TWI730831B - 增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜 - Google Patents

增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜 Download PDF

Info

Publication number
TWI730831B
TWI730831B TW109122318A TW109122318A TWI730831B TW I730831 B TWI730831 B TW I730831B TW 109122318 A TW109122318 A TW 109122318A TW 109122318 A TW109122318 A TW 109122318A TW I730831 B TWI730831 B TW I730831B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light
brightness enhancement
enhancement film
transfer
manufacturing
Prior art date
Application number
TW109122318A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202202328A (zh
Inventor
林劉恭
Original Assignee
光群雷射科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 光群雷射科技股份有限公司 filed Critical 光群雷射科技股份有限公司
Priority to TW109122318A priority Critical patent/TWI730831B/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI730831B publication Critical patent/TWI730831B/zh
Publication of TW202202328A publication Critical patent/TW202202328A/zh

Links

Images

Landscapes

  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

本發明公開一種增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜。增亮膜的轉印式製造方法包括：製造一增亮膜轉印滾輪；以增亮膜轉印滾輪滾壓一透光膜，進而構成一增亮膜。增亮膜轉印滾輪的製造過程包含：於一透光圓管的外表面塗佈一負光阻層；將一光源搭配一光罩來共同伸入透光圓管內，並以一預定光形穿過透光圓管並照射在負光阻層；將光源與光罩相對於透光圓管旋轉，以使透光圓管的外表面的負光阻層的一部位，其能夠受到具備預定光形的光線照射而構成一稜鏡微結構轉印層；去除未形成稜鏡微結構轉印層的負光阻層的另一部位，構成增亮膜轉印滾輪。

