TWI802715B - 光學積層體及有機el顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種可抑制相位差層之光學特性劣化之光學積層體。本發明之光學積層體具有紫外線吸收接著層、保護層、偏光元件、及相位差層，且相位差層包含液晶化合物，紫外線吸收接著層及偏光元件係配置於較相位差層更靠視認側，紫外線吸收接著層包含基礎聚合物、紫外線吸收劑、及吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。
Description
本發明係關於一種光學積層體及有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置。
已知有藉由在有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置中，使用積層有偏光元件與相位差層之圓偏光板而抑制外界光反射之技術。又，業界提出為了保護偏光元件或相位差層等功能性層免受入射至圖像顯示裝置之紫外線之傷害，而使用含有紫外線吸收劑之黏著片材。作為此種黏著片材，例如已知有如下黏著片材，其具有紫外線吸收層，波長380 nm之光線透過率為30%以下，且波長長於430 nm之波長側之可見光透過率為80%以上(專利文獻1)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2012-211305號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，於使用如上所述之先前之黏著片材之圖像顯示裝置中，有相位差層(尤其是包含液晶化合物之相位差層)之光學特性有可能劣化之問題。
本發明係為了解決上述先前之課題而成者，其主要目的在於提供一種可抑制相位差層之光學特性之劣化之光學積層體、及使用此種光學積層體之有機EL顯示裝置。
[解決問題之技術手段]
本發明之光學積層體具有紫外線吸收接著層、保護層、偏光元件、及相位差層，且上述相位差層包含液晶化合物，上述紫外線吸收接著層及上述偏光元件係配置於較上述相位差層更靠視認側，上述紫外線吸收接著層包含基礎聚合物、紫外線吸收劑、及吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。
於一實施形態中，上述基礎聚合物為(甲基)丙烯酸系聚合物。
於一實施形態中，上述紫外線吸收劑之吸收光譜之最大吸收波長存在於300 nm~400 nm之波長區域。
於一實施形態中，上述紫外線吸收接著層之波長300 nm~400 nm之平均透過率為5%以下，波長400 nm~430 nm之平均透過率為30%以下，波長450 nm~500 nm之平均透過率為70%以上，波長500 nm~780 nm之平均透過率為80%以上。
於一實施形態中，依序配置有上述紫外線吸收接著層、上述保護層、及上述偏光元件。
於一實施形態中，上述相位差層之面內相位差Re(550)為120 nm~160 nm。
於一實施形態中，具有第1相位差層與第2相位差層作為上述相位差層，且上述第1相位差層及上述第2相位差層中之至少一者包含液晶化合物，上述紫外線吸收接著層配置於較上述第1相位差層及上述第2相位差層中之包含液晶化合物之相位差層更靠視認側。
於一實施形態中，自視認側起依序配置有上述紫外線吸收接著層、上述保護層、上述偏光元件、上述第1相位差層、及上述第2相位差層。
於一實施形態中，自視認側起依序配置有上述紫外線吸收接著層、第1保護層、上述偏光元件、第2保護層、上述第1相位差層、及上述第2相位差層。
於一實施形態中，自視認側起依序配置有上述保護層、上述偏光元件、上述紫外線吸收接著層、上述第1相位差層、及上述第2相位差層。
於一實施形態中，自視認側起依序配置有第1保護層、上述偏光元件、第2保護層、上述紫外線吸收接著層、上述第1相位差層、及上述第2相位差層。
於一實施形態中，上述第1相位差層之面內相位差Re(550)為240 nm~320 nm。
於一實施形態中，上述第2相位差層之面內相位差Re(550)為120 nm~160 nm。
根據本發明之另一態樣，提供一種有機EL顯示裝置。該有機EL顯示裝置具有上述光學積層體。
[發明之效果]
根據本發明，藉由紫外線吸收接著層配置於較包含液晶化合物之相位差層更靠視認側，且紫外線吸收接著層包含上述色素化合物，可提供一種可抑制相位差層之光學特性之劣化之光學積層體、及具備此種光學積層體之有機EL顯示裝置。
以下，對本發明之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
(用語及符號之定義)
本說明書中之用語及符號之定義係如下所述。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」為面內之折射率成為最大之方向(即，遲相軸方向)之折射率，「ny」係於面內與遲相軸正交之方向(即，進相軸方向)之折射率，「nz」為厚度方向之折射率。
(2)面內相位差(Re)
「Re(λ)」係利用23℃下之波長λ nm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係利用23℃下之波長550 nm之光測定之面內相位差。Re(λ)於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，係利用式：Re(λ)=(nx-ny)×d而求出。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(λ)」係利用23℃下之波長λ nm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係利用23℃下之波長550 nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，係利用式：Rth(λ)=(nx-nz)×d而求出。
A.光學積層體之整體構成
圖1為本發明之一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。光學積層體100具有紫外線吸收接著層10、保護層20、偏光元件30、及相位差層40。相位差層40包含液晶化合物。光學積層體100代表性地係用於有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置。於將光學積層體100用於圖像顯示裝置時，紫外線吸收接著層10及偏光元件30係配置於較包含液晶化合物之相位差層40更靠視認側。紫外線吸收接著層10包含基礎聚合物、紫外線吸收劑、及吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。上述基礎聚合物代表性地為(甲基)丙烯酸系聚合物。上述紫外線吸收劑之吸收光譜之最大吸收波長代表性地存在於300 nm~400 nm之波長區域。紫外線吸收接著層10較佳為波長300 nm~400 nm之平均透過率為5%以下，波長400 nm~430 nm之平均透過率為30%以下，波長450 nm~500 nm之平均透過率為70%以上，波長500 nm~780 nm之平均透過率為80%以上。於一實施形態中，依序配置有紫外線吸收接著層10、保護層20、及偏光元件30。相位差層40之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm。根據上述構成，於光學積層體應用於圖像顯示裝置之情形時，可抑制外界光(尤其是紫外光及380 nm~430 nm之光)入射至包含液晶化合物之相位差層。其結果為，可抑制上述相位差層之光學特性之劣化(例如面內相位差之變化)。
圖2為本發明之另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。於本實施形態之光學積層體101中，自視認側起依序配置有紫外線吸收接著層10、保護層20、偏光元件30、第1相位差層41、及第2相位差層42。圖3為本發明之進而另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。於本實施形態之光學積層體102中，自視認側起依序配置有紫外線吸收接著層10、第1保護層21、偏光元件30、第2保護層22、第1相位差層41、及第2相位差層42。圖4為本發明之進而另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。於本實施形態之光學積層體103中，自視認側起依序配置有保護層20、偏光元件30、紫外線吸收接著層10、第1相位差層41、及第2相位差層42。圖5為本發明之進而另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。於本實施形態之光學積層體104中，自視認側起依序配置有第1保護層21、偏光元件30、第2保護層22、紫外線吸收接著層10、第1相位差層41、及第2相位差層42。如圖2~圖5所示，光學積層體可具有第1相位差層41與第2相位差層42作為相位差層。於該情形時，第1相位差層41及第2相位差層42中之至少一者包含液晶化合物。紫外線吸收接著層10只要配置於較第1相位差層41及第2相位差層42中之包含液晶化合物之相位差層更靠視認側即可。例如，於第2相位差層42包含液晶化合物之情形時，紫外線吸收接著層10可配置於第1相位差層41與第2相位差層42之間。藉由在包含液晶化合物之第2相位差層42之視認側配置有紫外線吸收接著層10，可抑制由外界光(尤其是紫外光及380 nm~430 nm之光)之影響所引起之第2相位差層42之光學特性之劣化。第1相位差層41之面內相位差Re(550)較佳為240 nm~320 nm。第2相位差層42之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm。光學積層體中所含之各層可經由任意之適當之接著層(接著劑層或黏著劑層)而積層。進而，於光學積層體之表面(最外面)可形成黏著劑層(或附有黏著劑層之離型膜)。
B.紫外線吸收接著層
