TWI710862B - 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 - Google Patents

移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 Download PDF

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Abstract

基板載台裝置(20)具備能移動於Y軸方向之X柱(24)、設於X柱(24)而能與該X柱(24)一起移動於Y軸方向且能相對X柱(24)移動於X軸方向之粗動載台(26)、保持基板(P)且被粗動載台(26)誘導移動於X軸及/或Y軸方向之微動載台(28)、以及分別配置於X柱(24)之+Y側及-Y側而從下方支承微動載台(28)之+Y側及-Y側區域且能與該微動載台(28)一起移動於Y軸方向之一對步進導件(30)。

Description

移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法
本發明係關於移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法，更詳言之，係關於將保持物體之物體保持構件沿水平面驅動之移動體裝置、包含前述移動體裝置而於前述物體形成既定圖案之曝光裝置、使用前述曝光裝置之平板顯示器之製造方法、以及使用前述曝光裝置之元件製造方法。
以往，在製造液晶顯示元件、半導體元件(積體電路等)等電子元件(微型元件)的微影製程中，係使用一邊使光罩或標線片(以下總稱為「光罩」)與玻璃板或晶圓(以下總稱為「基板」)沿既定掃描方向(SCAN方向)同步移動、一邊使用能量束將形成於光罩之圖案轉印至基板上之步進掃描方式之曝光裝置。
作為此種曝光裝置，由於係以高速且高精度控制基板之水平面內之位置(掃描方向、交叉掃描方向、以及繞正交於水平面之軸線之方向之位置)，因此已知一種具有所謂支架(gantry)類型之2軸粗動載台與微動載台組合而成之粗微動構成之基板載台裝置者(參照例如專利文獻1)。
隨著近年基板之大型化，基板載台裝置亦隨之大型化，因而被期望有 一種簡單構成且能以高精度且高速進行大型基板之水平面內之位置控制之基板載台裝置。
[專利文獻]
[專利文獻1]美國發明專利申請公開第2010/0018950號
本發明係有鑑於上述情事而為，從第1觀點觀之，為一種移動體裝置，其具備：第1移動體，可在沿與水平面平行之二維平面內之第1方向之位置移動；第2移動體，設於前述第1移動體，能與前述第1移動體一起在沿前述第1方向之位置移動，且能相對前述第1移動體沿在前述二維平面內與前述第1方向正交之第2方向之位置移動；物體保持構件，係保持物體，被前述第2移動體誘導而沿前述二維平面移動；第1導引構件，在前述第1方向配置於前述第1移動體一側，從下方支承在前述物體保持構件沿前述第2方向移動時該物體保持構件在前述第1方向之一側區域，且能與前述物體保持構件一起沿前述第1方向移動；以及第2導引構件，在前述第1方向配置於前述第1移動體另一側，從下方支承在前述物體保持構件沿前述第2方向移動時該物體保持構件在前述第1方向之另一側區域，且能與前述物體保持構件一起沿前述第1方向移動。
藉此，物體保持構件係藉由第1及第2移動體沿與水平面平行之二維平面被誘導。從下方支承物體保持構件在第1方向之一側及另一側區域之第1及第2導引構件，由於與物體保持構件一起沿第1方向移動，因此裝置之構成簡單。
本發明從第2觀點觀之，為一種曝光裝置，其具備：本發明第1觀點之移動體裝置；以及使用能量束於保持於前述物體保持構件之前述物體形成既定圖案之圖案形成裝置。
