WO2004010171A1 - 製造ラインシステム及びそのシステムで用いられる自動倉庫 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a production line system for producing plate products such as color filters, and more particularly to a production line for producing plate products using a cassette for accommodating a plurality of substrates (plate materials).
- System related to various logistics devices used in the system (automatic warehouses with stacker cranes, substrate storage devices, substrate unloading devices). Background technology
- the color filter manufacturing process includes (1) chromium film formation, (2) formation of a black matrix, (3) formation of a colored layer of each color (red, green and blue) having a predetermined pattern, (4) A number of processing steps are included, such as formation of a protective layer, (5) formation of pillars, and ( 6 ) formation of an ITO layer.
- an in-line type manufacturing line system in which a plurality of processing lines for realizing each of the above-described processing steps are connected in series in a single-stroke pattern has been generally used. It is used regularly.
- various methods for manufacturing a color filter there are various methods for manufacturing a color filter, and the most common manufacturing method uses a photolithography method. In this case, the method described in (2) to (5) above is used.
- the processing step is realized as a processing step (plate making step) including a photolithography process. In the plate making process, complex processes such as application of photoresist (colored photosensitive material), drying, pre-beta, exposure, development, rinsing, drying and post baking are required.
- the manufacturing process of a color filter using a photolithography method includes a plurality of plate making processes, which are processing steps including a photolithography process, and depending on the type of a product manufactured as a color filter,
- plate making processes which are processing steps including a photolithography process, and depending on the type of a product manufactured as a color filter.
- recent color filters have different specifications (products) for each product.
- the presence of a rack matrix, the type of black matrix (chromium or resin), the presence of a protective layer, the presence of pillars, the presence of an ITO layer, etc. exist.
- a processing step including a photolithography process generally involves the generation of defects (common defects, etc.) of a product due to the attachment of foreign matter to a photomask.
- defects common defects, etc.
- the plate making process requires the process conditions to be determined in advance when manufacturing products with different specifications (sensitized material used ⁇ line width, film thickness, etc.). Therefore, it is necessary to check the process conditions on that day every day.)
- the plate making line that realizes the plate making process it is necessary to determine the process conditions for the next product after the production of the previous product has been completed. Processing must be performed separately.
- the plate making process usually takes a lot of processing time, and tends to be the rate-determining stage for the entire production line system.
- the plate making line for implementing a specific plate making step may be stopped, To determine process conditions on the plate making line When the processing is performed or when the plate making line reaches the rate-determining stage, all the processing lines are affected, and the operation rate of the entire production line system is reduced.
- the manufacturing process of a color filter using a photolithography method is composed of a number of complicated processes, and any one of the processes (particularly, each process during the plate making process) has a defect in a product. There is a problem that it is easy to occur. In particular, the size of a color filter in recent years has become extremely large, and there is a problem that the non-defective product rate is likely to decrease.
- the present invention has been made in view of such a point, and the arrangement and the like of a plurality of plate making lines for realizing a processing step (plate making step) including a photolithographic process can be flexibly changed. To provide a production line system with uptime Aim.
- Another object of the present invention is to provide a production line system capable of significantly improving the non-defective product rate while maintaining a high line operation rate.
- a further object of the present invention is to provide a manufacturing line system that can effectively prevent breakage of a substrate in a manufacturing process and can flexibly respond to a change in the size of a substrate.
- the present invention is an automatic warehouse that can be used in a production line system, and can reduce the tact time in the loading / unloading operation of cassettes, and has a simple configuration and restrictions on equipment layout.
- the aim is to provide a small automated warehouse.
- the present invention relates to a substrate storage device and a substrate discharge device that can be used in a production line system, and a substrate storage device and a substrate that can shorten a tact time in a substrate storage or discharge operation. It is intended to provide a discharge device.
- the present invention provides, as a first solution, a manufacturing line system for manufacturing a color filter using a cassette containing a plurality of substrates, wherein a cassette containing a plurality of substrates and containing a plurality of substrates is stored.
- a core device for storing empty cassettes, a stocker for storing a plurality of cassettes, and a plurality of cassettes stored in the stocker for a plurality of loading / unloading positions in the stocker and an arbitrary cassette storage position.
- a plurality of processing lines for performing various processes for manufacturing a color filter and A single substrate is ejected from the cassette containing the substrates located at the respective loading / unloading positions to the respective processing lines corresponding to the respective loading / unloading positions, or the processing is performed at the respective processing lines.
- a substrate loading / unloading mechanism for storing the processed substrates one by one in an empty cassette positioned at each of the loading / unloading positions, wherein the plurality of processing lines implement a processing step including a photolithography process. Characterized by including a main plate making line Offer.
- the plurality of processing lines preferably include a spare plate making line that realizes a processing step similar to each of the main plate making lines.
- at least one of the plurality of main plate making lines included in the plurality of processing lines includes a common line generated at the same position on the plurality of substrates to be processed. It is preferable to incorporate a common defect inspection machine for detecting defects.
- the plurality of processing lines include a substrate reproduction line for reproducing a substrate in which a common defect is detected by the common defect inspection device included in the main plate making line. Is preferred.
- the plurality of processing lines include a substrate inspection line for inspecting a processed substrate processed by each of the processing lines, and the substrate inspection line is It is preferable to have an individual defect inspection machine for detecting individual defects occurring at different positions on a plurality of substrates.
- the substrate inspection line further includes a substrate repair device for repairing an individual defect of each of the substrates detected by the individual defect inspection machine.
- the plurality of processing lines may be a common defect or an individual defect by the common defect inspection device included in the main plate making line or the individual defect inspection device included in the substrate inspection line. It is preferable to include a substrate regeneration line for regenerating a substrate on which a defect has been detected.
- the core device includes a plurality of the stockers and the stacker cranes, and at least one stacker crane is disposed in each of the stockers; It is preferable that they are connected to each other via a transfer device that transfers cassettes between the stacker cranes arranged in the car.
- the transfer device is a stacker crane that functions as a substitute for the stacker crane arranged in each of the stockers.
- the plurality of tockers are arranged in a shape of a goose.
- a core device for storing a plurality of substrate-stored cassettes or empty cassettes storing a plurality of substrates, and a stocker for storing a plurality of cassettes.
- a core device having a stacker crane for transporting cassettes stored in the stocker between a plurality of loading / unloading positions in the stocker and an arbitrary cassette storage position; and a core device at each of the loading / unloading positions of the core device.
- a plurality of processing lines connected to perform various kinds of processing on substrates stored in a cassette stored in the core device and stored in the core device, and provided in correspondence with the respective loading / unloading positions of the core device.
- a substrate loading / unloading mechanism that discharges substrates one by one, or stores processed substrates processed in each processing line one by one in empty cassettes positioned at the respective loading / unloading positions.
- the cassette stored and transported by the core device includes left and right side frames, and a plurality of stages having different heights for supporting a plurality of substrates in a horizontal state, being stretched between the left and right side frames.
- a plurality of wires extending along a horizontal plane of the manufacturing line system.
- the plurality of processing lines perform various processes for manufacturing a color filter.
- the present invention provides, as a third solution, a stocker for storing a plurality of cassettes, and a cassette stored in the stocker in an automatic warehouse that handles cassettes for storing a plurality of substrates.
- a stacker crane for transporting between the loading / unloading position in the stocker and an arbitrary cassette storage position, and discharging or cassette of the substrate from the cassette between the stocker and the substrate transporting mechanism, which is provided corresponding to the loading / unloading position of the stocker.
- a cassette positioning mechanism that positions the cassette with respect to the substrate transport mechanism so that the substrate is stored in the cassette; and a cassette transport mechanism that transports the cassette between the stocker and the cassette positioning mechanism.
- the loading / unloading position is a loading position for unloading the cassette from the stocker and To scan Tokka for carrying the cassette, and a goods receipt position and independent from said unloading position, the cassette positioning mechanism, said stocker
- the cassette is moved so as to take any one of a cassette supply position corresponding to the unloading position and a cassette discharge position corresponding to the storage position, and draws a cassette from the cassette transport mechanism at the cassette supply position.
- An automatic warehouse is provided, wherein a cassette is sent out to the cassette transport mechanism at the cassette discharge position.
- the cassette stores the plurality of substrates in a horizontal state, and the cassette positioning mechanism moves the cassette up and down at a pitch corresponding to a storage interval of the substrates.
- the cassette positioning mechanism moves the cassette up and down at a pitch corresponding to a storage interval of the substrates.
- it is a lifting device.
- This effort includes, as a fourth solution, a substrate supply position where a cassette is supplied, a substrate storage position where a substrate is stored in a cassette, and a substrate storage position where a substrate is stored in a cassette.
- a substrate storage device comprising: a substrate loading mechanism for storing a substrate.
- a substrate discharging apparatus for discharging a substrate from a cassette, comprising: a cassette supply position where a cassette is supplied; a substrate discharging position where a substrate is discharged from the cassette; and a collection of the cassette.
- a cassette moving mechanism for moving the cassette so as to take any of the cassette recovery positions to be performed; and a substrate for discharging a substrate from the cassette positioned by the cassette moving mechanism at the substrate discharging position.
- a substrate discharging device provided with a carry-out mechanism.
- a stacker crane type core device for storing a plurality of cassettes accommodating a plurality of glass substrates is provided with a substrate removing mechanism for manufacturing a color filter. Since multiple processing lines for performing various types of processing are connected, a processing step (plate making step) including a photolithography process for forming black matrices and forming a colored layer for each color is realized. It is possible to easily change the arrangement of multiple plate making lines, etc. Depending on the type of product that is manufactured as a filter, the order of these multiple plate-making steps can be changed, or specific plate-making steps can be added or deleted.
- the photolithography process is performed. Even if a defect (common defect, etc.) occurs in the product during the process (including the plate making process), and the plate making line that realizes the plate making process needs to be temporarily stopped, the plate making process is continued in the spare plate making line. It is possible to prevent the operation rate of the entire production line system from decreasing.
- the process conditions for the next product are determined in parallel with the production of the previous product, and The production of the next product can be continued on the plate making line, and it is possible to prevent a reduction in the operation rate of the entire production line system.
- the plate-making line which is the rate-determining stage
- the spare plate-making line together with the plate-making line, it is possible to eliminate the rate-determining stage and reduce the operation rate of the entire production line system. Can be prevented.
- a plurality of glass substrates to be processed are placed on a processing line (plate making line) for realizing a processing step including a photolithography process among processing lines as a manufacturing line.
- a common defect inspection machine to detect common defects that occur at the same position, common defects that cause the generation of a large number of defective products can be detected as early as possible, and the percentage of non-defective products Can be improved.
- the processing as a production line is performed via a substrate loading / unloading mechanism via a stacker crane type core device for storing a plurality of cassettes accommodating a plurality of glass substrates.
- a photomask is used in any of the processing steps (plate making steps) that include a photolithography process for forming black matrices and forming colored layers for each color. Even if a common defect occurs due to the attachment of foreign matter to the surface, only the processing step in which the common defect occurred is immediately stopped to resolve the problem, and the other processing steps are stored in the stocker of the core unit. Process immediately before Production can be continued using the glass substrate that has been processed in step c. Therefore, the non-defective product rate can be improved while maintaining a high line operation rate. .
- a processing line for inspecting a processed glass substrate processed by a processing line as a manufacturing line is connected to the core device.
- a processing line for regenerating a glass substrate in which a common defect or an individual defect is detected by a common defect inspection device or an individual defect inspection device is provided in a core device.
- the glass substrate can be recycled by the substrate recycling device on the processing line (substrate regeneration line).
- the glass substrate is reclaimed by a substrate reclaiming apparatus on a processing line (substrate reclaim line), whereby a substantial yield of products can be improved.
- the glass substrate that eventually becomes defective is not sent to the subsequent process, unnecessary load is prevented from being applied to the subsequent process, and the actual operation rate of the entire production line system is improved. be able to.
- the stacker crane type core device is constituted by a plurality of stockers connected to each other via a transfer device for transferring cassettes, so that the installation area is different.
- the processing line can be flexibly installed with the minimum necessary equipment and any arrangement.
- the stacker crane that functions as a substitute for the stacker crane placed in each stocker as a transfer device, even if the stacker crane fails, the stacker crane as the substitute machine can be used.
- Each stocker using Processing can be continued, and the stability of the entire production line system can be improved.
- a wire for horizontally supporting a substrate by a plurality of wires stretched between left and right side frames Since a cassette of the type is used, the vibration when the cassette is transported by a core machine, such as a stucker crane, can be effectively absorbed by the wire, and a large-sized substrate is used to manufacture a color filter etc. Even in such a case, it is possible to prevent the substrate stored in the cassette from being damaged or damaged.
- substrates of any size up to the maximum size that can be stored in a cassette can be stored, and even if multiple types of color filters are manufactured using the same manufacturing line system, the size of the substrates can be reduced.
- cassettes There is no need to change cassettes at the same time, and it is possible to effectively cope with the production of small quantities and many types. Furthermore, it can store a larger amount of substrates compared to a pin-type cassette, etc., and further improves the ability to respond to a temporary stop of the processing process, which is an advantage of a production line system equipped with a core device. be able to.
- a substrate is discharged from a cassette or stored in a cassette with a substrate transport mechanism.
- the cassette positioning mechanism that positions the cassette relative to the substrate transport mechanism is moved between the cassette supply position corresponding to the unloading position of the stocker and the cassette discharge position corresponding to the loading position, and the cassette transport mechanism is moved at the cassette supply position.
- the cassette is pulled out of the cassette and the cassette is sent out to the cassette transport mechanism at the cassette discharge position, so the next cassette stands by while discharging or storing substrates in the cassette.
- the cassette is transferred by moving the cassette positioning mechanism between the cassette supply position corresponding to the stocking position of the stocker and the cassette discharge position corresponding to the storage position, the moving direction of the cassette is changed. No special re-orientation mechanism is required, and the footprint is also in the cassette supply position and force set discharge position. Since only the positions corresponding to the two positions are required, the configuration is simple and the restrictions on the device layout are small. Further, since a cassette positioning mechanism that moves between a force prolifict supply position for transferring a cassette and a cassette discharge position is configured to relatively move on the same frame as the substrate transfer conveyor, the cassette transfer mechanism is provided. The structure is simpler than in the case where the substrate and the substrate transport conveyor are directly connected to avoid interference between them, and the maintainability is also improved.
- a cassette moving mechanism is used to control any one of a cassette supply position, a substrate storage position, and a cassette collection position. Then, the cassette is moved so as to take up the substrate, and at the substrate storing position, the substrate loading mechanism stores the substrate in the cassette positioned by the cassette moving mechanism. For this reason, the storage of the substrates in the cassette is stopped only while the cassette is moving, and when the storage of the substrates in the cassette is completed, the cassette is moved from the substrate storage position to the cassette collection position. Since the cassette is moved from the cassette supply position to the substrate storage position at the same time as the movement of the substrate, the tact time in the substrate storage operation can be shortened.
- the cassette moving mechanism is configured to control any one of a cassette supply position, a substrate discharging position, and a cassette collecting position. Then, the cassette is moved so that the substrate is discharged, and at the substrate discharge position, the substrate is unloaded from the cassette positioned by the cassette moving mechanism by the substrate unloading mechanism. For this reason, the ejection of the substrate from the cassette stops only while the cassette is moving, and when the ejection of the substrate from the cassette is completed, the cassette is moved from the substrate ejection position to the force set collection position. At the same time, the cassette is moved from the cassette supply position to the substrate discharge position, so that the tact time in the substrate discharge operation can be shortened.
- FIG. 1 shows an overall configuration of a manufacturing line system according to a first embodiment of the present invention.
- FIG. 1 A first figure.
- FIG. 2 is a schematic plan view showing a configuration of a main part of the production line system shown in FIG.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the production line system shown in FIG. 2 along the line III-III.
- FIG. 4 is a schematic sectional view of the production line system shown in FIG. 2 taken along the line IV-IV.
- FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the board transfer conveyor in the production line system shown in FIG.
- FIG. 6 is a schematic diagram showing an entire configuration of a manufacturing line system according to the second embodiment of the present invention.
- FIG. 7 is a diagram showing an example of a layout design of the manufacturing line system shown in FIGS. 1 and 6.
- FIG. 8 is a diagram showing another example of the layout design of the manufacturing line system shown in FIGS.
- FIGS. 9 and 10 are diagrams showing another example of the connection mode between the stockers in the core device (the core device having a plurality of stockers) as shown in FIG.
- FIG. 11 is a schematic plan view showing a configuration of a main part of a production line system according to the third embodiment of the present invention.
- FIG. 12 is a side view showing details of a stacker crane of the production line system shown in FIG. 11 together with a cassette containing glass substrates.
- FIG. 13 is a front cross-sectional view of the stacker crane shown in FIG.
- FIG. 14 is a perspective view showing an example of the substrate loading / unloading mechanism of the production line system shown in FIG.
- FIG. 15 is a perspective view showing another example of the substrate loading / unloading mechanism of the production line system shown in FIG.
- FIG. 16 is a schematic plan view showing an automatic warehouse according to the fourth embodiment of the present invention, together with a state in which a glass substrate is carried out.
- FIG. 17 is a schematic side view of the automatic warehouse shown in FIG.
- FIG. 18 is a schematic plan view showing an automatic warehouse according to the fourth embodiment of the present invention, together with a state in which a glass substrate is carried in.
- FIG. 19 is a schematic side view of the automatic warehouse shown in FIG.
- FIG. 20 is a schematic plan view showing a substrate storage device according to a fifth embodiment of the present invention together with a state in which a glass substrate is loaded.
- FIG. 21 is a schematic plan view showing a substrate discharge device according to a sixth embodiment of the present invention together with a state in which a glass substrate is carried out.
- a production line system 1 includes a plurality of substrate-stored cassettes storing a plurality of glass substrates or a stacker for storing empty cassettes.
- the crane-type core device 10 is connected to each of a plurality of loading / unloading positions (loading position C 1 and loading position C 2) of the core device 10, and the substrate stored in the core device 10 is already stored.
- a plurality of processing lines 20, 30,..., 70, 90 for performing various kinds of processing for manufacturing a color filter on the glass substrate housed in the cassette are provided.
- the core device 10 is installed so as to extend linearly on a horizontal installation surface, and each processing line 20, 30,..., 70, 90 is mounted on the installation surface. It is installed so that it protrudes laterally in an inverted U shape from the side.
- each processing line 20, 30,..., 70, 90 has a transport path 15 composed of a conveyor for transporting glass substrates in a horizontal state, 5 and various processing devices 21, 31,..., 96 arranged above.
- the processing line 20 is a processing line for forming a chromium film on a glass substrate, and a processing device (a chromium film forming device 21) is provided on the transfer path 15.
- the processing line 30 is a processing line for patterning chromium formed on a glass substrate to form a black matrix, and a processing device (photoresist coating device 31, Pre-beta unit 32, Exposure unit 33, Developing unit 34, Cleaning unit 35, Etching unit 36, Stripping unit 37, and Bost baking unit 38) is provided.
- a photoresist coating device 31 When the plaque matrix is made of a resin, processing is performed by a photoresist coating device 31, a pre-beta device 32, an exposure device 33, a developing device 34, a cleaning device 35, and a post-beta device 38.
- Each of the processing lines 40R, 40G, and 40B is a processing line for forming a colored layer of each color (red, green, or blue) having a predetermined pattern on a glass substrate.
- Photoresist (coloring material) coating device 41, pre-baking device 42, exposure device 43, developing device 44, cleaning device 45, and post-baking device 46) are provided.
- the processing line 50 is a processing line for forming a protective layer on a glass substrate.
- a processing device photoresist coating device 5 1, Pre-bake unit 5, Exposure unit 53, Developing unit 54, Cleaning unit 55 and Post beta unit 56.
- the processing line 60 is a processing line for forming a columnar body on a glass substrate.
- a processing device photoresist coating device 61, A pre-bake device 62, an exposure device 63, a developing device 64, a cleaning device 65, and a Boss beta device 66
- photoresist coating device 61, A pre-bake device 62, an exposure device 63, a developing device 64, a cleaning device 65, and a Boss beta device 66 are provided.
- the processing line 70 is a processing line for forming an ITO layer on a glass substrate, and a processing apparatus (ITO film forming apparatus 71) is provided on the transport path 15. In the case of manufacturing an STN type color filter, it is necessary to pattern the ITO layer. In this case, the processing line 70 is provided with the same processing equipment as the processing line 30 (coating equipment, pre-beta equipment, An exposure device, a developing device, a cleaning device, an etching device, a peeling device, and a bost baking device) may be provided.
- the processing line 90 is a spare plate making line that realizes the same processing steps as the processing lines 40R, 40G, 40B, 50, and 60.
- the processing line 40R, 40G, 40B, The same processing equipment as 50 and 60 (coating equipment 91, prebake equipment 92, exposure equipment 93, developing equipment 94, cleaning equipment 95, and post-beta equipment 96) is provided.
- the processing line 90 is a processing line 40R, 40G, It can be used as an alternative line for 40B, 50, 60, or as an additional line required when manufacturing products with pillars on MVA barriers. In the latter case, the processing is performed by the processing lines 50, 60, 90.
- processing line connected to the core device: L 0 may be used to cut a glass substrate or perform various inspections. And other processing lines can be installed to recycle glass substrates.
- the core device 10 includes a stocker 11 for storing a plurality of cassettes 81 and a cassette 81 stored in the stocker 11. And a stacker crane 12 to be transported inside.
- the stocker 11 has a structure in which a plurality of racks 11a on which the cassettes 81 are placed are arranged in upper and lower tiers.
- the stacker crane 12 travels left and right on a rail 13 extending along the stocker 11 and moves a lifting frame (not shown) up and down to move each of the stockers 11 ⁇ .
- the cassette 81 is transported between the loading / unloading position (unloading position C1 and loading position C2>) and any of the two upper and lower racks 11a (any cassette storage position).
- one stocker 11 is installed on one side of the rail 13, but the present invention is not limited to this, and two stockers may be installed on both sides of the rail 13.
- the racks 11a of the stocker 11 are arranged in two upper and lower tiers, but this is not a limitation, and the racks 11a of the stocker 11 may be arranged in three or more upper and lower tiers.
- 1 Stacker crane on 3 1 Although only 2 travels, the present invention is not limited to this, and two or more stacker cranes may travel on the rail 13.
- each of the loading / unloading positions (unloading position C1 and loading position C2) in the stocker 11 is provided with a substrate loading / unloading mechanism (a substrate loading mechanism 16a and a substrate loading mechanism 16).
- a substrate loading / unloading mechanism a substrate loading mechanism 16a and a substrate loading mechanism 16.
- each board unloading mechanism 16a moves each unloading position from the cassette 81 that has been stored at the unloading position C1 and has stored the substrate.
- the glass substrates 82 are discharged one by one to each processing line (transfer path 15) corresponding to the device C 1, and as shown in FIG. 2 and FIG.
- the processed glass substrates 82 processed on the processing line (transport path 15) are stored one by one in the empty cassettes 81 positioned at the loading positions C 2.
- Each substrate unloading mechanism 16a is composed of a cassette elevating device 17a for elevating and lowering the cassette 81, and a glass substrate from the cassette 81 with the substrates stored therein, which is raised and lowered by the cassette elevating device 17a, to the transfer path 15 And a substrate transfer conveyor 18a for unloading the substrates 82 one by one. Further, each substrate unloading mechanism 16a is provided with a cassette transport device (shown in the figure) for transferring a cassette 81 between the unloading position A1 or the unloading position B1 at the unloading position C1 and the cassette lifting device 17a. Zu). '
- each substrate loading mechanism 16 b includes a cassette elevating device 17 b for elevating and lowering the cassette 81, and a glass substrate 82 from the transport path 15 to the cassette 81 which is moved up and down by the cassette elevating device 17 b. And a substrate transport conveyer 18b for carrying in one by one. Further, each substrate loading mechanism 16b is provided with a cassette transport device (shown in the drawing) for transferring cassettes 81 between the loading position A2 or the loading position B2 at the loading position C2 and the cassette lifting device 17b. Zu).
- the substrate transport conveyors 18a and 18b have a support frame 87 and a roller 88 provided on the support frame 87.
- the cassette 81 includes an upper plate 83, a lower plate 84, a plurality of struts 85 connected to connect the upper plate 83 and the lower plate 84, and a plurality of struts 8.
