WO2004107333A1 - インクジェット用受理層形成方法及び装置、並びにインクジェット用受理層を形成したディスク - Google Patents

Abstract

ディスク基板4上で、インクジェット印刷用の受理層5を形成する塗布領域の内外周側境界部に凹溝6a、6bを設ける。凹溝6a,6bは断面視略V字状に形成し、その探さdは凹溝間の中央領域6cでの塗膜の膜厚と同等以上に形成される。供給手段25の複数のノズル27a～27hを凹溝6a,6b間の中央領域に径方向に配列し、所定膜厚の塗膜を形成すベく単位面積当たりほぼ一定量の塗布液を供給する。塗布された各塗布液は互いにレベリングによって平坦化される。乾燥時に、凹溝6a、6b内の塗膜は中央領域6cの塗膜より先に乾燥することなくほぼ同時に乾燥・収縮するため、中央領域全体にわたり一定膜厚の受理層5を形成できる。

Description

明 細 書 ィンクジヱット用受理層形成方法及ぴ装置、 並びにインクジェット用受理層を形成したディスク 技術分野

本発明は、 インクジエツトプリンタにより供給されたインクを受容する受理層 (以下、 インクジェット用受理層という） を形成する受理層形成方法及び装置、 並びにィンクジェット用受理層を形成したディスクに関する。 さらに詳しくは、 本発明は、 水、 各種アルコール等を溶媒とする塗布液を平板状のディスク表面に 塗布して塗膜を形成した後に乾燥させることによって、 ディスクの表面に該塗膜 を受理層として形成するインクジェット用受理層形成方法及び装置、 並びにィン クジヱット用受理層を形成したディスクに関する。

本願は、 2003年 5月 30日に出願された特願 2003— 155599号に 対し優先権を主張し、 その内容をここに援用する。 背景技術

従来、 光ディスクとして CDや DVD等が知られており、 これらの光ディスク はポリカーボネート製のディスク基板の一方の面に情報記録層を形成し、 その上 に保護層を形成した構成を有している。 CDにおいては保護層を挟んで情報記録 層と対向する保護層上に、 DVDにおいてはディスク基板を挟んで情報記録層と 対向する基板上にそれぞれ円環状のレーベルが取り付けられて CDや DVD等に 関する写真や絵やタイトル等の各種の情報が印刷されている。

従来はレーベルとして、 例えば保護層の上にオフセット印刷等で情報を記録し た紙を貼付したり、 あるいは直接ディズク上に円環状にオフセット印刷やスクリ 04 004838

2 ーン印刷が行われている。 これらレーベルの形成方法は、 オフセット印刷による 紙等のレーベルは大量に印刷されてディスクに貼付され、 あるいは直接的なオフ セット印刷、 スクリーン印刷等の印刷方法等と共に、 大量生産される C Dや D V D等の各種ディスクに採用されていた。

ところで、 近年、 C D等の光ディスクにおいては、 数百枚から数千枚の単位で 生産する多品種少量生産の需要が高くなってきている。 これら少量の C D等のレ 一ベルに上述したオフセット印刷等で情報を記録するのは、 編集、 製版、 色合わ せ等の下処理を必要とするためにコストが著しく高くなり、 不向きであった。 こ のような少量生産の光ディスクの場合、 バソコン等で処理したデジタル画像を編 集、 製版、 色合わせ等を行わずに、 直接インクジェット印刷等で光ディスク表面 の受理層上に印刷する、 オンデマンド印刷またはデジタル印刷が行われている。 オンデマンド印刷やデジタル印刷を行う場合、 インクジェット印刷された画像 の優劣は受理層の品質性能に左右されるため、 写真画質と同レベルの鮮明画像を 得るために光ディスク上のインクジエツト用受理層の開発が進められている。 例えば特開平 9一 2 4 5 3 8 0号公報に記載の受理層を形成した記憶ディスク では、 光ディスクの表面に U V硬化性モノマーや U V硬化性オリゴマーと水溶 性 ·親水性榭脂であるポリビニルアルコールを含有した塗工インキを塗布して紫 外線硬化させて受理層を形成している。

一方、 特開平 2— 2 7 6 6 7 0号公報または特開平 6— 2 7 0 5 3 0号公報に 記載のものでは、 記録用シート用の受理層として、 シリカやアルミナゾル等を含 有する塗布液を用いて塗布した無機の多孔質ィンク受理層が採用されている。 例 えば、 顔料とバインダーを主成分とする水系塗布液 （以下、 単に水系塗布液とい う） を被塗布材上に塗布して塗膜を形成して多孔質ィンク受理層を製作すると、 この受理層にインクジエツトプリンタでインクジエツト印刷した場合、 写真画質 同様の鮮明な画像が得られることが知られている。 このようなアルミナゾル等を含む水系塗布液は、 固形分比が低く粘度が低いと いう特徴があり、 溶剤非吸収性のシート上に、 カーテンコーター、 ワイヤーバー コーター、 リバースコーター等の各種塗布手段を用いて、 厚膜塗布して塗膜を形 成し、 該塗膜を自然乾燥させたり、 温風乾燥させることで多孔質インク受理層が 得られている。

しかしながら、 上記特開平 9一 2 4 5 3 8 0号公報の場合、 U V硬化性樹脂に よつて形成した受理層はインク受容能力が十分でなく、 インクジェットプリンタ 等による印刷時に滲みが生じ易い。 そのため受理層上での印刷画像の解像力が低 く、特に写真画像等を印刷する場合、鮮明な画像が得られないという欠点がある。 その点、 特開平 2— 2 7 6 6 7 0号または特開平 6— 2 7 0 5 3 0号公報に記 载された多孔質インク受理層では、 インク受容能力が高く、 写真画質同様の鮮明 な画像が得られる。 しかし、 特開平 2— 2 7 6 6 7 0号ゃ特開平 6— 2 7 0 5 3 0号公報に記載された多孔質ィンク受理層を形成するための水系塗布液は、 原反 状やシート状の被塗布物に対しては上記各種の塗布手段を用いて受理層を形成す ることができるが、 これら塗布手段は光ディスク表面のような円環状の塗布領域 に均一な塗膜を形成するのには適していない。

さらに、 塗布時の固形分比が 2 0 %程度であるために、 粘度が低すぎて、 従-来 光ディスク等に用いられていたスクリーン印刷やスピンコート方法では、 デイス ク表面に塗膜を平滑に塗布形成するのが困難であるという欠点がある。

ディスク上に塗膜を形成するためのその他の塗布方法として、 特開平 9一 1 9 2 6 7 4号公報には、 ディスクと相対運動するインクジエツトへッドを用いて、 該ディスク上に塗布液を供給して塗膜を形成しディスクの回転によってレベリン グを行う方法が記载されている。 この方法は単一のノズルによる塗布のため生産 効率が悪く、 また塗布に時間がかかるだめ塗布液の流動性が失われやすく有効な レベリングを行うことができない。 無理に塗布の時間を短縮しょうとするとディ スクの回転速度を上げなくてはならず、 塗布液が遠心力で移動するため膜厚の均 —性が損なわれる。

また、 その他の塗布方法として、 特開 2003— 245591号公報には、 直 線上に配列した複数のノズルを、 直線的に移動させつつシリコンウェハー上にフ オトレジスト液を供給し、 処理膜を形成する方法が記載されている。 しかし単に 配列したノズルを直線的に移動しつつ等量の塗布液を供給する方法では、 塗布液 の供給のを制御したとしても、 円環状の被塗布物に均一な塗膜を形成することが できず、 また効率的な塗布.を行うことができない。

さらに特開 2001-1 79162号公報には、 ディスク上の円環状の塗布領 域に、 該領域の半径方向に配列したノズルでディスク状に塗布液の供給を行レ、、 しかるのちディスクを高速回転させて、 ディスク上に均一な被膜を形成する方法 が記載されている。 しかし本引用文献に記載されている方法はあくまでスピンコ ートを前提とするものであって、 塗膜の粘度に制約を受け被膜の厚さが半径方向 に傾斜を持つ従来のスピンコートの短所を改善するものではない。

更に、 上記各種の塗布方法では、 仮に塗布液をディスクに均一膜厚に塗布し得 たとしても次の問題を改善できなかった。

即ち、 例えば図 20 Aに示すように、 光ディスクの基板 101の疎水性の表面 102上に、 水系塗布液を平面視して略リング状に塗布すると、 塗膜 103 Aの 中央領域 103 aに対して径方向両端に位置する内周側領域 103 bと外周側領 域 103 cにおいて、 塗布液が表面張力によって略円弧状をなして厚みが漸次薄 くなって表面 102に接触する形状特性を呈する。 特に塗布液がレべリング性の 良い低粘度の塗布液の場合この傾向が顕著である。 しかも、 この塗膜 103Aを 乾燥処理させると、 中央領域 103 aに対して内周側及ぴ外周側領域 103 b、 103 cの乾燥が先に進む。 この場合、 外気に触れる両領域 103 b、 103 c の表面の乾燥固化が内部よりも先に進むために、 乾燥収縮する両領域 103 b、 1 0 3 cの表面に対して、 内部の低粘度の塗布液が表面張力で中央領域 1 0 3 a 方向に流動する現象が起こり、 両領域 1 0 3 b、 1 0 3 cは一層膜厚が小さくな る。

そのため、 図 2 0 Bに示すように、 乾燥固化して形成された受理層 1 0 4は、 径方向両端の内周側及び外周側領域 1 0 4 b、 1 0 4 cでの膜厚が中央領域 1 0 4 aに対して小さくなり、 内周側及び外周側領域 1 0 4 b、 1 0 4 cでは中央領 域 1 0 4 aに向けて膜厚が徐々に増大するなだらかで長い傾斜面状の膜厚になり、 均一な膜厚が得られないという欠点があった。

この場合、 受理層 1 0 4の内周側及び外周側領域 1 0 4 b、 1 0 4 cの膜厚が 小さいためにインク受容能力が小さくなるから、 印刷時にインク受容能力を超え て供給されやすく、 ィンクが溢れて滲んだ状態になって鮮明な印刷画像が得られ ない欠点が生じる。