本發明從第3觀點觀之，為一種平板顯示器之製造方法，其包含：使 用本發明第2觀點之曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
本發明從第4觀點觀之，為一種元件製造方法，其包含：使用本發明第2觀點之曝光裝置之曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
10:液晶曝光裝置
11:地
12:照明系
14:光罩載台
16:投影光學系
18:基板載台架台
19:防振裝置
20:基板載台裝置
21:微動載台
21a:磁石單元
21b:線圈單元
22:底框
23:Y線性導引裝置
23a:Y線性導件
23b:Y滑動構件
24:X柱
25:Y托架
26:粗動載台
27:Y線性導引裝置
27a:Y線性導件
27b:Y滑動構件
28:微動載台
29:Y線性導引裝置
29a:X線性導件
29b:X滑動構件
30:步進導件
31:X線性馬達
31a:磁石單元
31b:線圈單元
32:安裝板
34:連結裝置
36:基板保持具
38:反射鏡底座
40x:X棒反射鏡
40y:Y棒反射鏡
42:加固塊
44:空氣軸承
46a:X固定子
46b:X可動子
46x:X音圈馬達
46y:Y音圈馬達
IL:照明光
M:光罩
P:基板
圖1係概略顯略一實施形態之液晶曝光裝置之構成的圖。
圖2係圖1之液晶曝光裝置所具有之基板載台裝置之俯視圖。
圖3係圖2之-B線剖面圖。
以下，使用圖1~圖3說明一實施形態。
圖1係概略顯示一實施形態之液晶曝光裝置10之構成。液晶曝光裝置10係以用於液晶顯示裝置(平板顯示器)等之矩形(角型)玻璃基板P(以下單稱為基板P)為曝光對象物之步進掃描方式之投影曝光裝置、亦即所謂掃描機。
液晶曝光裝置10包含照明系12、保持光罩M之光罩載台14、投影光學系16、「基板載台架台18」(第2底座之例示態樣)、保持於表面(在圖1中為朝向+Z側之面)塗布有抗蝕劑(感應劑)之基板P之基板載台裝置20、以及此等之控制系等。以下之說明中，將在曝光時光罩M與基板P相對投影光學系16分別相對掃描之方向設為X軸方向、將在水平面內與X軸正交之方向設為Y軸方向、將與X軸及Y軸正交之方向設為Z軸方向，且將繞X軸、Y軸、及Z軸之旋轉方向分別設為θx、θy、及θz方向。
照明系12，與例如美國發明專利第5,729,331號說明書等所揭示之照明系為相同構成。亦即，照明系12係將曝光用之照明光IL照射於光罩M。照明光IL係使用例如i線(波長365nm)、g線(波長436nm)、h線(波長405nm) 等之光(或者上述i線、g線、h線之合成光)。
光罩載台14例如籍由真空吸附保持有形成有既定電路圖案之光罩M。光罩載台14，籍由包含例如線性馬達之光罩載台驅動系(未圖示)以既定行程被驅動於掃描方向(X軸方向)，且分別適當被微幅驅動於Y軸方向及θz方向。光罩載台14在XY平面內之位置資訊(包含θz方向之旋轉資訊)，係藉由包含未圖示之雷射干涉儀之光罩干涉儀系統予以求出。
投影光學系16係配置於光罩載台14之下方。投影光學系16與例如美國發明專利第6,552,775號說明書所揭示之投影光學系為相同之構成。亦即，投影光學系16係例如包含複數個以兩側遠心之等倍系形成正立正像之光學系之所謂多透鏡投影光學系，係發揮與具有以Y軸方向為長邊方向之長方形之單一像場之投影光學系同等之功能。
因此，在以來自照明系12之照明光IL照明光罩M上之照明區域後，籍由通過光罩M之照明光IL，使該照明區域內之光罩M的電路圖案之投影像經由投影光學系16形成於與基板P上的照明區域共軛之照明光IL之照射區域。接著，藉由使光罩M相對照明區域(照明光IL)移動於掃描方向，且使基板P相對曝光區域(照明光IL)移動於掃描方向，藉此於基板P上之一個照射區域轉印形成於光罩M之圖案。
