TWI815066B - 待濺鍍物件定位方法、裝置及施作設備 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種待濺鍍物件定位方法、裝置及施作設備，係提供使可撓性片狀的一底膜周圍設有一硬質的框體，該框體內的該底膜上表面具有黏性，使複數個待濺鍍物件以矩陣排列置於該框體內的該底膜上表面，並使載有該複數個待濺鍍物件的該底膜置於一載盤上形成一被搬送物；使該被搬送物被輸送至一載台與可撓性帶狀的一隔膜間，使一輥桿在該隔膜上作滾動，以使該複數個待濺鍍物件與下方該底膜黏附穩固定位的方法、裝置及施作設備；藉此以確保待濺鍍物件在濺鍍製程中的品質。
Description
本發明係有關於一種定位方法、裝置及設備，尤指一種將待濺鍍之物件進行定位的待濺鍍物件定位方法、裝置及施作設備。
隨著科技的蓬勃發展，濺鍍(Sputtering)技術在許多產業中扮演著不可或缺的角色，舉凡電子產品的按鍵、光學鏡片、導光板、電路板或晶片等物件，皆需對物件的表面進行濺鍍處理，以在物件的表面形成薄膜；然而在對物件進行濺鍍之前，依照物件大小、形狀及需濺鍍部位狀況需進行不同之前置作業，如：對物件的表面進行水洗清潔、對不需濺鍍之表面進行遮蔽…等。
一般對物件進行濺鍍前之前置作業，多採用人工方式來逐一處理大小、形狀及需濺鍍部位狀況不同的各個物件，但遇到大小、形狀及需濺鍍部位狀況一致，且體積小、數量大的物件，不僅耗費人力且需花相當多的處理時間成本，且在人工處理下亦不能維持各個物件處理品質皆相同一致；而在將大量待濺鍍物件進行濺鍍前，必須確保各待濺鍍物件在未來濺鍍製程中的品質，因此需要讓各待濺鍍物件在接受濺鍍製程時先作適當的定位處理。
爰此，本發明之目的，在於提供一種待濺鍍物件在接受濺鍍製程前的待濺鍍物件定位方法。
本發明的另一目的，在於提供一種待濺鍍物件在接受濺鍍製程前的待濺鍍物件定位裝置。
本發明的又一目的，在於提供一種設有如所述待濺鍍物件定位裝置的待濺鍍物件施作設備。
本發明的再一目的，在於提供一種可用以執行如所述待濺鍍物件定位方法的設備。
依據本發明之目的之待濺鍍物件定位方法，包括：使可撓性片狀的一底膜周圍設有一硬質的框體，該框體內的該底膜上表面具有黏性，使複數個待濺鍍物件以矩陣排列置於該框體內的該底膜上表面，並使載有該複數個待濺鍍物件的該底膜置於一載盤上形成一被搬送物；使該被搬送物被輸送至一載台與可撓性帶狀的一隔膜間，使一輥桿在該隔膜上作滾動，以使該複數個待濺鍍物件與下方該底膜黏附穩固定位。
依據本發明的另一目的之待濺鍍物件定位裝置，包括：一軌架，設有可供一被搬送物在其上進行位移的軌道；一治具，設於該軌道中，其設有提供該被搬送物留置其上的載台；一捲繞機構，設有被驅動繞轉位移經該載台上方的可撓性帶狀的一隔膜，及可進行滾動的輥桿；該被搬送物可位於該治具的該載台與該隔膜之間，該輥桿可經由該隔膜對該被搬送物進行輥壓。
依據本發明又一目的之待濺鍍物件施作設備，設有如所述待濺鍍物件定位裝置，並設有一清潔裝置，該清潔裝置設有一清潔軌架及覆罩在該軌架上的一罩蓋，該清潔軌架設置供搬送該被搬送物之一清潔軌道，該罩蓋內設有噴嘴提供氣體。
依據本發明又一目的之另一待濺鍍物件施作設備，設有如所述待濺鍍物件定位裝置，並設有一覆蓋裝置，該覆蓋裝置設有一輸送軌架、一儲蓋機構、及一移載機構；其中，該輸送軌架設置供搬送該被搬送物之一輸送軌道；該儲蓋機構包括供複數個蓋體疊置的儲蓋架；該移載機構設