本発明は、 このような実情に鑑みて、 より均一な膜厚と平坦な表面形状を有す る、 インク受理能力に優れた受理層を形成することが可能なインクジエツト用受 理層形成方法及び装置と、 当該受理層を形成したディスクを提供することを目的 とする。 発明の開示

本発明の一態様に係るィンクジェット用受理層形成方法は、 配列された複数の ノズルによってディスク上の塗布領域に塗布液を塗布して塗膜を形成し、 該塗膜 を乾燥させて受理層を形成するインクジヱット用受理層形成方法であって、 塗布 領域と非塗布領域の境界に塗布液を仕切る仕切り部を形成し、複数の各ノズルは、 前記仕切り部で仕切られた塗布領域の各供給位置に、 単位面積当たりほぼ一定量 の塗布液を供給し、 隣り合う塗布液をレべリングによつて平坦化し、 塗布領域全 体にわたり一定の S莫厚の受理層を形成する。 また、 本発明の他の態様に係るインクジェット用受理層形成装置は、 塗布領域 と非塗布領域の境界に仕切り部を形成する仕切り部形成手段と、 仕切り部で仕切 られた塗布領域に所定膜厚の塗膜を形成するのに必要な単位面積当たりほぼ一定 量の塗布液のみを複数のノズルによって供給する供給手段とを備えていて、 供給 手段の各ノズルから塗布領域に塗布液を供給することで、 隣り合う塗布液はレべ リングによって平坦ィヒして塗布領域全体にわたり一定の膜厚の受理層を形成する。 本発明の前記態様によれば、 仕切り部で仕切られた塗布領域内に塗布された塗 膜は仕切り部によってその境界部近くまで平坦且つ均一な膜厚に形成され、 かつ 塗布液の塗布領域外へのはみ出しを防ぐことができる。 そして、 仕切り部によつ て塗布領域の境界部まで塗布液が充分行き渡るため、 乾燥時に塗膜の境界部の乾 燥が先に進むのを抑制し、 境界部の塗布液が流動して膜厚の変動を来すことを防 止できる。

し力 も、 塗布液の塗布に際し、 複数のノズルによって供給される塗布液は、 仕 切り部内の塗布領域に予め決められた膜厚の塗膜を形成するのに必要な量のみが、 载置するように均等に塗布されるために、 各ノズルで供給される塗布液は互いの レべリング作用による平坦化がなされて均一膜厚の塗膜を形成できる。 本発明は 塗布液を回転展延させないためにたとえ低粘度塗布液であっても該塗布液を外部 に飛散させて無駄にすることなく均一な塗布を効率的に形成することができる。 しかも複数のノズルで同時に液状の塗布液を塗布するために、 単一のノズルで 塗布する場合よりも短時間で塗膜を形成でき、 塗布過程や乾燥過程で先に塗布し た塗膜の一部が自然乾燥し始めて皺やひぴの原因になることはない。

本発明では、 仕切り部として凹溝を用い、 凹溝と凹溝で囲まれた領域に塗布液 を塗布するのが好ましく、 凹溝内に塗布される塗布液によって塗膜の境界部が先 に乾燥することが抑制され、 乾燥工程での塗布液の流動が抑制される。 そのため には、 凹溝の深さの最大値が、 凹溝で囲まれた塗布領域における塗膜の膜厚と同 等以上に形成され、 境界部に充分な塗布液が存在しているのが好ましいが、 少な くとも凹溝^分の塗膜の膜厚、 すなわち凹溝内に塗布された塗布液の塗膜表面か らの深さの最大値が、 凹溝で囲まれた塗布領域の塗膜の膜厚と同等以上であれば よい。 或いは、 仕切り部は凸部で形成してもよく、 好ましくは紫外線硬化性組成 物を凸部形状に塗布した後 紫外線を照射して硬化して形成されたものであって もよい。 凹清ゃ凸部によって塗布液の塗布領域である受理層形成領域を明確に規 定できる。

受理層形成領域内に単位面積あたりほぼ一定量の塗布液を供給するためには、 複数のノズルはディスクの半径方向に配列され、 複数のノズルとディスクとを相 対回転させながら、 塗布領域に塗布液を塗布するのが好ましい。 この場合、 外周 側のノズルの周速度はより大きくなるので、 単位時間当たりに供給される塗布液 の量が半径方向外側に向けて増大するよう設定されていることが好ましい。 この ためには個々のノズルの供給圧力を調整しても良いが、 供給圧力は一定に保つた まま、 供給口の面積を半径方向外側に向けて増大させることが好ましい。 そのた めには複数のノズルから供給する塗布液が、 供給タンク内で安定化した圧力を加 えられて同一の供給源から供給されることが好ましい。 これによつて供給量の変 動を極めて低く抑えることが可能となるとともに、 塗布液の圧力が一定となる。 なお複数のノズルを固定して、 ディスクを中心軸の回りに回転させて塗布を行う ときは、 塗布液が遠心力で流動しない程度の低速で回転させることが好ましい。 このように遠心力を用いて塗布液のレべリングを行わないため、 スピンコーター を用いたときのようにディスクの外周側部分に塗布液が偏在して膜厚不均一の原 因となることがない。

複数のノズルによる塗布液供給時における単位時間あたりの供給量は、 塗布圧 力とノズノレの口径によって設定できるが、 ノズルの口径は同じであっても、 ノズ ルの配列密度を調整することによって行うこともできる。 さらに全体的な塗布量 の多少の調整は、 ノズルとディスクの相対移動速度を変化させることによつても 調整可能である。

ノズルの径は小さい方が面積当たりの塗布量を高い精度で設定できるが、 小さ くし過ぎると塗布効率が低下しやすいので、 塗布液の粘度、 塗布液の供給圧力と 併せて最適範囲を設定する必要がある。

ノズルの配列個数としては、 必要膜厚から設定されたノズル径と塗布液供給量 において、 塗布直後に隣り合うノズルから供給された塗布液が互いにレべリング 可能であれば、 特に限定はされないが、 円環状の塗布領域の略半径方向全長幅に わたって、 隣り合うノズルが互いに接した状態で配列するほうが、 塗布液供給後 の合流が容易でレベリングも行いやすい。

例えば 1 0 0〜 5 0 0 m程度の塗布膜厚から、 乾燥膜厚 2 0〜： L 0 0 m程 度の受理層を形成する場合は、 0 . 5〜 5 mm程度の口径のノズルから適宜選択 して使用することができる。

塗膜形成手段として、 略半径方向幅の全長に配置されたノズル列は、 一列でも よいが、 該ノズル列と角度をなす半径方向にさらに別の複数のノズル列を有して いてもよく、 ディスクの中心部から半径方向外側に放射状に配列した複数のノズ ル列を有していてもよい。

複数ノズルを配置した塗布方法の他の例として、 複数のノズルを塗布領域の全 面に対向して配列し、 複数のノズノレとディスクを相対回転させずに塗布するよう にしてもよい。 この場合、 ノズルは例えば蜂の巣状に多数配列されて形成されて いるために、 ノズルと被塗布面の両方を静止状態で対向させて塗布液を各ノズル から供給させてレベリングの後に均一な膜厚の塗膜を形成でき、 ノズルと被塗布 面のレ、ずれをも移動させないた-めに高精度な受理層を容易にかつ短時間に形成で さる。

仕切り部形成手段としては、 塗布領域の境界部に凹溝を形成する切削手段ゃ凸 部を形成する凸部形成手段を用いることができる。 或いは、 ディスクの製作時に 凹溝ゃ凸部等からなる仕切り部を一体形成してもよレ、。

本発明による方法や装置で製作されるディスクは、 塗布領域の境界部に例えば 凹溝からなる仕切り部が形成され、 該仕切り部で仕切られた領域に受理層を形成 してなるものである。

本発明の製造方法は、 低粘度の塗布液に幅広く使用することができ、 特にレべ リングは容易であるがスクリーン印刷への印刷適性のない低粘度の塗布液を使用 して、 均一な塗膜を形成するときに好適に使用することができる。 塗布液の粘度 はノズルからの安定供給とレベリングの容易さを考慮して適宜設定することがで きるが、 1 0〜6 0 O m P a · sの範囲に設定することが好ましく、 2 0〜1 0 O m P a . sとすることがさらに好ましく、 2 5〜7 5 m P a · sが最も好まし い。 また塗布液にはシリコン等の添加剤を添加することでレベリング性を向上さ せてもよレ、。

本発明に用いる塗布液は、 固形分の比率が 2 5質量％以下が好ましく、 さらに は 2 0 %程度とされた塗布液がさらに好ましい。 また受理層上の画像形成には、 現在ィンクジェット記録分野で広範に使用されているィンクジュット用水性ィン クを用いることが好ましく、 塗布液は水性塗布液であることが好ましい。

水系塗布液としては、 例えば顔料とバインダ一樹脂を含有し多孔質のィンク受 理層を形成する水系塗布液や、 親水性高分子を含有し膨潤型のィンク受理層を形 成する水系塗布液を使用することができる。 本発明において親水性高分子とは、 分子内に親水性官能基を有しており、 水に溶解した状態、 または自己乳化した状 態、 または乳化剤の添加で分散した状態となる高分子物質を意味する。 親水性高 分子としては水溶性高分子を用いてもよい。

顔料、 バインダー樹脂、 親水性高分子及び水溶性高分子の材質はとくに限定さ れず、 公知の無機顔料、 有機顔料また公知の塗布剤用のバインダー樹脂、 親水性 高分子、 水溶性高分子を広く使用できる。 さらに顔料が無機顔料でバインダー榭 脂が水溶性樹脂のときに本発明の効果が極めて良好に発揮される。 膨潤型のィン ク受理層においては受理層自体がインクを吸収し、 自ら膨張または溶解してイン クを受理層内に吸着する。 一方多孔質型ィンク受理層は顔料微粒子間の空隙にィ ンクを受容させるが、 ィンクの受容能力の点で多孔質型ィンク受理層である方が 好ましい。