Description

增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜
本發明涉及一種增亮膜的製造方法及增亮膜，特別是涉及一種增亮膜的轉印式製造方法及以所述增亮膜的轉印式製造方法製造的增亮膜。
現有的增亮膜製造方法往往需要藉由特殊的製程製造（如：鑽石雕刻刀切割），上述特殊的製程經常需要耗費大量的經費與時間，使增亮膜的製造時間及製造成本大幅提升。
故，如何通過增亮膜製造方法的設計與改良，以克服上述的缺陷，已成為該項事業所欲解決的重要課題之一。
本發明實施例針對現有技術的不足提供一種增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜，其能有效地改善現有增亮膜製造方法所可能產生的缺陷。
本發明實施例公開一種增亮膜的轉印式製造方法，其包括：一滾輪製造步驟：製造一增亮膜轉印滾輪，其製造過程包含：一塗佈步驟：於一透光圓管的外表面塗佈圍繞360度的一負光阻層；一光形步驟：將一光源搭配一光罩來共同伸入所述透光圓管內，以使所述光源所發出的光線能穿過所述光罩、而以一預定光形穿過所述透光圓管並照射在所述負光阻層；一曝光步驟：將所述光源與所述光罩相對於所述透光圓管旋轉，以使鄰近所述透光圓管的所述外表面的所述負光阻層的一部位，其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成一稜鏡微結構轉印層；及一顯影步驟：去除未形成所述稜鏡微結構轉印層的所述負光阻層的另一部位，以令所述透光圓管及形成於所述透光圓管上的所述稜鏡微結構轉印層共同構成所述增亮膜轉印滾輪；以及一增亮膜轉印步驟：以所述增亮膜轉印滾輪不間斷地滾壓於一透光膜上，以使所述透光膜形成有多條稜鏡微結構、進而構成一增亮膜。
本發明實施例公開一種增亮膜，其是以上述增亮膜的轉印式製造方法所製成。
本發明的其中一有益效果在於，本發明所提供的增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜，其能通過“所述曝光步驟及所述顯影步驟，使所述透光圓管及形成於所述透光圓管上的所述稜鏡微結構轉印層共同構成所述增亮膜轉印滾輪”以及“所述增亮膜轉印步驟以所述增亮膜轉印滾輪不間斷地滾壓於所述透光膜上，以使所述透光膜形成有多條稜鏡微結構、進而構成所述增亮膜”的技術方案，以大幅降低所述增亮膜的製造時間及製造成本。
為使能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與圖式，然而所提供的圖式僅用於提供參考與說明，並非用來對本發明加以限制。
以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開有關“增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不背離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外，本發明的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。
應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。
請參閱圖1至圖8B所示，其為本發明的實施例，需先說明的是，本實施例所對應到的附圖及其所提及的相關數量與外形，僅用來具體地說明本發明的實施方式，以便於了解本發明的內容，而非用來侷限本發明的保護範圍。
本發明實施例公開一種增亮膜500以及一種增亮膜的轉印式製造方法。為便於理解所述增亮膜500的構造，以下將先介紹所述增亮膜的轉印式製造方法，而後再說明所述增亮膜500的構造，但本實施例的所述增亮膜500並不受限於依循該製造方法所製成。其中，如圖1所示，所述增亮膜的轉印式製造方法於本實施例中包含有一滾輪製造步驟S1以及一增亮膜轉印步驟S2。
所述滾輪製造步驟S1的製造過程依序包含下列幾個步驟：一塗佈步驟S11、一光形步驟S12、一曝光步驟S13、一顯影步驟S14，但本發明並不限於此。舉例來說，於本發明未繪示的其他實施例中，所述滾輪製造步驟S1可進一步包含銜接於所述顯影步驟S14的一烘烤步驟。
如圖1及圖2所示，所述塗佈步驟S11：提供一透光圓管1，並在所述透光圓管1的外表面12塗佈圍繞360度的一負光阻層2。需要說明的是，於本實施例中，所述透光圓管1定義有一中心軸線11，並且所述透光圓管1是由鈉鈣玻璃、石英玻璃或丙烯酸玻璃等具有透明性質的材料製成；所述負光阻層2主要是由聚異戊二烯橡膠（Polyisoprene rubber）或環氧基聚合物（Epoxy-based polymer）等材料製成，但本發明並不限於此。舉例來說，所述透光圓管1也可以由派熱克斯（Pyrex）玻璃等其他透明材料製成；所述負光阻層2也可以由硫醇烯聚合物（Thiol-enes（OSTE）polymer）等負光阻劑材料製成。
如圖1及圖3所示，所述光形步驟S12：提供一光源200以及間隔地環繞所述光源200的一光罩300，而後將所述光源200搭配所述光罩300來共同伸入所述透光圓管1內，以使所述光源200所發出的光線能穿過所述光罩300、而以一預定光形穿過所述透光圓管1並照射在所述負光阻層2。其中，所述光源200於本實施例中可以是用來發出紫外光線、且較佳是包含有能夠發出介於340奈米（nm）～410奈米的至少一個發光二極體晶片，並且至少一個所述發光二極體晶片的種類包含有雷射二極體晶片，但至少一個所述發光二極體晶片的種類可依設計需求而加以調整變化，本發明不以此為限。
如圖3所示，所述光罩300於本實施例中為一灰階光罩，而且所述光罩300的灰階值呈漸層式分佈。進一步地說，所述光罩300的灰階之間具有明顯的界線。所述光罩300可藉由調整其灰階值分佈來控制所述預定光形，但本發明並不限於此。舉例來說，所述光罩300的灰階值也可以呈連續漸進式分佈。也就是說，所述光罩300的灰階之間不具有明顯的界線。
如圖1、圖3及圖4所示，所述曝光步驟S13：將所述光源200與所述光罩300相對於所述透光圓管1旋轉，以使鄰近所述透光圓管1的所述外表面12的所述負光阻層2的一部位，其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成一稜鏡微結構轉印層3。其中，所述透光圓管1沿所述中心軸線11自轉，而且當所述透光圓管1自轉時，所述光源200與所述光罩300自所述透光圓管1的一端移動至另一端。
需要說明的是，如圖5A及圖7A所示，在垂直所述中心軸線11的所述稜鏡微結構轉印層3的一截面中，所述稜鏡微結構轉印層3呈封閉狀，而且所述稜鏡微結構轉印層3具有彼此平行且依序相連的多個長條狀結構31。其中，每個所述長條狀結構31自所述透光圓管1的一端延伸至另一端，而且任兩個相鄰的所述長條狀結構31具有相同的高度，但本發明並不限於此。舉例來說，如圖5B及圖7B所示，任兩個相鄰的所述長條狀結構31也可以具有不同的高度；如圖7C及圖7D所示，每個所述長條狀結構31也可以環繞於所述透光圓管1，而且任兩個相鄰的所述長條狀結構31可以具有相同的高度，但本發明並不限於此。舉例來說，於本發明未繪示的其他實施例中，任兩個相鄰的所述長條狀結構31也可以具有不同的高度。