有一提取座往復位移於該儲蓋機構與該輸送軌架間，以提取蓋體覆於該輸送軌架上的該被搬送物上。
依據本發明又一目的之又一待濺鍍物件施作設備，設有如所述待濺鍍物件定位裝置，並設有一供料裝置以容置並供應該被搬送物輸入該待濺鍍物件定位裝置，另設置一收料裝置以容置並收納已完成定位的被搬送物。
依據本發明再一目的之待濺鍍物件施作設備，包括：可用以執行如所述待濺鍍物件定位方法的設備。
本發明實施例之待濺鍍物件定位方法、裝置及施作設備，藉由載有該複數個待濺鍍物件的該底膜置於該載盤所形成的該被搬送物被輸送至該載台與可撓性帶狀的該隔膜間，使該輥桿在該隔膜上作滾動，以使該複數個待濺鍍物件與下方該底膜黏附穩固定位，使各待濺鍍物件可以在未來濺鍍製程中取得一致的濺鍍品質；若佐以在同一機台台面設置該清潔裝置、覆蓋裝置或供料裝置、收料裝置而形成一施作設備，則不僅可同時完成待濺鍍物件的清潔、定位、覆蓋，更可有效率的搬送及完成整個待濺鍍物件的濺鍍前置作業，提昇待濺鍍物件的濺鍍品質及提高產能。
A:被搬送物
A1:底膜
A2:框體
A21:短邊
A22:定位孔
A3:待濺鍍物件
A31:待濺鍍表面
A32:不作濺鍍表面
A4:載盤
A41:承載面
A42:邊框
A43:銷體
B:待濺鍍物件定位裝置
B1:軌架
B11:軌道
B12:側架
B13:皮帶
B2:治具
B21:載台
B22:昇降機構
B221:導座
B222:滾輪
B223:驅動件
B3:捲繞機構
B31:隔膜
B32:輥桿
B321:滑軌
B322:移動座
B323:驅動件
B324:荷重量測單元
B33:機板
B34:釋放輪
B341:第一方向輪組
B342:第一定位輪
B343:配重輪
B344:第一夾持機構
B3441:驅動件
B3442:壓抵件
B3443:固定件
B35:捲收輪
B351:第二轉向輪組
B352:第二定位輪
B353:偵測輪
B354:第二夾持機構
B3541:驅動件
B3542:壓抵件
B3543:固定件
C:機台台面
D:清潔裝置
D1:清潔軌架
D11:側架
D12:皮帶
D13:清潔軌道
D2:罩蓋
D21:入口
D22:出口
D23:噴嘴
D24:噴嘴
D25:排氣口
D26:排氣口
E:覆蓋裝置
E1:輸送軌架
E11:側架
E12:皮帶
E13:輸送軌道
E2:儲蓋機構
E21:滑軌
E22:儲蓋架
E221:容置空間
E222:托頂機構
E3:移載機構
E31:龍門座架
E311:支柱
E312:橫樑
E313:移載架
E314:驅動件
E315:吸附件
E316:提取座
F:供料裝置
F1:容置架
F2:軌架
F3:側架
F4:皮帶
F5:軌道
F6:托頂機構
G:收料裝置
圖1係本發明實施例中被搬送物之立體分解示意圖。
圖2係本發明實施例中該待濺鍍物件定位裝置之立體示意圖。
圖3係本發明實施例中該待濺鍍物件定位裝置捲繞隔膜之示意圖。
圖4係本發明實施例中該待濺鍍物件定位施作設備同時設有供料裝置、清潔裝置、待濺鍍物件定位裝置、覆蓋裝置、收料裝置在同一機台台面之立體示意圖。
圖5係本發明實施例中該清潔裝置之立體分解示意圖。
圖6係本發明實施例中該清潔裝置中氣體流動之示意圖。
