TWI801501B - 導熱性片 - Google Patents

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TWI801501B
TWI801501B TW108104939A TW108104939A TWI801501B TW I801501 B TWI801501 B TW I801501B TW 108104939 A TW108104939 A TW 108104939A TW 108104939 A TW108104939 A TW 108104939A TW I801501 B TWI801501 B TW I801501B
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TW
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conductive sheet
heat conduction
layer
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小谷野茂
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日商積水保力馬科技股份有限公司
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Abstract

本發明之導熱性片1具備分別包含高分子基質2與異向性填充材3、且異向性填充材3於厚度方向上定向之第1及第2導熱層1a、1b。第1及第2導熱層1a、1b隔著異向性填充材3之填充比率低於第1及第2導熱層1a、1b之界面5而積層。

Description

導熱性片
本發明係關於一種導熱性片,例如係關於一種配置於發熱體與散熱體之間使用之導熱性片。
於電腦、汽車零件、行動電話等電子機器中,為了將自半導體元件或機械零件等發熱體所產生之熱散出,通常使用散熱器(heat sink)等散熱體。已知有為了提高對散熱體之導熱效率,於發熱體與散熱體之間配置導熱性片。 導熱性片於配置於電子機器內部時通常將其壓縮後使用,要求高柔軟性。因此,向橡膠或凝膠等柔軟性較高之高分子基質摻合具有導熱性之填充材而構成。又,關於導熱性片,普遍知曉有為了提高厚度方向之導熱性,使碳纖維等具有異向性之填充材於厚度方向上定向。
以往,對導熱性片嘗試有提高導熱性之各種試驗,例如,已知有如專利文獻1~3所揭示,使厚度方向上定向之碳纖維露出或突出至表面。 又,亦已知有導熱性片存在固定於被接著面之情形,另一方面存在於組裝至電子機器時被迫滑動等情形,故將一面作為黏著面,並且將另一面作為非黏著面。例如,專利文獻1中揭示有藉由成形模具製作含有於厚度方向上定向之碳纖維之成形片材,將其沿著面方向切割成2張,藉此獲得模具成形面為黏著面,切割面為非黏著面之導熱性片。
又,以往,導熱性片存在為了賦予各種功能而製成多層構造之情形。例如,於專利文獻2中,嘗試將複數個兩面露出碳纖維之導熱性構件積層而製成積層體。於專利文獻2中,藉由將露出之碳纖維於層間連接,即便於積層體中亦確保厚度方向之導熱性。 又,於專利文獻3中,揭示有於包含於厚度方向上定向之碳纖維之碳纖維定向導熱層積層含有由球狀氧化鋁等所構成之絕緣性導熱性填充材之絕緣導熱層而得之導熱性片。關於專利文獻3中揭示之導熱性片,藉由設置絕緣導熱層,使厚度方向之導熱性良好,並且提高厚度方向之絕緣性,能夠於廣泛之用途中使用。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1:日本特開2011-231242號公報 專利文獻2:日本特開2016-000506號公報 專利文獻3:國際公開2016/208458號
[發明所欲解決之課題]
然而,如專利文獻2般,若將碳纖維露出之導熱性構件彼此積層,則確保優異之導熱性,但碳纖維阻礙層間之接著,於層間產生較多氣泡,又,易發生導熱性構件彼此未充分接著等缺點。進而,於專利文獻2中揭示之積層構造中,由於大量碳纖維於層間連接,故無法確保厚度方向之絕緣性,於電子機器內部僅可用於有限之用途。 另一方面,於專利文獻3中,維持一定之導熱性,並且確保厚度方向之絕緣性,但近年來由於電子機器之小型化等,而要求導熱性片進一步提高導熱性。
因此,本發明之課題在於提供一種導熱性片,其係於將異向性填充材於厚度方向上定向之導熱層製成積層構造時,能夠確保厚度方向之導熱性,並且使層間之接著性良好。又,本發明之另一課題在於提供一種確保絕緣性並且具有優異之導熱性之導熱性片。 [解決課題之技術手段]
本發明者進行了深入研究,結果發現,於將異向性填充材於厚度方向上定向之導熱層製成積層構造時,藉由設置異向性填充材之填充比率低於導熱層之界面,可解決上述課題,從而完成了以下之本發明。 即,本發明提供以下之[1]~[15]。 [1]一種導熱性片,其具備第1及第2導熱層,該第1及第2導熱層分別包含高分子基質與異向性填充材,上述異向性填充材於厚度方向上定向; 上述第1及第2導熱層隔著界面而積層, 上述界面包含上述高分子基質,且上述異向性填充材之填充比率低於上述第1及第2導熱層。 [2]如上述[1]中記載之導熱性片,其進而包含非異向性填充材。 [3]如上述[2]中記載之導熱性片,其中,上述第1及第2導熱層及上述界面含有非異向性填充材, 上述界面之上述非異向性填充材之填充比率高於上述第1及第2導熱層。 [4]如上述[2]或[3]中記載之導熱性片,其中,上述非異向性填充材具有絕緣性。 [5]如上述[1]至[4]中任一項所記載之導熱性片,其中,上述異向性填充材具有導電性。 [6]如上述[1]至[5]中任一項所記載之導熱性片,其中,上述異向性填充材為石墨化碳纖維。 [7]如上述[1]至[6]中任一項所記載之導熱性片,其中,上述第1導熱層所含有之上述異向性填充材之第2導熱層側之端部與上述第2導熱層所含有之上述異向性填充材之第1導熱層側之端部相對向,且上述第1導熱層所含有之上述異向性填充材與上述第2導熱層所含有之上述異向性填充材實質上不交叉。 [8]如上述[1]至[7]中任一項所記載之導熱性片,其中,於上述導熱性片之上述第1導熱層側之表面,上述異向性填充材自上述高分子基質突出,且於上述導熱性片之上述第2導熱層側之表面,上述異向性填充材未自高分子基質突出。 [9]如上述[1]至[8]中任一項所記載之導熱性片,其中,上述導熱性片之上述第1導熱層側之表面之摩擦係數低於上述導熱性片之上述第2導熱層側之表面之摩擦係數。 [10]如上述[9]中記載之導熱性片,其中,上述導熱性片之上述第1導熱層側之表面之摩擦係數未達0.3,且上述導熱性片之上述第2導熱層側之表面之摩擦係數為0.3以上。 [11]如上述[1]至[10]中任一項所記載之導熱性片,其中,上述界面之厚度為60 μm以下。 [12]一種導熱性片之製造方法,其準備第1及第2片材,以上述第1片材之一表面與上述第2片材之一表面相接之方式將上述第1及第2片材積層,藉此獲得導熱性片,該第1及第2片材分別包含高分子基質與異向性填充材,上述異向性填充材於厚度方向上定向, 至少上述第2片材之上述一表面係由上述異向性填充材之填充比率低於上述第2片材之其他部分的表層形成。 [13]如上述[12]中記載之導熱性片之製造方法,其中,上述第2片材之上述一表面具有黏著性。 [14]如上述[12]或[13]中記載之導熱性片之製造方法,其中,上述第1片材之上述一表面及上述第2片材之上述一表面中的至少任一者之表面粗糙度Ra為4 μm以下。 [15]如上述[14]中記載之導熱性片之製造方法,其中,上述第1片材之上述一表面之異向性填充材自高分子基質突出,且表面粗糙度Ra為4 μm以下。 [發明之效果]
根據本發明,藉由設置異向性填充材之填充比率低於導熱層之界面,即便將導熱層製成積層構造,亦能夠確保厚度方向之導熱性,並且使層間之接著性良好。 又,於本發明中,藉由導熱性片含有絕緣性之非異向性填充材,且使上述界面之非異向性填充材之填充比率高於導熱層,亦可提供一種確保絕緣性並且具有優異之導熱性之導熱性片。
以下,對本發明之實施形態之導熱性片進行詳細說明。 [第1實施形態] 圖1表示第1實施形態之導熱性片。第1實施形態之導熱性片1具備第1及第2導熱層1a、1b,該等分別包含高分子基質2與異向性填充材3,且異向性填充材3於厚度方向上定向;且第1及第2導熱層1a、1b隔著界面5而積層。界面5包含高分子基質2,且異向性填充材3之填充比率低於第1及第2導熱層1a、1b。 如此,本發明之導熱性片1藉由隔著異向性填充材3之填充比率較低之界面5而積層第1及第2導熱層1a、1b,能夠確保厚度方向之導熱性,並且層間之接著性良好。
導熱性片1進而含有非異向性填充材4。導熱性片1藉由含有非異向性填充材4而使導熱性更加良好。非異向性填充材4含有於第1及第2導熱層1a、1b及界面5。又,於導熱性片1中,較佳為異向性填充材3具有導電性,另一方面非異向性填充材4具有絕緣性。再者,於本發明中,具有導電性例如係指體積電阻率為1×109 Ω·cm以下之情形。又,具有絕緣性例如係指體積電阻率超過1×109 Ω·cm之情形。
於本實施形態中,界面5之非異向性填充材4之填充比率高於第1及第2導熱層1a、1b之非異向性填充材4之填充比率。因此,導熱性片1藉由存在於界面5之非異向性填充材4進行電阻斷,藉此,可提高厚度方向之絕緣性。因此,能夠將導熱性片1用於各種用途。 又,於界面5中,如上所述,異向性填充材3之填充比率降低,但由於藉由非異向性填充材4進行導熱,故導熱性片1之厚度方向之導熱性變得優異。