需要說明的是，如圖5A及圖5B所示，任兩個相鄰所述長條狀結構31的垂直其長軸方向的截面的寬度不相同，但本發明並不限於此。舉例來說，於本發明未繪示的其他實施例中，任兩個相鄰所述長條狀結構31的垂直其長軸方向的截面的寬度可以相同。
需要說明的是，如圖7A至圖7D所示，每個所述長條狀結構31平行於所述中心軸線11，而且任兩個相鄰所述長條狀結構31的垂直其長軸方向的截面具有不同的形狀。更詳細地說，於本實施例中，任兩個相鄰所述長條狀結構31的垂直其長軸方向的截面具有不同的三角形，但本發明並不限於此。舉例來說，於本發明未繪示的其他實施例中，任兩個相鄰所述長條狀結構31的垂直其長軸方向的截面也可以具有半圓形以及三角形。
需要說明的是，任一個所述長條狀結構31的形狀對應於所述光罩300部位的灰階值而有所不同。其中，所述光罩300的所述部位可定義為一色塊301。進一步地說，使用者可藉由調整每個所述色塊301的灰階值分佈來控制所述預定光形，進而調整對應的所述長條狀結構31的形狀。如圖5A及圖5B所示，當每個所述色塊301的灰階值分佈都不同時，所述稜鏡微結構轉印層3對應形成有多種不同形狀的長條狀結構31。
舉例來說，如圖6A所示，當每個所述色塊301的灰階值大致呈深-淺-深的漸層式分佈時，受到具備所述預定光形照射的所述負光阻層2的所述部位形成一等腰三角形結構。如圖6B所示，當每個所述色塊301的部分區段的灰階值急劇變化時，受到具備所述預定光形照射的所述負光阻層2的所述部位形成一不對稱的三角形結構。
如圖6C及圖6D所示，當每個所述色塊301的灰階值大致呈深-淺-深的連續漸進式分佈時，受到具備所述預定光形照射的所述負光阻層2的所述部位形成一半圓形結構。當每個所述色塊301的灰階值呈由淺至深的連續漸進式分佈時，受到具備所述預定光形照射的所述負光阻層2的所述部位形成一直角三角形結構。
如圖1、圖7A及圖7B所示，所述顯影步驟S14：去除未形成所述稜鏡微結構轉印層3的所述負光阻層2的另一部位，以令所述透光圓管1及形成於所述透光圓管1上的所述稜鏡微結構轉印層3共同構成一增亮膜轉印滾輪100。於本實施例中，可以使用相對應於所述負光阻層2的顯影劑來溶解未形成所述稜鏡微結構轉印層3的所述負光阻層2的另一部位（也就是，未被具備所述預定光形的所述光線所照射到的部分所述負光阻層2）。
如圖1及圖8A所示，所述增亮膜轉印步驟S2：以所述增亮膜轉印滾輪100不間斷地滾壓於一透光膜400上，以使所述透光膜400形成有多條稜鏡微結構501，進而構成一增亮膜500。以上為本實施例的增亮膜的轉印式製造方法的說明，以下接著介紹所述增亮膜500於本實施例中的構造，但本發明不以此為限。
如圖8A所示，所述增亮膜500的所述稜鏡微結構501是通過所述增亮膜轉印滾輪100的多個長條狀結構31不間斷地滾壓於所述透光膜400而形成，而且所述稜鏡微結構501依序相連不間斷。其中，所述增亮膜500的多條所述稜鏡微結構501的數量大於所述稜鏡微結構轉印層3的多個所述長條狀結構31的數量。需要說明的是，由於在本實施例中，任兩個相鄰的所述長條狀結構31具有相同的高度，使得任兩條相鄰的所述稜鏡微結構501具有相同的高度，但本發明並不限於此。舉例來說，如圖8B所示，任兩個相鄰的所述長條狀結構31具有不同的高度，使得任兩條相鄰的所述稜鏡微結構501具有不同的高度。
此外，如圖7B及圖8B所示，本發明實施例還公開一種增亮膜轉印滾輪100，其由內而外依序包括所述透光圓管1以及形成於所述透光圓管1的所述外表面12的所述稜鏡微結構轉印層3。所述透光圓管1定義有所述中心軸線11。所述稜鏡微結構轉印層3由曝光所述負光阻層2而形成，並且所述稜鏡微結構轉印層3用來在所述透光膜400上滾動轉印形成多條所述稜鏡微結構501，進而構成所述增亮膜500。其中，所述稜鏡微結構轉印層3包含有各平行於所述中心軸線11且呈圓環狀排列的多個所述長條狀結構31，並且垂直於所述中心軸線11的任兩個相鄰所述長條狀結構31的截面具有不同的形狀，但本發明並不限於此。舉例來說，如圖7C及圖7D所示，所述稜鏡微結構轉印層3也可以包含有各垂直於所述中心軸線11的多個所述長條狀結構31。
另，如圖8B所示，本發明實施例也公開一種增亮膜轉印滾輪100的稜鏡微結構轉印層3，其由曝光所述負光阻層2而形成，用以於所述透光膜400上滾動轉印形成多條稜鏡微結構501，進而構成所述增亮膜500；其中，所述稜鏡微結構轉印層3包含有彼此平行且呈圓環狀排列的多個所述長條狀結構31，並且任兩個相鄰所述長條狀結構31的垂直其長軸方向的截面具有不同的形狀，但本發明並不限於此。舉例來說，如圖7C及圖7D所示，所述稜鏡微結構轉印層3也可以包含有各垂直於所述中心軸線11的多個所述長條狀結構31。
[實施例的有益效果]
本發明的其中一有益效果在於，本發明所提供的增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜，其能通過“提供具有所述稜鏡微結構轉印層的所述增亮膜轉印滾輪”以及“以所述增亮膜轉印滾輪不間斷地滾壓於所述透光膜上，以使所述透光膜形成有多條稜鏡微結構、進而構成所述增亮膜”的技術方案，以大幅降低所述增亮膜的製造時間及製造成本。
以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例，並非因此侷限本發明的申請專利範圍，所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的申請專利範圍內。
100:增亮膜轉印滾輪 1:透光圓管 11:中心軸線 12:外表面 2:負光阻層 3:稜鏡微結構轉印層 31:長條狀結構 200:光源 300:光罩 301:色塊 400:透光膜 500:增亮膜 501:稜鏡微結構 S1:滾輪製造步驟 S11:塗佈步驟 S12:光形步驟 S13:曝光步驟 S14:顯影步驟 S2:增亮膜轉印步驟
圖1為本發明實施例的增亮膜的轉印式製造方法的步驟流程示意圖。
圖2為本發明實施例的塗佈負光阻層的透光圓管的立體示意圖。
圖3為本發明實施例的光源與光罩共同伸入所述透光圓管的動作示意圖。
圖4為本發明實施例的經過預定光形照射的所述透光圓管的立體示意圖。
圖5A至圖5B為圖4沿VA-VA剖線的剖面示意圖。
圖6A至圖6D為本發明實施例的長條狀結構的剖面示意圖。
圖7A至圖7C為本發明實施例的增亮膜轉印滾輪的立體示意圖。
圖7D為圖7C沿VIID剖線的剖面示意圖。
圖8A至圖8B為本發明實施例的增亮膜轉印滾輪壓印透光膜的動作示意圖。
S1:滾輪製造步驟
S11:塗佈步驟
S12:光形步驟
S13:曝光步驟
S14:顯影步驟
S2:增亮膜轉印步驟

