CN103765554A - 移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法 - Google Patents

Abstract

基板载台装置(20)具备能移动于Y轴方向的X柱(24)、设于X柱(24)而能与该X柱(24)一起移动于Y轴方向且能相对X柱(24)移动于X轴方向的粗动载台(26)、保持基板(P)且被粗动载台(26)诱导移动于X轴及/或Y轴方向的微动载台(28)、以及分别配置于X柱(24)的+Y侧及-Y侧而从下方支承微动载台(28)的+Y侧及-Y侧区域且能与该微动载台(28)一起移动于Y轴方向的一对步进导件(30)。

Description

移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法

技术领域

本发明是关于移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法，更详言的，是关于将保持物体的物体保持构件沿水平面驱动的移动体装置、包含前述移动体装置而于前述物体形成既定图案的曝光装置、使用前述曝光装置的平板显示器的制造方法、以及使用前述曝光装置的元件制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微型元件)的光刻工艺中，是使用一边使掩膜或标线片(以下总称为“掩膜”)与玻璃板或晶片(以下总称为“基板”)沿既定扫描方向(SCAN方向)同步移动、一边使用能量束将形成于掩膜的图案转印至基板上的步进扫描方式的曝光装置。

作为此种曝光装置，由于是以高速且高精度控制基板的水平面内的位置(扫描方向、交叉扫描方向、以及绕正交于水平面的轴线的方向的位置)，因此已知一种具有所谓支架(gantry)类型的2轴粗动载台与微动载台组合而成的粗微动构成的基板载台装置者(参照例如专利文献1)。

随着近年基板的大型化，基板载台装置亦随之大型化，因而被期望有一种简单构成且能以高精度且高速进行大型基板的水平面内的位置控制的基板载台装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国发明专利申请公开第2010/0018950号。

发明内容

用以解决课题的手段

本发明有鉴于上述情事而为，从第1观点观之，为一种移动体装置，其具备：第1移动体，可在沿与水平面平行的二维平面内的第1方向的位置移动；第2移动体，设于前述第1移动体，能与前述第1移动体一起在沿前述第1方向的位置移动，且能相对前述第1移动体沿在前述二维平面内与前述第1方向正交的第2方向的位置移动；物体保持构件，保持物体，被前述第2移动体诱导而沿前述二维平面移动；第1导引构件，在前述第1方向配置于前述第1移动体一侧，从下方支承在前述物体保持构件沿前述第2方向移动时该物体保持构件在前述第1方向的一侧区域，且能与前述物体保持构件一起沿前述第1方向移动；以及第2导引构件，在前述第1方向配置于前述第1移动体另一侧，从下方支承在前述物体保持构件沿前述第2方向移动时该物体保持构件在前述第1方向的另一侧区域，且能与前述物体保持构件一起沿前述第1方向移动。

藉此，物体保持构件是通过第1及第2移动体沿与水平面平行的二维平面被诱导。从下方支承物体保持构件在第1方向的一侧及另一侧区域的第1及第2导引构件，由于与物体保持构件一起沿第1方向移动，因此装置的构成简单。

本发明从第2观点观之，为一种曝光装置，其具备：本发明第1观点的移动体装置；以及使用能量束于保持于前述物体保持构件的前述物体形成既定图案的图案形成装置。

本发明从第3观点观之，为一种平板显示器的制造方法，其包含：使用本发明第2观点的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及使曝光后的前述物体显影的动作。

本发明从第4观点观之，为一种元件制造方法，其包含：使用本发明第2观点的曝光装置的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及使曝光后的前述物体显影的动作。

附图说明

图1为概略显略一实施形态的液晶曝光装置的构成的图。

图2为图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的俯视图。

图3为图2的B-B线剖面图。

具体实施方式

以下，使用图1～图3说明一实施形态。

图1为概略显示一实施形态的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10是用于液晶显示装置(平板显示器)等的矩形(角型)玻璃基板P(以下单称为基板P)为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、亦即所谓扫描机。