紫外線吸收接著層如上所述，包含基礎聚合物、紫外線吸收劑、及吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域之色素化合物。此處，所謂最大吸收波長係指於380 nm~430 nm之波長區域內之分光吸收光譜中，於存在複數個吸收極大值之情形時，表示其中最大之吸光度之吸收極大波長。
紫外線吸收接著層之接著力(剝離所需之力)較佳為8.0 N/20 mm~30 N/20 mm，更佳為10.0 N/20 mm~30 N/20 mm。
紫外線吸收接著層代表性地可藉由將紫外線吸收接著層之組合物塗佈於光學積層體中所含之其他層上而形成。作為上述組合物之塗佈方法，可採用任意之適當之方法。例如可列舉：輥塗法、旋轉塗佈法、線棒塗佈法、浸漬塗佈法、模嘴塗佈法、淋幕式塗佈法、噴塗法、刮塗法(缺角輪塗佈法等)等。
B-1.基礎聚合物
作為基礎聚合物，只要可發揮出所需之接著性及黏著性，則可採用任意之適當之聚合物。作為基礎聚合物之具體例，可列舉(甲基)丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物等。較佳為基礎聚合物為(甲基)丙烯酸系聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物可利用含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分之部分聚合物及/或上述單體成分而獲得。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯，可列舉酯末端具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1~24之烷基者。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用一種或組合兩種以上而使用。再者，「(甲基)丙烯酸烷基酯」係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，係與本發明之(甲基)同樣之含義。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯，可列舉上述直鏈狀或支鏈狀之碳數1~24之(甲基)丙烯酸烷基酯。該等之中，較佳為碳數1~9之(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為碳數4~9之(甲基)丙烯酸烷基酯，進而較佳為碳數4~9之具有分支之(甲基)丙烯酸烷基酯。該(甲基)丙烯酸烷基酯於容易取得黏著特性之平衡之方面較佳。
關於酯末端具有碳數1~24之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為40重量%以上，更佳為50重量%以上，進而較佳為60重量%以上。
於上述單體成分中，作為單官能性單體成分，可包含(甲基)丙烯酸烷基酯以外之共聚單體。共聚單體能夠以單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之剩餘部分之形式使用。作為共聚單體，例如可包含環狀含氮之單體。作為上述環狀含氮之單體，可並無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基，且具有環狀氮結構者。環狀氮結構較佳為於環狀結構內具有氮原子者。關於環狀含氮之單體之含量，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為0.5~50重量%，更佳為0.5~40重量%，進而更佳為0.5~30重量%。
於上述單體成分中，作為單官能性單體成分，可包含含羥基之單體。作為含羥基之單體，可並無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基，且具有羥基者。關於上述含羥基之單體之含量，就提高接著力、凝聚力之觀點而言，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為1重量%以上，更佳為2重量%以上，進而較佳為3重量%以上。另一方面，關於含羥基之單體之含量之上限，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為30重量%，更佳為27重量%，進而較佳為25重量%。若含羥基之單體變得過多，則存在黏著劑層變硬，接著力降低之情形，又，存在黏著劑之黏度變得過高，或進行凝膠化之情形。
於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，作為單官能性單體，可包含其他含官能基之單體。作為此種單體，例如可列舉含羧基之單體、具有環狀醚基之單體。關於含羧基之單體、具有環狀醚基之單體之含量，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為30重量%以下，更佳為27重量%以下，進而較佳為25重量%以下。
作為形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分之共聚單體，例如可列舉CH2
=C(R1
)COOR2
(R1
表示氫或甲基，R2
表示碳數1~3之經取代之烷基、環狀之環烷基)所表示之(甲基)丙烯酸烷基酯。作為R2
之碳數1~3之經取代之烷基之取代基較佳為碳數3~8個之芳基或碳數3~8個之芳氧基。作為芳基，並無限定，較佳為苯基。作為此種CH2
=C(R1
)COOR2
所表示之單體之例，可列舉：(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸3,3,5-三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯等。該等可單獨使用或組合使用。關於CH2
=C(R1
)COOR2
所表示之(甲基)丙烯酸酯之含量，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之總量，較佳為50重量%以下，更佳為45重量%以下，進而較佳為40重量%以下，尤佳為35重量%以下。
於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，除可含有上述單官能性單體以外，為了調整黏著劑之凝聚力，視需要可含有任意之適當之多官能性單體。
作為(甲基)丙烯酸系聚合物之製造方法，可採用溶液聚合、紫外線(UV)聚合等輻射聚合、塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等任意之適當之方法。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一種。
於藉由自由基聚合製造(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，可向單體成分中適當添加自由基聚合中所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等而進行聚合。自由基聚合中所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選擇而使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可根據聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而進行控制，且根據該等之種類適當調整其使用量。
於藉由輻射聚合製造(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，可藉由向單體成分照射電子束、紫外線(UV)等輻射進行聚合而製造。該等之中，較佳為紫外線聚合。於進行紫外線聚合時，因可縮短聚合時間之優點等，較佳為於單體成分中含有光聚合起始劑。
作為光聚合起始劑，並無特別限定，較佳為於波長400 nm以上具有吸收帶之光聚合起始劑(A)。作為此種光聚合起始劑(A)，可列舉：雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦(Irgacure 819，BASF製造)、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基氧化膦(LUCIRIN TPO，BASF製造)等。
於光聚合起始劑中可含有於波長未達400 nm下具有吸收帶之光聚合起始劑(B)。作為光聚合起始劑(B)，只要係因紫外線產生自由基，開始光聚合，且於波長未達400 nm下具有吸收帶者，則並無特別限制，可適宜地使用通常所使用之光聚合起始劑中之任一種。例如可使用安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、苯偶姻系光聚合起始劑、苯偶醯系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫𠮿
系光聚合起始劑、醯基氧化膦系光聚合起始劑等。
於使單體成分進行紫外線聚合之情形時，較佳為先添加光聚合起始劑(B)，並向照射紫外線而一部分進行聚合而成之單體成分之部分聚合物(預聚物組合物)中添加光聚合起始劑(A)、紫外線吸收劑及色素化合物而進行紫外線聚合。於向進行紫外線照射而一部分進行聚合而成之單體成分之部分聚合物(預聚物組合物)中添加光聚合起始劑(A)時，較佳為使光聚合起始劑溶解於單體中後添加。
B-2.紫外線吸收劑
作為紫外線吸收劑，可使用任意之適當之紫外線吸收劑。具體而言，可列舉：三𠯤系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等，可將該等單獨使用一種或組合兩種以上而使用。該等之中，較佳為三𠯤系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑，選自由1分子中具有2個以下羥基之三𠯤系紫外線吸收劑、及1分子中具有1個苯并***骨架之苯并***系紫外線吸收劑所組成之群中之至少一種紫外線吸收劑由於在丙烯酸系黏著劑組合物之形成中所使用之單體中之溶解性良好，且於波長380 nm附近之紫外線吸收能力較高，故而較佳。紫外線吸收劑可單獨使用，又，亦可混合兩種以上而使用。
