TWI589611B - Optical polymer, and optical element for forming the polymer - Google Patents

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Yosuke Harauchi
Hiroya Nishioka
Takashi Houkawa
Kenji Umeda
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Description

光學用聚合物及成形此聚合物之光學元件
本發明係關於用以成形光學有效面寬廣、也就是光學缺陷少之薄壁形狀之光學元件之光學用聚合物。在該狀態下，所謂光學有效面寬廣係指例如在光學元件為透鏡之狀態下，相對於透鏡整體之光學有效面。
[背景技術]
隨著近年來之電子技術之發展，電子電機裝置之輕量化、小型化和薄型化持續發展。特別是在行動電話類，在搭載之相機單元，要求形狀呈薄型．小直徑化，同時畫質方面亦使F值特性(光圈值；F-number)和MTF(Modulation Transfer Function：調制傳遞函數)特性(對比再現比)良好。因此，不僅是要求使用於搭載之相機單元之光學透鏡薄壁化，其形狀也複雜化。因此，使用於搭載之相機單元之光學透鏡係並非均等之厚度，而是朝薄壁部和厚壁部呈併存之偏壁化發展。
但是，使用於搭載之相機單元之光學透鏡係要求可以藉由製造成本低且適合於大量生產之射出成形法來進行製造。通常，直徑未滿1cm之小直徑之透鏡係光學有效面寬廣。但是，在藉由射出成形而形成透鏡之狀態下，發生熔接線 或雙折射之不均一化，故不容易擴大光學有效面。
作為射出成形小型且薄壁之透鏡之方法，在專利 文獻1中提議了使用由降冰片烯系聚合物和蠟而組成之組成物。但是，在混合蠟之時，在成形體之表面會流出蠟而發生模具汙染等之問題。又，在專利文獻2中，揭示了由特定之單體組成而構成之聚合物可提供薄壁成形性良好且光學特性及耐熱性也高度地平衡之小型且薄壁之透鏡。
此外，在專利文獻3中，提議了一種聚合物，係 作為防濕性、透明性及耐熱性之平衡良好且適合於包裝材料和電子元件用封裝材料之薄膜之降冰片烯系開環共聚物，在碳數14~40之直鏈α-烯烴之存在下，開環及聚合降冰片烯系單體而得到之聚合物。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-138111號公報
[專利文獻2]日本特開2010-150443號公報
[專利文獻3]日本特開2012-57122號公報
[發明之概要]
本發明之課題係提供一種光學用聚合物，用以成形即使是薄壁且偏壁也不發生光學缺陷、亦即光學有效面寬廣之光學元件。
本案發明人們已知作為薄壁成形性良好之光學材 料，使用被認為適合而具體地揭示於專利文獻2之聚合物，在射出成形小直徑且薄壁之透鏡時，光學透鏡之閘門附近之雙折射會變大，且在閘門相反側會發生熔接線而產生光學缺陷，故光學有效面會變得狹窄。
通常，射出成形法係實施：(1)將熔融樹脂填充 於模具之空腔之射出步驟；(2)直到密封閘門為止，在空腔內施加壓力，將相當於在射出步驟填充之熔融樹脂接觸於模具而冷卻及收縮的量之樹脂予以注入之保壓步驟；(3)在開放保壓後，直到樹脂冷卻為止，保持成形品之冷卻步驟。
閘門附近之雙折射係因為藉由在前述之保壓步 驟，在熔融樹脂黏度變高之狀態施加高壓力而注入熔融樹脂，以配向聚合物分子而產生。
熔接線係在前述之射出步驟，在流入至模具之樹 脂之2個以上之流動前端部之會合界面所發現之線狀接合痕。 一般而言，認為流動前端部之流動性與熔接線之原因有關，檢討以熔接線之降低來提高流動性。在熔接線變長時，光學有效面會變得狹窄，因此，特別是在小型且薄壁之光學透鏡會成為問題。本案發明人們確認了在嘗試使用不同流動性之聚合物而成形薄壁且偏壁之透鏡時，即使是不同之流動性之聚合物，也會產生相同長度之熔接線。
於是，本案發明人們檢討的結果，發現具有特定 熔融黏度之模式的聚合物於薄壁且偏壁之透鏡成形時，可抑制熔接線之發生，而可以抑制光學缺陷之發生，而想到本發明。
更且，本案發明人們認真檢討可能擴大對小型且 薄壁之透鏡整體之光學有效面的結果，發現將在專利文獻3揭示之薄膜用降冰片烯系聚合物適用於射出成形法而成形光學透鏡時，具有特異地減低閘門附近之雙折射的效果。該效果不限於小型且薄壁之透鏡，藉由射出成形法來得到之光學元件一般亦可獲得。
此外，通常來說，銀條紋係採用藉由充分地乾燥 樹脂顆粒和成形體且防止揮發性分解氣體之發生等作業環境之改善及成形條件之調製來進行抑制之方法。
但是，本案發明人們檢討的結果，發現在採用於 反應系內依序地添加聚合性單體和碳數14~40之α-烯烴之方法時，會抑制成形體之銀條紋之發生。
因而，藉由本發明，提供了一種光學用聚合物，在290℃、剪切速度200(1/s)之熔融黏度為ηA且在290℃、剪切速度2000(1/s)之熔融黏度為ηB時，滿足下列之公式(1)：(ηA-ηB)/ηB×100<60 (1)
