えば、ジラウリル 3, 3 チォジプロピオネート、ジミリスチ ル 3, 3,一チォジプロピオネート、ジステアリル 3, 3—チォジプロピオネート、ラウリル ステアリル 3, 3—チォジプロピオネート、ペンタエリスリトールーテトラキス—( —ラウ リル チォープロピオネート)、 3, 9 ビス(2 ドデシルチオェチル) 2, 4, 8, 10 —テトラオキサスピロ [5, 5]ゥンデカンなどを挙げることができる。
[0117] ラタトン系酸ィ匕防止剤は、ラタトン構造を含む化合物ものであれば特に限定はされ ないが、芳香族系のラタトン化合物が好ましい。この中でもべンゾフラノン骨格を有す るものがより好ましぐさらにァリール基を置換基としてフラン環の側鎖に有する 3—ァ リールべンゾフラン 2 オンがより好ましぐ一例として 5, 7 ジ一第三ブチルー 3 - (3、 4—ジ一メチルフエ-ル) 3Η—ベンゾフラン一 2—オンを挙げることができる
[0118] [榭脂組成物の製造方法]
本発明の榭脂組成物の製造方法は特に限定されず、公知の方法で製造すること ができる。具体的には、脂環族構造を有する重合体およびヒンダートアミン系化合物 、また目的に応じてリン系安定剤および親水性安定剤、さらに本発明の目的を損な わない範囲で上記その他の安定剤を添加して混合した後フラッシュ乾燥、または、各 成分をヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、メルトブレンダー、ホモミキサー等を用
いて混合した後、押出機を用いてペレツトイ匕することで、ペレット状の榭脂組成物とし て得ることができる。さらに、目的とする成形物の形状に応じて、射出成形法、押出成 形法、吹込成形法、真空成形法、スラッシュ成形法等により、成形物として得ることが できる。
[0119] (金属成分含有量)
本発明の榭脂組成物は、該榭脂組成物中に含まれる金属成分として、鉄原子 (Fe )の含有量が 5ppm以下であることが好まし 、。鉄原子の含有量につ!、ては公知の方 法により定量することができ、例えば原子吸光分析などを例示することができる。鉄原 子の含有量が 5ppmを超えて微量でも榭脂中に存在すると、著しく耐光性が低下し、 好ましくは lppm以下、最も好ましくは 0. 5ppm以下である。
[0120] (その他の金属成分)
その他の金属成分についても、榭脂の劣化を促進する可能性がある金属成分につ いては本発明の効果を妨げない範囲内に抑える必要があり、これら金属成分として は、例えばバナジウム、亜鉛、カルシウムなどが挙げられる。本発明においては、原 料、触媒、プロセス力 榭脂中に混入する金属を最小限とする必要があり、例えば塩 酸吸収剤として用いられるステアリン酸亜鉛等の亜鉛ィ匕合物にも榭脂劣化促進効果 がある。また、残留する金属触媒成分が少ないと透明性等の光学物性を損なうことが なく好ましい。
[0121] (全光線透過率および分光光線透過率)
本発明の榭脂組成物を光学用途に使用する場合、光線を透過させることが必須で あるので、光線透過率が良好であることが好ましい。光線透過率は用途に応じて分 光光線透過率または全光線透過率により規定される。
全光線、あるいは複数波長域での使用が想定される場合、全光線透過率が良いこ とが必要であり、反射防止膜を表面に設けていない状態での全光線透過率は 85% 以上、好ましくは 88〜93%である。全光線透過率が 85%以上であれば必要な光量 を確保することができる。全光線透過率の測定方法は公知の方法が適用でき、測定 装置等も限定されないが、例えば ASTM D1003に準拠して、熱可塑性、非晶性 榭脂を厚み 3mmのシートに成形し、ヘーズメーターを用いて、本発明の榭脂組成物
を成形して得られるシートの全光線透過率を測定する方法などが挙げられる。
[0122] また特定波長域のみで利用される光学系、たとえばレーザ光学系の場合、全光線 透過率が高くなくても、該波長域での分光光線透過率が良ければ使用することがで きる。この場合、使用波長における、反射防止膜を表面に設けていない状態での分 光光線透過率は好ましくは 85%以上、さらに好ましくは 86〜93%である。分光光線 透過率が 85%以上であれば必要な光量を確保することができる。また測定方法およ び装置としては公知の方法が適用でき、具体的には分光光度計を例示することがで きる。
[0123] また本発明の榭脂組成物からなる成形体は、 300nm〜450nmの波長、さら〖こ 39 0〜420nmの波長、特〖こ 400〜420nmの波長、例えばレーザー光の光線透過率に 優れる。波長 400nmにおける分光光線透過率が 85%以上、好ましくは 86〜93%で あり、且つ劣化を生じ難いことから、光学部品として使用した場合の光学性能の変化 が生じにくい。
尚、光学部品として用いる場合、公知の反射防止膜を表面に設けることにより、光 線透過率をさらに向上させることができる。
[0124] [光学部品]
本発明の榭脂組成物から得られる成形体は、 300nm〜450nmの範囲の光線透 過率に優れる。そのため、 300nm〜450nmの範囲の波長を含む光源を有する光学 系において、光学部品として用いることができる。光学部品とは光学系機器等に使用 される部品であり、具体的には、 UV用の検出装置に使用する分析セル、 UVカツトフ ィルタを使用しない撮像系に使用される光学部品、太陽電池用フィルタ一等が挙げ られる。
本発明の榭脂組成物カゝら得られる成形体は、さらに光学レンズや光学プリズムとし て、カメラの撮像系レンズ;顕微鏡、内視鏡、望遠鏡レンズなどのレンズ;眼鏡レンズ などの全光線透過型レンズ; CD、 CD-ROM, WORM (追記型光ディスク)、 MO ( 書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、 MD (ミニディスク)、 DVD (デジタルビ デォディスク)などの光ディスクのピックアップレンズ;レーザービームプリンターの f Θ レンズ、センサー用レンズなどのレーザー走査系レンズ;カメラのファインダ一系のプ
