TWI802645B - 附抗反射層之偏光板及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種即便放置於高溫高濕環境下亦能夠抑制外觀不良(黃色不均、白化)之產生之附抗反射層之偏光板。本發明之附抗反射層之偏光板具備：偏光板，其具有偏光元件及設置於偏光元件之一側之保護層；基材，其貼合於保護層；及抗反射層，其直接形成於基材。該基材及保護層包含樹脂，且基於該樹脂與油酸之漢森溶解度參數之相對能量差RED為1.05以上。於本發明之實施形態中，該附抗反射層之偏光板之透濕度為0.2 g/m2 /24 h以下，並且該基材之透濕度為150 g/m2 /24 h以下。

Description

附抗反射層之偏光板及其製造方法
本發明係關於一種附抗反射層之偏光板及其製造方法。
於圖像顯示裝置(例如，液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、量子點顯示裝置)中，因其圖像形成方式之原因，故於大多情形時，於顯示單元之至少一側配置有偏光板。廣泛知曉於配置於圖像顯示裝置之視認側之偏光板中，為了防止外界光映入至顯示畫面，而於該視認側設置抗反射層(實施抗反射處理)。於對基材實施抗反射處理而形成抗反射層之情形時，可使抗反射層之厚度變薄，且可有助於偏光板之薄型化。於該抗反射層中，於抗反射層表面容易產生損傷。其結果，存在因將具有此種抗反射層之偏光板放置於高溫高濕環境下，而產生損傷附近之部分與其他部分之色相差被視認為不均之外觀不良(黃色不均)之情形。又，於在基材上形成有抗反射層之附抗反射層之偏光板中，基材之耐化學品性存在改善之餘地，且存在於高溫高濕環境下發生偏光板白化之外觀不良之情形。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2012-27322號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述問題而完成者，其主要目的在於提供一種即便於高溫高濕環境下亦能夠抑制外觀不良(例如，黃色不均及白化)之產生之附抗反射層之偏光板。 [解決問題之技術手段]
本發明之附抗反射層之偏光板具備：偏光板，其具有偏光元件及設置於該偏光元件之一側之保護層；基材，其貼合於該保護層；及抗反射層，其直接形成於該基材。上述基材及保護層包含樹脂。基於該樹脂與油酸之漢森(Hansen)溶解度參數之相對能量差RED為1.05以上。該附抗反射層之偏光板之透濕度為0.2 g/m2 /24 h以下，該基材之透濕度為150 g/m2 /24 h以下。 於一實施形態中，上述基材及上述保護層包含選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、及聚酯系樹脂所組成之群中至少1種樹脂。 於一實施形態中，該附抗反射層之偏光板於65℃及90%RH下保持72小時後之單體色相b值之變化量之差Δ為1.0以下，並且於65℃及90%RH下保持120小時後之單體色相b值之變化量之差Δ為0.8以下。 於本發明之另一樣態中，提供一種附抗反射層之偏光板之製造方法。該製造方法包含：製作包含偏光元件及保護層之偏光元件積層體；於基材形成抗反射層，製作抗反射積層體；及於該偏光元件積層體之保護層表面貼合該抗反射積層體之基材。 於一實施形態中，上述抗反射層係藉由濺鍍而形成。 [發明之效果]
根據本發明，藉由使用包含基於樹脂與油酸之漢森溶解度參數之相對能量差RED為1.05以上之樹脂者作為抗反射層之基材及偏光板之保護層，並且將附抗反射層之偏光板之透濕度設為0.2 g/m2 /24 h以下、將供抗反射層形成之基材之透濕度設為150 g/m2 /24 h以下，而可實現即便於高溫高濕環境下外觀不良(黃色不均及白化)之產生亦得到抑制之附抗反射層之偏光板。進而，亦可維持附抗反射層之偏光板之光學可靠性。
以下，針對本發明之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
A.附抗反射層之偏光板之整體構成 圖1係本發明之一實施形態之附抗反射層之偏光板之概略剖視圖。附抗反射層之偏光板100依序具備：具有偏光元件11及保護層12之偏光板10、基材20、及抗反射層30。基材20具代表性的是經由任意適當之接著層(接著劑層、黏著劑層：未圖示)貼合於偏光板20之保護層12。接著層具代表性的是丙烯酸系黏著劑層。抗反射層30直接形成於基材20。於本說明書中，「直接」係指未介隔接著層。於一實施形態中，基材20亦可於抗反射層30側之表面具有硬塗層及/或密接層(均未圖示)。該構成亦包含於「抗反射層直接形成於基材」之形態。亦可根據需要於抗反射層30之表面設置防污層(未圖示)。
於本發明之實施形態中，上述附抗反射層之偏光板之透濕度為0.2 g/m2 /24 h以下，較佳為0.15 g/m2 /24 h以下，更佳為0.1 g/m2 /24 h以下。又，附抗反射層之偏光板之透濕度例如為0.001 g/m2 /24 h以上。又，上述基材之透濕度為150 g/m2 /24 h以下，較佳為100 g/m2 /24 h以下，更佳為10 g/m2 /24 h以下。再者，基材之透濕度越低則越佳，理想為0 g/m2 /24 h。藉由以此方式將供抗反射層直接形成之基材之透濕度與所獲得之附抗反射層之偏光板之透濕度設為適當之範圍，即便於將附抗反射層之偏光板放置於高溫高濕環境下之情形時，亦可防止如黃色不均之外觀不良之產生。