其次,詳細說明構成導熱性片之各構件。 <高分子基質> 導熱性片1中使用之高分子基質2為彈性體或橡膠等高分子化合物,較佳為使用將由如主劑與硬化劑之混合系所構成之液狀高分子組成物(硬化性高分子組成物)硬化而形成者。硬化性高分子組成物例如可為由未交聯橡膠與交聯劑所構成者,亦可為包含單體、預聚物等及硬化劑等者。又,上述硬化反應可為常溫硬化,亦可為熱硬化。
由硬化性高分子組成物形成之高分子基質可例示聚矽氧橡膠。若高分子基質為聚矽氧橡膠,則硬化性高分子組成物例如使用加成反應型者,更具體而言,使用包含含有烯基之有機聚矽氧烷及有機氫聚矽氧烷者即可。
又,作為橡膠,除上述以外,亦能夠使用各種合成橡膠,作為具體例,例如可列舉:丙烯酸橡膠、腈橡膠、異戊二烯橡膠、胺酯(urethane)橡膠、乙烯丙烯橡膠、苯乙烯・丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、氟橡膠、丁基橡膠等。於使用該等橡膠之情形時,合成橡膠於導熱性片1中可交聯,亦可為未交聯(即未硬化)之狀態。未交聯之橡膠主要用於流動定向。 又,於交聯(即硬化)之情形時,如上述所說明,高分子基質只要為將以由該等合成橡膠構成之未交聯橡膠與交聯劑所構成之硬化性高分子組成物硬化而得者即可。 又,作為彈性體,亦能夠使用聚酯系熱塑性彈性體、聚胺酯(polyurethane)系熱塑性彈性體等熱塑性彈性體、或將由主劑與硬化劑所構成之混合系之液狀高分子組成物硬化而形成之熱硬化型彈性體。例如,可例示將包含具有羥基之高分子與異氰酸酯之高分子組成物硬化而形成之聚胺酯系彈性體。 上述中,例如就硬化後之高分子基質尤其柔軟,且導熱性填充材之填充性較佳之方面而言,較佳為使用聚矽氧橡膠、尤其是加成反應型聚矽氧橡膠。
又,用以形成高分子基質之高分子組成物可為由高分子化合物單質所構成者,但亦可為由高分子化合物與塑化劑所構成者。塑化劑適宜地用於使用合成橡膠之情形,藉由包含塑化劑,提高未交聯時之高分子基質之柔軟性,且接著性良好。 塑化劑使用與高分子化合物具有相容性者,具體而言,較佳為酯系塑化劑或聚矽氧油。作為酯系塑化劑之具體例,例如可列舉:鄰苯二甲酸酯、己二酸酯、1,2,4-苯三甲酸酯、磷酸酯、癸二酸酯、壬二酸酯、順丁烯二酸酯、苯甲酸酯等。作為聚矽氧油,可列舉聚二甲基矽氧烷。
關於塑化劑相對於高分子化合物之含量,塑化劑/高分子化合物以質量比計較佳為20/80~60/40,更佳為30/70~55/45。藉由將塑化劑/高分子化合物之質量比設為60/40以下,藉由高分子化合物容易保持填充材。又,藉由設為20/80以上,高分子基質之柔軟性變充分,易提高第1及第2導熱層之接著性等。塑化劑適宜地用於藉由下述流動定向而使異向性填充材定向之情形。 高分子基質之含量若以體積%表示,相對於導熱性片總量,較佳為20~50體積%,更佳為30~45體積%。
<異向性填充材> 摻合至高分子基質2之異向性填充材3係形狀具有異向性之填充材,亦係能夠定向之填充材。作為異向性填充材3,可列舉纖維狀材料、鱗片狀材料等。異向性填充材3一般而言為高縱橫比者,較佳為縱橫比超過2,更佳為5以上。藉由將縱橫比設為大於2,易使異向性填充材3於厚度方向上定向,易提高導熱性片1之導熱性。 又,縱橫比之上限無特別限定,但就實用而言為100。 再者,縱橫比係異向性填充材3之長軸方向之長度相對於短軸方向之長度之比,於纖維狀材料中,意指纖維長度/纖維之直徑,於鱗片狀材料中,意指鱗片狀材料之長軸方向之長度/厚度。 異向性填充材3就提高導熱性之觀點及易獲得設置界面5之效果之方面而言,較佳為纖維狀材料。
異向性填充材3之含量於導熱性片中較佳為相對於高分子基質100質量份為75~250質量份,更佳為100~200質量份。又,異向性填充材3之含量若以體積%表示,相對於導熱性片總量,較佳為10~35體積%,更佳為13~30體積%。 藉由將異向性填充材3之含量設為75質量份以上,易提高導熱性,藉由將其設為150質量份以下,下述混合組成物之黏度易變得適當,且異向性填充材3之定向性良好。
於異向性填充材3為纖維狀之情形時,其平均纖維長較佳為10~500 μm,更佳為20~200 μm。若將平均纖維長設為10 μm以上,則於各導熱層1a、1b中,異向性填充材彼此適當接觸,確保熱之傳導路徑,導熱性片1之導熱性變良好。 另一方面,若將平均纖維長設為500 μm以下,則異向性填充材之體積變小,於高分子基質中可實現高填充。進而防止導熱性片之導電性變得過高。 再者,上述平均纖維長可藉由顯微鏡觀察異向性填充材而算出。更具體而言,例如可使用電子顯微鏡或光學顯微鏡測定任意50個異向性填充材之纖維長度,將其平均值(算術平均值)設為平均纖維長度。
又,於第1及第2導熱層1a、1b各者中,較佳為纖維狀材料之平均纖維長度短於該第1及第2導熱層1a、1b各者之厚度。藉由短於導熱層1a、1b各者之厚度,使異向性填充材3偏集存在於第1及第2導熱層1a、1b,易降低該等之間之界面5之異向性填充材3之填充比率。 又,於第1及第2導熱層1a、1b各者中,關於纖維狀材料,較佳為平均纖維長度為第1及第2導熱層1a、1b之各者之厚度之80%以下、且超過該等各者之厚度之90%之纖維長度之纖維狀材料之含量相對於各層1a、1b所含有之纖維狀材料為5質量%以下。藉由此種態樣,防止於對導熱性片1進行壓縮時纖維狀材料成為超過其壓縮厚度之長度。因此,對纖維狀材料於使用時貫通界面而自一導熱層穿透至另一導熱層之擔憂亦減少,易確保厚度方向之絕緣性。
進而,於第1及第2導熱層1a、1b各者中,纖維狀材料較佳為包含具有纖維長度為該第1及第2導熱層1a、1b各者之厚度之50%以下之纖維長度的纖維狀材料。各導熱層藉由包含具有此種纖維長度之纖維狀材料,纖維狀材料易均勻地分布。 又,就減少貫通界面5、或於界面5交叉之纖維狀材料之量之觀點而言,較佳為纖維狀材料之粒度分布較窄。另一方面,就可提高導熱率之觀點而言,可混合使用具備不同粒度分布之複數種纖維狀材料。
又,於異向性填充材3為鱗片狀材料之情形時,其平均粒徑較佳為10~400 μm,更佳為15~300 μm。又,特佳為20~200 μm。藉由將平均粒徑設為10 μm以上,於各導熱層1a、1b中異向性填充材3彼此易接觸,確保熱之傳導路徑,導熱性片1之導熱性變良好。另一方面,藉由將平均粒徑設為400 μm以下,異向性填充材3之體積變小,於高分子基質2中能夠高填充異向性填充材3。 再者,鱗片狀材料之平均粒徑可藉由顯微鏡觀察異向性填充材,將長徑作為直徑而算出。更具體而言,例如可使用電子顯微鏡或光學顯微鏡,測定任意50個異向性填充材之長徑,將其平均值(算術平均值)作為平均纖維長度。
異向性填充材3使用具有導熱性之公知之材料即可,一般而言使用具有導電性者。又,如下所述,異向性填充材3為了可進行磁場定向,較佳為具備反磁性。 作為異向性填充材3之具體例,可列舉碳纖維、鱗片狀碳粉末所代表之碳系材料、金屬纖維所代表之金屬材料或金屬氧化物、氮化硼或金屬氮化物、金屬碳化物、金屬氫氧化物等。該等之中,碳系材料由於比重小,於高分子基質2中之分散性能良好,故較佳,其中,更佳為導熱率較高之石墨化碳材料。石墨化碳材料藉由石墨面於特定方向上一致而具備異向性反磁性磁化率。又,氮化硼等亦係藉由晶面於特定方向上一致而成為具備異向性反磁性磁化率者。 因此,就藉由磁場定向可定向於任意方向之觀點而言,較佳為如上所述具備異向性反磁性磁化率之鱗片狀氮化硼或石墨化碳材料。 此處,異向性反磁性磁化率係表示異向性填充材3之反磁性磁化率之異向性之物性值(CGS單位制)。即,該異向性反磁性磁化率係從藉由自外部施加磁場而產生之異向性填充材3之磁化率減去例如與纖維軸方向或鱗片面之面內方向垂直之方向之磁化率所得之值。該異向性反磁性磁化率可藉由磁異向性扭矩儀、振動式磁力計、超導量子干涉元件(SQUID)、懸浮液法等公知之方法進行測定。
又,異向性填充材3並無特別限定,但沿具有異向性之方向(即長軸方向)之導熱率一般而言為60 W/m・K以上,較佳為400 W/m・K以上。關於異向性填充材3之導熱率,其上限無特別限定,例如為2000 W/m・K以下。導熱率之測定方法為雷射閃光法。
異向性填充材3可單獨使用1種,亦可併用2種以上。例如,作為異向性填充材3,可使用至少2種具有互不相同之平均粒徑或平均纖維長度之異向性填充材3。認為若使用大小不同之異向性填充材,則藉由在相對較大之異向性填充材之間混入較小之異向性填充材,可於高分子基質中以高密度填充異向性填充材,並且可提高導熱率。
用作異向性填充材3之碳纖維較佳為石墨化碳纖維。又,作為鱗片狀碳粉末,較佳為鱗片狀石墨粉末。異向性填充材3於該等之中更佳為石墨化碳纖維。 石墨化碳纖維之石墨之晶面於纖維軸方向相連,於其纖維軸方向具備高導熱率。因此,藉由使其纖維軸方向於特定方向上一致,可提高特定方向之導熱率。又,鱗片狀石墨粉末之石墨之晶面於鱗片面之面內方向相連,於其面內方向具備高導熱率。因此,藉由使該鱗片面於特定方向一致,可提高特定方向之導熱率。石墨化碳纖維及鱗片石墨粉末較佳為具有高石墨化度者。