多孔質型ィンク受理層は主に顔料とバインダ一からなり、 顏料としては、 アル ミナだけでなく、 シリカ、 ベーマイ ト、 合成微粒子シリカ、 合成微粒子アルミナ シリケート、 気相法合成シリカ、 シリカアルミナ複合粒子、 ゼォライト、 モンモ リロナイト群鉱物、 バイデライ ト群鉱物、 サボナイト群鉱物、 へクトライ ト群鉱 物、スチープンサイト群鉱物、ハイドロタルサイト群鉱物、スメクタイト群鉱物、 ベントナイト群鉱物、 炭酸カルシウム、 炭酸マグネシウム、 硫酸カルシウム、 硫 酸バリウム、 酸化チタン、 酸化亜鉛、 炭酸亜鉛、 珪酸アルミニウム、 珪酸カルシ ゥム、 珪酸マグネシウム、 カオリン、 タルク、 アルミナ水和物、 プラスチックピ グメント、尿素樹脂顔料、セルロース粒子、澱粉粒子などが挙げられ、なかでも、 シリカ、 アルミナ、 シリカアルミナ複合粒子、 ベーマイ ト、 気相法合成シリカが 好ましい。 このうち、 特にべ一マイト （Α1₂0₃ · nH₂0、 n= l~l . 5) カ ィンクの吸収性、 定着性の観点から好適である。

さらに好ましくは、 多孔質型インク受理層の平均細孔半径が 3〜25 nmであ り、 特には 5〜15 nmが適切であり、 かつ細孔容積が 0. 3〜2. 0 cm³/g が好ましく、 特には 0. 5〜1. 5 cm³Zgであるのが好適である。

特にべ一マイトは、 20%以下の固形分比の塗布液から乾燥塗膜を形成すると きに、 その乾燥過程で膜厚方向の孔が効率的に多数形成される。 さらに固形分比 が増加するとともに急激に粘度が増加する傾向があり、 充分な低固形分比におい て塗布を行う必要がある。 このため本発明の受理層形成方法を好適に使用するこ とができる。

バインダー樹脂としては、 でんぷんやその変性物、 ポリビュルアルコール又は その変性物, スチレン .ブタジエンゴムラテックス, 二トリル ·ブタジエンゴム ラテックス、 ヒドロキシセルロース、 ヒドロキシメチノレセルロース、 ポリビニル ピロリ ドン、 ポリアクリル酸、 ポリアクリルアミ ド等の水溶性重合体、 アルコー ル可溶性の重合体若しくはこれらの重合体の混合物などの水溶性樹脂を用いるこ とができる。 なかでも本実施例では、 ィンク吸収性や耐水性が良好であることを 要するためポリビニルアルコールまたはその変性物の使用が好ましい。 バインダ 一樹脂は上記顔料 1 0◦質量部に対して、好ましくは、 1〜 1 0 0質量部、特には、 3〜5 0質量部含まれるのが適切である。

一方、 膨潤型インク受理層を得るために用いる親水性高分子、 水溶性高分子と しては、 ウレタン樹脂またはその変性物、 完全鹼化ないしは部分験化のポリビニ ルアルコール、 変性ポリビュルアルコール、 エチレンビニルアルコール、 ポリビ ニルピロリ ドン、 ポリアルキレンォキサイド、 ポリアクリルアミ ド、 又はそれら の誘導体などの水溶性の合成高分子、 ゼラチン、 変性ゼラチン、 デンプン、 変性 デンプン、 カゼイン、 大豆カゼイン、 変性大豆カゼイン若しくはその変性物、 又 はそれらの誘導体、 メチルセルロース、 ェチルセルロース、 カルポキシメチルセ ノレロース、 ヒ ドロキシェチルセノレロース、 ヒドロキシプロピルセノレロース、 ヒド ロキシプロピノレメチルセルロース、 二トロセルロースなどのセルロース誘導体な どの水溶性の天然高分子が挙げられる。 なかでも、 ウレタン樹脂またはその変性 物、 ポリビュルアルコール若しくはその誘導体、 ポリビニルピロリ ドン若しくは その誘導体、 ポリアクリルアミ ド、 セルロース誘導体、 ゼラチン若しくはその誘 導体が特に好ましい。 これらの親水性高分子、 水溶性高分子はそれぞれ単独、 又 は 2種以上の混合物の形態で使用される。

なお、 本発明で変性ウレタン樹脂とは、 水性化されたウレタン樹脂を意味し、 水に安定して分散できるように、 ウレタン骨格の主鎖中に親水基を導入して自己 乳化する力 または外部乳化剤で分散させて得られるウレタン樹脂の水分散体を 示す。 変性ウレタン樹脂としては特にポリカーボネート系ポリオールまたはポリ エステル系ポリオールと脂肪族イソシァネートとから得られる自己乳化タイプの ものが好ましい。

膨潤型インク受理層の場合、 上述した高分子の他に、 必要に応じて、 顏料を高 分子に対して 0 . 0 5〜1 0重量％含有することができる。なお、顔料としては、 多孔質型のものと同じものが使用できる。

インク受理層には、 その他の添加剤として、 必要に応じて、 硬化剤、 レベリン グ剤、 消泡剤、 増粘剤、 蛍光増白剤、 着色染料、 着色顔料等を使用することが出 来る。 特に硬化剤は、 多孔質型の受理層を形成するときはその形成過程において 影響が大きく、 水系塗布液の乾燥過程における水分蒸発での体積収縮による歪み から生じるクラックなどの塗膜欠陥を、 早期にゲル化することで抑制する効果が ある。 パインダー樹脂としてポリビュルアルコールを使用する場合は、 硬化剤と してはホゥ酸ゃホゥ酸塩などが有効である。

本発明において、 ディスク上に設けられるインク受理層の塗布厚は、 インク吸 収性、 塗工層の強度、 用途などに応じても選択されるが、 好ましくは 2〜8 0 μ mが採用される。 この塗布厚が 2 に満たない場合はインク受理層としての効 果が発現し難く、 一方、 8 0 μ πιを超える場合は、 透明性や強度の低下または表 面に微細なクラックが発生するおそれがあるので好ましくない。 なかでも、 イン ク受理層の塗布厚は 1 0〜5 0； u mであるのが適切であり、 3 0〜4 0 ^ mが更 に好ましい。 乾燥塗寧の重量にすると 2〜8 0 g /m ²が好ましく、 2 0〜7 0 g /m²がより好ましく、 3 0 ~ 5 0 g /m ²が最も好ましい。 塗布液の塗布膜厚は 塗布液の固形分濃度に対応して例えば乾燥膜厚の 4〜 8倍程度、 塗布液の重さに して 1 0〜4 0 0 g /m ²にすることができる。 塗布領域全体にわたり塗布液を供給し、 塗膜を形成した後に、 該塗膜に振動を 与えることで平坦化するレべリング工程を導入してもよい。 このようなレベリン グ手段による工程を用いることにより塗膜の平坦化がより容易にかつ良好に行わ れる。

塗膜の乾燥はディスクの背面に設けた加熱手段により、 該塗膜の内側端から外 側端に向けてなだらかに低下する温度勾配を形成して行われることが好ましい。 このような乾燥方法を用いることにより乾燥初期に塗膜表面に被膜が形成され、 塗膜内部からの蒸気が該被膜を突き破ることによる塗膜表面の凹凸発生を防ぎや すく、 また乾燥中の塗膜への皺やヒビの発生を防ぎやすいので、 より平坦な受理 層用塗膜を形成することができる。 図面の簡単な説明

図 1は本発明の実施例における受理層形成装置の要部の平面図である。

図 2はディスクの基板に凹溝を形成するための切削手段を示す図である。

図 3は凹溝に水系塗布液を塗布する凹溝塗布ノズルを示す図である。

図 4は凹溝間に水系塗布剤を塗布するための塗膜形成手段を示す斜視図である。 図 5は図 4に示す供給手段の各ノズルの供給口を示す図である。

図 6はディスク上の塗膜をレべリングする振動手段を示す側面図である。

図 7 Aはトレーを除いた面状発熱体の平面図、 図 7 Bは面状発熱体とヒータコ ントローラを示す説明図である。

図 8は、 面状発熱体上のディスクの変形を抑制するディスク押えを示す図であ る。

図 9は、 受理層形成方法の処理工程を示すフローチャートである。

図 1 0 Aは水系塗布剤を液滴として塗布した状態を示す図、 図 1 0 Bはレベリ ング後の状態を示す図である。 図 1 1 A〜Cはディスクにおける受理層形成工程を示すもので、 図 1 1 Aは塗 布液を塗布する前のディスクを示す部分縦断面図、 図 1 1 Bは塗布液を塗布した 状態のディスクを示す部分縦断面図、 図 1 1 Cは乾燥処理後のディスクの部分縦 断面図である。

図 1 2は実施例におけるディスクの断面拡大図である。

図 1 3は図 1 2に示す凹溝の断面拡大図である。

図 1 4は第 1変形例による凹溝を示す拡大断面図である。

図 1 5は第 2変形例による凹溝を示す拡大断面図である。

図 1 6は第 3変形例による凹溝を示す拡大断面図である。

図 1 7 Aおよぴ図 1 7 Bは仕切り部形成手段の変形例を示す図であり、 図 1 7 Aは塗布工程、 図 1 7 Bは紫外線照射工程を示している。

図 1 8は供給手段のノズル供給口の変形例を示す図である。

図 1 9は供給手段の別の実施例を示す要部斜視図である。

図 2 O Aおよび図 2 0 Bは従来のディスクにおける受理層形成工程を示すもの で、 図 2 0 Aは塗布液を塗布した状態のディスクを示す部分縦断面図、 図 2 0 B は乾燥処理後の光ディスクの部分縦断面図である。 発明を実施するための最良の形態

以下、 図面を参照しつつ、 本発明の好適な実施例について説明する。 ただし、 本発明は以下の各実施例に限定されるものではなく、 例えばこれら実施例の構成 要素同士を適宜組み合わせてもよい。