基板載台架台18由延伸於Y軸方向之構件構成，如圖2所示，於X軸方向以既定間隔設有例如兩個。於例如兩個之基板載台架台18各自之上面，延伸於Y軸方向之Y線性導件27a係於X軸方向以既定間隔固定有複數個，在本實施形態中為如三支。基板載台架台18其長度方向之端部附近，如圖1所示藉由設置於潔淨室之地11上之防振裝置19從下方支承。基板載台架台18構成液晶曝光裝置10之裝置本體(機體)之一部分。上述光罩載台14及投影光學系16支承於裝置本體，與地11在振動上分離。此外，圖1所示之基板載台裝置20，相當於圖2之A-A線剖面圖。
基板載台裝置20如圖2所示，具有一對「底框22」(第1底座之例示態樣)、架設於一對底框22上之「X柱24」(第2驅動系統之例示態樣)、搭載於X柱24上之「粗動載台26」(第1驅動系統之例示態樣)、藉由粗動載台26以既定行程被誘導於X軸方向及/或Y軸方向之微動載台28、以及導引微動載台21沿XY平面之移動之一對「步進導件30」(支承裝置之例示態樣)。
一對底框22，一方設置於+X側基板載台架台18之+X側，另一方設置於-X側基板載台架台18之-X側，分別與基板載台架台18相隔既定距離(在振動上分離之狀態下)設置於潔淨室之地11上。一對底框22從下方支承後述之X柱24之長度方向兩端部附近，發揮X柱24於Y軸方向以既定長行程移動時之導引構件功能。如圖3所示，於底框22之兩側面分別固定有包含於Y軸方向以既定間隔排列之複數個永久磁石之磁石單元21a(Y固定子)。又，於底框22之上端面(+Z側端部)固定有Y線性導引裝置23之要素即Y線性導件23a。
X柱24由延伸於X軸方向之YZ剖面矩形(參照圖1)之構件構成。於X柱24之長度方向兩端部附近之下面，與上述一對底框22對應地固定有被稱為Y托架25之XZ剖面倒U字形之構件。上述底框22***Y托架25之一對對向面間。於Y托架25之頂面，固定有與上述Y線性導件23a一起構成Y線性導引裝置23之Y滑動構件23b。Y滑動構件23b以低摩擦滑動自如地卡合於對應之Y線性導件23a，X柱24能以低摩擦於Y軸方向以既定行程在一對底框22上移動。
又，於Y托架25之一對對向面分別固定有與上述磁石單元21a一起構成Y線性馬達21之線圈單元21b(X可動子)。X柱24藉由上述Y線性馬達21在一對底框22上被驅動於Y軸方向。此外，驅動X柱24之Y致動器之種類不限定於此，例如能使用進給螺桿裝置、皮帶驅動裝置、繩(wire)驅 動裝置等。
X柱24下面之Z位置如圖1所示，設定為較Y線性導件27a上端部更靠+Z側，X柱24與基板載台架台18(亦即裝置本體)在振動上分離。此外，亦可將從下方支承X柱24之長度方向中央部之輔助性底框配置於一對基板載台架台18間。
又，於X柱24上面，如圖2所示X線性導引裝置29之要素即X線性導件29a於X軸方向以既定間隔固定有例如兩支。又，於X柱24之兩側面固定有包含於X軸方向以既定間隔排列之複數個永久磁石之磁石單元31a(X固定子)。
粗動載台26由長方體形構件構成，於其下面固定有複數個與上述X線性導件29a一起構成X線性導引裝置29之X滑動構件29b。X滑動構件29b如圖3所示，於一個X線性導件29a在X軸方向以既定間隔設有例如兩個。X滑動構件29b以低摩擦滑動自如地卡合於對應之X線性導件29a，粗動載台26能以低摩擦於X軸方向以既定行程在X柱24上移動。
又，於粗動載台26之兩側面，透過安裝板32固定有與磁石單元31a一起構成用以將粗動載台26以既定行程驅動於X軸方向之X線性馬達31之線圈單元31b(X可動子)。
粗動載台26藉由Y線性導引裝置29被限制相對X柱24之往Y軸方向之相對移動，與X柱24一體往Y軸方向移動。亦即，「粗動載台26與X柱24」(驅動系統之例示態樣)一起構成支架(gantry)式之雙軸載台裝置。X柱24之Y位置資訊、以及粗動載台26之X位置資訊分別藉由例如未圖示之線性編碼器系統(或光干涉儀系統)求出。