液晶曝光装置10包含照明系12、保持掩膜M的掩膜载台14、投影光学系16、基板载台架台18、保持于表面(在图1中为朝向+Z侧的面)涂布有抗蚀剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20、以及此等的控制系等。以下的说明中，将在曝光时掩膜M与基板P相对投影光学系16分别相对扫描的方向设为X轴方向、将在水平面内与X轴正交的方向设为Y轴方向、将与X轴及Y轴正交的方向设为Z轴方向，且将绕X轴、Y轴、及Z轴的旋转方向分别设为θx、θy、及θz方向。

照明系12，与例如美国发明专利第5,729,331号说明书等所揭示的照明系为相同构成。亦即，照明系12是将曝光用的照明光IL照射于掩膜M。照明光IL使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或者上述i线、g线、h线的合成光)。

掩膜载台14例如通过真空吸附保持有形成有既定电路图案的掩膜M。掩膜载台14，通过包含例如线性马达的掩膜载台驱动系(未图示)以既定行程被驱动于扫描方向(X轴方向)，且分别适当被微幅驱动于Y轴方向及θz方向。掩膜载台14在XY平面内的位置信息(包含θz方向的旋转信息)，是通过包含未图示的激光干涉仪的掩膜干涉仪***予以求出。

投影光学系16配置于掩膜载台14的下方。投影光学系16与例如美国发明专利第6,552,775号说明书所揭示的投影光学系为相同的构成。亦即，投影光学系16是例如包含多个以两侧远心的等倍系形成正立正像的光学系的所谓多透镜投影光学系，发挥与具有以Y轴方向为长边方向的长方形的单一像场的投影光学系同等的功能。

因此，在以来自照明系12的照明光IL照明掩膜M上的照明区域后，通过通过掩膜M的照明光IL，使该照明区域内的掩膜M的电路图案的投影像经由投影光学系16形成于与基板P上的照明区域共轭的照明光IL的照射区域。接着，通过使掩膜M相对照明区域(照明光IL)移动于扫描方向，且使基板P相对曝光区域(照明光IL)移动于扫描方向，藉此于基板P上的一个照射区域转印形成于掩膜M的图案。

基板载台架台18由延伸于Y轴方向的构件构成，如图2所示，于X轴方向以既定间隔设有例如两个。于例如两个基板载台架台18各自的上面，延伸于Y轴方向的Y线性导件27a于X轴方向以既定间隔固定有多个，在本实施形态中为如三支。基板载台架台18其长度方向的端部附近，如图1所示通过设置于洁净室的地11上的防振装置19从下方支承。基板载台架台18构成液晶曝光装置10的装置本体(机体)的一部分。上述掩膜载台14及投影光学系16支承于装置本体，与地11在振动上分离。此外，图1所示的基板载台装置20，相当于图2的A-A线剖面图。

基板载台装置20如图2所示，具有一对底框22、架设于一对底框22上的X柱24、搭载于X柱24上的粗动载台26、通过粗动载台26以既定行程被诱导于X轴方向及/或Y轴方向的微动载台28、以及导引微动载台21沿XY平面的移动的一对步进导件30。

一对底框22，一方设置于+X侧基板载台架台18的+X侧，另一方设置于-X侧基板载台架台18的-X侧，分别与基板载台架台18相隔既定距离(在振动上分离的状态下)设置于洁净室的地11上。一对底框22从下方支承后述的X柱24的长度方向两端部附近，发挥X柱24于Y轴方向以既定长行程移动时的导引构件功能。如图3所示，于底框22的两侧面分别固定有包含于Y轴方向以既定间隔排列的多个永久磁石的磁石单元21a(Y固定子)。又，于底框22的上端面(+Z侧端部)固定有Y线性导引装置23的要素即Y线性导件23a。

X柱24由延伸于X轴方向的YZ剖面矩形(参照图1)的构件构成。于X柱24的长度方向两端部附近的下面，与上述一对底框22对应地固定有被称为Y托架25的XZ剖面倒U字形的构件。上述底框22***Y托架25的一对对向面间。于Y托架25的顶面，固定有与上述Y线性导件23a一起构成Y线性导引装置23的Y滑动构件23b。Y滑动构件23b以低摩擦滑动自如地卡合于对应的Y线性导件23a，X柱24能以低摩擦于Y轴方向以既定行程在一对底框22上移动。

