TWI787413B - 硬化性組成物、光學積層體及畫像顯示裝置 - Google Patents

硬化性組成物、光學積層體及畫像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明係提供一種硬化性組成物，係含有含

Description

硬化性組成物、光學積層體及畫像顯示裝置
本發明係有關於硬化性組成物。又，本發明係有關於包含由該硬化性組成物的硬化物所構成的硬化物層之光學積層體、及包含該光學積層體之畫像顯示裝置。
近年來，畫像顯示裝置係在以智慧型手機和平板電腦型終端設備作為代表之移動式機器用途和以汽車導航系統作為代表之車輛用機器用途發展。在此種用途，因為相較於先前的室內用TV用途，可能暴露在嚴酷的環境，所以提升裝置的耐久性係成為課題。
構成液晶顯示裝置等之光學構件例如光學積層體亦同樣地被要求耐久性。亦即，被組裝於液晶顯示裝置等之光學構件，係有被放置在高溫或高溫高濕環境下、或被放置在重複高溫及低溫的環境下之情形，光學構件係被要求即便在該等環境下光學特性亦不劣化。
作為光學積層體可舉出包含由硬化性組成物的硬化物所構成的硬化物層之光學積層體。此種光學積層體的一個例子為偏光板。例如日本特開2009-008860號公 報(專利文獻1)，係揭示一種將透明保護膜隔著硬化物層(接著劑層)層積在偏光片上而成之偏光板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2009-008860號公報
本發明之目的係提供一種即便在如上述的嚴酷環境下亦顯示良好的耐熱耐久性(耐熱性)之硬化性組成物。
本發明之另一目的係提供一種包含由硬化性組成物的硬化物所構成的硬化物層且耐熱性良好之光學積層體、及包含該光學積層體之畫像顯示裝置。
本發明係提供一種以下顯示之硬化性組成物、光學積層體、畫像顯示裝置、及偏光板用接著劑組成物。
[1]一種硬化性組成物，係含有：含
Figure 107144323-A0202-12-0002-9
唑啉基的聚合物(A)、鋅化合物(B)、以及選自由具有羧基的化合物(C)及化合物(C)的酸酐所組成群組之至少1種。
[2]如[1]所述之硬化性組成物，更含有：促進含
Figure 107144323-A0202-12-0003-10
唑啉基的聚合物(A)的
Figure 107144323-A0202-12-0003-11
唑啉基與具有羧基的化合物(C)的羧基反應之化合物(D)。
[3]一種光學積層體，係包含光學膜、及由[1]或[2]所述之硬化性組成物的硬化物所構成之第1硬化物層。
[4]如[3]所述之光學積層體，係依序包含前述光學膜、前述第1硬化物層、及第1熱塑性樹脂膜。
[5]如[4]所述之光學積層體，係依序包含第2熱塑性樹脂膜、第2硬化物層、前述光學膜、前述第1硬化物層、及前述第1熱塑性樹脂膜。
[6]如[3]至[5]項中任一項所述之光學積層體，其中前述光學膜為偏光片。
[7]一種畫像顯示裝置，係包含[3]至[6]項中任一項所述之光學積層體、及畫像顯示元件。
[8]一種偏光板用接著劑組成物，係含有含
Figure 107144323-A0202-12-0003-12
唑啉基的聚合物(A)、及鋅化合物(B)。
本發明能夠提供一種即便在如上述嚴荷的環 境下亦顯示良好的耐熱性之硬化性組成物。
能夠提供一種包含由硬化性組成物的硬化物所構成的硬化物層且耐熱性良好之光學積層體、及包含該光學積層體之畫像顯示裝置。
10‧‧‧第1熱塑性樹脂膜
15‧‧‧第1硬化物層
20‧‧‧第2熱塑性樹脂膜
25‧‧‧第2硬化物層
30‧‧‧光學膜
40‧‧‧黏著劑層
第1圖係顯示本發明之光學積層體的一個例子之概略剖面圖。
第2圖係顯示本發明之光學積層體的層結構的另一個例子之概略剖面圖。
第3圖係顯示本發明之光學積層體的層結構的另一個例子之概略剖面圖。
第4圖係顯示本發明之光學積層體的層結構的另一個例子之概略剖面圖。
第5圖係顯示本發明之光學積層體的層結構的另一個例子之概略剖面圖。
第6圖係顯示本發明之光學積層體的層結構的另一個例子之概略剖面圖。
(用以實施發明之形態)
<硬化性組成物>
本發明之硬化性組成物係含有含
Figure 107144323-A0202-12-0004-13
唑啉基的聚合物(A)、及鋅化合物(B)。
以下，將本發明之硬化性組成物亦稱為「硬化性組成物(S)」。將由硬化性組成物(S)的硬化物所構成之硬化物層亦稱為「第1硬化物層」。
[1]含
Figure 107144323-A0202-12-0005-14
唑啉基的聚合物(A)
含
Figure 107144323-A0202-12-0005-15
唑啉基的聚合物(A)係在分子內具有
Figure 107144323-A0202-12-0005-16
唑啉基之聚合物，以在側鏈具有
Figure 107144323-A0202-12-0005-17
唑啉基之聚合物為佳。
含
Figure 107144323-A0202-12-0005-18
唑啉基的聚合物(A)的骨架結構係沒有特別限制，例如能夠包含選自(甲基)丙烯酸骨架、苯乙烯骨架、烯烴骨架、酯骨架、碳酸酯骨架等之1種以上的骨架。
在本說明書，所謂「(甲基)丙烯酸」係表示選自由丙烯酸及甲基丙烯酸所組成群組之至少1種。針對「(甲基)丙烯醯基」及「(甲基)丙烯酸酯」等的記載亦同理。
含
Figure 107144323-A0202-12-0005-19
唑啉基的聚合物(A)係可在上述骨架結構的側鏈具有
Figure 107144323-A0202-12-0005-20
唑啉基。
含
Figure 107144323-A0202-12-0005-21
唑啉基的聚合物(A)亦可含有在側鏈具有
Figure 107144323-A0202-12-0005-22
唑啉基的結構單元(源自含
Figure 107144323-A0202-12-0005-23
唑啉基的單體之結構單元)、及不具有
Figure 107144323-A0202-12-0005-24
唑啉基的結構單元。
含
Figure 107144323-A0202-12-0005-25
唑啉基的聚合物(A)的較佳一個例子為含
Figure 107144323-A0202-12-0005-27
唑啉基的(甲基)丙烯酸系聚合物，該含
Figure 107144323-A0202-12-0005-26
唑啉基的(甲基)丙烯酸系聚合物係含有由(甲基)丙烯酸骨架所構成的骨架結構作為結構單元的主成分之共聚合成分，且在側鏈導入有具有
Figure 107144323-A0202-12-0005-28
唑啉基的結構單元(源自含
Figure 107144323-A0202-12-0005-29
唑啉基的單體之結構單元)。
作為含
Figure 107144323-A0202-12-0006-30
唑啉基的聚合物(A)，係除了由含
Figure 107144323-A0202-12-0006-31
唑啉基的單體共聚合而成者以外，亦可為藉由將聚合物的側鏈官能基改性而使其含有
Figure 107144323-A0202-12-0006-32
唑啉基而成者。
作為
Figure 107144323-A0202-12-0006-33
唑啉基例如可舉出2-
Figure 107144323-A0202-12-0006-34
唑啉基、3-
Figure 107144323-A0202-12-0006-35
唑啉基、4-
Figure 107144323-A0202-12-0006-36
唑啉基等。
Figure 107144323-A0202-12-0006-37
唑啉基係較佳為2-
Figure 107144323-A0202-12-0006-38
唑啉基等。
作為上述含
Figure 107144323-A0202-12-0006-39
唑啉基的單體可舉出2-異丙烯基-2-
Figure 107144323-A0202-12-0006-40
唑啉、乙烯基-2-
Figure 107144323-A0202-12-0006-41
唑啉等。
含
Figure 107144323-A0202-12-0006-42
唑啉基的聚合物(A)之重量平均分子量係以5000以上為佳，較佳為10000以上。從提高光學積層體的耐熱性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性的觀點而言，重量平均分子量為上述範圍是有利。
含
Figure 107144323-A0202-12-0006-43
唑啉基的聚合物(A)的重量平均分子量通常為1000000以下。
含
Figure 107144323-A0202-12-0006-44
唑啉基的聚合物(A)的重量平均分子量係能夠以使用凝膠滲透層析法(GPC)而得到的標準聚苯乙烯換算值之方式測定。
含
Figure 107144323-A0202-12-0006-45
唑啉基的聚合物(A)之
Figure 107144323-A0202-12-0006-46
唑啉基量(含
Figure 107144323-A0202-12-0006-47
唑啉基的聚合物(A)之每1g固形物的
Figure 107144323-A0202-12-0006-48
唑啉基的莫耳數)係較佳為0.4mmol/g．solid以上。
Figure 107144323-A0202-12-0006-49
唑啉基量小於上述範圍時，對光學積層體的耐熱性為不利。從該觀點而言、含
Figure 107144323-A0202-12-0006-51
唑啉基的聚合物之
Figure 107144323-A0202-12-0006-52
唑啉基量係較佳為3mmol/g．solid以上，更佳為5mmol/g．solid以上且9mmol/g．solid以下。
Figure 107144323-A0202-12-0006-53