一對步進導件30均如圖2所示搭載於一對基板載台架台18上。一對步進導件30分別由延伸於X軸方向之YZ剖面為矩形(參照圖1)之構件構成，在Y軸方向以既定間隔彼此配置成平行。上述X柱24透過既定間隙 ***一對步進導件30間。步進導件30之長度方向(X軸方向)尺寸設定為較X柱24短些許，寬度方向(Y軸方向)尺寸設定為較X柱24寬些許。步進導件30之上面平面度作成非常高。
於步進導件30之下面，如圖1所示固定有複數個與上述Y線性導件27a一起構成Y線性導引裝置27之Y滑動構件27b。Y滑動構件27b，於一個Y線性導件27a在Y軸方向以既定間隔設有例如兩個。Y滑動構件27b以低摩擦滑動自如地卡合於對應之Y線性導件27a，步進導件30能以低摩擦於Y軸方向以既定行程在一對基板載台架台18上移動。
一對步進導件30均如圖2所示在長度方向之兩端部附近中透過連結裝置34機械式連結於X柱24。連結裝置34包含延伸於Y軸方向之棒狀構件與安裝於該棒狀構件兩端部之滑節裝置(例如球接合件)，透過上述滑節裝置架設於X柱24與步進導件30之間。棒狀構件之Y軸方向之剛性設定為較高。
在基板載台裝置20，當X柱24藉由複數個Y線性馬達21(圖2中未圖示。參照圖3)被往在Y軸方向之一方(例如+Y)方向驅動後，在Y軸方向之另一方側(例如-Y側)之步進導件30透過連結裝置34被X柱24牽引，且在Y軸方向之一方側(例如+Y側)之步進導件30透過連結裝置34按壓於X柱24。藉此，一對步進導件30與X柱24一體移動於Y軸方向。
返回圖1，微動載台28由俯視矩形之箱形構件構成，於其上面固定有基板保持具36。於微動載台28之-Y側側面，透過反射鏡底座38固定有具有正交於Y軸之反射面之Y棒反射鏡40y，於微動載台28之-X側側面，如圖3所示透過反射鏡底座38固定有具有正交於X軸之反射面之X棒反射鏡40x。此外，圖2中為了避免圖示過於複雜，基板保持具36、反射鏡底座38、Y棒反射鏡40y、以及X棒反射鏡40x(參照圖1及圖3)之圖示分別省略。
於微動載台28下面之四角部附近，如圖2所示分別安裝有加固塊42。又，於加固塊42下面，如圖1所示安裝有空氣軸承44。返回圖2，+Y側之例如兩個空氣軸承44之氣體噴出面(軸承面)對向於+Y側之步進導件30上面，-Y側之例如兩個空氣軸承44之氣體噴出面對向於-Y側之步進導件30上面。例如四個之空氣軸承44均對對應之步進導件30上面噴出加壓氣體(例如空氣)。微動載台28藉由被供應至空氣軸承44與步進導件30之間之氣體靜壓，隔著微小間隙懸浮於一對步進導件30上。此外，空氣軸承44之配置及數目，只要能使微動載台28以穩定狀態在一對步進導件30上懸浮，則無特別限定。
微動載台28藉由包含複數個音圈馬達之微動載台驅動系被粗動載台26誘導而被往X軸方向及/或Y軸方向驅動。於複數個音圈馬達，如圖2所示包含產生X軸方向之堆力之例如兩個之X音圈馬達46x與例如兩個之Y音圈馬達46y。例如兩個之X音圈馬達46x，一方配置於微動載台28之+Y側，另一方配置於微動載台28之-Y側，例如兩個之Y音圈馬達46y，一方配置於微動載台28之+X側，另一方配置於微動載台28之-X側。
上述複數個音圈馬達之構成，除了配置不同以外，其他部分均相同，因此以下說明配置於微動載台28之+Y側之X音圈馬達46x。如圖1所示，X音圈馬達46x包含固定於粗動載台26之+Y側側面之X固定子46a與固定於微動載台28下面之X可動子46b。X固定子46a具有未圖示之線圈單元。X可動子46b形成為YZ剖面U字形，於其一對對向面固定有永久磁石。X固定子46a所具有之線圈單元透過既定間隙***上述一對永久磁石間。此外，本實施形態之X音圈馬達46x雖係動磁型，但亦可係移動線圈型。