紫外線吸收劑之吸收光譜之最大吸收波長較佳為存在於300 nm~400 nm之波長區域，更佳為存在於320 nm~380 nm之波長區域。最大吸收波長可使用紫外可見分光光度計而加以測定。
B-3.色素化合物
關於色素化合物，如上所述，吸收光譜之最大吸收波長存在於380 nm~430 nm之波長區域。色素化合物之吸收光譜之最大吸收波長較佳為存在於380 nm~420 nm之波長區域。藉由組合此種色素化合物與紫外線吸收劑而使用，可充分地吸收不影響有機EL元件之發光之範圍(波長380 nm~430 nm)之光，且可充分地透過有機EL元件之發光範圍(長於430 nm之波長側)者，其結果為，可抑制相位差層之光學特性之劣化。
色素化合物之半值寬較佳為80 nm以下，更佳為5 nm~70 nm，進而較佳為10 nm~60 nm。藉此，可充分地吸收不影響有機EL元件之發光之範圍之光，且充分地透過長於430 nm之波長側之光。色素化合物之半值寬可使用紫外可見分光光度計(U-4100，Hitachi High-Tech Science股份有限公司製造)，並於以下之條件下根據色素化合物之溶液之透過吸光光譜進行測定。代表性地根據以最大吸收波長之吸光度成為1.0之方式調整濃度而進行測定之分光光譜，將成為峰值之50%之2點間之波長之間隔(半峰全幅值)設為該色素化合物之半值寬。
(測定條件)
溶劑：甲苯或氯仿
溶液池：石英池
光程長度：10 mm
作為色素化合物，只要為吸收光譜之最大吸收波長存在於上述波長區域之化合物即可，其結構等並無特別限定。作為色素化合物，例如可列舉有機系色素化合物或無機系色素化合物，該等之中，就維持於基礎聚合物等樹脂成分中之分散性與透明性之觀點而言，較佳為有機系色素化合物。
作為有機系色素化合物，可列舉：次甲基偶氮系化合物、吲哚系化合物、桂皮酸系化合物、嘧啶系化合物、卟啉系化合物等。
作為有機色素化合物，可適宜地使用市售者，具體而言，作為吲哚系化合物，可列舉：BONASORB UA3911(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：398 nm，半值寬：48 nm，Orient Chemical Industries股份有限公司製造)、BONASORB UA3912(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：386 nm，半值寬：53 nm，Orient Chemical Industries股份有限公司製造)，作為桂皮酸系化合物，可列舉SOM-5-0106(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：416 nm，半值寬：50 nm，Orient Chemical Industries股份有限公司製造)，作為卟啉系化合物，可列舉FDB-001(商品名，吸收光譜之最大吸收波長：420 nm，半值寬：14 nm，山田化學工業股份有限公司製造)等。
色素化合物可單獨使用，又，可混合兩種以上而使用，作為整體之含量相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分100重量份，較佳為0.01重量份~10重量份，更佳為0.02重量份~5重量份左右。藉由將色素化合物之添加量設為上述範圍內，可充分地吸收不影響有機EL元件之發光之範圍之光，可抑制相位差層之光學特性之劣化。
B-4.其他成分
紫外線吸收接著層及/或紫外線吸收接著層之組合物視需要可包含矽烷偶合劑、交聯劑等其他成分。
作為矽烷偶合劑，例如可使用3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯酸基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。關於矽烷偶合劑之含量，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.01重量份~1重量份，進而較佳為0.02重量份~0.6重量份。
作為交聯劑，可使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、聚矽氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、過氧化物等。交聯劑可單獨一種或組合兩種以上。該等之中，可較佳地使用異氰酸酯系交聯劑。關於交聯劑之含量，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分100重量份，較佳為5重量份以下，更佳為0.01重量份~5重量份，進而較佳為0.01重量份~4重量份，尤佳為0.02重量份~3重量份。
異氰酸酯系交聯劑係指1分子中具有2個以上異氰酸酯基(包含藉由封端劑或數量體化等暫時地保護異氰酸酯基之異氰酸酯再生型官能基)之化合物。作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉：甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。更具體而言，例如可列舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類；三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯3聚物加成物(商品名：Coronate L，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯3聚物加成物(商品名：Coronate HL，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(商品名：Coronate HX，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)等異氰酸酯加成物、苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D110N，三井化學股份有限公司製造)、六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D160N，三井化學股份有限公司製造)；聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、以及該等與各種多元醇之加成物、利用異氰尿酸酯鍵、縮二脲鍵、脲基甲酸酯鍵等進行多官能化而成之聚異氰酸酯等。
C.偏光元件
作為偏光元件，可採用任意之適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為二層以上之積層體。
作為包含單層之樹脂膜之偏光元件之具體例，可列舉：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者；PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言，較佳為可使用利用碘對PVA系膜進行染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。
上述利用碘之染色例如係藉由使PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3~7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可於進行延伸後染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色前使PVA系膜浸漬於水中而進行水洗，不僅可洗淨PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑，且可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體所獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈於該樹脂基材而形成之PVA系樹脂層之積層體所獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈於該樹脂基材而形成之PVA系樹脂層之積層體所獲得之偏光元件例如可藉由如下方法而製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使之乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施形態中，延伸代表性地包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中而進行延伸。進而，延伸視需要可進而包含於硼酸水溶液中之延伸之前使積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，於該剝離面積層對應於目的之任意之適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如係記載於日本專利特開2012-73580號公報中。該公報其整體之記載係作為參考而引用至本說明書中。
偏光元件之厚度例如為1 μm~80 μm。於一實施形態中，偏光元件之厚度較佳為1 μm~15 μm，進而較佳為3 μm~10 μm，尤佳為3 μm~8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍，則可良好地抑制加熱時之捲曲，及可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長380 nm~780 nm中之任一種波長下顯示出吸收二色性。偏光元件之單體透過率為35.0%~46.0%，較佳為37.0%~46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
上述單體透過率及偏光度可使用分光光度計而加以測定。作為上述偏光度之具體之測定方法，可測定上述偏光元件之平行透過率(H0
)及正交透過率(H90
)，並根據式：偏光度(%)={(H0
-H90
)/(H0
＋H90
)}1/2
×100而求出。上述平行透過率(H0