リズムレンズ;センサーレンズ、回折板、コリメータ、対物レンズ、ビームエキスパンダ 一、ビームシエイパーなどの光ピックアップ装置用レンズなどに、特に好適に用いるこ とができる。本発明の榭脂組成物から得られる成形体は、 390〜420nmの範囲の光 線透過率に特に優れるため、青紫色レーザー光源を用いた光ピックアップ装置用レ ンズとして好適に用いることができる。光ディスク用途としては、 CD、 CD-ROM, W ORM (追記型光ディスク)、 MO (書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、 MD ( ミニディスク)、 DVD (デジタルビデオディスク)などが挙げられる。その他の光学用途 としては、液晶ディスプレイなどの導光板;偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィ ルムなどの光学フィルム;光拡散板;光カード;液晶表示素子基板などが挙げられる。
[0125] 本発明の榭脂組成物は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、 フィルムまたはシート形状などに成形して、例えば上記の種々の形態で使用すること ができる。
光学部品を成型する方法としては特に限定されるものではなぐ公知の方法を用いる ことができ、その用途および形状にもよるが、射出成形法、押出成形法、吹込成形法 、真空成形法、スラッシュ成形法等が適用可能であるが、射出成形法が成形性、生 産性の観点力も好ましい。また、成形条件は使用目的、または成形方法により適宜 選択されるが、例えば射出成形における榭脂温度は、通常 150〜400°C、好ましくは 200〜350°C、より好ましくは 230〜330°Cの範囲で適宜選択される。
本発明の榭脂組成物は、低複屈折性、透明性、機械強度、耐熱性、低吸水性に優 れるため、種々の用途に使用でき、特に光ピックアップ装置に使用される光学部品に 好適に用いることができる。
[0126] [光路差付与構造]
光路差付与構造とは、光学部品の少なくとも一つの光学面に、該光学面を通過す る所定の光に対して予め定められた光路差を付与する機能を持つ構造である。
以下、ピックアップ装置に関する図 1にて、光路差付与構造をさらに詳細に説明す る。
本発明の榭脂組成物カゝら得られる成形体は光学部品として、第 1光源、前記第 2光 源および前記第 3光源の共通光路に配置され、回折構造を有する対物レンズ OBL
に使用される。そして、対物レンズに鋸歯状の回折構造を設けている。
[0127] これは光軸を中心として、同心円状に細かい段差を設けたものであり、隣り合う輪帯 を通過した光束は、所定の光路差を与えられる。そしてこの鋸歯のピッチ(回折パヮ 一)や深さ(ブレイズドィ匕波長)を設定することにより、「高密度な光ディスク」に対して は、第 1光源からの光束が 2次回折光による集光スポットとして形成され、 DVDに対 しては、第 2光源からの光束が 1次回折光による集光スポットとして形成されるようにな つている。
このように、回折次数が異なる光を利用することにより、各々の場合における回折効 率を高くすることができ、光量を確保することができる。
まだ CDに対しては、第 3光源からの光束を、 DVDと同じ次数の回折光にすること が好ましいが、これは適宜他の次数になるようにしても良い。この例では、 DVDと同 じ 1次の回折光として集光スポットを形成するようにして!/、る。
[0128] このような回折構造は、光路差付与構造の一例であるが、他に公知の「位相差付与 構造」や「マルチレベル構造」も採用することができる。
またここでは、光ディスクフォーマットの基板厚差にもとづく球面収差を補正する目 的で光路差付与構造が採用されているが、それだけでなぐ使用波長の波長差や、 使用波長の変動(モードホップ)に基づいて生じる収差の補正にももちろん使用可能 である。前者の場合は 50ナノメートル以上の波長差に基づ 、て生じる球面色収差の 補正であり、後者の場合は 5nm以内の微小な波長変動を補正する。
[0129] この例では、回折構造を対物レンズに設けた例を説明したが、コリメータやカツプリ ングレンズなどの他の光学部品に設けることはもちろん可能である。また屈折面、非 球面を有する光学部品に、このような素材を用いることが、もっとも好ましい。本発明 の榭脂組成物を用いることにより、従来ガラスでのみ実現できた長時間の使用が実 現できるようになった上、さらにガラスレンズでは不可能であった光路差付与構造を 有するレンズを容易に提供することができる。
[0130] [光ピックアップ装置]
光ピックアップ装置とは、光情報記録媒体に対して情報の再生および Zまたは記録 を行う機能を有する装置であって、光を出射する光源と、前記光の前記光情報記録
媒体への照射および zまたは前記光情報記録媒体で反射される光の集光を行なう 光学部品を備えたものである。光ピックアップ装置の仕様は限定されないが、本願発 明の効果を説明するために、図 1を参照して、光ピックアップ装置に使用される、本発 明の榭脂組成物力も得られる光学部品の例について説明する。
[0131] 図 1では、使用波長が 405nmのいわゆる青紫色レーザー光源を用いた「高密度な 光ディスク」、 DVD、 CDの 3フォーマット互換の光ピックアップ装置をターゲットとして おり、第 1光情報記録媒体として保護基板厚 tlが 0. 6mmの「高密度な光ディスク」、 第 2光情報記録媒体として保護基板厚 t2が 0. 6mmの DVD、第 3光情報記録媒体 として保護基板厚 t3が 1. 2mmの CDを想定している。それぞれ Dl、 D2、 D3が基板 厚を示している。
図 1は、本願発明に関わる光ピックアップ装置を示す模式図である。
レーザーダイオード LD1は、第 1光源であり、波長 λ 1が 405nmの青紫色レーザー が用いられるが、波長が 390nm〜420nmである範囲のものを適宜採用することが できる。 LD2は、第 2光源であり、波長え 2が 655nmの赤色レーザーが用いられるが 、波長が 630nm〜680nmである範囲のものを適宜採用することができる。 LD2は、 第 3光源でもあり、波長え 3が 780nmの赤外レーザーが用いられる力 波長が 750η m〜800nmである範囲のものを適宜採用することができる。
[0132] レーザーダイオード LD2は、第 2の光源(DVD用の光源)、第 3の光源(CD用の光 源)の、 2つの発光点を同一のパッケージに収めた、いわゆる 2レーザー 1パッケージ の光源ユニットである。