請參閱圖1所示，本發明待濺鍍物件定位方法實施例，係使可撓性的矩形薄片狀之一底膜A1上表面周圍環繞圍設有一硬質的矩形之框體A2，該框體A2內的該底膜A1上表面具有黏性，使複數個待濺鍍物件A3以矩陣排列置於該框體A2內的該底膜A1上表面被黏附，並使載有該複數個待濺鍍物件A3的該底膜A1置於矩形的一載盤A4上形成一被搬送物A；其中，該待濺鍍物件A3可以包括一待濺鍍表面A31以及一不作濺鍍部位A32，或僅有該待濺鍍表面A31；該框體A2在該矩形周緣的短邊A21上設有定位孔A22，該載盤A4包括一平整的承載面A41及位於該承載面A41周緣並凸於該承載面A41表面高度的矩形之邊框A42，在鄰靠該邊框A42的該承載面A41表面設有凸起的銷體A43，所述該底膜A1置於該載盤A4之該承載面A41表面時，該框體A2的定位孔A22恰置套於該銷體A43，使該底膜A1獲得定位。
請參閱圖1、2、3所示，本發明實施例使用一待濺鍍物件定位裝置B將所述被搬送物A中的該待濺鍍物件更穩固地壓靠黏附定位於該底膜A1上表面，該待濺鍍物件定位裝置B設有：一軌架B1，其設有可供該被搬送物A在其上進行位移的軌道B11；一治具B2，設於軌道B11中，其設有提供該被搬送物A留置其上的載台B21；一捲繞機構B3，設有可被驅動繞轉位移經該載台B21上方的可撓性帶狀的一隔膜B31，及可被驅動在該隔膜B31上進行滾動的輥桿B32；
該被搬送物A可在該軌道B11上被搬送至該治具B2的該載台B21與該隔膜B31之間，該輥桿B32可經由該隔膜B31對該被搬送物A進行輥壓。
該軌架B1係由相隔間距的兩側架B12相對應的內側設置可受驅動繞轉的皮帶B13，而在該皮帶B13上方形成供水平X軸向搬送該被搬送物A之該軌道B11；該治具B2設於該兩側架B12間，該載台B21受一昇降機構B22所驅動，而可承載停置於該載台B21上方之該皮帶B13上的該被搬送物A作上昇或下降，該昇降機構B22包括一組具斜面的導座B221以及設於該載台B21下方並與該載台B21連動的一組滾輪B222，該導座B221受一驅動件B223作X軸向水平驅動而使該滾輪B222相對在該導座B221斜面位移，而連動使該載台B21作上昇或下降；該捲繞機構B3係在一機板B33上設有相隔間距之供釋放該隔膜B31的釋放輪B34及供捲收該隔膜B31的捲收輪B35；該隔膜B31由該釋放輪B34經一第一方向輪組B341、該載台B21一側的一第一定位輪B342，而延伸過該載台B21另一側的一第二定位輪B352、一第二轉向輪組B351至該捲收輪B35被捲收；在該第一轉向輪組B341處設有一受該機板B33後一配重作用且可在一滑軌(配重及滑軌圖中未示)上作上下位移的配重輪B343；該第一轉向輪組B341與該第一定位輪B342間該隔膜B31輸送的路徑上設有一第一夾持機構B344，可藉受汽壓缸類之驅動件B3441驅動的壓抵件B3442壓夾輸經的該隔膜B31至該機板B33上一固定件B3443而使該隔膜B31的傳輸被止動；在該第二轉向輪組B351處設有一與該機板B33後一受偵測的分度盤(圖中未示)連動的偵測輪B353；該第二轉向輪組B351與該第二定位輪B352間該隔膜B31輸送的路徑上設有一第二夾持機構B354，可藉受汽壓缸類之驅動件B3541驅動的壓抵件B3542壓夾輸經的該隔膜B31至該機板B33上一固定件B3543而使該隔膜B31的傳輸被止動；該第一夾持機構B344、第二夾持機構B354分別位於該輥桿B32
滾動行程區間外兩端；該第一定位輪B342及第二定位輪B352間的該隔膜B31上方設該輥桿B32，該輥桿B32兩端分別各受可在一滑軌B321上位移的移動座B322所樞設支撐及連動，二個該移動座B322共同受一驅動件B323同步驅動，每一該移動座B322上各設有荷重量測單元B324，可對該輥桿B32兩端的下壓重力進行量測；該隔膜B31可被該捲收輪B35牽引位移，以改變該隔膜B31被該輥桿B32滾動接觸的部位，但該輥桿B32在該隔膜B31上欲作滾動時，先使該輥桿B32滾動行程區間外的該隔膜B31兩端被該第一夾持機構B344及該第二夾持機構B354作夾持固定。