本実施例を、 光ディスクへの受理層形成を例として、 図 1〜図 1 3により説明 する。

本実施例の受理層形成装置で受理層を形成する光情報記録媒体としての光ディ スク 1は、 例えば通常のデジタルビデオディスクである。 このディスクは、 図 1 2に示すように例えばポリカーボネート基板 （P C基板） からなるリング状のデ イスク基板 2を有し、 その一方の面 2 aに情報記録層 3が形成されている。 この 情報記録層 3はスタンパ等で形成されだ 0 . 1 πι程度の凹凸の表面に金属薄膜 からなる反射膜を被覆して構成されている。 そしてこの情報記録層 3の表面には もう一方のディスク基板 4が接着剤で貼り合わされている。 ディスク基板 2の他 方の面 2 b側から再生光を照射し、 情報記録層 3からの反射光により読み取りを 行う。 光ディスク 1の情報読み取り側の面 2 bとは反対側のディスク基板 4上の 印刷面 4 aに、 塗布液として水系塗布液を塗布し、 塗膜を乾燥して得たインクの 受理層 5が設けられている。 この受理層 5は例えば多孔質でィンクジェットプリ ンタ等によって供給されたインクを各孔内に受容して鮮明な画像や文字情報等を 表示する印刷用の薄層である。 ディスク基板 4の印刷面 4 aは疎水面である。 印 刷面 4 aの内周境界部と外周境界部にはそれぞれ凹溝 6 a、 6 bが形成されてお り、 受理層 5はこれら凹溝 6 a、 6 bで仕切られた円環状の印刷面 4 aに形成さ れている。

ここで、 受理層 5を形成するための塗布液としての水系塗布液 Sは、 乾燥後の 受理層 5を形成する水性の塗布液であり、 本実施例では顔料とパインダ一樹脂を 含有する多孔質ィンク受理層形成用の水系塗布液を用いるものと、 親水性高分子 や水溶性高分子を含有する膨潤型インク受理層形成用の水系塗布液を用いるもの とについて説明する。

図 1 2において、 ディスク基板 4の印刷面 4 aに形成された凹溝 6 a、 6 bは 図 1 3の縦断面図で示すように略 V字状の断面形状を有しており、 その内側 （受 理層 5側） 端部で垂直に落ち込み、 外側端部に向けて傾斜する傾斜面を形成して いる。 凹溝 6 a、 6 bの開口部の径方向幅 Wと深さ dは塗布液の塗布膜厚や粘度 によって適宜設定されるが、 光ディスク 1では、 幅 Wが 3 0 0 i m以上、 好まし くは 3 0 0〜4 0 0 ηι、 深さ dが 1 5 0 m以上の範囲に設定されている。 た だし、 本発明はこの範囲に限定されるものではない。

幅 Wが 3 0 0 m未満であると、 塗布液を塗布する際に凹溝内に十分流入でき ない上に、 空気が凹溝 6 a、 6 b内に混入すると上方に逃げられずに内部に封入 されてしまい、 乾燥時に加熱すると内部の空気が膨張して破裂し、 受理層 5の表 面に破裂痕が残るおそれがある。 そのため、 幅 Wは塗布液が凹溝 6 a , 6 b内に 十分流入し、混入した気泡が外部に抜ける程度の大きさを有することが好ましい。 幅 Wが 4 0 0 i mを超えると凹溝の形成部分が見えやすくなる可能性があるため 超えないことが好ましい。

塗布液は、 後述のように水分 8 0 % :固形分 2 0 %程度の含有比率であること が好ましいがこの比率には限定されない。 一方で受理層 5はィンク受容のために 乾燥後の膜厚が 2 μ m程度以上に設定されていることが好ましい。 例えば乾燥後 の膜厚を受理能力の充分な 3 0 μ πι程度とする場合には、 塗布領域に供給する塗 布液は 1 5 0 m程度の膜厚で塗布する必要がある。 そして、 受理層 5は凹溝 6 a , 6 bで囲まれた中央領域 6 cでは全面に亘つてほぼ均一な膜厚を呈している が、 内周側境界部 5 a及ぴ外周側境界部 5 bでは、 凹溝 6 a、 6 bに沿って半径 方向のそれぞれ内側、 外側に向かって塗膜の高さが減少し、 塗膜表面から凹溝底 部までの塗膜深さが変動して形成される。塗布液による塗膜の乾燥時に凹溝 6 a、 6 bの塗膜が先行して乾燥することにより、 この部分の塗布液が中央領域 6 cに 流動しないようにするためには、 凹溝の深さ dが塗布領域 6 cに供給する塗布液 の膜厚、 たとえば 1 5 0 m程度であれば充分であるが、 凹溝 6 a、 6 b内での 少なくとも一部の前記塗膜深さが中央領域 6 cでの膜厚と同等以上になるように 凹溝 6 a、 6 bの深さ dが設定されていればよい。 図 1 2、 図 1 3に示す凹溝 6 a、 6 bの構成では、 その内側端部の深さが最大深さ dであり、 この部分の塗布 液の膜厚深さが中央領域 6 cでの膜厚と同等以上とされていることが好ましい。 従って、 本実施例による光ディスク 1によれば、 受理層 5にインクジェットプ リンタ等でィンクを塗布すると、 塗布領域全体にわたって鮮明な印刷画像を得る ことができる。 特に多孔質インク受理層の場合には、 インクは全面に亘つてほぼ 均一な膜厚に形成された受理層 5内の多孔で受容されるため各孔を溢れて外部に 滲み出ることがなく、 鮮明な印刷画像が得られる。

尚、 凹溝 6 a、 6 bの領域内では、 凹溝の形状に沿って半径方向に受理層 5の 高さが落ち込んで湾曲して S奠厚変動を生じているために、 インクの受容能力に問 題はなくィンクが滲み出すことはないがこの部分の印刷画像は歪んで見える。 そ のため、 受理層 5への印刷は凹溝 6 a、 6 bで囲まれた中央領域 6 cで行うこと が好ましい。

次に、 受理層形成装置 1 0について説明する。

受理層形成装置 1 0は、 図 1に示すように、 塗膜形成部 1 1と乾燥部 1 2とで 概略構成されている。 塗膜形成部 1 1では、 略円板型の回転板 1 4に周方向に所 定間隔をあけて複数 （例えば 6本） のアーム 1 4 aが設けられ、 各アーム 1 4 a の自由端には回転テーブル 1 5がそれぞれ設けられ、 ディスク移送手段を構成し ている。 各回転テーブル 1 5は、 光ディスク 1を製作するためのディスク Dを吸 着支持して、 各回転テーブル 1 5の中心軸線 O回りに自転可能であると共に回転 板 1 4によって回転板 1 4の中心軸を中心として間欠的に公転する。 各 HI転テー ブル 1 5の間欠的な公転による各停止位置には、 受け渡し部 A l、 仕切り部形成 部 A 2、 前塗布部 A 3、 本塗布部 A 4、 レべリング部 A 5、 排出部 A 6が構成さ れている。

受け渡し部 A 1では、 光ディスク 1の受理層 5と凹溝 6 a , 6 bが未形成のデ イスク Dを供給部 1 6から受け取り、 仕切り部形成部 A 2からレベリング部 A 5 までの工程で印刷面 4 a上に多孔質ィンク受理層形成用の水系塗布液 Sからなる 塗膜 S aを形成した後に、 排出部 A 6で移载部 1 7を介して乾燥部 1 2ヘディス ク Dを受け渡す。 乾燥部 1 2ではリング状の搬送部材 1 8でディスク Dを回転さ せながら塗膜の乾燥を行う。

なお、 ディスク Dの供給部 1 6には複数のディスク Dを図示しないスぺーサを 介して積層するスタック部が設けられており、 スタック部からスぺーサを除いて 最上部のディスク Dを供給部 1 6から受け渡し部 A 1の回転テーブル 1 5に供給 する。

次に、 仕切り部形成部 A 2からレべリング部 A 5までと、 乾燥部 1 2について 図 2〜図 8により説明する。 図 2に示す仕切り部形成部 A 2には切削手段 2 0が 設けられている。 切削手段 2 0は一対の切削刃 2 0 a、 2 0 aを備えており、 デ イスク Dのディスク基板 4の印刷面 4 aにおいて、 受理層 5を形成すべき円環状 の塗布領域の内周側端部と外周側端部に切り込んでそれぞれ凹溝 6 a、 6 bを形 成する。 各切削刃 2 0 aは、 凹溝 6 a、 6 bの受理層側が垂直で反対側がテーパ 状を形成するようにそれぞれ外側に傾斜刃 2 0 bを設けた切刃形状を有している。 そして、 ディスク Dの中心軸線 O回りにディスク Dと切削手段 2 0を相対回転さ せつつ各切削刃 2 0 aでディスク基板 4を切削加工することで二条の凹溝 6 a， 6 bをそれぞれリング状に形成できる。 ディスク基板 4はポリカーボネート樹脂 からなるために、 ディスク基板 4は切削刃 2 0 aによって両側に押し分けられて 略 V字状の凹溝に変形し、 切屑は発生しない。

次に、 図 3に示す前塗布部 A 3では、 一対の凹溝塗布ノズノレ 2 2、 2 2が各凹 溝 6 a、 6 bに対向して配設されている。 各凹溝塗布ノズル 2 2からは塗布液と して水系塗布液 Sが供給されて凹溝 6 a、 6 bを埋めて***させる。この場合も、 ディスク Dの中心軸線 O回りにディスク Dと凹溝塗布ノズル 2 2， 2 2が相対回 転しつつ各ノズル 2 2から水系塗布液 Sを塗布する。

図 4においては、 本塗布部 A 4に塗膜形成手段 2 4が設けられている。 塗膜形 成手段 2 4は、 印刷面 4 aのうち、 ディスク Dの凹溝 6 a、 6 bで挟まれた円環 状の中央領域 6 cに水系塗布液 Sを塗布する装置である。 ここで用いる水系塗布 液 Sは上述の凹溝塗布ノズル 22で用いる水系塗布液と同一であり、 例えば下記 の処方を用いる。 受理層処方 1〜 3は多孔質型のィンク受理層の水系塗布液に関 する処方であり、 受理層処方 4、 5は膨潤型のインク受理層の水系塗布液に関す る処方である。 ただし、 本発明はこれらの処方に限定されない。 受理層処方 1