又，藉由本發明，提供前述之光學用聚合物，其中光學用聚合物係降冰片烯系聚合物。
又，藉由本發明，提供前述之光學用聚合物，其中降冰片烯系聚合物之玻璃轉移溫度係100~160℃。
又，藉由本發明，提供前述之光學用聚合物，其中降冰片烯系聚合物係在分子末端，含有來自於碳數14~40 之α-烯烴之構造單位。
又，藉由本發明，提供前述之光學用聚合物，其 中降冰片烯系聚合物係在碳數14~40之α-烯烴之存在下，聚合降冰片烯單體而組成之降冰片烯系聚合物。
又，藉由本發明，提供前述之光學用聚合物，其 中降冰片烯系聚合物係經過在至少包含聚合觸媒之溶媒中依序地添加包含降冰片烯單體之聚合性單體以及碳數14~40之α-烯烴之步驟而得到。
又，藉由本發明，提供一種光學元件，將前述之 光學用聚合物成形而成。
又，藉由本發明，提供前述之光學元件，光學元 件係光學透鏡。
本發明之光學用聚合物成形而成之光學元件由於光學有效面寬廣，亦即光學缺陷少，故適用於光學透鏡，特別是更加適用於小直徑薄壁偏壁形狀之光學透鏡。因此，特別適用於行動電話相機用透鏡。
R1‧‧‧在凸面近似於圓之際的曲率半徑
R2‧‧‧在凹面近似於圓之際的曲率半徑
T1‧‧‧邊緣部之厚度
T2‧‧‧透鏡部之最厚部的厚度
T3‧‧‧透鏡部之最薄部的厚度
第1圖繪示了在R1>R2之狀態下之透鏡。
第2圖繪示了在R1<R2之狀態下之透鏡。
第3圖繪示了形成透鏡之模具。
[發明之實施形態]
本發明之光學用聚合物係具有特定之熔融黏度之 模式。
(1)光學用聚合物
光學用聚合物係在290℃、剪切速度200(1/s)之熔融黏度為ηA且在290℃、剪切速度2000(1/s)之熔融黏度為ηB之時，(ηA-ηB)/ηB×100之值未滿60，較佳為未滿50，更佳為未滿40。(ηA-ηB)/ηB×100之值較佳為越接近0越好，在(ηA-ηB)/ηB×100之值變大時，熔融黏度之剪切速度依附性會變高(流動曲線之傾斜變大)，故在成形薄壁透鏡之時，恐怕會在閘門相反側發生熔接線，因此變得不理想。
作為光學用聚合物之種類，若具有透明性則並無 特別限定，但例舉聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚苯乙烯系樹脂、降冰片烯系聚合物等。
在這些當中，由於耐熱性、透明性、低吸水性和 低雙折射性良好，故較佳為降冰片烯系聚合物。
(2)降冰片烯系聚合物
降冰片烯系聚合物係由具有降冰片烯骨架之單體之降冰片烯單體聚合而成，大致分成藉由開環聚合而得到者以及藉由加成聚合而得到者。
在此，包含降冰片烯單體之聚合性單體係可以是 僅由降冰片烯單體而組成者，也可以是降冰片烯單體以及可開環或加成共聚合於該降冰片烯單體之單體之混合物。
作為藉由開環聚合而得到者係列舉降冰片烯單體 之開環聚合物以及降冰片烯單體以及可開環共聚合於該降冰 片烯單體之其他單體之開環聚合物以及這些的加氫物等。
作為藉由加成聚合而得到者係列舉降冰片烯單體 之加成聚合物以及降冰片烯單體以及可共聚合於該降冰片烯單體之其他單體之加成聚合物等。在這些當中，由於耐熱性、機械強度等之觀點，故較佳為降冰片烯單體之開環聚合物加氫物和降冰片烯單體之加成聚合物。
<降冰片烯單體>
作為降冰片烯單體，除了四環十二烯系單體以外，還列舉降冰片烯系單體、二環戊二烯系單體、甲基四氫芴系單體等。
作為四環十二烯系單體係例舉四環[4.4.0.12,5. 17,10]-3-十二烯(四環十二烯)、四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯、8-甲基四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯、8-乙基四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯、8-亞乙基四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯、8-二甲基四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯、8-乙基-9-甲基四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯、8-亞乙基-9-甲基四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯、8-甲基-8-羧基甲基四環[4.4.0.12,5.17,10]-3-十二烯等。
作為降冰片烯系單體係例舉二環[2.2.1]七-2- 烯(慣用名稱：降冰片烯)、5-甲基-二環[2.2.1]七-2-烯、5,5-二甲基-二環[2.2.1]七-2-烯、5-乙基-二環[2.2.1]七-2-烯、5-亞乙基-二環[2.2.1]七-2-烯、5-乙烯基-二環[2.2.1]七-2-烯、5-丙烯基二環[2.2.1]七-2-烯、5-甲氧基莰基-二環[2.2.1]七-2-烯、5-氰基二環 [2.2.1]七-2-烯、5-甲基5-甲氧基羰基-二環[2.2.1]七-2-烯等。