このパッケージのうち、第 2の光源を光軸上に位置するように調整するので、第 3の 光源については光軸上力 やや離れた処に位置する。そのため、像高が生じてしま うものの、この特性を改善するための技術も既に知られており、それらの技術を必要 に応じて適用することができる。ここでは補正板 DPを用いることによりその補正を行つ ている。補正板 DPにはグレーティングが形成されており、それによつて光軸力ものズ レを補正する。
なお LD2から実線で描かれているのが DVD用の光源光束であり、点線で描かれ ているのが CD用の光源光束である。ビームスプリッタ BS1は LD1および LD2から入
射する光源光束を対物レンズ OBLの方向へ透過または反射させる。
[0133] LD1から投光された光束は、ビーム品位向上のため、ビームシエイパー BSLに入 射してから上述の BS1を経て、コリメータ CLに入射する。これによつて無限平行光に コリメートされたのち、ビームスプリッタ BS3、さらに凹レンズと凸レンズとから構成され るビームエキスパンダー BEを経て対物レンズ OBLに入射する。そして第 1光情報記 録媒体の保護基板を介して情報記録面上に集光スポットを形成する。そして情報記 録面上で反射したのち、同じ経路をたどって、コリメータ CLを通過してから、ビームス プリッタ BS3によって進行方向を変換された後、センサーレンズ SL1を経てセンサー S1に集光する。このセンサーによって光電変換され、電気信号となる。
なおビームエキスパンダー BEと対物レンズ OBLとの間には図示しない λ Ζ4(四分 の一波長)板が配置されており、行きと帰りとで丁度半波長分位相がずれて偏光方向 が変わる。このため復路の光束は BS3によって進行方向が変わる。
さてビームシヱイパー BSLは、光軸に対して垂直なある方向と、この方向に対して 垂直な方向の、 2つの方向に対してそれぞれ異なった曲率を有して 、る(光軸につ!ヽ て、回転非対象な曲率を有している)。
[0134] 光源から出射された光束は、半導体光源の構造上、光軸に対して垂直である方向 と、この方向に対して垂直な方向の、 2つの方向に対してそれぞれ発散角が異なって おり、光軸方向力も見て楕円状のビームとなっている。このままでは光ディスク用の光 源光束として好ましくないため、ビームシエイパー BSLによって各々の方向に異なつ た屈折作用を与えることにより、出射光束が略円形断面のビームとなるようにしている 。またここでは LD1の光路中にビームシエイパー BSLを配置している力 LD2の光 路に配置することも当然可能である。
LD2から投光された光束も、 LD1の場合と同様に、光ディスク (第 2光情報記録媒 体、第 3光情報記録媒体)に集光スポットを形成し、反射して最終的にセンサー S2に 集光する。 BS1によって光路が一致するようにせしめられているだけであって、 LD1 の場合と変わりはない。
[0135] なお対物レンズ OBLは、この図では単一のレンズであるが、必要に応じて複数の 光学部品から構成されるようにしてもよ!ヽ。
本発明の榭脂組成物からなる成形体は低複屈折性を有することから、これらの構成 の装置に最適に使用できることが明らかである。
[0136] [ァクチユエータ]
光ピックアップ装置に関する図 1において、各 LD力 投光された光束が光ディスクの 保護基板を介して情報記録面に集光する状態が描かれて 、るが、再生 Z記録する 光ディスクによって、基本的な位置がァクチユエータによって切り替わり、その基準位 置からピント合わせ (フォーカシング)を行う。
[0137] そして各々の光情報記録媒体の保護基板厚、さらにピットの大きさにより、対物レン ズ OBLに要求される開口数も異なる。ここでは、 CD用の開口数は 0. 45、 DVDおよ び「高密度な光ディスク」の開口数は 0. 65としている。ただし、 CDについては 0. 43 〜0. 50、 DVDについては 0. 58〜0. 68の範囲で適宜選択可能である。なお IRは 不要光をカットするための絞りである。
また対物レンズ OBLには平行光が入射している力 コリメートせずに、有限発散光 が入射するような構成であってもよ 、。
[0138] 本発明の榭脂糸且成物を用いることにより、従来ガラスでのみ実現できた長時間の使 用が実現できるようになった上、さらにァクチユエータ等による駆動に必要なトルクが 、ガラスレンズに比べ大幅に軽減できることが明らかである。
[0139] (実施例)
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明する力 本発明はこれらの 実施例に限定されるものではない。また実施例および比較例において、各性状の測 定および物性測定方法は以下の方法で実施した。
まず、使用したヒンダートアミン系化合物の合成例を示す。また融点は、試料をキヤ ピラリーに 2〜3mm程度の厚さに採取し、浴液中で加熱した時の融け終わりの温度 を示す。
[0140] (合成例 1)
化学式 [9]で表わされる化合物の合成。
[0142] N, N—ビス(3—ァミノプロピル)メチルァミン 14.5g、 2—クロ口一 4, 6—ビス(N—
(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン— 4—ィル)ブチルァミノ)— 1, 3, 5—トリアジン 105. lg、炭酸カリウム 30.4gの 1, 3—ジメチル— 2—イミダゾリジノン(DMI) 600m 1溶液を 100°Cで 17時間攪拌した。さらに N, N—ビス(3—ァミノプロピル)メチルアミ ン 1.7gを溶液に追加し、 100°Cで 12時間攪拌した。室温まで放冷後に水 500mlを 加え、酢酸ェチル 700mlで抽出した。分液により得られた有機層を水 500mlで 2回、 飽和食塩水 50mlで 1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、 濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物 75.2gを 白色固体として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.89-0.98(12H、 m)、 1.05— 1.43(62H、 m)、 1.