作為上述石墨化碳纖維、鱗片狀石墨粉末等石墨化碳材料,可使用將以下之原料石墨化而得者。例如可列舉萘等縮合多環烴化合物、PAN(聚丙烯腈)、瀝青等縮合雜環化合物等,特佳為使用石墨化度較高之石墨化中間相瀝青或聚醯亞胺、聚苯并唑(polybenzazole)。例如藉由使用中間相瀝青,於下述紡絲步驟中,瀝青因其異向性而於纖維軸方向上定向,可獲得於其纖維軸方向上具有優異之導熱性之石墨化碳纖維。 石墨化碳纖維之中間相瀝青之使用態樣只要能夠紡絲則無特別限定,可單獨使用中間相瀝青,亦可與其他原料組合使用。其中,單獨使用中間相瀝青、即中間相瀝青含量100%之石墨化碳纖維就高導熱化、紡絲性及品質之穩定性之方面而言最佳。
石墨化碳纖維可使用依序進行紡絲、不熔化及碳化之各處理,於粉碎或切割成特定之粒徑後進行石墨化而得者,或於碳化後進行粉碎或切割後進行石墨化而得者。於在石墨化前進行粉碎或切割之情形時,由於在藉由粉碎而新露出至表面之表面,於石墨化處理時易進行縮聚反應、環化反應,故可獲得石墨化度提高、且導熱性更進一步提高之石墨化碳纖維。另一方面,於在將紡絲之碳纖維石墨化之後進行粉碎之情形時,由於石墨化後之碳纖維較硬,故易粉碎,藉由短時間之粉碎可獲得纖維長度分布相對狹窄之碳纖維粉末。
石墨化碳纖維之纖維直徑無特別限定,較佳為5~20 μm。纖維直徑於5~20 μm之範圍內容易工業上生產,可增大所獲得之導熱性片之導熱性。 石墨化碳纖維之平均纖維長度如上所述較佳為10~500 μm,更佳為20~200 μm。又,石墨化碳纖維之縱橫比如上所述較佳為超過2,更佳為5以上。 石墨化碳纖維之導熱率無特別限定,但纖維軸方向上之導熱率較佳為400 W/m・K以上,更佳為800 W/m・K以上。
異向性填充材3於各導熱層中於厚度方向上定向。若更具體地說明異向性填充材3之厚度方向之定向,則指處於纖維軸相對於導熱性片1之厚度方向所成之角度未達30°之碳纖維粉末數量之比率超過50%之狀態。 再者,異向性填充材3之定向方向就提高導熱率之觀點而言,較佳為將纖維軸相對於厚度方向所成之角度設為0°。另一方面,就可降低對導熱性片1進行壓縮時之負載之方面而言,亦可於5~30°之範圍內使其傾斜。
又,異向性填充材3於導熱性片1之厚度方向上偏集存在於第1及第2導熱層1a、1b。此處,偏集存在意指異向性填充材3之濃度(填充比率)有偏差,意味著第1及第2導熱層1a、1b之間之界面5之異向性填充材3之填充比率低於第1及第2導熱層1a、1b之填充比率。
<非異向性填充材> 非異向性填充材4係有別於異向性填充材3而另外含有於導熱性片1之導熱性填充材,亦係與異向性填充材3一起對導熱性片1賦予導熱性之材料。於本實施形態中,藉由含有非異向性填充材4,於定向之異向性填充材3之間之間隙介置填充材,獲得導熱率較高之導熱性片1。 非異向性填充材4係形狀上實質上不具有異向性之填充材,亦係即便於異向性填充材3於下述磁力線產生下或剪力作用下等定向於特定方向之環境下,亦不定向於該特定方向之填充材。
關於非異向性填充材4,其縱橫比較佳為2以下,更佳為1.5以下。於本實施形態中,藉由含有如此縱橫比較低之非異向性填充材4,於異向性填充材3之間隙適當介置具有導熱性之填充材,獲得導熱率較高之導熱性片1。又,藉由將縱橫比設為2以下,能夠防止下述混合組成物之黏度上升,實現高填充。
關於非異向性填充材4之具體例,例如可列舉:金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬氫氧化物、碳材料等。又,非異向性填充材4之形狀可列舉球狀、不定形之粉末等。 於非異向性填充材4中,作為金屬,可例示:鋁、銅、鎳等,作為金屬氧化物,可例示氧化鋁、氧化鎂、氧化鋅、石英等,作為金屬氮化物,可例示氮化硼及氮化鋁等。又,作為金屬碳化物,可列舉碳化矽,作為金屬氫氧化物,可列舉氫氧化鋁。進而作為碳材料,可列舉球狀石墨等。 該等之中,氧化鋁或鋁就導熱率高且易獲取球狀者之方面而言較佳,氫氧化鋁就易獲取且可提高導熱性片之阻燃性之方面而言較佳。
非異向性填充材4較佳為具有絕緣性者,具體而言,較佳為使用金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氫氧化物、金屬碳化物,其中,更佳為氧化鋁、氫氧化鋁。於本實施形態中,藉由非異向性填充材4具有絕緣性,導熱性片1藉由非異向性填充材4之填充比率較高之界面而易確保厚度方向之絕緣性。
非異向性填充材4之平均粒徑較佳為0.1~50 μm,更佳為0.5~35 μm。又,特佳為1~15 μm。藉由將平均粒徑設為50 μm以下,不易發生擾亂異向性填充材3之定向等缺點。又,藉由將平均粒徑設為0.1 μm以上,非異向性填充材4之比表面積不會變得過大,即便大量摻合,混合組成物之黏度亦不易上升,易實現非異向性填充材4之高填充。 再者,非異向性填充材4之平均粒徑可藉由電子顯微鏡等觀察而測定。更具體而言,例如可使用電子顯微鏡或光學顯微鏡,測定任意50個非異向性填充材之粒徑,將其平均值(算術平均值)作為平均粒徑。
非異向性填充材4之含量相對於高分子基質100質量份,較佳為250~800質量份之範圍,更佳為350~700質量份之範圍。藉由設為250質量份以上,介置於異向性填充材3彼此之間隙之非異向性填充材4之量較充分,導熱性變良好。另一方面,藉由設為800質量份以下,可獲得提高與含量相應之導熱性之效果,又,亦不存在因非異向性填充材4而阻礙異向性填充材3之導熱之情形。又,藉由設為350~700質量份之範圍內,導熱性片1之導熱性優異,混合組成物之黏度亦變得適宜。 再者,非異向性填充材4之含量若以體積%表示,則相對於導熱性片總量,較佳為25~60體積%,更佳為35~50體積%。
<界面> 如上所述,位於第1及第2導熱層1a、1b之間之界面5係包含高分子基質2,且異向性填充材3之填充比率低於第1及第2導熱層1a、1b之部分。 即,界面5沿著導熱性片1之面方向,於異向性填充材3較少或不存在異向性填充材3之狀態下以高分子基質2呈面狀擴展之方式構成。因此,第1及第2導熱層1a、1b易隔著界面5相互接著。又,於異向性填充材3具有導電性之情形時,通過該界面5,第1及第2導熱層1a、1b被電阻斷,從而提高導熱性片1之厚度方向之絕緣性。
此處,上述界面5之異向性填充材3之上述填充比率較佳為第1及第2導熱層1a、1b之異向性填充材3之填充量之20%以下。 異向性填充材之填充比率可劃出特定長度(400 μm)之垂直於厚度方向之線,基於位於該線上之異向性填充材3之數量而求出。又,可將第1及第2導熱層1a、1b之厚度方向之中心位置之填充比率作為第1及第2導熱層1a、1b各者之填充比率。 具體而言,上述填充比率為20%以下之區域意指如下區域:於導熱性片1之剖面中,於第1導熱層1a之厚度方向之中心位置劃出400 μm長之垂直於厚度方向之線時,將相對於位於該線上之異向性填充材3之數量,位於在第1導熱層1a側之界面附近且相同長度之線上之異向性填充材3之數量成為20%的線作為第1邊界線,於該邊界線之外側且異向性填充材3之比率成為20%以下的區域。又,同樣地意指如下區域:於第2導熱層1b之厚度方向之中心位置劃出400 μm長之垂直於厚度方向之線時,將相對於位於該線上之異向性填充材3之數量,位於在第2導熱層1b側之界面附近且相同長度之線上之異向性填充材3之數量成為20%之線作為第2邊界線,於該邊界線之外側且異向性填充材3之比率成為20%以下的區域。再者,第1及第2邊界線係垂直於厚度方向之線。 界面5較佳為包含如此獲得之第1邊界線與第2邊界線所夾之區域。又,於異向性填充材3之比率成為20%以下之上述區域內,較佳為進而具有異向性填充材3之比率成為10%以下之邊界線所夾之區域,該比率更佳為5%以下,進而較佳為1%以下。
如圖1所示,界面5亦可被認為係第1導熱層1a所含有之異向性填充材3之第2導熱層1b側之端部(以下亦僅稱為「下端」)3c與第2導熱層1b所含有之異向性填充材3之第1導熱層1a側之端部(以下亦僅稱為「上端」)3d相對向之部分。導熱性片1藉由如此使異向性填充材3之端部3c、3d彼此相對向,可於導熱性幾乎不降低之情況下維持高導熱性。
並且,第2導熱層1b所含有之異向性填充材3與第1導熱層1a所含有之異向性填充材3實質上不相互交叉。藉由異向性填充材3實質上不交叉,可充分減少界面5之異向性填充材3之填充比率。 此處,實質上不交叉,意指除於製造時等不可避免之交叉以外之不交叉。具體而言,意指如下情況:於導熱性片1之剖面中,於第1及第2導熱層1a、1b各者之厚度方向之中心位置劃出400 μm長之垂直於厚度方向之線時,算出位於各線上之異向性填充材3之數量(A1、A2),算出其合計值(A1+A2)。並且,相對於該合計值,於相同長度下,交叉之異向性填充材3之數量充分少。更具體而言,其比率為20%以下,較佳為10%以下,更佳為1%以下,最佳為0%。再者,交叉之異向性填充材3之數量係於界面5內劃出400 μm長之垂直於厚度方向之線時,算出位於該線上之第1導熱層1a之異向性填充材3及第2導熱層1b所含有之異向性填充材3之數量之合計而求出之值,亦係於厚度方向上最少時之值。
又,較佳為第1導熱層1a所包含之異向性填充材3與第2導熱層1b所包含之異向性填充材3實質上互不接觸。再者,實質上不接觸意指第1導熱層1a所包含之大部分異向性填充材3不與第2導熱層1b所包含之異向性填充材3接觸。具體而言,於對剖面觀察界面附近時,互相接觸之異向性填充材3之數量之比率為3%以下,較佳為1%以下,最佳為0%。再者,接觸數量之比率係於界面中,觀察到100個第1導熱層1a所包含之異向性填充材3與100個第2導熱層1b所包含之異向性填充材3時,相互接觸之異向性填充材3之數量相對於其合計數量(200個)之比率。 如此,第1導熱層1a中之異向性填充材3與第2導熱層1b中之異向性填充材藉由於界面5中互不接觸,易確保厚度方向之絕緣性。