)係以相互之吸收軸成為平行之方式使2片相同之偏光元件重疊而製作之平行型積層偏光元件之透過率之值。又，上述正交透過率(H90
)係以相互之吸收軸正交之方式使2片相同之偏光元件重疊而製作之正交型積層偏光元件之透過率之值。再者，該等透過率係利用JIS Z 8701-1982之2度視野(C光源)，進行可見度修正而得之Y值。
D.保護層
保護層、第1保護層、及第2保護層係利用可用作保護偏光元件之膜之任意之適當之保護膜而形成。作為成為該保護膜之主成分之材料之具體例，可列舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可列舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外，例如亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、及側鏈具有經取代或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如可列舉具有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
保護膜之厚度較佳為10 μm~100 μm。保護膜可經由接著層(具體而言，接著劑層、黏著劑層)而積層於偏光元件，亦可密接(不經由接著層)積層於偏光元件。接著劑層係利用任意之適當之接著劑而形成。作為接著劑，例如可列舉以聚乙烯醇系樹脂作為主成分之水溶性接著劑。以聚乙烯醇系樹脂作為主成分之水溶性接著劑較佳為可進而含有金屬化合物膠體。金屬化合物膠體可為於分散介質中分散有金屬化合物微粒子者，可為因微粒子之同種電荷之相互排斥而靜電穩定化，且持久地具有穩定性者。形成金屬化合物膠體之微粒子之平均粒徑只要不會對偏光特性等光學特性造成不良影響，則可為任意之適當之值。較佳為1 nm~100 nm，進而較佳為1 nm~50 nm。其原因在於，可使微粒子均勻地分散於接著劑層中，可確保接著性，且抑制裂點。再者，所謂「裂點」係指於偏光元件與保護膜之界面所產生之局部之凹凸缺陷。黏著劑層包含任意之適當之黏著劑。
E.相位差層
相位差層係如上所述般包含液晶化合物。於光學積層體具有複數層相位差層之情形時，至少任一相位差層包含液晶化合物。
於第1實施形態中，光學積層體具有1層相位差層。相位差層之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm，更佳為130 nm~150 nm。因此，本實施形態之相位差層可作為λ/4板而發揮功能。偏光元件之吸收軸與相位差層之遲相軸所成之角度較佳為39°~51°，更佳為42°~48°，尤佳為約45°。藉此，偏光元件與相位差層可作為圓偏光板而發揮功能。
於第2實施形態中，光學積層體具有第1相位差層與第2相位差層。第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為240 nm~320 nm，更佳為260 nm~300 nm。第2相位差層之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm，更佳為130 nm~150 nm。因此，本實施形態之第1相位差層可作為λ/2板而發揮功能，且第2相位差層可作為λ/4板而發揮功能。偏光元件之吸收軸與第1相位差層之遲相軸所成之角度較佳為5°~25°，更佳為10°~20°，尤佳為約15°。偏光元件之吸收軸與第2相位差層之遲相軸所成之角度較佳為65°~85°，更佳為70°~80°，尤佳為約75°。第1相位差層及第2相位差層中之至少任一者包含液晶化合物。第1相位差層及第2相位差層中之任一者亦可為不含液晶化合物之高分子膜。
於第3實施形態中，第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm，更佳為130 nm~150 nm。第2相位差層之折射率橢球滿足nz＞nx=ny之關係。因此，本實施形態之第1相位差層可作為λ/4板而發揮功能，第2相位差層可作為所謂正C板而發揮功能。偏光元件之吸收軸與第1相位差層之遲相軸所成之角度較佳為39°~51°，更佳為42°~48°，尤佳為約45°。第1相位差層及第2相位差層中之至少任一者包含液晶化合物。第1相位差層及第2相位差層之一者亦可為不含液晶化合物之高分子膜之延伸體。
以下，對第1實施形態~第3實施形態之各實施形態，說明各相位差層之詳細構成。
E-1.第1實施形態之相位差層
相位差層可由液晶化合物之配向固化層所構成。藉由使用液晶化合物，可使所獲得之相位差層之nx與ny之差和非液晶材料相比顯著地增大，故而可顯著地減小用於獲得所需之面內相位差之相位差層之厚度。其結果為，可實現光學積層體(最終為圖像顯示裝置)之進一步之薄型化。於本說明書中，所謂「配向固化層」係指液晶化合物於層內沿特定之方向配向，且其配向狀態被固定之層。於本實施形態中，代表性地棒狀之液晶化合物係於沿相位差層之遲相軸方向排列之狀態下進行配向(水平配向)。作為液晶化合物，例如可列舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為此種液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機制可為向液性亦可為向熱性。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可進行組合。
於液晶化合物為液晶單體之情形時，該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。其原因在於，藉由使液晶單體進行聚合或交聯，可固定液晶單體之配向狀態。於使液晶單體配向後，例如，若使液晶單體彼此進行聚合或交聯，則可藉此固定上述配向狀態。此處，藉由聚合形成聚合物，且藉由交聯形成3維網狀結構，但該等為非液晶性。因此，所形成之相位差層例如不會於液晶性化合物中產生由特有之溫度變化所引起之向液晶相、玻璃相、結晶相之轉移。其結果為，相位差層成為不影響溫度變化且穩定性極優異之相位差層。
液晶單體顯示液晶性之溫度範圍根據其種類而有所不同。具體而言，該溫度範圍較佳為40℃~120℃，進而較佳為50℃~100℃，最佳為60℃~90℃。
作為上述液晶單體，可採用任意之適當之液晶單體。例如可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中所記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可列舉：BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，例如較佳為向列性液晶單體。
液晶化合物之配向固化層可藉由如下方法而形成：對特定之基材之表面實施配向處理，於該表面塗敷包含液晶化合物之塗敷液而使該液晶化合物沿與上述配向處理對應之方向配向，並固定該配向狀態。於一實施形態中，基材為任意之適當之樹脂膜，且形成於該基材上之配向固化層可轉印於偏光元件之表面。
作為上述配向處理，可採用任意之適當之配向處理。具體而言，可列舉：機械配向處理、物理配向處理、化學配向處理。作為機械配向處理之具體例，可列舉摩擦處理、延伸處理。作為物理配向處理之具體例，可列舉磁場配向處理、電場配向處理。作為化學配向處理之具體例，可列舉斜向蒸鍍法、光配向處理。各種配向處理之處理條件視目的可採用任意之適當之條件。
液晶化合物之配向係藉由根據液晶化合物之種類於顯示液晶相之溫度下進行處理而進行。藉由進行此種溫度處理，液晶化合物呈現液晶狀態，且該液晶化合物根據基材表面之配向處理方向而進行配向。
於一實施形態中，配向狀態之固定係藉由將如上所述般進行配向而成之液晶化合物冷卻而進行。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時，配向狀態之固定係藉由對如上所述般進行配向而成之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行。
液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細情況係記載於日本專利特開2006-163343號公報中。該公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。
相位差層之厚度能夠以可獲得所需之面內相位差之方式進行設定，較佳為1 μm~10 μm，更佳為1 μm~6 μm。
E-2.第2實施形態之相位差層
於本實施形態中，如上所述，第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為240 nm~320 nm，第2相位差層之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm。
E-2-1.第1相位差層
第1相位差層可由含有實質上垂直地配向之圓盤型液晶化合物之液晶性組合物之配向固化層所構成。於本說明書中，所謂「圓盤型液晶化合物」係指於分子結構中具有圓板狀之液晶原基，且於該液晶原基上2~8條側差利用醚鍵或酯鍵以放射狀進行鍵結者。作為上述液晶原基，例如可列舉液晶辭典(培風館出版)之P.22、圖1中所記載之結構者。具體而言，為苯、聯三伸苯、參茚并苯(truxene)、吡喃、絳五倍子酸、卟啉、金屬錯合物等。理想地實質上垂直地配向之圓盤型液晶化合物於膜面內之一方向具有光軸。所謂「實質上垂直地配向之圓盤型液晶化合物」係指圓盤型液晶化合物之圓板面垂直於膜平面，且光軸平行於膜平面之狀態者。
含有上述圓盤型液晶化合物之液晶性組合物只要係包含圓盤型液晶化合物，且顯示出液晶性者，則並無特別限制。關於上述液晶性組合物中之圓盤型液晶化合物之含量，相對於液晶性組合物之全部固形物成分100重量份，較佳為40重量份以上且未達100重量份，進而較佳為50重量份以上且未達100重量份，最佳為70重量份以上且未達100重量份。
作為包含含有上述實質上垂直地配向之圓盤型液晶化合物之液晶性組合物之配向固化層之相位差膜，可藉由日本專利特開2001-56411號公報中所記載之方法而獲得。包含含有上述實質上垂直地配向之圓盤型液晶化合物之液晶性組合物之配向固化層之相位差膜藉由沿一個方向進行塗敷，而於與塗敷方向實質上正交之方向，產生膜面內之折射率增大之方向(遲相軸方向)，故而藉由連續塗敷，尤其是其後不進行延伸或收縮處理，可製作沿與長度方向正交之方向具有遲相軸之卷狀之相位差膜。沿與該長度方向正交之方向具有遲相軸之卷狀之相位差膜可於與其他層之積層時進行卷對卷。