在實施上，使該被搬送物A被輸送至或被置於該載台B21，使該被搬送物A位於該載台與該可撓性帶狀的該隔膜B31間，再使該載台B21受該昇降機構B22驅動上移一預設高度貼靠於該隔膜B31下方，再使該輥桿B32受驅動以兩側的該移動座B322在該滑軌B321上位移，使該輥桿B32在該隔膜B31上作滾動，以間接使該複數個待濺鍍物件A3與下方該底膜A1間可能存在的氣泡被擠出，而使該待濺鍍物件A3與該底膜A1黏附穩固，並藉由該隔膜B31兩側分別所設之該移動座B322上的該荷重量測單元B324量測該輥桿B32兩端的荷重，以適時調控該輥桿B32兩端的下壓力道；完成輥壓操作後，該昇降機構B22驅動該載台B21下移，然後使該被搬送物A脫離該隔膜B31，並使該被搬送物A被移出該載台B21。
請參閱圖2、3、4，為使待濺鍍物件的前置作業更完善及有效率，本發明提供一使用該待濺鍍物件定位裝置B的待濺鍍物件施作設備實施例，其在同一機台台面C上設置該待濺鍍物件定位裝置B，並在該待濺鍍物件A5壓合裝置B之一側設置一清潔裝置D，使該被搬送物A被輸送至該載台B21與該隔膜B31間前，執行對圖1中該被搬送物A上複數個待濺鍍物件A5吹送正壓氣體的清潔工作。
請參閱圖5、6，該清潔裝置D設有一清潔軌架D1及覆罩在該軌架D1上的一罩蓋D2，該清潔軌架D1在相隔間距的兩側架D11相對應的內側設置可受驅動繞轉的皮帶D12，而在該皮帶D12上方形成供搬送該被搬送物A之一清潔軌道D13，該罩蓋D2內設有分別各位於兩側近入、出口D21、D22處呈相向朝內對應的二個噴嘴D23、D24，該罩蓋D2上方設有相隔間距的二個排氣口D25、D26；該清潔軌架D1的該清潔軌道D13與圖2中該待濺鍍物件定位裝置B的軌道B11對應並形成被搬送物A可輸送的搬送流路，該清潔軌架D1的該清潔軌道D13為該搬送流路的前端流路，被搬送物A在該清潔軌道D13上受該噴嘴D23、D24正壓氣體對圖1中該待濺鍍物件A3外表面吹噴，使該待濺鍍物件A3在進行壓合前排除污塵沾附以提高濺鍍品質，而該正壓氣體充斥該罩蓋D2內後由該排氣口D25、D26逸散排出。
請參閱圖1、3、4，本發明該待濺鍍物件施作設備實施例中，若該待濺鍍物件A3設有一不作濺鍍部位A32，在移除該隔膜B31後，執行使一蓋體A5覆罩在該被搬送物A上，並遮蔽該不需濺鍍的部位A32上表面的製程，為實施覆罩該蓋體A5的製程，可在同一機台台面C上除設置該待濺鍍物件定位裝置B外，在該待濺鍍物件定位裝置B之一側另設置一覆蓋裝置E；該覆蓋裝置E設有一輸送軌架E1、一儲蓋機構E2、及一移載機構E3；其中，該輸送軌架E1在相隔間距的兩側架E11相對應的外側設置可受驅動繞轉的皮帶E12，而在該皮帶E12上方形成供搬送該被搬送物A之一輸送軌道E13；該輸送軌架E1的該輸送軌道E13與該待濺鍍物件定位裝置B的軌道B112對應並形成被搬送物A可輸送的搬送流路，該輸送軌架E1的該輸送軌道E13為該搬送流路的後端流路；該儲蓋機構E2設於被搬送物A輸送的搬送流路外，包括可在一組滑軌E21上作Y軸向位移的儲蓋架E22，該儲蓋架E22提供複數個蓋體A5可疊置其間的容置空間E221，該蓋體A5設有可遮蔽該