- the cassette 81 is moved up and down by a cassette elevating device (see FIG. 2), and the substrate transport conveyer 18 a entered through an opening 84 a formed in the lower plate 84.
- the glass substrate 82 comes into contact with the lower surface of the glass substrate 82 stored in the cassette 81,
- the cartridge 81 is carried out to the transport path 15, or is carried in from the transport path 15 to the cassette 81.
- a control device (not shown) is connected to the core device 10 and each of the processing lines 20, 30,..., 70, 90, and the following operations are automatically performed. .
- a plurality of substrate-containing cassettes 81 storing a plurality of unprocessed glass substrates 82 and a plurality of empty cassettes 81 are stored. It shall be kept.
- each of the processing lines 20, 30,..., 70, 90 is processed by the stacker crane 12 of the core unit 10 out of the cassettes 81 in which the substrates are stored in the stocker 11 Take out a specific cassette 81 (a cassette containing glass substrates that have been processed up to the desired processing step) and position it at the unloading position C1. , 70, and 90, the empty cassette 81 stored in the stocking force 11 is positioned at the loading position C2 by the stacker crane 12 of the core device 10. '
- the production of the color filter is realized by sequentially processing the glass substrate 62 in a predetermined order using the processing lines 20, 30,..., 70, 90.
- the glass substrate that has been processed up to the immediately preceding processing step in the cassette 81 in which the substrate is stored in the stocker 11 is stored.
- the stored cassette 81 is selectively positioned.
- the production of color filters by processing lines 20, 30,..., 70, 90 includes, for example, (1) chromium film formation (processing line 20), (2) formation of black matrix (processing line 30), ( 3) formation of red coloring layer (processing line 40R), (4) formation of green coloring layer (processing line 40G), (5) formation of blue coloring layer (processing line 40B), ( 6 )
- the protective layer is formed (processing line 50), (7) the pillars are formed (processing line 60), and ( 8 ) the ITO layer is formed (processing line 70).
- Lines 20, 30,..., 70, 90 are located at unloading position C 1 among cassettes 8 1 containing substrate stored in stocker 1 1
- the cassette 81 containing the glass substrate on which the processing up to the immediately preceding processing step has been performed is selectively positioned.
- the substrate unloading mechanism 16 a provided at the unloading position C 1 collects the substrate stored at the unloading position C 1.
- the glass substrates 82 are discharged one by one from the loaded cassette 81 to the processing line (transport path 15), and the glass substrate is processed in each of the processing lines 20, 30,. A predetermined process is performed on the plate 82.
- the cassette 81 with the substrate stored therein taken out from the specific rack 11 a of the stocker 11 by the stacker crane 12 of the core device 10 is moved to the unloading position C. It is conveyed to 1 outgoing position A1.
- the cassette 81 with the substrates stored at the unloading position A1 is stored in the cassette transport device.
- the cassette elevating device 17a lowers the rollers 81 of the substrate transport conveyor 18a in the state shown in FIG.
- the glass substrates 82 are unloaded one by one from the cassette 81 to the transport path 15 by making contact with the lower surface of the glass substrate 82 located at.
- another cassette 81 in which another glass substrate 82 from which the glass substrate 82 is to be discharged is transported to the unloading position A1. Keep waiting.
- the empty cassette 81 from which all the glass substrates 82 have been carried out moves to the front of the storage position B1 while being raised by the cassette elevating device 17a, and is moved by the cassette carrying device (not shown). It is transported from the cassette elevating device 17a to the receiving position B1. Then, the empty cassette 81 sent to the storage position B1 is stored as a storage cassette in the empty rack 11a in the stocker 11 by the stacker crane 12.
- each processing line 20, 30,..., 70, 90 the processing is performed on the processing line (transport path 15) by the substrate loading mechanism 16 b provided at the loading position C 2.
- the processed glass substrates 82 are stored one by one in the empty force set 81 positioned at the loading position C2. '
- the stacker crane 1 of the core device 10 The empty cassette 81 taken out from the specific rack 11a of the stocker 11 by 2 is transferred to the unloading position A2 at the loading position C2.
- the empty cassette 81 arriving at the unloading position A2 is conveyed to the cassette elevating device 17b by a cassette conveying device (not shown).
- the cassette elevating device 17b receives the glass substrate 82 loaded from the transport path 15 while raising the cassette 81 step by step in the state shown in FIG.
- the glass substrates 82 are loaded one by one from the transport path 15 into the cassette 81.
- another empty cassette 81 in which the glass substrate 82 is to be stored is transported to the unloading position A2, where the cassette 81 stands by. deep.
- the cassette 81 with all the glass substrates 82 stored therein is moved to the front of the storage position B2 by the force set elevating device 17b, and is moved by the cassette transport device (not shown). It is transported from the cassette lifting device 17b to the storage position B2. Then, the cassette 81 having stored the substrates transported to the storage position B2 is stored in the empty rack 11a in the stocker 11 by the stacker crane 12.
- the substrate loading / unloading mechanism (the core loading / unloading mechanism (10) is provided in the core device 10 of the stucker crane type that stores the plurality of cassettes 81 that store the plurality of glass substrates 82.
- a processing line (main plate making line) 40 R, 40 G, 40 B, 50, 60 is provided in the core device 10 of the stacker crane system.
- the process conditions for the next product are determined in parallel with the manufacture of the previous product in time.
- the production of the next product can be continued on the line 90, and the operation rate of the entire production line system can be prevented from being reduced.
- the rate-limiting step can be eliminated, and the operating rate of the entire production line system decreases. Can be prevented.
- the core device 10 is constituted by one stocker 111, but is not limited to this.
- the core device 1 ⁇ may be constituted by a plurality of stockers. It may be.
- the glass substrates 82 are carried out one by one from the cassette 81 in which the substrates are stored to the transport path 15, or the glass substrates 8 are transported to the cassette 81 from the transport path 15.
- a substrate transport mechanism that transports the substrates 2 one by one uses the substrate transport conveyors 18a and 18b.
- the force is not limited to this. 2 is placed on the arm and inserted from the front of the cassette 8 1, and the glass substrate 8 2 is transferred from the arm to the wire 86 to store the glass substrates 8 2 one by one, while the front of the cassette 8 1 Arm from
- the glass substrate 82 may be discharged from the wire 86 by transferring the glass substrate 82 from the wire 86 to the arm.
- a common defect that occurs at the same position on a plurality of glass substrates to be processed is provided on a plate making line that realizes a processing step including a photolithography process. Incorporating a common defect inspection machine for detection; (2) Providing a substrate inspection line for inspecting (correcting as necessary) processed substrates that have been processed by each processing line; (3) Except for the provision of a substrate regeneration line for regenerating a substrate on which a common defect or individual defect is detected by a common defect inspection machine included in the plate making line or an individual defect inspection machine included in the substrate inspection line.
- the other components are substantially the same as those of the first embodiment.
- the same portions as those in the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
- the production line system is a staggered crane that stores a plurality of cassettes containing a plurality of glass substrates and a plurality of cassettes containing a plurality of substrates or empty force sets.
- the core device 10 is connected to each of the multiple loading / unloading positions (loading position C 1 and loading position C 2) of the core device 10, and is stored in the cassette containing the substrates stored in the core device 10.
- 70, 90, 100, and 110 for performing various types of processing on the glass substrate stored in the glass substrate.
- Processing lines 20, 30,..., 70, 90 are manufacturing lines for performing various types of processing for manufacturing a color filter
- processing line 100 is a processing line 20, 30,.
- the processing line 110 is used to inspect various types of defects (common defects occurring at the same position on the glass substrate, This is a substrate regeneration line for regenerating a glass substrate in which an individual defect occurring at a different position on the substrate has been detected.
- the core device 10 is installed so as to extend linearly on a horizontal installation surface, and each of the processing lines 20, 30, '..., 70, 90, 100, 110 is installed on the installation surface. It is installed so that it protrudes laterally in the shape of an inverted U from the side of 10.
- processing lines 20, 30, ..., 70, 90, 100, 110 Will be described. As shown in FIG.
- each of the processing lines 20, 30,..., 70, 90, 100, and 110 has a transport path 15 composed of a conveyor or the like that transports the glass substrates in a horizontal state, and ., 101, 102, and 111, which are disposed on the reference numeral 15.
- the basic configuration of the processing lines 20, 30,..., 70, 90 is the same as in the first embodiment described above, but the processing lines 30, 40R, 40G, 40B, 50, Common defect inspection machines 39, 47, 57, 67 and 77 for detecting common defects occurring at the same position on multiple glass substrates to be processed are installed on the transfer paths 15 of 60 and 70. Have been.
- the common defect inspection machine 39 incorporated in the processing line 30 for forming black matrices performs a 100% inspection of predetermined inspection items (edge dimensions, transmittance, appearance inspection, etc.).
- the appearance inspection is performed by comparing the difference between adjacent pixel images by an image processing device or the like.
- the common defect inspection machine 47 incorporated in the processing lines 40R, 40G, and 40B for forming a colored layer of each color performs sampling inspection on predetermined inspection items (appearance inspection, etc.). (For example, 1 out of 10).
- the appearance inspection is performed by using an image processing device or the like to compare differences between images corresponding to adjacent matrix portions.
- the common defect inspection machine 57 incorporated in the processing line 50 for forming the protective layer performs 100% inspection or sampling inspection on predetermined inspection items (such as unevenness inspection and common defect inspection).
- the unevenness inspection is performed by AD-converting the reflected light and the transmitted light using an image processing device or the like, and comparing the differences between adjacent images in a large area (long period).
- the common defect inspection is performed by AD-converting the reflected light and transmitted light using an image processing device or the like, and comparing the difference between adjacent images in a small area (short-term cycle) of about one pixel.
- the common defect inspection machine 67 incorporated in the processing line 60 for forming the columnar body performs a 100% inspection or a sampling inspection on predetermined inspection items (dimension inspection, inspection for dropping the columnar body, etc.).
- the dropout inspection of the pillars is performed by comparing the difference between the images of the adjacent pillars using an image processing device or the like.
- the common defect inspection machine 77 incorporated in the processing line 70 for forming the ITO layer performs predetermined inspection items (pinhole formation state, deviation from a predetermined position, spectral characteristics, sheet resistance and film thickness). Etc.) for 100% inspection or sampling inspection.
- the inspection results obtained by the common defect inspection equipment 39, 47, 57, 67, 77 are managed in a control device (not shown) in a form corresponding to each glass substrate. Subsequent processing of each glass substrate (continuation of processing, regeneration of glass substrate, etc.) is determined based on the above. Here, depending on the inspection result, the processing line where the common defect is generated is stopped, and the cause of the common defect is investigated or eliminated. Specifically, for example, taking the processing line 70 for forming an ITO layer as an example, when forming a pattern for manufacturing an STN type color filter, the photomask is cleaned. Or exchange. In addition, when performing pattern formation for manufacturing a TFT type color filter (pattern formation such that the display portion is an entire surface film and no ITO is formed on the outer peripheral portion excluding the electrode lead-out portion), the I TFT type color filter
- the processing line 100 is a substrate inspection line for inspecting the processed glass substrates that have been processed by the processing lines 20, 30,..., 70, 90.
- Processing equipment Individual defect inspection machine 101 for detecting individual defects occurring at different positions on a plurality of glass substrates, and for correcting individual defects on each glass substrate detected by individual defect inspection machine 101
- a board repairing device 1022 is installed and the board is repaired.
- the individual defect inspection machine 101 of the processing line 101 performs an individual inspection on predetermined inspection items (mura inspection, appearance inspection, defect height measurement, coordinate review). Details of each inspection item are as follows.
- Unevenness inspection A monochrome (same color) image is taken out by an image processing device or the like, and a dark / dark defect that cannot be detected by a common defect detection for one pixel is detected. By changing the inspection method and the area and direction (vertical and horizontal) of the comparison area, small defects to uneven defects can be detected.
- the reflected light image is extracted by an image processing device or the like, and the difference between adjacent pixel images of the same color is compared to detect protrusions, film peeling, and the like.
- Defect height measurement The height of the protrusion detected in the appearance inspection in (2) above (the protrusion is observed as black due to diffuse reflection in the reflected light image) is measured by a stylus-type measuring device.
- the processing line 110 is a substrate regeneration line for regenerating a glass substrate on which a common defect or an individual defect has been detected by the common defect inspection device 39, 47, 57, 67, 77 or the individual defect inspection device 101.
- a processing apparatus (a substrate reproducing apparatus 1 1 1 for reproducing a glass substrate in which a common defect or an individual defect is detected) is provided on the transport path 15.
- the processing lines connected to the core device 10 include, besides the processing lines 20, 30,..., 70, 90, 100, and 11 ⁇ described above, for cutting glass substrates. Processing line can be installed.
- the operation of the manufacturing line system 1 'having such a configuration is the same as that of the first embodiment described above, and the core device 10 and the processing lines 20, 30, 70, 90, 100, 110 Under the control of a control device (not shown) connected to the printer, various processes relating to the manufacture, inspection, and reproduction of the color filters are automatically performed.
- the production of the color filter is realized by sequentially processing the glass substrate 82 in a predetermined order using the processing lines 20, 30,... At the unloading position C1 of lines 20, 30,..., 70, the glass substrate that has been processed up to the processing process immediately before the substrate storage cassette 81 stored in the stocker 11 is stored. Cassette 81 is selectively positioned.
- the production of color filters by the processing lines 20, 30, ' ⁇ , 70 includes, for example, (1) chromium film formation (processing line 20), (2) formation of black matrix (processing line 30), and (3) red color.
- processing line 4 OR Of colored layer (processing line 4 OR), (4) formation of green colored layer (processing line 40G), (5) formation of blue colored layer (processing line 40B), ( 6 ) formation of protective layer (processing line 50), columnar shape
- the formation of the body (processing line 60) and the formation of (8) 1 TO layer (processing line 70) are performed in this order.
- the processing lines 20, 30,..., 70 as production lines, the processing lines (plate making lines) 40R, 40G, 40B, 50, and 60 that realize the processing steps including the photolithography process Are common defect inspection machines 39, 47, 57, and 57 for detecting common defects occurring at the same position on a plurality of glass substrates 82 to be processed.
- the processed lines processed by the processing lines 20, 30,., 70 as the production line is completed, or during the processing, the processed lines processed by the processing lines 20, 30,.
- the glass substrate 82 is sent to a processing line (substrate inspection line) 100.
- the individual defect inspection device 101 detects individual defects occurring at different positions of the plurality of glass substrates 82 in accordance with the above-described predetermined inspection items. If necessary, the individual defect inspection device 101 The individual defect of each glass substrate 82 detected by 101 is corrected. .
- the glass substrate 82 on which the common defect or the individual defect has been detected by 77 or the individual defect inspection machine 101 is sent to a substrate recycling line (processing line 110). Then, the glass substrate 82 is regenerated by removing various layers formed on the glass substrate 82 by immersing the layers in an acid or alkali solution or the like by the substrate regenerating device 111.
- the processing steps including the photolithography process among the processing lines 20, 30,... Realized processing line (plate making line) Common for detecting common defects occurring at the same position on multiple glass substrates 82 to be processed at 30, 40 R, 40 G, 40 B, 50, 60, and 70 Defect inspection machines ⁇ 39, 47, 57, 67, 77 are incorporated, so common defects that cause the generation of a large number of defective products can be detected as early as possible, improving the yield of non-defective products. Can be done.
- a substrate loading / unloading mechanism (a substrate unloading mechanism 16) is provided in a stacker crane type core device 10 for storing a plurality of cassettes 81 for accommodating a plurality of glass substrates 82. a, and the substrate loading mechanism 16 b), the processing lines 20, 30,..., 70 as the manufacturing line are connected, so that the black matrix and the colored layers of each color are formed.
- the core device 10 is provided with the processed glass substrate 82 that has been processed by the processing lines 20, 30,..., 70 as manufacturing lines.
- a processing line (substrate inspection line) 100 for inspection is connected, and individual defect inspection machines 101 detect individual defects that occur at different positions on a plurality of glass substrates 82. Can appropriately eliminate the causes of different individual defects, and can further improve the non-defective product rate.
- the processing line (substrate inspection line) 100 the individual defect of each glass substrate 82 detected by the individual defect inspection device 101 is corrected by the substrate repair device 102, so that the actual product Yield can be improved.
- a common defect or an individual defect is detected in the core device 10 by the common defect inspection device 39, 47, 57, 67, 77 or the defect inspection device 101 according to the present invention.
- the processing line (substrate regeneration line) 1 10 for regenerating the glass substrate 82 is connected. Even when an individual defect that cannot be corrected is detected by the individual defect inspection device 101, the glass substrate 82 is reproduced by the substrate reproduction device 111 of the processing line (substrate reproduction line) 110. However, the actual yield of products can be improved. Further, even when a common defect is detected by the common defect inspection equipment 39, 47, 57, 67, 77, the glass substrate 82 is processed on the processing line (substrate regeneration line) 110.
- Reproduction by the device 111 can improve the substantial yield of the product. At this time, since the glass substrate 82 that eventually becomes defective is not sent to the post-process, unnecessary load is prevented from being applied to the post-process, and the actual operation rate of the entire manufacturing line system is reduced. Can be improved.
- the production line system 1 shown in FIGS. 1 and 6 can be introduced in an actual factory under the following layout design.
- the case of the production line system 1 ′ shown in FIG. 6 will be described as an example.
- FIG. 7 and 8 are diagrams showing an example of a layout design when the manufacturing line system 1 'shown in FIG. 6 is introduced into an actual factory. 7 and 8, in the processing lines 20, 30,..., 70, 90, 100, 110 shown in FIG. 3 0, colored layer forming line 4 OR, 4 OG, 40 B, protective layer forming line 50, columnar body forming line 60, substrate inspection line 100, and substrate recycling line 110 only factory floor 15 It shows the case where it is installed on 0.
- the size of the stocker 11 of the core unit 10 is determined based on the required stock capacity and the like, and then the floor 15
- the layout configuration of the processing lines 20, 30, ..., 60, 100, 110 is determined in consideration of the area and shape of 0.
- the processing lines 20, 30,..., 60, 100, and 110 have different installation areas according to their types, and the processing lines 30,.
- the black matrix forming line 30 requires a larger installation area than the colored layer forming lines 40R, 40G, and 40B.
- Other processing lines such as a substrate inspection line 100 for performing inspection and correction processing, and a substrate reproduction line 110 for recycling glass substrates, are connected.
- a substrate loading / unloading mechanism (substrate unloading mechanism) as shown in Fig. 2 is provided between some processing lines (black matrix forming line 30 and substrate recycling line 110) and core device 10.
- Direct connection is not possible only by 16a and substrate loading mechanism 16b), and a wasteful route (see 121, 122) is required to transport the glass substrate by a transport cart such as AGV, RGV, CV, etc. .
- the processing lines 20, 30, ⁇ , 60, 100, 110 with different installation areas can be installed with the minimum necessary equipment and optional. With this arrangement, it is possible to flexibly install the apparatus. More specifically, as shown in FIG. 8, by arranging a plurality of stockers 11 and 11 in a goose row (stepped shape), all processes including the black matrix forming line 30 and the reproduction line 110 can be performed. Lines 20, 30,- ⁇ , 60, 100, 1 10 and the core device 10 can be directly connected only by the board loading / unloading mechanism (board unloading mechanism 16a and board loading mechanism 16b) as shown in Fig. 2. It becomes possible.
- one stacker crane 12, 12 ' is arranged on each stocker 11', 11 '.
- a stat force crane (transfer device) 19 for transferring a cassette between the stacker cranes 12 and 12 'is arranged at a connection portion of the stockers 11 and 11'.
- any transfer device can be used, any stacker crane 19 can be used as a substitute for the stacker cranes 12 and 12 '. Even when the 12, 12 'breaks down, it becomes possible to continue the processing in each stocker 11, 11' using the stacker crane 19 as an alternative machine.
- a plurality of stockers 11 1 and 11 ' are arranged in a goose (stepped shape), but depending on the shape of the floor and the number of processing lines, etc.
- a plurality of stockers 11 1, 11 ′, and 11 ′′ can be formed in a T-shape or the like via a transfer device 130. It may be arranged.
- the third embodiment of the present invention is substantially the same as the above-described first and second embodiments except that the configuration of the core device is different.
- the same portions as those in the above-described first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
- the cassette 81 stored and transported by the core device 10 protrudes horizontally from the left and right side frames. It is also possible to use a so-called pin type cassette which supports the substrate in a horizontal state with a plurality of support pins.
- the pin-type cassette has multiple rows of support pins protruding inward at the same height from the left and right side frames at the same height. : A plurality of glass substrates are accommodated by supporting one glass substrate in a horizontal state by a plurality of support pins in the same stage.
- the size of the board that can be stored is determined by the length of the support pins, etc., so if the board size exceeds that range, replace the cassette according to the size of the board.
- the types of color filters and the like manufactured as products have become very large, and the above-mentioned problems have become more apparent.
- the third embodiment of the present invention is mainly intended to solve such a problem, and as in the first and second embodiments described above, a core device is provided.
- a core device As the cassette 81 stored and transported by the device 10, a wire-type cassette that supports a substrate in a horizontal state by a plurality of wires stretched between left and right side frames is used.
- FIGS. 11 to 15 show that the core device 10 and the substrate loading / unloading mechanism (the substrate unloading mechanism 2 16a and the substrate loading mechanism 2) in the manufacturing line system 1 according to the third embodiment of the present invention.
- the configuration of 16b) will be described.
- the core device 10 includes a stocker 2 1 1 for storing a plurality of cassettes 8 1, and a cassette 8 1 stored in the stocker 2 1 1 in the stocker 2 1 1. And a stacker crane 2 1 2 to be carried by the
- the stockers 2 1 1 extend in two rows on both sides of the traveling path of the stacker crane 2 1 2, and each row of the stockers 2 1 1 has a plurality of racks 2 on which the cassettes 8 1 are placed. It has a structure in which 11a are arranged in two stages above and below (see Fig. 13).
- the stacker crane 2 1 2 travels along the stocker 2 1 1 with the cassette 8 1 placed thereon.
- each rack unloading position C1 and loading position C2
- any of the two upper and lower racks 211a (optional)
- the cassette 81 is transported to and from the cassette storage position.
- the cassette 81 stored and transported by the core device 10 is composed of an upper plate 18 3 and left and right side surfaces erected on the upper plate 18 3. It has frames 184 and 185 and a plurality of wires 186 stretched between these left and right side frames 184 and 185.
- the plurality of wires 186 extend along a plurality of horizontal planes having different heights, and the plurality of wires 186 at the same level support the glass substrate 82 in a horizontal state. Has become.
- the left and right side frames 18 4 and 18 5 each have eight columns 1 attached to the upper plate 18 3 by screws or the like.
- the wire 1886 is made of synthetic resin as long as it has sufficient tension to support the glass substrate 82 in a horizontal state. Any material such as a product made of a fat or a metal can be used.
- the number of wires 186 in the horizontal plane can be any number as long as glass substrate 82 can be sufficiently supported in the horizontal plane. Further, the number of wires 186 in the vertical direction can be any number as long as a desired glass substrate 82 can be accommodated without the glass substrates 82 interfering with each other.
- each substrate unloading mechanism 2 16a causes each substrate unloading position C1 from the substrate stored cassette 81 positioned at each unloading position C1 to correspond to each unloading position C1.
- the glass substrates 82 are discharged one by one to the processing line (transport path 15), and the processing performed on each processing line (transport path 15) by each substrate loading mechanism 2 16 b.
- the used glass substrates 82 are stored one by one in an empty cassette 81 positioned at each loading position C2.
- each substrate unloading mechanism 2 16a and each substrate unloading mechanism 2 16b have basically the same configuration, and as shown in FIG. 14, the glass substrate housed in the cassette 81 Elevator 8 moves up and down so as to change the relative positional relationship between cassette 8 and substrate conveyor 2 and cassette 8 and substrate conveyor 2 and 8, which have a plurality of rollers 19 that come into contact with the lower surface of 8 2.
- Cassette elevating device 2 17 (the drive mechanism is not shown).
- the cassette 81 is transported from the unloading position A1 to each substrate unloading mechanism 216a by a cassette transport device (not shown).
- each of the substrate unloading mechanisms 2 16 a is transported to the storage position B 1.
