TWI765276B - 透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明公開一種透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法,所述透鏡轉印層的製造方法包含:於一透光層的板面塗佈一負光阻層;將一光源所發出的光線穿過一光罩而形成一預定光形,進而穿過所述透光層並照射在所述負光阻層;將所述光源與所述光罩相對於所述透光層移動,以使鄰近所述透光層的所述板面的所述負光阻層的一部位,其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成多個透鏡轉印區;以及去除未形成所述透鏡轉印區的所述負光阻層的另一部位,以令所述透光層及形成於所述透光層上的多個所述透鏡轉印區共同構成一透鏡轉印層。
Description
本發明涉及一種透鏡的製造方法,尤其涉及一種透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法。
現有透鏡製造方法包含有注模成形、光刻成形、或研磨成形等,本領域的技術人員也已慣於使用並無形受限於現有透鏡製造方法的框架之下,所以因其技術偏見而不再研發思考如何能夠更有效率地實現透鏡的生產與製造。
於是,本發明人認為上述缺陷可改善,乃特潛心研究並配合科學原理的運用,終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。
本發明實施例在於提供一種透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法,其能有效地改良現有透鏡製造方法。
本發明實施例公開一種透鏡的轉印式製造方法,其包括:製造一透鏡轉印滾輪,其製造過程包含:於一透光層的板面塗佈一負光阻層;將一光源所發出的光線穿過一光罩而形成一預定光形,進而穿過所述透光層並照射在所述負光阻層;將所述光源與所述光罩相對於所述透光層移動,以使鄰近所述透光層的所述板面的所述負光阻層的一部位,其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成多個透鏡轉印區;去除未形成所述透鏡轉印區的所述負光阻層的另一部位,以令所述透光層及形成於所述透光層上的多個所述透鏡轉印區共同構成一透鏡轉印層;及將所述透鏡轉印層的所述透光層圍繞貼附於一滾筒的外表面,以使所述透鏡轉印層與所述滾筒共同構成所述透鏡轉印滾輪;以及以所述透鏡轉印滾輪的多個所述透鏡轉印區不間斷地滾壓於一透光膜上,以使所述透光膜形成有多個透鏡。
本發明實施例也公開一種透鏡轉印層的製造方法,其包括:於一透光層的板面塗佈一負光阻層;將一光源所發出的光線穿過一光罩而形成一預定光形,進而穿過所述透光層並照射在所述負光阻層;將所述光源與所述光罩相對於所述透光層移動,以使鄰近所述透光層的所述板面的所述負光阻層的一部位,其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成多個透鏡轉印區;以及去除未形成所述透鏡轉印區的所述負光阻層的另一部位,以令所述透光層及形成於所述透光層上的多個所述透鏡轉印區共同構成一透鏡轉印層。
綜上所述,本發明實施例所公開的透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法,其以具備所述預定光形的所述光線照射鄰近所述透光層的所述板面的所述負光阻層的部位、而構成多個透鏡轉印區,據以使得透鏡的生產與製造能夠通過轉印的方式來實現,進而有別於且更有效率於現有透鏡製造方法。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,但是此等說明與附圖僅用來說明本發明,而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開有關“透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法”的實施方式,本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用,在不悖離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外,本發明的附圖僅為簡單示意說明,並非依實際尺寸的描繪,事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容,但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。