Claims (9)

  1. 一種增亮膜的轉印式製造方法，其包括：一滾輪製造步驟：製造一增亮膜轉印滾輪，其製造過程包含：一塗佈步驟：於一透光圓管的外表面塗佈圍繞360度的一負光阻層；一光形步驟：將一光源搭配一光罩來共同伸入所述透光圓管內，以使所述光源所發出的光線能穿過所述光罩、而以一預定光形穿過所述透光圓管並照射在所述負光阻層；一曝光步驟：將所述光源與所述光罩相對於所述透光圓管旋轉，以使鄰近所述透光圓管的所述外表面的所述負光阻層的一部位，其能夠受到具備所述預定光形的所述光線照射而構成一稜鏡微結構轉印層；及一顯影步驟：去除未形成所述稜鏡微結構轉印層的所述負光阻層的另一部位，以令所述透光圓管及形成於所述透光圓管上的所述稜鏡微結構轉印層共同構成所述增亮膜轉印滾輪；以及一增亮膜轉印步驟：以所述增亮膜轉印滾輪不間斷地滾壓於一透光膜上，以使所述透光膜形成有多條稜鏡微結構、進而構成一增亮膜；其中，在所述增亮膜轉印滾輪的製造過程中，所述稜鏡微結構轉印層形成有彼此平行且依序相連的多個長條狀結構；其中，多條所述稜鏡微結構是通過多個長條狀結構不間斷地滾壓於所述透光膜而形成、且依序相連不間斷。
  2. 如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法，其中，任兩個相鄰的所述長條狀結構具有不同的高度，以使任兩條相鄰的所述稜鏡微結構具有不同的高度。
  3. 如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法，其中，任兩個相鄰所述長條狀結構的垂直其長軸方向的截面具有不同的形狀。
  4. 如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法，其中，任兩個相鄰所述長條狀結構的垂直其長軸方向的截面具有不同的三角形。
  5. 如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法，其中，所述增亮膜的多條所述稜鏡微結構的數量大於所述稜鏡微結構轉印層的多個所述長條狀結構的數量。
  6. 如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法，其中，對應於任一個所述長條狀結構的所述光罩部位的灰階值為漸層式分佈。
  7. 如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法，其中，所述透光圓管定義有一中心軸線，並且每個所述長條狀結構平行於所述中心軸線。
  8. 如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法，其中，所述光源包含有能夠發出介於340奈米(nm)~410奈米的至少一個發光二極體晶片。
  9. 一種增亮膜，以如請求項1所述的增亮膜的轉印式製造方法所製成。
TW109122318A 2020-07-02 2020-07-02 增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜 TWI730831B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW109122318A TWI730831B (zh) 2020-07-02 2020-07-02 增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW109122318A TWI730831B (zh) 2020-07-02 2020-07-02 增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TWI730831B true TWI730831B (zh) 2021-06-11
TW202202328A TW202202328A (zh) 2022-01-16