- the cassette 81 is transported from the unloading position A2 to each of the substrate loading mechanisms 2 16b by a cassette transport device (not shown), and the respective substrate loading mechanisms 2 16 It is transported from b to the receiving position B2.
- the board transfer conveyors 2 18 of each board unloading mechanism 2 16 a and each board loading mechanism 2 16 b are provided at the upper ends of the columns 19 1 erected on the installation surface.
- the left and right support frames 1888, 188 which are fixed so as to sandwich the cassette 81 from both sides, and are rotatable to these left and right support frames 1888, 188.
- Rollers 190 are arranged on each shaft 189 at regular intervals of 6 mm.
- a drive mechanism (not shown) is attached to these shafts 189 so that each shaft 189 can be rotated in a desired direction.
- the cassette 81 is lifted and lowered by the cassette lifting device 2 17, and the cassette lifting device 2 17
- the rollers 190 of the substrate transport conveyor 218 are brought into contact with the lower surface of the lowermost glass substrate 82 stored in the cassette 81, thereby making the cassette
- the glass substrate 82 stored in each stage in the tray 81 can be discharged to the transport path 15 (see the solid arrow in FIG. 14).
- the rollers 190 of the substrate transfer conveyor 218 are brought into contact with the lower surface of the glass substrate 82, which is carried in from the transfer path 15. By making contact, the glass substrate 82 can be stored in each stage of the cassette 81 (see the dotted arrow in FIG. 14).
- each board unloading mechanism 2 16a and each board loading mechanism 2 16b shown in Fig. 14 the board transfer conveyor 2 18 is fixed and the force is set by the cassette lifting device 2 17 8 1 is moved up and down, but the cassette 8 1 and the board transfer conveyor 2
- each of the substrate unloading mechanisms 2 16 a and each of the substrate unloading mechanisms 2 16 b may have a configuration as shown in FIG. 15 in addition to the configuration as shown in FIG. It is possible to adopt a configuration in which the substrate transfer conveyor 2 18 / is entered from below the device 2 17 ′ (the drive mechanism is not shown).
- the substrate transport conveyor 2 18 ′ shown in FIG. 15 was fixed to the support frame 19 2 provided on the installation surface and the support frame 19 2 via a horizontal plate 19 3.
- six rollers 190 are arranged at equal intervals in each shaft 189.
- a motor 195, a transmission shaft 196a, 196b, a gear 197, etc. are attached to these shafts 189 as drive mechanisms. It can be rotated in a desired direction.
- the operation of the manufacturing line system 1 having such a configuration is the same as that of the above-described first and second embodiments, and the core device 10 and each processing line 20, 30,.
- the cassette 81 stored and transported by the core device 10 of the manufacturing line system 1 is stretched between the left and right side frames 18 4 and 18 5.
- the above-described wire-type cassette is used as the cassette 81 stored and transported by the core device 10 of the production line system 1. Therefore, glass substrates of any size up to the maximum size that can be stored in the cassette 81 can be stored, and even if multiple types of color filters etc. are manufactured using the same manufacturing line system, There is no need to change cassettes according to the size, and it is possible to effectively cope with the production of many kinds of small quantities.
- the above-described wire-type cassette is used as the cassette 81 stored and transported by the core device 10 of the production line system 1 ", It can store a larger amount of glass substrates than pin-type cassettes, which is an advantage of a production line system equipped with a core device. Therefore, the ability to respond to a temporary stop of the processing step can be further improved.
- the core device 10 includes a plurality of loading / unloading positions (the unloading positions C1 and C1) in the stockers 11 and 211.
- a substrate loading / unloading mechanism (a substrate unloading mechanism 16a and a substrate loading mechanism 16b) is provided for the cassette 81 having the loading position C2) and being positioned at the unloading position C1 or the loading position C2.
- the glass substrates 82 are stored one by one into the cassette 81, and the glass substrates 82 are discharged one by one from the cassette 81.
- the unloading position C1 or the unloading position C2 has the unloading positions A1 and A2 and the unloading positions B1 and B2, respectively, arranged independently of each other.
- the stocking positions A1, A2 and the storage positions B1 and B2 are different from each other, and the glass substrate 82 is stored in the cassette 81 by the substrate loading / unloading mechanism (substrate unloading mechanism 16a and substrate loading mechanism 16b).
- the work of discharging the glass substrate 82 to the cassette 81 can be performed independently, so that the tact time required for replacing the cassette 81 can be reduced, and the glass substrate 82 can be removed.
- 70, 90, 100, 110 can be prevented from staying on the transport path 15 of each processing line 20, 30,...
- the unloading position A1 or the unloading position B1 of the unloading position C1 and the cassette elevating device 17a are connected. It is necessary to provide a cassette transfer device (not shown) provided with a direction change mechanism and the like in order to transfer the cassette 81 between them.
- the direction is changed to transfer the cassette 81 between the loading position A2 at the loading position C2 or the loading position B2 and the cassette lifting device 17b.
- Cassette transfer device with mechanism, etc. (not shown) Force S must be provided. For this reason, the mechanical mechanism of the cassette transfer device becomes complicated, and There is a problem that the constraints of the game are large. ⁇
- the fourth embodiment of the present invention aims to solve such a problem, and the production line systems 1, 1 / , 1 "according to the first to third embodiments described above. Is a modification of the configuration of the core device 10 in FIG.
- the core device 10 is an automatic warehouse that handles a cassette 81 that stores a plurality of glass substrates 82, and is a stocker for storing a plurality of cassettes 81. 1 and a stacker crane 12 for transporting the cassette 81 stored in the stocker 11 in the stocker 11.
- the stocker 11 has a structure in which a plurality of racks 11a on which the cassettes 81 are placed are arranged in upper and lower two stages.
- the stacker crane 12 travels left and right on a rail 13 extending along the stocker 11 and moves a lifting frame (not shown) up and down to move the stocker crane 1 up and down.
- the cassette 81 should be transported between each loading / unloading position (unloading position C1 and loading position C2) in 1 and any rack (any cassette storage position) among the two upper and lower racks 11a. It has become.
- one stocker 11 is installed on one side of the rail 13, but the present invention is not limited to this, and two stockers may be installed on both sides of the rail 13.
- racks 11a having the stocking force 11 are arranged in two upper and lower tiers, the present invention is not limited to this, and the racks 11a of the stockers 11 may be arranged in three or more tiers.
- the racks 11a of the stockers 11 may be arranged in three or more tiers.
- only one stacker crane 12 runs on the rail 13
- the invention is not limited to this, and two or more stat cranes run on the rail 13. Is also good.
- a transfer path 15 such as a substrate transfer conveyor (substrate transfer mechanism) is provided outside of the unloading position C 1 of the stocker 11, as shown in FIGS. 16 and 17, a transfer path 15 such as a substrate transfer conveyor (substrate transfer mechanism) is provided.
- a cassette elevating device (cassette positioning mechanism) 317 that moves the cassette 81 up and down (in a direction perpendicular to the paper) at a pitch corresponding to the storage interval of the glass substrates 82 is disposed adjacent to the cassette elevating device.
- the glass substrate 82 can be discharged from the force set 81 with respect to the transport path 15 arranged in the vertical direction.
- cassette transport conveyers (cassette transport mechanism) 3 18 and 3 19 for transporting cassettes between them. I have.
- the unloading position C1 in the stocker 1.1 is the unloading position A1 for unloading the cassette 81 from the stocker 111, and the unloading position A for unloading the cassette 81 from the stocker 111. 1 and has a receiving position B 1 that is independent.
- the cassette elevating device 3 17 is located in the cassette traverse section 3 16 and has a cassette supply position D 1 corresponding to the unloading position A 1 of the stocker 11 and a cassette discharging position corresponding to the loading position B 1. Move to take any position of E1, draw cassette 8 from cassette transport conveyor 3 1 8 at cassette supply position D 1, and transport cassette 3 1 8 at cassette discharge position E 1.
- the cassette 81 is sent out.
- a transfer path 15 such as a substrate transfer conveyor (substrate transfer mechanism) is provided.
- a cassette elevating device (force setting positioning mechanism) 3 17 that elevates and lowers the cassette 81 in the vertical direction (the direction perpendicular to the paper surface) is provided, and is supplied from the transport path 15 arranged adjacent to it. The glass substrate 82 thus placed can be stored in the cassette 81.
- cassette transport conveyors cassette transport mechanism
- the carry-in position C 2 in the stocker 11 is a take-out position A 2 for carrying out the cassette 8 1 from the stocker 11 1 and a take-out position A 2 for carrying the cassette 8 1 into the stocker 11 1.
- the cassette elevating device 3 17 is located in the cassette traverse section 3 16 and has a cassette supply position D 2 corresponding to the unloading position A 2 of the stocker 11 and a cassette discharging position corresponding to the loading position B 2.
- Move to take any position of E2 draw cassette 8 from cassette transport conveyor 3 18 at cassette supply position D2, and transport cassette 3 1 8 at cassette discharge position E2.
- the cassette 81 is sent out.
- the positional relationship between the unloading position A1 and the receiving position B1 is opposite to the positional relationship between the unloading position A2 and the receiving position B2. '
- the cassette 81 containing the substrates stored in the rack 11a of the stocker 11 is moved to the unloading position A1 of the unloading position C1 in the stocker 11 by the stacker crane 12. Conveyed.
- the cassette 81 arriving at the unloading position A 1 is transported by the cassette transport conveyor 318 to the cassette lifting device 317 located at the cassette supply position D 1.
- the glass substrate 82 is discharged from the cassette 81 in which the substrate is stored.
- the cassette 81 with the substrates stored therein is moved down by one step S by the cassette elevating device 3 17, and the glass substrate is moved from the cassette 81 to the transfer path 15 by a substrate transfer conveyor (not shown) or the like. Are carried out one by one.
- the cassette 81 containing another substrate from which the glass substrate k should be discharged next is transported to a position before the cassette supply position D1. And wait.
- the cassette 81 which has been emptied after the discharge of the glass substrate 82, is moved up to a predetermined height by the cassette elevating device 317 in the cassette traverse section 316, and the cassette discharge position E is raised.
- Move to 1 The empty cassette 81 moved to the cassette discharge position E 1 in this way is sent out from the cassette elevating device 3 17 to the cassette transport conveyor 3 19 and then to the storage position B 1 of the stocker 11. Conveyed.
- the empty cassette 81 that has arrived at the storage position B1 in this way is stored as a cassette for storage in the empty rack 11a in the stocker 11 by the stucker crane 12. .
- the cassette elevating device 3 1 7 returns to the cassette supply position D 1, and then the cassette 81 on which the glass substrates are to be discharged is stored on the cassette transport conveyor 3 1 Pull in from 8.
- the empty force set 8 1 stored in the rack 11 a of the stocker 11 is transported by the stacker crane 12 to the unloading position A 2 at the loading position C 2 in the stocker 11. You.
- the cassette evacuation position is lowered in the cassette traverse section 3 16 while lowering the cassette 81 to a predetermined height by the cassette elevating device 3 17.
- the glass substrate 82 is stored in the empty cassette 81.
- the empty cassette 81 is moved down by one stage by the cassette elevating device 3 17, and the glass substrate 82 is transferred from the transfer path 15 to the cassette 81 by a substrate transfer conveyor (not shown). They are loaded one by one. ⁇
- the cassette elevating device 317 returns to the cassette supply position D2, and then draws an empty cassette 81 for storing glass substrates from the cassette transfer conveyor 318. Thereafter, the above operation is repeated.
- the transfer path 15 is set so that the glass substrate 82 is discharged from the cassette 81 or the glass substrate 82 is stored in the cassette 81 with the transfer path 15 such as a substrate transfer conveyor (substrate transfer mechanism).
- the cassette elevating device 3 17 for raising and lowering the cassette 81 is moved to the cassette supply positions D 1 and D 2 corresponding to the unloading positions A 1 and A 2 of the stocker 11 1 and the loading positions B 1 and B 2.
- the cassette 81 is moved between the corresponding cassette discharge positions E 1 and E 2, the cassette 81 is pulled in from the cassette transfer conveyor 318 at the cassette supply positions D 1 and D 2, and the cassette discharge positions E 1 and E 2 are moved. E2 to cassette conveyor 3 1 9 Since the set 81 is sent out, the next cassette 81 can be made to stand by adjacent to the cassette 81 while the glass substrate 82 is being stored or ejected. In addition, it is possible to shorten the tact time in the loading and unloading work of the cassettes. Also, it corresponds to the cassette supply positions D1, D2 corresponding to the unloading positions A1, A2 of the stocker 11 and the loading positions B1, B2.
- the cassette lifting device 3 17 that moves between the cassette supply positions D 1 and D 2 for transferring the cassette 81 and the cassette discharge positions E 1 and E 2 Since it is configured to move relatively on the same gantry as the transfer path 15 such as a transfer conveyor (substrate transfer mechanism), the cassette transfer conveyors 3 18 and 3 19 and the substrate transfer conveyor (substrate transfer).
- the transfer path 15 such as a transfer mechanism
- the cassette 81 stored and transported by the core device 10 includes a plurality of wires stretched between left and right side frames.
- a pin-type cassette that supports the substrate in a horizontal state using a plurality of support pins that project horizontally from the left and right side frames can be used. it can.
- the cassette transport mechanism for transporting the cassette 81 between the stocker 11 and the cassette elevating device 3 17 the cassette transport conveyors 3 18 and 3 19 are used.
- any transport mechanism such as AGVRGV or CV can be used as long as the cassette can be transported.
- the core device according to the fourth embodiment described above is suitably used in the production line systems 1, 1 ′, 1 ′′ according to the first to third embodiments.
- the present invention is not limited to this, and can be widely used in general stucker crane type automatic warehouses that handle cassettes accommodating a plurality of substrates.
- the substrate 81 is mounted on the cassette 81 positioned at the loading / unloading position (the unloading position C1 or the loading position C2).
- the glass substrates 82 are stored one by one into the cassette 81 by the loading / unloading mechanism (substrate unloading mechanism 16a and the substrate loading mechanism 16b), and the glass substrates 82 are discharged one by one from the cassette 81.
- the loading / unloading mechanism substrate unloading mechanism 16a and the substrate loading mechanism 16b
- the cassette supply position where the cassette 81 is supplied and the glass substrate 8 to the cassette 81 are provided.
- the substrate loading / unloading position at which the glass substrate 82 is stored from the cassette 81 or the cassette 81 and the cassette collection position at which the cassette 81 is recovered are not independent.
- the cassette 81 is supplied, the glass substrate 82 is stored or discharged, and the cassette 81 is collected. For this reason, there is a problem that the tact time in the storing or discharging operation of the glass substrate 82 becomes long.
- the fifth embodiment of the present invention is mainly intended to solve such problems, and the production line systems 1, 1 ', and 1' according to the first to fourth embodiments described above.
- Configuration of the substrate loading / unloading mechanism at 1 "(particularly substrate loading mechanism 16b) A substrate storage device 416 for storing a glass substrate as a thin plate-shaped material is provided.
- the substrate storage device 4 16 includes a cassette moving mechanism 4 19, a cassette elevating device 4 17, and a glass substrate moving device 4 18. Have.
- the cassette moving mechanism 419 moves the cassette 81 so that it takes one of the cassette supply position F1, the board storage position G1, and the cassette collection position H1. is there.
- the cassette supply position F1 is a position where the cassette 81 is supplied. For this reason, the cassette 81 supplied to this position is usually an empty cassette in which the glass substrate 82 is not stored.
- the substrate storage position G 1 is a position where the glass substrate 82 is stored in the cassette 81. For this reason, the cassette 81 arranged at this position is the cassette in which the glass substrate 82 is stored.
- the cassette collecting position H1 is a position where the cassette 81 transferred after the glass substrate 82 is stored is collected. For this reason, the cassette 81 collected from this position is usually a cassette in which the glass substrate 82 has already been stored and the substrate is already stored.
- the cassette supply position F1, the substrate storage position G1, and the cassette collection position H1 are arranged in a row adjacent to each other.
- the cassette moving mechanism 4 19 moves the empty cassette 81 supplied to the cassette supply position F 1 from the cassette supply position F 1 to the substrate storage position G 1. Let it. As a result, the empty cassette 81 that has moved to the substrate storage position G 1 becomes a cassette in which the glass substrate 82 is stored.
- the cassette moving mechanism 419 moves the cassette 81 having stored the substrate from the substrate storing position G1 to the cassette collecting position H1.
- the cassette moving mechanism 4 19 moves the empty cassette 81 positioned at the cassette supply position F 1 from the cassette supply position F 1 to the substrate storage position G 1, and the substrate storage position G 1 Move the cassette 81 stored in the cassette to the cassette recovery position H1.
- the two types of movement by the cassette moving mechanism 419 as described above can be individually performed as independent movements. However, it is a prerequisite that the destination position (board storage position G1 or cassette collection position HI) be vacant.
- the two types of movement by the cassette moving mechanism 419 as described above can be performed in conjunction with each other as movements related to each other.
- the two cassettes 81 can be moved at the same time, and the cassette 81 positioned at the cassette supply position F1 can be moved so as to fill the empty area while generating an empty area at the substrate storage position G1.
- the cassette recovery position H1 which is the destination, is empty.
- the cassette lifting / lowering device 4 17 moves the cassette 8 1 positioned by the cassette moving mechanism 4 19 at a pitch corresponding to the storage interval of the glass substrate 8 2 in the vertical direction (paper surface).
- the glass substrate moving device 4 18 moves the storage position of the glass substrate 82 in the cassette 8 1 by the force set elevating device 4 17 and the transfer path of the substrate transfer conveyor (not shown).
- the glass substrate 82 supplied from a transfer path (not shown) such as a substrate transfer conveyor is moved toward the cassette 81 in a state where the supply position of the glass substrate 82 in FIG. 8 Stored in 1.
- a substrate loading mechanism is constituted by the cassette lifting device 4 17 and the glass substrate moving device 4 18.
- the operation of the substrate storage device 416 having such a configuration will be described.
- an arrow “ ⁇ ” indicates the moving direction of the cassette, and an arrow “ ⁇ ” indicates the supply direction of the glass substrate.
- the empty cassette recovery position H1 and the substrate storage position G1 are moved by the cassette moving mechanism 419. Move the positioned cassette 8 1.
- the cassette 81 positioned at the cassette supply position F1 is moved to the substrate storage position G1 vacated by such movement.
- the cassette elevating device 4 17 and the glass substrate moving device 4 18 as the substrate carrying-in mechanism are moved immediately when the cassette 81 positioned at the cassette supply position F 1 is positioned at the substrate storage position G 1. Then, the storage of the glass substrate 82 in the cassette 81 is started.
- the position of any one of the cassette supply position F1, the substrate storage position G1, and the cassette collection position HI is controlled by the cassette moving mechanism 419.
- the cassette 81 was moved so as to take a position, and at the substrate storage position G1, the cassette was moved by the cassette moving mechanism 419 by the cassette lifting / lowering device 417 and the glass substrate moving device 418 as the substrate loading mechanism.
- the glass substrate 82 is stored in the cassette 81. For this reason, the storage of the glass substrate 82 in the cassette 81 only stops while the cassette 81 is moving, and when the storage of the glass substrate 82 in the cassette 81 is completed.
- the glass substrate 82 is moved from the cassette supply position F1 to the substrate storage position G1.
- Storage work Can reduce the tact time.
- the sixth embodiment of the present invention aims at solving the same problems as those in the fifth embodiment described above, and the sixth embodiment of the present invention has the same features as the first to fourth embodiments.
- the configuration of the substrate loading / unloading mechanism (particularly, substrate transporting mechanism 16a) in the production line systems 1, 1 ', 1 is changed, and a substrate discharging device 516 for discharging a glass substrate as a thin plate material is provided. I do.
- the substrate discharging device 5 16 includes a cassette moving mechanism 5 19, a cassette elevating device 5 17, and a glass substrate moving device 5 1
- the cassette moving mechanism 511 moves the cassette 81 so as to take any one of the cassette supply position F2, the substrate discharge position G2, and the cassette collection position H2. .
- the cassette supply position F2 is a position where the cassette 81 is supplied. For this reason, the cassette 81 supplied to this position is usually a cassette in which the glass substrate 82 has already been stored and in which the substrate is already stored.
- the substrate outgoing position G 2 is a position where the glass substrate 82 is discharged from the cassette 81. For this reason, the cassette 81 arranged at this position is a cassette being discharged from which the glass substrate 82 has been discharged.
- the cassette collection position H2 is a position where the cassette 81 transferred after the glass substrate 82 is discharged is collected. For this reason, the cassette 81 recovered from this position is usually an empty cassette in which the glass substrate 82 is not stored.
- the cassette supply position F2, the substrate discharge position G2, and the cassette recovery position H2 are arranged in a row adjacent to each other.
- the cassette moving mechanism 5 19 moves the cassette 81 containing the substrates supplied to the cassette supply position F 2 from the cassette supply position F 2 to the substrate discharge position G 2. Move. As a result, the cassette 81 containing the substrates moved to the substrate discharge position G2 discharges the glass substrates 82. This is the cassette being ejected.
- the force set 81 during ejection becomes an empty cassette in which the glass substrate 82 is not stored.
- the cassette moving mechanism 5 19 moves the empty cassette 81 from the substrate discharge position G 2 to the cassette recovery position H 2.
- the empty cassette 81 located at the cassette recovery position H2 is recovered from the cassette recovery position H2.
- the cassette moving mechanism 5 19 moves the cassette 81 with the substrates stored at the cassette supply position F 2 from the cassette supply position F 2 to the substrate exit position G 2, and discharges the substrate.
- the discharging cassette 81 positioned at the position G2 is moved to the cassette collecting position H2.
- the two types of movement by the cassette moving mechanism 519 as described above can be performed individually as independent movements. However, it is a prerequisite that the destination position (basic storage position G1 and cassette collection position H1) be vacant.
- the two types of movement by the cassette moving mechanism 519 as described above can be performed in conjunction with each other as movements related to each other.
- the two cassettes 81 can be moved at the same time, and the cassette 81 positioned at the cassette supply position F2 can be moved so as to fill the empty area while generating an empty area at the substrate discharge position G2.
- the precondition is that the cassette recovery position H2 to which the cartridge is to be moved is vacant.
- the cassette elevating / lowering device 517 moves the cassette 81 positioned by the cassette moving mechanism 519 at the substrate discharge position G2 at a pitch corresponding to the storage interval of the glass substrate 82 (in the vertical direction). (In a vertical direction), and the glass substrate 82 in the cassette 81 is placed in one of a plurality of storage locations (one of a plurality of storage locations) and in a transport path (not shown) such as a substrate transport conveyor. This is to match the discharge position.
- the glass substrate moving device 5 18 moves the storage position of the glass substrate 8 2 in the cassette 8 1 by the force set elevating device 5 17 at the substrate discharge position G 2,
- the glass substrates 82 stored in the cassette 81 are transferred from the cassette 81 to the substrate transport conveyor or the like in a state in which the discharge position of the glass substrates 82 in the transport path (not shown) of the substrate transport conveyor or the like is aligned. To be transported to a transfer path (not shown), and then discharged from the cassette 81.
- a substrate unloading mechanism is constituted by the cassette elevating device 517 and the glass substrate moving device 518.
- the operation of the substrate discharge device 516 having such a configuration will be described.
- the arrow “ ⁇ ” indicates the moving direction of the cassette, and the arrow “ ⁇ ” indicates the discharging direction of the glass substrate.
- the cassette 81 positioned at the cassette collecting position H 2 is discharged. Is collected.
- the cassette moving mechanism 511 transfers the glass substrate 82 to the empty cassette recovery position H2 and the substrate discharge position G2. Move the positioned cassette 81.
- the cassette 81 positioned at the cassette supply position F2 is moved to the board discharge position G2 which has been vacated by such movement.
- the cassette lifting / lowering device 5 17 as a substrate unloading mechanism and the glass substrate moving device 5 18 move at the time when the cassette 8 1 positioned at the cassette supply position F 2 is positioned at the substrate discharge position G 2.
- the discharge of the glass substrate 82 from the cassette 81 is started.
- the cassette moving mechanism 519 allows any one of the cassette supply position F2, the substrate discharge position G2, and the cassette recovery position H2.
- the cassette 81 is moved to take the position of, and at the substrate discharge position G2, it is positioned by the cassette elevating device 5 17 and the glass substrate moving device 5 18 as the substrate unloading mechanism and the cassette moving mechanism 5 19 by the glass substrate moving device 5 18.