待濺鍍物件A3上不作濺鍍部位A32之部位的遮蔽部A51，該容置空間E221下方設有可托頂容置其中該蓋體A5作上下位移的托頂機構E222；該移載機構E3設有以二支柱E311跨於該被搬送物A輸送的該搬送流路兩側的龍門座架E31，該龍門座架E31的一Y軸向橫樑E312上設有一移載架E313，該移載架E313受一Y軸向驅動件E314及一Z軸向驅動件E314所驅動，可以該移載架E313下方的設有複數個個吸附件E315的一提取座E316往復位移於該儲蓋機構E2與該輸送軌架E1間，以提取蓋體A5覆於該輸送軌架E1上的該被搬送物A上。
請參閱圖4，本發明該待濺鍍物件施作設備實施例中，另可以在同一機台台面C上該被搬送物A的直線搬送流路上，於該待濺鍍物件定位裝置B的一側設置一供料裝置F以容置該被搬送物A，並供應該被搬送物A到該搬送流路，使該被搬送物A直接被輸入該待濺鍍物件定位裝置B進行定位，或先在該清潔裝置D被進行清潔後再輸入該待濺鍍物件定位裝置B進行定位；本發明該待濺鍍物件施作設備實施例亦可以在該待濺鍍物件定位裝置B的另一側設置一收料裝置G以容置並收納已完成定位或定位後已覆上蓋體A5的被搬送物A，以進行疊置收集；該供料裝置F包括一容置架F1以及位於該容置架F1下方的一軌架F2，該軌架F2設有相隔間距的二個該側架F3及位於二個該側架F3內側由受驅動的皮帶F4所形成的軌道F5，該軌道中的該容置架F1下方設有一托頂機構F6以托頂該容置架F1中層層疊置的被搬送物A作上下位移。該收料裝置G同樣設有與收料裝置G大致相同的容置架F1、軌架F2、皮帶F4、軌道F5、托頂機構F6，茲不贅述。
本發明實施例待濺鍍物件定位方法、裝置及施作設備，藉由載有該複數個待濺鍍物件A3的該底膜A1置於該載盤A4所形成的該被搬送物A被輸送至該載台B21與可撓性帶狀的該隔膜B31間，使該輥桿B32在該
隔膜B31上作滾動，以使該複數個待濺鍍物件A3與下方該底膜A1黏附穩固定位，使各待濺鍍物件A3可以在未來濺鍍製程中取得一致的濺鍍品質；若佐以在同一機台台面C上設置該清潔裝置D、覆蓋裝置E或供料裝置F、收料裝置G而形成一施作設備，則不僅可同時完成待濺鍍物件A3的清潔、定位、覆蓋，更可有效率的搬送及完成整個待濺鍍物件A3的濺鍍前置作業，提昇待濺鍍物件A3的濺鍍品質及提高產能。
惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
B1:軌架
B11:軌道
B12:側架
B13:皮帶
B2:治具
B21:載台
B3:捲繞機構
B32:輥桿
B321:滑軌
B322:移動座
B324:荷重量測單元
Claims (10)
- 一種待濺鍍物件定位裝置，包括：一軌架，設有可供一被搬送物在其上進行位移的軌道；該被搬送物為複數個待濺鍍物件以矩陣排列置於一框體內表面的一底膜上表面，並使該底膜置於一載盤上；一治具，設於該軌道中，其設有提供該被搬送物留置其上的載台；一捲繞機構，設有被驅動繞轉位移經該載台上方的可撓性帶狀的一隔膜，及可進行滾動的輥桿；該被搬送物可位於該治具的該載台，該輥桿可經由該隔膜對該被搬送物進行輥壓。
- 如請求項1所述待濺鍍物件定位裝置，其中，該捲繞機構係在供釋放該隔膜的釋放輪及供捲收該隔膜的捲收輪間該隔膜輸送的路徑上，於分別位於該輥桿滾動行程區間外兩端設有可使該隔膜的傳輸被止動的一第一夾持機構、一第二夾持機構。