應當可以理解的是,雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號,但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件,或者一信號與另一信號。另外,本文中所使用的術語“或”,應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。
[實施例一]
請參閱圖1至圖7所示,本實施例公開一種透鏡轉印層1及其製造方法。為便於理解所述透鏡轉印層1的構造,以下將先介紹所述透鏡轉印層的製造方法,而後再說明所述透鏡轉印層1的構造,但本實施例的透鏡轉印層1並不受限於依循該製造方法所製成。其中,所述透鏡轉印層的製造方法於本實施例中包含有:一塗佈步驟S110、一光形步驟S120、一曝光步驟S130、及一顯影步驟S140。
所述塗佈步驟S110:如圖1所示,於一透光層11的板面塗佈一負光阻層12a。於本實施例中,所述透光層11為具有透明性質的材料製成,而所述負光阻層12a可以是由聚異戊二烯橡膠(Polyisoprene rubber)或環氧基聚合物(Epoxy-based polymer)等材料製成,但本發明並不以此為限。舉例來說,在本發明未繪示的其他實施例中,所述透光層11也可以僅為透光但不透明,而所述負光阻層12a也可以由硫醇烯聚合物(Thiol-enes(OSTE)polymer)等負光阻劑材料製成。
所述光形步驟S120:如圖2所示,將一光源200所發出的光線穿過一光罩300而形成一預定光形,進而穿過所述透光層11並照射在所述負光阻層12a。其中,所述光源200可以是用來發出紫外光線、且較佳是包含有能夠發出介於340奈米(nm)~410奈米的至少一個發光二極體晶片,並且至少一個所述發光二極體晶片的種類包含有雷射二極體晶片,但至少一個所述發光二極體晶片的種類可依設計需求而加以調整變化,本發明不以此為限。再者,所述光罩300可區分為多個部位,並且所述光罩300的每個所述部位的灰階值為漸層式分佈。
所述曝光步驟S130:如圖2所示,將所述光源200與所述光罩300相對於所述透光層11移動,以使鄰近所述透光層11的所述板面的所述負光阻層12a的一部位,其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成多個透鏡轉印區12。於本實施例中,所述負光阻層12a的厚度較佳是大於任一個所述透鏡轉印區12的厚度,並且對應於任一個所述透鏡轉印區12的所述光罩300的部位的灰階值為漸層式分佈,據以使得所述透鏡轉印區12的表面能呈現平滑狀,進而利於其轉印形成透鏡。
此外,多個所述透鏡轉印區12的具體構造可以依據實際的透鏡設計需求而加以調整變化。舉例來說,如圖3和圖4所示,多個所述透鏡轉印區12彼此間隔地設置,其能用來成形有間隔設置的多個凸透鏡或多個凹透鏡;或者,如圖5所示,多個所述透鏡轉印區12中的至少部分所述透鏡轉印區12彼此相連、以共同構成一菲涅爾透鏡(Fresnel lens)轉印區13,據以能夠用來成形一菲涅爾透鏡。
所述顯影步驟S140:如圖3至圖5所示,去除未形成所述透鏡轉印區12的所述負光阻層12a的另一部位,以令所述透光層11及形成於所述透光層11上的多個所述透鏡轉印區12共同構成一透鏡轉印層1。於本實施例中,可以使用相對應於所述負光阻層12a的顯影劑來溶解未形成所述透鏡轉印區12的所述負光阻層12a的另一部位(也就是,未被具備所述預定光形的所述光線所照射到的部分所述負光阻層12a)。
以上為本實施例透鏡轉印層的製造方法的說明,以下接著介紹所述透鏡轉印層1於本實施例中的構造,但本發明不以此為限。其中,如圖3至圖5所示,所述透鏡轉印層1呈平板狀且較佳為矩形片體,並且所述透鏡轉印層1包含有一透光層11及由曝光負光阻層12a(如:圖2)而形成於所述透光層11的多個透鏡轉印區12。再者,多個所述透鏡轉印區12可以依據設計需求而彼此間隔地設置;或者,多個所述透鏡轉印區12也可以依據設計需求而以其至少部分所述透鏡轉印區12彼此相連、以共同構成一菲涅爾透鏡轉印區13。
需額外說明的是,所述透鏡轉印層1於本實施例中包含有可彎折的形態與不可彎折的形態,並且當所述透鏡轉印層1為不可彎折的形態時(如:圖6和圖7),所述透鏡轉印層1可用以通過多個所述透鏡轉印區12而於一透光膜F上轉印形成多個透鏡L。也就是說,所述透鏡轉印層1與所述透光膜F能直接以片對片(sheet to sheet)的方式轉印成形有多個所述透鏡L。