- the glass substrate 82 is discharged from the loaded cassette 81. For this reason, the discharge of the glass substrate 82 from the cassette 81 stops only while the cassette 81 is moving, and the discharge of the glass substrate 82 from the cassette 81 ends.
- the cassette 81 is moved from the substrate discharge position G2 to the cassette recovery position G2, and simultaneously, the cassette 81 is moved from the cassette supply position F2 to the substrate exit position G2.
- 82 Tact time in outgoing work can be shortened.
- the cassette 81 handled by the substrate storage device 416 and the substrate discharge device 516 includes a plurality of cassettes stretched between left and right side frames.
- a pin-type cassette that supports the substrate horizontally with multiple support pins that protrude horizontally from the left and right side frames Can be used.
- the substrate storage device 4 16 and the substrate discharge device 5 16 according to the fifth and sixth embodiments described above are preferably used in the first to fourth embodiments.
- the present invention is not limited to this, and can be widely used in general for a substrate storage device that stores substrates in a cassette and a substrate discharge device that discharges substrates from a force set.
- the substrate storage device 4 16 and the substrate discharge device 5 16 use a glass substrate as the thin plate material stored in the cassette 81 as an example. Although described above, any material can be used as long as it is a thin plate material that can be stored in the cassette 81.
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Description
明 細 書 製造ラインシステム及びそのシステムで用いられる自動倉庫 技 術 分 野
本発明は、 カラーフィルタ一等の板状製品を製造する製造ラインシステムに係 り、 とりわけ、 複数枚の基板 (板状材料) を収納するカセットを利用して板状製 品を製造する製造ラインシステム屎びそのシステムで用いられる各種の物流装置 (スタッカークレーン方式の自動倉庫や基板収納装置、 基板お出装置) に関する。 背 景 技 術
カラーフィルターの製造工程には、 (1)クロム成膜、 (2)ブラックマトリックス の形成、 (3)所定のパターンを備えた各色 (赤色、 緑色及び青色) の着色層の形 成、 (4)保護層の形成、 (5)柱状体の形成、 (6) I T O層の形成といった多数の処 理工程が含まれている。
ここで、 このような製造工程を実現するための製造ラインシステムとしては従 来、 上述した各処理工程を実現する複数の処理ラインを一筆書き状に直列に連結 したインライン型の製造ラインシステムが一般的に用いられている。 また、 カラ 一フィルターの製造方法には各種の方法があるが、 最も一般的な製造方法はフォ トリソグラフィ法を利用したものであり、 この場合には、 上述した(2)〜(5)の処 理工程は、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程 (製版工程) として実現 される。 なお、 製版工程においては、 フォトレジスト (着色感材) の塗布、 乾燥、 プリベータ、 露光、 現像、 リンス、 乾燥及びポストべークといった複杂集なプロセ スが必要となる。
ところで、 フォトリソグラフィ法を利用したカラーフィルターの製造工程にお いては、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程である製版工程が複数含ま れており、 カラーフィルタ一として製造される製品の種類に応じて、 それらの複 数の製版工程を実現する複数の製版ラインの配置構成等を変更する必要がある場 合が多い。 すなわち、 近年のカラーフィルターには、 製品ごとに異なる仕様 (プ
ラックマトリックスの有無や、 ブラックマトリックスの種類 (クロム又は樹脂) 、 保護層の有無、 柱状体の有無、 I T O層の有無等) のものが存在しており、 これ らの製品を同一の製造ラインシステムで製造する場合には、 製造工程中に含まれ る複数の製版工程の順番を入れ替えたり、 特定の製版工程を削除したりする必要 がある。 また、 最近のカラーフィルターには、 MV Aの障壁上に柱状体を立設し たような複雑な形状の製品も存在しており、 このような製品を通常の製品ととも に同一の製造ラインシステムで製造する場合には、 製造工程中に新たな製版工程 を追加する必要がある。
しかしながら、 上述した従来のィンライン型の製造ラインシステムでは、 各処 理工程を実現する複数の処理ラインが直列に連結されているので、 製版工程を実 現する複数の製版ラインの配置構成等を容易に変更することができないという問 題がある。 なお、 この場合、 各製版ラインの間に適切なバイパス経路を配置する ことにより対応することも可能であるが、 この場合には、 バイパス経路の分だけ 余分な設置面積をとつてしまい、 製造ラインシステム全体の占有面積が過大にな つてしまうという問題がある。
また、 フォトリソグラフィ法を利用したカラーフィルターの製造工程において、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程 (製版工程) は一般に、 フォトマス クへの異物の付着等による製品の欠陥 (共通欠陥等) の発生や装置のトラブルに より、 製版工程を実現する製版ラインを一時的に停止しなければならない場合が 多い。 また、 製版工程は異なる仕様 (使用感材ゃ線幅、 膜厚等) の製品を製造す る際に事前にプロセス条件を決定する必要があり (感材ロット等によっても微妙 に異なる場合もあるので、 その日ごとに当日のプロセス条件を確認する必要もあ り) 、 製版工程を実現する製版ラインにおいて、 前の製品の製造が完全に終了し た後に次の製品のプロセス条件を決定するための処理を別途行わなければならな レ、。 さらに、 製版工程は通常多くの処理時間がかかり、 製造ラインシステム全体 にとつて律速段階となりやすい。
し力 しながら、 上述したインライン型の製造ラインシステムでは、 各処理工程 を実現する複数の処理ラインが直列に連結されているので、 特定の製版工程を実 現する製版ラインが停止したり、 その製版ラインでプロセス条件を決定するため
の処理が行われたり、 その製版ラインが律速段階となったりした場合には、 全て の処理ラインに影響が及ぶこととなり、 製造ラインシステム全体の稼働率が低下 してしまうという問題がある。
さらに、 フォトリソグラフィ法を利用したカラーフィルターの製造工程は、 上 述したように、 多数の複雑なプロセスからなっており、 いずれかのプロセス (特 に製版工程中の各プロセス) において製品に欠陥が発生しやすいという問題があ る。 特に、 近年のカラーフィルタ一はそのサイズが非常に大型化してきており、 製品の良品率が低下しやすいという問題がある。
従来、 このようなカラーフィルターの製造工程において、 製品の良品率を向上 させるための手法としては、 個々のプロセスで用いられる装置の使用条件等を改 善するプロセス改善手法が一般的に用いられているが、 その改善の程度には一定 の限界があり、 サイズの大きなカラーフィルターの製造においては、 製品の良品 率を十分に向上させることができないという問題がある。 このため、 従来におい ては例えば、 製造ラインシステム中に検査機を組み込み、 検査機により欠陥が検 出された不良品を取り除くことにより、 製品の良品率を向上させる手法が提案さ れている (特開平 7— 2 8 1 1 7 1号公報参照) 。
しかしながら、 上記特開平 7— 2 8 1 1 7 1号公報に記載された手法では、 製 品の良品率をある程度向上させることはできるものの、 その検査内容は主として 個別欠陥を前提としたものであり、 その向上の程度には一定の限界があるという 問題がある。 また、 検査機が組み込まれる製造ラインシステムが、 複数の処理工 程を直列に連結した構成をとつているので、 検査機によって欠陥が検出された場 合には、 欠陥の発生原因の究明や排除等のために製造ラインシステム全体を一時 的に停止させなければならない場合が多く、 ラインの稼働率を高く維持すること が困難であるという問題がある。' 発 明 の 開 示
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、 フォトリソグラフイブ 口セスを含む処理工程 (製版工程) を実現する複数の製版ラインの配置構成等を 柔軟に変更することができる高い稼働率の製造ラィンシステムを提供することを
目的とする。
また、 本発明は、 ラインの稼働率を高く維持しながら製品の良品率を格段に向 上させることができる製造ラインシステムを提供することを目的とする。
さらに、 本発明は、 製造過程における基板の破損等を効果的に防止することが できるとともに、 基板のサイズ変更にも柔軟に対応することができる製造ライン システムを提供することを目的とする。
さらに、 本発明は、 製造ラインシステムで用いることが可能な自動倉庫であつ て、 カセットの入出庫作業におけるタクトタイムの短縮を図ることができるとと もに、 構成が簡単で装置レイアウトの制約も小さい自動倉庫を提供することを目 的とする。
さらにまた、 本発明は、 製造ラインシステムで用いることが可能な基板収納装 置及ぴ基板排出装置であって、 基板の収納又は排出作業におけるタクトタイムを 短くすることができる基板収納装置及ぴ基板排出装置を提供することを目的とす る。
本発明は、 第 1の解決手段として、 複数枚の基板を収納するカセットを利用し てカラーフィルターを製造する製造ラインシステムにおいて、 複数枚の基板が収 納された複数の基板収納済みのカセット又は空のカセットを保管するコア装置で あって、 複数のカセットを保管するためのストッカーと、 このストッカー内に保 管されているカセットを当該ストッカー内の複数の出し入れ位置と任意のカセッ ト保管位置との間で搬送するスタツカークレーンとを有するコア装置と、 前記コ ァ装置の前記各出し入れ位置に接続され、 前記コア装置内に保管されている基板 収納済みの力セット内に収納された基板に対してカラーフィルターを製造するた めの各種の処理を行う複数の処理ラインと、 前記コァ装置の前記各出し入れ位置 に対応して設けられ、 当該各出し入れ位置に位置付けられた基板収納済みのカセ ットから当該各出し入れ位置に対応する各処理ラインに対して基板を 1枚ずっ排 出し、 又は、 当該各処理ラインで処理が行われた処理済みの基板を 1枚ずつ当該 各出し入れ位置に位置付けられた空のカセット内に収納する基板出し入れ機構と を備え、 前記複数の処理ラインは、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程 を実現する複数の主製版ラインを含むことを特徴とする製造
供する。
なお、 上述した第 1の解決手段において、 前記複数の処理ラインは、 前記各主 製版ラインと同様の処理工程を実現する予備の製版ラインを含むことが好ましい。 また、 上述した第 1の解決手段において、 前記複数の処理ラインに含まれる前 記複数の主製版ラインのうちの少なくとも一^つに、 処理対象となる複数の基板の 同一の位置に発生する共通欠陥を検出するための共通欠陥検査機を組み込むこと が好ましい。
さらに、 上述した第 1の解決手段において、 前記複数の処理ラインは、 前記主 製版ラインに含まれる前記共通欠陥検査機により共通欠陥が検出された基板を再 生するための基板再生ラインを含むことが好ましい。
さらに、 上述した第 1の解決手段において、 前記複数の処理ラインは、 当該各 処理ラインにより処理が行われた処理済みの基板を検査するための基板検査ライ ンを含み、 この基板検查ラインは、 複数の基板の異なる位置に発生する個別欠陥 を検出するための個別欠陥検査機を有することが好ましい。 ここで、 前記基板検 査ラインは、 前記個別欠陥検査機により検出された前記各基板の個別欠陥を修正 するための基板修正装置をさらに有することが好ましい。
さらに、 上述した第 1の解決手段において、 前記複数の処理ラインは、 前記主 製版ラインに含まれる前記共通欠陥検査機又は前記基板検查ラインに含まれる前 記個別欠陥検査機により共通欠陥又は個別欠陥が検出された基板を再生するため の基板再生ラインを含むことが好ましい。
さらに、 上述した第 1の解決手段において、 前記コア装置は、 前記ストッカー 及び前記スタッカークレーンを複数有し、 前記各ストッカーには少なくとも一つ のスタッカークレーンが配置され、 前記各ストッカーは、 当該各ストッカーに配 置されたスタツカークレーン間でカセットの受け渡しを行う受け渡し装置を介し て互いに接続されていることが好ましい。 ここで、 前記受け渡し装置は、 前記各 ストッカーに配置されたスタツカークレーンの代替機として機能するスタッカー クレーンであることが好ましい。 また、 前記複数の トッカーは、 雁行状に配置 されていることが好ましい。
本努明は、 第 2の解決手段として、 複数枚の基板を収納する.カセットを利用し
て板状製品を製造する製造ラインシステムにおいて、 複数枚の基板が収納された 複数の基板収納済みのカセット又は空のカセットを保管するコア装置であって、 複数のカセットを保管するためのストッカーと、 このストッカー内に保管されて いるカセットを当該ストッカー内の複数の出し入れ位置と任意のカセット保管位 置との間で搬送するスタッカークレーンとを有するコア装置と、 前記コア装置の 前記各出し入れ位置に接続され、 前記コァ装置内に保管されている基板収納済み のカセット内に収納された基板に対して各種の処理を行う複数の処理ラインと、 前記コア装置の前記各出し入れ位置に対応して設けられ、 当該各出し入れ位置に 位置付けられた基板収納済みのカセットから当該各出し入れ位置に対応する各処 理ラインに対して基板を 1枚ずつ排出し、 又は、 当該各処理ラインで処理が行わ れた処理済みの基板を 1枚ずつ当該各出し入れ位置に位置付けられた空のカセッ ト内に収納する基板出し入れ機構とを備え、 前記コア装置により保管及び搬送さ れる前記カセットは、 左右の側面フレームと、 これら左右の側面フレーム間に張 架され、 複数枚の基板を水平状態で支持するよう異なる高さの複数段の水平面に 沿って延びる複数のワイヤとを有することを特徴とする製造ラインシステムを提 供する。
なお、 上述した第 2の解決手段において、 前記複数の処理ラインは、 カラーフ ィルターを製造するための各種の処理を行うことが好ましい。
本発明は、 第 3の解決手段として、 複数枚の基板を収納するカセットを取り扱 う自動倉庫において、 複数のカセットを保管するためのストッカーと、 前記スト ッカー内に保管されているカセットを当該ストッカー内の出し入れ位置と任意の カセット保管位置との間で搬送するスタッカークレーンと、 前記ストッカーの前 記出し入れ位置に対応して設けられ、 基板搬送機構との間でカセットからの基板 の排出又はカセットへの基板の収納を行うように前記基板搬送機構に対して当該 カセットを位置付けるカセット位置決め機構と、 前記ストッカーと前記カセット 位置決め機構の間でカセットを搬送するカセット搬送機構とを備え、 前記ストツ カーの前記出し入れ位置は、 ストッカーからカセットを搬出するための出庫ポジ シヨンと、 ス トッカーへカセットを搬入するための、 前記出庫ポジションとは独 立した入庫ポジションとを有し、 前記カセット位置決め機構は、 前記ストッカー
の前記出庫ポジションに対応するカセット供給ポジション、 及び前記入庫ポジシ ョンに対応するカセット排出ポジションのいずれかの位置をとるように移動し、 前記カセット供給ポジションにて前記カセット搬送機構からカセットを引き込む とともに、 前記カセット排出ポジションにて前記カセット搬送機構へカセットを 送り出すことを特徴とする自動倉庫を提供する。
なお、 上述した第 3の解決手段において、 前記カセットは前記複数枚の基板を 水平状態で収納するものであり、 前記カセット位置決め機構は前記カセットを基 板の収納間隔に対応するピッチで昇降させるカセット昇降装置であることが好ま しい。 '
本努明は、 第 4の解決手段として、 カセットへ基板を収納する基板収納装置に おいて、 カセッ トの供給が行われるカセット供給ポジション、 カセットへの基板 の収納が行われる基板収納ポジション、 及びカセットの回収が行われるカセット 回収ポジションのうちのいずれかの位置をとるようにカセットを移動させるカセ ット移動機構と、 前記基板収納ポジションにおいて、 前記カセット移動機構によ り位置付けられたカセットへの基板の収納を行う基板搬入機構とを備えたことを 特徴とする基板収納装置を提供する。
本発明は、 第 5の解決手段として、 カセットから基板を排出する基板排出装置 において、 カセットの供給が行われるカセット供給ポジション、 カセットからの 基板の排出が行われる基板排出ポジション、 及びカセットの回収が行われるカセ ット回収ポジションのうちのいずれかの位置をとるようにカセットを移動させる カセット移動機構と、 前記基板排出ポジションにおいて、 前記カセット移動機構 により位置付けられたカセットからの基板の排出を行う基板搬出機構とを備えた ことを特徴とする基板排出装置を提供する。
本発明の第 1の解決手段によれば、 複数枚のガラス基板を収納する複数のカセ ットを保管するスタッカークレーン方式のコア装置に、 基板出し入れ機構を介し て、 カラーフィルターを製造するための各種の処理を行う複数の処理ラインを接 続するようにしているので、 ブラックマトリッタスの形成や各色の着色層の形成 等を行うためのフォトリソグラフィプロセスを含む処理工程 (製版工程) を実現 する複数の製版ラインの配置構成等を容易に変更することが可能であり、 カラー
フィルターとして製造される製品の種類に応じて、 それらの複数の製版工程の順 番を入れ替えたり、 特定の製版工程を追加したり削除したりすることができる。 また、 本発明の第 1の解決手段によれば、 スタッカークレーン方式のコア装置 に、 各主製版ラインと同様の処理工程を実現する予備の製版ラインを接続してい るので、 フォ トリソグラフィプロセスを含む処理工程 (製版工程) において製品 に欠陥 (共通欠陥等) が発生してその製版工程を実現する製版ラインを一時的に 停止する必要がある場合でも、 その製版工程を予備の製版ラインにおいて継続す ることが可能であり、 製造ラインシステム全体の稼働率が低下することを防止す ることができる。 また、 製版工程において必要となるプロセス条件の決定を予備 の製版ラインを用いて行うことにより、 前の製品の製造と時間的に並行して次の 製品のプロセス条件を決定した上で当該予備の製版ラインで次の製品の製造を継 続することが可能となり、 製造ラインシステム全体の稼働率が低下することを防 止することができる。 さらに、 律速段階となる製版ラインで実現される製版工程 をその製版ラインとともに予備の製版ラインでも実現することにより、 律速段階 を解消することが可能となり、 製造ラインシステム全体の稼働率が低下すること を防止することができる。
さらに、 本発明の第 1の解決手段によれば、 製造ラインとしての処理ラインの うち、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程を実現する処理ライン (製版 ライン) に、 処理対象となる複数のガラス基板の同一の位置に発生する共通欠陥 を検出するための共通欠陥検査機を組み込むことにより、 大量の不良品の発生の 原因となる共通欠陥を可能な限り早期に検出することができ、 製品の良品率を向 上させることができる。 この場合、 本発明の第 1の解決手段によれば、 複数枚の ガラス基板を収納する複数のカセットを保管するスタツカークレーン方式のコア 装置に、 基板出し入れ機構を介して、 製造ラインとしての処理ラインを接続する ようにしているので、 ブラックマトリッタスの形成や各色の着色層の形成等を行 うためのフォトリソグラフィプロセスを含む処理工程 (製版工程) のうちのいず れかで、 フォトマスクへの異物の付着等により共通欠陥が発生した場合でも、 そ の共通欠陥が発生した処理工程のみを速やかに停止させて問題を解消するととも に、 他の処理工程はコア装置のストッカー内に保管されている直前の処理工程ま
での処理が行われた処理済みのガラス基板を用 、て製造を継続することができる c このため、 ラインの稼働率を高く維持しながら製品の良品率を向上させることが できる。 .