又，于Y托架25的一对对向面分别固定有与上述磁石单元21a一起构成Y线性马达21的线圈单元21b(X可动子)。X柱24通过上述Y线性马达21在一对底框22上被驱动于Y轴方向。此外，驱动X柱24的Y致动器的种类不限定于此，例如能使用进给螺杆装置、皮带驱动装置、绳(wire)驱动装置等。

X柱24下面的Z位置如图1所示，设定为较Y线性导件27a上端部更靠+Z侧，X柱24与基板载台架台18(亦即装置本体)在振动上分离。此外，亦可将从下方支承X柱24的长度方向中央部的辅助性底框配置于一对基板载台架台18间。

又，于X柱24上面，如图2所示X线性导引装置29的要素即X线性导件29a于X轴方向以既定间隔固定有例如两支。又，于X柱24的两侧面固定有包含于X轴方向以既定间隔排列的多个永久磁石的磁石单元31a(X固定子)。

粗动载台26由长方体形构件构成，于其下面固定有多个与上述X线性导件29a一起构成X线性导引装置29的X滑动构件29b。X滑动构件29b如图3所示，于一个X线性导件29a在X轴方向以既定间隔设有例如两个。X滑动构件29b以低摩擦滑动自如地卡合于对应的X线性导件29a，粗动载台26能以低摩擦于X轴方向以既定行程在X柱24上移动。

又，于粗动载台26的两侧面，通过安装板32固定有与磁石单元31a一起构成用以将粗动载台26以既定行程驱动于X轴方向的X线性马达31的线圈单元31b(X可动子)。

粗动载台26通过Y线性导引装置29被限制相对X柱24的往Y轴方向的相对移动，与X柱24一体往Y轴方向移动。亦即，粗动载台26与X柱24一起构成支架(gantry)式的双轴载台装置。X柱24的Y位置信息、以及粗动载台26的X位置信息分别通过例如未图示的线性编码器***(或光干涉仪***)求出。

一对步进导件30均如图2所示搭载于一对基板载台架台18上。一对步进导件30分别由延伸于X轴方向的YZ剖面为矩形(参照图1)的构件构成，在Y轴方向以既定间隔彼此配置成平行。上述X柱24通过既定间隙***一对步进导件30间。步进导件30的长度方向(X轴方向)尺寸设定为较X柱24短些许，宽度方向(Y轴方向)尺寸设定为较X柱24宽些许。步进导件30的上面平面度作成非常高。

于步进导件30的下面，如图1所示固定有多个与上述Y线性导件27a一起构成Y线性导引装置27的Y滑动构件27b。Y滑动构件27b，于一个Y线性导件27a在Y轴方向以既定间隔设有例如两个。Y滑动构件27b以低摩擦滑动自如地卡合于对应的Y线性导件27a，步进导件30能以低摩擦于Y轴方向以既定行程在一对基板载台架台18上移动。

一对步进导件30均如图2所示在长度方向的两端部附近中通过连结装置34机械式连结于X柱24。连结装置34包含延伸于Y轴方向的棒状构件与安装于该棒状构件两端部的滑节装置(例如球接合件)，通过上述滑节装置架设于X柱24与步进导件30之间。棒状构件的Y轴方向的刚性设定为较高。

在基板载台装置20，当X柱24通过多个Y线性马达21(图2中未图示。参照图3)被往在Y轴方向的一方(例如+Y)方向驱动后，在Y轴方向的另一方侧(例如-Y侧)的步进导件30通过连结装置34被X柱24牵引，且在Y轴方向的一方侧(例如+Y侧)的步进导件30通过连结装置34按压于X柱24。藉此，一对步进导件30与X柱24一体移动于Y轴方向。

返回图1，微动载台28由俯视矩形的箱形构件构成，于其上面固定有基板保持具36。于微动载台28的-Y侧侧面，通过反射镜底座38固定有具有正交于Y轴的反射面的Y棒反射镜40y，于微动载台28的-X侧侧面，如图3所示通过反射镜底座38固定有具有正交于X轴的反射面的X棒反射镜40x。此外，图2中为了避免图示过于复杂，基板保持具36、反射镜底座38、Y棒反射镜40y、以及X棒反射镜40x(参照图1及图3)的图示分别省略。