アルミナゾル （固形分濃度 20%) : 100質量部

ポリビニルアルコール（クラレ社製、商品名 P V A— 124、固形分濃度 7 %) ： 28. 6質量部

ホウ酸 （固形分濃度 4%) ： 5質量部

(アルミナゾルの製造方法）

容量 2リットルのガラス製反応器に、 ポリ塩化アルミニウム水溶液 （アルミ- ゥム濃度が A 1₂0₃に換算して 23. 5質量％、 C 1濃度 8. 1質量％、 塩基度 84 %、.多木化学社製、 商品名 「タキバイン」 # 1500) 327 gと水 154 8 gを仕込み、 95 °Cに昇温した。次いで、市販のアルミン酸ナトリゥム溶液（A 1₂0₃ ： 20質量⁰ /₀、 Na ₂0： 19質量⁰ /₀) 125 gを添加し、 攪拌しながら 液温を 95 °Cに保持して 24時間熟成してスラリ一を得た。 なお、 アルミン酸ナ トリウム溶液添カ卩直後の液の pHは、 95°Cにおいて、 8. 7であった。

熟成後のスラリーを限外濾過装置を用いて洗浄した後、 再び 95°Cに昇温し、 この洗浄後のスラリ一の総固形分量の 2 %となる量のアミ ド硫酸を添加し、 総固 形分濃度が 21%となるまで減圧濃縮した後、 超音波分散してベーマイト結晶粒 子が凝集した粒子の平均粒子径が 190 n m、 p H 4. 5のァノレミナゾルを得た。 受理層処方 2

シリカアルミナ複合ゾル （固形分濃度 20%) : 100質量部 ポリビュルアルコール （クラレ社製、 商品名？ _14011、 固形分濃度 7%) : 57.2質量咅

ホウ酸 （固形分濃度 4%) ： 5質量部

(シリカアルミナ複合ゾルの製造方法）

容量 2リットルのガラス製反応器に、 3号ケィ酸ソーダ溶液（S i〇₂濃度 28. 84%、 Na₂〇濃度 9. 31%) 554. 8 g及びイオン交換水 1182. 6 g を入れ、 攪拌しながら 5 m 0 1 / L塩酸水溶液 330. 0 gを 4時間かけて添加 した。 添加後、 反応液は pH6. 4であった。 その後、 温度 80°Cに昇温し、 4 時間攪拌して熟成し、 シリカヒドロゲルを生成させた。 得られたシリカヒ ドロゲ ルには直径数 mmの粗大粒子があつたため、 コロイダルミルにより平均粒子径 3 0 μ m以下にまで粉砕した。

この粉枠したシリカヒ ドロゲノレを、 再び容量 2リットルのガラス製反応器に入 れて攪拌しながら温度 80°Cに昇温し、シリカヒドロゲルの S i 0₂質量に対する ポリ塩化アルミニウムの A 1₂0₃質量比が 100/15となる量のポリ塩化アル ミニゥム水溶液 （多木化学社製、 商品名 ：タキバイン # 1500、 Al ₂0₃濃度 23. 5%、 C 1濃度： 8. 1%、 以下全て同じ） を約 10分間かけて徐々に添 加した。 添加終了後、 温度 80°Cで 1時間攪拌した後、 室温にまで冷却した。 この反応液に 5m o 1 ZLの水酸化ナトリゥム溶液を加えて、 反応液の pHを 7に調製した後、 限外濾過装置を使用して、 濾液の電導度が 50 S/ cm以下 に低下するまで精製した。 この精製した溶液中の総固形分量の 3 %となる量のァ ミ ド硫酸を添加して、 減圧下で加熱濃縮し、 冷却後、 直径 0. 5 mmのジルコ二 ァ製ビーズのビーズミルを使用して粉碎し、 濃度 23%、 p H 5、 一次粒子径 1 6 nm、 凝集粒子径 290 nmのシリカアルミナ複合ゾルを得た。 受理層処方 3 シリ力分散液 （固形分濃度 14%) : 100質量部

ポリビニルアルコール（クラレ社製、商品名 P V A— 420、固形分濃度 7 %) ： 50質量部

(シリカ分散液の製造方法）

気相法シリ力微粒子 （日本ァエロジル社製、 商品名 「ァエロジル 300」 ) と 水の混合液を、 高速回転式コロイドミル （ェム ·テクニック社製、 商品名 「タレ ァミックス」 ） を用いて、 10， 000 r pmで 30分間分散処理を行いシリカ 分散液を得た。 受理層処方 4

メチルセルロース （信越化学社製、 商品名 「メ トリーズ SM1 5」 ） ： 100 不定形シリカ （富士シリシァ化学社製、 商品名 「サイリシァ 370」 ） ： 0. 03質量部 - メチルセルロースは固形分濃度 3 %の溶液であり、これに不定形シリ力を混合、 攪拌して水系塗布液を得た。 受理層処方 5

変性ウレタン樹脂 （大日本インキ化学工業社製 商品名 「パテラコール I J 7 0」 ： 100質量部

上記市販の変性ウレタン樹脂を含む水系塗布液をそのまま使用した。

塗膜形成手段 24は、 回転テーブル 1 5上にその中心軸線 Oを中心として半径 方向に水系塗布液 Sを供給するための供給手段 25を備えている。 この供給手段 25は単一の供給系部 26 (供給源） とこの供給系部 26から複数本に分岐され たノズノレ 27 a、 27 b〜27 hからなるノズノレ部 27とで構成されており、 供 給系部 2' 6の領域に設けた図示しないバルブの開閉によって各ノズル 2 7 a〜2 7 hからの水系塗布液 Sの供給と停止を制御する。 各ノズル 2 7 a〜 2 7 hは例 えばマイクロディスぺンサノズルからなっていて、 ディスク Dの半径方向に並ん で配列されていて、 例えば凹溝 6 a、 6 b間の受理層 5の形成幅に亘つて直線状 に配列されている。 しかも各ノズル 2 7 a〜2 7 hは図 5に示すようにそれぞれ 円形の供給口を有しており、 配列方向の最も内周側に位置する最内周ノズル 2 7 aは供給口が最小の面積とされ、 径方向外側に向けて複数の各ノズル 2 7 b、 2 7 c、 …は供給口の面積が漸次増大し、 最外周ノズル 2 7 hは供給口の面積が最 も大きく設定されている。

そのため、 最内周ノズル 2 7 aから最外周ノズル 2 7 hに向けて漸次単位時間 当たりの供給量が増大するように設定され、 且つディスク D上での単位面積当た りの各ノズル 2 7 a〜2 7 hの供給量はそれぞれ一定に設定されている。 これは ディスク Dに対して径方向に並べられた各ノズル 2 7 a〜2 7 hが同一の角速度 で相対回転する力 .外周に行くほど周速度が増加するためである。 例えば 1 . 5 〜2 . 5 mmの口径にわたって順次口径を大きくしたノズルを、 隣り合うノズノレ と接触させて最内周から最外周へと直線上に配列して設置し、 0 . 4〜0 . 5 k g / c m ²の供給圧力で共通の供給源から塗布液を供給することができる。

各ノズル 2 7 a〜2 7 hからの水系塗布液 Sの塗布によって凹溝 6 a , 6 b間 の中央領域 6 cに円環状の塗膜 S aを形成する。

次に図 6に示すレべリング部 A 5では、 振動手段 2 9が設けられている。

振動手段 2 9において、 ディスク Dを吸着支持する回転テーブル 1 5は、 例え ば板状の保持部材 3 0上に支持されている。 保持部材 3 0は例えば金属製で超音 波伝達手段を構成し、 保持部材 3 0の他端には回転テーブル 1 5から外れた位置 に例えば超音波振動子または圧電素子からなる超音波発振器 3 1が取付けられて いる。 超音波発振器 3 1を起動することで、 発生した超音波の振動は保持部材 3 0から回転テーブル 1 5を介してディスク D上の塗膜 S a へ伝達され、 塗膜のレ ベリングを強制的に行える。

例えば超音波発振器 3 1として P Z T振動子を用い、 電力 8 0 W、 周波数 2 8 〜 4 5 k H zの縦振動を 5秒間発振させては 1 5秒間の休止をとることで、 5秒 間の振動を 2〜 3回程度繰り返して行う。 これによつてディスク Dの振動が超音 波発振器 3 1の振動に追従して行われ、 塗膜の平坦化がなされる。

各ノズル 2 7 a— 2 7 hによる複数の水系塗布液 Sはそのレペリング性能によ つて相互に平坦ィ匕され得るが、 ノズル部 2 7をディスク Dに対して相対的に 1回 転させて塗布を終了する際に各ノズル 2 7 a— 2 7 hからの水系塗布液 Sの供給 を停止させると塗布の支点と終点が重なることで各ノズル 2 7 a… 2 7 hからの 塗布液間に形成される畝状の凹凸よりも大きな凹凸が形成される。 このような大 きな凹凸は振動手段 2 9によるレペリング作用で容易に平坦化できる。

次に乾燥部 1 2に配設された乾燥手段について図 7 Aおよび図 7 Bにより説明 する。

図 1に示す乾燥部 1 2では、 印刷面 4 aに円環状の塗膜 S aが形成されたディ スク Dをリング状の搬送部材 1 8で回転搬送させながら塗膜の乾燥を行う。 乾燥 手段 3 3では、 搬送部材 1 8に所定間隔で複数の面状発熱体 3 4が配列され、 各 面状発熱体 3 4上に塗膜 S aが形成されたディスク Dが略同心に載置されること になる。

面状発熱体 3 4は、 図 Ί Aに示すように、 径の異なるリング状の複数 （図では 3枚） の面状ヒータが同心円状に嵌合状態に配列されており、 これらを内側から 外側に向けて第一ヒータ 3 5、 第二ヒータ 3 6、 第三ヒータ 3 7とする。 各ヒー タの加熱温度は第一ヒータ 3 5が最も高く （例えば約 1 3 0 °C) 、 次いで第二ヒ —タ 3 6 (例えば約 9 0 °C) 、 第三ヒータ 3 7 (例えば約 8 0 °C) と順次加熱温 度が低く設定され、 約 3分間程度加熱する。 そして第一乃至第三ヒータ 3 5〜3 7の上面には熱容量の大きい （比熱の大き い） 金属円板状のトレー 3 8が取り付けられ、 トレー 3 8の上にディスク D全体 が密着して載置されることになる （図 7 B参照） 。 トレー 3 8を第一乃至第三ヒ ータ 3 5〜3 7とディスク Dとの間に配設することでディスク Dに伝達される半 径方向の温度勾配を滑らかにすることができる。 トレー 3 8を設けないと、 温度 差によってディスク Dの塗膜 S aに各ヒータ 3 5〜 3 7の発熱体パターンの形が 熱転写されてしまうことになる。 例えば第一、 第二、 第三ヒータ 3 5、 3 6、 3 7の加熱によるトレー 3 8とディスク Dとの間の温度はそれぞれ 9 5 . 7 °C、 8 6 . 0 °C、 7 7 . 5 °C程度で、 温度差は 1 0 °C〜2 0 °C程度に設定されることが 好ましい。 トレー 3 8の材質としては温度勾配を維持しうるように熱伝導率 （k ) が小さい、 例えば熱伝導率 = 2〜2 O W/m · K程度の範囲の、 S U Sや石英ガ ラス等が好ましい。

