CN113805256A - 透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法，所述透镜转印层的制造方法包含：于一透光层的板面涂布一负光阻层；将一光源所发出的光线穿过一光罩而形成一预定光形，进而穿过所述透光层并照射在所述负光阻层；将所述光源与所述光罩相对于所述透光层移动，以使邻近所述透光层的所述板面的所述负光阻层的一部位，其能够受到具备所述预定光形的所述光线照射而构成多个透镜转印区；以及去除未形成所述透镜转印区的所述负光阻层的另一部位，以令所述透光层及形成于所述透光层上的多个所述透镜转印区共同构成一透镜转印层。据此，透镜的生产与制造能够通过转印的方式来实现，进而有别于且更有效率于现有透镜制造方法。

Description

透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法
技术领域
本发明涉及一种透镜的制造方法，尤其涉及一种透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法。
背景技术
现有透镜制造方法包含有注模成形、光刻成形、或研磨成形等，本领域的技术人员也已惯于使用并无形受限于现有透镜制造方法的框架之下，所以因其技术偏见而不再研发思考如何能够更有效率地实现透镜的生产与制造。
于是，本发明人认为上述缺陷可改善，因而特别潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本发明。
发明内容
本发明实施例在于提供一种透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法，其能有效地改良现有透镜制造方法。
本发明实施例公开一种透镜的转印式制造方法，其包括：制造一透镜转印滚轮，其制造过程包含：于一透光层的板面涂布一负光阻层；将一光源所发出的光线穿过一光罩而形成一预定光形，进而穿过透光层并照射在负光阻层；将光源与光罩相对于透光层移动，以使邻近透光层的板面的负光阻层的一部位，其能够受到具备预定光形的光线照射而构成多个透镜转印区；去除未形成透镜转印区的负光阻层的另一部位，以令透光层及形成于透光层上的多个透镜转印区共同构成一透镜转印层；及将透镜转印层的透光层围绕贴附于一滚筒的外表面，以使透镜转印层与滚筒共同构成透镜转印滚轮；以及以透镜转印滚轮的多个透镜转印区不间断地滚压于一透光膜上，以使透光膜形成有多个透镜。
优选地，在透镜转印滚轮的制造过程中，多个透镜转印区彼此间隔地设置。
优选地，在透镜转印滚轮的制造过程中，多个透镜转印区中的至少部分透镜转印区彼此相连、以共同构成一菲涅尔透镜(Fresnel lens)转印区。
优选地，在透镜转印滚轮的制造过程中，透镜转印层是以远离多个透镜转印区的一表面来围绕贴附于滚筒的外表面。
优选地，透光膜的多个透镜的数量大于透镜转印滚轮的多个透镜转印区的数量。
优选地，对应于任一个透镜转印区的光罩部位的灰阶值为渐层式分布。
优选地，光源包含有能够发出介于340纳米(nm)～410纳米的至少一个发光二极管芯片。
本发明实施例也公开一种透镜转印层的制造方法，其包括：于一透光层的板面涂布一负光阻层；将一光源所发出的光线穿过一光罩而形成一预定光形，进而穿过透光层并照射在负光阻层；将光源与光罩相对于透光层移动，以使邻近透光层的板面的负光阻层的一部位，其能够受到具备预定光形的光线照射而构成多个透镜转印区；以及去除未形成透镜转印区的负光阻层的另一部位，以令透光层及形成于透光层上的多个透镜转印区共同构成一透镜转印层。
优选地，多个透镜转印区彼此间隔地设置。
优选地，多个透镜转印区中的至少部分透镜转印区彼此相连、以共同构成一菲涅尔透镜转印区。
综上所述，本发明实施例所公开的透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法，其以具备所述预定光形的所述光线照射邻近所述透光层的所述板面的所述负光阻层的部位、而构成多个透镜转印区，据以使得透镜的生产与制造能够通过转印的方式来实现，进而有别于且更有效率于现有透镜制造方法。