于微动载台28下面的四角部附近，如图2所示分别安装有加固块42。又，于加固块42下面，如图1所示安装有空气轴承44。返回图2，+Y侧的例如两个空气轴承44的气体喷出面(轴承面)对向于+Y侧的步进导件30上面，-Y侧的例如两个空气轴承44的气体喷出面对向于-Y侧的步进导件30上面。例如四个空气轴承44均对对应的步进导件30上面喷出加压气体(例如空气)。微动载台28通过被供应至空气轴承44与步进导件30之间的气体静压，隔着微小间隙悬浮于一对步进导件30上。此外，空气轴承44的配置及数目，只要能使微动载台28以稳定状态在一对步进导件30上悬浮，则无特别限定。

微动载台28通过包含多个音圈马达的微动载台驱动系被粗动载台26诱导而被往X轴方向及/或Y轴方向驱动。于多个音圈马达，如图2所示包含产生X轴方向的堆力的例如两个X音圈马达46x与例如两个Y音圈马达46y。例如两个X音圈马达46x，一方配置于微动载台28的+Y侧，另一方配置于微动载台28的-Y侧，例如两个Y音圈马达46y，一方配置于微动载台28的+X侧，另一方配置于微动载台28的-X侧。

上述多个音圈马达的构成，除了配置不同以外，其他部分均相同，因此以下说明配置于微动载台28的+Y侧的X音圈马达46x。如图1所示，X音圈马达46x包含固定于粗动载台26的+Y侧侧面的X固定子46a与固定于微动载台28下面的X可动子46b。X固定子46a具有未图示的线圈单元。X可动子46b形成为YZ剖面U字形，于其一对对向面固定有永久磁石。X固定子46a所具有的线圈单元通过既定间隙***上述一对永久磁石间。此外，本实施形态的X音圈马达46x虽是动磁型，但亦可是移动线圈型。

在基板载台装置20，例如粗动载台26沿X柱24以长行程移动于X轴方向时，控制例如两个X音圈马达46x产生的X轴方向的推力(洛伦兹力)以使微动载台28以与粗动载台26相同方向且相同速度移动。又，在X柱24以长行程移动于Y轴方向时，控制例如两个Y音圈马达46y产生的Y轴方向的推力以使微动载台28以与X柱24(亦即粗动载台26)相同方向且相同速度移动。藉此，粗动载台26与微动载台28一体沿XY平面以长行程移动。

又，微动载台28，通过使例如两个X音圈马达46x(或例如两个Y音圈马达46y)的推力方向成为彼此相反的方向，而相对粗动载台26往θz方向被微幅驱动。微动载台28在被粗动载台26诱导而于X轴方向以长行程被驱动时，适当被微幅驱动于Y轴方向及/或θz方向。

以上述方式构成的液晶曝光装置10(参照图1)，是在未图示的主控制装置的管理下，通过未图示的掩膜装载器将掩膜M装载于掩膜载台14，且通过未图示的基板装载器将基板P装载于基板保持具36上。其后，通过主控制装置使用未图示的对准检测系执行对准测量，在对准测量结束后，即对设定于基板P上的多个照射区域逐次进行步进扫描方式的曝光动作。此外，由于此曝光动作与以往进行的步进扫描方式的曝光动作相同，因此省略其详细说明。

例如，在上述步进扫描方式的曝光动作时的扫描曝光动作时等，在基板载台装置20，通过基板保持具36保持基板P的微动载台28是于X轴方向以长行程被驱动。步进导件30长度方向(X轴方向)尺寸设定为较微动载台28在X轴方向的可移动距离长些许，微动载台28在与粗动载台26一体移动于X轴方向时，是在一对步进导件30上移动。又，在微动载台28于Y轴方向进行步进动作时，是与粗动载台26、X柱24、以及一对步进导件30一体移动于Y轴方向。因此，微动载台28不会从一对步进导件30上脱落。

根据以上说明的本实施形态的基板载台装置20，由于微动载台28以非接触状态搭载于一对步进导件30上，因此能以较小推力将微动载台28驱动(诱导)于X轴及/或Y轴方向。又，由于微动载台28的位置控制提升，因此能进行高精度的曝光。又，由于对微动载台28来自外部的振动及反作用力的传达被抑制，因此能以高精度控制微动载台28的位置。