在基板載台裝置20，例如粗動載台26沿X柱24以長行程移動於X軸方向時，係控制例如兩個之X音圈馬達46x產生之X軸方向之推力(羅倫茲 力)以使微動載台28以與粗動載台26相同方向且相同速度移動。又，在X柱24以長行程移動於Y軸方向時，係控制例如兩個之Y音圈馬達46y產生之Y軸方向之推力以使微動載台28以與X柱24(亦即粗動載台26)相同方向且相同速度移動。藉此，粗動載台26與微動載台28一體沿XY平面以長行程移動。
又，微動載台28，藉由使例如兩個之X音圈馬達46x(或例如兩個之Y音圈馬達46y)之推力方向成為彼此相反之方向，而相對粗動載台26往θz方向被微幅驅動。微動載台28在被粗動載台26誘導而於X軸方向以長行程被驅動時，係適當被微幅驅動於Y軸方向及/或θz方向。
以上述方式構成之液晶曝光裝置10(參照圖1)，係在未圖示之主控制裝置之管理下，藉由未圖示之光罩裝載器將光罩M裝載於光罩載台14，且藉由未圖示之基板裝載器將基板P裝載於基板保持具36上。其後，藉由主控制裝置使用未圖示之對準檢測系執行對準測量，在對準測量結束後，即對設定於基板P上之複數個照射區域逐次進行步進掃描方式之曝光動作。此外，由於此曝光動作與以往進行之步進掃描方式之曝光動作相同，因此省略其詳細說明。
例如，在上述步進掃描方式之曝光動作時之掃描曝光動作時等，在基板載台裝置20，透過基板保持具36保持基板P之微動載台28係於X軸方向以長行程被驅動。步進導件30長度方向(X軸方向)尺寸設定為較微動載台28在X軸方向之可移動距離長些許，微動載台28在與粗動載台26一體移動於X軸方向時，係在一對步進導件30上移動。又，在微動載台28於Y軸方向進行步進動作時，係與粗動載台26、X柱24、以及一對步進導件30一體移動於Y軸方向。因此，微動載台28不會從一對步進導件30上脫落。
根據以上說明之本實施形態之基板載台裝置20，由於微動載台28以非 接觸狀態搭載於一對步進導件30上，因此能以較小推力將微動載台28驅動(誘導)於X軸及/或Y軸方向。又，由於微動載台28之位置控制提昇，因此能進行高精度之曝光。又，由於對微動載台28之來自外部之振動及反作用力之傳達被抑制，因此能以高精度控制微動載台28之位置。
又，由於一對步進導件30涵蓋在X軸方向之微動載台28之可移動範圍，且在Y軸方向與微動載台28一體移動，因此在基板載台裝置20不需要具有足以涵蓋微動載台28在XY平面內之全移動範圍之寬廣面積之導引構件(例如定盤)。因此，成本低廉且搬送、組裝容易。
又，由於用以驅動X柱24之Y線性馬達21之要素即磁石單元21a(Y固定子)與基板載台架台18在振動上分離，因此可抑制驅動X柱24時之驅動反作用力、振動等傳達至被裝置本體支承之投影光學系16等。
此外，以上說明之本實施形態之構成可適當變更。例如，亦可於微動載台28與基板保持具36之間、或加固塊42與微動載台28之間配置Z傾斜致動器以能控制基板P之Z軸方向、θx方向、θy方向之位置。又，X柱24亦可於一對步進導件30間配置有複數個。
又，上述實施形態中，雖步進導件30係被X柱24牽引而移動於Y軸方向，但不限於此，例如亦可使用線性馬達等致動器將一對步進導件30與X柱24獨立地驅動。此情形下，作為用以驅動一對步進導件30之線性馬達之固定子，亦可使用固定於底框22之Y固定子21a(參照圖3)。
又，上述實施形態中，雖係藉由X柱24被複數個Y線性馬達21驅動於Y軸方向而一對步進導件30與X柱24一體移動於Y軸方向之構成，但不限於此，一對步進導件30被致動器(例如線性馬達)驅動於Y軸方向，伴隨於此X柱24移動於Y軸方向之構成(即使不設置驅動X柱24之致動器)亦可。
又，上述實施形態中，雖微動載台28透過複數個空氣軸承44而從下 方非接觸支承於一對步進導件30上，但亦可透過滾動體(例如球體)以接觸狀態將微動載台28搭載於步進導件30上。