図 7 Bにおいて、 第一乃至第三ヒータ 3 5〜3 7にはヒータコントローラ 3 9 a、 3 9 b、 3 9 cがそれぞれ電気的に接続されており、 図示しない制御手段に よって P I D制御される。

図 8において、 面状発熱体 3 4上にディスク Dが载置された状態でディスク D の外側には有蓋筒状のディスク押え 4 1 (押え部材） 力 Sトレー 3 8上に装着され る。 ディスク押え 4 1はその筒状部の内面下端部分がテーパ部 4 1 aとして全周 に形成され、 このテーパ部 4 1 aがディスク Dの外周角部に当接している。 これ によって、 面状発熱体 3 4でディスク Dを介して塗膜 S aを加熱した際に、 ディ スク Dが熱で歪みやそり等の変形を来すことを防止すべく、 ディスク Dをトレー 3 8に対して押さえつけている。 ディスク押え 4 1の蓋の部分には塗膜 S aの加 熱時に発生する蒸気を逃がす通風口 4 2が設けられている。 通風口 4 2は図示し ないシャツタ部材で開口面積を調整可能であ.り、 これによつてディスク押え 4 1 内部の蒸気密度を制御して塗膜 S aを一定の湿度環境下におき、 結露の発生を抑 えつつ乾燥ムラを防止する。

また、 一般的にディスク Dの塗膜 S aとは反対側の裏面には、 内側に円環状の リブ 4 3が突出しており、 ディスク Dを密着状態で載置させるトレー 3 8にはこ のリブ 4' 3'を収容する円環状の逃げ溝 4 4が形成されている。 この逃げ溝 4 4の 部分の熱伝導が他の領域と不均一になり乾燥後の塗膜に 凸を生じないように、 リブ 4 3との間隙に高分子やシリコン等の充填材 （パテ） を充填して熱伝導性を 補っている。 なお、 塗膜 S aは乾燥することで受理層 5を形成するが、 乾燥する と半透明になるために、 受理層 5の下面に白い下地層 4 5を設けておくことが好 ましい。

本実施例による受理層形成装置 1 0は上述の構成を備えている。 次に、 この装 置 1 0を用いた受理層形成方法を、 図 9に示すフローシートに沿って説明する。 先ず図 1において、 受理層形成装置 1 0の塗膜形成部 1 1で、 ディスク基板 2 と情報記録層 3とディスク基板 4が積層されてなるディスク Dの 1つを、 図示し ない受け渡し手段で、 供給部 1 6からスぺーサを除いて受け渡し部 A 1の回転テ 一ブル 1 5上に供給して載置する （ステップ 1 0 1 ) 。 各回転テーブル 1 5では ディスク Dは図示しない吸着手段で下面を吸引されてほぼ同軸に保持される。 そ して回転板 1 4を間欠回転すると、 ディスク Dは順次供給部 1 6から受け渡し部 A 1の回転テーブル 1 5に供給される。

回転板 1 4を所定角度 （ここでは 6 0 ° ) 回転させることで、 ディスク Dは受 け渡し部 A 1から仕切り部形成部 A 2に移動し、 ディスク Dは図 2に示すように 切削手段 2 0の下方に位置させられる。 そして各切削刃 2 0 aが印刷面 4 aの円 環状の受理層 5を形成すべき領域の内周側及び外周側縁部に位置した状態で降下 させてディスク基板 4に切り込みを入れる。 同時に回転テーブル 1 5を自転させ てディスク Dを中心軸線〇回りに 1回転させる。 これによつて、 各切削刃 2 0 a 基板 4を切削して両側に押し分けて、 リング状の凹溝 6 a、 6 bをそ れぞれ形成する （ステップ 1 0 2 ) 。 得られた各凹溝 6 a、 6 bは断面略 V字状 を呈している （図 1 1 A参照） 。

次に、 前塗布部 A 3に移動させられたディスク Dは、 図 3に示すように各凹溝 6 a、 6 bに対向する位置に凹溝塗布ノズル 2 2、 2 2が位置している。そして、 前塗布工程として、 回転テーブル 1 5を自転させると共に凹溝塗布ノズル 2 2、 2 2から水系塗布液 Sを供給することで、 各凹溝 6 a， 6 bに水系塗布液 Sが充 填され、 印刷面 4 aよりも上方に盛り上がる （ステップ 1 0 3 ) 。 水系塗布液 S の充填によって各凹溝 6 a、 6 bから空気が追い出され、 空気が凹溝 6 a， 6 b 内に残留するのを防止する。 これによつて、 加熱乾燥時に凹溝 6 a， 6 b内に残 留した空気が膨張して上昇し、 破裂して気泡痕を塗膜表面に残すことを防止でき る。 なお、 凹溝塗布ノズル 2 2、 2 2による水系塗布液 Sの単位面積当たりの塗 布量は供給手段 2 5による単位面積当たりの塗布量と同等以上に設定するのが好 ましい。 これによつて凹溝 6 a , 6 bにおける塗布膜厚を中央領域 6 cの塗布膜 厚と同等以上に設定できる。

次に、 本塗布部 A 4にディスク Dが移動させられると、 図 4に示すように印刷 面 4 aに供給手段 2 5が対向して位置する。 供給手段 2 5は、 リング状の凹溝 6 a， 6 b間の径方向に配列された各ノズル 2 7 a〜 2 7 hを有する。 この状態で 回転テーブル 1 5を自転させながら、 各ノズノレ 2 7 a〜2 7 hから水系塗布液を 供給する （ステップ 1 0 4 ) 。 これを本塗布工程という。 しかも各ノズル 2 7 a 〜2 7 hで供給される水系塗布液 Sは、 各ノズル 2 7 a〜2 7 hの相対移動方向 (周方向） と配列方向 （径方向） とにそれぞれ相互に一部重複した状態で例えば 液滴状または山状に連続して塗布される （図 1 0参照） 。 なお、 回転テーブル 1 5は、 印刷面 4 aに塗布された水系塗布液 Sについて遠心力による展延処理がな されない程度に低速で回転運動させ、 ディスク Dも同一速度の低速で回転運動す る。 この場合、水系塗布液 Sは塗布液全体に対して水分比率が 8割程度であるから、 各ノズル 2 7 a〜2 7 hから印刷面 4 a上に同時に供給された水系塗布液 Sは流 動性が高く相互の親和力がよいためにレペリング作用が働き、 隣り合うノズルか ら供給された塗布液による塗膜は平坦化される。 即ち、 図 1 0 Aおよび図 1 0 B に示すように、各ノズノレ 2 7 a〜2 7 hによって供給された各水系塗布液（S 1 , S 2 ) はその印刷面 4 aの供給位置に保持され、 いわば必要量だけ供給位置に置 かれた状態で、 隣接する塗布液間でレべリング作用がなされ、 連続した塗膜 S a となる。 そのため、 遠心力によるレべリングを用いたスピン塗布のように、 塗膜 S aが遠心力によって内周部から外周部に向けて S寞厚の変化を生じることなく均 一な塗膜が形成される。

本塗布工程で塗布された水系塗布液 Sは前塗布工程で凹溝 6 a , 6 bに塗布さ れた水系塗布液 Sと一体化されて、 凹溝 6 a， 6 bの領域で表面張力によってな だらかな凸曲面を形成する。 このようにして凹溝 6 a， 6 b間で円環状の塗膜 S aが形成される （図 1 1 B参照） 。

塗布終了後に、 ディスク Dはレべリング部 A 5に搬送される。 図 6に示すよう に、 水系塗布液 Sが塗布された塗膜 S aをディスク基板 4上に形成したデイスク Dは、回転テーブル 1 5と共に振動手段 2 9の保持部材 3 0上に載置させられる。 そして振動手段 2 9の超音波発振器 3 1を起動すると、 発生した超音波の振動は 保持部材 3 0から回転テーブル 1 5を介してディスク D上の塗膜 S aへ伝達され る。 例えば 2 5〜 4 5 k H zの周波数、 8 0ヮット程度の出力で 5秒間の超音波 振動を約 1 5秒の休止時間を介して 2〜 3回程度励起することで、 水系塗布液 S を短時間で強制的にレべリングすることができる （ステップ 1 0 5 ) 。

このような超音波によるレべリング作用を行うことにより、 凹溝 6 a， 6 b間 の塗膜 S a全体の平滑化および厚さ均一化を達成できる。 特に、 本塗布工程にお いて、 塗布開始点と終了点で不可避的に塗布液が重複して、 塗膜表面の凹凸が他 の領域よりも大きくなるが、 超音波振動によって短時間で強制的に平滑化するこ とができる。

そしてディスク Dは排出部 A 6まで搬送され、 この位置で回転テーブル 1 5か ら移载部 1 7を介して乾燥部 1 2へ送られてリング状の搬送部材 1 8の一つの面 状発熱体 3 4にトレー 3 8を介して載置される。 搬送部材 1 8が間欠的に回転す ることで、 塗膜形成手段 1 1から順次搬送されてくるディスク Dを面状発熱体 3 4上に载置して 1周する間に乾燥させる。