於圖示例中，僅於偏光元件11之一側設置有保護層12，但亦可根據目的，於與保護層12為相反之側設置另一保護層。於此情形時，可於偏光元件之兩側設置有保護層，亦可省略保護層12而僅設置另一保護層。於僅設置另一保護層之情形時，基材30可作為視認側保護層發揮功能。進而，亦可根據目的設置任意適當之功能層。作為功能層之代表例，可列舉相位差層及導電層。功能層之種類、數量、組合、配置位置、特性(例如，如折射率特性、面內相位差、厚度方向相位差、Nz係數之光學特性)可根據目的適當地設定。於一實施形態中，可於偏光元件11之與保護層12為相反之側設置具有nx＞ny＞nz之折射率特性之第1相位差層(未圖示)。於此情形時，較佳為可進而於第1相位差層之與偏光元件為相反之側設置具有nz＞nx＞ny之折射率特性之第2相位差層。第1相位差層亦可兼用作與偏光元件之視認側為相反側之保護層。於設置相位差層之情形時，相位差層之遲相軸(存在時)與偏光元件之吸收軸所成之角度可根據目的、相位差層之面內相位差、厚度方向相位差、折射率特性等適當設定。進而，亦可於偏光元件11之與保護層12為相反之側設置導電層。藉由於此種位置設置導電層，附抗反射層之偏光板可較佳地用於內觸控面板型輸入顯示裝置。於此情形時，相位差層可存在，亦可不存在。
附抗反射層之偏光板100較佳為於65℃及90%RH下放置72小時後之有損傷之部分之單體色相b值之變化量與無損傷之部分之單體色相b值之變化量之差Δ為1.0以下。進而，附抗反射層之偏光板100較佳為於65℃及90%RH下放置120小時後之單體色相b值之變化量之差Δ為0.6以下。若附抗反射層之偏光板之單體色相b值之變化量之差Δ為此種範圍，則抗反射層中有損傷之部分與無損傷之部分之色相差較小，能夠防止由被視認為黃色不均所導致之外觀不良之產生。再者，於本說明書中，單體色相b值係指美國國家標準局(NBS)所規定之單體色相。又，於本說明書中，單體色相b值之變化量係指初始值(於放置於65℃及90%RH之加濕條件下之前之狀態下測得之單體色相b值)與於65℃及90%RH之加濕條件下放置特定之時間後測得之單體色相b值之差。單體色相b值之變化量及變化量之差Δ可根據藉由實施例所記載之方法測得之單體色相b值算出。
上述偏光板10之保護層12及基材20包含樹脂，基於樹脂與油酸之漢森溶解度參數之相對能量差RED為1.05以上。藉由保護層12及基材20包含此種樹脂，附抗反射層之偏光板之耐化學品性提高，且能夠防止於高溫高濕環境下之附抗反射層之偏光板之白化。RED較佳為1.3以上，更佳為1.5以上。
漢森溶解度參數(以下，亦稱為HSP值)將希耳德布蘭德(Hildebrand)溶解度參數分割為分散力(δD )、永久偶極分子間力(δP )、氫鍵力(δH )3個成分，並以繪製於三維空間之向量表示該等。可判斷該向量相似者彼此之溶解性高。即，可根據彼此之HSP值之距離(HSP距離)判斷溶解性之類似度。漢森溶解度參數之定義與計算記載於Charles M.Hansen著之Hansen Solubility Parameters：A Users Handbook (CRC Press，2007年)。
HSP值針對各種樹脂及溶劑具有公知之值，可直接使用該等值，亦可使用作為電腦軟體之HSPiP(Hansen Solubility Parameters in Practice)算出之值。再者，該HSPiP亦具備樹脂及溶劑之資料庫。於本說明書中，使用漢森(Hansen)溶解度球法按以下順序算出使用HSPiP形成樹脂膜之樹脂之HSP值。首先，使用溶解度參數已知之溶劑對成為評估對象之樹脂進行溶解性評估。於本說明書中，分別使用甲基乙基酮(MEK)作為良溶劑，使用正己烷、甲醇、三氯苯、及γ-丁內酯作為不良溶劑，並對在該等良溶劑與不良溶劑之混合溶劑中之溶解性進行評估。評估方法之詳情如下述之實施例所記載。繼而，根據所獲得之溶解性評估之結果，使用HSPiP算出δD 、δP 、δH 並進行三維繪製，根據該等之座標求出漢森溶解度球。該漢森溶解度球之中心座標係作為評估對象之樹脂之HSP值，漢森溶解度球之半徑係樹脂之相互作用半徑R0 。
樹脂與油酸之相對能量差RED可藉由式(1)算出。 相對能量差RED＝Ra/R0 (1) (式(1)中，Ra為樹脂之HSP值與油酸之HSP值之距離，R0 為樹脂之相互作用半徑)。 又，樹脂(HSP值：δDP 、δPP 、δHP )與油酸(HSP值：δDO 、δPO 、δHO )之HSP距離Ra可藉由式(2)算出。 Ra＝｛4×(δDP －δDO )2 ＋(δPP －δPO )2 ＋(δHP －δHO )2 ｝1/2 (2) (式(2)中，δDP 表示樹脂之分散力，δPP 表示樹脂之永久偶極分子間力，δHP 表示樹脂之氫鍵力，δDO 表示油酸之分散力，δPO 表示油酸之永久偶極分子間力，δHO 表示油酸之氫鍵力)。
以下，對附抗反射層之偏光板之構成要素進行說明。
B.偏光板 本發明之附抗反射層之偏光板具有偏光元件及設置於該偏光元件之一側之保護層。於本發明之實施形態中，偏光板10之含水率較佳為0.5重量%以上，更佳為0.6重量%以上，進而較佳為0.8重量%以上，特佳為1.0重量%以上。偏光板之含水率例如為1.5重量%以下。該含水率高於通常之附抗反射層之偏光板中之偏光板之含水率。藉由偏光板具有此種較高之含水率，於高溫高濕環境下之偏光板之吸濕膨脹能夠顯著地得到抑制。其結果，於高溫高濕環境下之偏光板之尺寸變化(尤其是偏光元件之吸收軸方向之尺寸變化)能夠顯著地得到抑制。例如，本發明之實施形態之附抗反射層之偏光板於65℃及90%RH下保持500小時後之偏光元件之吸收軸方向之尺寸變化率較佳為未達0.10%，更佳為0.08%以下，進而較佳為0.06%以下。進而，藉由偏光板具有此種較高之含水率，本發明之實施形態之附抗反射層之偏光板即便於高溫高濕環境下產生捲曲，該捲曲之朝向亦會成為與通常相反之方向。具體而言，本發明之實施形態之附抗反射層之偏光板於65℃及90%RH下保持500小時後可能產生之捲曲於與抗反射層為相反之側(與視認側為相反之側)凸起。再者，於通常之附抗反射層之偏光板中，於大多情形時，捲曲於抗反射層側凸起。其結果，本發明之實施形態之附抗反射層之偏光板即使產生了捲曲，對圖像顯示裝置造成之不良影響亦有可能變小。如此，藉由利用偏光板具有高含水率所獲得之尺寸變化之抑制與捲曲方向之協同效應，本發明之實施形態之附抗反射層之偏光板於應用於圖像顯示裝置之情形時，能夠顯著地抑制於高溫高濕環境下之翹曲、剝離、及/或顯示特性之降低。
B-1.偏光元件 偏光元件11具代表性的是包括包含二色性物質之樹脂膜。
作為樹脂膜，可採用能夠用作偏光元件之任意適當之樹脂膜。樹脂膜具代表性的是聚乙烯醇系樹脂(以下，稱為「PVA系樹脂」)膜。