又，亦可將一對步進導件30物理性(機械式地)連結(不過不抵觸於X柱24)。此情形下，在一方之步進導件30被X柱24牽引後，由於另一方之步進導件30亦一體移動，因此例如只要X柱24僅牽引(或按壓)一方之步進導件30即可。
又，照明光可以是ArF準分子雷射光(波長193nm)、KrF準分子雷射光(波長248nm)等之紫外光、或F2雷射光(波長157nm)等真空紫外光。又，作為照明光，亦可使用例如將從DFB半導體雷射或光纖雷射發出之紅外線帶或可見光帶之單一波長雷射光以例如摻雜有鉺(或鉺及鐿兩者)之光纖放大器加以增幅，使用非線性光學結晶加以波長轉換為紫外光之諧波。又，亦可使用固體雷射(波長：355nm、266nm)等。
又，上述實施形態，雖係針對具備複數支投影光學單元之多透鏡方式之投影光學系16的情形作了說明，但投影光學單元之支數不限於此，只要是一支以上即可。此外，不限於多透鏡方式之投影光學系，亦可以是例如使用歐夫那(Ofner)型大型反射鏡的投影光學系等。又，上述實施形態中，作為投影光學系16雖說明了使用投影倍率為等倍者之情形，但不限於此，投影光學系亦可以是縮小系及放大系之任一種。
又，雖係使用在光透射性之光罩基板上形成有既定遮光圖案(或相位圖案、減光圖案)之光透射型光罩，但亦可取代此光罩，使用例如美國專利第6,778,257號說明書所揭示之根據待曝光圖案之電子資料，來形成透射圖案或反射圖案、或發光圖案之電子光罩(可變成形光罩)，例如使用非發光型影像顯示元件(亦稱空間光調變器)之一種之DMD(Digital Micro-mirror Device))的可變成形光罩。
又，作為曝光裝置，以尺寸(包含外徑、對角線長度、一邊中之至少一 個)為500mm以上之基板、例如液晶顯示元件等平板顯示器(FPD)用大型基板曝光為曝光對象物之曝光裝置尤其有效。
又，作為曝光裝置，亦能適用於步進重複(step & repeat)方式之曝光裝置、步進接合(step & stitch)方式之曝光裝置。又，保持於移動體裝置之物體不限於曝光對象物體之基板等，亦可以是光罩等圖案保持體(原版)。
又，曝光裝置之用途並不限於將液晶顯示元件圖案轉印至方型玻璃板之液晶用曝光裝置，亦可廣泛適用於例如半導體製造用之曝光裝置、用以製造薄膜磁頭、微機器及DNA晶片等之曝光裝置。此外，不僅是半導體元件等之微元件，本發明亦能適用於為製造用於光曝光裝置、EUV曝光裝置、X線曝光裝置及電子線曝光裝置等之光罩或標線片，而將電路圖案轉印至玻基板或矽晶圓等之曝光裝置。再者，曝光對象之物體不限於玻璃板，亦可以是例如晶圓、陶瓷基板、薄膜構件或光罩基板(mask blank)等其他物體。又，曝光對象物是平板顯示器用基板之情形時，該基板之厚度並無特別限定，例如亦包含薄膜狀(具可撓性之片狀構件)者。
液晶顯示元件(或半導體元件)等電子元件，係經由下述步驟等所製造，即：進行元件之功能、性能設計的步驟、根據此設計步驟製作光罩(或標線片)之步驟、製造玻璃基板(或晶圓)之步驟、依據上述各實施形態之曝光裝置及其曝光方法將光罩(標線片)之圖案轉印至玻璃基板之微影步驟、使曝光後之玻璃基板顯影之顯影步驟、藉由蝕刻除去抗蝕劑殘存之部分以外之部分之露出構件之蝕刻步驟、除去因蝕刻結束而不需要之抗蝕劑之抗蝕劑除去步驟、元件組裝步驟、檢查步驟等。此情形下，在微影步驟中，由於使用上述實施形態之曝光裝置執行前述曝光方法，於玻璃基板上形成元件圖案，因此能以良好生產性製造高積體度之元件。
產業上之可利用性
如以上之說明，本發明之移動體裝置適於將保持物體之物體保持構件 沿與水平面平行之二維平面驅動。又，本發明之曝光裝置使物體曝光。又，本發明之平板顯示器之製造方法適於平板顯示器之製造。又，本發明之元件製造方法適於微元件之製造。
10‧‧‧液晶曝光裝置