3
43-1.76(22H、 m)、 2.19(3H、 s)、 2.40(4H、 t、J = 6.8Hz)、 3.30— 3.4
4(12H、 m)、 5.18(4H、 br)
MS (FD, m/z) :1144
融点: 85°C
[0143] (合成例 2)
化学式 [10]で表わされる化合物の合成。
[0144] (ィ匕 29)
[1 0]
[0145] (1)N, N—ビス(2—シァノエチル)へキシルァミンの合成
へキシルァミン 15.5gの水溶液(150ml)に、室温下アクリロニトリル 20. lgを 0.5 時間かけて滴下し、その後 70°Cで 3時間撹拌した。室温まで放冷後、酢酸ェチル 15 Omlを加えて抽出した。分液により得た有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した 後、溶媒を留去して標題ィ匕合物 31.4gを無色油状物として得た。
XH NMR(CDC1 ): δ =0.89(3H、 t、J = 6.5Hz), 1.23— 1.35(6H、 m)、 1
3
.35-1.50(2H、 m)、 2.38— 2.55(6H、 m)、 2.86(4H、 t、 6.8Hz)
[0146] (2)N, N—ビス(3—ァミノプロピル)へキシルァミンの合成
オートクレーブに N, N—ビス(2—シァノエチル)へキシルァミン 31.0g, RaneyCo 4.65g、 1, 4—ジォキサン 150mlを装入し、水素初気圧 9. lMPa、 110。Cで 2時間 水素添加反応を行った。触媒を濾去後、得られた濾液を濃縮乾固することにより、標 題化合物 32.4gを淡赤色油状物として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.88(3H、 t、J = 6.6Hz), 1.26— 1.34(6H、 m)、 1
3
.34-1.50(2H、 m)、 1.50—1.69(4H、 m)、 2.35— 2.47(6H、 m)、 2.67 -2.79(4H、 m)
GC-MS(m/z) :215
[0147] (3)化学式 [10]で表される化合物の合成
N, N—ビス(3—ァミノプロピル)へキシルァミン 21.5g、 2—クロ口一 4, 6—ビス(N -(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン— 4—ィル)ブチルァミノ)— 1, 3, 5—トリアジ ン 112.9g、炭酸カリウム 30.4gの 1, 3—ジメチル— 2—イミダゾリジノン(DMI) 100 0ml溶液を 100°Cで 14時間攪拌した。さらに N, N—ビス(3—ァミノプロピル)へキシ ルァミン 3.2gを溶液に追加し、 100°Cで 11時間攪拌した。室温まで放冷後に水 50 0mlを加え、酢酸ェチル 700mlで抽出した。分液により得られた有機層を水 500ml で 2回、飽和食塩水 30mlで 1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を 留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物 5 7.0gを白色固体として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.84-0.94(15H、 m)、 1.05— 1.28(70H、 m)、 1.
3
28-1.73(22H、 m)、 2.35(2H、 t、J = 7.6Hz)、 2.46(4H、 t、J = 6.4Hz)、 3
. 29- 3. 41 (12H m)、 5. 15 (4H br)
MS (FD, m/z) : 1214
融点: 72°C
[0148] (合成例 3)
化学式 [11]で表わされる化合物の合成。
[0149] (ィ匕 30)
[0150] (1) N, N—ビス(2—シァノエチル)ドデシルァミンの合成
1—アミノドデカン 27. 8gのエタノール溶液(150ml) に、室温下アクリロニトリル 3 9. 8gを 0. 5時間力けて滴下し、その後、酢酸 22. 5gを 0. 5時間力けて滴下し、 77 °Cで 10時間攪拌した。室温まで放冷後に水 150ml 28%アンモニア水 22. 8gを加 え、酢酸ェチル 330mlで抽出した。分液により得た有機層を水 100ml、飽和食塩水 50mlで 2回洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を留去後、濃縮残渣 をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題ィ匕合物 39. 7gを白色固体と して得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0. 90 (3H t J = 6. 5Hz) , 1. 21— 1. 32 (18H m)、 1
3
. 32- 1. 51 (2H m)、 2. 52— 2. 59 (6H m)、 2. 82 (4H t 6. 5Hz)
[0151] (2) N, N—ビス(3—ァミノプロピル)ドデシルァミンの合成
オートクレーブに N, N—ビス(2—シァノエチル)ドデシルァミン 19. 7g, RaneyCo 1. 97g 1, 4—ジォキサン 80mlを装入し、水素初気圧 8. 2MPa 120 Cで 2時間 水素添加反応を行った。触媒を濾去後、得られた濾液を濃縮乾固することにより、標 題化合物 21. 0gを淡赤色油状物として得た。本操作をもう一度行うことにより、計 40 . 8gの標題ィ匕合物である淡赤色油状物を得た。
Ή NMR(CDC1 ) : δ =0.88(3Η、 t、J = 6.5Hz), 1.26— 1.37(18Η、 m)、 1
3
.37-1.47(2Η、 m)、 1.53— 1.68(4Η、 m)、 2.35— 2.47(6Η、 m)、 2.72 -2.85(4Η、 m)
GC-MS(m/z) :299
[0152] (3)化学式 [11]で表される化合物の合成
N, N—ビス(3—ァミノプロピル)ドデシルァミン 30. Ogゝ 2—クロ口一 4, 6—ビス(N -(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン— 4—ィル)ブチルァミノ)— 1, 3, 5—トリアジ ン 107.7g、炭酸カリウム 30.4gの 1, 3—ジメチル— 2—イミダゾリジノン(DMI) 700 ml溶液を 100°Cで 16時間攪拌した。室温まで放冷後に水 500mlを加え、酢酸ェチ ル 700mlで抽出した。分液により得られた有機層を水 500mlで 2回、飽和食塩水 50 mlで 1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題ィ匕合物 60.7gを白色固体として 得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.83-0.89(15H、 m)、 1.11— 1.25(82H、 m)、 1.
3
25-1.69(22H、 m)、 2.32(2H、 t、J = 7.6Hz), 2.43(4H、 t、J = 6.4Hz), 3
.27-3.37(12H、m)、5.24(4H、br)
MS (FD, m/z) :1298
融点: 60°C
[0153] (合成例 4)
化学式 [12]で表わされる化合物の合成。
[0154] (化 31)
[0155] (1)N, N—ビス(2
ステアリルアミン 41. 7gのエタノール溶液(150ml) に、室温下アクリロニトリル 40 . 2gを 0. 5時間力けて滴下し、その後、酢酸 22. 5gを 0. 5時間力けて滴下し、 77°C で 10時間攪拌した。室温まで放冷後に水 200ml、 28%アンモニア水 22. 8gを加え 、酢酸ェチル 500mlで抽出した。分液により得た有機層を水 100ml、飽和食塩水 50 mlで洗浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を留去後、濃縮残渣をイソプ 口ピルアルコールを溶媒として再結晶化し、標題ィ匕合物 42. 4gを白色固体として得 た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0. 88 (3H、 t、J = 6. 6Hz) , 1. 20—1. 38 (30H、 m)、 1
3
. 38- 1. 47 (2H、 m)、 2. 43— 2. 55 (6H、 m)、 2. 86 (4H、 t、 6. 9Hz)
[0156] (2) N, N—ビス(3 ァミノプロピル)ォクタデシルァミンの合成
オートクレーブに N, N ビス(2 シァノエチル)ォクタデシルァミン 42. lg, Rane yCo3. 26g、 1, 4 ジォキサン 150mlを装入し、水素初気圧 8. 0MPa、 110。Cで 2 時間水素添加反応を行った。触媒を濾去後、得られた濾液を濃縮乾固することにより 、標題ィ匕合物 42. 3gを白色固体として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0. 88 (3H、 t、J = 6. 6Hz) , 1. 26— 1. 36 (30H、 m)、 1
3
. 36- 1. 47 (2H、 m)、 1. 53— 1. 66 (4H、 m)、 2. 35— 2. 50 (6H、 m)、 2. 72 - 2. 79 (4H、 m)
GC— MS (m/z) : 383
[0157] (3)化学式 [12]で表される化合物の合成
N, N—ビス(3 ァミノプロピル)ォクタデシルァミン 38. 4g、 2 クロ口一 4, 6 ビ ス(N—(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジンー4 ィル)ブチルァミノ) 1, 3, 5 ト リアジン 107. 7g、炭酸カリウム 30. 4gの 1, 3 ジメチル— 2—イミダゾリジノン(DMI ) 900ml溶液を 100°Cで 16時間攪拌した。さらに N, N ビス(3 ァミノプロピル)ォ クタデシルァミン 1. 5gを溶液に追加し、 100°Cで 11. 5時間攪拌した。室温まで放冷 後に水 500mlをカ卩え、酢酸ェチル 700mlで抽出した。分液により得られた有機層を 水 500mlで 2回、飽和食塩水 50mlで 1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した 。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題ィ匕 合物 74. 2gを白色固体として得た。
Ή NMR(CDC1 ) : δ =0.85— 0.94(15Η、 m)、 1.05— 1.33(94Η、 m)、 1.