さらに、 本発明の第 1の解決手段によれば、 コア装置に、 製造ラインとしての 処理ラインにより処理が行われた処理済みのガラス基板を検査するための処理ラ イン (基板検査ライン) を接続し、 個別欠陥検査機により複数のガラス基板の異 なる位置に発生する個別欠陥を検出することにより、 共通欠陥とは異なる個別欠 陥の発生原因についても適切に排除することができ、 製品の良品率をより向上さ せることができる。 また、 処理ライン (基板検査ライン) において、 基板修正装 置により、 個別欠陥検査機により検出された各ガラス基板の個別欠陥を修正する ことにより、 製品の実質的な歩留まりを向上させることができる。
さらに、 本発明の第 1の解決手段によれば、 コア装置に、 共通欠陥検査機又は 個別欠陥検査機により共通欠陥又は個別欠陥が検出されたガラス基板を再生する ための処理ライン (基板再生ライン) を接続することにより、 基板修正装置によ り修正できない個別欠陥が個別欠陥検査機により検出された場合でも、 そのガラ ス基板を処理ライン (基板再生ライン) の基板再生装置により再生することによ り、 製品の実質的な歩留まりを向上させることができる。 また、 共通欠陥検査機 により共通欠陥が検出された場合でも、 そのガラス基板を処理ライン (基板再生 ライン) の基板再生装置により再生することにより、 製品の実質的な歩留まりを 向上させることができる。 なおこのとき、 最終的に不良品となるガラス基板を後 工程に送らないことになるので、 後工程に不要な負荷がかかることが防止され、 製造ラインシステム全体の実質的な稼働率を向上させることができる。
さらに、 本発明の第 1の解決手段によれば、 スタッカークレーン方式のコア装 置を、 カセットの受け渡しを行う受け渡し装置を介して互いに接続された複数の ストッカーから構成することにより、 設置面積の異なる処理ラインを必要最小限 の設備でかつ任意の配置構成で柔軟'に設置することが可能となる。 またこのとき、 受け渡し装置として、 各ストッカーに配置されたスタッカークレーンの代替機と して機能するスタツカークレーンを用いることにより、 スタツカークレーンが故 障したときでも、 当該代替機としてのスタツカークレ^"ンを用いて各ストッカー
での処理を継続することが可能となり、 製造ラインシステム全体の安定性を向上 させることができる。
本発明の第 2の解決手段によれば、 製造ラインシステムのコア装置により保管 及び搬送されるカセットとして、 左右の側面フレーム間に張架された複数のワイ ャにより基板を水平状態に支持するワイヤ式のカセットを用いているので、 コア 装置のスタツカークレーン等でカセットを搬送するときの振動をワイヤにより効 果的に吸収することができ、 大型の基板を用いてカラーフィルタ一等を製造する 場合でも、 カセット内に収納されている基板が破損したり、 傷ついたりすること を防止することができる。 また、 カセットに収納可能な最大寸法までの任意の寸 法の基板を収納することができ、 同一の製造'ラインシステムを用いて複数種類の カラーフィルタ一等を製造する場合でも、 基板のサイズに合わせてカセットを交 換する必要がなく、 少量多品種の製造に効果的に対応することができる。 さらに、 ピン式のカセット等と比較してより大量の基板を収納することができ、 コア装置 を備えた製造ラインシステムの利点である、 処理工程の一時的な停止に対する対 応能力をより向上させることができる。
本発明の第 3の解決手段によれば、 製造ラインシステムで用いることが可能な 自動倉庫において、 基板搬送機構との間でカセットからの基板の排出又はカセッ トへの基板の収納を行うように基板搬送機構に対して当該カセットを位置付ける カセット位置決め機構を、 ストッカーの出庫ポジションに対応するカセット供給 ポジションと、 入庫ポジションに対応するカセット排出ポジションとの間で移動 させ、 カセット供給ポジションにてカセット搬送機構からカセットを引き込むと ともに、 カセット排出ポジションにてカセット搬送機構へカセットを送り出すよ うにしているので、 カセットに対して基板の排出又は収納を行っている間に次の カセットを隣接して待機させることができ、 カセットの入出庫作業におけるタク トタイムの短縮を図ることができる。 また、 ストッカーの出庫ポジションに対応 するカセット供給ポジションと入庫ポジションに対応するカセット排出ポジショ ンとの間でのカセット位置決め機構の移動によりカセットの受け渡しが行われて いるので、 カセットの移動方向を転換するための特別の方向転換機構が必要とさ れず、 また、 フットプリントもカセット供給ポジション及び力セット排出ポジシ
ョンに対応する 2つのポジションに対応する分だけでよいので、 構成が簡単で装 置レイアウトの制約も小さい。 さらに、 カセットの受け渡しを行う力セシト供給 ポジションとカセット排出ポジションとの間を移動するカセット位置決め機構が 基板搬送コンベアと同一の架台上で相対的に移動するように構成されているので、 カセット搬送機構と基板搬送コンベアとを直接的に連結して両者の干渉を避ける ようにする場合に比べて構成が簡易なものになり、 メンテナンス性も向上する。 本発明の第 4の解決手段によれば、 製造ラインシステムで用いることが可能な 基板収納装置において、 カセット移動機構により、 カセット供給ポジション、 基 板収納ポジション及びカセット回収ポジションのうちのいずれかの位置をとるよ うにカセットを移動させ、 基板収納ポジションにおいて、 基板搬入機構により、 カセット移動機構により位置付けられたカセットへの基板の収納を行うようにし ている。 このため、 カセットへの基板の収納は、 カセットが移動している間だけ 停止するに過ぎなくなり、 また、 カセットへの基板の収納が終了した時点におい て、 基板収納ポジションからカセット回収ポジションへのカセットの移動と同時 に、 カセット供給ポジションから基板収納ポジションへのカセットの移動が行わ れるので、 基板の収納作業におけるタクトタイムを短くすることができる。
本発明の第 5の解決手段によれば、 製造ラインシステムで用いることが可能な 基板排出装置において、 カセット移動機構により、 カセット供給ポジション、 基 板排出ポジション及びカセット回収ポジションのうちのいずれかの位置をとるよ うにカセットを移動させ、 基板排出ポジションにおいて、 基板搬出機構により、 カセット移動機構により位置付けられたカセットからの基板の排出を行うように している。 このため、 カセットからの基板の排出は、 カセットが移動している間 だけ停止するに過ぎなくなり、 また、 カセットからの基板の排出が終了した時点 において、 基板排出ポジションから力セット回収ポジションへのカセットの移動 と同時に、 カセット供給ポジションから基板排出ポジションへのカセットの移動 が行われるので、 基板の排出作業におけるタクトタイムを短くすることができる。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の第 1の実施の形態に係る製造ラインシステムの全体構成を示
T JP2003/009279
12 す概略図である。
図 2は、 図 1に示す製造ラインシステムの要部の構成を示す概略平面図である。 図 3は、 図 2に示す製造ラインシステムの III一 III線に沿った概略断面図であ る。
図 4は、 図 2に示す製造ラインシステムの IV— IV線に沿った概略断面図である。 図 5は、 図 2に示す製造ラインシステムにおける基板搬送コンベアの動作を説 明するための図である。
図 6は、 本発明の第 2の実施の形態に係る製造ラインシステムの全体構成を示 す概略図である。
図 7は、 図 1及び図 6に示す製造ラインシステムのレイァゥト設計の一例を示 す図である。
図 8は、 図 1及ぴ図 6に示す製造ラインシステムのレイァゥト設計の他の例を 示す図である。
図 9及び図 1 0は、 図 8に示すようなコア装置 (複数のス トッカーを備えたコ ァ装置) におけるストッカー同士の接続態様の他の例を示す図である。
図 1 1は、 本発明の第 3の実施の形態に係る製造ラインシステムの要部の構成 を示す概略平面図である。
図 1 2は、 図 1 1に示す製造ラインシステムのスタッカークレーンの詳細を、 ガラス基板が収納されたカセットとともに示す側面図である。
図 1 3は、 図 1 2に示すスタツカークレーンの正面断面図である。
図 1 4は、 図 1 1に示す製造ラインシステムの基板出し入れ機構の一例を示す 斜視図である。
図 1 5は、 図 1 1に示す製造ラインシステムの基板出し入れ機構の他の例を示 す斜視図である。
図 1 6は、 本発明の第 4の実施の形態に係る自動倉庫を、 ガラス基板を搬出す る様子とともに示す概略平面図である。
図 1 7は、 図 1 6に示す自動倉庫の概略側面図である。
図 1 8は、 本発明の第 4の実施の形態に係る自動倉庫を、 ガラス基板を搬入す る様子とともに示す概略平面図である。
図 1 9は、 図 1 8に示す自動倉庫の概略側面図である。
図 2 0は、 本発明の第 5の実施の形態に係る基板収納装置を、 ガラス基板を搬 入する様子とともに示す概略平面図である。
図 2 1は、 本発明の第 6の実施の形態に係る基板排出装置を、 ガラス基板を搬 出する様子とともに示す概略平面図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
第 1の実施の形態
図 1に示すように、 本発明の第 1の実施の形態に係る製造ラインシステム 1は、 複数枚のガラス基板が収納された複数の基板収納済みのカセット又は空のカセッ トを保管するスタツカークレーン方式のコア装置 1 0と、 コア装置 1 0の複数の 出し入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2 ) のそれぞれに接続され、 コア装 置 1 0内に保管されている基板収納済みのカセット内に収納されたガラス基板に 対してカラーフィルターを製造するための各種の処理を行う複数の処理ライン 2 0 , 3 0 , …, 7 0, 9 0とを備えている。 なお、 コア装置 1 0は水平な設置面 上にて直線状に延びるように設置され、 各処理ライン 2 0, 3 0 , …, 7 0 , 9 0は設置面上にてコア装置 1 0の側部から逆 U字状に横方向に張り出すように設 置されている。
まず、 図 1により、 処理ライン 2 0, 3 0, …, 7 0, 9 0の構成について説 明する。 図 1に示すように、 各処理ライン 2 0 , 3 0 , ··· , 7 0, 9 0は、 ガラ ス基板を水平状態で搬送するコンベア等からなる搬送路 1 5と、 この搬送路 1 5 上に配設された各種の処理装置 2 1, 3 1 , · ·· , 9 6とを有している。
このうち、 処理ライン 2 0は、 ガラス基板上にクロムを成膜するための処理ラ インであり、 搬送路 1 5上に処理装置 (クロム成膜装置 2 1 ) が配設されている。 処理ライン 3 0は、 ガラス基板上に成膜されたクロムをパターニングしてブラ ックマトリックスを形成するための処理ラインであり、 搬送路 1 5上に処理装置 (フォトレジス ト塗布装置 3 1、 プリベータ装置 3 2、 露光装置 3 3、 現像装置 3 4、 洗浄装置 3 5、 エッチング装置 3 6、 剥離装置 3 7及びボストベーク装置
38) が配設されている。 なお、 プラックマトリックスが樹脂からなる場合には、 フォトレジスト塗布装置 31、 プリベータ装置 32、 露光装置 3 3、 現像装置 3 4、 洗浄装置 35及びポストベータ装置 38により処理が行われる。 なお、 処理 ライン 30は、 後述する処理ライン 4 OR, 40 G, 40 B, 50, 60ととも に、 フォトリソグラフィを含む処理工程を実現する主製版ラインを構成している。 処理ライン 40R, 40G, 40 Bはそれぞれ、 ガラス基板上に所定のパター ンを備えた各色 (赤色、 緑色又は青色) の着色層を形成するための処理ラインで あり、 搬送路 15上に処理装置 (フォトレジスト (着色感材) 塗布装置 41、 プ リベーク装置 42、 露光装置 43、 現像装置 44、 洗浄装置 45及びポストべ一 ク装置 46) が配設されている。
処理ライン 50は、 ガラス基板上に保護層を形成するための処理ラインであり、 処理ライン 4 OR, 4 OG, .4 OGと同様に、 搬送路 1 5上に処理装置 (フォト レジスト塗布装置 5 1、 プリべーク装置 5 、 露光装置 53、 現像装置 54、 洗 浄装置 55及びポストベータ装置 56) が配設されている。
処理ライン 60は、 ガラス基板上に柱状体を形成するための処理ラインであり、 処理ライン 4 OR, 4 OG, 4 OBと同様に、 搬送路 1 5上に処理装置 (フォト レジスト塗布装置 61、 プリべーク装置 6 2、 露光装置 63、 現像装置 64、 洗 浄装置 65及びボストベータ装置 66) が配設されている。
処理ライン 70は、 ガラス基板上に I TO層を形成するための処理ラインであ り、 搬送路 1 5上に処理装置 (I TO成膜装置 71) が配設されている。 なお、 STNタイプのカラーフィルターを製造する場合には I TO層のパターニングを 行う必要があり、 この場合には、 処理ライン 70に、 処理ライン 30と同様の処 理装置 (塗布装置、 プリベータ装置、 露光装置、 現像装置、 洗浄装置、 エツチン グ装置、 剥離装置及びボストベーク装置) を配設するようにするとよい。
処理ライン 90は、 処理ライン 40R, 40 G, 40 B, 50, 60と同様の 処理工程を実現する予備の製版ラインであり、 搬送路 1 5上に、 処理ライン 40 R, 40G, 40 B, 50, 60と同様の処理装置 (塗布装置 9 1、 プリべーク 装置 92、 露光装置 93、 現像装置 94、 洗浄装置 95及びポストベータ装置 9 6) が配設されている。 なお、 処理ライン 90は、 処理ライン 40R, 40 G,
4 0 B , 5 0 , 6 0の代替ラインとして用いることができる他、 MVAの障壁上 に柱状体を形状の製品を製造するような場合に必要となる追加のラインとしても 用いることができる。 なお、 後者の場合、 処理ライン 5 0, 6 0 , 9 0により処 理が行われる。
なお、 コア装置: L 0に接続される処理ラインとしては、 上述した処理ライン 2 0 , 3 0 , ··· , 7 0 , 9 0以外にも、 'ガラス基板を切断したり、 各種の検査を行 つたり、 ガラス基板を再生したりするための他の処理ラインを設置することがで きる。
次に、 図 2乃至図 5により.、 図 1に示す製造ラインシステム 1におけるコア装 置 1 0及び基板出し入れ機構 (基板搬出機構 1 6 a及び基板搬入機構 1 6 b ) の 構成について説明する。
図 2に示すように、 コア装置 1 0は、 複数のカセット 8 1を保管するためのス トッカー 1 1 と、 このス トッカー 1 1内に保管されているカセッ ト 8 1をス トツ カー 1 1内で搬送するスタッカークレーン 1 2とを有している。
ここで、 ストッカー 1 1は、 図 3及び図 4に示すように、 カセット 8 1が載置 される複数のラック 1 1 aを上下 2段に配置した構造を有している。 また、 スタ ッカークレーン 1 2は、 ストッカー 1 1に沿って延びるレール 1 3上を左右方向 に走行するとともに、 昇降フレーム (図示せず) を上下方向に移動させることに より、 ストッカー 1 1內の各出し入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2〉 と 上下 2段のラック 1 1 aのうちの任意のラック (任意のカセット保管位置) との 間でカセット 8 1を搬送するようになっている。 なおここでは、 レール 1 3の片 側に 1台のス トッカー 1 1を設置しているが、 これに限らず、 レール 1 3の両側 に 2台のストッカーを設置するようにしてもよい。 また、 ストッカー 1 1のラッ ク 1 1 aを上下 2段に配置しているが、 これに限らず、 ストッカー 1 1のラック 1 1 aを上下 3段以上に配置してもよい。 さらに、 レール 1 3上にて 1台のスタ ッカークレーン 1 2のみが走行するようにしているが、 これに限らず、 レール 1 3上にて 2台以上のスタツカークレーンが走行するようにしてもよい。
ここで、 ス トッカー 1 1内の各出し入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2 ) にはそれぞれ基板出し入れ機構 (基板搬出機構 1 6 a及び基板搬入機構 1 6
b ) が設けられており、 図 2及ぴ図 3に示すように、 各基板搬出機構 1 6 aによ り、 各搬出位置 C 1に位置付けられた基板収納済みのカセット 8 1から各搬出位 置 C 1に対応する各処理ライン (搬送路 1 5 ) に対してガラス基板 8 2を 1枚ず つ排出するとともに、 図 2及び図 4に示すように、 各基板搬入機構 1 6 により、 各処理ライン (搬送路 1 5 ) で処理が行われた処理済みのガラス基板 8 2を 1枚 ずつ各搬入位置 C 2に位置付けられた空のカセット 8 1内に収納するようになつ ている。
なお、 各基板搬出機構 1 6 aは、 カセット 8 1を昇降させるカセット昇降装置 1 7 aと、 カセット昇降装置 1 7 aにより昇降される基板収納済みのカセット 8 1から搬送路 1 5へガラス基板 8 2を 1枚ずつ搬出させる基板搬送コンベア 1 8 aとを有している。 また、 各基板搬出機構 1 6 aは、 搬出位置 C 1の出庫ポジシ ヨン A 1又は入庫ポジション B 1とカセット昇降装置 1 7 aとの間でカセット 8 1の受け渡しを行うカセット搬送装置 (図示せず) を有している。 '
また、 各基板搬入機構 1 6 bは、 カセット 8 1を昇降させるカセット昇降装置 1 7 bと、 カセット昇降装置 1 7 bにより昇降されるカセット 8 1へ搬送路 1 5 からガラス基板 8 2を 1枚ずつ搬入させる基板搬送コンベア 1 8 bとを有してい る。 また、 各基板搬入機構 1 6 bは、 搬入位置 C 2の出庫ポジション A 2又は入 庫ポジション B 2とカセット昇降装置 1 7 bとの間でカセット 8 1の受け渡しを 行うカセット搬送装置 (図示せず) を有している。
なお、 図 5に示すように、 基板搬送コンベア 1 8 a , 1 8 bは、 支持フレーム 8 7と、 支持フレーム 8 7上に設けられたコロ 8 8とを有している。 一方、 カセ ット 8 1は、 上板 8 3と、 下板 8 4と、 これらの上板 8 3及び下板 8 4を連結す るように取り付けられた複数の支柱 8 5と、 支柱 8 5間に左右 (図 5の紙面に垂 直な方向) に掛け渡された複数のワイヤ 8 6とを有し、 同一の高さに配置された 複数のワイヤ 8 6により、 図 5に示すような状態で複数のガラス基板 8 2が収納 されるようになつている。 なお、 カセット 8 1は、 カセット昇降装置 (図 2参 照) により昇降されるようになっており、 下板 8 4に形成された開口 8 4 aを介 して進入した基板搬送コンベア 1 8 a , 1 8 bのコロ 8 8が、 カセット 8 1内に 収納されたガラス基板 8 2の下面と接触することにより、 ガラス基板 8 2がカセ
ット 8 1から搬送路 1 5へ搬出され、 又は搬送路 1 5からカセット 81へ搬入さ れるようになっている。
次に、 図 1乃至図 5により、 このような構成からなる製造ラインシステム 1の 動作について説明する。 なお、 コア装置 1 0及び各処理ライン 20, 30, ···, 70, 90には制御装置 (図示せず) が接続されており、 以下の動作が自動的に 行われるようになっている。
まず、 初期の状態として、 コア装置 10のストッカー 1 1内には、 未処理の複 数枚のガラス基板 8 2が収納された複数の基板収納済みのカセット 81及び複数 の空のカセット 8 1が保管されているものとする。
この状態で、 各処理ライン 20, 30, ···, 70, 90は、 コア装置 10のス タツカークレーン 1 2により、 ストッカー 1 1内に保管されている基板収納済み のカセット 8 1のうち特定のカセット 8 1 (所望の処理工程までの処理が行われ たガラス基板が収納されたカセット) を取り出し、 搬出位置 C 1に位置付ける。 また、 各処理ライン 20, 30, …, 70, 90は、 コア装置 10のスタッカー クレーン 12により、 ストツ力 1 1内に保管されている空のカセット 8 1を搬 入位置 C 2に位置付ける。 '
なおこのとき、 カラーフィルターの製造は、 処理ライン 20, 30, ···, 70, 90を用いてガラス基板 62に対して所定の順序に従って順次処理を行うことに より実現されており、 各処理ライン 20, 30, …, 70, 90の搬出位置 C 1 には、 ストッカー 1 1内に保管されている基板収納済みのカセット 81のうち直 前の処理工程までの処理が行われたガラス基板が収納されたカセット 8 1が選択 的に位置付けられる。 なお、 処理ライン 20, 30, ···, 70, 90によるカラ 一フィルターの製造は例えば、 (1)クロム成膜 (処理ライン 20) 、 (2)ブラック マトリックスの形成 (処理ライン 30) 、 (3)赤色の着色層の形成 (処理ライン 40R) 、 (4)緑色の着色層の形成 (処理ライン 40 G) 、 (5)青色の着色層の形 成 (処理ライン 40 B) 、 (6)保護層の形成 (処理ライン 50) 、 (7)柱状体の形 成 (処理ライン 60) 、 (8) I TO層の形成 (処理ライン 70) といった順序で 行われ、 この場合には、 各処理ライン 20, 30, ···, 70, 90の搬出位置 C 1には、 ストッカー 1 1内に保管されている基板収納済みのカセット 8 1のうち
上述した(1)〜(8)の順序からみて直前の処理工程までの処理が行われたガラス基 板が収納されたカセット 8 1が選択的に位置付けられる。
ここで、 各処理ライン 2 0, 3 0 , ···, 7 0 , 9 0においては、 搬出位置 C 1 に設けられた基板搬出機構 1 6 aにより、 搬出位置 C 1に位置付けられた基板収 納済みのカセット 8 1から処理ライン (搬送路 1 5 ) に対してガラス基板 8 2が 1枚ずつ排出され、 各処理ライン 2 0, 3 0, ··· , 7 0, 9 0においてガラス基 板 8 2に対して所定の処理が行われる。
具体的には、 図 2に示すように、 まず、 コア装置 1 0のスタッカークレーン 1 2によりストッカー 1 1の特定のラック 1 1 aから取り出された基板収納済みの カセット 8 1を、 搬出位置 C 1の出庫ポジション A 1へ搬送する。 ここで、 出庫 ポジション A 1に到着した基板収納済みのカセット 8 1は、 カセット搬送装置
(図示せず) によりカセット昇降装置 1 7 aへ搬送される。 そして、 カセット昇 降装置 1 7 aは、 図 5に示すような状態で、 カセット 8 1を 1段ずつ下降させな がら、 基板搬送コンベア 1 8 aのコロ 8 8をカセット 8 1内の最下段に位置する ガラス基板 8 2の下面に接触させることにより、 カセット 8 1から搬送路 1 5へ ガラス基板 8 2を 1枚ずつ搬出する。 なおこのとき、 カセット 8 1からガラス基 板 8 2を搬出している間に、 次にガラス基板 8 2が排出されるべき別の基板収納 済みのカセット 8 1を出庫ポジション A 1へ搬送させて待機させておく。
なお、 全てのガラス基板 8 2が搬出された空のカセット 8 1は、 カセット昇降 装置 1 7 aにより上昇されながら入庫ポジション B 1の前へ移動し、 カセット搬 送装置 (図示せず) により、 カセット昇降装置 1 7 aから入庫ポジション B 1へ 搬送される。 そして、 入庫ポジション B 1へ娵送された空のカセット 8 1は、 収 鈉用のカセットとして、 スタッカークレーン 1 2により、 ストッカー 1 1内の空 いているラック 1 1 a内に保管される。
一方、 各処理ライン 2 0, 3 0 , ··· , 7 0, 9 0においては、 搬入位置 C 2に 設けられた基板搬入機構 1 6 bにより、 処理ライン (搬送路 1 5 ) で処理が行わ れた処理済みのガラス基板 8 2が 1枚ずつ搬入位置 C 2に位置付けられた空の力 セット 8 1内に収納される。 '
具体的には、 図 2に示すように、 まず、 コア装置 1 0のスタッカークレーン 1
2によりストッカー 1 1の特定のラック 1 1 aから取り出された空のカセット 8 1を、 搬入位置 C 2の出庫ポジション A 2へ搬送する。 ここで、 出庫ポジション A 2に到着した空のカセット 8 1は、 カセット搬送装置 (図示せず) によりカセ ット昇降装置 1 7 bへ搬送される。 そして、 カセット昇降装置 1 7 bは、 図 5に 示すような状態で、 カセット 8 1を 1段ずつ上昇させながら、 搬送路 1 5から搬 入されたガラス基板 8 2を受け入れ、 基板搬送コンベア 1 8 aのコロ 8 8をガラ ス基板 8 2の下面に接触させることにより、 搬送路 1 5からカセット 8 1へガラ ス基板 8 2を 1枚ずつ搬入する。 なお、 カセット 8 1内にガラス基板 8 2を収納 している間に、 次にガラス基板 8 2が収納されるべき別の空のカセット 8 1を出 庫ポジション A 2へ搬送させて待機させておく。
なお、 全てのガラス基板 8 2が収納された基板収納済みのカセット 8 1は、 力 セット昇降装置 1 7 bにより入庫ポジション B 2の前へ移動し、 カセット搬送装 置 (図示せず) により、 カセット昇降装置 1 7 bから入庫ポジション B 2へ搬送 される。 そして、 入庫ポジション B 2へ搬送された基板収納済みのカセット 8 1 は、 スタッカークレーン 1 2により、 ストッカー 1 1内の空いているラック 1 1 a内に保管される。