又,於界面5中,由於如上述般異向性填充材3之填充比率變低,故與其比率變低之量相應地,非異向性填充材4之填充比率變高。藉此,如上所述,界面5中非異向性填充材4之填充比率高於第1及第2導熱層1a、1b中非異向性填充材4之填充比率。即,界面5中非異向性填充材4之填充比率相對於第1及第2導熱層1a、1b中非異向性填充材4之填充比率的比宜大於100%。
界面5中非異向性填充材4之填充比率可藉由以下之方法進行評價。即,於導熱性片1之剖面中,估算位於界面之第1導熱層1a附近之400 μm之線上之非異向性填充材4之比率相對於在第1導熱層1a之厚度方向之中心位置劃出相同長度之垂直於厚度方向之線時位於該線上之非異向性填充材4之比率的比(B1)。同樣地,估算位於第2導熱層2a之界面5附近之400 μm之線上之非異向性填充材4之比率相對於在第2導熱層1b之厚度方向之中心位置劃出相同長度之垂直於厚度方向之線時位於該線上之非異向性填充材4之比率的比(B2),求出其平均值((B1+B2)/2)作為填充比率之比。該填充比率之比較佳為具備成為105%以上之範圍,更佳為110%以上。又,界面5中非異向性填充材4之上述填充比率之上限值無特別限定,但就實用而言為200%。
界面5係具有一定之厚度者,界面5之厚度較佳為60 μm以下,更佳為40 μm以下,進而較佳為30 μm以下。藉由界面5之厚度成為上述上限值以下,第1導熱層1a中之異向性填充材3之下端3c與第2導熱層1b中之異向性填充材3之上端3d接近,防止因界面5致使導熱性降低。再者,界面5之厚度能夠藉由測定上述第1及第2邊界線間之距離而算出。
又,界面5之厚度只要大於0 μm即可,較佳為3 μm以上。藉由將界面5之厚度設為3 μm以上,藉由界面5中相對較多地摻合之非異向性填充材4,而適當確保第1及第2導熱層1a、1b之絕緣性。
又,導熱性片1如下所述般,藉由將第1及第2片材重疊並使該等接著而獲得,但彼時存在界面5形成氣泡之情形。於本實施形態中,就提高第1及第2導熱層1a、1b間之接著性之觀點而言,較佳為界面5中氣泡之含有比率較低。具體而言,於剖面中,於在界面5內例如劃出400 μm長之垂直於厚度方向之線時,與位於線上之氣泡重疊之長度相對於該線之全長之比率較佳為未達20%,更佳為未達10%,最佳為0%。再者,垂直於厚度方向之線可以氣泡之比率成為最高之方式劃出。為了減少界面中氣泡之含有比率,如下述製造方法所述,可於使第1及第2片材接著時,使相接之表面之表面粗糙度Ra降低。 又,於本實施形態中,第1及第2導熱層1a、1b隔著包含高分子基質2之界面5而接著,未經由接著層等異材質而接合。因此,不會發生由介置異素材而引起導熱性之降低。
<添加劑> 於導熱性片1中,於不損害作為導熱性片1之功能之範圍內,可進一步向高分子基質2中摻合各種添加劑。作為添加劑,例如可列舉選自分散劑、偶合劑、黏著劑、難燃劑、抗氧化劑、著色劑、防沈澱劑等中之至少1種以上。又,如上所述於使硬化性高分子組成物交聯、硬化等之情形時,作為添加劑,亦可摻合促進交聯、硬化之交聯促進劑、硬化促進劑等。
<導熱性片> 關於導熱性片1,以藉由作為日本工業標準之JIS K6253之E型硬度計而測定之E硬度而言,較佳為設為5~80。藉由將E硬度設為80以下,對發熱體或散熱體形狀之追隨性良好,發熱體或散熱體與導熱性片1之密接性良好,導熱性變得優異。又,藉由E硬度成為5以上,形狀之保持變得容易,防止因壓縮而使異向性填充材3之定向錯亂,導致導熱性降低。 關於導熱性片1之硬度,於構成導熱性片1之第1導熱層1a與第2導熱層1b之硬度不同時,可使用硬度計測定兩面之硬度,取其平均值。又,於導熱性片1之厚度未達10 mm之情形時,以合計厚度成為10 mm以上之方式將複數片導熱性片1重疊後進行測定。再者,於JIS K6253中,於將複數片重疊之情形時,將上限設為3片,但於本發明中,可視需要重疊超過3片進行測定。 再者,藉由提高異向性填充材3或非異向性填充材4之含量,導熱性片1變得更硬,因此,為了將導熱性片1之硬度控制於較佳之範圍內,高分子基質係選擇較所需之硬度柔軟之基質。
導熱性片1之厚度方向、即異向性填充材3之定向方向之導熱率較佳為設為6 W/m・K以上,並無特別上限,例如為50 W/m・K。再者,導熱率係藉由依據ASTM D5470-06之方法進行測定。 又,導熱性片1之厚度方向之熱阻值較佳為厚度為0.5 mm時設為0.7℃/W以下,並無特別下限,例如為0.03℃/W。
又,於導熱性片1含有具有導電性之異向性填充材3之情形時,作為其導電性之指標,體積電阻率較佳為1.0×109 Ω·cm以上。若體積電阻值為該下限值以上,則導熱性片1於厚度方向確保充分之絕緣性。又,體積電阻率之上限值無特別限定,但就實用而言為1.0×1014 Ω·cm。 再者,體積電阻率之求出方法如下所述:將導熱片材1夾於鍍金之金屬板,並將初期厚度壓縮至80%,藉由測試機對此時(壓縮20%)之電阻值進行測定,可根據該電阻值、導熱性片1之厚度及截面面積求出體積電阻率。
關於導熱性片1,較佳為第1導熱層1a側之表面1c之摩擦係數低於第2導熱層1b側之表面1d。即,較佳為第1導熱層1a側之表面1c之摩擦係數較低,第2導熱層1b側之表面1d之摩擦係數較高。 又,第1導熱層1a側之表面1c宜成為非黏著面,且第2導熱層1b側之表面1d宜成為黏著面。關於導熱性片1,若一表面1c成為非黏著面,另一表面1d成為黏著面,則能夠於組裝至電子機器等時使其滑動等,且能夠經由表面1d將導熱性片1固定於被接著面。
此處,第1導熱層1a側之表面1c之摩擦係數較佳為未達0.3,更佳為未達0.25。再者,第1導熱層1a側之表面1c之摩擦係數之下限值並無特別限定,通常為0.05以上。若將摩擦係數設為未達0.3,則可使第1導熱層1a側之表面1c成為非黏著面。 又,第2導熱層1b側之表面1d之摩擦係數較佳為0.3以上,更佳為0.5以上。若將第2導熱層1b側之表面1d之摩擦係數設為0.3以上,則可使第2導熱層1b側之表面1d成為黏著面。 再者,摩擦係數係根據下述實施例中記載之方法測得之對鋁之摩擦係數。
此處,為了使第1導熱層1a側之表面1c成為低摩擦係數,或製成非黏著面,如圖1所示,於第1導熱層1a側之表面1c中,使異向性填充材3自高分子基質2突出即可。此時,異向性填充材3之突出高度較佳為設為1~50 μm。 又,於異向性填充材3自上述表面1c突出時,可對突出之異向性填充材3之前端進行研磨。此種異向性填充材3宜具備異向性填充材3之前端沿表面1c延伸之形狀之突起部。於此種異向性填充材3中,前端之與長軸方向正交之截面面積大於軸部(例如突出之填充材之根部)之與長軸方向正交之截面面積。此種形狀之異向性填充材3較佳為突出高度為1~20 μm。 如此,關於異向性填充材3突出至第1導熱層1a之表面1c之表面,較高分子基質2更為硬質之異向性填充材3與周邊之構件接觸,成為低摩擦係數之平坦面。
又,為了使第2導熱層1b側之表面1d成為高摩擦係數,製成異向性填充材3埋入至高分子基質2內部之平坦面即可。關於此種表面1d,異向性填充材3於表面1d中未自高分子基質2突出,又,儘可能不使異向性填充材3露出至表面1d。因此,第2導熱層1b側之表面1d之摩擦係數取決於高分子基質2之性質,藉由使用上述橡膠等,可製成高摩擦係數之平坦面,又,亦能夠製成黏著面。
但是,於本實施形態中,第1導熱層1a側之表面1c亦可與第2導熱層1b側之表面1d同樣地設為高摩擦係數。即,導熱性片1之兩表面1c、1d亦可為高摩擦係數而成為黏著面。 於該情形時,第1導熱層1a側之表面1c之構成宜具有與上述第2導熱層1b側之表面1d相同之構成,其具體內容如上所述,異向性填充材3未自表面1c突出。
於導熱性片1中,第1導熱層1a所含有之異向性填充材3與第2導熱層1b所含有之異向性填充材3可設為同一材質,亦可設為不同材質。 又,第1及第2導熱層1a、1b中之異向性填充材3之填充比率可設為彼此相同,亦可設為不同。於填充比率不同之情形時,例如較佳為以表面1c成為低摩擦係數之方式構成之第1導熱層1a之填充比率高於以表面1d成為高摩擦係數之方式構成之第2導熱層1b之填充比率。藉由此種構成,第1導熱層1a側之表面1c之摩擦係數變得更低,並且可提高第2導熱層1側之表面1d之黏著力。因此,可使摩擦係數之差更加顯著,例如適合於利用低摩擦係數之表面之滑動性之用途。
第1及第2導熱層1a、1b各者之厚度例如為0.1~5 mm,較佳為0.15~3 mm。 第1及第2導熱層1a、1b之厚度可設為彼此相同,亦可使其等不同。於該情形時,藉由於第1導熱層1a與第2導熱層1b中,使硬度或其他功能性不同,亦可有效地表現其等之功能。 例如,使以表面1c成為低摩擦係數之方式構成之第1導熱層1a之異向性填充材3之填充比率高於以表面1d成為高摩擦係數之方式構成之第2導熱層1b,並且使第2導熱層1b之厚度大於第1導熱層1a即可。根據此種構成,導熱性片1整體具備較高之柔軟性,並且由於第1導熱層1a之表面1c之摩擦係數較低,故適合於利用表面1c之滑動性之用途。
導熱性片1使用於電子機器內部等。具體而言,導熱性片1介置於發熱體與散熱體之間,對發熱體所發出之熱進行傳導而移動至散熱體,自散熱體散熱。此處,作為發熱體,可列舉電子機器內部使用之CPU、功率放大器、電源等各種電子零件。又,散熱體可列舉散熱器、熱泵、電子機器之金屬殼體等。導熱性片1之兩表面1c、1d分別與發熱體及散熱體各者密接,且壓縮後使用。