作為形成上述PVA系樹脂膜之PVA系樹脂，可使用任意適當之樹脂。例如可列舉：聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而獲得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而獲得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%～100莫耳%，較佳為95.0莫耳%～99.95莫耳%，進而較佳為99.0莫耳%～99.93莫耳%。皂化度可根據JIS K 6726-1994求出。藉由使用此種皂化度之PVA系樹脂，可獲得耐久性優異之偏光元件。於皂化度過高之情形時，有凝膠化之虞。
PVA系樹脂之平均聚合度可根據目的適當地進行選擇。平均聚合度通常為1000～10000，較佳為1200～4500，進而較佳為1500～4300。再者，平均聚合度可根據JIS K 6726-1994求出。
作為樹脂膜中所包含之二色性物質，例如可列舉碘、有機染料等。該等可單獨使用或組合2種以上使用。較佳為使用碘。
樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為2層以上之積層體。
作為包含單層之樹脂膜之偏光元件之具體例，可列舉對PVA系樹脂膜實施利用碘之染色處理及延伸處理(代表性的是單軸延伸)而得者。上述利用碘之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可於延伸後進行染色。根據需要，可對PVA系樹脂膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由於染色之前將PVA系樹脂膜浸漬於水中進行水洗，不僅能夠洗淨PVA系膜表面之污垢或抗結塊劑，而且能夠使PVA系樹脂膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由以下方式進行製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色，將PVA系樹脂層作為偏光元件。於本實施形態中，延伸具代表性的是包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中而延伸。進而，延伸根據需要可進而包含於硼酸水溶液中之延伸前以高溫(例如，95℃以上)對積層體進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，亦可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，並於該剝離面積層根據目的之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳情記載於例如日本專利特開2012-73580號公報。該公報之整體記載作為參考援引至本說明書中。
偏光元件之厚度較佳為15 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～10 μm，特佳為3 μm～8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍，則可有助於附抗反射層之偏光板(結果為圖像顯示裝置)之薄型化。進而，能夠良好地抑制加熱時之捲曲，獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率較佳為43.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層 作為保護層12，可使用樹脂膜。作為樹脂膜之形成材料，可使用基於樹脂與油酸之漢森溶解度參數之相對能量差RED為1.05以上之樹脂。作為樹脂與油酸之相對能量差RED為1.05以上之樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、環烯烴系樹脂。於使用丙烯酸系樹脂之情形時，較佳為使用包含改性骨架之丙烯酸系樹脂。作為改性骨架，可列舉內酯環結構、順丁烯二酸酐骨架、丙烯腈骨架、苯乙烯骨架等。該改性骨架以任意適當之比率包含於丙烯酸系樹脂中，使樹脂與油酸之相對能量差RED成為1.05以上。該等樹脂之具體例如C項(基材)所記載。再者，「(甲基)丙烯酸系樹脂」係指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。
又，於附抗反射層之偏光板100中，亦可於偏光元件11之未積層保護層12之面形成其他保護層。作為形成該保護層之樹脂，例如可列舉：(甲基)丙烯酸系樹脂、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系樹脂、降𦯉烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等之共聚物樹脂等。
於一實施形態中，作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(以下，亦稱為戊二醯亞胺樹脂)例如記載於日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328329號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報、日本專利特開2007-009182號公報、日本專利特開2009-161744號公報、日本專利特開2010-284840號公報。該等記載作為參考援引至本說明書中。
保護層12之透濕度較佳為1.0 g/m2 /24 h以下，更佳為0.8 g/m2 /24 h以下，進而較佳為0.6 g/m2 /24 h以下，特佳為0.4 g/m2 /24 h以下。若保護層之透濕度為此種範圍，則可進一步抑制於高溫高濕環境下之尺寸變化。