このように本発明の第 1の実施の形態によれば、 複数枚のガラス基板 8 2を収 納する複数のカセット 8 1を保管するスタツカークレーン方式のコア装置 1 0に、 基板出し入れ機構 (基板搬出機構 1 6 a及ぴ基板搬入機構 1 6 b ) を介して、 力 ラーフィルターを製造するための各種の処理を行う複数の処理ライン 2 0 , 3 0, ···, 7 0 , 9 0を接続するようにしているので、 ブラックマトリックスの形成や 各色の着色層の形成等を行うためのフォトリソグラフィプロセスを含む処理工程 (製版工程) を実現する処理ライン 4 0 R, 4 0 G, 4 0 B , 5 0 , 6 0の配置 構成等を容易に変更することが可能であり、 カラーフィルタ一として製造される 製品の種類に応じて、 それらの複数の製版工程の順番を入れ替えたり、 特定の製 版工程を追加したり削除したりすることができる。
また、 本発明の第 1の実施の形態によれば、 スタッカークレーン方式のコア装 置 1 0に、 処理ライン (主製版ライン) 4 0 R , 4 0 G , 4 0 B , 5 0 , 6 0と 同様の処理工程を実現する処理ライン (予備の製版ライン) 9 0を接続している
ので、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程 (製版工程) において製品に 欠陥 (共通欠陥等) が発生してその製版工程を実現する製版ラインを一時的に停 止する必要がある場合でも、 その製版工程を処理ライン 9 0において継続するこ とが可能であり、 製造ラィンシステム全体の稼働率が低下することを防止するこ とができる。 また、 製版工程において必要となるプロセス条件の決定を処理ライ ン 9 0を用いて行うことにより、 前の製品の製造と時間的に並行して次の製品の プロセス条件を決定した上で当該処理ライン 9 0で次の製品の製造を継続するこ とが可能となり、 製造ラインシステム全体の稼働率が低下することを防止するこ とができる。 さらに、 律速段階となる製版ラインで実現される製版工程をその製 版ラインとともに処理ライン 9 0でも実現することにより、 律速段階を解消する ことが可能となり、 製造ラインシステム全体の稼働率が低下することを防止する ことができる。
なお、 上述した第 1の実施の形態においては、 コア装置 1 0に処理ライン (予 備の製版ライン) 9 0を一つだけ接続し、 この処理ライン 9 0により必要に応じ て各製版ライン 4 O R , 4 O G , 4 0 B , 5 0, 6 0と同様の処理工程を実現す るようにしているが、 これに限らず、 任意の数の予備の製版ラインを設け、 例え ば、 各製版ライン 4 0 R, 4 0 G , 4 0 B , 5 0 , 6 0ごとに予備の製版ライン を接続し、 それぞれの予備の製版ラインにより各製版ライン 4 O R , 4 0 G , 4 O B , 5 0, 6◦と同様の処理工程を実現するようにしてもよい。 . また、 上述した第 1の実施の形態においては、 コア装置 1 0を一つのストッカ 一 1 1から構成しているが、 これに限らず、 コア装置 1◦を複数のストッカーか ら構成するようにしてもよい。
さらに、 上述した第 1の実施の形態においては、 基板収納済みのカセット 8 1 から搬送路 1 5へガラス基板 8 2を 1枚ずつ搬出したり、 カセット 8 1へ搬送路 1 5からガラス基板 8 2を 1枚ずつ搬入させる基板搬送機構として、 図 5に示す ような基板搬送コンベア 1 8 a , 1 8 bを用いている力 これに限らず、 アーム を備えたロボット等を用い、 ガラス基板 8 2をアーム上に載置してカセット 8 1 の正面から差し込み、 アームからワイヤ 8 6へガラス基板 8 2を移し替えること で 1枚ずつガラス基板 8 2を収納し、 一方、 カセット 8 1の正面からアームを差
し込み、 ワイヤ 86からアームへガラス基板 82を移し替えることで 1枚ずっガ ラス基板 82を排出するようにしてもよい。
第 2の実施の形態
次に、 図 6により、 本発明の第 2の実施の形態について説明する。 なお、 本発 明の第 2の実施の形態は、 (1)フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程を実 現する製版ラインに、 処理対象となる複数のガラス基板の同一の位置に発生する 共通欠陥を検出するための共通欠陥検査機を組み込んだ点、 (2)各処理ラインに より処理が行われた処理済みの基板を検査 (必要に応じて修正) するための基板 検査ラインを設けた点、 (3)製版ラインに含まれる共通欠陥検査機又は基板検査 ラインに含まれる個別欠陥検查機により共通欠陥又は個別欠陥が検出された基板 を再生するための基板再生ラインを設けた点を除いて、 他は、 上述した第 1の実 施の形態と略同一である。 本発明の第 2の実施の形態において、 上述した第 1の 実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
図 6に示すように、 本発明の第 2の実施の形態に係る製造ラインシステム は、 複数枚のガラス基板が収納された複数の基板収納済みのカセット又は空の力 セットを保管するスタツカークレーン方式のコア装置 10と、 コア装置 1 0の複 数の出し入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2) のそれぞれに接続され、 コ ァ装置 10内に保管されている基板収納済みのカセット内に収納されたガラス基 板に対して各種の処理を行う複数の処理ライン 20, 30, …, 70, 90, 1 00, 1 10とを備えている。 なお、 処理ライン 20, 30, ··', 70, 90は、 カラーフィルタ一を製造するための各種の処理を行う製造ラインであり、 処理ラ イン 100は、 処理ライン 20, 30, ···, 70, 90により処理が行われた処 理済みのガラス基板を検査するための基板検査ラインであり、 処理ライン 1 10 は、 各種の欠陥 (ガラス基板の同一の位置に発生する共通欠陥や、 基板の異なる 位置に発生する個別欠陥) が検出されたガラス基板を再生するための基板再生ラ インである。 なお、 コア装置 10は水平な設置面上にて直線状に延びるように設 置され、 各処理ライン 20, 30, '··, 70, 90, 100, 1 10は設置面上 にてコア装置 10の側部から逆 U字状に横方向に張り出すように設置されている。 まず、 図 6により、 処理ライン 20, 30, ···, 70, 90, 100, 1 10
の構成について説明する。 図 6に示すように、 各処理ライン 20, 30, ···, 7 0, 90, 100, 1 10は、 ガラス基板を水平状態で搬送するコンベア等から なる搬送路 1 5と、 この搬送路 1 5上に配設された各種の処理装置 21, 3 1, ···, 101, 102, 1 1 1とを有している。
ここで、 処理ライン 20, 30, …, 70, 90の基本的な構成は、 上述した 第 1の実施の形態と同一であるが、 処理ライン 30, 40 R, 40 G, 40 B, 50, 60, 70の搬送路 15上には、 処理対象となる複数のガラス基板の同一 の位置に発生する共通欠陥を検出するための共通欠陥検査機 39, 47, 5 7, 6 7, 77が組み込まれている。
このうち、 ブラックマトリッタスの形成のための処理ライン 30に組み込まれ た共通欠陥検査機 3 9では、 所定の検査項目 (端面寸法、 透過率及び外観検査 等) に関して全数検査を行う。 なお、 外観検査は、 画像処理装置等により、 隣接 画素画像の差分を比較することにより行う。
また、 各色 (赤色、 青色又は緑色) の着色層の形成のための処理ライン 40 R, 40G, 40 Bに組み込まれた共通欠陥検査機 47では、 所定の検査項目 (外観 検査等) に関して抜き取り検査 (例えば 10枚に 1枚の割合) を行う。 なお、 外 観検査は、 画像処理装置等により、 隣接したマトリックス部分に相当する画像の 差分を比較することにより行う。
また、 保護層の形成のための処理ライン 50に組み込まれた共通欠陥検査機 5 7では、 所定の検査項目 (ムラ検査及び共通欠陥検查等) に関して全数検査又は 抜き取り検査を行う。 なお、 ムラ検査は、 画像処理装置等により反射光及び透過 光を AD変換し、 大面積 (長期周期) での隣接部画像の差分を比較することによ り行う。 また、 共通欠陥検査は、 画像処理装置等により反射光及び透過光を AD 変換し、 一画素程度の小面積 (短期周期) での隣接部画像の差分を比較すること により行う。
また、 柱状体の形成のための処理ライン 60に組み込まれた共通欠陥検査機 6 7では、 所定の検査項目 (寸法検査及び柱状体の脱落検査等) について全数検査 又は抜き取り検査を行う。 なお、 柱状体の脱落検査は、 画像処理装置等により、 隣接した柱状体画像の差分を比較する.ことにより行う。
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23 また、 I TO層の形成のための処理ライン 70に組み込まれた共通欠陥検査機 77では、 所定の検査項目 (ピンホールの形成状態、 所定位置からのずれ、 分光 特性、 シート抵抗及び膜厚等) について全数検査又は抜き取り検査を行う。
なお、 共通欠陥検査機 39, 47, 57, 67, 77により得られた検査結果 は、 制御装置 (図示せず) において各ガラス基板と対応付けられた形で管理され ており、 この検查結果に基づいて、 各ガラス基板のその後の処理 (処理の継続や ガラス基板の再生等) が決定される。 ここで、 検查結果によっては、 共通欠陥が 発生している処理ラインを停止させて、 共通欠陥の発生原因の究明や排除等を行 う。 具体的には例えば、 I TO層の形成のための処理ライン 70を例に挙げて説 明すると、 S TNタイプのカラーフィルターを製造するためのパターン形成を行 う場合には、 フォトマスクの洗浄や交換を行う。 また、 TFTタイプのカラーフ ィルターを製造するためのパターン形成 (表示部が全面膜で電極の取り出し部を 除く外周部に I TOが形成されないようなパターン形成) を行う場合には、 I T
〇成膜時に用いられているキヤリァ一の洗浄や交換を行う。
一方、 処理ライン 100は、 処理ライン 20, 30, ···, 70, 90により処 理が行われた処理済みのガラス基板を検査するための基板検査ラインであり、 搬 送路 1 5上に処理装置 (複数のガラス基板の異なる位置に発生する個別欠陥を検 出するための個 欠陥検査機 101、 及ぴ個別欠陥検査機 1 01により検出され た各ガラス基板の個別欠陥を修正するための基板修正装置 1 02) が配設されて レヽる。
ここで、 処理ライン 10 1の個別欠陥検査機 101では、 所定の検査項目 (ム ラ検査、 外観検査、 欠陥高さ測定、 座標レビュー) について個別検査が行われる。 各検査項目の詳細は次のとおりである。
(1) ムラ検査:画像処理装置等により単色 (同色) 画像を取り出して、 一画 素についての共通欠陥検查では検出することができない濃淡欠陥を検出する。 な お、 検査方法や、 比較領域の面積、 方向 (縦及び横) を変えることにより、 小さ な欠陥からムラ欠陥までが検出される。
(2) 外観検査:画像処理装置により透過光画像を取り出し、 同色の隣接画素 画像の差分を比較することにより、 白抜けや異物、 ブラックマトリックス欠陥、
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24 裏面ガラス傷、 裏面ガラス汚れ等を検出する。 また、 画像処理装置等により反射 光画像を取り出し、 同色の隣接画素画像の差分を比較することにより、 突起や膜 面剥がれ等を検出する。
(3) 欠陥高さ測定:上記 (2) の外観検査で検出された突起 (反射光画像で は突起は乱反射により黒く観察される) の高さを触針式の測定装置により測定す る。
- (4) 座標レビュー :上記 (2) の外観検査で検出された結果に基づいて、 測 定が必要であると判断された欠陥と部位の座標とを顕 鏡により検査する。 これ により、 その後の処理 (修正不要、 修正必要及び修正不可能等) が決定される。 処理ライン 1 10は、 共通欠陥検査機 3 9, 47, 57, 67, 77又は個別 欠陥検査機 101により共通欠陥又は個別欠陥が検出されたガラス基板を再生す るための基板再生ラインであり、 搬送路 1 5上に処理装置 (共通欠陥又は個別欠 陥が検出されたガラス基板を再生する基板再生装置 1 1 1) が配設されている。 なお、 コア装置 10に接続される処理ラインとしては、 上述した処理ライン 2 0, 30, ···, 70, 90, 100, 1 1◦以外にも、 ガラス基板を切断したり するための他の処理ラインを設置することができる。
ここで、 このような構成からなる製造ラインシステム 1' の動作は、 上述した 第 1の形態の場合と同様であり、 コア装置 10及び各処理ライン 20, 30, 70, 90, 100, 1 10に接続された制御装置 (図示せず) による制御の下 で、 カラーフィルターの製造、 検査及び再生等に関する各種の処理が自動的に行 われる。
具体的には、 カラーフィルターの製造は、 製造ラインとしての処理ライン 20, 30, …, 70を用いてガラス基板 82に対して所定の順序に従って順次処理を 行うことにより実現されており、 各処理ライン 20, 30, …, 70の搬出位置 C 1には、 ストッカー 1 1内に保管されている基板収納済みのカセット 8 1のう ち直前の処理工程までの処理が行われたガラス基板が収納されたカセット 8 1が 選択的に位置付けられる。 なお、 処理ライン 20, 30, '··, 70によるカラー フィルターの製造は例えば、 (1)クロム成膜 (処理ライン 20) 、 (2)ブラックマ トリックスの形成 (処理ライン 30) 、 (3)赤色の着色層の形成 (処理ライン 4
OR) 、 (4)緑色の着色層の形成 (処理ライン 40 G) 、 (5)青色の着色層の形成 (処理ライン 40 B) 、 (6)保護層の形成 (処理ライン 50) 、 )柱状体の形成 (処理ライン 60) 、 (8) 1 TO層の形成 (処理ライン 70) といった順序で行 われる。 - なお、 製造ラインとしての処理ライン 20, 30, ···, 70のうち、 フォトリ ソグラフィプロセスを含む処理工程を実現する処理ライン (製版ライン) 40R, 40 G, 40 B, 50, 60には、 処理対象となる複数のガラス基板 8 2の同一 の位置に発生する共通欠陥を検出するための共通欠陥検査機 39, 47, 5 7,
67が組み込まれており、 上述した所定の検査項目に従って検查を行う。 そして、 その検査結果によって、 共通欠陥が発生している処理ラインを停止させて、 共通 欠陥の発生原因の究明や排除等を行う。 なおこのとき、 停止された処理ライン以 外の処理ラインについては、 コア装置 1 0のストッカー 1 1内に保管されている 直前の処理工程までの処理が行われた処理済みのガラス基板 82を用いて製造が 継続される。 ·
また、 製造ラインとしての処理ライン 20, 30, …, 70による処理が全て 終了した後、 又はその途中において、 処理ライン 20, 30, ·'·,' 70により処 理が行われた処理済みのガラス基板 82は処理ライン (基板検査ライン) 100 に送られる。 そして、 個別欠陥検査機 10 1により、 複数のガラス基板 82の異 なる位置に発生する個別欠陥を上述した所定の検査項目に従って検出し、 必要に 応じて、 基板修正装置 102により、 個別欠陥検査機 101により検出された各 ガラス基板 82の個別欠陥を修正する。.
さらに、 製造ラインとしての処理ライン 20, 30, ···, 70による処理が全 て終了した後、 又はその途中において、 共通欠陥検査機 39, 47, 5 7, 67,
77又は個別欠陥検査機 101により共通欠陥又は個別欠陥が検出されたガラス 基板 8 2が基板再生ライン (処理ライン 1 10) に送られる。 そして、 基板再生 装置 1 1 1により、 ガラス基板 82上に形成された各種の層を酸及びアルカリ溶 液に浸す等して取り除くことによりガラス基板 82を再生する。
このように本発明の第 2の実施の形態によれば、 製造ライン Ϊしての処理ライ ン 20, 30, ···, 70のうち、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程を
実現する処理ライン (製版ライン) 30, 40 R, 40 G, 40 B, 50, 60, 70に、 処理対象となる複数のガラス基板 82の同一の位置に発生する共通欠陥 を検出するための共通欠陥検査機 ·39, 47, 57, 67, 77を組み込んでい るので、 大量の不良品の発生の原因となる共通欠陥を可能な限り早期に検出する ことができ、 製品の良品率を向上させることができる。 この場合、 本発明の第 2 の実施の形態によれば、 複数枚のガラス基板 82を収納する複数のカセット 8 1 を保管するスタッカークレーン方式のコア装置 10に、 基板出し入れ機構 (基板 搬出機構 16 a及び基板搬入機構 16 b) を介して、 製造ラインとしての処理ラ イン 20, 30, ···, 70を接続するようにしているので、 ブラックマトリック スの形成や各色の着色層の形成等を行うためのフォトリソグラフィプロセスを含 む処理工程 (製版工程) のうちのいずれかで、 フォトマスクへの異物の付着等に より共通欠陥が発生した場合でも、 その共通欠陥が発生した処理工程のみを速や かに停止させて問題を解消するとともに、 他の処理工程はコア装置 10のストツ カー 1 1内に保管されている直前の処理工程までの処理が行われた処理済みのガ ラス基板 82を用いて製造を継続することができる。 このため、 ラインの稼働率 を高く維持しながら製品の良品率を向上させることができる。
さらに、 本発明の第 2の実施の形態によれば、 コア装置 10に、 製造ラインと しての処理ライン 20, 30, ···, 70により処理が行われた処理済みのガラス 基板 82を検查するための処理ライン (基板検査ライン) 1 00を接続し、 個別 欠陥検査機 1 01により複数のガラス基板 82の異なる位置に発生する個別欠陥 を検出するようにしているので、 共通欠陥とは異なる個別欠陥の発生原因につい ても適切に排除することができ、 製品の良品率をより向上させることができる。 また、 処理ライン (基板検査ライン) 100において、 基板修正装置 102によ り、 個別欠陥検査機 10 1により検出された各ガラス基板 82の個別欠陥を修正 するようにしているので、 製品の実質的な歩留まりを向上させることができる。
さらにまた、 本発明の第 2の実施の形態によれば、 コア装置 10に、 共通欠陥 検査機 39, 47, 57, 67, 77又は倔別欠陥検査機 101により共通欠陥 又は個別欠陥が検出されたガラス基板 82を再生するための処理ライン (基板再 生ライン) 1 10を接続するようにしているので、 基板修正装置 102により修
正できない個別欠陥が個別欠陥検査機 1 0 1により検出された場合でも、 そのガ ラス基板 8 2を処理ライン (基板再生ライン) 1 1 0の基板再生装置 1 1 1によ り再生することにより、 製品の実質的な歩留まりを向上させることができる。 ま た、 共通欠陥検査機 3 9, 47, 5 7, 6 7, 7 7により共通欠陥が検出された 場合でも、 そのガラス基板 8 2を処理ライン (基板再生ライン) 1 1 0の基板再 生装置 1 1 1により再生することにより、 製品の実質的な歩留まりを向上させる ことができる。 なおこのとき、 最終的に不良品となるガラス基板 8 2を後工程に 送らないことになるので、 後工程に不要な負荷がかかることが防止され、 製造ラ ィンシステム全体の実質的な稼働率を向上させることができる。
なお、 上述した第 1及び第 2の実施の形態において、 図 1及び図 6に示す製造 ラインシステム 1, は、 実際の工場において次のようなレイアウト設計の下 で導入することができる。 以下、 図 6に示す製造ラインシステム 1' の場合を例 に挙げて説明する。
図 7及び図 8は、 図 6に示す製造ラインシステム 1' を実際の工場に導入する 場合のレイアウト設計の例を示す図である。 なお、 図 7及び図 8では、 図 6に示 す処理ライン 20, 30, ···, 7 0, 9 0, 1 0 0, 1 1 0のうち、 クロム成膜 ライン 20、 ブラックマトリックス形成ライン 3 0、 着色層形成ライン 4 O R, 4 OG, 40 B、 保護層形成ライン 50、 柱状体形成ライン 6 0、 基板検査ライ ン 1 00及ぴ基板再生ライン 1 1 0のみを工場のフロアー 1 5 0上に設置する場 合を示している。
図 7に示すように、 製造ラインシステム 1' のレイアウト設計を行う場合には、 必要とされるストツク容量等の関係でコア装置 1 0のストッカー 1 1のサイズを 決定した上で、 フロアー 1 5 0の面積や形状を考慮して、 処理ライン 20, 30, …, 60, 1 00, 1 1 0の配置構成を決定する。
このとき、 処理ライン 20, 30, ···, 60, 1 00, 1 1 0はその種類に応 じて設置面積が異なり、 また、 同じ製版ラインである処理ライン 30, ···, 6 0 でも、 例えばブラックマトリックス形成ライン 3 0では着色層形成ライン 40 R, 40G, 40 Bに比べて大きな設置面積が必要となる。 また、 カラーフィルター を製造するための製造ラインである処理ライン 20, 30, …, 60以外にも、
検査や修正処理を行うための基板検査ライン 100、 及びガラス基板を再生する ための基板再生ライン 1 10等の他の処理ラインが接続される。
このため、 このような設置面積の異なる全ての処理ライン 20, 30, ■··, 6 0, 100, 1 10を、 一つのストッカー 11から構成されるコア装置 10に接 続しょうとすると、 図 7に示すレイアウト設計のように、 一部の処理ライン (ブ ラックマトリック形成ライン 30及び基板再生ライン 1 10) とコア装置 10と の間を、 図 2に示すような基板出し入れ機構 (基板搬出機構 16 a及び基板搬入 機構 16 b) のみにより直接接続することができなくなり、 AGVや RGV、 C V等の搬送台車によりガラス基板を搬送する必要がある無駄な経路 (1 21, 1 22参照) が生じる。
これに対し、 コア装置 10を複数のストッカーから構成するようにすれば、 設 置面積の異なる処理ライン 20, 30, ·'··, 60, 100, 1 10を必要最小限 の設備でかつ任意の配置構成で柔軟に設置することが可能となる。 具体的には、 図 8に示すように、 複数のストッカー 1 1 , 1 1 を雁行状 (段違い状) に配置 することにより、 ブラックマトリック形成ライン 30及び再生ライン 1 1 0を含 む全ての処理ライン 20, 30, -·, 60, 100, 1 10とコア装置 10とを、 図 2に示すような基板出し入れ機構 (基板搬出機構 16 a及び基板搬入機構 16 b) のみにより直接接続することが可能となる。
ここで、 図 8に示すコア装置 10では、 各ストッカー 1 1 , 1 1' に一つのス タッカークレーン 1 2, 12' が配置されている。 また、 ストッカー 1 1, 1 1 ' の連結部分には、 スタッカークレーン 12, 1 2' 間でカセットの受け渡しを 行うスタツ力 クレーン (受け渡し装置) 1 9が配置されている。 なお、 このよ うな受け渡し装置としては任意の装置を用いることが可能であるが、 スタッカー クレーン 1 2, 1 2' の代替機として機能するスタッカークレーン 1 9を用いる ようにすれば、 スタッカ^"クレーン 12, 1 2' が故障したときでも、 代替機と してのスタッカークレーン 19を用いて各ストッカー 1 1, 1 1' での処理を II 続することが可能となる。
なお、 図 · 8に示すコア装置 10では、 複数のストッカー 1 1, 1 1' を雁行状 (段違い状) に配置しているが、 フロアーの形状や処理ラインの数等に応じて任
意の配置構成をとることができ、 例えば、 図 9及び図 1 0に示すように、 複数の ストッカー 1 1, 1 1 ' , 1 1 " を受け渡し装置 1 3 0を介して T字状等に配置 するようにしてもよい。
第 3の実施の形態 '
次に、 図 1 1乃至図 1 5により、 本発明の第 3の実施の形態について説明する。 なお、 本発明の第 3の実施の形態は、 コア装置の構成が異なる点を除いて、 他は、 上述した第 1及び第 2の実施の形態と略同一である。 本発明の第 3の実施の形態 において、 上述した第 1及び第 2の実施の形態と同一部分には同一符号を付して 詳細な説明は省略する。
上述した第 1及ぴ第 2の実施の形態に係る製造ラインシステム 1, 1 ' におい て、 コア装置 1 0により保管及び搬送されるカセット 8 1としては、 左右の側面 フレームから水平方向に突出した複数の支持ピンにより基板を水平状態に支持す る、 いわゆるピン式のカセットを用いることもできる。 なお、 ピン式のカセット に、 左右の側面フレームから複数本ずつ同一の高さで内側に向けて突出した支持 ピンの列を複数段に!:つて設けたものであり、 同一段の複数本の支持ピンにより 1枚のガラス基板を水平状態で支持することにより複数のガラス基板を収納する ものである。
しかしながら、 ピン式のカセットでは、 コア装置のスタッカークレーン等で力 セットを搬送するときにカセットに大きな振動が加えられるので、 カセット内に 収納されている基板が破損したり傷ついたりしゃすいという問題がある。 特に、 近年、 製品として製造されるカラーフィルタ一等は非常に大型化してきており、 その重量の増大に伴って、 上述した問題がより顕在化している。
また、 ピン式のカセットでは、 支持ピンの長さ等により収納可能な基板のサイ ズの範囲が決まってしまうので、 その範囲を越えるサイズの基板については、 基 板のサイズに合わせてカセットを交換する必要があるという問題がある。 特に、 近年、 製品として製造されるカラ フィルタ一等の種類は非常に多くなっており、 上述した問題がより顕在化している。
本発明の第 3の実施の形態は主としてこのような問題点を解消することを目的 とするものであり、 上述した第 1及び第 2の実施の形態の場合と同様に、 コア装
置 1 0により保管及び搬送されるカセット 8 1として、 左右の側面フレーム間に 張架された複数のワイヤにより基板を水平状態に支持するワイヤ式のカセットを 用いている。