[實施例二]
請參閱圖8至圖10所示,本實施例公開一種透鏡轉印滾輪100及透鏡的轉印式製造方法,為便於理解所述透鏡轉印滾輪100的構造,以下將先介紹所述透鏡的轉印式製造方法,而後再說明所述透鏡轉印滾輪100的構造。
所述透鏡的轉印式製造方法於本實施例中包含有:一透鏡轉印層成形步驟、一透鏡轉印滾輪成形步驟S220、及一透鏡成形步驟S230。其中,所述透鏡轉印層成形步驟及所述透鏡轉印滾輪成形步驟S220相當於所述透鏡轉印滾輪100的製造過程,但本實施例的透鏡轉印滾輪100並不受限於依此製造過程所製成。
需先說明的是,本實施例中的透鏡轉印層成形步驟相當於實施例一的透鏡轉印層的製造方法;也就是說,所述透鏡轉印層成形步驟包含有所述塗佈步驟S110、所述光形步驟S120、所述曝光步驟S130、及所述顯影步驟S140,所以有關於所述透鏡轉印層成形步驟請參酌實施例一,下述不再對所述透鏡轉印層成形步驟加以贅述。
所述透鏡轉印滾輪成形步驟S220:如圖8和圖9所示,將所述透鏡轉印層1的所述透光層11圍繞貼附於一滾筒2的外表面21,以使所述透鏡轉印層1與所述滾筒2共同構成所述透鏡轉印滾輪100。於本實施例中,所述透鏡轉印層1是以遠離多個所述透鏡轉印區12的一表面(如:圖8中的透光層11底面)來圍繞貼附於所述滾筒2的所述外表面21。
所述透鏡成形步驟S230:如圖9和圖10所示,以所述透鏡轉印滾輪100的多個所述透鏡轉印區12不間斷地滾壓於一透光膜F上,以使所述透光膜F形成有多個透鏡L。其中,所述透光膜F的多個所述透鏡L的數量大於所述透鏡轉印滾輪100的多個所述透鏡轉印區12的數量。也就是說,所述透鏡轉印滾輪100與所述透光膜F能直接以卷對卷(roll to roll)的方式快速地轉印成形有多個所述透鏡L。
以上為本實施例透鏡的轉印式製造方法的說明,以下接著介紹所述透鏡轉印滾輪100於本實施例中的構造,但本發明不以此為限。其中,如圖8至圖10所示,所述透鏡轉印滾輪100包含一滾筒2及貼附於所述滾筒2的一透鏡轉印層1。需說明的是,本實施例中的透鏡轉印層1相當於實施例一所載,所以有關於所述透鏡轉印層1的構造請參酌實施例一,下述不再對所述透鏡轉印層1的構造加以贅述。
所述滾筒2的橫剖面呈圓形,且所述滾筒2較佳為不透光狀的實心構造(如:金屬滾筒),但本發明不以此為限。舉例來說,在本發明未繪示的其他實施例中,所述滾筒2也可以依據實際的設計需求而為中空結構,並且所述滾筒2的材質也可以依據設計需求而調整變化。
所述透鏡轉印層1於本實施例中是限定為可彎折的形態,並且所述透鏡轉印層1是以所述透光層11圍繞貼附於所述滾筒2的外表面21。於本實施例中,所述透鏡轉印層1是以遠離多個所述透鏡轉印區12的表面來圍繞貼附於所述滾筒2的所述外表面21。更詳細地說,所述透鏡轉印層1可以是呈至少355度圍繞地包覆所述滾筒2的所述外表面21,並且所述透鏡轉印層1的兩條邊緣彼此相向且留有裸露所述滾筒2的一間隙G。
據此,所述透鏡轉印滾輪100能用以通過多個所述透鏡轉印區12於一透光膜上滾動轉印形成多個透鏡L。也就是說,也就是說,所述透鏡轉印滾輪100與所述透光膜F能直接以卷對卷(roll to roll)的方式轉印成形有多個所述透鏡L。換個角度來說,並非以滾動轉印方式運作的構造則不同於本實施例所指的透鏡轉印滾輪100。
[本發明實施例的技術效果]
綜上所述,本發明實施例所公開的透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法,其以具備所述預定光形的所述光線照射鄰近所述透光層的所述板面的所述負光阻層的部位、而構成多個透鏡轉印區,據以使得透鏡的生產與製造能夠通過轉印的方式來實現,進而有別於且更有效率於現有透鏡製造方法。
再者,本發明實施例所公開的透鏡轉印滾輪及透鏡轉印層,其能通過形成於所述透光層的多個透鏡轉印區,使得透鏡的生產與製造能以轉印的方式實現,進而有別於且更有效率於現有透鏡製造方法。
以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例,並非因此侷限本發明的專利範圍,所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的專利範圍內。
100:透鏡轉印滾輪
1:透鏡轉印層
11:透光層
12:透鏡轉印區
13:菲涅爾透鏡轉印區
2:滾筒
21:外表面
12a:負光阻層
200:光源
300:光罩
F:透光膜
L:透鏡
G:間隙
S110:塗佈步驟
S120:光形步驟
S130:曝光步驟
S140:顯影步驟