保護層之厚度具代表性的是10 μm～100 μm，較佳為20 μm～40 μm。保護層具代表性的是經由接著層(具體而言係接著劑層、黏著劑層)積層於偏光元件。接著劑層具代表性的是由PVA系接著劑或活化能量線硬化型接著劑形成。黏著劑層具代表性的是由丙烯酸系黏著劑形成。
C.基材 C-1.基材本體 基材20用於形成抗反射層30。如下所述，藉由於基材形成抗反射層，並使基材/抗反射層之積層體貼合於偏光板，而無需將偏光板提供於抗反射層形成製程(代表性的是濺鍍)。其結果，由於偏光板不會曝露於高溫下，因此能夠將偏光板之含水率維持於上述所需之範圍內。
如上所述，基材之透濕度為150 g/m2 /24 h以下。藉由基材之透濕度為150 g/m2 /24 h以下，即便於直接形成於基材上之抗反射層之表面受損之情形時，亦能夠防止自損傷部分侵入之水蒸氣到達偏光元件。因此，能夠防止僅對位於損傷部分之正下方之偏光元件促進加濕，抑制位於有損傷之部分之正下方之偏光元件與其他部分(位於無損傷之部分之正下方之偏光元件)產生色相差，結果能夠防止外觀不良(黃色不均)之產生。
作為基材，可使用樹脂膜。作為形成樹脂膜之樹脂，可使用基於樹脂與油酸之漢森溶解度參數之相對能量差RED為1.05以上之樹脂。作為樹脂與油酸之相對能量差RED為1.05以上之樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、環烯烴系樹脂。於使用丙烯酸系樹脂之情形時，較佳為使用包含改性骨架之丙烯酸系樹脂。作為改性骨架，可列舉內酯環結構、順丁烯二酸酐骨架、丙烯腈骨架、苯乙烯骨架等。該改性骨架以任意適當之比率包含於丙烯酸系樹脂中，使樹脂與油酸之相對能量差RED成為1.05以上。形成作為基材之樹脂膜之樹脂與形成作為上述保護層之樹脂膜之樹脂可相同，亦可不同。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降𦯉基酯共聚物等)、具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為環烯烴系樹脂，可較佳地使用降𦯉烯系樹脂。作為降𦯉系樹脂，例如可列舉：降𦯉烯系單體之開環(共)聚合物、降𦯉烯系單體之加成聚合物、降𦯉烯系單體與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(代表性的是無規共聚物)、及以不飽和羧酸或其衍生物將該等改性而得之接枝改性體、以及該等之氫化物。作為降𦯉烯系單體，例如可列舉：降𦯉烯、及其烷基及/或亞烷基取代體、例如5-甲基-2-降𦯉烯、5-二甲基-2-降𦯉烯、5-乙基-2-降𦯉烯、5-丁基-2-降𦯉烯、5-亞乙基-2-降𦯉烯等、該等之鹵素等極性基取代體；二環戊二烯、2,3-二氫二環戊二烯等；二亞甲基八氫化萘、其烷基及/或亞烷基取代體、及鹵素等極性基取代體、例如6-甲基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘、6-乙基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘、6-亞乙基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘、6-氯-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘、6-氰基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘、6-吡啶基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘、6-甲氧基羰基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘等；環戊二烯之三聚物～四聚物、例如4,9:5,8-二亞甲基-3a,4,4a,5,8,8a,9,9a-八氫基-1H-芴、4,11:5,10:6,9-三亞甲基-3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a-十二氫基-1H-環戊并蒽等。
作為上述聚酯系樹脂，例如可列舉：PET(聚對苯二甲酸乙二酯)、PAR(聚芳酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二酯)、PBT(聚對苯二甲酸丁二酯)、該等之改性物或共聚物、該等與其他樹脂之混合體(聚合物合金)。較佳為使用PET。
又，作為基材，亦可使用無機玻璃或具有由上述RED為1.05以上之樹脂形成之樹脂層與無機玻璃層之積層體。作為構成無機玻璃膜之無機玻璃，可採用任意適當之無機玻璃。無機玻璃根據組成之分類，例如可列舉：鈉鈣玻璃、硼酸玻璃、鋁矽酸玻璃、石英玻璃。根據鹼性成分之分類，可列舉無鹼玻璃、低鹼玻璃。無機玻璃之鹼金屬成分(例如，Na2 O、K2 O、Li2 O)之含量較佳為15重量%以下，更佳為10重量%以下。
無機玻璃膜可直接使用市售品，亦可將市售之無機玻璃膜研磨成所需之厚度而使用。作為市售品之具體例，可列舉：康寧公司製造之「Willow Glass」、「7059」、「1737」或「EAGLE2000」、旭硝子公司製造之「AN100」、NH TECHNO GLASS公司製造之「NA-35」、Nippon Electric Glass公司製造之「G-Leaf」或「OA-10」、Schott公司製造之「D263」或「AF45」。
關於無機玻璃膜、及具有樹脂層與無機玻璃層之積層體之詳情，例如記載於日本專利特開2010-132526號公報、日本專利特開2010-284964號公報、日本專利特開2011-016708號公報、日本專利特開2011-088789號公報、日本專利特開2011-104998號公報、日本專利特開2014-000815號公報、日本專利特開2015-193227號公報，該等公報之記載作為參考援引至本說明書中。
基材之厚度可根據目的適當設定。基材之厚度通常為20 μm～200 μm，較佳為25 μm～100 μm。於使用無機玻璃膜作為基材之情形時，基材之厚度具代表性的是10 μm～100 μm。