作為二環戊二烯系單體係例舉三環[4.3.01,6.12,5] 十-3,7-二烯(慣用名稱：二環戊二烯)、2-甲基二環戊二烯、2,3-二甲基二環戊二烯、2,3-二羥基二環戊二烯等。
作為甲基四氫芴系單體係例舉7,8-苯并三環[4.3. 0.12,5]十-3-烯(慣用名稱：甲基四氫芴；也稱為1,4-亞甲基-1,4,4a,9a-四氫芴)、1,4-亞甲基-8-甲基-1,4,4a,9a-四氫芴、1,4-亞甲基-8-氯-1,4,4a,9a-四氫芴、1,4-亞甲基-8-溴-1,4,4a,9a-四氫芴等。
這些降冰片烯單體係可以組合2種以上而使用。
由改良光學透鏡之雙折射之觀點來看的話，則作 為四環十二烯系單體以外之單體係最好是甲基四氫芴系單體。甲基四氫芴系單體之量係在全單體中，通常是10~90重量%、較佳為50~90重量%、更佳為60~80重量%。在甲基四氫芴系單體過少時，恐怕會使光學透鏡之雙折射惡化。
又，由於容易調整玻璃轉移溫度，因此，作為四 環十二烯系單體以外之單體較佳為降冰片烯系單體。降冰片烯系聚合物之量係通常是0~20重量%、較佳為1~15重量%、更佳為3~10重量%。在降冰片烯系單體過多時，恐怕會過度地降低降冰片烯系單體之耐熱性(玻璃轉移溫度)。
更且，作為四環十二烯系單體以外之單體，列舉 二環戊二烯系單體。二環戊二烯系聚合物之量係通常是0~10重量%、較佳為0~5重量%。在二環戊二烯系單體聚合物過 多時，恐怕會惡化光學透鏡之雙折射。
在這些當中，四環十二烯系單體之量為15~50重 量%、甲基四氫芴系單體之量為10~90重量%，且降冰片烯系聚合物之量為1~15重量%(但是，四環十二烯系單體和甲基四氫芴系單體以及降冰片烯系聚合物之合計量為100重量%)之降冰片烯系聚合物可提供薄壁成形性、成形體之雙折射以及成形體之耐熱性之平衡呈良好之降冰片烯系開環聚合物加氫物，故較佳。
<降冰片烯單體之開環聚合物>
降冰片烯單體之開環聚合物或者是降冰片烯單體和可開環共聚合於該降冰片烯單體之其他單體之開環聚合物係可以在習知之開環聚合觸媒之存在下聚合單體成分而得到。作為開環聚合觸媒係可以使用例如由釕、鋨等金屬之鹵化物與硝酸鹽或乙醯丙酮化合物及還原劑所組成之觸媒、或者是由鈦、鋯、鎢、鉬等之金屬鹵化物或乙醯丙酮化合物與有機鋁化合物所組成之觸媒。
作為可開環共聚合於降冰片烯單體之其他單體， 可以列舉例如環己烯、環庚烯、環辛烯等之單環之環狀烯烴系單體等。
<降冰片烯單體之開環聚合物加氫物>
降冰片烯單體之開環聚合物加氫物通常可以藉由在前述開環聚合物之聚合溶液添加包含鎳、鈀等之過渡金屬之習知之加氫觸媒，氫化碳-碳不飽和鍵而得到開環聚合物加氫物。
<降冰片烯單體之加成聚合物>
降冰片烯單體之加成聚合物、或者是降冰片烯單體和可共聚合於該降冰片烯單體之其他單體之加成聚合物可以使用習知之加成聚合觸媒、例如由鈦、鋯或釩化合物和有機鋁化合物而組成之觸媒，聚合這些單體而得到加成聚合物。
作為可加成共聚合於降冰片烯單體之其他單體係 列舉例如乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯等之碳數2~20之α-烯烴以及這些之衍生物；環丁烯、環戊烯、環己烯、環辛烯、3a,5,6,7a-四氫-4,7-亞甲基-1H-茚等之環烯烴以及這些之衍生物；1,4-己二烯、4-甲基-1,4-己二烯、5-甲基-1,4-己二烯、1,7-辛二烯等之非共軛二烯等。在這些當中，較佳為α-烯烴，更佳為乙烯。
這些可加成共聚合於降冰片烯單體之其他單體可 以組合2種以上而使用。在對於降冰片烯單體及可加成共聚合於該降冰片烯單體之其他單體來進行加成共聚合之狀態下，來自於加成聚合物中之降冰片烯單體之構造單位與來自於可加成共聚合之其他單體之構造單位之比例係以重量比適度地選擇，通常為30：70~99：1，較佳為50：50~97：3，更佳為60：40~95：5之範圍。
在這些當中，由耐熱性、機械強度、成形性等觀 點來看的話，則較佳以對於降冰片烯單體以及可加成共聚合於該降冰片烯單體之其他單體來進行加成共聚合，更佳為降冰片烯單體和乙烯之加成共聚物。
<在碳數14~40之α-烯烴之存在下而聚合降冰片烯單體之降冰片烯系聚合物>
理想之降冰片烯系聚合物係可以藉由在碳數14~40之α-烯烴之存在下，聚合降冰片烯單體而進行製造。
碳數14~40之α-烯烴係如果碳數為14~40的 話，則並無特別限定。作為碳數14~40之α-烯烴之具體例係列舉3-甲基十四烯、4-甲基十四烯、10-甲基十四烯、5-環己基十六烯等之在烷基鏈具有1個以上之取代基之1取代烯烴；1-十四烯、1-十六烯、1-十八烯、1-二十烯、1-廿二烯、1-四十烯等之直鏈α-烯烴等。更佳為碳數16~30之直鏈α-烯烴。