S220:透鏡轉印滾輪成形步驟
S230:透鏡成形步驟
圖1為本發明實施例一的透鏡轉印層的製造方法的塗佈步驟示意圖。
圖2為本發明實施例一的透鏡轉印層的製造方法的光形步驟與曝光步驟的示意圖。
圖3為本發明實施例一的透鏡轉印層的製造方法的顯影步驟示意圖。
圖4為本發明實施例一的透鏡轉印層的另一形態示意圖。
圖5為本發明實施例一的透鏡轉印層的又一形態示意圖。
圖6為本發明實施例一的透鏡轉印層用來轉印於透光膜的示意圖(一)。
圖7為本發明實施例一的透鏡轉印層用來轉印於透光膜的示意圖(二)。
圖8為本發明實施例二的透鏡的轉印式製造方法的透鏡轉印滾輪成形步驟示意圖。
圖9為本發明實施例二的透鏡的轉印式製造方法的透鏡成形步驟示意圖(一)。
圖10為本發明實施例二的透鏡的轉印式製造方法的透鏡成形步驟示意圖(二)。
1:透鏡轉印層
11:透光層
12:透鏡轉印區
F:透光膜
L:透鏡
Claims (6)
- 一種透鏡的轉印式製造方法,其包括:製造一透鏡轉印滾輪,其製造過程包含:於一透光層的板面塗佈一負光阻層;將一光源所發出的光線穿過一光罩而形成一預定光形,進而穿過所述透光層並照射在所述負光阻層;將所述光源與所述光罩相對於所述透光層移動,以使鄰近所述透光層的所述板面的所述負光阻層的一部位,其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成多個透鏡轉印區;其中,所述負光阻層的厚度大於任一個所述透鏡轉印區的厚度,並且多個所述透鏡轉印區中的至少部分所述透鏡轉印區彼此相連、以共同構成一菲涅爾透鏡(Fresnel lens)轉印區;去除未形成所述透鏡轉印區的所述負光阻層的另一部位,以令所述透光層及形成於所述透光層上的多個所述透鏡轉印區共同構成一透鏡轉印層;及將所述透鏡轉印層的所述透光層圍繞貼附於一滾筒的外表面,以使所述透鏡轉印層與所述滾筒共同構成所述透鏡轉印滾輪;以及以所述透鏡轉印滾輪的多個所述透鏡轉印區不間斷地滾壓於一透光膜上,以使所述透光膜形成有多個透鏡。
- 如請求項1所述的透鏡的轉印式製造方法,其中,在所述透鏡轉印滾輪的製造過程中,所述透鏡轉印層是以遠離多個所述透鏡轉印區的一表面來圍繞貼附於所述滾筒的所述外表面。
- 如請求項1所述的透鏡的轉印式製造方法,其中,所述透光膜的多個所述透鏡的數量大於所述透鏡轉印滾輪的多個所述透鏡轉印區的數量。
- 如請求項1所述的透鏡的轉印式製造方法,其中,對應於任一個所述透鏡轉印區的所述光罩部位的灰階值為漸層式分佈。
- 如請求項1所述的透鏡的轉印式製造方法,其中,所述光源包含有能夠發出介於340奈米(nm)~410奈米的至少一個發光二極體晶片。
- 一種透鏡轉印層的製造方法,其包括:於一透光層的板面塗佈一負光阻層;將一光源所發出的光線穿過一光罩而形成一預定光形,進而穿過所述透光層並照射在所述負光阻層;將所述光源與所述光罩相對於所述透光層移動,以使鄰近所述透光層的所述板面的所述負光阻層的一部位,其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成多個透鏡轉印區;其中,所述負光阻層的厚度大於任一個所述透鏡轉印區的厚度,並且多個所述透鏡轉印區中的至少部分所述透鏡轉印區彼此相連、以共同構成一菲涅爾透鏡轉印區;以及去除未形成所述透鏡轉印區的所述負光阻層的另一部位,以令所述透光層及形成於所述透光層上的多個所述透鏡轉印區共同構成一透鏡轉印層。
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Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI274654B (en) * | 2006-01-26 | 2007-03-01 | Apticon Inc | Tape-to-roll forming method for surface microstructure of light sensitive resin layer and optical film manufactured according to the method |
KR100837339B1 (ko) * | 2007-03-13 | 2008-06-12 | 한국기계연구원 | 탄성중합체 스탬프를 이용한 롤 프린트 방식의 미세접촉인쇄장치 |
TW200941545A (en) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | Ind Tech Res Inst | Method for patterning photoresist layer |