唑啉基量的上限係沒有特別限制，通常為 50mmol/g．solid以下。
含
Figure 107144323-A0202-12-0007-54
唑啉基的聚合物(A)係以水系亦即水溶性聚合物、或水分散性的聚合物為佳。從第1硬化物層的光學特性之觀點而言，含
Figure 107144323-A0202-12-0007-55
唑啉基的聚合物(A)係較佳為水溶性聚合物。
作為含
Figure 107144323-A0202-12-0007-56
唑啉基的聚合物(A)，亦可使用市售品。具體而言，可舉出：日本觸媒股份有限公司製EPOCROSS WS-300、EPOCROSS WS-500、EPOCROSS WS-700(均為商品名)等含
Figure 107144323-A0202-12-0007-57
唑啉基的丙烯酸聚合物；日本觸媒股份有限公司製EPOCROSS K-1000 Series、EPOCROSS K-2000 Series、EPOCROSS RPS Series(均為商品名)等含
Figure 107144323-A0202-12-0007-58
唑啉基的丙烯酸/苯乙烯聚合物。
含
Figure 107144323-A0202-12-0007-59
唑啉基的聚合物(A)係能夠併用2種以上而使用。
從光學積層體的耐熱性和光學特性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性、以及第1硬化物層的耐水性之觀點而言，含
Figure 107144323-A0202-12-0007-60
唑啉基的聚合物(A)係以EPOCROSS WS-300、EPOCROSS WS-500、EPOCROSS WS-700等含
Figure 107144323-A0202-12-0007-61
唑啉基的丙烯酸聚合物為佳。
將硬化性組成物(S)的固形物濃度設為100質量%時，含
Figure 107144323-A0202-12-0007-62
唑啉基的聚合物(A)之含量係以5質量%以上且95質量%以下為佳，較佳為10質量%以上且90質量%以下，更佳為20質量%以上且85質量%以下。使含
Figure 107144323-A0202-12-0007-63
唑啉 基的聚合物(A)之含量成為上述範圍內，從提升光學積層體的耐熱性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性之觀點而言是較佳。
所謂固形物濃度係指在硬化性組成物(S)所含有的溶劑以外的成分之合計濃度。
[2]鋅化合物(B)
鋅化合物(B)係含有鋅元素之化合物。硬化性組成物(S)可含有1種鋅化合物(B)，亦可含有2種以上的鋅化合物(B)。
作為鋅化合物(B)例如可舉出以下者。
a)無機鋅鹽
氟化鋅、氯化鋅、溴化鋅、碘化鋅等鹵化鋅；硫酸鋅、碳酸鋅、硼酸鋅、硝酸鋅、磷酸鋅、氫氧化鋅、氯化鋅銨、硫酸鋅鋁、硫酸鋅鉀、鉻酸鋅、錫酸鋅等
b)其它無機鋅化合物
鋅的氧化物(氧化鋅)；無機系鋅錯合物
c)有機鋅鹽
甲酸鋅、乙酸鋅、丙酸鋅、硬脂酸鋅、月桂酸鋅、十二院酸鋅、油酸鋅、己二酸鋅、葡萄糖酸鋅、檸檬酸鋅、羥基乙酸鋅、苯甲酸鋅、磷酸酯鋅鹽等有機酸鋅鹽
d)其它有機鋅化合物
二甲基鋅、二乙基鋅、二苯基鋅等； 有機系鋅錯合物。
從提高光學積層體的耐熱性的觀點而言，鋅化合物(B)的含量係相對於含
Figure 107144323-A0202-12-0009-64
唑啉基的聚合物(A)100質量份，通常為1質量份以上且300質量份以下，以2質量份以上且250質量份以下為佳，較佳為5質量份以上且200質量份以下，更佳為10質量份以上且150質量份以下。
在一實施形態中，鋅化合物(B)的含量係相對於含
Figure 107144323-A0202-12-0009-65
唑啉基的聚合物(A)100質量份，為10質量份以上且140質量份以下或10質量份以上且120質量份以下。
鋅化合物(B)的含量太少時，不容易藉由含有鋅化合物(B)而得到提高光學積層體的耐熱性之效果。又，鋅化合物(B)的含量太多時，在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、及第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性的至少任一者有容易低落之傾向。
[3]具有羧基的化合物(C)及該化合物(C)的酸酐
硬化性組成物(S)係能夠更含有選自由具有羧基的化合物(C)及化合物(C)的酸酐之至少1種。以下，將具有羧基的化合物(C)亦稱為「化合物(C)」。
化合物(C)係具有能夠與含
Figure 107144323-A0202-12-0009-66
唑啉基的聚合物(A)的
Figure 107144323-A0202-12-0009-67
唑啉基反應的羧基之化合物。在此，所謂羧基亦包含羧基的衍生物，但是不包含化合物(C)的酸酐。
作為羧基的衍生物可舉出羧酸鹽陰離子基。作為羧酸鹽陰離子基的相對離子之陽離子可舉出：鋰離子、 鈉離子、鉀離子等金屬離子；銨離子、鋶離子、鏻離子等有機陽離子等。
硬化性組成物(S)可含有1種化合物(C)，亦可含有2種以上的化合物(C)。硬化性組成物(S)可含有1種化合物(C)的酸酐，亦可含有2種以上的化合物(C)的酸酐。硬化性組成物(S)亦可含有1種以上的化合物(C)、及1種以上的化合物(C)的酸酐。
尤其是從提高光學積層體的耐熱性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性、以及第1硬化物層的耐水性之觀點而言，化合物(C)係以在分子內具有2個以上的羧基(或其衍生物)之化合物(多官能羧酸化合物)為佳。
多官能羧酸化合物的一個例子為二羧酸化合物。作為二羧酸化合物可舉出草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、酒石酸、麩胺酸(glutamic acid)、蘋果酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、伊康酸、己二烯二酸(muconic acid)、1,4-環己烷二羧酸、1,4-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、2,7-萘二羧酸、4,4’-聯苯基二羧酸、2,5-吡啶二羧酸、3,5-吡啶二羧酸、二苯基碸二羧酸、二苯基甲烷二羧酸、草乙酸、甲基反丁烯二酸、2,6-吡啶二羧酸等。
多官能羧酸化合物的另一個例子為三羧酸化合物。作為三羧酸化合物可舉出檸檬酸、烏頭酸、丙烷- 1,2,3-三羧酸、偏苯三甲酸、1,3,5-苯三甲酸、1,2,3-苯三甲酸(hemimellitic acid)、聯苯基-3,4’,5-三羧酸、1,3,5-環己烷三羧酸等。
多官能羧酸化合物的又另一個例子為四羧酸化合物。作為四羧酸化合物可舉出焦蜜石酸酸、二苯基碸四羧酸、聯苯基四羧酸、二苯基酮四羧酸、萘四羧酸、噻吩四羧酸、丁烷四羧酸、1,2,4,5-肆(4-羧苯基)苯等。
在以上例示之多官能羧酸化合物中，至少1個羧基亦可為其衍生物。
化合物(C)亦可具有羧基以外的其它官能基。其它官能基的一個例子為羥基。
從光學積層體的耐熱性之觀點而言，化合物(C)所具有之羧基的數目係較佳為2或3。
多官能羧酸化合物亦可為在分子內具有2個以上的羧基(或其衍生物)之聚合物。該聚合物的一個例子為羧基改性聚合物。羧基改性聚合物的一個例子為羧基改性聚乙烯醇系聚合物。
羧基改性聚乙烯醇系聚合物係藉由將羧基或其衍生物導入至側鏈而受到改性之聚乙烯醇系聚合物。
作為羧基的衍生物可舉出羧酸鹽陰離子基。羧酸鹽陰離子基的相對離子之陽離子的例子係如上述。較佳陽離子的一個例子為鈉離子。
構成羧基改性聚乙烯醇系聚合物的主鏈之聚乙烯醇系聚合物，可為將屬旖乙酸乙烯酯的同元聚合物之 聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而得到之乙烯醇同元聚合物(完全皂化聚乙烯醇或部分皂化聚乙烯醇)，亦可為將乙酸乙烯酯和能夠與其共聚合的其它單體之共聚物進行皂化處理而得到之聚乙烯醇系共聚物。
作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體可舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、及具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。
羧基改性聚乙烯醇系聚合物的皂化度通常為80莫耳%以上且100莫耳%以下，較佳為85莫耳%以上(例如88莫耳%以上)。
羧基改性聚乙烯醇系聚合物的皂化度係能夠依據JIS K 6726：1994而測定。
羧基改性聚乙烯醇系聚合物之藉由羧基(或其衍生物)的改性度(改性量)通常為0.1莫耳%以上。從提高光學積層體的耐熱性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性、以及第1硬化物層的耐水性之觀點而言，羧基改性聚乙烯醇系聚合物的改性度係以0.5莫耳%以上且40莫耳%以下為佳，較佳為1莫耳%以上且20莫耳%以下。改性度係例如能夠藉由1H-NMR而測定。
羧基改性聚乙烯醇系聚合物的平均聚合度通常為100以上且3000以下。
羧基改性聚乙烯醇系聚合物的平均聚合度係能夠依據JIS K 6726：1994而測定。
在一較佳實施形態中，化合物(C)之分子量為1000以下。該分子量係從化學結構式算出之分子量，但在化合物(C)為聚合物時，亦可為以使用凝膠滲透層析法(GPC)而得到的標準聚苯乙烯換算值之方式測定之數量平均分子量。
就提高光學積層體的耐熱性而言，使用分子量為1000以下之化合物(C)為有利。從光學積層體的耐熱性之觀點而言，化合物(C)的分子量係以800以下為佳，較佳為500以下。