C-2.硬塗層 如上所述，亦可於基材之抗反射層側之表面形成有硬塗層。藉由形成硬塗層，具有能夠提高基材與抗反射層之密接性之優點。進而，藉由適當調整硬塗層與抗反射層之折射率差，可使反射率進一步降低。
硬塗層較佳為具有充分之表面硬度、優異之機械強度、及優異之透光性。硬塗層只要具有此種所需之特性，則可由任意適當之樹脂形成。作為樹脂之具體例，可列舉：熱硬化型樹脂、熱塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂、二液混合型樹脂。較佳為紫外線硬化型樹脂。其原因在於能夠以簡便之操作及高效率形成硬塗層。
作為紫外線硬化型樹脂之具體例，可列舉聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、醯胺系、矽酮系、環氧系之紫外線硬化型樹脂。紫外線硬化型樹脂中包含紫外線硬化型之單體、低聚物、聚合物。作為較佳之紫外線硬化型樹脂，可列舉包含較佳為具有2個以上、更佳為3個～6個紫外線聚合性官能基之丙烯酸系單體成分或低聚物成分之樹脂組合物。代表性而言，於紫外線硬化型樹脂中調配有光聚合起始劑。
硬塗層可藉由任意適當之方法而形成。例如，硬塗層可藉由於基材上塗佈硬塗層形成用樹脂組合物，使其乾燥，對經乾燥之塗佈膜照射紫外線使其硬化而形成。
硬塗層之厚度例如為0.5 μm～20 μm，較佳為1 μm～15 μm。
關於硬塗層、及硬塗層與抗反射層之密接結構之詳情，記載於例如日本專利特開2016-224443號公報。該公報之記載作為參考援引至本說明書中。
D.抗反射層 作為抗反射層之構成，可採用任意適當之構成。作為抗反射層之代表性之構成，可列舉：(1)光學膜厚為120 nm～140 nm且折射率為1.35～1.55左右之低折射率層之單層；(2)自基材側依序具有中折射率層、高折射率層及低折射率層之積層體；(3)高折射率層與低折射率層之交替多層積層體。
作為可形成低折射率層之材料，例如可列舉：氧化矽(SiO2 )、氟化鎂(MgF2 )。低折射率層之折射率具代表性的是1.35～1.55左右。作為可形成高折射率層之材料，例如可列舉：氧化鈦(TiO2 )、氧化鈮(Nb2 O3 或Nb2 O5 )、摻錫氧化銦(ITO)、摻銻氧化錫(ATO)、ZrO2 -TiO2 。高折射率層之折射率具代表性的是1.60～2.20左右。作為可形成中折射率層之材料，例如可列舉：氧化鈦(TiO2 )、可形成低折射率層之材料與可形成高折射率層之材料之混合物(例如，氧化鈦與氧化矽之混合物)。中折射率層之折射率具代表性的是1.50～1.85左右。低折射率層、中折射率層及高折射率層之厚度可以實現與抗反射層之層構造、所需之抗反射性能等對應之適當之光學膜厚之方式設定。
抗反射層具代表性的是藉由乾式製程而形成。作為乾式製程之具體例，可列舉：PVD(Physical Vapor Deposition，物理氣相沈積)法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法。作為PVD法，可列舉：真空蒸鍍法、反應性蒸鍍法、離子束輔助法、濺鍍法、離子鍍覆法。作為CVD法，可列舉電漿CVD法。較佳為濺鍍法。其原因在於可實現膜厚不均小、更均勻之成膜。
抗反射層之厚度例如為20 nm～300 nm左右。
抗反射層於波長400 nm～700 nm之範圍內之最大反射率與最小反射率之差較佳為2.0%以下，更佳為1.9%以下，進而較佳為1.8%以下。若最大反射率與最小反射率之差為此種範圍，則能夠良好地防止反射光之色差。
根據需要，可於抗反射層之表面設置防污層。防污層例如包含含氟基之矽烷系化合物(例如，具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物)或含氟基之有機化合物。防污層較佳為顯示水接觸角為110度以上之撥水性。
E.附抗反射層之偏光板之製造方法 本發明之一實施形態之附抗反射層之偏光板之製造方法包含以下步驟：製作包含偏光元件及保護層之偏光元件積層體；於基材形成抗反射層，製作抗反射積層體；及於該偏光元件積層體之保護層表面貼合該抗反射積層體之基材。
偏光元件積層體可藉由任意適當之方法而製作。於使用由單層之樹脂膜構成之偏光元件之情形時，只要使偏光元件與構成保護層之樹脂膜經由任意適當之接著層(接著劑層或黏著劑層)貼合即可。於使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體之情形時，亦可對該積層體進行染色及延伸處理後將PVA系樹脂層作為偏光元件，將該積層體直接用作偏光元件積層體。或，亦可於該積層體之偏光元件表面貼合構成保護層之樹脂膜而使用。於此情形時，樹脂基材可剝離，亦可不剝離。於使用利用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件之情形時，亦可如上述B-1項所記載般(例如日本專利特開2012-73580號公報所記載般)製作樹脂基材/偏光元件之積層體，並將該積層體直接用作偏光元件積層體。或，亦可於該積層體之偏光元件表面貼合構成保護層之樹脂膜而使用。於此情形時，樹脂基材可剝離，亦可不剝離。
抗反射積層體藉由於基材形成抗反射層而製作。形成抗反射層時，亦可根據需要預先對基材施加表面處理。作為表面處理，例如可列舉：低壓電漿處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或鹼處理。或，亦可於基材表面形成例如包含SiOx之密接層。如上所述，抗反射層具代表性的是藉由乾式製程(例如濺鍍)而形成。例如，於抗反射層為高折射率層與低折射率層之交替多層積層體之情形時，藉由濺鍍於基材表面依序製膜例如Nb2 O5 膜(高折射率層)、SiO2 膜(低折射率層)、Nb2 O5 膜(高折射率層)、及SiO2 膜(低折射率層)，藉此可形成抗反射層。