又，來自於碳數14~40之α-烯烴量之構造單位 係相對於降冰片烯單體和可共聚合之其他單體之合計量100重量份而較佳為含有0.5~5.0重量份，更佳為1.0~4.0重量份，特佳為1.3~3.0重量份。在來自於碳數14~40之α-烯烴量之構造單位之量過多時，恐怕會過度地降低玻璃轉移溫度，而過少時，恐怕會惡化成形體之閘門附近之雙折射。
例如，在作為直鏈α-烯烴之碳數20之α-烯烴(1-二十烯)之存在下，聚合降冰片烯單體之例子如下所示。
(在化學式中，R1~R3係表示烷基，Mt1係表示聚合觸媒。)
化學式1係顯示在降冰片烯單體之開環聚合物加氫物之分子末端，導入來自於α-烯烴之構造單位之例子。在進行聚合反應之聚合觸媒之活性末端和α-烯烴進行反應(鏈轉移反應)時，在來自於α-烯烴之構造末端產生聚合觸媒之活性末端。接著，在藉由該活性末端和單體而進行聚合反應之後，在進行烯烴之加氫時，已知在分子末端會導入來自於α-烯烴之構造單位。
化學式2係顯示同樣在降冰片烯單體和乙烯之加成共聚物之分子末端，導入來自於α-烯烴之構造單位之例子。
<鏈轉移劑>
降冰片烯系聚合物-般為了進行分子量之調整，藉由在鏈轉移劑(也稱為分子量調整劑)之存在下，聚合降冰片烯單體而進行製造。作為鏈轉移劑，可以使用向來習知者，可以列舉例如1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-辛烯等之α-烯烴類；苯乙烯、乙烯基甲苯等之苯乙烯類；乙基乙烯基醚、異丁基乙 烯基醚、烯丙基環氧丙基醚等之醚類；烯丙基氯化物等之含鹵素乙烯基化合物；環氧丙基甲基丙烯酸酯等之含氧乙烯基化合物；丙烯醯胺等之含氮乙烯基化合物；1,4-戊二烯、1,4-己二烯、1,5-己二烯、1,6-庚二烯、2-甲基-1,4-戊二烯、2,5-二甲基-1,5-己二烯等之非共軛二烯、或者是1,3-丁二烯、2-甲基-1,3-丁二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、1,3-己二烯等之共軛二烯等。即使是在這些當中，也由分子量調節之容易性來看的話，則最好是α-烯烴類。
前述碳數14~40之α-烯烴係也作用成為鏈轉移 劑。
在聚合降冰片烯單體時，較佳的鏈轉移劑係可以 組合前述之碳數14~40之直鏈α-烯烴之2種以上，並且，也可以組合碳數14~40之直鏈α-烯烴和碳數4~12之α-烯烴或苯乙烯類等之其他之鏈轉移劑。此外，在使用碳數14~40之α-烯烴以外之鏈轉移劑(其他之鏈轉移劑)來作為鏈轉移劑之狀態下，其他之鏈轉移劑係可以混合於碳數14~40之α-烯烴而進行添加，並且，也可以另外添加碳數14~40之α-烯烴。
鏈轉移劑之添加量若要足以得到具有要求之分子 量之共聚物之量，(鏈轉移劑)：(降冰片烯單體)之莫爾數比通常為1：50~1：1,000,000，較佳為1：100~1：5,000，更佳為1：300~1：3,000。
在碳數14~40之α-烯烴之存在下，在聚合降冰片烯單體之狀態下之全鏈轉移劑量係成為碳數14~40之α- 烯烴和其他之鏈轉移劑之合計量。
<聚合之形態>
聚合降冰片烯單體之形態並無特別限制，但列舉總括聚合法(在預先添加聚合觸媒或降冰片烯單體之全量之溶媒中，總括地添加聚合觸媒或降冰片烯單體而進行聚合之方法)、單體依序添加法(在至少包含聚合觸媒之溶媒中，連續地添加降冰片烯單體而進行聚合之方法)等。特別是在使用單體依序添加法時，鏈構造係更加地無規，因此，變得理想。
作為碳數14~40之α-烯烴之添加方法係可以預 先在反應溶媒，添加全量之該α-烯烴，並且，也列舉同時依序地添加降冰片烯單體和該α-烯烴之方法，特別是同時依序地添加降冰片烯單體和該α-烯烴之方法使光學元件之光學有效面寬廣，且即使是在高溫成形在光學元件，也不容易發生銀條紋，故較佳。
<聚合溫度>
降冰片烯單體之聚合溫度係通常為-50℃~250℃，較佳為-30℃~200℃，更佳為-20℃~150℃之範圍。聚合壓力係通常為0~50kg/cm2，較佳為0~20kg/cm2之範圍。聚合時間係藉由聚合條件而適度地選擇，但是，通常為30分鐘~20小時，較佳為1~10小時之範圍。
<降冰片烯系聚合物之數量平均分子量(Mn)> 降冰片烯系聚合物之數量平均分子量(Mn)係通常為5,000~100,000，較佳為6,000~70,000，更佳為7,000~60,000。重量平均分子量(Mw)係通常為10,000~350,000，較佳為12,000 ~245,000，更佳為14,000~210,000。分子量係藉由以環己烷來作為溶媒之凝膠滲透層析法(GPC)進行測定，作為標準聚異戊二烯換算值而表示。分子量係在這些範圍時，機械強度和成形性之平衡良好。分子量之分布(Mw/Mn)並無特別限定，但較佳為1~5、更佳為1~4之範圍。
<降冰片烯系聚合物之熔融黏度>
降冰片烯系聚合物係在290℃、剪切速度200(1/s)之熔融黏度為ηA且在290℃、剪切速度2000(1/s)之熔融黏度為ηB之時，(ηA-ηB)/ηB×100之值較佳為未滿60，更佳為未滿50，特佳為未滿40。