又，從光學積層體的耐熱性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、以及第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性的觀點而言，化合物(C)的分子量係以90以上為佳，較佳為100以上。
化合物(C)的較佳例為檸檬酸、蘋果酸、順丁烯二酸、酒石酸。
作為化合物(C)的酸酐可舉出羧酸酐。羧酸酐可舉出乙酸酐、丙酸酐、草酸酐、琥珀酸酐、順丁烯二酸酐、鄰苯二甲酸酐、苯甲酸酐等。
從提高光學積層體的耐熱性之觀點而言，選自化合物(C)及化合物(C)的酸酐之至少1種的含量係相對於含
Figure 107144323-A0202-12-0013-68
唑啉基的聚合物(A)100質量份，以0.01質量份以上且30質量份為佳，較佳為0.1質量份以上且25質量份以下，更佳為0.2質量份以上且20質量份以下，又更佳為0.2質量份以上且15質量份以下。
在一實施形態中，選自化合物(C)及化合物(C)的酸酐之至少1種的含量係相對於含
Figure 107144323-A0202-12-0014-69
唑啉基的聚合物(A)100質量份，為0.3質量份以上且10質量份以下，或為0.5質量份以上且10質量份以下，或為0.5質量份以上且8質量份以下，或為1質量份以上且8質量份以下。
選自化合物(C)及化合物(C)的酸酐之至少1種的含量太少時，難以藉由含有選自化合物(C)及化合物(C)的酸酐之至少1種，而得到提高光學積層體的耐熱性之效果。又，選自化合物(C)及化合物(C)的酸酐之至少1種的含量太多時，提高光學積層體的耐熱性之效果有容易低落之傾向。
[4]促進含
Figure 107144323-A0202-12-0014-70
唑啉基的聚合物(A)之
Figure 107144323-A0202-12-0014-71
唑啉基與具有羧基的化合物(C)的羧基反應之化合物(D)
硬化性組成物(S)可更含有：促進含
Figure 107144323-A0202-12-0014-72
唑啉基的聚合物(A)之
Figure 107144323-A0202-12-0014-73
唑啉基與具有羧基的化合物(C)的羧基反應之化合物(D)。以下，將該化合物亦稱為「化合物(D)」。在此所稱之促進亦包含使該反應開始之情況。
硬化性組成物(S)含有化合物(C)的酸酐時，化合物(D)係與在化合物(C)的酸酐的至少一部分因水解而產生的羧酸中之羧基開始反應開始或促進反應。
作為化合物(D)之較佳例子可舉出酸化合物。酸化合物亦可以是作為含
Figure 107144323-A0202-12-0014-74
唑啉基的聚合物(A)的
Figure 107144323-A0202-12-0014-75
唑啉基、與化合物(C)的羧基及/或化合物(C)的酸酐因水解而產 生的羧基反應之觸媒的功能之化合物。
作為上述酸化合物可舉出：硫酸、氯化氫、硝酸、磷酸、亞磷酸、硼酸等無機酸；對甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、萘磺酸、甲磺酸、苯磺酸、苯基磷酸、對胺苯磺酸(sulfanilic acid)、苯基膦酸、乙酸、丙酸等有機酸。
硬化性組成物(S)可含有1種化合物(D)，亦可含有2種以上的化合物(D)。
化合物(D)亦可以含有化合物(D)的溶液(例如水溶液)之方式被調配在硬化性組成物(S)。
尤其是從提高光學積層體的耐熱性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性的觀點而言，化合物(D)係以較強的酸為佳，作為此種酸化合物可舉出硫酸、氯化氫(鹽酸)、硝酸、對甲苯磺酸等。
使用如上述的強酸作為化合物(D)時，尤其是具有容易提升在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性之傾向。
硬化性組成物(S)之化合物(D)的含量，係相對於含
Figure 107144323-A0202-12-0015-76
唑啉基的聚合物(A)100質量份，通常為1質量份以上且150質量份以下，從提高光學積層體的耐熱性、在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性之觀點而言，係以3質量份以上且100質量份以下為佳，較佳為5質量份 以上且100質量份以下，更佳為10質量份以上且100質量份以下。
在一較佳實施形態中，從提高光學積層體的耐熱性之觀點而言，化合物(D)的含量係相對於含
Figure 107144323-A0202-12-0016-77
唑啉基的聚合物(A)100質量份，為10質量份以上且80質量份以下或10質量份以上且50質量份以下。
化合物(D)的含量太少時，難以藉由含有化合物(D)而得到提高光學積層體的耐熱性之效果。而且化合物(D)的含量太少時，難以藉由含有化合物(D)而得到提高在光學積層體之光學膜與第1硬化物層之間的密著性之效果、以及提高第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性之效果。
化合物(D)的含量太多時，在光學積層體中光學膜與第1硬化物層之間的密著性、及第1硬化物層與第1熱塑性樹脂膜之間的密著性的至少任一者有容易低落之傾向。
[5]其它成分
硬化性組成物(S)係能夠含有含
Figure 107144323-A0202-12-0016-78
唑啉基的聚合物(A)、鋅化合物(B)、化合物(C)、化合物(C)的酸酐及化合物(D)以外之其它成分。
作為其它成分可舉出：多元醛、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物、氮丙啶化合物、乙二醛、乙二醛衍生物、水溶性環氧樹脂等硬化性成分和交聯 劑；羧基改性聚乙烯醇系聚合物以外的改性聚乙烯醇系聚合物；偶合劑、黏著賦予劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、熱安定劑、抗水解劑等添加劑。
硬化性組成物(S)係能夠含有1種或2種以上的其它成分。
硬化性組成物(S)係以含有溶劑為佳。作為溶劑可舉出水、有機溶劑、或該等的混合物。溶劑係較佳是含有水，但是亦可併用水與水溶性的有機溶劑。作為有機溶劑可舉出乙醇、1-甲氧基-2-丙醇等醇溶劑。
溶劑的主成分係以水為佳。所謂主成分係意味著佔有全溶劑的50質量%以上。
硬化性組成物(S)的固形物濃度通常為0.5質量%以上且20質量%以下，較佳為1質量%以上且15質量%以下。
硬化性組成物(S)係能夠使用作為用以在基材上形成塗膜(塗佈層)之塗佈液。例如能夠藉由將硬化性組成物(S)塗佈在基材上且使塗佈層硬化而形成塗膜。基材係較佳為光學膜。針對光學膜係如後述。此時，光學積層體係包含光學膜、及由硬化性組成物(S)的硬化物所構成之第1硬化物層。
硬化性組成物(S)亦能夠使用作為接著劑組成物。在一實施形態中，硬化性組成物(S)係用以將光學膜與第1熱塑性樹脂膜貼合之接著劑組成物。此時，光學積層體係依序包含光學膜、由硬化性組成物(S)的硬化物所構成 之第1硬化物層(接著劑層)、及第1熱塑性樹脂膜。藉由將硬化性組成物(S)塗佈在光學膜及第1熱塑性樹脂膜之至少任一者的貼合面，而且隔著塗佈層而層積光學膜與第1熱塑性樹脂膜而得到積層體之後，使塗佈層硬化，能夠製造該光學積層體。
光學積層體係以光學膜為偏光片之偏光板為佳。所謂偏光板係包含偏光片、及層積在其至少一面的第1硬化物層(由硬化性組成物(S)的硬化物所構成之硬化物層)之光學積層體。
接著劑組成物之硬化性組成物(S)係以偏光板用接著劑組成物，亦即用以製造偏光板的接著劑組成物為佳。此時，硬化性組成物(S)係例如用以將偏光片與第1熱塑性樹脂膜貼合。
硬化性組成物(S)較佳為水系組成物。亦即，硬化性組成物(S)係以使調配成分溶解在含有水的溶劑而成之溶液、或使調配成分分散在含有水的溶劑而成之分散體(例如乳化液)為佳。
硬化性組成物(S)之在25℃之黏度係以50mPa．sec以下為佳，以1mPa．sec以上且30mPa．sec以下為較佳，以2mPa．sec以上且20mPa．sec以下為更佳。在25℃之黏度大於50mPa．sec時，難以均勻地塗佈而有產生塗佈不均之可能性，而且有配管產生孔洞堵塞等不良狀況之可能性。
硬化性組成物(S)之在25℃之黏度，係能夠使 用E型黏度計而測定。
<光學積層體>
本發明之光學積層體係包含光學膜、及層積在其至少一面之第1硬化物層(由硬化性組成物(S)的硬化物所構成之硬化物層)。
依照本發明，因為在光學積層體所含有的硬化物層係由硬化性組成物(S)的硬化物所構成，所以能夠使光學積層體的耐熱性成為良好。
[1]光學積層體的構成
將光學積層體的層結構的例子顯示在第1圖至第5圖。
第1圖顯示之光學積層體係包含光學膜30、及層積在其一面之第1硬化物層15。第1硬化物層15係能夠發揮作為被覆光學膜30的表面而予以保護之保護層，及作為對光學膜30追加賦予光學功能的光學功能層等之功能。
光學膜30與第1硬化物層15係以直接接觸為佳。
第2圖顯示之光學積層體係包含光學膜30、及隔著第1硬化物層15而積層貼合在該光學膜30的一面之第1熱塑性樹脂膜10。第1硬化物層15係能夠發揮作為將光學膜30與第1熱塑性樹脂膜10接著的接著劑層之功能。
第1硬化物層15與第1熱塑性樹脂膜10係 以直接接觸為佳。
光學膜30與第1硬化物層15係以直接接觸為佳。
第3圖顯示之光學積層體係包含光學膜30、隔著第1硬化物層15而積層貼合在該光學膜30的一面之第1熱塑性樹脂膜10、及隔著第2硬化物層25而積層貼合在光學膜30的另一面之第2熱塑性樹脂膜20。亦即，本發明之光學積層體亦可依序包含第2熱塑性樹脂膜20、第2硬化物層25、光學膜30、第1硬化物層15、及第1熱塑性樹脂膜10。第1硬化物層15及第2硬化物層25係能夠分別發揮作為將光學膜30與第1熱塑性樹脂膜10接著的接著劑層、及作為將光學膜30與第2熱塑性樹脂膜20接著的接著劑層之功能。