3
33-1.73(22Η、 m)、 2.35(2Η、 t、J = 7.3Hz), 2.464Η、 t、J = 6.4Ηζ), 3.
29-3.43(12Η、 m)、 5.26(4Η、 br)
MS (FD, m/z) :1382
融点: 46°C
[0158] (合成例 5)
化学式 [ 13]で表される化合物の合成。
[0159] (ィ匕 32)
[0160] N, N—ビス(3—ァミノプロピル)ブチルァミン 12.4g、 2—クロ口一 4, 6—ビス(N—
(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン— 4—ィル)ブチルァミノ)— 1, 3, 5—トリアジン 64.4g、炭酸カリウム 10. Ogの N, N—ジメチルホルムアミド(DMF) 150ml溶液を 1 20°Cで 8時間攪拌した。室温まで放冷後に水 450mlをカ卩え、酢酸ェチル 600mlで 抽出した。分液により得られた有機層を水 450mlで 2回、飽和食塩水 30mlで 1回洗 浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラ ムクロマトグラフィーにより精製し、標題ィ匕合物 62. lgを白色固体として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.80-0.94(15H、 m)、 1.12(24H、 s)、 1.27(24H
3
、 s)、 1. 16-1.78(36H、 m)、 1.70(4H、 t、J = 6.6Hz), 2.29— 2.40(2H、 m)、 2.45(4H、 t、J = 6.6Hz)、 3.16— 3.38(8H、 m)、 3.39(4H、 dd、J = 5. 9、 11.9Hz), 5.06-5.40(4H、 m)
MS (FD, m/z) :1186
融点: 78°C
[0161] (合成例 6)
化学式 [14]で表される化合物の合成。
[0162] (化 33)
[0163] N, N—ビス(3—ァミノプロピル)メチルァミン 4.49g、 2—クロ口一 4, 6—ビス(N—
(1, 2, 2, 6, 6—ペンタメチルピペリジン— 4—ィル)ブチルァミノ)— 1, 3, 5—トリア ジン 33.5g、炭酸カリウム 8.21gの N, N—ジメチルホルムアミド(DMF) 75ml溶液 を 120°Cで 7時間攪拌した。室温まで放冷後に水 200mlを加え、酢酸ェチル 300ml で抽出した。分液により得られた有機層を水 200mlで 2回、飽和食塩水 30mlで 1回 洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲル力 ラムクロマトグラフィーにより精製し、標題ィ匕合物 21.2gを白色固体として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.90(12H、 t、J = 6.9Hz), 1.09(24H、 s)、 1.15(2
3
4H、 s)、 1. 10-1.65(32H、 m)、 1.72(4H、 t、J = 6.9Hz), 2.18(3H、 s)、 2
.24(12H、 s)、 2.38(4H、 t、J = 6.9Hz)、 3.20— 3.40(8H、 m)、 3.38(4H、 dd、J = 6.9、 12.9Hz)、 5.00— 5.28(4H、 m)
MS (FD, m/z) :1200
融点: 94°C
[0164] (合成例 7)
化学式 [ 15]で表される化合物の合成。
[0165] (化 34)
[0166] N, N—ビス(3—ァミノプロピル)ブチルァミン 8. 44g、 2—クロ口一 4, 6—ビス(N— (1, 2, 2, 6, 6—ペンタメチルピペリジン— 4—ィル)ブチルァミノ)— 1, 3, 5—トリア ジン 50. 8g、炭酸カリウム 12. 4gの N, N—ジメチルホルムアミド(DMF) 100ml溶 液を 120°Cで 7時間攪拌した。室温まで放冷後に水 400mlをカ卩え、酢酸ェチル 500 mlで抽出した。分液により得られた有機層を水 400mlで 2回、飽和食塩水 30mlで 1 回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲル カラムクロマトグラフィーにより精製し、標題ィ匕合物 35. 4gを白色固体として得た。 ¾ NMR(CDC1 ): δ =0. 82-0. 96 (15H、 m)、 1. 09 (24H、 s)、 1. 15 (24H
3
、 s)、 1. 16- 1. 70 (36H、 m)、 1. 70 (4H、 t、J = 6. 6Hz) , 2. 24 (12H、 s)、 2.
31 - 2. 40 (2H、 m)、 2. 45 (4H、 t、J = 6. 6Hz)、 3. 18— 3. 38 (8H、 m)、 3. 38
(4H、 dd、J = 6. 6、 12. 5Hz)、4. 95— 5. 35 (4H、 m)
MS (FD, m/z) : 1242
融点: 86°C
[0167] (合成例 8)
化学式 [ 16]で表される化合物の合成の合成。
[0168] (ィ匕 35)
[0169] 合成例 2と同様にして得られた N, N—ビス(3—ァミノプロピル)へキシルメチルアミ ン 28. 8g、 2—クロ口— 4, 6—ビス(N— (1, 2, 2, 6, 6—ペンタメチルピペリジン— 4 —ィル)ブチルァミノ)— 1, 3, 5—卜リアジン 120. lg、炭酸カリウム 76. 5gの 1, 3— ジメチル— 2—イミダゾリジノン(DMI) 500ml溶液を 100°Cで 12時間攪拌した。室温 まで放冷後に水 500mlを加え、酢酸ェチル 700mlで抽出した。分液により得られた 有機層を水 500mlで 2回、飽和食塩水 30mlで 1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで 乾燥した。溶媒を留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
、標題ィ匕合物 68.4gを白色固体として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.78-0.96(15H、 m)、 1.09(24H、 s)、 1. 15(24H
3
、 s)、 1. 10-1.76(40H、 m)、 1.70(4H、 t、J = 6.6Hz), 2.24(12H、 s)、 2.