第1相位差層之厚度能夠以可獲得所需之面內相位差之方式進行設定，較佳為1 μm~20 μm，更佳為1 μm~12 μm。
E-2-2.第2相位差層
於本實施形態之第2相位差層包含液晶化合物之情形時，例如可藉由上述E-1項中所記載之材料及方法而形成。於第2相位差層不含液晶化合物之情形時，可藉由下述E-2-3項中所記載之材料及方法而形成。
E-2-3.其他
於本實施形態中，第1相位差層及第2相位差層中之任一者可為不含液晶化合物之高分子膜之延伸體。於該情形時，相位差層可包含任意之適當之樹脂膜。作為此種樹脂之代表例，可列舉：聚碳酸酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。
作為上述聚碳酸酯樹脂，只要可獲得本發明之效果，則可使用任意之適當之聚碳酸酯樹脂。較佳為聚碳酸酯樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、及源自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少1種二羥基化合物之結構單元。較佳為聚碳酸酯樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、及源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或源自二、三或聚乙二醇之結構單元；進而較佳為包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、及源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯樹脂視需要亦可含有源自其他二羥基化合物之結構單元。再者，本發明中可適宜地使用之聚碳酸酯樹脂之詳細情況例如係記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報中，該記載係作為參考而引用至本說明書中。
環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元而進行聚合之樹脂之總稱，例如可列舉：日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中所記載之樹脂。作為具體例，可列舉：環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(代表性地為無規共聚物)、及利用不飽和羧酸或其衍生物對該等進行改性而成之接枝改性體、以及該等之氫化物。作為環狀烯烴之具體例，可列舉降莰烯系單體。作為降莰烯系單體，可列舉日本專利特開2015-210459號公報等中所記載之單體。上述環狀烯烴系樹脂於市面上銷售有各種製品。作為具體例，可列舉：日本Zeon公司製造之商品名「ZEONEX」、「Zeonor」、JSR公司製造之商品名「Arton」、TICONA公司製造之商品名「TOPAS」、三井化學公司製造之商品名「APEL」。
構成相位差層之膜可為單片狀，亦可為長條狀。於一實施形態中，相位差層係藉由相對於長條方向沿特定之角度之方向切割沿長條方向延伸之上述樹脂膜而製作。於另一實施形態中，相位差層係藉由相對於長條方向沿特定之角度之方向使長條狀之上述樹脂膜連續地斜向延伸而製作。於進而另一實施形態中，相位差層係藉由使支持基材與積層於該支持基材之樹脂層之積層體斜向延伸，並將經斜向延伸之樹脂層(樹脂膜)轉印於其他層而製作。藉由採用斜向延伸，可獲得相對於膜之長條方向具有特定之角度之配向角(於該角度之方向為遲相軸)之長條狀之延伸膜，例如可於與其他層之積層時進行卷對卷，而可簡化製造步驟。再者，該特定之角度可為偏光元件之吸收軸(長條方向)與相位差層之遲相軸所成之角度。
E-3.第3實施形態之相位差層
於本實施形態中，如上所述，第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為120 nm~160 nm，第2相位差層折射率橢球滿足nz＞nx=ny之關係。
E-3-1.第1相位差層
於本實施形態之第1相位差層包含液晶化合物之情形時，例如可藉由上述E-1項中所記載之材料及方法而形成。於第1相位差層不含液晶化合物之情形時，可藉由上述E-2-3項中所記載之材料及方法而形成。
E-3-2.第2相位差層
本實施形態之第2相位差層如上所述，折射率橢球滿足nz＞nx=ny之關係。第2相位差層代表性地顯示出測定光之波長越大，面內相位差值越大之反波長色散特性。於該情形時，第2相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上且為0.95以下。
第2相位差層只要可滿足上述光學特性，則可包含任意之適當之液晶化合物。此種液晶化合物之詳細情況係記載於日本專利第4186980號公報及日本專利第6055569號公報中。該公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。於一實施形態中，第2相位差層可由下述化學式(I)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，為方便起見係利用嵌段聚合物體表示：重量平均分子量5000)所表示之側鏈型液晶聚合物、及顯示向列型液晶相之聚合性液晶所構成。
[化1]
F.有機EL顯示裝置
上述A至E項中所記載之光學積層體可用於圖像顯示裝置。因此，本發明亦包括使用此種光學積層體之圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置之代表例，可列舉液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置。本發明之實施形態之圖像顯示裝置(有機EL顯示裝置)具備上述A項至E項中所記載之光學積層體。
[實施例]
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不受該等實施例之限定。再者，各特性之測定方法係如下所述。
(1)厚度
使用針盤量規(PEACOCK公司製造之製品名「DG-205」，針盤量規架(製品名「pds-2」))而進行測定。
(2)相位差
使用Axoscan(Axometrics公司製造)而進行測定。測定溫度係設為23℃，測定波長係設為550 nm。
(3)黏著劑層之透過率之測定
剝離實施例及比較例中所獲得之各黏著劑層之離型膜，將黏著劑層安裝於測定用夾具，並利用分光光度計(製品名：U4100，Hitachi High-Technologies股份有限公司製造)進行測定。透過率係測定波長300 nm~780 nm之範圍內之透過率。
(4)附有黏著劑層之膜之透過率之測定
剝離實施例及比較例中所獲得之各附有黏著劑層之膜之離型膜，利用分光光度計(製品名：U4100，Hitachi High-Technologies股份有限公司製造)進行測定。透過率係測定波長350 nm~780 nm之範圍內之透過率。
(5)接著性
自實施例及比較例中所獲得之黏著劑層，切割長度100 mm、寬度20 mm之片材片。繼而，剝離黏著劑層之一離型膜，並貼附PET膜(商品名：Lumirror S-10，厚度：25 μm，Toray股份有限公司製造)(加襯)。其次，剝離另一離型膜，並於2 kg輥、往返一次之壓接條件下壓接於作為試驗板之玻璃板(商品名：鈉鈣玻璃 ♯0050，松浪玻璃工業股份有限公司製造)，而製作由試驗板/黏著劑層(A)/PET膜所構成之樣品。對所獲得之樣品，進行高壓釜處理(50℃、0.5 MPa、15分鐘)，其後，於23℃、50%R.H.之氣氛下放置冷卻30分鐘。放置冷卻後，使用拉伸試驗機(裝置名：自動立體測圖儀 AG-IS，島津製作所股份有限公司製造)，依據JIS Z0237，於23℃、50%R.H.之氣氛下，於拉伸速度300 mm/min、剝離角度180°之條件下，自試驗板剝離黏著片材(黏著劑層/PET膜)，並測定180°剝離接著力(N/20 mm)。
(6)全光線透過率、霧度
自實施例及比較例中所獲得之黏著劑層，剝離一離型膜，並貼合於載玻片(商品名：白研磨 No.1，厚度：0.8~1.0 mm，全光線透過率：92%，霧度：0.2%，松浪玻璃工業股份有限公司製造)。進而剝離另一離型膜，而製作具有黏著劑層(A)/載玻片之層構成之試片。使用霧度計(裝置名：HM-150，村上色彩研究所股份有限公司製造)，對上述試片於可見光範圍內之全光線透過率、霧度值進行測定。
(7)耐光性試驗
向氙耐候性試驗機(裝置名：Atlas Ci4000，DJK股份有限公司製造)中，於將實施例及比較例中所獲得之光學積層體之視認側作為光源側，將波長420 nm下之輸出設定為0.8 W之條件下投入300小時，而測定試驗前後之相位差層之相位差值變化率。
＜製造例1＞
(偏光元件之製作)
使用非晶聚對苯二甲酸乙二酯(A-PET)膜(三菱樹脂公司製造，商品名「NOVACLEAR」，厚度：100 μm)作為樹脂基材。於樹脂基材之單面，於60℃下塗佈聚乙烯醇(PVA)樹脂(日本合成化學工業公司製造，商品名「Gosenol(註冊商標)NH-26」)之水溶液及使之乾燥，而形成厚度7 μm之PVA系樹脂層。使以上述方式所獲得之積層體於液溫30℃之不溶化浴(相對於水100重量份，調配4重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒鐘(不溶化步驟)。繼而，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，調配0.2重量份之碘，並調配2重量份之碘化鉀而獲得之碘水溶液)中浸漬60秒鐘(染色步驟)。繼而，於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配3重量份之碘化鉀，並調配3重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒鐘(交聯步驟)。其後，一面使積層體浸漬於液溫60℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份，調配4重量份之硼酸，並調配5重量份之碘化鉀而獲得之水溶液)中，一面於周速不同之輥間沿縱向(長度方向)進行單軸延伸(步驟B)。於硼酸水溶液中之浸漬時間為120秒，進行延伸直至積層體即將斷裂。其後，於使積層體浸漬於洗淨浴(相對於水100重量，調配3重量份之碘化鉀而獲得之水溶液)中後，利用60℃之溫風進行乾燥(洗淨、乾燥步驟)。以上述方式獲得於樹脂基材上形成有厚度5 μm之偏光元件之積層體。繼而，自偏光元件剝離樹脂基材，於偏光元件之一面，貼合日本專利特開2012-3269號公報中所記載之丙烯酸系透明保護膜作為保護膜，藉此獲得附有保護膜之偏光元件。對上述附有保護膜之偏光元件實施電暈處理而使用。