为能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，但是这些说明与附图仅用来说明本发明，而非对本发明的保护范围作任何的限制。
附图说明
图1为本发明实施例一的透镜转印层的制造方法的涂布步骤示意图。
图2为本发明实施例一的透镜转印层的制造方法的光形步骤与曝光步骤的示意图。
图3为本发明实施例一的透镜转印层的制造方法的显影步骤示意图。
图4为本发明实施例一的透镜转印层的另一形态示意图。
图5为本发明实施例一的透镜转印层的又一形态示意图。
图6为本发明实施例一的透镜转印层用来转印于透光膜的示意图(一)。
图7为本发明实施例一的透镜转印层用来转印于透光膜的示意图(二)。
图8为本发明实施例二的透镜的转印式制造方法的透镜转印滚轮成形步骤示意图。
图9为本发明实施例二的透镜的转印式制造方法的透镜成形步骤示意图(一)。
图10为本发明实施例二的透镜的转印式制造方法的透镜成形步骤示意图(二)。
具体实施方式
以下是通过特定的具体实施例来说明本发明所公开有关“透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本发明的优点与效果。本发明可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本发明的构思下进行各种修改与变更。另外，本发明的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本发明的保护范围。
应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件，或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
[实施例一]
请参阅图1至图7所示，本实施例公开一种透镜转印层1及其制造方法。为便于理解所述透镜转印层1的构造，以下将先介绍所述透镜转印层的制造方法，而后再说明所述透镜转印层1的构造，但本实施例的透镜转印层1并不受限于依循该制造方法所制成。其中，所述透镜转印层的制造方法于本实施例中包含有：一涂布步骤S110、一光形步骤S120、一曝光步骤S130、及一显影步骤S140。
所述涂布步骤S110：如图1所示，于一透光层11的板面涂布一负光阻层12a。于本实施例中，所述透光层11为具有透明性质的材料制成，而所述负光阻层12a可以是由聚异戊二烯橡胶(Polyisoprene rubber)或环氧基聚合物(Epoxy-based polymer)等材料制成，但本发明并不以此为限。举例来说，在本发明未绘示的其他实施例中，所述透光层11也可以仅为透光但不透明，而所述负光阻层12a也可以由硫醇烯聚合物(Thiol-enes(OSTE)polymer)等负光阻剂材料制成。
所述光形步骤S120：如图2所示，将一光源200所发出的光线穿过一光罩300而形成一预定光形，进而穿过所述透光层11并照射在所述负光阻层12a。其中，所述光源200可以是用来发出紫外光线、且较佳是包含有能够发出介于340纳米(nm)～410纳米的至少一个发光二极管芯片，并且至少一个所述发光二极管芯片的种类包含有雷射二极管芯片，但至少一个所述发光二极管芯片的种类可依设计需求而加以调整变化，本发明不以此为限。再者，所述光罩300可区分为多个部位，并且所述光罩300的每个所述部位的灰阶值为渐层式分布。
所述曝光步骤S130：如图2所示，将所述光源200与所述光罩300相对于所述透光层11移动，以使邻近所述透光层11的所述板面的所述负光阻层12a的一部位，其能够受到具备所述预定光形的所述光线照射而构成多个透镜转印区12。于本实施例中，所述负光阻层12a的厚度较佳是大于任一个所述透镜转印区12的厚度，并且对应于任一个所述透镜转印区12的所述光罩300的部位的灰阶值为渐层式分布，据以使得所述透镜转印区12的表面能呈现平滑状，进而利于其转印形成透镜。
此外，多个所述透镜转印区12的具体构造可以依据实际的透镜设计需求而加以调整变化。举例来说，如图3和图4所示，多个所述透镜转印区12彼此间隔地设置，其能用来成形有间隔设置的多个凸透镜或多个凹透镜；或者，如图5所示，多个所述透镜转印区12中的至少部分所述透镜转印区12彼此相连、以共同构成一菲涅尔透镜(Fresnel lens)转印区13，据以能够用来成形一菲涅尔透镜。