面状発熱体 3 4上のディスク Dは、 図 7に示すように、 各ヒートコントローラ 3 9 a、 3 9 b、 3 9 cにより第一、 第二、 第三ヒータ 3 5 , 3 6， 3 7がそれ ぞれ同時に互いに相違する所定温度で加熱されると、 円板状のトレー 3 8を介し て熱が伝達される。 このとき、 トレー 3 8では各ヒータ 3 5， 3 6， 3 7の温度 差が各境界部で互いに熱交換されてなだらかな温度勾配を呈することになり、 デ イスク Dでは内周側から外周側に向けて 1 0〜2 0 °C程度の温度勾配を有しつつ 同時に加熱されてデイスク基板 2からディスク基板 4を通して塗膜 S aに裏面か ら伝達される。 これによつて塗膜 S aは裏面から表面に向けて全面が徐々に加熱 されると共に温度勾配のために小径の内周側から大径の外周側に向けて徐々に乾 燥が進む。

' そのため、 塗膜 S aの乾燥処理に際して膜厚が 1ダ5程度に収縮されても乾燥 収縮による皺やひびの発生を防止できる。 しかも、 塗膜 S aは裏面から表面に向 けて加熱されるために先に表面に皮膜が形成されることがなく、 この点からも皺 やひびを防止できる。

また、 乾燥に際して凹溝 6 a , 6 bでは內側のエッジが垂直に切り立って凹溝 上に充填される塗布液の深さが、 中央領域 6 cの塗膜 S aの厚みと同等以上に設 定されているために、 凹溝 6 a、 6 b部分に形成される塗膜が中央領域 6 cの塗 膜より先に乾燥することがない。 そして凹溝 6 a、 6 bのある内外周側端部が先 に乾燥収縮することによつて水系塗布液 Sが中央側に流動するのを防止できる。 そのため、 塗膜 S aは乾燥によって凹溝 6 a , 6 b間で全体に平坦で均一な膜厚 の受理層 5として形成される （図 1 1 C参照） 。

搬送部材 1 8の面状発熱体 3 4に载置されたディスク · Dは、 搬送部材 1 8力 S 1 回転する間に乾燥処理を終了して、 図示しない受け渡し手段で持ち上げられてス タック部 1 9にスぺーサを介して積み上げられる。

従って、 本実施例による光ディスク 1によれば、 受理層 5にインクジェットプ リンタでィンクを塗布すると、 塗布領域全体にわたって鮮明な印刷画像を得るこ とができる。 特に多孔質インク受理層 5の場合には、 インクは全面に！:つてほぼ 均一な膜厚に形成された受理層 5内の多孔で受容されるため各孔を溢れて外部に 滲み出ることがなく、 鮮明な印刷画像が得られる。

上述のように本実施例によれば、 径方向に配列した各ノズル 2 7 a〜 2 7 hを ディスク Dに対して相対的に 1周させて水系塗布液 Sを必要量だけ塗布すること で無駄なく塗膜 S aを形成でき、 塗膜 S aに各ノズルの軌跡に沿う畝状の凹凸は 残らず、 水系塗布液 Sが乾燥し始める前に塗布とレベリングを終了できる。

しかも、 振動手段 2 9によって塗布終了時に残る塗膜 S aの凹凸を確実に平滑 化できる。 そのため、 水系塗布液 Sをディスク Dに塗布 '乾燥させて平坦で均一 な膜厚の受理層 5を形成することができる。

また、 受理層 5の内周側及び外周側縁部に凹溝 6 a， 6 bを形成したことで、 乾燥時に塗膜 S aの内周側及び外周側縁部が先に乾燥して収縮し塗布液 Sが中央 領域 6 c方向へ流動するのを防止して全体に均一な膜厚の受理層 5を形成できる。 しかも、 先に凹溝 6 a， 6 bに水系塗布液 Sを塗布することで内部に空気を残留 させることを防止でき、 加熱乾燥時に気泡痕を塗膜 S aに生じさせない。

また、 乾燥時に塗膜 S aの裏面から全体を加熱し且つ温度勾配を持たせたこと で乾燥後の受理層 5に皺やひびを生じさせず膜厚が均一になる。 従って、 受理層 5にインクジヱットプリンタ等で印刷を施す場合、 少なくとも凹溝 6 a， 6 b間 の中央領域 6 c上の受理層 5では写真画像に匹敵した画質が得られ、 全体的にも 鮮明な画像を得ることができる。 このようにしてインクの受理層 5を設けたディ スク Dを大量生産する方法と装置を得られる。 変形例

次に本実施例による受理層形成方法及び装置 1 0の変形例について述べるが、 上述の実施例と同一または同様の部材、 部品には同一の符号を用いて説明する。 凹溝 6 a , 6 bの変形例について図 1 4〜図 1 6に基づいて説明する。

図 1 4は第 1変形例による凹溝 4 7 ( 4 7 a、 4 7 b ) を示す部分縦断面図で ある。 図中、 凹溝 4 7は断面略四角形に形成され、 円環状をなす受理層 5の内周 側境界部 5 a及ぴ外周側境界部 5 bの全周に亘つて形成されている。 この凹溝 4 7は幅 Wの全幅に亘つて深さ dに形成されているために、 深さ dを中央領域 6 c における塗膜 S aの膜厚と同等またはそれ以上に設定すれば、 凹溝 4 7内の塗膜 S aの厚みは全幅に亘つて中央領域 6 cの膜厚以上に設定される。

図 1 5は第 2変形例による凹溝 4 8 ( 4 8 a、 4 8 b ) を示す部分縦断面図で ある。 図中、 凹溝 4 8は、 受理層 5の内周側境界部 5 a及び外周側境界部 5 bの 全周に亘つて形成されていて、 実施例による凹溝 6 a、 6 bとは逆に受理層 5の 外側縁部で最大深さ dで垂直に降下し、 中央領域 6 cに向けて直線状または凸曲 線状に上昇する傾斜面を形成する断面略直角三角形状を呈している。

この場合、 塗膜 S aは、 凹溝 4 8 a、 4 8 と中央領域 6 cとで全体にほぼ均 一膜厚に形成される。 そのため、 この変形例の場合、 凹溝 4 8 a、 4 8 bを含め て受理層 5の膜厚は全体にほぼ均一に形成される。

図 1 6は第 3変形例による凹溝 4 9 ( 4 9 a , 4 9 b ) を示す部分縦断面図で ある。 この凹溝 4 9は、 受理層 5の内周側境界部 5 a及び外周側境界部 5 bの全 周に亘つて形成されていて、 第 2変形例の凹溝 4 8と同様に断面略直角三角形状 とされている。 凹溝 4 9の外側には凸部 5 0が全周に形成されている。 凸部 5 0 の高さは乾燥後の受理層 5の膜厚と同等に形成してもよい。 この場合、 03溝 4 9 の最大深さ dは凸部 5 0の高さ分だけ凹溝 4 8の深さより浅く形成している。 こ れにより、 受理層 5は凹溝 4 9における傾斜角度が小さくなる。

これらの変形例においても、 少なくとも各凹溝に充填される塗布液の深さが中 央領域での膜厚と同等以上であるために、 乾燥時に塗布液の流動に起因する膜厚 変動は抑止でき、 凹溝で囲まれた中央領域 6 cでの受理層 5の膜厚は境界部まで 均一で平坦なものが得られる。

なお、 受理層 5を形成する塗布液の塗布領域を仕切る仕切り部として、 上述の 凹溝 6 a、 6 b等に代えて凸部を形成してもよい。 次に凸部の形成方法を図 1 7 により説明する。

受理層形成装置 1 0において、 仕切り部形成部 A 2には切削手段 2 0に代えて 図 1 7に示す第二供給手段 5 2が仕切り部形成手段として設けられている。 第二 供給手段 5 2は、 一対の供給ノズル 5 2 a， 5 2 aで構成され、 それぞれ円環状 の塗布領域の内周側及び外周側縁部 5 a、 5 bにそれぞれ対向して位置している。 各供給ノズル 5 2 aは例えばマイク口ディスペンザからなる単一ノズルで構成さ れ、 その塗布剤 S 3は、 例えば塗布剤 Sよりも粘度の高い紫外線硬化性組成物か らなっている。 各供給ノズル 5 2 aで形成された凸部 5 3 a、 5 3 aは、 その高 さが水系塗布液 Sによる塗膜 S aの膜厚と同等か若干低くなるように設定するこ とが好ましい。 これにより塗膜 S aの内外周側縁部が表面張力で凸部 5 3 a , 5 3 aに接触するため、 全体に均一膜厚の塗膜 S aを形成でき、 乾燥後も均一な膜 厚の受理層 5を形成できる。

受理層形成工程において、 回転テーブル 1 5に略同軸に载置されたディスク D が仕切り部形成部 A 2の位置に移動させられると、 第二供給手段 5 2の一対の供 給ノズル 5 2 a , 5 2 aが進出し、 形成すべき受理層 5の内周側及び外周側縁部 5 a、 5 bにそれぞれ対向して位置する。 この状態で、 回転テーブル 1 5を中心 軸線〇回りに回転させ、 供給ノズル 5 2 a , 5 2 aに対してディスク Dを相対回 転させる。 これと同時に供給ノズル 5 2 a、 5 2 aから塗布剤 S 3を供給させる ことで、 印刷面 4 aにおける受理層 5の内周側及び外周側縁部 5 a、 5 bに断面 略山状の連続した凸部 5 3 a , 5 3 aをそれぞれリング状に形成する （図 1 7 A 参照） 。 凸部 5 3 a、 5 3 aは粘度の高い塗布剤 S 3を用いているために塗布後 に凸部が周囲に流動したり崩れたりせず、 高い成形性で凸形状を維持する。

次に各凸部 5 3 a、 5 3 aに紫外線を照射することで硬化させる （図 1 7 B参 照） 。 これによつてリング状の内周側及び外周側の凸部 5 3 a、 5 3 aが形成さ れる。

次に本塗布部 A 4にディスク Dが移動させられると、 図 4に示すように凸部 5 3 a , 5 3 a間に対向する位置に供給手段 2 5が進出し、 塗膜 S aを形成するた めに水系塗布液 Sを凸部 5 3 a , 5 3 a間に塗布する。

なお、 仕切り部としての凹溝や凸部は上述の実施例のように受理層形成工程で 形成することに限定されない。 受理層形成工程の前工程、 例えばディスク Dの製 作時にディスク基板 4と一体成形または別個成形等で形成してもよい。