＜製造例2＞
(構成接著劑層之接著劑A之製作)
混合PLACCEL FA1DDM(Daicel公司製造)50份、丙烯醯基嗎啉(ACMO：註冊商標)(興人公司製造)40份、ARFON UP-1190(東亞合成公司製造)10份、光聚合起始劑(製品名「KAYACURE DETX-S」，日本化藥公司製造)3份、及IRGACURE 907(BASF Japan公司製造)3份而調整接著劑A。
＜製造例3＞
(黏著劑層B之製作)
向具備溫度計、攪拌機、回流冷凝管及氮氣導入管之可分離式燒瓶中，投入丙烯酸丁酯95重量份、丙烯酸5重量份、作為聚合起始劑之偶氮雙異丁腈0.2重量份、及乙酸乙酯233重量份後，流入氮氣，並一面攪拌一面進行氮氣置換約1小時。其後，將燒瓶加熱至60℃，使之反應7小時，而獲得重量平均分子量(Mw)110萬之丙烯酸系聚合物。
向上述丙烯酸系聚合物溶液(將固形物成分設為100重量份)中添加作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(商品名：Coronate L，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)0.8重量份、及矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業股份有限公司製造)0.1重量份，而製備黏著劑組合物(b)(溶液)。
於厚度38 μm之隔離膜(表面經剝離處理之聚對苯二甲酸乙二酯系膜)上，以乾燥後之厚度成為23 μm之方式塗佈所獲得之黏著劑組合物(b)溶液，並於100℃下使之乾燥層3分鐘而去除溶劑，從而獲得黏著劑層。其後，於50℃下加熱48小時而進行交聯處理。以下，將該黏著劑層設為「黏著劑層(B)」。
＜製造例4＞
(構成相位差層之相位差膜A之製作)
對包含醯化纖維素之透明樹脂基材進行鹼皂化處理，繼而，於經鹼皂化處理之醯化纖維素之表面塗佈配向膜塗佈液並進行乾燥，藉此進行λ/2配向處理。繼而，於透明支持體之配向處理面，塗佈包含圓盤型液晶性化合物之塗佈液，並進行加熱及UV照射而使液晶化合物之配向固定化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度2 μm之相位差膜A。相位差膜A之面內相位差Re(550)為246 nm。對所獲得之相位差膜A實施電暈處理而使用。
＜製造例5＞
(構成相位差層之相位差膜B之製作)
於對配向膜進行摩擦處理而成之λ/4配向用透明樹脂基材上，塗佈包含棒狀且聚合性之向列性液晶單體之塗佈液，於保持折射率各向異性之狀態下進行固化，藉此於透明樹脂基材上製作厚度1 μm之相位差膜B。相位差膜B之面內相位差Re(550)為120 nm。對所獲得之相位差膜B實施電暈處理而使用。
＜製造例6＞
(構成相位差層之相位差膜C之製作)
使上述E-3-2項中所記載之上述化學式(I)所表示之側鏈型液晶聚合物20重量份、顯示向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名 Paliocolor LC242)80重量份及光聚合起始劑(Ciba Specialty Chemicals公司製造：商品名Irgacure 907)5重量份溶解於環戊酮200重量份中而製備液晶塗敷液。然後，於利用棒式塗佈機將該塗敷液塗敷於基材膜(降莰烯系樹脂膜：日本Zeon股份有限公司製造，商品名「ZEONEX」)後，於80℃下加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶配向。對該液晶層照射紫外線，使液晶層硬化，藉此於基材上形成成為相位差膜C之液晶固化層(厚度：0.58 μm)。該層之Re(550)為0 nm，Rth(550)為-71 nm(nx：1.5326、ny：1.5326、nz：1.6550)，顯示出nz＞nx=ny之折射率特性。
＜實施例1＞
1.紫外線吸收接著層之製作
1-1.基礎聚合物之製作
向由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)78重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)18重量份、及丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)15重量份所構成之單體混合物中，調配作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮(商品名：Irgacure 184，於波長200~370 nm下具有吸收帶，BASF公司製造)0.035重量份、及2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名：Irgacure 651，於波長200~380 nm下具有吸收帶，BASF公司製造)0.035重量份後，照紫外線射直至黏度(測量條件：BH黏度計No.5轉子，10 rpm，測定溫度30℃)成為約20 Pa・s，而獲得上述單體成分之一部分進行聚合而成之預聚物組合物(聚合率：8%)。其次，向該預聚物組合物中添加己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.15重量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業股份有限公司製造)0.3重量份進行混合，而獲得丙烯酸系黏著劑組合物(a)。
1-2.紫外線吸收接著層組合物(A)之製作
向所獲得之丙烯酸系黏著劑組合物(a)中，添加以固形物成分成為15%之方式溶解於丙烯酸丁酯中而得之2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名：Tinosorb S，表1中之「紫外線吸收劑(b1)」、吸收光譜之最大吸收波長：346 nm，BASF Japan公司製造)0.7重量份(固形物成分重量)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(商品名：Irgacure 819，於波長200~450 nm下具有吸收頻帶，BASF Japan公司製造)0.3重量份、及以固形物成分成為5%之方式溶解於N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)中而得之BONASORB UA3911(商品名，吲哚系化合物，表1中之「色素化合物(c1)」、吸收光譜之最大吸收波長：398 nm，半值寬：48 nm，Orient Chemical Industries股份有限公司製造)0.5重量份(固形物成分重量)並進行攪拌，藉此獲得紫外線吸收接著層組合物(A)。
1-3.黏著劑層(A-1)之製作
以黏著劑層形成後之厚度成為150 μm之方式，將上述紫外線吸收接著層組合物(A)塗佈於離型膜之經剝離處理之膜上，繼而，於該紫外線吸收接著層組合物之表面，貼合離型膜。其後，於照度：6.5 mW/cm2
、光量：1500 mJ/cm2
、峰值波長：350 nm之條件下進行紫外線照射，使紫外線吸收接著層組合物光硬化，而獲得黏著劑層(A-1)。
2.光學積層體之製作
於上述附有保護膜之偏光元件之偏光元件側塗敷接著劑A，以偏光元件之吸收軸與相位差膜A之遲相軸所成之角度成為15°之方式將構成第1相位差層之相位差膜A自透明樹脂基材轉印至接著劑A塗敷面，並進行UV照射(300 mJ/cm2
)而使接著劑A硬化。
繼而，於相位差膜A之與偏光元件相反之側之面塗敷接著劑A，以偏光元件之吸收軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度為75°，且相位差膜A之遲相軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度成為60°之方式將構成第2相位差層之相位差膜B自透明樹脂基材轉印至接著劑A塗敷面，並進行UV照射(300 mJ/cm2
)而使接著劑A硬化，藉此獲得附有相位差層之偏光板。硬化後之接著劑A(第1接著劑層、及第2接著劑層)之厚度為1 μm。
於上述附有相位差層之偏光板之透明保護膜側，積層上述黏著劑層(A-1)。於上述附有相位差層之偏光板之相位差膜B側，積層黏著劑層(B)，而形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A-1)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A-1)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜實施例2＞
偏光元件與相位差膜A之貼合係使用黏著劑層(B)，及相位差膜A與相位差膜B之貼合係使用黏著劑層(B)，除此以外，以與實施例1同樣之方式製作光學積層體。
所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A-1)/附有保護膜之偏光元件/黏著劑層(B)/相位差膜A/黏著劑層(B)/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A-1)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜實施例3＞
1.紫外線吸收接著層之製作