第1硬化物層15與第1熱塑性樹脂膜10係以直接接觸為佳。
光學膜30與第1硬化物層15係以直接接觸為佳。
第2硬化物層25與第2熱塑性樹脂膜20係以直接接觸為佳。
光學膜30與第2硬化物層25係以直接接觸為佳。
第4圖顯示之光學積層體係包含光學膜30、層積在其一面之第1硬化物層15、及隔著第2硬化物層25而積層貼合在光學膜30的另一面之第2熱塑性樹脂膜20。第1 硬化物層15係能夠發揮作為被覆光學膜30的表面而予以保護之保護層，及作為對光學膜30追加賦予性光學功能的光學功能層等之功能。第2硬化物層25係能夠作為將光學膜30與第2熱塑性樹脂膜20接著的接著劑層之功能。
光學膜30與第1硬化物層15係以直接接觸為佳。
第2硬化物層25與第2熱塑性樹脂膜20係以直接接觸為佳。
光學膜30與第2硬化物層25係以直接接觸為佳。
第5圖顯示之光學積層體係包含光學膜30、層積在其一面之第1硬化物層15、及層積在光學膜30的另一面之第2硬化物層25。第1硬化物層15及第2硬化物層25係能夠發揮作為被覆光學膜30的表面而予以保護之保護層，及作為對光學膜30追加賦予光學功能的光學功能層等之功能。
光學膜30與第1硬化物層15係以直接接觸為佳。
光學膜30與第2硬化物層25係以直接接觸為佳。
光學膜30亦可為能夠被組裝於液晶顯示裝置等畫像顯示裝置之各種光學膜(具有光學特性之薄膜)。作為光學膜30例如可舉出偏光片、相位差膜、亮度提升膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜等。
光學積層體係能夠包含上述以外的其它層(或 薄膜)。作為其它層例如可舉出：層積在第1熱塑性樹脂膜10、第2熱塑性樹脂膜20、第1硬化物層15、第2硬化物層25及/或光學膜30的外表面之黏著劑層；層積在該黏著劑層的外表面之隔離膜(亦稱為「剝離膜」)；層積在第1熱塑性樹脂膜10、第2熱塑性樹脂膜20、第1硬化物層15、第2硬化物層25及/或光學膜30的外表面之保護膜(亦稱為「表面保護膜」)；隔著接著劑層和黏著劑層而層積在第1熱塑性樹脂膜10、第2熱塑性樹脂膜20、第1硬化物層15、第2硬化物層25及/或光學膜30的外表面之光學功能性膜(或層)等。
[2]偏光片
偏光片係具有使來自自然光之某一方向的直線偏光選擇性地穿透的功能之層或薄膜。
作為偏光片例如可舉出使二色性色素吸附/配向在聚乙烯醇系樹脂膜而成之薄膜。作為二色性色素可舉出碘、二色性有機染料等。
又，偏光片亦可為將溶致液晶(lyotropic liquid crystal)狀態的二色性染料塗佈在基材薄膜且予以配向/固定化而成之塗佈型偏光膜。
以上的偏光片，由於使來自自然光之某一方向的直線偏光選擇性地穿透，且將另一方向的直線偏光吸收，故被稱為吸收型偏光片。
偏光片不限定於吸收型偏光片，亦可為將來 自自然光之某一方向的直線偏光選擇性地穿透且將另一方向的直線偏光反射之反射型偏光片、或是將另一方向的直線偏光散射之散射型偏光片，但就具有優異的觀視性而言，係以吸收型偏光片為佳。尤其是以由聚乙烯醇系樹脂膜所構成之聚乙烯醇系偏光膜為較佳，以使碘、二色性染料等二色性色素吸附/配向在聚乙烯醇系樹脂膜而成之聚乙烯醇系偏光膜為更佳，以使碘吸附/配向在聚乙烯醇系樹脂膜而成之聚乙烯醇系偏光膜為特佳。
作為聚乙烯醇系樹脂係能夠使用將聚乙酸乙烯系樹脂皂化而成者。就聚乙酸乙烯系樹脂而言，係除了屬旖乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯以外，亦可舉出乙酸乙烯酯和能夠與該乙酸乙烯酯共聚合的其它單體之共聚物等。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體可舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、及具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上且100莫耳%以下，以98莫耳%以上為佳。聚乙烯醇系樹脂亦可經改性，例如亦能夠使用經醛類改性聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1000以上且10000以下，以1500以上且5000以下為佳。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係能夠依據JIS K 6726：1994而求取。
將此種聚乙烯醇系樹脂製膜而成者，係被使用作為由聚乙烯醇系樹脂膜所構成之偏光膜的坯膜。將聚 乙烯醇系樹脂製膜之方法係沒有特別限定，能夠採用眾所周知的方法。聚乙烯醇系坯膜的厚度係例如150μm以下，較佳為100μm以下(例如50μm以下)且5μm以上。
由聚乙烯醇系樹脂膜所構成之偏光膜係能夠藉由眾所周知的方法而製造。具體而言，係能夠藉由包含下列步驟之方法而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；藉由使用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使其吸附二色性色素之步驟；使用硼酸水溶液對已吸附二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理(交聯處理)之步驟；以及，在處理後藉由硼酸水溶液進行水洗之步驟。
偏光片的厚度係能夠設為40μm以下，以30μm以下(例如20μm以下，更佳為15μm以下，又更佳為10μm以下或8μm以下)為佳。藉由日本特開2000-338329號公報或日本特開2012-159778號公報記載之方法時，能夠更容易地製造薄膜的偏光片，且更容易地使偏光片的厚度成為例如20μm以下，更佳為15μm以下，又更佳為10μm以下或8μm以下。偏光片的厚度通常為2μm以上。減少偏光片的厚度，係對光學積層體(偏光板)、及包含該光學積層體之畫像顯示裝置的薄型化為有利。
[3]相位差膜
作為相位差膜可舉出：將具有透光性之熱塑性樹脂進行單軸延伸或雙軸延伸而成之延伸膜；將碟狀液晶或向列型液晶等液晶性化合物配向固定而成之薄膜；及在基材薄 膜上形成有上述液晶層者等。又，在本說明書中，相位差膜亦包含零遲滯值薄膜。
基材薄膜通常係由熱塑性樹脂所構成之薄膜，熱塑性樹脂的一個例子為三乙酸纖維素等纖維素酯系樹脂。
作為具有透光性之熱塑性樹脂可舉出構成後述第1熱塑性樹脂膜10之樹脂等。
所謂零遲滯值薄膜係指面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth均為-15至15nm之薄膜。該相位差膜適合使用在IPS模式的液晶顯示裝置。面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth係以均為-10至10nm為佳，較佳是均為-5至5nm。在此所謂面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth為在波長590nm之值。
面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth各由下述式定義：Re=(nx-ny)×d
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d
式中，nx為薄膜面內的慢軸方向(x軸方向)之折射率，ny為薄膜面內的快軸方向(在面內與x軸正交之y軸方向)之折射率，nz為薄膜厚度方向(與薄膜面垂直的z軸方向)之折射率，d為薄膜厚度。
零遲滯值薄膜係例如能夠使用由纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之樹脂膜。特別是因為容易控制相位差值且亦容易取 得，故適合使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為藉由液晶性化合物的塗佈/配向而顯現光學異向性之薄膜，可舉出下列薄膜：第一形態：棒狀液晶化合物朝與支撐基材水平的方向配向之相位差膜，第二形態：棒狀液晶化合物朝與支撐基材垂直的方向配向之相位差膜，第三形態：棒狀液晶化合物在面內沿螺旋狀改變配向方向之相位差膜，第四形態：圓盤狀液晶化合物傾斜配向之相位差膜、第五形態：圓盤狀液晶化合物朝與支撐基材垂直的方向配向之雙軸性相位差膜。
例如作為使用在有機電致發光顯示器之光學膜，適合使用第一形態、第二形態、第五形態。或者亦可將該等層積而使用。
相位差膜為由聚合性液晶化合物之處在配向狀態的聚合物所構成之層(以下，有時稱為「光學異向性層」)時，相位差膜係以具有逆波長分散性為佳。所謂逆波長分散性，係相較於在長波長的液晶配向面內相位差值，在短波長的液晶配向面內相位差值為較小之光學特性，較佳係相位差膜滿足下述式(1)及式(2)。又，Re(λ)係表示相對於波長λnm的光線之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (1)
1≦Re(630)/Re(550) (2)
在相位差膜為第一形態且具有逆波長分散性時，在顯示裝置之黑畫面時的著色得到減低，因而較佳，在式(1)中為0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93時為較佳。以120≦Re(550)≦150為更佳。
作為在相位差膜為具有光學異向性層之薄膜時的聚合性液晶化合物，可舉出在液晶手冊(液晶手冊編集委員會編，丸善(股)平成12年10月30日發行)的「3.8.6網狀(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」記載之化合物中具有聚合性基之化合物、以及在日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及日本特表2011-207765號公報記載之聚合性液晶化合物。