在(ηA-ηB)/ηB×100之值變大時，熔融黏度之 剪切速度依附性係變高(流動曲線之傾斜變大)，在成形薄壁透鏡之時，恐怕會在閘門相反側發生熔接線。
降冰片烯系聚合物之(ηA-ηB)/ηB×100之值係 可以藉由適度地調整四環十二烯系單體之量以及降冰片烯系聚合物之分子量而調整(ηA-ηB)/ηB×100之值。
降冰片烯系聚合物之分子量係藉由環己烷溶液 (在無溶解聚合物樹脂之狀態下之甲苯溶液)之凝膠滲透層析 法而測定之聚異戊二烯換算之重量平均分子量，較佳為20,000~30,000、更佳為22,000~28,000、特佳為23,000~26,000之範圍時，適合成為(ηA-ηB)/ηB×100之值(恐怕會提高熔融黏度之剪切速度依附性)。
四環十二烯系單體之量係較佳為15~50重量%， 更佳為20~40重量%。在四環十二烯系單體過少時，恐怕會 增大(ηA-ηB)/ηB×100之值(恐怕會提高熔融黏度之剪切速度依附性)。又，在四環十二烯系單體過多時，恐怕會惡化降冰片烯系聚合物對於溶媒之溶解性或者是惡化雙折射。
<降冰片烯系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)>
降冰片烯系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)係可以配合使用之目的而適度地選擇，但是，通常為100~160℃、較佳為120~150℃、特佳為130~145℃之範圍時，適合使得耐熱性和成形加工性呈高度地平衡。
這些降冰片烯系聚合物係可以分別單獨或者是組 合2種以上而使用。
<添加劑>
可以在光學用聚合物，在無損本案發明效果之範圍內，配合需要而含有習知之添加劑。作為添加劑係，可以混合例如填充劑、氧化防止劑、光安定劑、離模劑、難燃劑，作為抗菌劑添加劑係可以混合例如填充劑、氧化防止劑、光安定劑、離模劑、難燃劑、抗菌劑、木粉、偶合劑、可塑劑、著色劑、滑劑、矽酮油、發泡劑、界面活性劑、離模劑等之各種添加劑。作為光安定劑係最好是受阻胺系光安定劑(HALS)。作為離模劑係最好是多元醇之脂肪酸酯。
使光學用聚合物含有各種添加劑之方法並無特別 限定，可以採用添加於過濾後之光學用聚合物溶液之方法，或者是進行熔融摻合之方法等任意方法。作為具體之方法，列舉例如使用Henschel混合器、V-摻合機、螺帶式摻合機、轉鼓式摻合機等而混合光學用聚合物及各種添加劑，接著，使用單 軸擠壓機、雙軸擠壓機、捏和機、壓輥等而進行熔融混練之方法，在過濾後之光學用聚合物溶液混合各種添加劑之後，除去溶劑等之揮發成分之方法等。
(3)光學元件
應需要而成形包含各種添加劑之本發明之光學用聚合物，得到光學元件。
作為成形方法，可藉由使用習知之成形手段、例 如射出成形法、壓縮成形法、擠壓成形法、鼓風成形法、吹塑成形法等來成形前述之光學用聚合物而得到。在這些當中，由於可以得到透明性呈良好之光學零件，較佳為射出成形法。成形體之形狀係可以配合板狀、透鏡形狀、碟片形狀、薄膜形狀、板片狀、稜鏡狀等之各種用途而適當地選擇。
<射出成形>
作為射出成形之條件，係藉由光學用聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)而改變樹脂溫度者，最好是200~350℃之範圍。在此以下時，流動性會變低，故不會出現轉印性。在350℃以上時，開始惡化樹脂，會發生燒焦不良或模具汙染等。在確保流動性之範圍，比較低者係比較可以縮小成形品之密度分布。在需要更加低之雙折射之狀態下，於該範圍，越是成為高溫而越加良好。藉由兩者之平衡而設定樹脂溫度。更佳為230℃~330℃，特佳為250~320℃。
模具溫度最好是在低於玻璃轉移溫度之範圍，儘 可能地成為高溫度。最好是光學用聚合物之玻璃轉移溫度-20℃~玻璃轉移溫度-3℃之範圍。在低於此時，會於轉印性或 雙折射發生問題，在此以上時，有可能會使得成形循環時間變長而降低生產性。在轉印性和雙折射不發生問題之範圍，降低模具溫度者就生產性方面較優良。
計量步驟之條件係並無特別限定，但一般而言螺 旋轉動數係10~100rpm，背壓係3~10MPa。在無發生燒傷之程度，提高螺旋轉動數，在無產生氣泡之程度使背壓高為佳。
射出速度係可以是一段，也可以是多段射出。一 般而言，射出速度係螺旋之前進速度為2~100mm/秒而進行成形。在2mm/秒以下時，恐怕會在射出時，發生固化而無法填充。在射出速度呈過度迅速時，恐怕會引起漩紋等之外觀不良。
保壓步驟之壓力係較佳為20MPa以下，更佳為 10MPa，特佳為5MPa。在保壓步驟之壓力變高時，恐怕會提高光學歪斜，在變低時，恐怕會引起澆道堵塞等之成形不良。 最好是在無引起澆道堵塞等之範圍施加低壓力。
保壓時間也最好是在無發生閘門密封或澆道堵塞 之程度之短時間來控制保壓時間。
在冷卻步驟，若加長冷卻時間，則越長者藉由在 模具內之退火效果較可得到良好之光學特性，但由於循環時間會變長，較佳一邊觀察生產性和光學特性之平衡，一邊適度地決定。
<用途>