將色素化合物之種類變更為以固形物成分成為10%之方式溶解於N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)中而得之BONASORB UA3912(商品名，吲哚系化合物，表12中之「色素化合物(c2)」、吸收光譜之最大吸收波長：386 nm，半值寬：53 nm，Orient Chemical Industries股份有限公司製造)2.5重量份(固形物成分重量)，且以黏著劑層形成後之厚度成為100 μm之方式進行塗佈，除此以外，以與實施例1同樣之方式形成黏著劑層(A-2)。
2.光學積層體之製作
將積層於上述附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之紫外線吸收接著層變更為黏著劑層(A-2)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。
所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A-2)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A-2)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜實施例4＞
1.紫外線吸收接著層之製作
將實施例1之紫外線吸收劑之種類變更為以固形物成分成為15%之方式溶解於丙烯酸丁酯中而得之2-(2H-苯并***-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名：Tinuvin 928，表1中之「紫外線吸收劑(b2)」、吸收光譜之最大吸收波長：349 nm，BASF Japan公司製造)，且將添加量設為1.5重量份(固形物成分重量)。進而，將色素化合物之種類變更為桂皮酸系化合物(樣品名：SOM-5-0103，表1中之「色素化合物(c3)」、吸收光譜之最大吸收波長：416 nm，半值寬：50 nm，Orient Chemical Industries股份有限公司製造)，並直接添加0.2重量份(固形物成分重量)，且以黏著劑層形成後之厚度成為100 μm之方式進行塗佈，除此以外，以與實施例1同樣之方式形成黏著劑層(A-3)。
2.光學積層體之製作
將積層於上述附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A-3)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。
所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A-3)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜A/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A-3)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜實施例5＞
1.紫外線吸收接著層之製作
將實施例1之紫外線吸收劑(b1)之添加量變更為3.0重量份(固形物成分重量)，將色素化合物之種類設為以固形物成分成為1%之方式溶解於N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)中而得之卟啉系化合物(樣品名：FDB-001，表1中之「色素化合物(c4)」、吸收光譜之最大吸收波長：420 nm，半值寬：14 nm，山田化學工業股份有限公司製造)0.1重量份(固形物成分重量)，且以黏著劑層形成後之厚度成為100 μm之方式進行塗佈，除此以外，以與實施例1同樣之方式形成黏著劑層(A-4)。
2.光學積層體之製作
將積層於上述附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A-4)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。
所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A-4)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A-4)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜實施例6＞
於上述附有保護膜之偏光元件之偏光元件側塗敷接著劑A，以偏光元件之吸收軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度成為45°之方式將構成相位差層之相位差膜B自透明樹脂基材轉印至接著劑A塗敷面，並進行UV照射(300 mJ/cm2
)而使接著劑A硬化，藉此獲得附有相位差層之偏光板。硬化後之接著劑A(第1接著劑層)之厚度為1 μm。
於上述附有相位差層之偏光板之透明保護膜側，積層與實施例1同樣之黏著劑層(A-1)。於上述附有相位差層之偏光板之相位差膜B側，積層黏著劑層(B)，而形成光學積層體。
所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A-1)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A-1)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜實施例7＞
於上述附有保護膜之偏光元件之偏光元件側塗敷接著劑A，以偏光元件之吸收軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度成為45°之方式將構成第1相位差層之相位差膜B自透明樹脂基材轉印至接著劑A塗敷面，並進行UV照射(300 mJ/cm2
)而使接著劑A硬化。繼而，於相位差膜B之與偏光元件相反之側之面塗敷接著劑A，將構成第2相位差層之相位差膜C自透明樹脂基材轉印至接著劑A塗敷面，並進行UV照射(300 mJ/cm2
)而使接著劑A硬化，藉此獲得附有相位差層之偏光板。硬化後之接著劑A(第1接著劑層、及第2接著劑層)之厚度為1 μm。
於上述附有相位差層之偏光板之透明保護膜側，積層與實施例1同樣之黏著劑層(A-1)。於上述附有相差層之偏光板之相位差膜C側，積層黏著劑層(B)，而形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A-1)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜B/接著劑A/相位差膜C/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A-1)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜實施例8＞
於上述附有保護膜之偏光元件之偏光元件側貼合與實施例1同樣之黏著劑層(A-1)，以偏光元件之吸收軸與相位差膜A之遲相軸所成之角度成為15°之方式自透明樹脂基材轉印構成第1相位差層之相位差膜A。繼而，於相位差膜A之與偏光元件相反之側之面貼合黏著劑層(B)，以偏光元件之吸收軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度為75°，且相位差膜A之遲相軸與相位差膜B之遲相軸所成之角度成為60°之方式自透明樹脂基材轉印構成第2相位差層之相位差膜B，而獲得附有相位差層之偏光板。
於上述附有相位差層之偏光板之透明保護膜側，積層黏著劑層(B)。於上述附有相位差層之偏光板之相位差膜B側，積層黏著劑層(B)，而形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(B)/附有保護膜之偏光元件/黏著劑層(A-1)/相位差膜A/黏著劑層(B)/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將與附有保護膜之偏光元件接觸之黏著劑層(B)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例1＞
於實施例1之黏著劑層(A-1)中，均不含紫外線吸收劑(b1)、色素化合物(c1)，且僅設為丙烯酸系黏著劑組合物(a)，除此以外，以與實施例1同樣之方式形成黏著劑層(A1-1)。
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-1)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-1)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-1)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例2＞
將實施例2之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-1)，除此以外，與實施例2同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-1)/附有保護膜之偏光元件/黏著劑層(B)/相位差膜A/黏著劑層(B)/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-1)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例3＞
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(B)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(B)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將與附有保護膜之偏光元件接觸之黏著劑層(B)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例4＞