又，由于一对步进导件30涵盖在X轴方向的微动载台28的可移动范围，且在Y轴方向与微动载台28一体移动，因此在基板载台装置20不需要具有足以涵盖微动载台28在XY平面内的全移动范围的宽广面积的导引构件(例如定盘)。因此，成本低廉且搬送、组装容易。

又，由于用以驱动X柱24的Y线性马达21的要素即磁石单元21a(Y固定子)与基板载台架台18在振动上分离，因此可抑制驱动X柱24时的驱动反作用力、振动等传达至被装置本体支承的投影光学系16等。

此外，以上说明的本实施形态的构成可适当变更。例如，亦可于微动载台28与基板保持具36之间、或加固块42与微动载台28之间配置Z倾斜致动器以能控制基板P的Z轴方向、θx方向、θy方向的位置。又，X柱24亦可于一对步进导件30间配置有多个。

又，上述实施形态中，虽步进导件30是被X柱24牵引而移动于Y轴方向，但不限于此，例如亦可使用线性马达等致动器将一对步进导件30与X柱24独立地驱动。此情形下，作为用以驱动一对步进导件30的线性马达的固定子，亦可使用固定于底框22的Y固定子21a(参照图3)。

又，上述实施形态中，虽通过X柱24被多个Y线性马达21驱动于Y轴方向而一对步进导件30与X柱24一体移动于Y轴方向的构成，但不限于此，一对步进导件30被致动器(例如线性马达)驱动于Y轴方向，伴随于此X柱24移动于Y轴方向的构成(即使不设置驱动X柱24的致动器)亦可。

又，上述实施形态中，虽微动载台28通过多个空气轴承44而从下方非接触支承于一对步进导件30上，但亦可通过滚动体(例如球体)以接触状态将微动载台28搭载于步进导件30上。

又，亦可将一对步进导件30物理性(机械式地)连结(不过不抵触于X柱24)。此情形下，在一方的步进导件30被X柱24牵引后，由于另一方的步进导件30亦一体移动，因此例如只要X柱24仅牵引(或按压)一方的步进导件30即可。

又，照明光可以是ArF准分子激光(波长193nm)、KrF准分子激光(波长248nm)等的紫外光、或F₂激光(波长157nm)等真空紫外光。又，作为照明光，亦可使用例如将从DFB半导体激光或光纤激光发出的红外线带或可见光带的单一波长激光以例如掺杂有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器加以增幅，使用非线性光学结晶加以波长转换为紫外光的谐波。又，亦可使用固体激光(波长：355nm、266nm)等。

又，上述实施形态，虽针对具备多个支投影光学单元的多透镜方式的投影光学系16的情形作了说明，但投影光学单元的支数不限于此，只要是一支以上即可。此外，不限于多透镜方式的投影光学系，亦可以是例如使用欧夫那(Ofner)型大型反射镜的投影光学系等。又，上述实施形态中，作为投影光学系16虽说明了使用投影倍率为等倍者的情形，但不限于此，投影光学系亦可以是缩小系及放大系的任一种。

又，虽使用在光透射性的掩膜基板上形成有既定遮光图案(或相位图案、减光图案)的光透射型掩膜，但亦可取代此掩膜，使用例如美国专利第6,778,257号说明书所揭示的根据待曝光图案的电子数据，来形成透射图案或反射图案、或发光图案的电子掩膜(可变成形掩膜)，例如使用非发光型影像显示元件(亦称空间光调变器)的一种的DMD(Digital Micro-mirror Device))的可变成形掩膜。

又，作为曝光装置，以尺寸(包含外径、对角线长度、一边中的至少一个)为500mm以上的基板、例如液晶显示元件等平板显示器(FPD)用大型基板曝光为曝光对象物的曝光装置尤其有效。

又，作为曝光装置，亦能适用于步进重复(step&repeat)方式的曝光装置、步进接合(step&stitch)方式的曝光装置。又，保持于移动体装置的物体不限于曝光对象物体的基板等，亦可以是掩膜等图案保持体(原版)。