以下、 図 1 1乃至図 1 5により、 本突明の第 3の実施の形態に係る製造ライン システム 1〃 におけるコア装置 1 0及び基板出し入れ機構 (基板搬出機構 2 1 6 a及び基板搬入機構 2 1 6 b ) の構成について説明する。
図 1 1に示すように、 コア装置 1 0は、 複数のカセット 8 1を保管するための ストッカー 2 1 1と、 このストッカー 2 1 1内に保管されているカセット 8 1を ストッカー 2 1 1内で搬送するスタッカークレーン 2 1 2とを有している。
ここで、 ス トッカー 2 1 1は、 スタッカークレーン 2 1 2の走行路の両側に 2 列に延びており、 ストッカー 2 1 1の各列はカセット 8 1が載置される複数のラ ック 2 1 1 aを上下 2段に配置した構造を有している (図 1 3参照) 。
また、 スタツカークレーン 2 1 2は、 図 1 2及び図 1 3に示すように、 カセッ ト 8 1を載置した状態でストッカー 2 1 1に沿って走行するものであり、 昇降フ レーム 2 1 3を上下方向に移動させることにより、 ス トッカー 2 1 1内の各出し 入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2 ) と上下 2段のラック 2 1 1 aのうち の任意のラック (任意のカセット保管位置) との間でカセット 8 1を搬送するよ うになっている。
ここで、 コア装置 1 0により保管及び搬送されるカセット 8 1は、 図 1 2及び 図 1 3に示すように、 上板 1 8 3と、 上板 1 8 3に立設された左右の側面フレー ム 1 8 4, 1 8 5と、 これら左右の側面フレーム 1 8 4, 1 8 5間に張架された 複数のワイヤ 1 8 6とを有している。 ここで、 複数のワイヤ 1 8 6は、 異なる高 さの複数段の水平面に沿って延ぴており、 同一段の複数のワイヤ 1 8 6によりガ ラス基板 8 2を水平状態で支持するようになっている。 なお、 図 1 4及び図 1 5 により良く示されているように、 左右の側面フレーム 1 8 4, 1 8 5はそれぞれ、 上板 1 8 3にネジ止め等により取り付けられた 8本の支柱 1 8 4 a, 1 8 5 aを 有し、 これらの支柱 1 8 4 a, 1 8 5 aのうち互いに向かい合う支柱同士が複数 のステー 1 8 7を介して互いに接続されている。 なお、 ワイヤ 1 8 6は、 ガラス 基板 8 2を水平状態で支持するための十分な張力を有するものであれば、 合成樹
脂製や金属製等の任意のものを用いることができる。 また、 ワイヤ 1 8 6の水平 面内の本数は、 ガラス基板 8 2を水平面内で十分に支持することができる範囲で、 任意の本数とすることができる。 さらに、 ワイヤ 1 8 6の垂直方向の本数は、 ガ ラス基板 8 2同士が干渉しない状態で所望のガラス基板 8 2を収納することがで きる範囲で、 任意の本数とすることができる。
なお、 ス トッカー 2 1 1内の各出し入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2 ) にはそれぞれ基板出し入れ機構 (基板搬出機構 2 1 6 a及び基板搬入機構 2 ' 1 6 b ) が設けられており、 図 1 1に示すように、 各基板搬出機構 2 1 6 aによ り、 各搬出位置 C 1に位置付けられた基板収納済みのカセット 8 1から各搬出位 置 C 1に対応する各処理ライン (搬送路 1 5 ) に対してガラス基板 8 2を 1枚ず つ排出するとともに、 各基板搬入機構 2 1 6 bにより、 各処理ライン (搬送路 1 5 ) で処理が行われた処理済みのガラス基板 8 2を 1枚ずつ各搬入位置 C 2に位 置付けられた空のカセット 8 1内に収納するようになっている。
ここで、 各基板搬出機構 2 1 6 a及び各基板搬入機構 2 1 6 bは基本的に同一 の構成を備えており、 図 1 4に示すように、 カセット 8 1内に収納されたガラス 基板 8 2の下面に接触する複数のローラ 1 9 0を有する基板搬送コンベア 2 1 8 と、 カセット 8 1と基板搬送コンベア 2 1 8との相対的な位置関係を変化させる ようカセッ ト 8 1を昇降させるカセッ ト昇降装置 2 1 7 (駆動機構については図 示せず) とを有している。 なお、 図 1 1に示すように、 搬出位置 C 1において、 カセット 8 1は、 カセット搬送装置 (図示せず) により、 出庫ポジション A 1か ら各基板搬出機構 2 1 6 aへ搬送されるとともに、 各基板搬出機構 2 1 6 aから 入庫ポジション B 1へ搬送されるようになっている。 また、 搬入位置 C 2におい て、 カセット 8 1は、 カセット搬送装置 (図示せず) により、 出庫ポジション A 2から各基板搬入機構 2 1 6 bへ搬送されるとともに、 各基板搬入機構 2 1 6 b から入庫ポジション B 2へ搬送される。
なお、 図 1 4に示すように、 各基板搬出機構 2 1 6 a及び各基板搬入機構 2 1 6 bの基板搬送コンベア 2 1 8は、 設置面上に立設された支柱 1 9 1の上端に固 定されるとともにカセット 8 1を両側から挟むように配置された左右の支持フレ ーム 1 8 8 , 1 8 8と、 これら左右の支持フレーム 1 8 8 , 1 8 8に回動自在に
取り付けられた複数のシャフト 1 8 9とを有している。 なお、 各シャフト 1 8 9 にはローラ 1 9 0が等間隔で 6餹配置されている。 また、 これらのシャフト 1 8 9には駆動機構 (図示せず) が取り付けられており、 各シャフト 1 8 9を所望の 方向に回動させることができるようになつている。
このような基板搬出機構 2 I 6 a及び基板搬入機構 2 1 6 bにおいて、 カセッ ト 8 1は、 カセット昇降装置 2 1 7により昇降されるようになっており、 カセッ ト昇降装置 2 1 7によりカセット 8 1を 1段ずつ下降させながら、 基板搬送コン ベア 2 1 8のローラ 1 9 0をカセット 8 1内に収納されている最下方のガラス基 板 8 2の下面と接触させることにより、 カセット 8 1内の各段に収納されている ガラス基板 8 2を搬送路 1 5へ排出することができるようになつている (図 1 4 の実線矢印参照) 。 また、 カセット昇降装置 2 1 7によりカセット 8 1を 1段ず つ上昇させながら、 基板搬送コンベア 2 1 8のローラ 1 9 0を搬送路 1 5から搬 入されてきたガラス基板 8 2の下面と接触させることにより、 ガラス基板 8 2を カセット 8 1の各段へ収納することができるようになっている (図 1 4の点線矢 印参照) 。
なお、 図 1 4に示す各基板搬出機構 2 1 6 a及ぴ各基板搬入機構 2 1 6 bにお いては、 基板搬送コンベア 2 1 8を固定して、 カセット昇降装置 2 1 7により力 セット 8 1を昇降させるようにしているが、 カセット 8 1と基板搬送コンベア 2
1 8との相対的な位置関係を変化させることができるのであれば、 カセット 8 1 の側を昇降させる構成に限らず、 基板搬送コンベア 2 1 8の側を昇降させる構成 や、 基板搬送コンベア 2 1 8及びカセット 8 1の両方を昇降させる構成をとるこ ともできる。
また、 各基板搬出機構 2 1 6 a及び各基板搬入機構 2 1 6 bは、 図 · 1 4に示す ような構成以外にも、 例えば、 図 1 5に示すような構成、 すなわち、 カセット昇 降装置 2 1 7 ' (駆動機構については図示せず) の下方から基板搬送コンベア 2 1 8 / を進入させるような構成をとることができる。 なお、 図 1 5に示す基板搬 送コンベア 2 1 8 ' は、 設置面上に配設された支持枠 1 9 2と、 支持枠 1 9 2上 に横板 1 9 3を介して固定された複数のコ字状のフレーム 1 9 4と、 フレーム 1 9 4の一対の先端部 1 9 4 a , 1 9 4 bに回動自在に取り付けられた複数のシャ
フ ト 1 8 9とを有している。 なお、 各シャフ ト 1 8 9にはローラ 1 9 0が等間隔 で 6個配置されている。 また、 これらのシャフト 1 8 9には、 駆動機構としてモ ータ 1 9 5、 伝達シャフト 1 9 6 a, 1 9 6 b及びギア 1 9 7等が取り付けられ ており、 各シャフト 1 8 9を所望の方向に回動させることができるようになって いる。
ここで、 このような構成からなる製造ラインシステム 1 の動作は、 上述した 第 1及ぴ第 2の形態の場合と同様であり、 コア装置 1 0及ぴ各処理ライン 2 0, 3 0, ···, 7 0に接続された制御装置 (図示せず) による制御の下で、 カラーフ ィルターの製造、 検查及び再生等に関する各種の処理が自動的に行われる。 このように本発明の第 3の実施の形態によれば、 製造ラインシステム 1のコア 装置 1 0により保管及び搬送されるカセット 8 1として、 左右の側面フレーム 1 8 4 , 1 8 5間に張架された複数のワイヤ 1 8 6によりガラス基板 8 2を水平状 態に支持するワイヤ式のカセットを用いているので、 コア装置 1 0のスタッカー クレーン 2 1 2でカセット 8 1を搬送するときの振動をワイヤ 1 8 6により効果 的に吸収することができ、 大型のガラス基板 (例えばメーターサイズ (厚さ 0 . 7 mm程度) のガラス基板) を用いてカラーフィルタ一等を製造する場合でも、 カセット 8 1内に収納されているガラス基板 8 2が破損したり、 傷ついたりする ことを防止することができる。
また、 本発明の第 3の実施の形態によれば、 製造ラインシステム 1〃 のコア装 置 1 0により保管及ぴ搬送されるカセット 8 1として、 上述したようなワイヤ式 のカセットを用いているので、 カセット 8 1に収納可能な最大寸法までの任意の 寸法のガラス基板を収納することができ、 同一の製造ラインシステムを用いて複 数種類のカラ フィルタ一等を製造する場合でも、 ガラス基板のサイズに合わせ てカセットを交換する必要がなく、 少量多品種の製造に効果的に対応することが できる。
さらに、 本発明の第 3の実施の形態によれば、 製造ラインシステム 1 " のコア 装置 1 0により保管及び搬送されるカセット 8 1として、 上述したようなワイヤ 式のカセットを用いているので、 ピン式のカセット等と比較してより大量のガラ ス基板を収納することができ、 コア装置を備えた製造ラインシステムの利点であ
る、 処理工程の一時的な停止に対する対応能力をより向上させることができる。 第 4の実施の形態
次に、 図 1 6乃至図 1 9により、 本発明の第 4の実施の形態について説明する。 上述した第 1乃至第 3の実施の形態に係る製造ラインシステム 1 , 1 , , 1 " において、 コア装置 1 0は、 ストッカー 1 1 , 2 1 1内に複数の出し入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2 ) を有し、 搬出位置 C 1又は搬入位置 C 2に位 置付けられたカセット 8 1に対して、 基板出し入れ機構 (基板搬出機構 1 6 a及 ぴ基板搬入機構 1 6 b ) によりカセット 8 1へガラス基板 8 2を 1枚ずつ収納し たり、 カセット 8 1からガラス基板 8 2を 1枚ずつ排出したりしている。 なお、 コア装置 1 0のストッカー 1 1 , 2 1 1内の搬出位置 C 1又は搬入位置 C 2はそ れぞれ、 互いに独立して配置された出庫ポジション A 1 , A 2及ぴ入庫ポジショ ン B 1 , B 2を有している。
ここで、 上述した第 1乃至第 3の実施の形態に係る製造ラインシステム 1 , 1 ' 、 1 " におけるコア装置 1 0では、 ストッカー 1 1 , 2 1 1におけるカセット 8 1の出庫ポジション A 1 , A 2及び入庫ポジション B 1 , B 2が互いに異なつ ており、 基板出し入れ機構 (基板搬出機構 1 6 a及び基板搬入機構 1 6 b ) によ るカセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納作業とカセット 8 1へのガラス基板 8 2の排出作業とをそれぞれ独立して行うことができるので、 カセット 8 1の交換 に必要とされるタクトタイムの短縮を図ることができ、 ガラス基板 8 2が各処理 ライン 2 0 , 3 0, ··· , 7 0 , 9 0 , 1 0 0, 1 1 0の搬送路 1 5上に滞留して しまうことを抑えることができる。
し力、しながら、 このような構成からなるコア装置 1 0では、 基板搬出機構 1 6 aにおいて、 搬出位置 C 1の出庫ポジション A 1又は入庫ポジション B 1とカセ ット昇降装置 1 7 aとの間でカセット 8 1の受け渡しを行うために方向転換機構 等を備えたカセット搬送装置 (図示せず) が設けられる必要がある。 また同様に、 基板搬入機構 1 6 bにおいても、 搬入位置 C 2の出庫ポジション A 2又は入庫ポ ジション B 2とカセット昇降装置 1 7 bとの間でカセット 8 1の受け渡しを行う ために方向転換機構等を備えたカセット搬送装置 (図示せず) 力 S設けられる必要 がある。 このため、 カセット搬送装置の機械機構が複雑となり、 また、 装置レイ
ァゥトの制約が大きいという問題がある。 ■
本発明の第 4の実施の形態はこのような問題点を解消することを目的とするも のであり、 上述した第 1乃至第 3の実施の形態に係る製造ラインシステム 1, 1 / , 1 " におけるコア装置 1 0の構成を変更したものである。
図 1 6乃至図 1 9に示すように、 コア装置 1 0は、 複数枚のガラス基板 8 2を 収納するカセット 8 1を取り扱う自動倉庫であり、 複数のカセット 8 1を保管す るためのストッカー 1 1と、 このストッカー 1 1内に保管されているカセット 8 1をストッカー 1 1内で搬送するスタツカークレーン 1 2とを有している。
ここで、 ストッカー 1 1は、 カセット 8 1が載置される複数のラック 1 1 aを 上下 2段に配置した構造を有している。 また、 スタツカークレーン 1 2は、 ス ト ッカー 1 1に沿って延びるレール 1 3上を左右方向に走行するとともに、 昇降フ レーム (図示せず) を上下方向に移動させることにより、 ス トッカー 1 1内の各 出し入れ位置 (搬出位置 C 1及び搬入位置 C 2 ) と上下 2段のラック 1 1 aのう ちの任意のラック (任意のカセット保管位置) との間でカセット 8 1を搬送する ようになつている。 なおここでは、 レール 1 3の片側に 1台のストッカー 1 1を 設置しているが、 これに限らず、 レール 1 3の両側に 2台のストッカーを設置す るようにしてもよい。 また、 ストツ力 1 1のラック 1 1 aを上下 2段に配置し ているが、 これに限らず、 ストッカー 1 1のラック 1 1 aを上下 3段以上に配置 してもよい。 さらに、 レール 1 3上にて 1台のスタッカークレーン 1 2のみが走 行するようにしているが、 これに限らず、 レール 1 3上にて 2台以上のスタツ力 ークレーンが走行するようにしてもよい。
このようなコア装置 1 0において、 ストッカー 1 1の搬出位置 C 1の外側には、 図 1 6及び図 1 7に示すように、 基板搬送コンベア (基板搬送機構) 等の搬送路 1 5に対してカセット 8 1をガラス基板 8 2の収納間隔に対応するピッチで上下 方向 (紙面に垂直な方向) に昇降させるカセット昇降装置 (カセット位置決め機 構) 3 1 7が配置されており、 それに隣接して配置された搬送路 1 5に対して力 セット 8 1からガラス基板 8 2を排出することができるようになつている。 また、 ストッカー 1 1とカセット昇降装置 3 1 7との間には、 両者の間でカセットを搬 送するカセット搬送コンベア (カセット搬送機構) 3 1 8 , 3 1 9が設けられて
いる。
ここで、 ストッカー 1 .1内の搬出位置 C 1は、 ストッカー 1 1からカセット 8 1を搬出するための出庫ポジション A 1と、 ストッカー 1 1へカセット 8 1を搬 入するための、 出庫ポジション A 1とは独立した入庫ポジション B 1とを有して いる。 また、 カセット昇降装置 3 1 7はカセット トラパース部 3 1 6に配置され ており、 ストッカー 1 1の出庫ポジション A 1に対応するカセット供給ポジショ ン D 1、 及び入庫ポジション B 1に対応するカセット排出ポジション E 1のいず れかの位置をとるように移動し、 カセット供給ポジション D 1にてカセット搬送 コンベア 3 1 8からカセット 8 1を引き込むとともに、 カセット排出ポジション E 1にてカセット搬送コンベア 3 1 8へカセット 8 1を送り出すようになってい る。
—方、 コア装置 1 0において、 ストッカー 1 1の搬入位置 C 2の外側には、 図 1 8及ぴ図 1 9に示すように、 基板搬送コンベア (基板搬送機構) 等の搬送路 1 5に対してカセット 8 1を上下方向 (紙面に垂直な方向) に昇降させるカセット 昇降装置 (力セット位置決め機構) 3 1 7が配置されており、 それに隣接して配 置された搬送路 1 5から供給されたガラス基板 8 2をカセット 8 1へ収納するこ とができるようになっている。 また、 ストッカー 1 1とカセット昇降装置 3 1 7 との間には、 両者の間でカセットを搬送するカセット搬送コンベア (カセット搬 送機構) 3 1 8, 3 1 9が設けられている。
ここで、 ストッカー 1 1内の搬入位置 C 2は、 ストッカー 1 1からカセット 8 1を搬出するための出庫ポジション A 2と、 ストッカー 1 1へカセット 8 1を搬 入するための、 出庫ポジション A 2とは独立した入庫ポジション B 2とを有して いる。 また、 カセット昇降装置 3 1 7はカセット トラバース部 3 1 6に配置され ており、 ストッカー 1 1の出庫ポジション A 2に対応するカセット供給ポジショ ン D 2、 及び入庫ポジション B 2に対応するカセット排出ポジション E 2のいず れかの位置をとるように移動し、 カセット供給ポジション D 2にてカセット搬送 コンベア 3 1 8からカセット 8 1を引き込むとともに、 カセット排出ポジション E 2にてカセット搬送コンベア 3 1 8へカセット 8 1を送り出すようになってい る。
なお、 図 1 6及び図 1 8に示すように、 出庫ポジション A 1と入庫ポジション B 1との位置関係は、 出庫ポジション A 2と入庫ポジション B 2との位置関係と は逆になる。 '
次に、 図 1 6及び図 1 7により、 ガラス基板が収納された基板収納済みのカセ ット 8 1からガラス基板 8 2を排出する動作について説明する。
この場合には、 まず、 ストッカー 1 1のラック 1 1 a内に保管されている基板 収納済みのカセット 8 1がスタッカークレーン 1 2によりストッカー 1 1内の搬 出位置 C 1の出庫ポジション A 1へ搬送される。
次に、 出庫ポジション A 1に到着したカセット 8 1は、 カセット搬送コンベア 3 1 8によりカセット供給ポジション D 1に位置付けられているカセット昇降装 置 3 1 7へと搬送される。
このようにして基板収納済みのカセット 8 1をカセット供給ポジション D 1へ 位置付けた後、 基板収納済みのカセット 8 1からガラス基板 8 2を排出する。 な おこのとき、 カセット昇降装置 3 1 7により基板収納済みのカセット 8 1力 S 1段 ずつ下降し、 基板搬送コンベア (図示せず) 等によりカセット 8 1から搬送路 1 5へガラス基板 8 2が 1枚ずつ搬出される。
なお、 このようにしてガラス基板 8 2を排出している最中に、 次にガラス基; k を排出すべき別の基板収納済みのカセット 8 1をカセット供給ポジション D 1の 手前の位置へ搬送して待機させておく。
その後、 ガラス基板 8 2の排出が完了して空になったカセット 8 1は、 カセッ トトラバース部 3 1 6において、 カセット昇降装置 3 1 7により、 所定の高さま で上昇させながらカセット排出ポジション E 1へと移動させておく。 このように してカセット排出ポジション E 1へ移動された空のカセット 8 1は、 カセット昇 降装置 3 1 7からカセット搬送コンベア 3 1 9へ送り出され、 ス トッカ 1 1の入 庫ポジション B 1へ搬送される。 なお、 このようにして入庫ポジション B 1に到 着した空のカセット 8 1は、 収納用のカセットとして、 スタツカークレーン 1 2 によりストッカ 1 1内の空いているラック 1 1 a内に保管される。
—方、 カセット昇降装置 3 1 7はカセット供給ポジション D 1へ戻り、 次にガ ラス基板を排出すべき基板収納済みのカセット 8 1をカセット搬送コンベア 3 1
8から引き込む。
以後、 上述した動作を繰り返し行う。
次に、 図 1 8及び図 1 9により、 空のカセット 8 1へガラス基板 8 2を収納す る動作について説明する。
この場合には、 まず、 ストッカ 1 1のラック 1 1 a内に保管されている空の力 セット 8 1がスタッカークレーン 1 2によりストッカー 1 1内の搬入位置 C 2の 出庫ポジション A 2へ搬送される。
次に、 出庫ポジション A 2に到着したカセット 8 1は、 カセット搬送コンベア 3 1 8によりカセット供給ポジション D 2に位置付けられているカセット昇降装 置 3 1 7へと搬送される。 '
その後、 カセット昇降装置 3 1 7に空のカセット 8 1が配置された後、 カセッ トトラバース部 3 1 6において、 カセット昇降装置 3 1 7により所定の高さまで カセット 8 1を下降させながらカセット排出ポジション E 2へと移動させる。 このようにしてカセット排出ポジション E 2へ空のカセット 8 1を位置付けた 後、 空のカセット 8 1へガラス基板 8 2を収納する。 なおこのとき、 カセット昇 降装置 3 1 7により空のカセット 8 1が 1段ずつ下降し、 基板搬送コンベア (図 示せず) 等により搬送路 1 5からカセット 8 1からへガラス基板 8 2が 1枚ずつ 搬入される。 ·
なお、 このようにしてガラス基板 8 2を収納している最中に、 次にガラス基板 を収納すべき別の空のカセット 8 1をカセット供給ポジション D 2の手前の位置 へ搬送して待機させておく。 · その後、 ガラス基板 8 2の収納が完了した基板収納済みのカセット 8 1は、 力 セット昇降装置 3 1 7からカセット搬送コンベア 3 1 9へ送り出され、 ストッカ 1 1の入庫ポジション B 2へ搬送される。 なお、 このようにして入庫ポジション B 2に到着した基板収納済みのカセット 8 1は、 スタッカークレーン 1 2により ストッカ 1 1内の空いているラック 1 1 a内に保管される。
一方、 カセット昇降装置 3 1 7はカセット供給ポジション D 2へ戻り、 次にガ ラス基板を収納すべき空のカセット 8 1をカセット搬送コンベア 3 1 8力 ら引き 込む。
以後、 上述した動作を繰り返し行う。
このように本発明の第 4の実施の形態によれば、 上述した第 1乃至第 3の実施 の形態に係る製造ラインシステム 1, 1 ' , 1 " で用いられるコア装置 1 0にお いて、 基板搬送コンベア (基板搬送機構) 等の搬送路 1 5との間でカセット 8 1 からのガラス基板 8 2の排出又はカセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納を行う ように搬送路 1 5に対して当該カセット 8 1を昇降させるカセット昇降装置 3 1 7を、 ストッカー 1 1の出庫ポジション A 1, A 2に対応するカセット供給ポジ シヨン D l, D 2と、 入庫ポジション B 1, B 2に対応するカセット排出ポジシ ヨン E 1 , 2との間で移動させ、 カセット供給ポジション D 1, D 2にてカセ ット搬送コンベア 3 1 8からカセット 8 1を引き込むとともに、 カセット排出ポ ジシヨン E 1, E 2にてカセット搬送コンベア 3 1 9へカセット 8 1を送り出す ようにしているので、 カセット 8 1に対してガラス基板 8 2の収納又は排出を行 つている間に次のカセット 8 1を隣接して待機させることができ、 カセット.8 1 の入出庫作業におけるタクトタイムの短縮を図ることができる。 また、 ストッカ 一 1 1の出庫ポジション A 1 , A 2に対応するカセット供給ポジション D 1, D 2と入庫ポジション B l, B 2に対応するカセット排出ポジション E 1, E 2と の間でのカセット昇降装置 3 1 7の移動によりカセット 8 1の受け渡しが行われ ているので、 カセット 8 1の移動方向を転換するための特別の方向転換機構が必 要とされず、 また、 フットプリントもカセット供給ポジション D l , D 2及び力 セット排出ポジション E 1, E 2に対応する 2つのポジションに対応する分だけ でよいので、 構成が簡単で装置レイアウトの制約も小さい。 さらに、 カセット 8 1の受け渡しを行うカセット供給ポジション D 1, D 2とカセット排出ポジショ ン E l, E 2との間を移動するカセット昇降装置 3 1 7が基板搬送コンベア (基 板搬送機構) 等の搬送路 1 5と同一の架台上で相対的に移動するように構成され ているので、 カセット搬送コンベア 3 1 8, 3 1 9と基板搬送コンベア (基板搬 送機構) 等の搬送路 1 5とを直接的に連結して両者の干渉を避けるようにする場 合に比べて構成が簡易なものになり、 メンテナンス性も向上する。
なお、 上述した第 4の実施の形態において、 コア装置 1 0により保管及ぴ搬送 されるカセット 8 1としては、 左右の側面フレーム間に張架された複数のワイヤ
により基板を水平状態に支持するワイヤ式のカセットを用いることができる他、 左右の側面フレームから水平方向に突出した複数の支持ピンにより基板を水平状 態に支持するピン式のカセットを用いることができる。
また、 上述した第 4の実施の形態においては、 ストッカー 1 1とカセット昇降 装置 3 1 7との間でカセット 8 1を搬送するカセット搬送機構として、 カセット 搬送コンベア 3 1 8 , 3 1 9を用いているが、 カセットの搬送が可能なものであ れば、 A G V R G V、 C V等の任意の搬送機構を用いることができる。