11‧‧‧地
12‧‧‧照明系
14‧‧‧光罩載台
16‧‧‧投影光學系
18‧‧‧基板載台架台
19‧‧‧防振裝置
20‧‧‧基板載台裝置
24‧‧‧X柱
26‧‧‧粗動載台
27‧‧‧Y線性導引裝置
27a‧‧‧Y線性導件
27b‧‧‧Y滑動構件
28‧‧‧微動載台
29‧‧‧Y線性導引裝置
29a‧‧‧X線性導件
29b‧‧‧X滑動構件
30‧‧‧步進導件
31‧‧‧X線性馬達
31a‧‧‧磁石單元
31b‧‧‧線圈單元
32‧‧‧安裝板
34‧‧‧連結裝置
36‧‧‧基板保持具
38‧‧‧反射鏡底座
42‧‧‧加固塊
44‧‧‧空氣軸承
46a‧‧‧X固定子
46b‧‧‧X可動子
46x‧‧‧X音圈馬達
IL‧‧‧照明光
M‧‧‧光罩
P‧‧‧基板

Claims (12)

  1. 一種移動體裝置，其具備：第1移動體，可在沿與水平面平行之二維平面內之第1方向之位置移動；第2移動體，設於前述第1移動體，能與前述第1移動體一起在沿前述第1方向之位置移動，且能相對前述第1移動體沿在前述二維平面內與前述第1方向正交之第2方向之位置移動；物體保持構件，係保持物體，被前述第2移動體誘導而沿前述二維平面移動；第1導引構件，在前述第1方向配置於前述第1移動體一側，從下方支承在前述物體保持構件沿前述第2方向移動時該物體保持構件在前述第1方向之一側區域，且能與前述物體保持構件一起沿前述第1方向移動；以及第2導引構件，在前述第1方向配置於前述第1移動體另一側，從下方支承在前述物體保持構件沿前述第2方向移動時該物體保持構件在前述第1方向之另一側區域，且能與前述物體保持構件一起沿前述第1方向移動。
  2. 如申請專利範圍第1項之移動體裝置，其中，前述物體保持構件以非接觸方式支承於前述第1及第2導引構件。
  3. 如申請專利範圍第2項之移動體裝置，其中，前述物體保持構件藉由供應至該物體保持構件與前述第1導引構件之間、以及該物體保持構件與第2導引構件之間之氣體之靜壓以非接觸方式懸浮於前述第1及第2導引構件上。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之移動體裝置，其進一步具備將前述物體保持構件相對前述第2移動體往前述第1及第2方向、以及繞與 前述水平面正交之軸微幅驅動之致動器。
  5. 如申請專利範圍第4項之移動體 裝置，其中，前述物體保持構件藉由前述致動器產生之推力沿前述水平面被前述第2移動體誘導。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之移動體裝置，其進一步具備將前述第1移動體與前述第1及第2導引構件物理性連結之連結構件。
  7. 一種曝光裝置，其具備：申請專利範圍第1至6項中任一項之移動體裝置；以及使用能量束於保持於前述物體保持構件之前述物體形成既定圖案之圖案形成裝置。
  8. 如申請專利範圍第7項之曝光裝置，其中，在對前述物體形成前述圖案時，前述移動體裝置使前述物體相對前述能量束沿前述第2方向移動。
  9. 如申請專利範圍第7或8項之曝光裝置，其中，前述物體係用於平板顯示器裝置之基板。
  10. 如申請專利範圍第9項之曝光裝置，其中，前述基板至少一邊之長度或對角長為500mm以上。
  11. 一種平板顯示器之製造方法，其包含：使用申請專利範圍第9或10項之曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
  12. 一種元件製造方法，其包含：使用申請專利範圍第7或8項之曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
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