Family

ID=77517273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109122318A TWI730831B (zh) 2020-07-02 2020-07-02 增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜

Country Status (1)

Country Link
TW (1) TWI730831B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101016634A (zh) * 2006-12-30 2007-08-15 苏州大学 一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法
US7649591B2 (en) * 2002-10-05 2010-01-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical member, method of fabricating the same and liquid crystal display apparatus having the same
US20150064628A1 (en) * 2012-04-17 2015-03-05 The Regents Of The University Of Michigan Methods for making micro- and nano-scale conductive grids for transparent electrodes and polarizers by roll to roll optical lithography
TW202024810A (zh) * 2011-12-20 2020-07-01 日商尼康股份有限公司 圓筒光罩曝光裝置
TWM602496U (zh) * 2020-07-02 2020-10-11 光群雷射科技股份有限公司 一種增亮膜轉印滾輪及其稜鏡微結構轉印層

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7649591B2 (en) * 2002-10-05 2010-01-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical member, method of fabricating the same and liquid crystal display apparatus having the same
CN101016634A (zh) * 2006-12-30 2007-08-15 苏州大学 一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法
TW202024810A (zh) * 2011-12-20 2020-07-01 日商尼康股份有限公司 圓筒光罩曝光裝置
US20150064628A1 (en) * 2012-04-17 2015-03-05 The Regents Of The University Of Michigan Methods for making micro- and nano-scale conductive grids for transparent electrodes and polarizers by roll to roll optical lithography
TWM602496U (zh) * 2020-07-02 2020-10-11 光群雷射科技股份有限公司 一種增亮膜轉印滾輪及其稜鏡微結構轉印層

Also Published As

Publication number Publication date
TW202202328A (zh) 2022-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI251114B (en) Exposing mask, production method therefor and exposing method
JP6059695B2 (ja) 光学体の製造方法
CN108351604B (zh) 膜掩模、其制备方法、使用膜掩模的图案形成方法和由膜掩模形成的图案
CN108351437A (zh) 扩散板、扩散板的设计方法、扩散板的制造方法、显示装置、投影装置和照明装置
TWI627496B (zh) Graphic structure and exposure method of patterned sapphire substrate mask
JP2017083815A (ja) 拡散板、拡散板の設計方法、拡散板の製造方法、表示装置、投影装置及び照明装置
WO2017067239A1 (zh) 掩膜板及其制作方法、利用掩膜板构图的方法、滤光片
JP2019053288A5 (ja) フォトマスク及び表示装置の製造方法
CN110114698A (zh) 反射型扩散板、显示装置、投影装置及照明装置
WO2022071397A1 (ja) 光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
TWI437277B (zh) Method of Making Surface Bump
CN103018808B (zh) 光子筛及其制作方法
TWI730831B (zh) 增亮膜的轉印式製造方法及增亮膜
TWM602496U (zh) 一種增亮膜轉印滾輪及其稜鏡微結構轉印層
KR101541583B1 (ko) 초발수 기판 및 그 제조방법
US20140037920A1 (en) Patterning of hard-to-dry-etch substrates
JP2005140890A (ja) 防眩フィルム及び画像表示装置
Tsai et al. Fabrication of ball-strip convex microlens array using seamless roller mold patterned by curved surface lithography technique
TWI592741B (zh) 光罩及光罩的製造方法
CN113917583B (zh) 增亮膜的转印式制造方法及增亮膜
CN212341497U (zh) 增亮膜转印滚轮及其棱镜微结构转印层
TWI459040B (zh) 模具之製造方法及防炫膜之製造方法
JP4887873B2 (ja) パターン形成体の製造方法
JP6825238B2 (ja) 表示体およびその製造方法
TWI765276B (zh) 透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法