28-2.40(2H、 m)、 2.45(4H、 t、J = 6.6Hz)、 3.20— 3.40(8H、 m)、 3.38
(4H、 dd、J = 6.6、 12.5Hz)、 5.00— 5.28(4H、 m)
MS (FD, m/z) :1270
融点: 81°C
[0170] (合成例 9)
化学式 [17]で表される化合物の合成。
[0171] (化 36)
[0172] 合成例 3と同様にして得られた N, N—ビス(3—ァミノプロピル)ドデシルァミン 12.
2g、 2—クロ口一 4, 6—ビス(N— (1, 2, 2, 6, 6—ペンタメチルピペリジン一 4—ィル )ブチルァミノ)— 1, 3, 5—トリアジン 45. lg、炭酸カリウム 11. lgの N, N—ジメチル ホルムアミド (DMF) 100ml溶液を 120°Cで 7時間攪拌した。室温まで放冷後に水 3 50mlをカ卩え、酢酸ェチル 400mlで抽出した。分液により得られた有機層を水 350ml で 2回、飽和食塩水 30mlで 1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を 留去後、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題化合物 23 .3gを白色固体として得た。
¾ NMR(CDC1 ): δ =0.80-0.96(15H、 m)、 1.09(24H、 s)、 1. 15(24H
3
、 s)、 1. 10-1.70(52H、 m)、 1.70(4H、 t、J = 6.6Hz), 2.24(12H、 s)、 2. 29-2.39(2H、 m)、 2.45(4H、 t、J = 6.6Hz)、 3. 18— 3.40(8H、 m)、 3.38 (4H、 dd、J = 6.6、 12.5Hz)、 5.00— 5.32(4H、 m)
MS (FD, m/z) :1354
融点: 67°C
[0173] 次に、各物性値の測定方法は以下の通りである。
[溶融流れ指数 (MFR) ]
ASTM D1238に準じ 260。C、荷重 2. 16kgで測定。
[0174] [軟ィ匕温度 (TMA) ]
デュポン社製 Thermal Mechanical Analyzerを用いて、厚さ lmmのシートの 熱変形挙動により測定した。シート上に石英製針を載せて荷重 49gをかけ、速度 5°C Z分で昇温させ、針がシートに 0. 635mm侵入した温度を軟化温度とした。
[0175] [ヘイズ (HAZE) ]
シリンダー温度 260°C、金型温度 125°Cに設定された射出成形機 (東芝機械 (株) 製 IS— 50)により、射出成形された 45πιπι φ X 3mm (厚さ)の光学面を持つテストピ ースを用い、 ASTM D1003に基づいて測定した。
[0176] [鉄原子の含有量]
榭脂組成物 lOOgを蒸発皿に計りとり、電気炉にて、空気中 400°Cで 30分間加熱し て灰分を得た。この灰分中の鉄原子の量を、原子吸光分析により測定することにより 、榭脂組成物中の鉄原子の量を求めた。
[0177] [波長 400nmでの分光光線透過率 (T400) ]
シリンダー温度 260°C、金型温度 125°Cに設定された射出成形機 (東芝機械 (株) 製 IS— 50)により、射出成形された 45πιπι φ X 3mm (厚さ)の光学面を持つテストピ ースを用い、分光光度計を用いて、波長 400nmにおける光線透過率を測定した。
[0178] [環境試験(Δヘイズ) ]
上記ヘイズ測定の後、角板を温度 80°C、相対湿度 90%の雰囲気下に 48時間放 置した後、再度ヘイズ (Haze)を測定し、環境試験前に比較してのヘイズの増分を Δ ヘイズとした。
[0179] [青紫色レーザ光での信頼性評価]
シリンダー温度 260°C、金型温度 125°Cに設定された射出成形機 (東芝機械 (株) 製 IS— 50)により、射出成形された 45πιπι φ X 3mm (厚さ)の光学面を持つテストピ ースを用い、レーザーダイオード(ネオアーク社製 TC4030S—F405ASU)を用い
て波長 405± 10nm、 200mWZcm2の青紫色レーザ光を 60°Cの恒温槽に載置し たテストピースの中心に 1000時間照射した。照射前、および照射 250時間毎に 100 0時間まで、テストピースの中心 3mm φの波面 RMS値を測定し、経時変化を評価し た。 RMS値の測定はレーザ干渉計 (ザィゴ社製 PTI 250RS (直線偏光仕様) )を使 用した。また、実体顕微鏡によりテストピース照射部位を観察し、白濁および異物付 着の有無を確認した。結果は次の記号で表記した。
(RMS値の評価)
〇:RMS値変化無し。
△ :RMS値変化率が 0. 01 λ未満で観測された。
X: RMS値が 0. 01 λ以上変化している。または、測定不能となった。
(白濁および異物付着の評価)
▽:白濁および異物の付着が顕著に観察された。
[0180] 実施例および比較例で使用したヒンダートアミン系化合物、リン系安定剤および親 水性安定剤等は、以下の化合物を使用した。
(化合物 Α)
2, 6, 6—テトラメチノレー 4ーピペリジノーノレとトリデシノレアノレコーノレと 1, 2, 3, 4ーブ タンテトラカルボン酸との縮合物 (旭電ィ匕工業株式会社製、商品名アデカスタブ LA -67)
(化合物 Β)
2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピベリジルー C12— 21および C18不飽和脂肪酸ェ ステル(サイテック社製、商品名 CYASORB UV- 3853)
(化合物 C)