最後，藉由將抗反射積層體之基材經由任意適當之接著層(例如接著劑層、黏著劑層)貼合於偏光元件積層體之保護層表面，可獲得附抗反射層之偏光板。由上述說明可知，根據此種製造方法，並未將偏光板提供於抗反射層之形成製程(乾式製程)。因此，由於偏光板不曝露於高溫下，故可將偏光板之含水率維持於上述所需之範圍。其結果，所獲得之附抗反射層之偏光板於高溫高濕環境下之尺寸變化得到抑制，且即便於假設產生了捲曲之情形時，該捲曲之朝向於與視認側為相反之側凸起。藉此，於將附抗反射層之偏光板應用於圖像顯示裝置之情形時，能夠顯著地抑制於高溫高濕環境下之翹曲、剝離、及/或顯示特性之降低。
F.圖像顯示裝置 本發明之實施形態之附抗反射層之偏光板可應用於圖像顯示裝置。代表性而言，附抗反射層之偏光板可以抗反射層成為視認側之方式配置於圖像顯示裝置之視認側。作為圖像顯示裝置之代表例，可列舉：液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、量子點顯示裝置。 [實施例]
以下，藉由實施例具體地對本發明進行說明，但本發明並不限定於該等實施例。再者，各特性之測定方法如下所述。
(1)偏光板之透濕度 將實施例及比較例中使用之偏光板(偏光元件積層體)切成10 cmΦ之圓狀，作為測定試樣。將該測定試樣於溫度40℃及濕度92%RH之條件下放置24小時後，使用日立製作所公司製造之「MOCON」，於溫度40℃及濕度90%RH之試驗條件下測定透濕度。 (2)基材之透濕度 針對於實施例及比較例中用作基材之膜，依據JIS Z0208之透濕度試驗(杯式法)，測定於溫度40℃、濕度92%RH之環境中，24小時內通過面積1 m2 之試樣之水蒸氣量(g)。 (3)附抗反射層之偏光板之單體色相b值 使實施例及比較例中所獲得之附抗反射層之偏光板(100 mm×50 mm)經由黏著劑(日東電工公司製造，丙烯酸系黏著劑)以使抗反射層成為上側之方式貼合於玻璃板。繼而，使用載有1 kg重物之砂紙(＃1200)，沿偏光元件之MD方向往返一次，刮削附抗反射層之偏光板之抗反射層之一半(50 mm×50 mm)之表面，而產生損傷。其後，將附抗反射層之偏光板放置於溫度65℃及濕度90%RH之環境中。使用分光光度計(村上色彩技術研究所(股)製造 製品名「DOT-3」)，對該附抗反射層之偏光板之加濕環境投入前(0小時)、投入後72小時、120小時、250小時之基於NBS所得之單體色相b值分別針對附抗反射層之偏光板之表面產生損傷之部分(有損傷)及未產生損傷之部分(無損傷)進行了測定。藉由下式算出於各時間下，於各部分測得之單體色相b值與在加濕環境投入前測得之各部分之單體色相b值(初始值)之差，作為變化量。 變化量＝(加濕環境投入前之單體色相b值(初始值))－(於各時間下測得之單體色相b值) 又，藉由下式算出產生損傷之部分之變化量與未產生損傷之部分之變化量之差(變化量之差Δ)。 變化量之差Δ＝(產生損傷之部分之變化量)－(未產生損傷之部分之變化量)
(4)樹脂與油酸之HSP距離Ra、樹脂之相互作用半徑R0 、及相對能量差RED 藉由以下方法，對實施例1～5及比較例1～4附抗反射層之偏光板之基材、及形成保護層之樹脂於HSP已知之溶劑中之溶解性進行了評估。 具體而言，將0.02重量份之各樹脂於分別以100：0、90：10、80：20、70：30、60：40、40：60、20：80、0：100之體積比將甲基乙基酮(良溶劑)與正己烷、甲醇、γ-丁內酯或三氯苯(不良溶劑)進行混合之混合溶劑中浸漬24小時。將浸漬24小時後之樹脂之情況以(i)溶解、(ii)膨潤、(iii)不溶3個階段之評估，以目視進行分類。將所獲得之於各溶劑中之溶解度之資訊輸入至HSP值計算軟體(HSPiP 4.1.0.7版(Hansen Solubility Parameters in Practice))，分別算出各樹脂之δD 、δP 、δH ，藉由三維繪圖求出各樹脂之漢森溶解球。根據所獲得之溶解球求出樹脂之相互作用半徑R0 。同樣地，藉由HSP計算軟體算出與油酸(δD ：16、δP ：2.8、δH ：6.2)之HSP距離Ra、及相對能量差RED。 (5)白化試驗 將實施例及比較例中獲得之附抗反射層之偏光板切割成5 cm×5 cm試樣，並貼合於玻璃板，投入至高壓釜。高壓釜處理後，於試樣之整個側面塗佈油酸，投入至65℃、90%RH之環境試驗烘箱中72小時。繼而，取出試樣，以目視確認塗佈有油酸之部分有無白化。將試樣之周邊部(塗佈有油酸之部分)未白化者評估為〇，將白化者評估為×。
＜製造例1＞丙烯酸系樹脂膜1之製作 於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷凝管、氮氣導入管之反應釜中加入甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、甲苯，於250℃之擠出機內進行環化縮合反應與去揮發，獲得透明之含內酯環之丙烯酸系樹脂顆粒。將所獲得之顆粒與丙烯腈-苯乙烯樹脂混合，於缸體溫度240℃下使用雙軸擠出機進行熔融混練，進行再顆粒化。 將所獲得之顆粒投入至單軸擠出機，進行熔融混合，通過T型模頭進行成膜。 將所獲得之擠出膜於延伸溫度160℃下分別於長度方向及寬度方向同時雙軸延伸至2倍。所獲得之膜之厚度為40 μm。藉由NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)確認所獲得之膜之樹脂組成比，結果為：MMA 61%、內酯環26.7%、苯乙烯7.6%、丙烯腈4.7%。
＜製造例2＞丙烯酸系樹脂膜2之製作 於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷凝管、氮氣導入管之反應釜中加入甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、甲苯、聚苯乙烯，於250℃之擠出機內進行環化縮合反應與去揮發，獲得透明之含內酯環之丙烯酸系樹脂顆粒。將所獲得之顆粒投入至單軸擠出機，進行熔融混合，通過T型模頭進行成膜。將所獲得之擠出膜於延伸溫度160℃下分別於長度方向及寬度方向同時雙軸延伸至2倍。所獲得之膜之厚度為40 μm。藉由NMR確認所獲得之膜之樹脂組成比，結果為：MMA 76%、內酯環19%、苯乙烯5%。