從聚合性液晶化合物之處在配向狀態之聚合物製造相位差膜之方法，例如可舉出在日本特開2010-31223號公報記載的方法。
為第2形態時，面內相位差值Re(550)係調整在0至10nm的範圍、較佳為0至5nm的範圍即可，厚度方向的相位差值Rth係調整在-10至-300nm的範圍、較佳為-20至-200nm的範圍即可。
意指厚度方向的折射率異向性之厚度方向的 相位差值Rth，係能夠從將面內的快軸傾斜50度成傾斜軸而測定之相位差值R50及面內相位差值Re算出。亦即，厚度方向的相位差值Rth係能夠從面內的相位差值Re、將進相軸傾斜50度成傾斜軸而測定之相位差值R50、相位差膜的厚度d、及相位差膜的平均折射率n0，依照以下的式(4)至(6)求取nx、ny及nz，而且將該等nx、ny及nz代入至式(3)而算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (3)
Re=(nx-ny)×d (4)
R50=(nx-ny’)×d/cos(φ) (5)
(nx+ny+nz)/3=n0 (6)
在此，
φ=sin-1〔sin(40°)/n0〕
ny’=ny×nz/〔ny 2×sin2(φ)+nz 2×cos2(φ)〕1/2
相位差膜亦可為具有二個以上的層之多層膜。例如可舉出：將保護膜層積在相位差膜的一面或兩面而成者；及隔著黏著劑或接著劑將二個以上的相位差膜層積而成者。
[4]第1硬化物層
第1硬化物層15係由硬化性組成物(S)的硬化物所構成之硬化物層。針對硬化性組成物(S)係如上述。硬化性組成物(S)係例如能夠藉由熱而使其硬化。
[5]熱塑性樹脂膜
第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20可分別為由下述者所構成之薄膜：具有透光性之(較佳為光學上為透明的)熱塑性樹脂，例如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；或該等樹脂的混合物、共聚物等。
第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20係各自可為未經延伸之薄膜、或經單軸或是雙軸延伸之薄膜之任一者。雙軸延伸可為同時朝2個延伸方向延伸之同時雙軸延伸，亦可為在朝第1方向延伸之後再朝不同之第2方向延伸之逐次雙軸延伸。
第1熱塑性樹脂膜10及/或第2熱塑性樹脂膜20亦可為承擔保護光學膜30的作用之保護膜，且亦可為兼具相位差膜等的光學功能之保護膜。
針對相位差膜係引用上述[4]的記載。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂能夠舉出聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴的同元聚合物、以及由2種以上的鏈狀烯烴所構成之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係含有以降莰烯、四環十二烯(別名：二甲橋八氫萘；dimethano octahydronaphthalene)或該等的衍生物作為代表例之環狀烯烴作為聚合單元之樹 脂的總稱。就環狀聚烯烴系樹脂而言，可舉出環狀烯烴的開環(共)聚合物及其氫化物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物的共聚物、以及該等聚合物經用不飽和羧酸或其衍生物改性之改性(共)聚合物等。
尤其適合使用將降莰烯、多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴之降莰烯系樹脂。
纖維素酯系樹脂係纖維素中之羥基的至少一部分經乙酸酯化之樹脂，亦可為一部分經乙酸酯化且一部分經其它酸酯化之混合酯。纖維素酯系樹脂較佳為乙酸纖維素系樹脂。
作為乙酸纖維素系樹脂可舉出三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
聚酯系樹脂係具有酯鍵之上述纖維素酯系樹脂以外的樹脂，通常為由多元羧酸或其衍生物與多元醇的聚縮合物所構成者。
作為聚酯系樹脂可舉出聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。
尤其是從機械性質、耐溶劑性、耐刮傷性、成本等的觀點而言，係能夠適合使用聚對苯二甲酸乙二酯。所謂聚對苯二甲酸乙二酯係指重複單元的80莫耳%以上 係由對苯二甲酸乙二酯所構成之樹脂，亦可含有源自其它共聚合成分(間苯二甲酸等二羧酸成分；丙二醇等二醇成分等)之結構單元。
聚碳酸酯系樹脂係由碳酸與二醇或雙酚所形成之聚酯。從耐熱性、耐候性及耐酸性的觀點而言，尤其是適合使用在分子鏈具有二苯基烷之芳香族聚碳酸酯。
作為聚碳酸酯可舉出由2,2-雙(4-羥苯基)丙烷(別名雙酚A)、2,2-雙(4-羥苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥苯基)異丁烷、1,1-雙(4-羥苯基)乙烷等雙酚所衍生之聚碳酸酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂係含有源自(甲基)丙烯酸系單體的結構單元之聚合物，作為(甲基)丙烯酸系單體可舉出甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。
作為甲基丙烯酸酯可舉出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正、異或第三丁酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯等。
作為丙烯酸酯可舉出丙烯酸乙酯、丙烯酸正、異或第三丁酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸2-羥基乙酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂可為只由源自(甲基)丙烯酸單體的結構單元所構成之聚合物，亦可含有其它結構單元。
在一較佳實施形態中，(甲基)丙烯酸系樹脂係 含有甲基丙烯酸甲酯作為共聚合成分，或含有甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸甲酯作為共聚合成分。
在一較佳實施形態中，(甲基)丙烯酸系樹脂能夠為將甲基丙烯酸酯作為主要單體(含有50質量%以上)之聚合物，以將甲基丙烯酸酯與其它共聚合成分共聚合而成之共聚物為佳。
(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度較佳為80℃以上且160℃以下。玻璃轉移溫度係能夠藉由調整甲基丙烯酸酯系單體與丙烯酸酯系單體之聚合比、各自的酯基的碳鏈長度及該等單體所具有的官能基種類、以及多官能單體相對於單體全體之聚合比而得到控制。
作為用以提高(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度之手段，將環結構導入至高分子的主鏈亦為有效。環結構係以環狀酸酐結構、環狀醯亞胺結構及內酯結構等雜環結構為佳。具體而言，可舉出：戊二酸酐結構、琥珀酸酐結構等環狀酸酐結構；戊二醯亞胺(Glutarimide)結構、琥珀醯亞胺結構等環狀醯亞胺結構；丁內酯、戊內酯等內酯環結構。
主鏈中的環結構含量越增加時，有越能夠提高(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度之傾向。
環狀酸酐結構、環狀醯亞胺結構係能夠藉由下列方法而導入：藉由使順丁烯二酸酐、順丁烯二醯亞胺等具有環狀構造之單體共聚合而導入之方法；藉由聚合後脫水/脫甲醇縮合反應而導入環狀酸酐結構之方法；及使胺 基化合物反應而導入環狀醯亞胺結構之方法等。
具有內酯環結構之樹脂(聚合物)係能夠藉由下列方法而得到：調製在高分子鏈具有羥基及酯基之聚合物後，藉由加熱且視需要在有機磷化合物等觸媒的存在下，使在所得到的聚合物中之羥基及酯基進行環化縮合而形成內酯環結構之方法。
(甲基)丙烯酸系樹脂及由該(甲基)丙烯酸系樹脂所形成之熱塑性樹脂膜，亦可視需要而含有添加劑。作為添加劑例如能夠舉出潤滑劑、抗結塊劑、熱安定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、耐光劑、耐衝撃性改良劑、界面活性劑等。
該等添加劑亦可在使用(甲基)丙烯酸系樹脂以外的其它熱塑性樹脂之情況時被作為構成熱塑性樹脂膜之熱塑性樹脂使用。
從對薄膜的製膜性、薄膜的耐衝撃性等之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂亦可含有衝撃性改良劑之丙烯酸系橡膠粒子。所謂丙烯酸系橡膠粒子係將以丙烯酸酯作為主體之彈性聚合物作為必要成分之粒子，可舉出實質上只由該彈性聚合物所構成的單層結構者、及將該彈性聚合物作為1層之多層結構者。
作為上述彈性聚合物的例子可舉出將丙烯酸烷酯作為主成分且和能夠與該丙烯酸烷酯共聚合的其它乙烯系單體及交聯性單體共聚合而成之交聯彈性共聚物。
作為彈性聚合物的主成分之丙烯酸烷酯例如 可舉出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等烷基的碳數為1以上且8以下左右者，適合使用具有碳數4以上的烷基之丙烯酸烷酯。
作為能夠與上述丙烯酸烷酯共聚合之其它乙烯系單體能夠舉出在分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵之化合物，更具體地，可舉出：甲基丙烯酸甲酯等甲基丙烯酸酯；苯乙烯等芳香族乙烯系化合物；丙烯腈等乙烯基氰化合物等。