また、上述の実施例では、供給手段 2 5の各ノズル 2 7 a〜 2 7 hの供給口 （ノ ズルの断面） の形状を円形としたが、 供給口の形状は円形に限定されることなく 正方形や楕円形等の任意の形状を採用できる。

更に、 上述の実施例では、 径方向に配列された複数のノズノレ 2 7 a〜2 7 hを 直線状に半径方向に配列した供給手段 2 5を用いたが、 これに代えて図 1 8に示 すように複数のノズル 2 7 a〜2 7 hを互いに接触させた状態で千鳥状に径方向 に配列してもよい。 このような配列構成にすれば、 径方向の各ノズノレ 2 7 a〜 2 7 hから供給されディスク基板 4上に置かれた断面略半円状の各水系塗布液 Sに ついて、 隣接する水系塗布液 S同士を径方向及び周方向により確実に一部重複状 態に塗布できる。

また上述の実施例において、 複数のノズル 2 7 a〜2 7 hについて各供給口の 面積 （ノズルの断面積） を径方向外側に向けて漸次増大させる構成としたが、 こ れに代えて各ノズル 2 7 a〜2 7 hの各供給口の面積を同一に設定し、 各ノズル 2 7 a〜2 7 hから供給する水系塗布液 Sの供給量を径方向外側に向けて漸次増 大するように設定して、 ディスク Dの印刷面 4 aでの単位面積当たりの塗布量が 均一になるように制御してもよい。 この場合、 各ノズル 2 7 a〜2 7 h毎の水系 塗布液 Sの供給圧力を変化させることで供給量を制御すればよい。

また実施例に示す受理層形成装置 1 0では、 ディスク Dを回転テーブル 1 5で 低速且つ定速回転させ、 供給手段 2 5を印刷面 4 aに対向させた状態で静止状態 で保持する構成としたが、 これとは逆にディスク Dを静止状態に保持し、 供給手 段 2 5を中心軸線 O回りに定速回転させて水系塗布液 Sをそれぞれ供給するよう にしてもよい。 いずれにしてもディスク Dと供給手段 2 5とが相対移動すればよ レ、。

次に供給手段 2 5の変形例について図 1 9により説明する。

図 1 9においてディスク Dは図示しない回転テーブル 1 5上に静止状態で載置 されている。 水系塗布液 Sを供給する供給手段 5 5は、 単一の塗布剤供給 であ る供給系部 2 6と、 この供給系部 2 6力 ら分岐された複数のノズノレ 5 6 aを有す るノズル部 5 7とを備えている。 複数のノズル 5 6 aは、 ディスク Dの印刷面 4 aの受理層形成領域全体に対向して配列されている。 ノズル部 5 7も静止状態に 保持されて水系塗布液 Sを個々のノズル 5 6 aから供給することになる。

この例では、 受理層 5を形成すべき領域が円環状に形成されているために、. ノ ズル部 5 7も多数のノズル 5 6 aが同様にリング状に径方向及び周方向に配列さ れて略蜂の巣型に形成されている。 しかも個々のノズル 5 6 aの供給口は同一の 面積を有している。

従ってこのような供給手段 5 5を用いてディスク Dに水系塗布液 Sを塗布する には、 ノズル部 5 7の複数のノズル 5 6 aから同一量の塗布剤を供給して印刷面 4 a上で各水系塗布液 Sの液滴が相互に一部重なる程度の量を供給する。

特に本実施例によれば、 ディスク Dもノズル部 5 7も静止状態で水系塗布液 S の供給を行うから塗布作業をより短時間で正確に行うことができ、 レベリング処 理をより確実に自然乾燥前に行えるという利点がある。

また、 本発明は光ディスク 1等のコンパクトディスクに限らず他のディスクを 含む各種の被塗布物に適用できる。 また、 本発明は、 液状の塗布剤として水系塗 布液 Sに限定されることなく、 各種の液状の塗布剤を使用できる。 産業上の利用の可能性

本発明は、 コンパクトディスク等の各種のディスクに、 インクジェットプリン タ等によって各種の画像や文字情報等を鮮明に印刷することができる受理層を形 成するための方法及び装置、 およびそのような受理層を備えたデイスクに利用で きる。

Claims

請求の範囲

)塗布領域に塗布液を塗布して塗膜を形成し、 該塗膜を乾燥させ て受理層を形成するインクジェット用受理層形成方法であって、

前記ディスク上の前記塗布領域と非塗布領域の境界に塗布液を仕切る仕切り部 を形成し、

前記仕切り部で仕切られた塗布領域の各供給位置に、 配列された複数のノズル によって、 単位面積当たりほぼ一定量の塗布液を供給し、

隣り合う供給位置に供給された塗布液をレベリングして塗膜を形成し、 前記塗膜を乾燥させて前記塗布領域全体にわたり受理層を形成するィンクジヱ ット用受理層形成方法。

2 . 請求項 1に記載のィンクジ ット用受理層形成方法であって、 前記仕切り部 は凹溝であり、 前記凹溝同士に囲まれた領域に前記塗布液を塗布する。

3 . 請求項 2に記载のィンクジェット用受理層形成方法であって、 前記凹溝の深 さの最大値は、 該凹溝で囲まれた領域における塗膜の膜厚と同等かそれ以上に形 成されている。

4 . 請求項 1に記載のインクジェット用受理層形成方法であって、 前記仕切り部 は紫外線硬化性組成物をディスクに塗布した後、 紫外線を照射して硬化した凸部 である。

5 . 請求項 1に記載のィンクジュット用受理層形成方法であって、 前記複数のノ ズルはディスクの半径方向に配列されていて、 各ノズルの開口面積は、 半径方向 外側のノズルほど増大しており、 塗布液が遠心力で流動しない速度で前記複数の ノズノレと前記ディスクとを相対回転させながら、 前記塗布領域に塗布液を塗布す る。

6 . 請求項 1に記載のィンクジヱット用受理層形成方法であって、 前記複数のノ ズルは塗布領域の全面に対向して配列されていて、 前記複数のノズルと前記ディ スクを相対回転させることなく塗布する。

7 .請求項 1に記載のィンクジヱット用受理層形成方法であって、前記塗布液は、 含まれる固形分の比率が 2 0 %程度とされた水系塗布液である。

8 .請求項 1に記載のィンクジヱット用受理層形成方法であって、前記塗布液は、 顔料とバインダーを含有していて多孔質の受理層を形成する水系塗布液である。

9 . 請求項 8に記載のィンクジェット用受理層形成方法であって、 前記顔料は、 アルミナ、 シリカ、 シリカアルミナ複合粒子、 ベーマイ ト、 および気相法合成シ リカから選択される少なくとも 1種である。

1 0 . 請求項 7に記載のインクジ-ット用受理層形成方法であって、 前記塗布液 は、 親水性高分子を含有していて膨潤型のインク受理層を形成する水系塗布液で ある。

1 1 . 請求項 7に記載のィンクジヱ ト用受理層形成方法であって、 前記塗布液 は、 水溶性高分子を含有していて膨潤型のィンク受理層を形成する水系塗布液で ある。

1 2 . 請求項 1に記載のィンクジェット用受理層形成方法であって、 前記塗布領 域全体にわたり前記塗布液を供給し、 前記塗膜を形成した後に、 該塗膜に振動を 与えることで平坦ィ匕するレペリング工程を有する。

1 3 . 請求項 1に記載のインクジェット用受理層形成方法であって、 前記塗膜の 乾燥は、 前記ディスクの背面に設けた加熱手段により、 該塗膜の内側端から外側 端に向けてなだらかに低下する温度勾配を形成して行う。

1 4 . ディスク上の塗布領域に受理層を形成するィンクジヱット用受理層形成装 置であって、

前記塗布領域と非塗布領域の境界に塗布液を仕切る仕切り部を形成する仕切り 部形成手段と、

前記仕切り部で仕切られた塗布領域に、 単位面積当たりほぼ一定量の塗布液を 供給するように配列された複数のノズルを有する供給手段とを備え、

前記供給手段の隣り合う各ノズルから塗布領域に供給された塗布液はレベリン グによって平坦化されて塗布領域全体にわたり受理層を形成するように構成され たィンクジェット用受理層形成装置。

1 5 . 請求項 1 4に記載のインクジエツト用受理層形成装置であって、 前記仕切 り部形成手段は、 ディスク上の前記境界に凹溝を形成するための凹溝形成手段で ある。

1 6 . 請求項 1 4に記載のインクジエツト用受理層形成装置であって、 前記仕切 り部形成手段は、 ディスク上の塗布領域の境界に凸部を形成するための凸部形成 手段である。

1 7 . 請求項 1 4に記載のインクジェット用受理層形成装置であつ 、 前記供給 手段の前記複数のノズルはデイスクの半径方向に配列され、 各ノズルの開口面積 は半径方向外側のノズルほど増大して形成されており、 前記供給手段は、 塗布液 が遠心力で流動しない速度で前記複数のノズルとディスクとを相対回転させなが ら、 前記塗布領域に塗布液を塗布する。

1 8 . 請求項 1 4に記載のインクジェット用受理層形成装置であって、 前記供給 手段の複数のノズルは塗布領域の全面に対向して配列され、 前記供給手段は、 前 記複数のノズルとディスクを相対回転させることなく塗布する。

1 9 . 請求項 1 4に記載のインクジエツト用受理層形成装置であって、 前記塗布 領域全体に前記塗布液を供給して形成した塗膜に、 振動を与えて平坦化するレべ リング手段をさらに有する。

2 0 . 請求項 1 4に記載のインクジヱット用受理層形成装置であって、 さらに、 ディスク背面に配置された加熱手段を有し、 前記加熱手段は前記塗膜の内側端か ら外側端に向けてなだらかに低下する温度勾配を形成して該塗膜の乾燥を行う。

2 1 . 塗布領域にインクジエツト用の受理層を形成してなるディスクであって、 前記塗布領域と非塗布領域の境界部に仕切り部が形成され、 該仕切り部で仕切 られた領域に前記受理層が形成されている。

2 2 . 請求項 2 1に記載のディスクであって、 前記仕切り部は凹溝であり、 該凹 溝と凹溝で囲まれた領域に前記受理層が形成されてい 。