於實施例1之黏著劑層(A-1)中，不含色素化合物(c1)，且以黏著劑層形成後之厚度成為100 μm之方式進行塗佈，除此以外，以與實施例1同樣之方式形成黏著劑層(A1-2)。
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-2)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-2)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-2)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例5＞
於實施例4之黏著劑層(A-3)中，不含色素化合物(c3)，且以黏著劑層形成後之厚度成為150 μm之方式進行塗佈，除此以外，以與實施例4同樣之方式形成黏著劑層(A1-3)。
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-3)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-3)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-3)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例6＞
於實施例1之黏著劑層(A-1)中，不含紫外線吸收劑(b1)，且將色素化合物(c1)之添加量設為0.3重量份(固形物成分重量)，且以黏著劑層形成後之厚度成為100 μm之方式進行塗佈，除此以外，以與實施例1同樣之方式形成黏著劑層(A1-4)。
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-4)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-4)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-4)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例7＞
於實施例3之黏著劑層(A-2)中，不含紫外線吸收劑(b1)，且將色素化合物(c2)之添加量設為0.5重量份(固形物成分重量)，除此以外，以與實施例3同樣之方式形成黏著劑層(A1-5)。
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-5)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-5)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-5)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例8＞
於實施例4之黏著劑層(A-3)中，不含紫外線吸收劑(b2)，除此以外，以與實施例4同樣之方式形成黏著劑層(A1-6)。
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-6)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-6)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-6)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例9＞
於實施例5之黏著劑層(A-4)中，不含紫外線吸收劑(b1)，除此以外，以與實施例5同樣之方式形成黏著劑層(A1-7)。
將實施例1之積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-7)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-7)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-7)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例10＞
於實施例6之光學積層體中，將積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-1)，除此以外，與實施例6同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-1)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層(A1-1)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例11＞
於實施例7之光學積層體中，將積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(A1-1)，除此以外，與實施例7同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(A1-1)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜B/接著劑A/相位差膜C/黏著劑層(B)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將黏著劑層A1-1側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
＜比較例12＞
於實施例1之光學積層體中，將積層於附有相位差層之偏光板之透明保護膜側之黏著劑層變更為黏著劑層(B)，將積層於相位差膜B側之黏著劑層變更為黏著劑層(A-1)，除此以外，與實施例1同樣地形成光學積層體。所獲得之光學積層體具有黏著劑層(B)/附有保護膜之偏光元件/接著劑A/相位差膜A/接著劑A/相位差膜B/黏著劑層(A-1)之構成。關於所獲得之光學積層體，係將與附有保護膜之偏光元件接觸之黏著劑層(B)側作為光源側，進行耐光性試驗。將耐光性試驗之結果及較相位差膜位於更靠視認側之接著層中之紫外線吸收能力最大之接著層之特性示於表1。
[表1] 
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可適宜地用於有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置。
10‧‧‧紫外線吸收接著層
20‧‧‧保護層
21‧‧‧第1保護層
22‧‧‧第2保護層
30‧‧‧偏光元件
40‧‧‧相位差層
41‧‧‧第1相位差層
42‧‧‧第2相位差層
100‧‧‧光學積層體
101‧‧‧光學積層體
102‧‧‧光學積層體
103‧‧‧光學積層體
104‧‧‧光學積層體
圖1為本發明之一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。
圖2為本發明之另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。
圖3為本發明之進而另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。
圖4為本發明之進而另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。
圖5為本發明之進而另一實施形態之光學積層體之概略剖視圖。
10‧‧‧紫外線吸收接著層
20‧‧‧保護層
30‧‧‧偏光元件
40‧‧‧相位差層
100‧‧‧光學積層體
Claims (11)
- 一種光學積層體，其具有紫外線吸收接著層、保護層、偏光元件、及相位差層，且上述相位差層包含液晶化合物之配向固化層，上述紫外線吸收接著層及上述偏光元件係配置於較上述相位差層更靠視認側，上述紫外線吸收接著層包含基礎聚合物、紫外線吸收劑、及吸收光譜之最大吸收波長存在於380nm~430nm之波長區域之色素化合物，上述液晶化合物之配向固化層包含液晶單體所聚合之聚合物，且液晶單體之配向狀態被固定，依序配置有上述紫外線吸收接著層、上述保護層、及上述偏光元件，上述偏光元件之厚度為15μm以下。
- 如請求項1之光學積層體，其中上述基礎聚合物為(甲基)丙烯酸系聚合物。
- 如請求項1或2之光學積層體，其中上述紫外線吸收劑之吸收光譜之最大吸收波長存在於300nm~400nm之波長區域。
- 如請求項1或2之光學積層體，其中上述紫外線吸收接著層之波長300nm~400nm之平均透過率為5%以下，波長400nm~430nm之平均透過率 為30%以下，波長450nm~500nm之平均透過率為70%以上，波長500nm~780nm之平均透過率為80%以上。
- 如請求項1或2之光學積層體，其中上述相位差層之面內相位差Re(550)為120nm~160nm，此處，Re(550)表示利用23℃下之波長550nm之光測定之面內相位差。
- 如請求項1或2之光學積層體，其具有第1相位差層與第2相位差層作為上述相位差層，且上述第1相位差層及上述第2相位差層中之至少一者包含液晶化合物，上述紫外線吸收接著層配置於較上述第1相位差層及上述第2相位差層中之包含液晶化合物之相位差層更靠視認側。
- 如請求項6之光學積層體，其自視認側起依序配置有上述紫外線吸收接著層、上述保護層、上述偏光元件、上述第1相位差層、及上述第2相位差層。
- 如請求項6之光學積層體，其自視認側起依序配置有上述紫外線吸收接著層、第1保護層、上述偏光元件、第2保護層、上述第1相位差層、及上述第2相位差層。
- 如請求項6之光學積層體，其中上述第1相位差層之面內相位差Re(550)為240nm~320nm，此處，Re(550)表示利用23℃下之波長550nm之光測定之面內相位差。
- 如請求項6之光學積層體，其中上述第2相位差層之面內相位差Re(550)為120nm~160nm，此處，Re(550)表示利用23℃下之波長550nm之光測定之面內相位差。
- 一種有機EL顯示裝置，其具有如請求項1至10中任一項之光學積層體。
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