本發明之光學元件係可以具有良好之光學有效面之面精度、雙折射，可以適度地使用在菲湼耳(Fresnel)透鏡、凹凸 式透鏡、fθ透鏡、行動電話相機用透鏡等之光學透鏡：繞射格子、稜鏡、藍色雷射用光碟、藍色雷射用光碟等之光學元件。 即使是在這些當中，也最好是光學透鏡，更加理想是小直徑薄壁偏壁形狀之光學透鏡，因此，最適用為行動電話相機用透鏡。
在成為理想之光學元件之光學透鏡，其適當之大 小係在外徑為L1之時，較佳為10mm以下，更佳為7mm以下，特佳為5mm以下。
在成為理想之光學元件之光學透鏡，作為其透鏡 部(光學有效面)之形狀係在凸面近似於圓之際之曲率半徑為R1且在凹面近似於圓之際之曲率半徑為R2之時，R1>R2(R1/R2>1)為佳，較佳為R1/R2≧1.4，更佳為R1/R2≧1.6，特佳為R1/R2≧1.8。將R1>R2之狀態之透鏡形狀，顯示於第1圖，將R1<R2之狀態之透鏡形狀，顯示於第2圖。
在理想之光學元件之光學透鏡中，其適當之厚度 在厚度均一之透鏡而言，較佳為1.00mm以下，更佳為0.5mm以下，特佳為0.30mm以下。若為厚度不均一之偏壁透鏡，則在邊緣部之厚度為T1、透鏡部最厚部之厚度為T2且透鏡部最薄部之厚度為T3之時，透鏡部最薄部之厚度(T3)係較佳為0.50mm以下，更佳為0.30mm以下，特佳為0.20mm以下，邊緣部之厚度(T1)係較佳為T1/T3≧1.5，更佳為T1/T3≧2.0，特佳為T1/T3≧2.5，透鏡部最厚部(T2)係較佳為T1/T2≧1.5，更佳為T1/T2≧2.0，特佳為T1/T2≧2.5。
[實施例]
在以下，就本發明而列舉實施例及比較例，更加 具體地進行說明。本發明係並非僅限定於這些實施例。在以下之實施例及比較例，「份」及「%」只要是無特別限定則為重量基準。
在以下，顯示各種物性之測定法。
(1)分子量
數量平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)及分子量分布(MWD)係藉由以環己烷作為溶媒之凝膠滲透層析法(GPC)作為標準聚異戊二烯換算值而測定。
GPC係使用TOSOH公司製之HLC8120GPC。
作為標準聚異戊二烯係使用TOSOH公司製之標準聚異戊二烯、Mw=602、1390、3920、8050、13800、22700、58800、71300、109000、280000之合計10點。
測定係呈使用直列繫接3條TOSOH公司製之TSKgelG5000HXL、TSKgelG4000HXL及TSKgelG2000HXL作為管柱，以流速1.0ml/分、樣本注入量100μml、管柱溫度40℃之條件來進行測定。
(2)氫化率(碳-碳雙鍵殘存率)
在加氫後之主鏈及環狀烴構造之加氫率係藉由NMR測定而求出。
(3)玻璃轉移溫度(Tg)
玻璃轉移溫度係使用示差掃描熱量分析計(DSC6220S I I、奈米技術公司製)，根據JISK6911，以升溫速度10℃/min之條件來進行測定。
(4)熔融黏度
使用雙毛細管流變儀、Rheologic5000(CEAST公司製)而進行測定。
(5)薄壁透鏡之成形性評價
薄壁成形性係使用形成凸面之曲率半徑為5.73mm、凹面之曲率半徑為3.01mm、大小為直徑4.5mm、透鏡部分之直徑為3mm、透鏡之中心厚度為0.20mm之透鏡之模具(第3圖)，藉由射出成形機(FANUC、ROBOSHOT(註冊商標)α100B，FANUC公司製)在樹脂溫度300℃、模溫Tg-5℃、保壓400Pa製作10個之成形品。
[雙折射之評價]
(1)表1之雙折射評價
藉由雙折射計(王子計測器公司製；KOBRA(註冊商標)-CCD/X)測定得到之成形品，以在透鏡中心部之測定波長650nm之遲滯值來進行比較。遲滯值越小意味低雙折射性越加優良，以未滿20作為A，20以上、40未滿作為B，40以上、60未滿作為C，60以上作為D。
(2)表2、3之雙折射評價
藉由雙折射計(王子計測器公司製；製品名稱「KOBRA(註冊商標)-CCD/X」)測定得到之成形品，以在測定波長650nm之遲滯值之平均值來進行比較。
以閘門方向透鏡中心開始1.8mm來作為Re測定點[A]而以遲滯值作為Re[A]，以透鏡中心部作為Re測定點[B]而以遲滯值作為Re[B]。
Re[A]之測定值係以未滿50nm作為A，50nm以上、100nm 未滿作為B，100nm以上作為D。
Re[B]之測定值係以未滿30nm作為A，30nm以上、60nm未滿作為B，60nm以上作為D。
遲滯值越小意味低雙折射性越加優良。
[熔接線之評價]
藉由顯微鏡而觀察得到之成形品，進行發生於閘門相反方向之熔接線長度之測定。若熔接線之長度未滿0.1mm則為A，若為0.1mm以上、未滿0.3mm則為B，若為0.3mm以上、未滿0.5mm則為C，若為0.5mm以上則為D。
[銀條紋發生之評價]
藉由以下之判定基準而進行評價。藉由目視而觀察在10次之射出成形所得到之成形品，以完全無看見銀條紋之狀態作為A，在1~2個之樣本看見銀條紋之狀態作為B，在3~4個之樣本看見銀條紋之狀態作為C，在5個以上之樣本看見銀條紋之狀態作為D。