＜製造例3＞聚碳酸酯樹脂膜之製作 將市售之含有源自二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂(三菱化學(股)製造，商品名DURABIO T7450A，Tg：132℃，異山梨酯結構單元62莫耳%，三環癸烷二甲醇結構單元38莫耳%)於80℃下進行5小時真空乾燥後，使用具備單軸擠出機(ISUZU化工機公司製造，螺旋直徑25 mm，缸體設定溫度：250℃)、T型模頭(寬度200 mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120～130℃)及捲繞機之製膜裝置，製作厚度160 μm之聚碳酸酯樹脂膜。將所製作之樹脂膜進一步延伸，獲得厚度40 μm之膜。
＜製造例4＞丙烯酸系樹脂膜3之製作 將CHIMEI製造之丙烯酸系樹脂(製品名：CM-205)投入至單軸擠出機，進行熔融混合，通過T型模頭進行成膜。將所獲得之擠出膜於延伸溫度160℃下分別於長度方向及寬度方向同時雙軸延伸至2倍。所獲得之膜之厚度為40 μm。藉由NMR確認所獲得之膜之樹脂組成比，結果為：MMA 73.5%、順丁烯二酸酐17.6%、苯乙烯6.9%。
[實施例1] 1.偏光板(偏光元件積層體)之製作 作為樹脂基材，使用長條狀、吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚合PET)膜(厚度：100 μm)。對基材之單面實施電暈處理，於該電暈處理面，於25℃下塗佈以9：1之比包含聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(聚合度1200、乙醯乙醯基改性度4.6%、皂化度99.0莫耳%以上、日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z200」)之水溶液並使其乾燥，形成厚度11 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 將所獲得之積層體於120℃之烘箱內在周速不同之輥間於縱方向(長度方向)上自由端單軸延伸至2.0倍(空中輔助延伸)。 繼而，將積層體於液溫30℃之不溶化浴(相對於100重量份水調配4重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 繼而，於液溫30℃之染色浴中，以使偏光板成為特定之透過率之方式一面調整碘濃度、浸漬時間，一面浸漬於染色浴中。於本實施例中，於相對於100重量份水調配0.2重量份碘、調配1.5重量份碘化鉀而獲得之碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。 繼而，於液溫30℃之交聯浴(相對於100重量份水調配3重量份碘化鉀、調配3重量份硼酸而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 其後，一面將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份水調配4重量份硼酸、調配5重量份碘化鉀而獲得之水溶液)中，一面於周速不同之輥間以於縱方向(長度方向)上總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸)。 其後，將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於100重量份水調配4重量份碘化鉀而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 繼而，於積層體之PVA系樹脂層(偏光元件)表面，以硬化後之接著劑層厚度成為1.0 μm之方式塗佈以下所示之接著劑，並貼合甲基丙烯酸系樹脂膜(厚度：40 μm，透濕度：100 g/m2 /24 h，於製造例2中獲得之丙烯酸系樹脂膜2)作為保護層，自該甲基丙烯酸系樹脂膜側使用IR加熱器加溫至50℃，照射下述紫外線使接著劑硬化。其後，將基材自PVA系樹脂層剝離，獲得偏光元件積層體(具有偏光元件/保護層之構成之偏光板)。再者，偏光元件之厚度為5 μm，單體透過率為42.3%。又，所獲得之偏光板之含水率為1.0重量%。 (接著劑組成) 將40重量份N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)、60重量份丙烯醯𠰌啉(ACMO)與3重量份光起始劑「IRGACURE 819」(BASF公司製造)進行混合，製備硬化前之黏度為40 mPa・S之接著劑。 (紫外線) 使用紫外線(封入鎵之金屬鹵化物燈，照射裝置：Fusion UV Systems，Inc公司製造之Light HAMMER10，燈泡：V BULB、峰照度：1600 mW/cm2 、累計照射量1000/mJ/cm2 (波長380～440 nm))作為活性能量線。再者，紫外線之照度使用Solatell公司製造之Sola-Check系統進行測定。
2.抗反射積層體之製作 藉由硬塗處理，於東洋紡公司製造之PET系樹脂膜(製品名：CosmoFine、厚度：80 μm)之單面形成硬塗(HC)層(厚度：7 μm)，藉此，獲得HC-PET膜(厚度：87 μm)。將該HC-PET膜用作抗反射層形成用基材。藉由濺鍍，於基材之HC層表面形成包含SiOx之密接層(厚度：10 nm)，進而，於該密接層上依序製膜Nb2 O5 膜(高折射率層)、SiO2 膜(低折射率層)、Nb2 O5 膜(高折射率層)、及SiO2 膜(低折射率層)，藉此形成抗反射層(4層之合計厚度：200 nm)。進而，於抗反射層上形成包含具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物之防污層(厚度：10 nm)，製作抗反射積層體。