<導熱性片之製造方法> 作為上述導熱性片之製造方法之一例,可列舉分別製造第1片材與第2片材,且將該等重疊並接著之方法。此處,第1片材與第2片材係於導熱性片1中分別成為第1及第2導熱層1a、1b者。因此,第1及第2片材分別包含高分子基質與異向性填充材,且異向性填充材於厚度方向上定向。又,第1及第2片材亦進而分別含有非異向性填充材。此處,第1及第2片材各者中之異向性填充材及非異向性填充材之含量較佳為設為上述含量之範圍內。又,第1及第2片材之厚度與上述第1及第2導熱層相同,例如分別為0.1~5 mm,較佳為0.15~3 mm。
於本製造方法中,將第1及第2片材重疊並接著之方法無特別限定,可列舉於常溫下進行加壓之方法、加熱加壓之方法等。第1及第2片材如下所述例如將第1片材之重疊面作為黏著面,藉此即便僅於常溫下加壓亦能夠接著。
為了製造第1及第2片材各者,可列舉磁場定向製法:將包含於硬化後成為高分子基質之液狀高分子組成物與異向性填充材、非異向性填充材之混合組成物置於磁場中,使異向性填充材沿磁場定向後,使高分子組成物硬化,藉此獲得定向成形體。
為了進行磁場定向,混合組成物之黏度較佳為10~300 Pa・s。藉由設為10 Pa・s以上,異向性填充材或非異向性填充材不易沈澱。又,藉由設為300 Pa・s以下,流動性良好,於磁場中異向性填充材適當地定向,亦不會發生於定向上耗費過多時間之缺點。再者,黏度係使用旋轉黏度計(Brookfield黏度計DV-E,Spindle SC4-14)於25℃下以旋轉速度10 rpm測得者。 但是,於使用不易沈澱之異向性填充材或非異向性填充材、或組合防沈澱劑等添加劑之情形時,混合組成物之黏度亦可設為未達10 Pa・s。
於磁場定向製法中,作為用以施加磁力線之磁力線產生源,可列舉超導磁鐵、永久磁鐵、電磁鐵等,就可產生高磁通密度之磁場之觀點而言,較佳為超導磁鐵。自該等磁力線產生源產生之磁場之磁通密度較佳為1~30特士拉。若將磁通密度設為1特士拉以上,則能夠容易使由碳材料等構成之上述異向性填充材定向。又,藉由設為30特士拉以下,能夠於實用上進行製造。
於磁場定向製法中,於內部劃分出對應於片材形狀之中空部之模具內進行上述利用磁場之異向性填充材之定向及硬化即可。若藉由此種模具進行定向及硬化,則所獲得之定向成形體之兩表面成為異向性填充材之填充比率低於其他部分之表層,該磁場成形體用作第2片材。再者,於模具內,於與定向成形體之兩表面相接之位置配置剝離膜,磁場成形體亦可成形於剝離膜之間。剝離膜例如使用剝離性較佳之樹脂膜或藉由剝離劑等對單面進行過剝離處理之樹脂膜。藉由使用剝離膜,定向成形體容易自模具脫模。
上述定向成形體(第2片材)之表層含有高分子基質,且異向性填充材之填充比率低於其他部分(除表層以外之部分)。進而,於表層中,通常不含有異向性填充材。而且,第2片材之兩表面成為異向性填充材未突出之表面。再者,第2片材之表層之異向性填充材之填充比率同樣低於下述第1片材之除表層以外之部分。 又,於上述定向成形體(第2片材)之表層中,非異向性填充材之填充比率高於其他部分(除表層以外之部分)。又,第2片材之表層之非異向性填充材之填充比率同樣高於下述第1片材之除表層以外之部分。
另一方面,關於第1片材,較佳為首先製造較獲得之第1片材厚之定向成形體,藉由切片或切斷等將該定向成形體沿面方向切割,獲得第1片材。藉此,第1片材之至少一表面成為藉由切片或切斷等切割而使異向性填充材之前端自高分子基質突出之表面。又,關於第1片材,更佳為其兩表面為異向性填充材之前端突出之表面。又,藉由切割而使異向性填充材之前端突出之表面亦可使用研磨紙等進行適當研磨。
又,第1片材亦可使用藉由與上述第2片材相同之方法而製造者。即,第1片材亦與上述第2片材同樣地可使用其兩面成為表層者。
再者,第1及第2片材可任一表面成為表層,另一方面,另一表面不成為表層而成為異向性填充材之前端突出之表面。但是,第1及第2片材就使其等之製造容易之觀點而言,較佳為兩表面均作為供設置表層之面,或兩表面均作為異向性填充材突出之面。
其次,於本製造方法中,以將供表層形成之第2片材之一表面與第1片材之一表面相接之方式將第1及第2片材重疊,並使該等接著,獲得導熱性片。藉此,於導熱性片1中,藉由表層形成界面5,藉由該界面5使由第1及第2片材各者所形成之第1及第2導熱層1a、1b接著。 此處,如上所述,表層之異向性填充材之填充比率低於除表層以外之部分,因此,如上所述,導熱性片1之界面5中之異向性填充材3之填充比率低於第1及第2導熱層1a、1b中之異向性填充材3之填充比率。另一方面,如上所述,表層之非異向性填充材之填充比率高於除表層以外之部分,因此,如上所述,導熱性片1之界面5中之非異向性填充材4之填充比率高於第1及第2導熱層1a、1b中之非異向性填充材4之填充比率。
進而,由於表層藉由在高分子基質中使用橡膠等而成為具有黏著性者,故藉由將設置有表層之第2片材之一表面與第1片材之一表面重疊,使第1及第2片材隔著具有黏著性之表面而接著。因此,於導熱性片1中,第1導熱層1a與第2導熱層1b之間之接著性良好。 再者,由於第2片材如上所述於兩表面設置表層,故導熱性片1中之第2導熱層1b側之表面1d由表層所構成,如上所述成為高摩擦係數。但是,第2片材亦可如上所述於一表面設置表層,將另一表面作為異向性填充材3突出之表面,於該情形時,表面1d成為低摩擦係數。
於上述製造方法中,第1片材之一表面(即與第2片材相接之重疊面)如上所述可為設置有表層之面,但較佳為不設置表層而異向性填充材自高分子基質突出之面。再者,若為設置有表層之面,則第1及第2片材例如由於黏著面彼此接著,故該等之間之接著性變得更好。 另一方面,第1片材之一表面(重疊面)即便為異向性填充材突出之面,如下所述,藉由降低表面粗糙度Ra,對於上述第2片材之接著性亦良好。
又,第1片材之另一表面(即,與第2片材重疊之面之相反側之面)較佳為與上述一表面(重疊面)相同,為異向性填充材自高分子基質突出之表面。藉由將第1片材之另一表面設為異向性填充材突出之表面,於導熱性片1中,第1導熱層1a側之表面1c成為低摩擦係數,故能夠設為非黏著面。 但是,第1片材之另一表面亦可為設置有表層之面。若設為設置有表層之面,則於導熱性片1中,第1導熱層1a側之表面1c成為高摩擦係數,故能夠設為黏著面。即,導熱性片1之兩表面1c、1d均可作為黏著面。
於上述製造方法中,第1及第2片材相接之表面(重疊面)之表面粗糙度Ra例如為10 μm以下,較佳為至少一者為4 μm以下,更佳為至少一者為1 μm以下,或兩者為4 μm以下。若將相接之表面之一者之表面粗糙度Ra設為4 μm以下,則第1及第2片材之接著性變良好,且如上所述不易於界面產生氣泡。又,若至少一者為1 μm以下,或將兩表面設為4 μm以下,則接著性進一步變好,且更不易產生氣泡。再者,較佳為上述表面粗糙度Ra較小,但就實用而言能夠為0.1 μm以上。再者,於本發明中僅提及表面粗糙度Ra之情形表示JIS B0601所規定之算術平均高度Ra。
第2片材之表面如上所述設置有表層,其表面粗糙度Ra通常為4 μm以下。又,於第1片材之表面設置表層之情形亦相同。 另一方面,關於第1片材,於其表面為異向性填充材突出之表面之情形時,一般而言,由於表面粗糙度Ra變大,故必須進行用以減小表面粗糙度Ra之處理。具體而言,可對藉由切片或切斷等切割而形成之表面進而藉由精密研磨片材進行研磨而提高平滑性。作為精密研磨片材,例如可例示由摻合有粒度分布或粒徑得到控制之粉末之樹脂膜所構成之研磨膜。藉由切割而形成之表面亦可於藉由精密研磨片材進行研磨之前利用通常之研磨紙進行研磨。 如此,即便於第1片材之表面(重疊面)為異向性填充材突出之表面之情形時,藉由減小其表面粗糙度Ra,且如上所述於第2片材之表面(重疊面)設置表層而例如作為黏著面,亦能夠使第1片材與第2片材接著。
第1及第2片材係利用高分子基質之性質而接著者,如上所述,較佳為利用高分子基質之黏著性而接著。 又,可於第1及第2片材中之至少一者,不使高分子組成物完全硬化而預先使其半硬化,以至少一者為半硬化之狀態將第1及第2片材重疊,進行後硬化,而使該等接著。此處,半硬化狀態係指以成為固體之程度進行硬化反應之狀態,且殘存未反應之官能基之狀態。 此種硬化反應可為單一反應,又,亦可為組合複數反應者。例如,作為第1階段之反應,藉由於80℃下進行之硬化反應而製成半硬化,作為第2階段,藉由於150℃下進行之硬化反應,從而可使第1及第2片材接著。
又,於上述製造方法中,利用磁場將異向性填充材定向,但亦可藉由其他方法將異向性填充材定向,例如可利用流動定向。更具體而言,可利用如下積層切片製法,即,對混合組成物施加剪力,製造製成薄板狀之備用片材,將其積層複數張製造積層塊,然後將該積層塊裁斷。 積層切片製法首先向高分子組成物混入異向性填充材與非異向性填充材,視需要混入各種添加劑進行攪拌,製備混入之固形物均質分散而得之混合組成物。此處,用於高分子組成物之高分子化合物可為包含於常溫(23℃)下為液狀之高分子化合物,亦可為包含於常溫下為固體狀之高分子化合物。又,高分子組成物亦可含有塑化劑。 混合組成物為了於伸長為片狀時施加剪力而具有相對較高之黏度,混合組成物之黏度具體而言較佳為3~50 Pa・s。為了獲得上述黏度,混合組成物較佳為含有溶劑。