[實施例1]
在進行乾燥及氮取代之聚合反應器，加入由70重量%之甲基四氫芴(在以下，縮寫為「MTF」。)、22重量%之四環十二烯(在以下，縮寫為「TCD」。)和8重量%之降冰片烯(在以下，縮寫為「NB」。)組成之單體混合物7重量份(相對於使用在聚合之單體全量為1%)、脫水之環己烷1600重量份、1-己烯0.6重量份、二異丙基醚1.3重量份、異丁基醇0.33重量份、三異丁基鋁0.84重量份以及六氯化鎢0.66%環己烷溶液之30重量份，在55℃攪拌10分鐘。
接著，將反應系保持於55℃，一邊進行攪拌，一 邊在前述之聚合反應器中，將前述之單體混合物693重量份及六氯化鎢0.77%環己烷溶液之72重量份分別經過150分鐘而連續地滴下，更且在結束滴下後而攪拌30分鐘之後，添加異丙基醇1.0重量份，使聚合反應停止。在藉由氣相層析法而測定聚合反應溶液之時，單體對於聚合物之轉化率係100%。
接著，將含有前述聚合物之聚合反應溶液300重 量份移送至附有攪拌器之高壓釜，加入環己烷100重量份及矽藻土載持鎳觸媒(日揮化學公司製；「T8400RL」、鎳載持率58%)2.0重量份。在高壓釜內以氫取代之後，於180℃、4.5MPa之氫壓力下，進行6小時之反應。
在結束加氫反應後，以矽藻土(昭和化學工業公 司製、「Radio Light(註冊商標)# 500」)來作為過濾床，使用加壓過濾器(IHI公司製；「Funda Filter」)，在壓力0.25MPa加壓過濾，得到無色透明溶液。
接著，在得到之溶液，對前述加氫物每100重量 份，加入季戊四醇-四[3-(3,5-二-t-丁基-4-羥苯基)丙酸酯](Ciba Specialty Chemicals公司製；「Irganox(註冊商標)1010」)0.5重量份來作為氧化防止劑而溶解。
在以過濾器(Cunofilter公司製；「Zeta plus(註 冊商標)30H」，孔徑0.5~1μm)過濾該溶液之後，以金屬纖維製之過濾器(Nichidai公司製，孔徑0.4μm)將濾液予以過濾而除去異物。
接著，對於上述得到之濾液，使用圓筒型濃縮乾 燥機(日立製作所公司製)，在溫度260℃、壓力1kPa以下，由溶液除去溶媒之環己烷及其他揮發成分，並由直接連結於濃縮機之模具，在熔融狀態擠壓成為線束狀，在水冷後，以製粒機(長田製作所公司製；「OSP-2」)切割而得到降冰片烯系聚合物之顆粒。
該降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=24,000、Mw /Mn=1.75，氫化率係99.9%，Tg係140℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[實施例2]
除了使得單體混合物之組成為MTF65重量%、TCD30重量%及NB5重量%，1-己烯為0.55重量份以外，其餘係相同於實施例1而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9 %。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=25,000、Mw/Mn=1.72，氫化率係99.9%，Tg係145℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[實施例3]
除了使得1-己烯成為0.45重量份以外，其餘係相同於實施例2而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9 %。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=29,000、Mw/Mn=1.88，氫化率係99.9%，Tg係145℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[實施例4]
除了使得單體混合物之組成為亞乙基降冰片烯(在以下，縮寫為「ETD」)20重量%、二環戊二烯(在以下，縮寫為「DCP」)80重量%及NB之8重量%以外，其餘係相同於實施例3而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9 %。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=28,500、Mw/Mn=2.12，氫化率係99.9%，Tg係105℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[實施例5]