3.附抗反射層之偏光板之製作 將作為第1相位差層之環狀烯烴系膜(折射率特性：nx＞ny＞nz、面內相位差：116 nm)、及作為第2相位差層之改性聚乙烯膜(折射率特性：nz＞nx＞ny、面內相位差：35 nm)依序貼合於上述偏光元件積層體之偏光元件表面。於貼合中使用與上述相同之紫外線硬化型接著劑。再者，以第1相位差層之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸成0°之角度、第2相位差層之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸成90°之角度之方式進行貼合。進而，將抗反射積層體之HC-TAC膜經由丙烯酸系黏著劑(厚度：20 μm)貼合於上述偏光元件積層體之保護層(甲基丙烯酸系樹脂膜)表面，獲得附抗反射層之偏光板。將所獲得之附抗反射層之偏光板進行上述評估。將結果示於表1及表2。
[實施例2] 將製造例1中獲得之丙烯酸系樹脂膜1用作基材及偏光元件積層體之保護層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附抗反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
[實施例3] 將製造例2中獲得之丙烯酸系樹脂膜2用作基材及偏光元件積層體之保護層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附抗反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
[實施例4] 將製造例3中獲得之聚碳酸酯系樹脂膜用作基材及偏光元件積層體之保護層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附抗反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
[實施例5] 將製造例4中獲得之丙烯酸系樹脂膜3用作基材及偏光元件積層體之保護層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附抗反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
(比較例1) 使用富士Film公司製造之TAC膜(製品名：Fujitac，厚度：100 μm)作為基材，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
(比較例2) 使用富士Film公司製造之TAC膜(製品名：TD80-UL，厚度：80 μm)作為基材，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
(比較例3) 使用Konica Minolta公司製造之TAC膜(製品名：KC4UY，厚度：40 μm)作為基材，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
(比較例4) 使用日東電工公司製造之丙烯酸系樹脂膜(製品名：CAT膜，厚度：40 μm)作為基材，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附抗反射層之偏光板。將所獲得之偏光板進行與實施例1相同之評估。將結果示於表1及表2。
[表1]
Figure 108103942-A0304-0001
[表2]
Figure 108103942-A0304-0002
由表1明確可知，藉由將形成有抗反射層之基材、及附抗反射層之偏光板之透濕度設為適當之值，能夠抑制於高溫高濕環境下之附抗反射層之偏光板之外觀不良(黃色不均)之產生。又，由表2明確可知，於將與油酸之相對能量差RED為1.05以上之樹脂用於基材及保護層之實施例1～5的附抗反射層之偏光板中，於高溫高濕環境下之白化之產生亦得到了抑制。 [產業上之可利用性]
本發明之附抗反射層之偏光板可較佳地用於如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、量子點顯示裝置之圖像顯示裝置。
10‧‧‧偏光板 11‧‧‧偏光元件 12‧‧‧保護層 20‧‧‧基材 30‧‧‧抗反射層 100‧‧‧附抗反射層之偏光板
圖1係本發明之一實施形態之附抗反射層之偏光板之概略剖視圖。
10‧‧‧偏光板
11‧‧‧偏光元件
12‧‧‧保護層
20‧‧‧基材
30‧‧‧抗反射層
100‧‧‧附抗反射層之偏光板

Claims (5)

  1. 一種附抗反射層之偏光板，其具備：偏光板，其具有偏光元件及設置於該偏光元件之一側之保護層；基材，其貼合於該保護層；及抗反射層，其直接形成於該基材；該基材及該保護層包含樹脂，且基於該樹脂與油酸之漢森溶解度參數之相對能量差RED為1.05以上；該附抗反射層之偏光板之透濕度為0.2g/m2/24h以下，並且該基材之透濕度為150g/m2/24h以下。
  2. 如請求項1之附抗反射層之偏光板，其中上述基材及保護層包含選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、及聚酯系樹脂所組成之群中至少1種樹脂。
  3. 如請求項1或2之附抗反射層之偏光板，其於65℃及90%RH下放置72小時後之有損傷之部分之單體色相b值之變化量與無損傷之部分之單體色相b值之變化量之差△為1.0以下，並且於65℃及90%RH下放置120小時後之有損傷之部分之單體色相b值之變化量與無損傷之部分之單體色相b值之變化量之差△為0.8以下。
  4. 一種附抗反射層之偏光板之製造方法，其係如請求項1至3中任一項之附抗反射層之偏光板之製造方法，其包含： 製作包含偏光元件及保護層之偏光元件積層體；於基材形成抗反射層，製作抗反射積層體；及於該偏光元件積層體之保護層表面貼合該抗反射積層體之基材。
  5. 如請求項4之製造方法，其中上述抗反射層係藉由濺鍍而形成。
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