下記の化学式 [13]で表わされる化合物(BASF製、商品名 Uvinul 5050H (分 子量 3500、融点 125°C) )
[0181] (化 37)
ここで、 nは重合度を示示す。
(化合物 D)
ビス(2, 2,, 6, 6,一テトラメチル一 4ーピペリジル)セバケート(チバガイギ一社製、 商品名 TINUVIN 770)
(化合物 E)
合成例 1により得られた、化学式 [9]で表わされる化合物。
(化合物 F)
合成例 2により得られた、化学式 [ 10]で表わされる化合物。
(化合物 G)
合成例 3により得られた、化学式 [11]で表わされる化合物。
(化合物 H)
合成例 4により得られた、化学式 [12]で表わされる化合物。
(化合物 I)
合成例 5によって得られた化学式 [13]で表される化合物。
(化合物 J)
合成例 6によって得られた化学式 [ 14]で表される化合物。
(化合物 K)
合成例 7によつて得られた化学式 [15]で表される化合物。
(化合物 L)
合成例 8によって得られたィ匕学式 [16]で表される化合物。
(化合物 M)
合成例 9によって得られた化学式 [ 17]で表される化合物。
[0182] (リン系安定剤 A)
トリス [2— [ [2, 4, 8, 10—テトラー tーブチルジベンゾ [d, f] [l, 3, 2]ジォキサフ ォスフエフィン一 6—ィル]ォキシ]ェチル]ァミン(チバガイギ一社製、商品名 IRGAF OS12)
(リン系安定剤 B)
6-〔3— (3— t—ブチル—4—ヒドロキシ— 5—メチルフエ-ル)プロポキシ〕—2, 4 , 8, 10—テトラキスー tーブチルジベンゾ〔d, f〕〔1. 3. 2〕ジォキサフォスフエピン(住 友化学株式会社製、商品名スミライザ一 GP)
[0183] (親水性安定剤)
ペンタエリスリトールモノステアリルエステル (花王株式会社製、商品名ェキセパー ノレ PE— MS)
[0184] [榭脂組成物 Aの製造方法]
(触媒の調製)
VO (OC H ) C1をシクロへキサンで希釈し、バナジウム濃度が 6. 7ミリモル ZL—
2 5 2
シクロへキサンであるバナジウム触媒を調製した。ェチルアルミニウムセスキクロリド(
A1(C H ) C1 )をシクロへキサンで希釈し、アルミニウム濃度が 107ミルモル ZL
2 5 1. 5 1. 5
一へキサンである有機アルミニウム化合物触媒を調製した。
(重 合)
攪拌式重合器(内径 500mm、反応容積 100L)を用いて、連続的にエチレンとテト ラシクロ [4. 4. 0. I2' 5. I7' 10]— 3—ドデセンとの共重合反応を行った。
この共重合反応を行う際には、前記方法によって調製されたバナジウム触媒を、重合 溶媒として用いられた重合器内のシクロへキサンに対するバナジウム触媒濃度が 0. 6ミリモル ZLになるような量で重合器内に供給した。
また、有機アルミニウム化合物であるェチルアルミニウムセスキクロリドを、 A1ZV= 8. 0になるような量で重合器内に供給した。重合温度を 11°Cとし、重合圧力を 1. 8k g/cm2Gとして連続的に共重合反応を行った。
(脱 灰)
重合器より抜出した、エチレン'テトラシクロ [4. 4. 0. I2' 5. I7' 10]— 3—ドデセン共 重合体溶液を、水および pH調節剤として、濃度が 25重量%の NaOH溶液をこの共 重合体溶液に添加し重合反応を停止させ、また、共重合体中に存在する触媒残渣 をこの共重合体溶液中から除去 (脱灰)した。
前記脱灰処理を行った、エチレン.テトラシクロ [4. 4. 0. I2' 5. I7' 10]— 3—ドデセ ン共重合体のシクロへキサン溶液に、必要に応じて、上記のリン系安定剤および親 水性安定剤を表 1に記載の量で添加した後、加熱工程にて熱源として 20kgZcm2G の水蒸気を用いた二重管式加熱器 (外管径 2B、内管径 3Z4B、長さ 21m)に、シク 口へキサン溶液中の共重合体の濃度を 5重量%とした前記共重合体のシクロへキサ ン溶液を 150kgZHの量で供給して、 180°Cに加熱した。
次 、で、熱源として 25kgZcm2Gの水蒸気を用いた二重管式フラッシュ乾燥器 (外 管径 2B、内管径 3Z4B、長さ 27m)とフラッシュホッパー(容積 200L)とを用いて、前 記加熱工程を経た前記共重合体のシクロへキサン溶液カゝら重合溶媒であるシクロへ キサンとともに大半の未反応モノマーを除去することでフラッシュ乾燥された溶融状 態の環状ォレフィンランダム共重合体を得た。次いで、ベント付二軸混練押出機を用 V、、上記の溶融状態の環状ォレフィンランダム共重合体を押出機の榭脂装入部より 装入した後、ベント部分より揮発物を除去する目的で、トラップを介し真空ポンプで吸 引しつつ、ベント部よりも下流側のシリンダー部に、前記の化合物 A〜Mを表 1に記 載の量で添加し、押出機のベント部より下流側で混練して混合した。次いで、押出機 出口に取り付けられたアンダーウォーターペレタイザ一によりペレツトイ匕し、得られた ペレットを温度 100°Cの熱風にて 4時間乾燥した。
尚、表 1中のリン系安定剤、親水性安定剤および化合物 A〜Mの添加量は、重合 体 100質量部に対する添加量 (質量部)である。
[榭脂組成物 Bの製造方法]
窒素置換した耐圧容器に、スチレン 7. 68kgとイソプレン 0. 32kgを添カロして混合 攪拌し、脱水シクロへキサン 32kg、混合モノマー 0. 4kg及びジブチルエーテル 0. 0 lkgを仕込み、 50°Cで撹拌しながら n—ブチルリチウムのへキサン溶液 (濃度 15%) 0. 0454kgを添加して重合させた。重合開始力も 0. 5時間経過後、混合モノマー 7.