- 如請求項1所述待濺鍍物件定位裝置，其中，該輥桿兩端分別各受可在一滑軌上位移的移動座所樞設支撐及連動，二個該移動座共同受一驅動件同步驅動，每一該移動座上各設有荷重量測單元，可對該輥桿兩端的下壓重力進行量測。
- 如請求項1所述待濺鍍物件定位裝置，其中，該底膜周圍設有一框體，該框體內的該底膜上表面具有黏性。
- 如請求項1所述待濺鍍物件定位裝置，其中，該隔膜可被牽引位移，以改變該隔膜被該輥桿滾動接觸的部位。
- 一種待濺鍍物件定位方法，使用如請求項1至5任一項所述待濺鍍物件定位裝置，包括： 使該被搬送物被輸送至或被置於該載台；再使該載台受一昇降機構驅動上移一預設高度貼靠於該隔膜下方；再使該輥桿受驅動在該隔膜上作滾動，以間接使待濺鍍物件與下方該底膜黏附穩固。
- 如請求項6所述待濺鍍物件定位方法，其中，該輥桿在該隔膜上欲作滾動時，先使該輥桿滾動行程區間外的該隔膜兩端被作固定。
- 一種待濺鍍物件施作設備，設有如請求項1至5任一項所述待濺鍍物件定位裝置，並設有一清潔裝置，該清潔裝置設有一清潔軌架及覆罩在該軌架上的一罩蓋，該清潔軌架設置供搬送該被搬送物之一清潔軌道，該罩蓋內設有噴嘴提供氣體。
- 一種待濺鍍物件施作設備，設有如請求項1至5任一項所述待濺鍍物件定位裝置，並設有一覆蓋裝置，該覆蓋裝置設有一輸送軌架、一儲蓋機構、及一移載機構；其中，該輸送軌架設置供搬送該被搬送物之一輸送軌道；該儲蓋機構包括供複數個蓋體疊置的儲蓋架；該移載機構設有一提取座往復位移於該儲蓋機構與該輸送軌架間，以提取蓋體覆於該輸送軌架上的該被搬送物上。
- 一種待濺鍍物件施作設備，設有如請求項1至5任一項所述待濺鍍物件定位裝置，並設有一供料裝置以容置並供應該被搬送物輸入該待濺鍍物件定位裝置，另設置一收料裝置以容置並收納已完成定位的被搬送物。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20030042115A1 (en) * | 2001-09-06 | 2003-03-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Conveyor, method for conveying a semiconductor wafer, and method for manufacturing a semiconductor device |
| TW201318094A (zh) * | 2011-09-20 | 2013-05-01 | Gen Electric | 用於一或多個有機發光二極體（ＯＬＥＤｓ）之大面積密封封裝之裝置及方法 |
| CN107452667A (zh) * | 2016-05-31 | 2017-12-08 | 琳得科株式会社 | 片材粘附装置及粘附方法 |
| US20200251453A1 (en) * | 2015-03-20 | 2020-08-06 | Rohinni, LLC | Apparatus and method for direct transfer of semiconductor devices from a substrate and stacking semiconductor devices on each other |
-
2020
- 2020-12-14 TW TW109144144A patent/TWI815066B/zh active
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