又，曝光装置的用途并不限于将液晶显示元件图案转印至方型玻璃板的液晶用曝光装置，亦可广泛适用于例如半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及DNA晶片等的曝光装置。此外，不仅是半导体元件等的微元件，本发明亦能适用于为制造用于光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子线曝光装置等的掩膜或标线片，而将电路图案转印至玻璃基板或硅晶片等的曝光装置。再者，曝光对象的物体不限于玻璃板，亦可以是例如晶片、陶瓷基板、薄膜构件或掩膜基板(mask blank)等其他物体。又，曝光对象物是平板显示器用基板的情形时，该基板的厚度并无特别限定，例如亦包含薄膜状(具可挠性的片状构件)者。

液晶显示元件(或半导体元件)等电子元件，是经由下述步骤等所制造，即：进行元件的功能、性能设计的步骤、根据此设计步骤制作掩膜(或标线片)的步骤、制造玻璃基板(或晶片)的步骤、依据上述各实施形态的曝光装置及其曝光方法将掩膜(标线片)的图案转印至玻璃基板的光刻步骤、使曝光后的玻璃基板显影的显影步骤、通过蚀刻除去抗蚀剂残存的部分以外的部分的露出构件的蚀刻步骤、除去因蚀刻结束而不需要的抗蚀剂的抗蚀剂除去步骤、元件组装步骤、检查步骤等。此情形下，在光刻步骤中，由于使用上述实施形态的曝光装置执行前述曝光方法，于玻璃基板上形成元件图案，因此能以良好生产性制造高集成度的元件。

产业上的可利用性

如以上的说明，本发明的移动体装置适于将保持物体的物体保持构件沿与水平面平行的二维平面驱动。又，本发明的曝光装置使物体曝光。又，本发明的平板显示器的制造方法适于平板显示器的制造。又，本发明的元件制造方法适于微元件的制造。

Claims (12)

1.一种移动体装置，其特征在于，具备：

第1移动体，可在沿与水平面平行的二维平面内的第1方向的位置移动；

第2移动体，设于所述第1移动体，能与所述第1移动体一起在沿所述第1方向的位置移动，且能相对所述第1移动体沿在所述二维平面内与所述第1方向正交的第2方向的位置移动；

物体保持构件，保持物体，被所述第2移动体诱导而沿所述二维平面移动；

第1导引构件，在所述第1方向配置于所述第1移动体一侧，从下方支承在所述物体保持构件沿所述第2方向移动时所述物体保持构件在所述第1方向的一侧区域，且能与所述物体保持构件一起沿所述第1方向移动；以及

第2导引构件，在所述第1方向配置于所述第1移动体另一侧，从下方支承在所述物体保持构件沿所述第2方向移动时所述物体保持构件在所述第1方向的另一侧区域，且能与所述物体保持构件一起沿所述第1方向移动。

2.根据权利要求1所述的移动体装置，其特征在于，所述物体保持构件以非接触方式支承于所述第1及第2导引构件。

3.根据权利要求2所述的移动体装置，其特征在于，所述物体保持构件通过供应至所述物体保持构件与所述第1导引构件之间、以及所述物体保持构件与第2导引构件之间的气体的静压以非接触方式悬浮于所述第1及第2导引构件上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的移动体装置，其特征在于，进一步具备将所述物体保持构件相对所述第2移动体往所述第1及第2方向、以及绕与所述水平面正交的轴微幅驱动的致动器。

5.根据权利要求4所述的移动体装置，其特征在于，所述物体保持构件通过所述致动器产生的推力沿所述水平面被所述第2移动体诱导。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的移动体装置，其特征在于，进一步具备将所述第1移动体与所述第1及第2导引构件物理性连结的连结构件。

7.一种曝光装置，其特征在于，具备：

权利要求1至6中任一项所述的移动体装置；以及

使用能量束于保持于所述物体保持构件的所述物体形成既定图案的图案形成装置。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，在对所述物体形成所述图案时，所述移动体装置使所述物体相对所述能量束沿所述第2方向移动。

9.根据权利要求7或8所述的曝光装置，其特征在于，所述物体用于平板显示器装置的基板。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，所述基板至少一边的长度或对角长为500mm以上。

11.一种平板显示器的制造方法，其特征在于，包含：

使用权利要求9或10所述的曝光装置使物体曝光的动作；以及

使曝光后的所述物体显影的动作。

12.一种元件制造方法，其特征在于，包含：

使用权利要求7或8所述的曝光装置使物体曝光的动作；以及

使曝光后的所述物体显影的动作。

Images