其次,一面對混合組成物賦予剪力,一面使其扁平地伸長而成形為片狀(備用片材)。藉由施加剪力,可使異向性填充材於剪斷方向上定向。作為片材之成形手段,例如可列舉如下方法:藉由棒式塗布機或刮刀等塗布用敷料器或者擠出成形或自噴嘴噴出等,於基材膜上塗布混合組成物,視需要進行乾燥。此時,可視需要使混合組成物半硬化。備用片材厚度較佳為成為50~250 μm左右。於備用片材中,異向性填充材於沿著片材之面方向之一方向上定向。
其次,將備用片材以定向方向相同之方式重疊複數張而積層後,一面藉由加熱、紫外線照射等視需要將混合組成物硬化,一面藉由利用熱壓等使備用片材互相接著而形成積層塊。其後,於與異向性填充材之定向方向正交之方向上切割積層塊,可獲得異向性填充材突出至表面之片材。
[第2實施形態] 其次,使用圖2對本發明之第2實施形態之導熱性片進行說明。 於第1實施形態中,於導熱性片1中,作為填充材,除含有異向性填充材3以外,還含有非異向性填充材4,但於本實施形態中,如圖2所示,未含有非異向性填充材。 因第2實施形態之導熱性片11除未含有非異向性填充材之方面以外,與上述第1實施形態之導熱性片相同,故省略該說明。
於本實施形態中,導熱性片11亦與第1實施形態相同,藉由隔著異向性填充材3之填充比率較低之界面15將第1及第2導熱層11a、11b積層,能夠確保厚度方向之導熱性,並且使層間之接著性良好。 又,導熱性片11如上所述,藉由使第1導熱層11a側之表面11c成為低摩擦係數,使第2導熱層11b側之表面11d成為高摩擦係數,於組裝至電子機器等時能夠使其滑動等,且亦能夠經由表面11d固定於被接著面。當然,導熱性片11亦可兩表面11c、11d成為黏著面。 進而,如上所述,亦能夠藉由適當調整第1導熱層11a、第2導熱層11b中之異向性填充材3之填充比率或該等導熱層11a、11b之厚度而對導熱性片11賦予各種特性。
又,於上述第1及第2實施形態中,導熱層僅示出由2層構成之構成,但亦可製成具有3層以上導熱層之構成。於此情形時,各導熱層間隔著上述界面接著即可。於具有3層以上之導熱層之情形時,由於各導熱層、界面之構成與上述相同,故省略其說明。但是,於本發明中,就製造成本等觀點而言,較佳為導熱層由2層構成。 實施例
以下,藉由實施例進一步詳細地說明本發明,但本發明不受該等例之任何限定。
於本實施例中,藉由以下之方法對導熱性片之物性進行評價。 [硬度] 各試樣之導熱性片之硬度係根據JIS K6253規定,使用E型硬度計而測得之E硬度。
[熱阻值] 熱阻值使用如圖3所示之熱阻測定機,藉由以下所示之方法進行測定。具體而言,關於各試樣,為了用於本試驗而製作大小為10 mm×10 mm之試驗片S。並且,將各試驗片S貼附於測定面為10 mm×10 mm且側面被隔熱材21覆蓋之銅製塊22上,並由上方之銅製塊23夾持,藉由荷重元26施加負載,以厚度成為原來之厚度之87.5%之方式進行設定。此處,下方之銅製塊22與加熱器24相接。又,上方之銅製塊23與帶風扇之散熱器25相連接。其次,以發熱量25 W使加熱器24發熱,於溫度成為大致穩定狀態之10分鐘後,測定上方之銅製塊23之溫度(θj0 )、下方之銅製塊22之溫度(θj1 )及加熱器之發熱量(Q),根據以下之式(1)求出各試樣之熱阻值。 熱阻=(θj1 -θj0 )/Q …式(1) 式(1)中,θj1 為下方之銅製塊22之溫度,θj0 為上方之銅製塊23之溫度,Q為發熱量。
[表面粗糙度Ra] 各試樣之表面粗糙度Ra於與其他試樣重疊之前使用形狀解析雷射顯微鏡VK-X150(KEYENCE股份有限公司製造)進行測定。再者,測定係將試樣表面之任意0.6 mm之直線區域作為測定範圍。
[摩擦係數] 摩擦係數係藉由以下之方法求出之靜摩擦係數。具體而言,於水平台上載置各試驗片後,於該試驗片上依序載置滑片及120 g之砝碼(直徑:28 mm、高:25 mm之圓柱形)。其次,將牽引用膠帶之一端貼附於砝碼,將該膠帶之另一端固定於推拉力計(push pull gauge)(Aikoh Engineering(股份有限公司)製造之CPU計M-9500)。其次,將推拉力計朝與試驗片之外表面平行之方向以100 mm/min之速度牽引。 此時,測定推拉力計之牽引時之試驗片與滑片之靜摩擦力Fs(N),根據下述式(2)算出靜摩擦係數。此處,對各試驗片進行5次靜摩擦力Fs之測定及靜摩擦係數之計算,將其等之靜摩擦係數之值之平均值設為試驗片表面之靜摩擦係數。此處,作為滑片,使用鋁箔膠帶(3M公司製造之Scotch Brand Tape 433HD)。關於鋁箔膠帶,以該膠帶之鋁箔面與各試驗片相對向之方式進行載置。 靜摩擦係數=Fs(N)/Fp(N) …式(2) 於上述式(2)中,Fp表示由滑片之質量(重量)所產生之法向力,Fp之值以0.12 kg(砝碼之重量)×9.8 m/s2 (重力加速度)=0.1176 N表示。
[體積電阻率] 體積電阻率藉由以下之條件測定。首先,將片材試樣夾持於直徑20 mm之鍍金之銅電極間。其次,藉由間隔件以片材成為原來之厚度之80%之厚度之方式壓縮20%,測定靜止1分鐘後之電阻值。然後,根據測定之各電阻值、試驗片之厚度、電極及試驗片之截面面積算出體積電阻率。 體積電阻率(Ω·cm)=電阻值(Ω)×截面面積(cm2 )/厚度(cm) …式(3)
[界面之厚度、交叉之異向性填充材之比率、氣泡含有比率] 使用掃描式電子顯微鏡,以倍率200倍觀察各試樣之剖面。並且,對於各剖面,藉由說明書記載之方法,求出異向性填充材之比率為20%以下之邊界線,將位於接著面附近之第1導熱層之邊界線與第2導熱層之邊界線之距離設為界面之厚度。又,於各剖面中,藉由說明書記載之方法,測定交叉之異向性填充材之比率及氣泡含有比率。
[非異向性填充材之填充比率] 使用掃描式電子顯微鏡,以倍率200倍觀察各試樣之剖面。並且,對於各剖面,藉由說明書記載之方法,將於界面附近之400 μm之線段上高分子基質與非異向性填充材所占之長度(為方便起見,設為「ba 」)(換言之,即自整體減去異向性填充材所占長度後之長度)之比率與同樣求出之第1導熱層之中央部分之比率(b1 )及第2導熱層之中央部分之上述比率(b2 )進行比較,估算出非異向性填充材之填充比率。具體而言,藉由B1=ba /b1 計算相對於第1導熱層的界面中之非異向性填充材之填充比率,藉由B2=ba /b2 計算相對於第2導熱層的界面中之非異向性填充材之填充比率,其次求出其平均值((B1+B2)/2)作為填充比率之比並以百分率(%)表示。
[第1及第2片材之製作] (試樣1) 將作為高分子基質之含有烯基之有機聚矽氧烷與氫化有機聚矽氧烷(合計100質量份)、作為異向性填充材之石墨化碳纖維(平均纖維長度100 μm、縱橫比10、導熱率500 W/m・K、導電性)120質量份、氧化鋁粉末(球狀、平均粒徑5 μm、縱橫比1.0、絕緣性)500質量份混合而獲得混合組成物。混合組成物之黏度為100 Pa・s。 其次,於設定為特定厚度之模具內之上下表面配置剝離膜,其後,注入上述混合組成物,於厚度方向上施加8 T之磁場,使石墨化碳纖維於厚度方向上定向,其後,藉由於80℃下加熱60分鐘使高分子基質硬化,獲得厚度0.2 mm之片狀試樣1。片狀試樣1之兩表面由不含有異向性填充材之表層所構成,摩擦係數均為0.5以上,且均具有黏著性。又,片狀試樣1之兩表面之表面粗糙度Ra均為0.37 μm。
(試樣2) 首先,準備與試樣1相同之混合組成物。其次,向設定為充分大於各試樣之厚度之模具注入上述混合組成物,於厚度方向上施加8 T之磁場而使石墨化碳纖維於厚度方向上定向,其後,藉由於80℃下加熱60分鐘使基質硬化,獲得塊狀之成形體。 其次,使用剪切刀,將塊狀之成形體切割成厚度0.2 mm之片狀,藉此獲得碳纖維露出之片材。 其次,藉由使用研磨粒子之粒徑為10 μm之研磨紙對上述片材之表面進行研磨,對自表面露出之碳纖維之端部進行處理,藉此形成朝與表面平行之方向延伸之突部,獲得厚度0.2 mm之片狀試樣2。 片狀試樣2之兩表面之摩擦係數均未達0.25,故為非黏著面。又,片狀試樣2之兩表面之表面粗糙度Ra為8.1 μm。
(試樣3) 使用由研磨粒子之粒徑為60 μm之氧化鋁形成之精密研磨膜對以與試樣2相同方式獲得之片材之表面進行研磨,藉此提高平滑性,獲得厚度0.2 mm之片狀試樣3。 片狀試樣3之兩表面之摩擦係數均未達0.25,故為非黏著面。又,片狀試樣3之兩表面之表面粗糙度Ra為3.8 μm。
(試樣4) 將作為高分子基質之腈橡膠50質量份與己二酸二[2-(2-丁氧基乙氧基)乙酯]50質量份之混合物(合計100質量份)、作為異向性填充材之石墨化碳纖維(平均纖維長度100 μm、縱橫比10、導熱率500 W/m・K、導電性)120質量份、氧化鋁粉末(球狀、平均粒徑5 μm、縱橫比1.0、絕緣性)500質量份以及作為溶劑之環己酮300質量份混合,獲得液狀之混合組成物。混合組成物之黏度為10 Pa・s。 其次,藉由棒式塗布機於剝離膜上塗布上述混合組成物,進而使溶劑乾燥,藉此獲得異向性填充材於塗布方向上定向之厚度100 μm之備用定向片材。