所述显影步骤S140：如图3至图5所示，去除未形成所述透镜转印区12的所述负光阻层12a的另一部位，以令所述透光层11及形成于所述透光层11上的多个所述透镜转印区12共同构成一透镜转印层1。于本实施例中，可以使用相对应于所述负光阻层12a的显影剂来溶解未形成所述透镜转印区12的所述负光阻层12a的另一部位(也就是，未被具备所述预定光形的所述光线所照射到的部分所述负光阻层12a)。
以上为本实施例透镜转印层的制造方法的说明，以下接着介绍所述透镜转印层1于本实施例中的构造，但本发明不以此为限。其中，如图3至图5所示，所述透镜转印层1呈平板状且较佳为矩形片体，并且所述透镜转印层1包含有一透光层11及由曝光负光阻层12a(如：图2)而形成于所述透光层11的多个透镜转印区12。再者，多个所述透镜转印区12可以依据设计需求而彼此间隔地设置；或者，多个所述透镜转印区12也可以依据设计需求而以其至少部分所述透镜转印区12彼此相连、以共同构成一菲涅尔透镜转印区13。
需额外说明的是，所述透镜转印层1于本实施例中包含有可弯折的形态与不可弯折的形态，并且当所述透镜转印层1为不可弯折的形态时(如：图6和图7)，所述透镜转印层1可用以通过多个所述透镜转印区12而于一透光膜F上转印形成多个透镜L。也就是说，所述透镜转印层1与所述透光膜F能直接以片对片(sheet to sheet)的方式转印成形有多个所述透镜L。
[实施例二]
请参阅图8至图10所示，本实施例公开一种透镜转印滚轮100及透镜的转印式制造方法，为便于理解所述透镜转印滚轮100的构造，以下将先介绍所述透镜的转印式制造方法，而后再说明所述透镜转印滚轮100的构造。
所述透镜的转印式制造方法于本实施例中包含有：一透镜转印层成形步骤、一透镜转印滚轮成形步骤S220、及一透镜成形步骤S230。其中，所述透镜转印层成形步骤及所述透镜转印滚轮成形步骤S220相当于所述透镜转印滚轮100的制造过程，但本实施例的透镜转印滚轮100并不受限于依此制造过程所制成。
需先说明的是，本实施例中的透镜转印层成形步骤相当于实施例一的透镜转印层的制造方法；也就是说，所述透镜转印层成形步骤包含有所述涂布步骤S110、所述光形步骤S120、所述曝光步骤S130、及所述显影步骤S140，所以有关于所述透镜转印层成形步骤请参考实施例一，下述不再对所述透镜转印层成形步骤加以赘述。
所述透镜转印滚轮成形步骤S220：如图8和图9所示，将所述透镜转印层1的所述透光层11围绕贴附于一滚筒2的外表面21，以使所述透镜转印层1与所述滚筒2共同构成所述透镜转印滚轮100。于本实施例中，所述透镜转印层1是以远离多个所述透镜转印区12的一表面(如：图8中的透光层11底面)来围绕贴附于所述滚筒2的所述外表面21。
所述透镜成形步骤S230：如图9和图10所示，以所述透镜转印滚轮100的多个所述透镜转印区12不间断地滚压于一透光膜F上，以使所述透光膜F形成有多个透镜L。其中，所述透光膜F的多个所述透镜L的数量大于所述透镜转印滚轮100的多个所述透镜转印区12的数量。也就是说，所述透镜转印滚轮100与所述透光膜F能直接以卷对卷(roll to roll)的方式快速地转印成形有多个所述透镜L。
以上为本实施例透镜的转印式制造方法的说明，以下接着介绍所述透镜转印滚轮100于本实施例中的构造，但本发明不以此为限。其中，如图8至图10所示，所述透镜转印滚轮100包含一滚筒2及贴附于所述滚筒2的一透镜转印层1。需说明的是，本实施例中的透镜转印层1相当于实施例一所载，所以有关于所述透镜转印层1的构造请参考实施例一，下述不再对所述透镜转印层1的构造加以赘述。
所述滚筒2的横剖面呈圆形，且所述滚筒2较佳为不透光状的实心构造(如：金属滚筒)，但本发明不以此为限。举例来说，在本发明未绘示的其他实施例中，所述滚筒2也可以依据实际的设计需求而为中空结构，并且所述滚筒2的材质也可以依据设计需求而调整变化。