作為上述交聯性單體能夠舉出在分子內具有至少2個聚合性碳-碳雙鍵之交聯性化合物，更具體地可舉出：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸酯類；(甲基)丙烯酸烯丙酯等(甲基)丙烯酸的烯酯；二乙烯苯等。
亦能夠將不含有橡膠粒子且由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成的薄膜與含有橡膠粒子且由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成的薄膜之積層體，設為要貼合在光學膜30之熱塑性樹脂膜。又，亦能夠將在由與(甲基)丙烯酸樹脂不同的樹脂所構成之相位差顯現層的一面或兩面形成有(甲基)丙烯酸系樹脂層且顯現相位差者，設為要貼合在光學膜30之熱塑性樹脂膜。
第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20係各自以含有選自由纖維素酯系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂所組成群組之1種以上的熱塑性樹脂之薄膜為佳，以纖維素酯系樹脂膜、聚 酯系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜、或環狀聚烯烴系樹脂膜為較佳。
第1熱塑性樹脂膜10及/或第2熱塑性樹脂膜20亦可含有紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機色素、抗氧化劑、抗靜電劑、界面活性劑、潤滑劑、分散劑、熱安定化劑等。將光學積層體應用在畫像顯示裝置時，藉由將含有紫外線吸收劑之熱塑性樹脂膜配置在畫像顯示元件(例如液晶單元、有機EL顯示元件等)的觀視側，能夠抑制畫像顯示元件因紫外線而劣化。
作為紫外線吸收劑可舉出水楊酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、苯并***系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20可為由相同的熱塑性樹脂所構成之薄膜，亦可為由互相不同的熱塑性樹脂所構成之薄膜。第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20可在厚度、有無添加劑和其種類、相位差特性等方面為相同亦不同。
第1熱塑性樹脂膜10及/或第2熱塑性樹脂膜20亦可在其外表面(與光學膜30相反側的表面)具備硬塗層、防眩層、抗反射層、光擴散層、抗靜電層、防污層、導電層等表面處理層(塗佈層)。
第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20的厚度各自通常為5μm以上且200μm以下，以10μm以上且120μm以下為佳，較佳為10μm以上且85μm以下， 更佳為15μm以上65μm以下。第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20的厚度各自可為50μm以下，亦可為40μm以下。將第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20的厚度減小，對光學積層體(偏光板)、及包含該光學積層體之畫像顯示裝置之薄型化為有利。
從提升密著性之觀點，對於第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20之要塗佈硬化性組成物之面可進行皂化處理、電漿處理、電暈處理、底漆處理等表面改質處理，從步驟簡單化的觀點，亦可實施表面改質處理。亦可對光學膜30的貼合面進行表面改質處理以取代熱塑性樹脂膜的貼合面，或是對熱塑性樹脂膜的貼合面與光學膜30的貼合面一起進行表面改質處理。
第1熱塑性樹脂膜10或第2熱塑性樹脂膜20為纖維素酯系樹脂膜時，從提升密著性之觀點而言，係以進行皂化處理為佳。作為皂化處理可舉出浸漬在如氫氧化鈉和氫氧化鉀的鹼水溶液中之方法。
[6]第2硬化物層
形成第2硬化物層25之硬化性組成物可為上述硬化性組成物(S)，亦可為與其不同之其它硬化性組成物。從光學積層體的耐熱性等的觀點而言，第2硬化物層25係以硬化性組成物(S)的硬化物層為佳。
第1硬化物層15及第2硬化物層25係由硬化性組成物(S)形成時，該等硬化性組成物可為相同的組成， 亦可為不同的組成。
作為其它硬化性組成物可舉出含有已使硬化性樹脂成分溶解或分散在水中而成之眾所周知的水系組成物(含有水系接著劑)及活性能量線硬化性化合物之眾所周知的活性能量線硬化性組成物(含有活性能量線硬化性接著)等。
作為在水系組成物所含有的樹脂成分可舉出聚乙烯醇系樹脂、胺甲酸酯樹脂等。
為了提升密著性和接著性，含有聚乙烯醇系樹脂的水系組成物係能夠更含有多元醛、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物、乙二醛、乙二醛衍生物、水溶性環氧樹脂等硬化性成分或交聯劑。
作為含有胺甲酸酯樹脂之水系組成物可舉出含有聚酯系離子聚合物型胺甲酸酯樹脂及具有環氧丙氧基的化合物之水系組成物。所謂聚酯系離子聚合物型胺甲酸酯樹脂係具有聚酯骨架之胺甲酸酯樹脂且其中導入有少量離子性成分(親水成分)者。
活性能量線硬化性組成物係會藉由照射紫外線、可見光、電子射線、X射線等活性能量線而硬化之組成物。使用活性能量線硬化性組成物時，第2硬化物層25為該組成物的硬化物層。
活性能量線硬化性組成物能夠為含有會藉由陽離子聚合而硬化之環氧系化合物作為硬化性成分之組成物，較佳是含有此種環氧系化合物作為硬化性成分之紫外 線硬化性組成物。所謂環氧系化合物係意味著在分子內具有平均1個以上、較佳為2個以上的環氧基之化合物。環氧系化合物可只有使用1種亦可併用2種以上。
作為環氧系化合物可舉出：藉由使對芳香族多元醇的芳香環進行氫化反應而得到的脂環式多元醇，與表氯醇反應而得到之氫化環氧系化合物(具有脂環式環之多元醇的環氧丙基醚)；脂肪族多元醇或其環氧烷加成物的聚環氧丙基醚等脂肪族環氧系化合物；及在分子內具有1個以上之鍵結在脂環式環的環氧基之環氧系化合物亦即脂環式環氧系化合物等。
活性能量線硬化性組成物係可含有自由基聚合性之(甲基)丙烯酸系化合物作為硬化性成分以代替上述環氧系化合物，或是含有該環氧系化合物與自由基聚合性之(甲基)丙烯酸系化合物作為硬化性成分。作為(甲基)丙烯酸系化合物能夠舉出：在分子內具有1個以上的(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯單體；及能夠使2種以上的含官能基之化合物反應而得到之在分子內具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯寡聚物等含(甲基)丙烯醯氧基之化合物。
活性能量線硬化性組成物係含有會藉由陽離子聚合而硬化之環氧系化合物作為硬化性成分時，以含有光陽離子聚合起始劑為佳。作為光陽離子聚合起始劑例如能夠舉出：芳香族重氮鎓鹽；芳香族碘鎓鹽、芳香族鋶鹽等的鎓鹽；鐵-芳烴錯合物等。
活性能量線硬化性組成物含有(甲基)丙烯酸系化合物等自由基聚合性成分時，以含有光自由基聚合起始劑為佳。作為光自由基聚合起始劑例如能夠舉出苯乙酮系起始劑、二苯基酮系起始劑、苯偶姻醚系起始劑、硫雜蒽酮系起始劑、氧雜蒽酮、茀酮、樟腦醌、苯甲醛、蒽醌等。
光學積層體亦可含有黏著劑層來代替第2硬化物層25。亦即，亦可隔著黏著劑層而將光學膜30貼合在第2熱塑性樹脂膜20。針對該黏著劑層係引用後述黏著劑層之記載。
[7]光學積層體的製造
藉由隔著第1硬化物層15而將第1熱塑性樹脂膜10層積接著在光學膜30的一面，而能夠得到第2圖顯示的構成之光學積層體，而且藉由隔著第2硬化物層25而將第2熱塑性樹脂膜20進一步層積接著在光學膜30的另一面，而能夠得到第3圖顯示的構成之光學積層體。
製造具有第1熱塑性樹脂膜10及第2熱塑性樹脂膜20雙方之光學積層體時，該等薄膜可階段性地每次層積接著一面，亦可同時層積接著兩面的薄膜。
作為使光學膜30與第1熱塑性樹脂膜10接著之方法，可舉出將硬化性組成物(S)塗佈在光學膜30及第1熱塑性樹脂膜10的貼合面之任一方或其雙方，將其層積在另一方的貼合面且使用例如貼合輥等從上下按壓而 貼合之方法。
硬化性組成物(S)的塗佈係例如能夠利用刮刀片、線棒、模縫塗佈機、缺角輪塗佈機、凹版塗佈機等各種的塗佈方式。又，亦可為將光學膜30及第1熱塑性樹脂膜10以兩者的貼合面成為內側之方式連續地供給的情況下，使硬化性組成物(S)流延至其之間的方式。
將光學膜30與第1熱塑性樹脂膜10貼合之後，係以對包含光學膜30、第1硬化物層15及第1熱塑性樹脂膜10之積層體施行加熱處理為佳。加熱處理的溫度係例如40℃以上且100℃以下，較佳為50℃以上且90℃以下。藉由加熱處理而能夠將在硬化性組成物層所含有的溶劑除去。而且，藉由該加熱處理而能夠使硬化性組成物進行硬化/交聯反應。
以上接著方法亦能夠應用在光學膜30與第2熱塑性樹脂膜20之接著。
使用活性能量線硬化性組成物作為構成第2硬化物層之硬化性組成物時，係視需要進行硬化性組成物層的乾燥後，照射活性能量線而使硬化性組成物層硬化。
照射活性能量線時所使用之光源只要是能夠產生紫外線、電子射線、X射線等者即可。特別適合使用在波長400nm以下具有發光分布之例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、鹵化金屬燈等。
如第1圖顯示的在第1硬化物層15上不具 有第1熱塑性樹脂膜之光學積層體，係能夠藉由將硬化性組成物(S)塗佈在光學膜30的表面，而且對所得到的積層體例如使用熱風乾燥機施行80℃、300秒鐘的加熱處理而製造。又，製造由隔離膜/硬化性組成物(S)/光學膜30所構成之積層體製造之後，藉由將隔離膜剝離，隨後施行加熱處理亦能夠製造第1圖顯示之光學積層體。