さらに、 上述した第 4の実施の形態に係るコア装置は、 上述した第 1乃至第 3 の実施の形態に係る製造ラインシステム 1 , 1 ' , 1 " で好適に用いられるもの であるが、 これに限定されず、 複数枚の基板を収納するカセットを取り扱うよう な、 スタツカークレーン方式の自動倉庫一般に広く利用することができる。 第 5の実施の形態
次に、 図 2 0により、 本発明の第 5の実施の形態について説明する。
上述した第 1乃至第 4の実施の形態に係る製造ラインシステム 1 , 1 , 1 " においては、 出し入れ位置 (搬出位置 C 1又は搬入位置 C 2 ) に位置付けられた カセット 8 1に対して、 基板出し入れ機構 (基板搬出機構 1 6 a及び基板搬入機 構 1 6 b ) によりカセット 8 1へガラス基板 8 2を 1枚ずつ収納したり、 カセッ ト 8 1からガラス基板 8 2を 1枚ずつ排出したりしている。
しかしながら、 このような構成からなる基板出し入れ機構 (基板搬出機構 1 6 a及ぴ基板搬入機構 1 6 b ) では、 カセット 8 1の供給が行われるカセット供給 ポジションと、 カセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納又はカセット 8 1からの ガラス基板 8 2の収納が行われる基板出し入れポジションと、 カセット 8 1の回 収が行われるカセット回収ポジションとが独立しておらず、 一つのポジションに おいて、 カセット 8 1の供給、 ガラス基板 8 2の収納又は排出、 カセッ ト 8 1の 回収が行われている。 このため、 ガラス基板 8 2の収納又は排出作業におけるタ クトタイムが長くなるという問題がある。
本発明の第 5の実施の形態は主としてこのような問題点を解消することを目的 とするものであり、 上述した第 1乃至第 4の実施の形態に係る製造ラインシステ ム 1 , 1 ' , 1 " における基板出し入れ機構 (特に基板搬入機構 1 6 b ) の構成
を変更したものであり、 薄板状材料としてのガラス基板を収納する基板収納装置 4 1 6を提供する。
図 2 0に示すように、 本発明の第 5の実施の形態に係る基板収納装置 4 1 6は、 カセット移動機構 4 1 9、 カセット昇降装置 4 1 7及ぴガラス基板移動装置 4 1 8を備えている。
このうち、 カセット移動機構 4 1 9は、 カセット供給ポジション F 1、 基板収 納ポジション G 1及ぴカセット回収ポジション H 1のうちのいずれかの位置をと るようにカセット 8 1を移動させるものである。
なお、 カセット供給ポジション F 1は、 カセット 8 1の供給が行われるポジシ ヨンである。 このため、 このポジションに供給されるカセット 8 1は、 通常、 ガ ラス基板 8 2が収納されていない空のカセットである。 基板収納ポジション G 1 は、 カセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納が行われるポジションである。 この ため、 このポジションに配置されるカセット 8 1は、 ガラス基板 8 2が収納され ている収納中のカセットである。 カセット回収ポジション H 1は、 ガラス基板 8 2が収納された後に移送されてきたカセット 8 1の回収が行われるポジションで ある。 このため、 このポジションから回収されるカセット 8 1は、 通常、 ガラス 基板 8 2の収納が済んでいる基板収納済みのカセットである。 なお、 カセット供 給ポジシヨン F 1、 基板収納ポジシヨン G 1及びカセット回収ポジシヨン H 1は 互いに隣接した状態で一列に配置されている。
図 2 0に示すように、 カセット移動機構 4 1 9は、 カセット供給ポジション F 1への供給が行われた空のカセット 8 1を、 カセット供給ポジション F 1から基 板収納ポジション G 1へと移動させる。 これにより、 基板収納ポジション G 1 へ と移動した空のカセット 8 1は、 ガラス基板 8 2の収納が行われる収納中のカセ ットとなる。
その後、 カセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納が完了すると、 収納中のカセ ット 8 1はガラス基板 8 2が収納された基板収納済みの力セットとなる。 このと き、 カセット移動機構 4 1 9は、 この基板収納済みのカセット 8 1を基板収納ポ ジシヨン G 1からカセット回収ポジション H 1へと移動させる。
カセット回収ポジシヨン H 1に位置付けられた基板収納済みのカセット 8 1は
カセット回収ポジション H 1から回収される。
このようにカセット移動機構 4 1 9は、 カセット供給ポジション F 1に位置付 けられた空のカセット 8 1をカセット供給ポジション F 1から基板収納ポジショ ン G 1へと移動させ、 基板収納ポジション G 1に位置付けられた収納中のカセッ ト 8 1をカセット回収ポジション H 1へと移動させる。
なお、 上述したような、 カセット移動機構 4 1 9による二種類の移動は、 独立 した移動として個別に行うことができる。 ただし、 移動先となるポジション (基 板収納ポジション G 1又はカセット回収ポジション H I ) が空いていることが前 提条件となることはもちろんである。
また、 上述したような、 カセット移動機構 4 1 9による二種類の移動は、 互い に関連した移動として連動して行うことができる。 例えば、 2つのカセット 8 1 を同時に移動させ、 基板収納ポジション G 1に空き領域を生成しながらカセット 供給ポジション F 1に位置付けられたカセット 8 1をその空き領域を埋めるよう に移動させることができる。 ただし、 この場合でも、 移動先となるカセット回収 ポジション H 1が空いていることが前提条件となる。 ' また、 カセット昇降装置 4 1 7は、 基板収納ポジション G 1において、 カセッ ト移動機構 4 1 9により位置付けられたカセット 8 1をガラス基板 8 2の収納間 隔に対応するピッチで上下方向 (紙面に垂直な方向) に昇降させ、 カセット 8 1 におけるガラス基板 8 2の収納位置 (複数の収納場所のうちの一つ) と、 基板搬 送コンベア等の搬送路 (図示せず) におけるガラス基板 8 2の供給位置とを一致 させるものである。
さらに、 ガラス基板移動装置 4 1 8は、 基板収納ポジション G 1において、 力 セット昇降装置 4 1 7によりカセット 8 1におけるガラス基板 8 2の収納位置と、 基板搬送コンベア等の搬送路 (図示せず) におけるガラス基板 8 2の供給位置と がー致した状態で、 基板搬送コンベア等の搬送路 (図示せず) から供給されたガ ラス基板 8 2をカセット 8 1へ向けて移動させ、 当該カセット 8 1へ収納するも のである。
なお、 カセット昇降装置 4 1 7及ぴガラス基板移動装置 4 1 8により基板搬入 機構が構成されている。
次に、 図 2 0により、 このような構成からなる基板収納装置 4 1 6の動作につ いて説明する。 なお、 図 2 0において、 矢印 「→」 はカセットの移動方向を示し ており、 矢印 「→」 はガラス基板の供給方向を示している。
掘 2 0に示すように、 ガラス基板 8 2の収納作業時においては、 カセット 8 1 へのガラス基板 8 2の収納が行われている間に、 カセット回収ポジション H Iに 位置付けられたカセット 8 1の回収が行われる。
また、 基板収納ポジション G 1におけるカセット 8 1へのガラス基板 8 2の収 納が終了した時点で、 カセット移動機構 4 1 9により、 空いているカセット回収 ポジション H 1に、 基板収納ポジション G 1に位置付けられているカセット 8 1 を移動させる。
一方、 このような移動により空きができた基板収納ポジション G 1に、 カセッ ト供給ポジション F 1に位置付けられているカセット 8 1を移動させる。
このとき、 基板搬入機構としてのカセット昇降装置 4 1 7及びガラス基板移動 装置 4 1 8は、 カセット供給ポジション F 1に位置付けられているカセット 8 1 が基板収納ポジション G 1に位置付けられた時点で直ちに、 カセット 8 1へのガ ラス基板 8 2の収納を開始する。
また、 その最中に、 空きができたカセット供給ポジション F 1に空のカセット 8 1を供給する。
このように本発明の第 5の実施の形態によれば、 カセット移動機構 4 1 9によ り、 カセット供給ポジシヨン F 1、 基板収納ポジシヨン G 1及びカセット回収ポ ジシヨン H Iのうちのいずれかの位置をとるようにカセット 8 1を移動させ、 基 板収納ポジション G 1において、 基板搬入機構としてのカセット昇降装置 4 1 7 及びガラス基板移動装置 4 1 8により、 カセット移動機構 4 1 9により位置付け られたカセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納を行うようにしている。 このため、 カセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納は、 カセット 8 1が移動している間だけ 停止するに過ぎなくなり、 また、 カセット 8 1へのガラス基板 8 2の収納が終了 した時点において、 基板収納ポジション G 1からカセット回収ポジション H 1 へ のカセット 8 1の移動と同時に、 カセット供給ポジション F 1から基板収納ポジ ション G 1へのカセット 8 1の移動が行われるので、 ガラス基板 8 2の収納作業
におけるタクトタイムを短くすることができる。
第 6の実施の形態
次に、 図 2 1により、 本発明の第 6の実施の形態について説明する。
本発明の第 6の実施の形態は、 上述した第 5の実施の形態の場合と同様の問題 点を解消することを目的とするものであり、 上述した第 1乃至第 4の実施の形態 に係る製造ラインシステム 1 , 1 ' , 1 における基板出し入れ機構 (特に基板 搬出機構 1 6 a ) の構成を変更したものであり、 薄板状材料としてのガラス基板 を排出する基板排出装置 5 1 6を提供する。
図 2 1に示すように、 本発明の第 6の実施の形態に係る基板排出装置 5 1 6は、 カセット移動機構 5 1 9、 カセット昇降装置 5 1 7及びガラス基板移動装置 5 1
8を備えている。
このうち、 カセット移動機構 5 1 9は、 カセット供給ポジション F 2、 基板排 出ポジション G 2及びカセット回収ポジション H 2のうちのいずれかの位置をと るようにカセット 8 1を移動させるものである。
なお、 カセット供給ポジション F 2は、 カセット 8 1の供給が行われるポジシ ヨンである。 このため、 このポジションに供給されるカセット 8 1は、 通常、 ガ ラス基板 8 2の収納が済んでいる基板収納済みのカセットである。 基板^ ^出ポジ シヨン G 2は、 カセット 8 1からのガラス基板 8 2の排出が行われるポジション である。 このため、 このポジションに配置されるカセット 8 1は、 ガラス基板 8 2が排出されている排出中のカセットである。 カセット回収ポジション H 2は、 ガラス基板 8 2が排出された後に移送されてきたカセット 8 1の回収が行われる ポジションである。 このため、 このポジションから回収されるカセット 8 1は、 通常、 ガラス基板 8 2が収納されていない空のカセットである。 なお、 カセット 供給ポジシヨン F 2、 基板排出ポジシヨン G 2及びカセット回収ポジシヨン H 2 は互 、に隣接した状態で一列に配置されている。
図 2 1に示すように、 カセット移動機構 5 1 9は、 カセット供給ポジション F 2への供給が行われた基板収納済みのカセット 8 1を、 カセット供給ポジション F 2から基板排出ポジション G 2へと移動させる。 これにより、 基板排出ポジシ ヨン G 2へと移動した基板収納済みのカセット 8 1は、 ガラス基板 8 2の排出が
行われる排出中のカセットとなる。
その後、 カセット 8 1からのガラス基板 8 2の排出が完了すると、 排出中の力 セット 8 1はガラス基板 8 2が収納されていない空のカセットとなる。 このとき、 カセット移動機構 5 1 9は、 この空のカセット 8 1を基板排出ポジション G 2か らカセット回収ポジション H 2へと移動させる。
カセット回収ポジション H 2に位置付けられた空のカセット 8 1はカセット回 収ポジション H 2から回収される。
このようにカセット移動機構 5 1 9は、 カセット供給ポジション F 2に位置付 けられた基板収納済みのカセット 8 1をカセット供給ポジション F 2力 ら基板お 出ポジション G 2へと移動させ、 基板排出ポジション G 2に位置付けられた排出 中のカセット 8 1をカセット回収ポジション H 2へと移動させる。
なお、 上述したような、 カセット移動機構 5 1 9による二種類の移動は、 独立 した移動として個別.に行うことができる。 ただし、 移動先となるポジション (基 扳収納ポジション G 1及ぴカセット回収ポジション H 1 ) が空いていることが前 提条件となることはもちろんである。
また、 上述したような、 カセット移動機構 5 1 9による二種類の移動は、 互い に関連した移動として連動して行うことができる。 例えば、 2つのカセット 8 1 を同時に移動させ、 基板排出ポジション G 2に空き領域を生成しながらカセット 供給ポジション F 2に位置付けられたカセット 8 1をその空き領域を埋めるよう に移動させることができる。 ただし、 この場合でも、 移動先となるカセット回収 ポジション H 2が空いていることが前提条件となる。
また、 カセット昇降装置 5 1 7は、 基板排出ポジション G 2において、 カセッ ト移動機構 5 1 9により位置付けられたカセット 8 1をガラス基板 8 2の収納間 隔に対応するピッチで上下方向 (紙面に垂直な方向) に昇降させ、 カセット 8 1 におけるガラス基板 8 2の収納位置 (複数の収納場所のうちの一つ) と、 基板搬 送コンベア等の搬送路 (図示せず) におけるガラス基板 8 2の排出位置とを一致 させるものである。
さらに、 ガラス基板移動装置 5 1 8は、 基板排出ポジション G 2において、 力 セット昇降装置 5 1 7によりカセット 8 1におけるガラス基板 8 2の収納位置と、
基板搬送コンベア等の搬送路 (図示せず) におけるガラス基板 8 2の排出位置と がー致した状態で、 カセット 8 1内に収納されているガラス基板 8 2をカセット 8 1から基板搬送コンベア等の搬送路 (図示せず) へ向けて移動させ、 当該カセ ット 8 1から排出するものである。
なお、 カセット昇降装置 5 1 7及びガラス基板移動装置 5 1 8により基板搬出 機構が構成されている。
次に、 図 2 1により、 このような構成からなる基板排出装置 5 1 6の動作につ いて説明する。 なお、 図 2 1において、 矢印 「→」 はカセットの移動方向を示し ており、 矢印 「→」 はガラス基板の排出方向を示している。
図 2 1に示すように、 ガラス基板 8 2の排出作業時においては、 カセット 8 1 からのガラス基板 8 2の排出が行われている間に、 カセット回収ポジション H 2 に位置付けられたカセット 8 1の回収が行われる。
また、 基板排出ポジション G 2におけるカセット 8 1からのガラス基板 8 2の 排出が終了した時点で、 カセット移動機構 5 1 9により、 空いているカセット回 収ポジション H 2に、 基板排出ポジション G 2に位置付けられているカセット 8 1を移動させる。
—方、 このような移動により空きができた基板排出ポジション G 2に、 カセッ ト供給ポジション F 2に位置付けられているカセット 8 1を移動させる。
このとき、 基板搬出機構としてのカセット畀降装置 5 1 7及びガラス基板移動 装置 5 1 8は、 カセット供給ポジション F 2に位置付けられているカセット 8 1 が基板排出ポジション G 2に位置付けられた時点で直ちに、 カセット 8 1からの ガラス基板 8 2の排出を開始する。
また、 その最中に、 空きができたカセット供給ポジション F 2に空のカセット 8 1を供給する。
このように本発明の第 5の実施の形態によれば、 カセット移動機構 5 1 9によ り、 カセット供給ポジシヨン F 2、 基板排出ポジシヨン G 2及ぴカセット回収ポ ジション H 2のうちのいずれかの位置をとるようにカセット 8 1を移動させ、 基 板排出ポジション G 2において、 基板搬出機構としてのカセット昇降装置 5 1 7 及びガラス基板移動装置 5 1 8により、 カセット移動機構 5 1 9により位置付け
られたカセット 8 1からのガラス基板 8 2の排出を行うようにしている。 このた め、 カセット 8 1からのガラス基板 8 2の排出は、 カセット 8 1が移動している 間だけ停止するに過ぎなくなり、 また、 カセット 8 1からのガラス基板 8 2の排 出が終了した時点において、 基板排出ポジション G 2からカセット回収ポジショ ン G 2へのカセット 8 1の移動と同時に、 カセット供給ポジション F 2から基板 出ポジション G 2へのカセット 8 1の移動が行われるので、 ガラス基板 8 2の お出作業におけるタクトタイムを短くすることができる。
なお、 上述した第 5及び第 6の実施の形態において、 基板収納装置 4 1 6及び 基板排出装置 5 1 6により取り扱われるカセット 8 1としては、 左右の側面フレ ーム間に張架された複数のワイヤにより基板を水平状態に支持するワイヤ式の力 セットを用いることができる他、 左右の側面フレームから水平方向に突出した複 数の支持ピンにより基板を水平状態に支持するピン式のカセットを用いることが できる。
また、 上述した第 5及び第 6の実施の形態に係る基板収納装置 4 1 6及び基板 排出装置 5 1 6は、 上述した第 1乃至第 4の実施の形態で好適に用いられるもの であるが、 これに限定されず、 カセットへ基板を収納する基板収納装置、 及び力 セットから基板を排出する基板排出装置一般に広く利用することができる。
さらに、 上述した第 5及び第 6の実施の形態に係る基板収納装置 4 1 6及び基 板排出装置 5 1 6は、 カセット 8 1に収納される薄板状材料としてガラス基板を 用いる場合を例に挙げて説明したが、 カセット 8 1内に収納することが可能な薄 板状材料であれば、 これに限らず、 任意の材料を用いることができる。
Claims
1 . 複数枚の基板を収納するカセットを利用してカラーフィルターを製造す る製造ラインシステムにおいて、
複数枚の基板が収納された複数の基板収納済みのカセット又は空のカセットを 保管するコア装置であって、 複数のカセットを保管するためのストッカーと、 こ のストッカー内に保管されているカセットを当該ストッカー内の複数の出し入れ 位置と任意のカセット保管位置との間で搬送するスタッカークレーンとを有する コア装置と、
前記コア装置の前記各出し入れ位置に接続され、 前記コア装置内に保管されて いる基板収納済みのカセット内に収納された基板に対してカラーフィルタ一を製 造するための各種の処理を行う複数の処理ラインと、
前記コア装置の前記各出し入れ位置に対応して設けられ、 当該各出し入れ位置 に位置付けられた基板収納済みのカセットから当該各出し入れ位置に対応する各 処理ラインに対して基板を 1枚ずつ排出し、 又は、 当該各処理ラインで処理が行 われた処理済みの基板を 1枚ずつ当該各出し入れ位置に位置付けられた空のカセ ット内に収納する基板出し入れ機構とを備え、
前記複数の処理ラインは、 フォトリソグラフィプロセスを含む処理工程を実現 する複数の主製版ラインを含むことを特徴とする製造ラインシステム。
2 . 前記複数の処理ラインは、 前記各主製版ラインと同様の処理工程を実現 する予備の製版ラインを含むことを特徴とする、 請求項 1に記載の製造ラインシ ステム。
3 . 前記複数の処理ラインに含まれる前記複数の主製版ラインのうちの少な くとも一つに、 処理対象となる複数の基板の同一の位置に発生する共通欠陥を検 出するための共通欠陥検査機を組み込んだことを特徴とする、 請求項 1又は 2に 記載の製造ラインシステム。
4 . 前記複数の処理ラインは、 前記主製版ラインに含まれる前記共通欠陥検 查機により共通欠陥が検出された基板を再生する'ための基板再生ラインを含むこ とを特徴とする、 請求項 3に記載の製造:
5 . 前記複数の処理ラインは、 当該各処理ラインにより処理が行われた処理 済みの基板を検査するための基板検査ラインを含み、 この基板検査ラインは、 複 数の基板の異なる位置に発生する個別欠陥を検出するための個別欠陥検査機を有 することを特徴とする、 請求項 3に記載の製造ラィンシステム。
6 . 前記基板検査ラインは、 前記個別欠陥検査機により検出された前記各基 板の個別欠陥を修正するための基板修正装置をさらに有することを特徴とする、 請求項 5に記載の製造ラインシステム。
7 . 前記複数の処理ラインは、 前記主製版ラインに含まれる前記共通欠陥検 査機又は前記基板検査ラインに含まれる前記個別欠陥検査機により共通欠陥又は 個別欠陥が検出された基板を再生するための基板再生ラインを含むことを特徴と する、 請求項 5又は 6に記載の製造ラインシステム。 '
8 . 前記コア装置は、 前記ス トッカー及ぴ前記スタッカークレーンを複数有 し、 前記各ス トッカーには少なくとも一つのスタッカークレーンが配置され、 前 記各ストッカーは、 当該各ストッカーに配置されたスタッカークレーン間でカセ ットの受け渡しを行う受け渡し装置を介して互いに接続されていることを特徴と する、 請求項 1に記載の製造ラインシステム。
9 . 前記受け渡し装置は、 前記各ス トッカーに配置されたスタッカークレー ンの代替機として機能するスタツカークレーンであることを特徴とする、 請求項 8に記載のカラーフィルタ製造ラインシステム。
1 0 . 前記複数のス トッカーは、 雁行状に配置されていることを特徴とする、 請求項 8又は 9に記載の製造ラィンシステム。
1 1 . 複数枚の基板を収納するカセットを利用して板状製品を製造する製造 ラインシステムにおいて、
複数枚の基板が収納された複数の基板収納済みのカセット又は空のカセットを 保管するコア装置であって、 複数のカセットを保管するストッカーと、 このスト ッカー内に保管されているカセットを当該ストッカー内の複数の出し入れ位置と 任意のカセット保管位置との間で搬送するスタッカークレーンとを有するコア装 置と、
前記コァ装置の前記各出し入れ位置に接続され、 前記コア装置内に保管されて
いる基板収納済みのカセット内に収納された基板に対して各種の処理を行う複数 の処理ラインと、
前記コア装置の前記各出し入れ位置に対応して設けられ、 当該各出し入れ位置 に位置付けられた基板収納済みのカセットから当該各出し入れ位置に対応する各 処理ラインに対して基板を 1枚ずつ排出し、 又は、 当該各処理ラインで処理が行 われた処理済みの基板を 1枚ずつ当該各出し入れ位置に位置付けられた空のカセ ット内に収納する基板出し入れ機構とを備え、
前記コア装置により保管及ぴ搬送される前記カセットは、 左右の側面フレーム と、 これら左右の側面フレーム間に張架され、 複数枚の基板を水平状態で支持す るよう異なる高さの複数段の水平面に沿って延びる複数のワイヤとを有すること を特徴とする製造ラインシステム。
1 2 . 前記複数の処理ラインは、 カラーフィルターを製造するための各種の 処理を行うことを特徴とする、 請求項 1 1に記載の製造ラインシステム。
1 3 . 複数枚の基板を収納するカセットを取り扱う自動倉庫において、 複数枚のカセットを保管するためのストッカーと、
前記ストッカー内に保管されているカセットを当該ストッカー内の出し入れ位 置と任意のカセット保管位置との間で搬送するスタツカークレーンと、
.前記ストッカーの前記出し入れ位置に対応して設けられ、 基板搬送機構との間 でカセットからの基板の排出又はカセットへの基板の収納を行うように前記碁板 搬送機構に対して当該カセットを位置付けるカセット位置決め機構と、
前記ストッカーと前記カセット位置決め機構の間でカセットを搬送するカセッ ト搬送機構とを備え、
前記ストッカーの前記出し入れ位置は、 ストッカーからカセッ トを搬出するた めの出庫ポジションと、 ストッカーへカセットを搬入するための、 前記出庫ポジ シヨンとは独立した入庫ポジシヨンとを有し、
前記カセット位置決め機構は、 前記ストッカーの前記出庫ポジションに対応す るカセット供給ポジション、 及び前記入庫ポジションに対応するカセット排出ポ ジシヨンのいずれかの位置をとるように移動し、 前記カセット供給ポジションに て前記カセット搬送機構からカセットを引き込むとともに、 前記カセット排出ポ
ジションにて前記力セット搬送機構へ力セットを送り出すことを特徴とす.る自動
1 4 . 前記カセットは前記複数枚の基板を水平状態で収納するものであり、 前記カセット位置決 機構は前記カセットを基板の収納間隔に対応するピッチで 昇降させるカセット昇降装置であることを特徴とする、 請求項 1 3に記載の自動
1 5 . カセットへ基板を収納する基板収納装置において、
カセットの供給が行われるカセット供給ポジション、 カセットへの基板の収納 が行われる基板収納ポジション、 及び セットの回収が行われるカセット回収ポ ジションのうちのいずれかの位置をとるようにカセットを移動させるカセット移 動機構と、
前記基板収納ポジションにおいて、 前記カセット移動機構により位置付けられ たカセットへの基板の収納を行う基板搬入機構とを備えたことを特徴とする基板 収納装置。
1 6 . カセットから基板を排出する基板排出装置において、
カセットの供給が行われるカセット供給ポジション、 カセットからの基板の排 出が行われる基板排出ポジション、 及びカセットの回収が行われるカセット回収 ポジションのうちのいずれかの位置をとるようにカセットを移動させるカセット 移動機構と、
前記基板排出ポジションにおいて、 前記カセッ ト移動機構により位置付けられ たカセットからの基板の排出を行う基板搬出機構とを備えたことを特徴とする基 板排出装置。
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