6kgを 1時間かけて連続的に添カ卩した。混合モノマーの添カ卩終了力も 0. 5時間経過 後、イソプロピルアルコール 0. 01kgを添加し、スチレン一イソプレンランダム共重合 体が溶解した重合反応溶液を得た。
次いで、上記重合反応溶液 40kgに、安定ィ匕ニッケル水素化触媒 E22U (日揮ィ匕 学工業社製; 60%ニッケル担持シリカ―アルミナ担体) 0. 3kgを添加混合し混合液 を得、それをオートクレープに仕込んだ。該オートクレープに水素ガスを供給し、撹拌 しながら、オートクレーブ内を 160°C、 4. 5MPaにて 6時間水素化反応を行った。水 素化反応終了後、濾過により水素化触媒を除去して、無色透明な溶液を得た。 水素化されたスチレン イソプレンランダム共重合体のシクロへキサン溶液に、上 記のリン系安定剤を表 1に記載の量で添加した後、加熱工程にて熱源として 20kgZ cm2Gの水蒸気を用いた二重管式加熱器 (外管径 2B、内管径 3Z4B、長さ 21m)に 、シクロへキサン溶液中の共重合体の濃度を 5重量%とした前記共重合体のシクロへ キサン溶液を 150kgZHの量で供給して、 180°Cに加熱した。
次 、で、熱源として 25kgZcm2Gの水蒸気を用いた二重管式フラッシュ乾燥器 (外 管径 2B、内管径 3Z4B、長さ 27m)とフラッシュホッパー(容積 2001)とを用いて、前 記加熱工程を経た前記共重合体のシクロへキサン溶液カゝら重合溶媒であるシクロへ キサンとともに大半の未反応モノマーを除去することでフラッシュ乾燥された溶融状 態のビニル脂環式炭化水素重合体を得た。次いで、ベント付二軸混練押出機を用い 、上記の溶融状態のビニル脂環式炭化水素重合体を押出機の榭脂装入部より装入 した後、ベント部分より揮発物を除去する目的で、トラップを介し真空ポンプで吸引し つつ、ベント部よりも下流側のシリンダー部に、前記の化合物 Gまたは Hを表 1に記載 の量で添加し、押出機のベント部より下流側で混練して混合した。次いで、押出機出 口に取り付けられたアンダーウォーターペレタイザ一によりペレット化し、得られたぺ レットを温度 100°Cの熱風にて 4時間乾燥した。
尚、表 1中のリン系安定剤、およびィ匕合物 Gまたは Hの添加量は、重合体 100質量 部に対する添加量 (質量部)である。
[榭脂組成物 Cの製造方法]
窒素雰囲気下、脱水したシクロへキサン 50kgに、 1一へキセン 0. 082kg,ジブチ
ルエーテル 0. 015kg,トリイソブチルアルミニウム 0. 03kgを室温で反応器に入れ混 合した後、 45°Cに保ちながら、 8—メチル—テトラシクロ〔4. 4. 0. I2' 5. 17' 1G〕—ドデ 力— 3—ェン (メチルテトラシクロドデセン、以下、「MTD」と略記する。) 20kgと、六塩 化タングステン (0. 7%トルエン溶液) 8kgとを、 2時間かけて連続的に添加し重合し た。
重合溶液にブチノレグリシジノレエーテノレ 0. 106kgとイソプロピノレアノレコーノレ 0. 052 kgを加えて重合触媒を不活性化し重合反応を停止させた。次いで、得られた開環重 合体を含有する反応溶液 70kgに対して、シクロへキサン 30kgをカ卩え、さらに水素化 触媒としてニッケル—アルミナ触媒(日揮ィ匕学社製) 0. 5kgをカ卩え、水素により 5MP aに加圧し、撹拌しながら温度 200°Cまで加温し、 4時間反応させ、さらに濾過により 水素化触媒を除去して、無色透明な溶液を得た。
水素化された MTD開環重合体のシクロへキサン溶液に、上記のリン系安定剤を表 1に記載の量で添加した後、加熱工程にて熱源として 20kgZcm2Gの水蒸気を用い た二重管式加熱器 (外管径 2B、内管径 3Z4B、長さ 21m)に、シクロへキサン溶液 中の共重合体の濃度を 5重量%とした前記共重合体のシクロへキサン溶液を 150kg ZHの量で供給して、 180°Cに加熱した。
次 、で、熱源として 25kgZcm2Gの水蒸気を用いた二重管式フラッシュ乾燥器 (外 管径 2B、内管径 3Z4B、長さ 27m)とフラッシュホッパー(容積 2001)とを用いて、前 記加熱工程を経た前記共重合体のシクロへキサン溶液カゝら重合溶媒であるシクロへ キサンとともに大半の未反応モノマーを除去することでフラッシュ乾燥された溶融状 態の MTD開環重合体の水素添加物を得た。次いで、ベント付二軸混練押出機を用 い、上記の溶融状態の MTD開環重合体の水素添加物を押出機の榭脂装入部より 装入した後、ベント部分より揮発物を除去する目的で、トラップを介し真空ポンプで吸 引しつつ、ベント部よりも下流側のシリンダー部に、前記の化合物 Gまたは Hを表 1に 記載の量で添加し、押出機のベント部より下流側で混練して混合した。次いで、押出 機出口に取り付けられたアンダーウォーターペレタイザ一によりペレツトイ匕し、得られ たペレットを温度 100°Cの熱風にて 4時間乾燥した。
尚、表 1中のリン系安定剤およびィ匕合物 Gまたは Hの添加量は、重合体 100質量部
に対する添加量 (質量部)である。
[0187] (実施例 1〜25および比較例 1〜3)
上記の製造方法により、表 1に示したリン系安定剤、親水性安定剤および化合物 A 〜Mを含む榭脂組成物 (A)〜 (C)を製造した。榭脂組成物の溶融流れ指数 (MFR )、軟化温度 (TMA)を表 1に示す。
次いで、得られた榭脂組成物を、シリンダー温度 260°C、金型温度 125°Cに設定さ れた射出成形機 (東芝機械 (株)製 IS - 50)にて射出成形して、 45mm φ X 3mm ( 厚さ)の光学面を持つテストピース作製し、ヘイズ (HAZE)、波長 400nmでの分光 光線透過率 (T400)、青紫色レーザ光での信頼性評価、および環境試験( Δヘイズ )を実施した。結果を表 2に示す。
尚、実施例 14と実施例 15の添加剤処方は同じであるが、実施例 14および実施例 15の榭脂組成物中の鉄原子の含有量はそれぞれ、実施例 14は 0. 4ppm、実施例 15は 5. 6ppmでめつに。
[0188] (表 1)
表 1
表 2
(1¾018
本発明の榭脂組成物は、成形性、低複屈折、耐熱性、大量生産性、機械強度、光 線透過率に優れ、特に、青紫レーザー光源使用中の光線透過率低下を防ぐことがで き、光学性能の劣化が極めて小さい光学部品に好適な榭脂組成物である。本発明 の榭脂組成物力も得られる光学部品は、光ピックアップ装置に用いられる光学部品と して好適に使用することができる。