JP5023671B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2012-09-12 | 凸版印刷株式会社 | 針状体の製造方法 |
CN102890403A (zh) * | 2011-07-20 | 2013-01-23 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 形成图案的方法及采用该方法形成有图案的壳体 |
JP5449789B2 (ja) * | 2009-01-29 | 2014-03-19 | 藤森工業株式会社 | インプリント用転写フィルムロール体の製造方法、およびインプリント用転写フィルムロール体 |
TW201424998A (zh) * | 2012-10-11 | 2014-07-01 | Asahi Glass Co Ltd | 輥之製造方法及圖案形成方法 |
TWI518027B (zh) * | 2008-01-22 | 2016-01-21 | 羅利斯公司 | 大面積奈米圖案化之方法與設備 |
JP6005117B2 (ja) * | 2010-08-23 | 2016-10-12 | メタマテリアル テクノロジーズ ユーエスエー インコーポレイテッド | 近接場リソグラフィのためのマスクの製造方法 |
TWM601832U (zh) * | 2020-06-12 | 2020-09-21 | 光群雷射科技股份有限公司 | 透鏡轉印滾輪及透鏡轉印層 |
-
2020
- 2020-06-12 TW TW109119771A patent/TWI765276B/zh active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI274654B (en) * | 2006-01-26 | 2007-03-01 | Apticon Inc | Tape-to-roll forming method for surface microstructure of light sensitive resin layer and optical film manufactured according to the method |
JP5023671B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2012-09-12 | 凸版印刷株式会社 | 針状体の製造方法 |
KR100837339B1 (ko) * | 2007-03-13 | 2008-06-12 | 한국기계연구원 | 탄성중합체 스탬프를 이용한 롤 프린트 방식의 미세접촉인쇄장치 |
TWI518027B (zh) * | 2008-01-22 | 2016-01-21 | 羅利斯公司 | 大面積奈米圖案化之方法與設備 |
TW200941545A (en) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | Ind Tech Res Inst | Method for patterning photoresist layer |
JP5449789B2 (ja) * | 2009-01-29 | 2014-03-19 | 藤森工業株式会社 | インプリント用転写フィルムロール体の製造方法、およびインプリント用転写フィルムロール体 |
JP6005117B2 (ja) * | 2010-08-23 | 2016-10-12 | メタマテリアル テクノロジーズ ユーエスエー インコーポレイテッド | 近接場リソグラフィのためのマスクの製造方法 |
CN102890403A (zh) * | 2011-07-20 | 2013-01-23 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 形成图案的方法及采用该方法形成有图案的壳体 |
TW201424998A (zh) * | 2012-10-11 | 2014-07-01 | Asahi Glass Co Ltd | 輥之製造方法及圖案形成方法 |
TWM601832U (zh) * | 2020-06-12 | 2020-09-21 | 光群雷射科技股份有限公司 | 透鏡轉印滾輪及透鏡轉印層 |
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