其次,將125張備用定向片材重疊後一面進行加熱,一面對其進行壓縮,藉此獲得厚度10 mm之積層片材。再者,於獲得積層片材時,厚度已壓縮了20%。 然後,使用剪切刀,將塊狀之積層片材切割成厚度0.4 mm,獲得片材。於獲得之片材中,石墨化碳纖維於片材之兩表面突出。再者,切割方向係與備用定向片材之積層方向垂直之方向。 其後,藉由使用研磨粒子之粒徑為10 μm之研磨紙對獲得之片材之兩表面進行研磨,對自表面露出之碳纖維之端部進行處理後,進而使用研磨粒子之粒徑為60 μm之由氧化鋁形成之精密研磨膜,提高平滑性,藉此獲得厚度0.2 mm之片狀試樣4。片狀試樣4之兩表面之摩擦係數均未達0.25,故為非黏著面。又,片狀試樣4之兩表面之表面粗糙度Ra均為4.0 μm。
[實施例1] 準備2張片狀之上述試樣1,將2張試樣1重疊,使用輥對該等進行加壓,於室溫(25℃)下於壓力1 MPa之條件下進行加壓而使其等接著,獲得導熱性片。 實施例1之導熱性片分別由試樣1形成,分別具有厚度0.2 mm之第1及第2導熱層,該等隔著厚度18 μm之界面而接著。觀察實施例1之導熱性片之剖面,發現於界面中,幾乎不存在石墨化碳纖維,亦不存在氣泡。又,界面中之氧化鋁粉末之填充比率相對於第1及第2導熱層中之氧化鋁粉末之填充比率為119%。進而,導熱性片之兩表面之摩擦係數均為0.5以上,且均具有黏著性。導熱性片之其他評價結果示於表1。
[實施例2] 準備片狀之試樣1與試樣2,將試樣1、2重疊並與實施例1同樣地對該等進行加壓而使其等接著,獲得導熱性片。實施例2之導熱性片分別由試樣2、1形成,分別具有厚度0.2 mm之第1導熱層及第2導熱層,該等隔著厚度10 μm之界面而接著。觀察實施例2之導熱性片之剖面,發現界面中石墨化碳纖維較少,但可見微小氣泡,界面中之氣泡之比率為2.1%。又,界面中之氧化鋁粉末之填充比率相對於第1及第2導熱層中之氧化鋁粉末之填充比率為110%。進而,導熱性片之第1導熱層側之表面之摩擦係數未達0.25,故為非黏著面,且導熱性片之第2導熱層側之表面之摩擦係數為0.5以上,故為黏著面。導熱性片之其他評價結果示於表1。
[實施例3] 準備片狀之試樣1與試樣3,將試樣1、3重疊並與實施例1同樣地對該等進行加壓而使其等接著,獲得導熱性片。實施例3之導熱性片分別由試樣3、1形成,分別具有厚度0.2 mm之第1導熱層及第2導熱層,該等隔著厚度9.8 μm之界面而接著。觀察實施例2之導熱性片之剖面,發現界面中石墨化碳纖維較少,又,界面中未見氣泡。進而,界面中之氧化鋁粉末之填充比率相對於第1及第2導熱層中之氧化鋁粉末之填充比率為114%。進而,導熱性片之第1導熱層側之表面之摩擦係數未達0.25,故為非黏著面,且導熱性片之第2導熱層側之表面之摩擦係數為0.5以上,故為黏著面。導熱性片之其他評價結果示於表1。
[實施例4] 準備片狀之試樣1與試樣4,將試樣1、4重疊並與實施例1同樣地對該等進行加壓而使其等接著,獲得導熱性片。實施例4之導熱性片分別由試樣4、1形成,分別具有厚度0.2 mm之第1導熱層及第2導熱層,該等隔著厚度9.5 μm之界面而接著。觀察實施例4之導熱性片之剖面,發現界面中石墨化碳纖維較少,又,界面中氣泡為0%。進而,界面中之氧化鋁粉末之填充比率相對於第1及第2導熱層中之氧化鋁粉末之填充比率為112%。進而,導熱性片之第1導熱層側之表面之摩擦係數未達0.25,故為非黏著面,且導熱性片之第2導熱層側之表面之摩擦係數為0.5以上,故為黏著面。導熱性片之其他評價結果示於表1。
[比較例1~4] 於各比較例1~4中,將厚度設為0.4 mm,除此以外,藉由與各試樣1~4相同之方法,製作由單層構成之導熱性片。將導熱性片之評價結果示於表1、2。
[比較例5] 準備2張片狀之試樣2,將2張試樣2重疊並以與實施例1相同之條件對該等進行加壓,但2張試樣2彼此未接著,故無法獲得導熱性片。
[比較例6] 準備2張片狀之試樣2,介置厚度10 μm之雙面黏著膠帶(日東電工(股份有限公司)製造,「No.5601」)而將該等2張試樣2重疊,於與實施例1相同之條件下進行加壓,使該等接著而獲得導熱性片。 比較例6之導熱性片具有由試樣2形成之第1導熱層及由試樣2形成之第2導熱層,但該等藉由雙面黏著膠帶而接著。又,於第1導熱層與第2導熱層之層間可見大量之氣泡。再者,導熱性片之兩表面之摩擦係數未達0.25,故為非黏著面。將導熱性片之其他評價結果示於表2。
[比較例7] 於比較例1之製造方法中,將配置於模具內之一剝離膜變更為厚度6 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜,獲得PET膜固著於由單層構成之導熱層之一面之導熱性片。將導熱性片之評價結果示於表2。
[表1]
Figure 108104939-A0304-0001
[表2]
Figure 108104939-A0304-0002
自以上之實施例1~4之結果可知:藉由隔著界面使第1及第2導熱層接著,雖為積層構造,但可確保厚度方向之導熱性,且使層間之接著性良好。與之相對,如比較例6所示,若經由接著劑層使第1及第2導熱層接著,則厚度方向之導熱性惡化,且於界面中可見間隙,無法以高接著性使第1及第2導熱層接著。 又,於實施例1~4中,第1及第2片材藉由將第1片材之設置有表層之面作為重疊面而能夠以高接著性使其等接著。與之相對,如比較例5所示,於未將重疊面設為表層之情形時,即便將第1及第2片材重疊並進行加壓,第1及第2片材亦未接著,故無法獲得實用上可使用之導熱性片。又,於實施例1~4中,導熱性及絕緣性兩者均衡且良好,但於導熱層由單層構成之比較例1~4、7中,無法使導熱性及絕緣性兩者均衡且良好。
1、11‧‧‧導熱性片 1a、11a‧‧‧第1導熱層 1b、11b‧‧‧第2導熱層 1c、1d、11c、11d‧‧‧表面 2‧‧‧高分子基質 3‧‧‧異向性填充材 3c‧‧‧下端 3d‧‧‧上端 4、14‧‧‧非異向性填充材 5、15‧‧‧界面 21‧‧‧隔熱材 22‧‧‧下方之銅製塊 23‧‧‧上方之銅製塊 24‧‧‧加熱器 25‧‧‧散熱器 26‧‧‧荷重元 S‧‧‧試驗片 θj0‧‧‧上方之銅製塊之溫度 θj1‧‧‧下方之銅製塊之溫度
圖1係表示第1實施形態之導熱性片之示意性剖視圖。 圖2係表示第2實施形態之導熱性片之示意性剖視圖。 圖3係熱阻測定機之概略圖。
1‧‧‧導熱性片
1a‧‧‧第1導熱層
1b‧‧‧第2導熱層
1c‧‧‧表面
1d‧‧‧表面
2‧‧‧高分子基質
3‧‧‧異向性填充材
3c‧‧‧下端
3d‧‧‧上端
4‧‧‧非異向性填充材
5‧‧‧界面

Claims (18)

  1. 一種導熱性片,其具備第1及第2導熱層,該第1及第2導熱層分別包含高分子基質與異向性填充材,上述異向性填充材於厚度方向上定向;上述第1及第2導熱層隔著界面而積層,上述界面包含上述高分子基質,且上述異向性填充材之填充比率低於上述第1及第2導熱層,上述第1及第2導熱層及上述界面含有非異向性填充材,上述界面中之上述非異向性填充材之填充比率高於上述第1及第2導熱層。
  2. 如請求項1所述之導熱性片,其中,上述非異向性填充材具有絕緣性。
  3. 如請求項1所述之導熱性片,其中,上述異向性填充材具有導電性。
  4. 如請求項1所述之導熱性片,其中,上述非異向性填充材具有絕緣性,且上述異向性填充材具有導電性。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,上述異向性填充材為石墨化碳纖維。
  6. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,上述第1導熱層所含有之上述異向性填充材之第2導熱層側之端部與上述第2導熱層所含有之上述異向性填充材之第1導熱層側之端部相對向,上述第1導熱層所含有之上述異向性填充材與上述第2導熱層所含有之上述異向性填充材實質上不交叉。
  7. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,於上述導熱性片之上述第1導熱層側之表面,上述異向性填充材自上述高分子基質突出,且於上述導熱性片之上述第2導熱層側之表面,上述異向性填充材未自高分子基 質突出。
  8. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,上述導熱性片之上述第1導熱層側之表面之摩擦係數低於上述導熱性片之上述第2導熱層側之表面之摩擦係數。
  9. 如請求項8所述之導熱性片,其中,上述導熱性片之上述第1導熱層側之表面之摩擦係數未達0.3,且上述導熱性片之上述第2導熱層側之表面之摩擦係數為0.3以上。
  10. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,上述界面之厚度為60μm以下。
  11. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,界面中非異向性填充材之填充比率相對於上述第1及第2導熱層中非異向性填充材之填充比率的比大於100%且為200%以下。
  12. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,於剖面中,於在上述界面內劃出400μm長之垂直於厚度方向之線時,與位於線上之氣泡重疊之長度相對於該線之全長之比率未達20%。
  13. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,上述第1及第2導熱層、以及界面各者中之上述高分子基質為聚矽氧橡膠。
  14. 如請求項1至4中任一項所述之導熱性片,其中,上述界面含有於厚度方向上定向之異向性填充材。