由硬化性組成物(S)所形成之第1硬化物層15的厚度係例如1nm以上且20μm以下，以5nm以上且10μm以下為佳，較佳為10nm以上且5μm以下，更佳為20nm以上且1μm以下。由上述眾所周知的水系組成物所形成的硬化物層亦能夠具有與此相同程度的厚度。
由活性能量線硬化性組成物所形成的硬化物層之厚度係例如10nm以上且20μm以下，以100nm以上且10μm以下為佳，較佳為500nm以上且5μm以下。
第1硬化物層15與第2硬化物層25之厚度可為相同亦可為不同。
[8]光學積層體的其它構成要素 [8-1]光學功能性膜
光學積層體係除了用以賦予需要的光學功能之光學膜30(例如偏光片)以外，亦能夠具備其它的光學功能性膜，其較佳的一個例子為相位差膜。
如上述，第1熱塑性樹脂膜10及/或第2熱塑性樹脂膜20亦能夠充當相位差膜，但是該等薄膜亦能 夠另外地層積相位差膜。在後者的情況，相位差膜係能夠隔著黏著劑層或接著劑層而層積在第1熱塑性樹脂膜10、第2熱塑性樹脂膜20、第1硬化物層15及/或第2硬化物層25的外表面。針對相位差膜係引用上述[4]的記載。
在偏光板等光學積層體所能夠含有之其它光學功能性膜(光學構件)的例子為聚光板、亮度提升膜、反射層(反射薄膜)、半穿透反射層(半穿透反射膜)、光擴散層(光擴散膜)等。
聚光板係以光程控制等為目的而使用者，能夠為稜鏡陣列薄片、透鏡陣列薄片、附設斑點的薄片等。
亮度提升膜係以使應用偏光板等光學積層體的畫像顯示裝置之亮度提升為目的而使用者。具體而言，可舉出：將複數片之折射率的異向性互相不同之薄膜層積而設計成反射率產生異向性之反射型偏光分離薄片；及在基材薄膜上支撐膽固醇型液晶聚合物的配向薄膜或其配向液晶層而成之圓偏光分離薄片等。
反射層、半穿透反射層、光擴散層係各自用以將偏光板設為反射型、半穿透型、擴散型光學構件而設置者。反射型偏光板係使用在使來自觀視側的入射光反射而顯示之類型的液晶顯示裝置，因為能夠省略背光板等的光源，所以容易使液晶顯示裝置薄型化。半穿透型偏光板係使用在亮處被作為反射型且在暗處使用來自背光板的光線顯示之類型的液晶顯示裝置。又，擴散型偏光板係使用在賦予光擴散性而抑制波紋(moire)等的顯示不良之液晶 顯示裝置。反射層、半穿透反射層及光擴散層係能夠使用眾所周知的方法而形成。
[8-2]黏著劑層
光學積層體係能夠含有黏著劑層。作為黏著劑層可舉出用以將光學積層體貼合在液晶單元、有機EL顯示元件等畫像顯示元件、或其它光學構件之黏著劑層。該黏著劑層係在第1圖及2顯示之構成的光學積層體中能夠層積在光學膜30的外表面，在第3圖顯示構成之光學積層體中能夠層積在第1熱塑性樹脂膜10或第2熱塑性樹脂膜20的外表面，在第4圖顯示構成之光學積層體中能夠層積在第1硬化物層15或第2熱塑性樹脂膜20的外表面，在第5圖顯示構成之光學積層體中能夠層積在第1硬化物層15或第2硬化物層25的外表面。
將黏著劑層40層積在第3圖顯示構成之光學積層體的第2熱塑性樹脂膜20的外表面之例子，係顯示在第6圖。
作為在黏著劑層所使用的黏著劑能夠使用將(甲基)丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂、聚醚系樹脂等作為基質聚合物者。尤其是從透明性、黏著力、可靠性、耐候性、耐熱性、再加工性等的觀點而言，係以(甲基)丙烯酸系黏著劑為佳。
在(甲基)丙烯酸系黏著劑中，將具有甲基、乙基、正、異或第三丁基等碳數為20以下的烷基之(甲基)丙 烯酸烷酯、及(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥基乙酯等含官能基的(甲基)丙烯酸系單體，以使玻璃轉移溫度較佳成為25℃以下、更佳成為0℃以下之方式調配而成之重量平均分子量為10萬以上的(甲基)丙烯酸系樹脂適合用作為基質聚合物。
將黏著劑層形成在光學積層體係能夠藉由下列方式而進行：例如使黏著劑組成物溶解或分散在甲苯、乙酸乙酯等有機溶劑而調製黏著劑液，而且將該黏著劑液直接塗佈在光學積層體的對象面而形成黏著劑層之方式；及在已施行脫模處理之隔離膜上預先將黏著劑層形成為薄片狀，並將其轉移至光學積層體的對象面之方式等。
黏著劑層的厚度係按照其接著力等而決定，以1μm以上且50μm以下的範圍為佳，較佳為2μm以上且40μm以下。
光學積層體係能夠包含上述隔離膜。隔離膜能夠為由聚乙烯等聚乙烯系樹脂、聚丙烯等聚丙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂等所構成之薄膜。尤其是以聚對苯二甲酸乙二酯的延伸膜為佳。
黏著劑層可視需要而含有由玻璃纖維、玻璃珠粒、樹脂珠粒、金屬粉、其它無機粉末所構成之填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑等。
[8-3]保護膜
光學積層體係能夠含有用以保護其表面(典型上為第1 熱塑性樹脂膜10、第2熱塑性樹脂膜20、第1硬化物層15及/或第2硬化物層25的表面)的防護膜(protect film)。防護膜係例如將光學積層體貼合在畫像顯示元件或其它光學構件之後，連同其所具有的黏著劑層一起被剝離除去。
防護膜係例如由基材薄膜及層積在該基材薄上之黏著劑層所構成。針對黏著劑層係引用上述的記載。
構成基材薄膜之樹脂係例如如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、如聚丙烯的聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等熱塑性樹脂。較佳為聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂。
<畫像顯示裝置>
本發明之光學積層體係能夠應用在畫像顯示裝置。此時，畫像顯示裝置係包含光學積層體及畫像顯示元件。作為畫像顯示元件可舉出液晶單元、有機EL顯示元件等。就該等畫像顯示元件而言，能夠使用先前眾所周知者。
將偏光板之光學積層體應用在液晶顯示裝置時，光學積層體可配置在液晶單元的背光側(背面側)，亦可配置在觀視側，亦可配置在該等背面側及觀視側雙方。將偏光板之光學積層體應用在有機EL顯示裝置時，光學積層體通常係配置在有機EL顯示元件的觀視側。
[實施例]
以下，揭示實施例而更具體地說明本發明，但是本發明係不被該等例限定。例中，表示含量或使用量 之%及份係只要未特別記載，就為質量基準。
在表1中，含
Figure 107144323-A0202-12-0046-79
唑啉基的聚合物(A)、鋅化合物(B)、具有羧基的化合物(C)、及促進含
Figure 107144323-A0202-12-0046-80
唑啉基的聚合物(A)的
Figure 107144323-A0202-12-0046-81
唑啉基與化合物(C)的羧基反應之化合物(D)，係各自簡記為(A)、(B)、(C)、(D)。
(製造例：偏光片的製造)
將厚度60μm的聚乙烯醇薄膜(平均聚合度：約2,400、皂化度：99.9莫耳%以上)浸漬在30℃的純水之後，浸漬在碘/碘化鉀/水的質量比為0.02/2/100之30℃的水溶液中。隨後，浸漬在碘化鉀/硼酸/水的質量比為12/5/100之56.5℃的水溶液中。接著，使用8℃的純水洗淨之後，在65℃進行乾燥而得到碘吸附配向在聚乙烯醇薄膜之厚度23μm的偏光片。延伸主要是在碘染色及硼酸處理的步驟中進行，總延伸倍率為5.5倍。
<實施例1至5、比較例1>
(1)硬化性組成物的調製
將表1顯示之成分以表1顯示之調配量與作為溶劑的純水一起混合而調製硬化性組成物(接著劑水溶液)。表1顯示之各成分的調配量之單位為質量份，各成分的調配量為經固形物換算之量。在實施例1及實施例2中，所得到的硬化性組成物之(A)的濃度係設為7.0質量%，實施例3的硬化性組成物之(A)的濃度係設為6.0質量%，實施例4 的硬化性組成物之(A)的濃度係設為5.0質量%，實施例5的硬化性組成物之(A)的濃度係設為4.0質量%。在比較例1中，硬化性組成物之(X)的濃度係設為3.0質量%。
(2)偏光板的製造
對三乙酸纖維素(TAC)薄膜[Konica Minolta Opto(股)製的商品名「KC4UAW」、厚度：40μm]之一面施行皂化處理之後，將上述(1)調製的硬化性組成物使用棒式塗佈機而塗佈在該皂化處理面，同時對由環狀聚烯烴系樹脂所構成的零相位差膜[日本ZEON(股)製的商品名「ZEONOR」、厚度：23μm]之一面施行電暈處理，而且將上述(1)調製的硬化性組成物使用棒塗佈機而塗佈在該電暈處理面。以使硬化性組成物成為偏光片側之方式，將皂化處理完畢的TAC薄膜層積在偏光片的一面且將電暈處理完畢的零相位差膜層積在另一面，而得到具有零相位差膜/硬化性組成物層/偏光片/硬化性組成物層/TAC薄膜的層結構之積層體。藉由使用熱風乾燥機對該積層體進行80℃、300秒鐘的加熱處理，而製造具有零相位差膜/硬化物層/偏光片/硬化物層/TAC薄膜的層結構之偏光板。所製造的偏光板中之硬化物層厚度中每一層為20至60nm。
(3)光學耐久性(耐熱性)的評價
(3-1)△Ty變化率的測定
將所得到的偏光板裁斷成為30mm×30mm的大小之後， 將零相位差膜側隔著(甲基)丙烯酸系黏著劑貼合在玻璃基板而得到測定試樣。測定試樣的層結構為玻璃基板/(甲基)丙烯酸系黏著劑層/零相位差膜/硬化物層/偏光片/硬化物層/TAC薄膜。玻璃基板係使用無鹼玻璃基板[Corning公司製的商品名「Eagle XG」]。
針對所得到的測定試樣使用附積分球的分光光度計[日本分光(股)製的製品名「V7100」]而測定在波長380至780nm的範圍之MD穿透率與TD穿透率且算出在各波長之單體穿透率。針對所算出的單體穿透率，藉由JIS Z 8701：1999「顏色的表示方法-XYZ表色系及X10Y10Z10表色系」的2度區域(C光源)來進行發光因數校正且求取耐熱試驗前的發光因數校正單體穿透率Ty。又，測定試樣係將偏光板的TAC薄膜側作為偵測側且以使光從玻璃基板側入射之方式安裝在附積分球的分光光度計。