所述透镜转印层1于本实施例中是限定为可弯折的形态，并且所述透镜转印层1是以所述透光层11围绕贴附于所述滚筒2的外表面21。于本实施例中，所述透镜转印层1是以远离多个所述透镜转印区12的表面来围绕贴附于所述滚筒2的所述外表面21。更详细地说，所述透镜转印层1可以是呈至少355度围绕地包覆所述滚筒2的所述外表面21，并且所述透镜转印层1的两条边缘彼此相向且留有裸露所述滚筒2的一间隙G。
据此，所述透镜转印滚轮100能用以通过多个所述透镜转印区12于一透光膜上滚动转印形成多个透镜L。也就是说，所述透镜转印滚轮100与所述透光膜F能直接以卷对卷(roll to roll)的方式转印成形有多个所述透镜L。换个角度来说，并非以滚动转印方式运作的构造则不同于本实施例所指的透镜转印滚轮100。
[本发明实施例的技术效果]
综上所述，本发明实施例所公开的透镜的转印式制造方法及透镜转印层的制造方法，其以具备所述预定光形的所述光线照射邻近所述透光层的所述板面的所述负光阻层的部位、而构成多个透镜转印区，据以使得透镜的生产与制造能够通过转印的方式来实现，进而有别于且更有效率于现有透镜制造方法。
再者，本发明实施例所公开的透镜转印滚轮及透镜转印层，其能通过形成于所述透光层的多个透镜转印区，使得透镜的生产与制造能以转印的方式实现，进而有别于且更有效率于现有透镜制造方法。
以上所公开的内容仅为本发明的优选可行实施例，并非因此局限本发明的专利范围，所以凡是运用本发明说明书及图式内容所做的等效技术变化，均包含于本发明的专利范围内。

Claims (10)

1.一种透镜的转印式制造方法，其特征在于，所述透镜的转印式制造方法包括：
制造一透镜转印滚轮，其制造过程包含：
于一透光层的板面涂布一负光阻层；
将一光源所发出的光线穿过一光罩而形成一预定光形，进而穿过所述透光层并照射在所述负光阻层；
将所述光源与所述光罩相对于所述透光层移动，以使邻近所述透光层的所述板面的所述负光阻层的一部位，其能够受到具备所述预定光形的所述光线照射而构成多个透镜转印区；
去除未形成所述透镜转印区的所述负光阻层的另一部位，以令所述透光层及形成于所述透光层上的多个所述透镜转印区共同构成一透镜转印层；及
将所述透镜转印层的所述透光层围绕贴附于一滚筒的外表面，以使所述透镜转印层与所述滚筒共同构成所述透镜转印滚轮；以及
以所述透镜转印滚轮的多个所述透镜转印区不间断地滚压于一透光膜上，以使所述透光膜形成有多个透镜。
2.根据权利要求1所述的透镜的转印式制造方法，其特征在于，在所述透镜转印滚轮的制造过程中，多个所述透镜转印区彼此间隔地设置。
3.根据权利要求1所述的透镜的转印式制造方法，其特征在于，在所述透镜转印滚轮的制造过程中，多个所述透镜转印区中的至少部分所述透镜转印区彼此相连、以共同构成一菲涅尔透镜转印区。
4.根据权利要求1所述的透镜的转印式制造方法，其特征在于，在所述透镜转印滚轮的制造过程中，所述透镜转印层是以远离多个所述透镜转印区的一表面来围绕贴附于所述滚筒的所述外表面。
5.根据权利要求1所述的透镜的转印式制造方法，其特征在于，所述透光膜的多个所述透镜的数量大于所述透镜转印滚轮的多个所述透镜转印区的数量。
6.根据权利要求1所述的透镜的转印式制造方法，其特征在于，对应于任一个所述透镜转印区的所述光罩部位的灰阶值为渐层式分布。
7.根据权利要求1所述的透镜的转印式制造方法，其特征在于，所述光源包含有能够发出介于340纳米～410纳米的至少一个发光二极管芯片。
8.一种透镜转印层的制造方法，其特征在于，所述透镜转印层的制造方法包括：
于一透光层的板面涂布一负光阻层；
将一光源所发出的光线穿过一光罩而形成一预定光形，进而穿过所述透光层并照射在所述负光阻层；
将所述光源与所述光罩相对于所述透光层移动，以使邻近所述透光层的所述板面的所述负光阻层的一部位，其能够受到具备所述预定光形的所述光线照射而构成多个透镜转印区；以及
去除未形成所述透镜转印区的所述负光阻层的另一部位，以令所述透光层及形成于所述透光层上的多个所述透镜转印区共同构成一透镜转印层。
9.根据权利要求8所述的透镜转印层的制造方法，其特征在于，多个所述透镜转印区彼此间隔地设置。
10.根据权利要求8所述的透镜转印层的制造方法，其特征在于，多个所述透镜转印区中的至少部分所述透镜转印区彼此相连、以共同构成一菲涅尔透镜转印区。
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