  15. 一種導熱性片之製造方法,其準備第1及第2片材,以上述第1片材之一表面與上述第2片材之一表面相接之方式將上述第1及第2片材積層,藉此獲得導熱性片,該第1及第2片材分別包含高分子基質與異向性填充材,上述異向性填充材於厚度方向上定向,至少上述第2片材之上述一表面係由上述異向性填充材之填充比率低於上 述第2片材之其他部分的表層形成,於上述表面形成有上述表層之上述第2片材係藉由下述方法獲得:於模具內,對包含液狀高分子組成物與異向性填充材的混合組成物進行磁場定向,且使其硬化,上述液狀高分子組成物於硬化後成為上述高分子基質。
  16. 如請求項15所述之導熱性片之製造方法,其中,上述第2片材之上述一表面具有黏著性。
  17. 如請求項15或16所述之導熱性片之製造方法,其中,上述第1片材之上述一表面及上述第2片材之上述一表面中的至少任一者之表面粗糙度Ra為4μm以下。
  18. 如請求項17所述之導熱性片之製造方法,其中,上述第1片材之上述一表面之異向性填充材自高分子基質突出,且表面粗糙度Ra為4μm以下。
TW108104939A 2018-02-14 2019-02-14 導熱性片 TWI801501B (zh)

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7221487B2 (ja) * 2018-02-14 2023-02-14 積水ポリマテック株式会社 熱伝導性シート
US11618247B2 (en) 2019-11-01 2023-04-04 Sekisui Polymatech Co., Ltd. Thermally conductive sheet and production method for same
CN115668486A (zh) * 2020-05-29 2023-01-31 积水保力马科技株式会社 导热性片的制造方法及叠层体
WO2021241714A1 (ja) * 2020-05-29 2021-12-02 積水ポリマテック株式会社 熱伝導性シート及びその製造方法
TWI765341B (zh) * 2020-09-10 2022-05-21 英業達股份有限公司 散熱片與散熱系統
CN112409997A (zh) * 2020-11-18 2021-02-26 信骅(上海)器材有限公司 一种耐弯折复合散热膜的制备方法及散热材料
JP7057845B1 (ja) 2021-02-09 2022-04-20 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの供給形態及び熱伝導シート本体

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200846187A (en) * 2007-03-29 2008-12-01 Polymatech Co Ltd Laminated body
JP2011231242A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Polymatech Co Ltd 熱伝導性シートの製造方法および熱伝導性シート
JP2014148094A (ja) * 2013-02-01 2014-08-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd 熱伝導シートおよび熱伝導シートの製造方法
TW201704396A (zh) * 2015-03-27 2017-02-01 Toray Industries 半導體裝置及其製造方法以及接著組成物片

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003026828A (ja) * 2001-07-18 2003-01-29 Jsr Corp 熱伝導シートおよびその製造方法並びに熱伝導板
US20070122614A1 (en) * 2005-11-30 2007-05-31 The Dow Chemical Company Surface modified bi-component polymeric fiber
JP5011786B2 (ja) 2006-03-30 2012-08-29 豊田合成株式会社 高熱伝導絶縁体とその製造方法
JP4814680B2 (ja) * 2006-04-12 2011-11-16 ポリマテック株式会社 熱伝導性シート及び熱伝導性シート包装体
US7476339B2 (en) * 2006-08-18 2009-01-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Highly filled thermoplastic composites
TWI610407B (zh) 2010-06-17 2018-01-01 Dexerials Corp 導熱片及其製造方法
JP5636224B2 (ja) * 2010-08-06 2014-12-03 三井金属鉱業株式会社 フィラー含有樹脂層付金属箔及びフィラー含有樹脂層付金属箔の製造方法
JP2012253167A (ja) * 2011-06-02 2012-12-20 Denki Kagaku Kogyo Kk 熱伝導性絶縁シート、金属ベース基板及び回路基板
JP6246906B2 (ja) * 2013-05-14 2017-12-13 ウーペーエム−キュンメネ コーポレイションUPM−Kymmene Corporation 表面粗さを有する複合材料構造体
JP5779693B2 (ja) * 2013-06-27 2015-09-16 デクセリアルズ株式会社 熱伝導性シート、及びその製造方法、並びに半導体装置
JP6261386B2 (ja) * 2014-03-04 2018-01-17 デクセリアルズ株式会社 多層型熱伝導性シート、多層型熱伝導性シートの製造方法
JP6397229B2 (ja) 2014-06-12 2018-09-26 国立研究開発法人産業技術総合研究所 厚み方向に高い熱伝導率を有する熱伝導性部材及び積層体
WO2016098890A1 (ja) * 2014-12-18 2016-06-23 株式会社カネカ グラファイト積層体、グラファイト積層体の製造方法、熱輸送用構造物およびロッド状の熱輸送体
JP6413912B2 (ja) 2015-04-28 2018-10-31 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 画像形成装置及びプログラム並びに画像付きレポート出力システム
WO2016190415A1 (ja) * 2015-05-27 2016-12-01 デクセリアルズ株式会社 積層薄膜、及び積層薄膜の製造方法
CN107851623B (zh) 2015-06-25 2021-04-16 积水保力马科技株式会社 导热片
JP6279162B2 (ja) * 2015-12-25 2018-02-14 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6434437B2 (ja) * 2016-03-24 2018-12-05 藤森工業株式会社 剥離性に優れた離型フィルム
JP2017193109A (ja) * 2016-04-20 2017-10-26 オリンパス株式会社 付着防止膜
CN109661862B (zh) * 2016-09-01 2021-08-31 Agc株式会社 金属层叠板及其制造方法、以及印刷基板的制造方法
US20190162491A1 (en) * 2017-11-27 2019-05-30 Hfc Industry Limited Anisotropic Flexible Thermal Interface Pad and Method for Fabricating the Same
JP7221487B2 (ja) * 2018-02-14 2023-02-14 積水ポリマテック株式会社 熱伝導性シート

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200846187A (en) * 2007-03-29 2008-12-01 Polymatech Co Ltd Laminated body
JP2011231242A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Polymatech Co Ltd 熱伝導性シートの製造方法および熱伝導性シート
JP2014148094A (ja) * 2013-02-01 2014-08-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd 熱伝導シートおよび熱伝導シートの製造方法
TW201704396A (zh) * 2015-03-27 2017-02-01 Toray Industries 半導體裝置及其製造方法以及接著組成物片

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