單體穿透率(%)係以下述式定義： 單體穿透率(λ)=(Tp(λ)+Tc(λ))/2。
Tp(λ)係在入射波長λ(nm)的直線偏光與平行偏光的關係下測定之測定試樣的穿透率(%)。
Tc(λ)係在入射波長λ(nm)的直線偏光與正交偏光的關係下測定之測定試樣的穿透率(%)。
其次，將該測定試樣在溫度105℃的乾燥環境下放置750小時之後，在溫度23℃、相對濕度50%RH的環境下放置24小時而提供耐熱試驗。耐熱試驗後，藉由與耐熱試驗前同樣的方法而求取發光因數校正單體穿透率 Ty。
算出耐熱試驗後的發光因數校正單體穿透率Ty與耐熱試驗前的發光因數校正單體穿透率Ty之差的絕對值(|△Ty|)。
其次，從所得到的|△Ty|之值，根據下述式而求取以比較例1的|△Ty|為基準之各例的「△Ty變化率」(%)。將△Ty變化率的算出值顯示在表1。△Ty變化率越大時，具有越優異的耐熱性。
各例的△Ty變化率(%)=|{(各例的|△Ty|)-(比較例1的|△Ty|)}|/(比較例1的|△Ty|)
又，在任一實施例及比較例中，△Ty均顯示負值。
(3-2)△ab變化率的測定
將所得到的偏光板裁斷成為30mm×30mm的大小之後，將零相位差膜側隔著(甲基)丙烯酸系黏著劑而貼合在玻璃基板以得到測定試樣。測定試樣的層結構為玻璃基板/(甲基)丙烯酸系黏著劑層/零相位差膜/硬化物層/偏光片/硬化物層/TAC薄膜。玻璃基板係使用無鹼玻璃基板[Corning公司製的商品名「Eagle XG」]。
針對所得到的測定試樣，使用附積分球的分光光度計[日本分光(股)製的製品名「V7100」]而測定在波長380至780nm的範圍之MD穿透率及TD穿透率且算出 在各波長之單體穿透率。使用所算出的單體穿透率，針對穿透色相的a值及b值算出根據CIE(國際照明委員會)所規定的Lab表色系的穿透色相的a值及b值。
其次，將該測定試樣在溫度105℃的乾燥環境下放置750小時後，在溫度23℃、相對濕度50%RH的環境下放置24小時而提供耐熱試驗。耐熱試驗後，係使用與耐熱試驗前同樣的方法而求取穿透色相的a值及b值。使用所測得之耐久前後的a值及b值且依照下述式而計算藉由耐熱試驗得到之色相變化的指標之△ab值的絕對值(|△ab|)。
|△ab|=|{(a(耐久試驗後)-a(耐久試驗前))2+(b(耐久試驗後)-b(耐久試驗前))2}1/2|
其次，從所得到的|△ab|之值，根據下述式而求取以比較例1的|△ab為基準之各例的「△ab變化率」(%)。將△ab變化率的算出值顯示在表1。△ab變化率越大時，具有越優異的耐熱性。
各例的△ab變化率(%)=100×|{(各例的|△ab|)-(比較例1的|△ab|)}|/(比較例1的|△ab|)
又，在任一實施例及比較例中，△ab均顯示正值。
Figure 107144323-A0202-12-0051-90
表1顯示之各成分的詳細資料係如以下。
a1：日本觸媒股份有限公司製的商品名「EPOCROSS WS-300」[具有2-
Figure 107144323-A0202-12-0051-82
唑啉基作為側鏈之含
Figure 107144323-A0202-12-0051-83
唑啉基的丙烯酸系聚合物的水溶液、固形物濃度：10質量%、
Figure 107144323-A0202-12-0051-84
唑啉價(理論值)：130g solid/eq.、
Figure 107144323-A0202-12-0051-85
唑啉基量(理論值)：7.7mmol/g,solid、數量平均分子量：4×104、重量平均分子量：12×104)]
b1：氯化鋅(ZnCl2)
b2：碘化鋅(ZnI2)
c1：檸檬酸
d1：硫酸
x1：日本合成化學工業股份公司製之商品名「Gohsefimer Z-200」[乙醯乙醯基改性聚乙烯醇、平均聚合度：1100、皂化度：98.5莫耳%以上]
y1：乙二醛
15‧‧‧第1硬化物層
30‧‧‧光學膜

Claims (8)

  1. 一種硬化性組成物，係含有：含
    Figure 107144323-A0305-02-0055-10
    唑啉基的聚合物(A)、鋅化合物(B)、以及選自由具有羧基的化合物(C)及化合物(C)的酸酐所組成群組之至少1種；其中，前述含
    Figure 107144323-A0305-02-0055-2
    唑啉基的聚合物(A)之重量平均分子量為5000以上100萬以下，前述鋅化合物(B)為無機鋅鹽，前述具有羧基的化合物(C)之分子量為1000以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之硬化性組成物，更含有：促進含
    Figure 107144323-A0305-02-0055-11
    唑啉基的聚合物(A)的
    Figure 107144323-A0305-02-0055-4
    唑啉基與具有羧基的化合物(C)的羧基反應之化合物(D)。
  3. 一種光學積層體，係包含光學膜、及由申請專利範圍第1或2項所述之硬化性組成物的硬化物所構成之第1硬化物層。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光學積層體，係依序包含前述光學膜、前述第1硬化物層、及第1熱塑性樹脂膜。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光學積層體，係依序包含第2熱塑性樹脂膜、第2硬化物層、前述光學膜、前述第1硬化物層、及前述第1熱塑性樹脂膜。
  6. 如申請專利範圍第3至5項中任一項所述之光學積層體，其中前述光學膜為偏光片。
  7. 一種畫像顯示裝置，係包含申請專利範圍第3至6項中任 一項所述之光學積層體、及畫像顯示元件。
  8. 一種偏光板用接著劑組成物，係含有含
    Figure 107144323-A0305-02-0056-12
    唑啉基的聚合物(A)、及鋅化合物(B)；其中，前述含
    Figure 107144323-A0305-02-0056-13
    唑啉基的聚合物(A)之重量平均分子量為5000以上100萬以下，前述鋅化合物(B)為無機鋅鹽，相對於前述含
    Figure 107144323-A0305-02-0056-14
    唑啉基的聚合物(A)100質量份，前述鋅化合物(B)的含量為1質量份以上且300質量份以下。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021179604A (ja) * 2020-05-08 2021-11-18 日東電工株式会社 画像表示装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102221725A (zh) * 2010-04-14 2011-10-19 日东电工株式会社 偏振片和图像显示装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03103801A (ja) * 1989-09-18 1991-04-30 Toray Ind Inc 偏光フィルム
JP2005091988A (ja) * 2003-09-19 2005-04-07 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 熱現像感光材料及び画像形成方法
JP2005275216A (ja) * 2004-03-26 2005-10-06 Teijin Ltd 偏光板
JP4744483B2 (ja) * 2007-06-27 2011-08-10 日東電工株式会社 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP5399082B2 (ja) * 2008-01-17 2014-01-29 日東電工株式会社 偏光板および偏光板を用いた画像表示装置
JP2011232451A (ja) * 2010-04-26 2011-11-17 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路用塗布液、光導波路および電子機器
JP5786862B2 (ja) * 2010-09-06 2015-09-30 凸版印刷株式会社 透明基材およびその製造方法
JP5679946B2 (ja) * 2011-10-24 2015-03-04 三菱樹脂株式会社 積層ポリエステルフィルム
JP6146008B2 (ja) * 2011-12-28 2017-06-14 東洋紡株式会社 液晶表示装置、偏光板及び偏光子保護フィルム
KR101902907B1 (ko) * 2013-08-08 2018-11-13 동우 화인켐 주식회사 접착제 조성물 및 이를 이용한 복합 편광판
JP6214502B2 (ja) * 2013-11-06 2017-10-18 富士フイルム株式会社 偏光板の製造方法
CN105829099B (zh) * 2013-12-25 2018-02-16 日本瑞翁株式会社 叠层膜、及复合膜的制造方法
JP6097236B2 (ja) * 2014-02-28 2017-03-15 富士フイルム株式会社 環状オレフィン系フィルム、光学フィルム、導電性フィルム、プリンテッドエレクトロニクス用基材フィルム、バリアフィルム、タッチパネル、偏光板および表示装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102221725A (zh) * 2010-04-14 2011-10-19 日东电工株式会社 偏振片和图像显示装置

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