除了使得單體混合物之組成為MTF40重量%、TCD35重量%及DCP25重量%，使1-己烯成為0.55重量份以外，其餘係相同於實施例3而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9 %。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=29,500、Mw/Mn=2.22，氫化率係99.9%，Tg係141℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[實施例6]
除了使得單體混合物之組成為MTF49重量%、TCD46重量%及NB6重量%以外，其餘係相同於實施例1而得到降冰 片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9 %。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=25,500、Mw/Mn=1.71，氫化率係99.9%，Tg係145℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[實施例7]
除了使得單體混合物之組成為MTF45重量%、TCD25重量%及NB20重量%以外，其餘係相同於實施例1而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9 %。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=26,500、Mw/Mn=1.64，氫化率係99.9%，Tg係98℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[比較例1]
除了使得單體混合物之組成為MTF80重量%、TCD10重量%及NB10重量%以外，其餘係相同於實施例1而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9 %。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=25,500、Mw/Mn=1.72，氫化率係99.9%，Tg係134℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[比較例2]
除了使得單體混合物之組成為MTF39重量%、TCD55重量%及NB5重量%以外，其餘係相同於實施例1而進行聚合反應及加氫反應。在結束加氫反應後，以矽藻土(「Radio Light # 500」)來作為過濾床，使用加壓過濾器(石川島播磨重工公司製；「Funda Filter」)，以壓力0.25MPa而進行加壓過濾。但是，發生堵塞而無法得到濾液。
[比較例3]
除了1-己烯成為0.40重量份以外，其餘係相同於實施例2而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9%。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=31,000、Mw/Mn=1.95，加氫率係99.9%，Tg係145℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[比較例4]
除了使得單體混合物之組成來成為MTF之45重量%、TCD之10重量%和二環戊二烯之45重量%以外，其餘係相同於實施例1而得到降冰片烯系聚合物。
聚合反應溶液之單體對於聚合物之轉化率係99.9%。得到之降冰片烯系聚合物之分子量係Mw=25,500、Mw/Mn=1.92，加氫率係99.9%，Tg係130℃。
將使用得到之顆粒而進行薄壁透鏡之整順度評價之結果顯示於表1。
[考察]
由表1之結果而得知以下。
當(ηA-ηB)/ηB×100高時，熔接線之評價變差(比較例1、3、4)。(比較例2無法得到濾液。)
有(ηA-ηB)/ηB×100越低，熔接線之評價越加 良好之傾向(實施例1~7)。
有Mw越加降低，(ηA-ηB)/ηB×100越加降低 而使得熔接線之評價及雙折射之評價越加良好之傾向(實施例2及3與比較例3之對比)。
有四環十二烯系單體(TCD)越多，(ηA-ηB) /ηB×100越加降低而使得熔接線之評價及雙折射之評價越加良好之傾向(實施例2與比較例1之對比、實施例7與比較例4之對比)。
有甲基四氫芴系單體(MTF)越多，雙折射之評價 越加良好之傾向(實施例1~7)。
[實施例8~17、比較例5]
在乾燥及氮取代之聚合反應器，加入表2所示之降冰片烯單體混合物之7重量份(相對於使用在聚合之單體全量為1%)、脫水之環己烷1600重量份、表2所示之鏈轉移劑種類及量、二異丙基醚1.3重量份、異丁基醇0.33重量份、三異丁基鋁0.84重量份以及六氯化鎢0.66%環己烷溶液之30重量份，在55℃攪拌10分鐘。
接著，將反應系保持於55℃，一邊攪拌，一邊在 前述之聚合反應器中，將前述之單體混合物693重量份和六氯化鎢0.77%環己烷溶液之72重量份分別經過150分鐘而連續地滴下，更且在結束滴下後而攪拌30分鐘之後，添加異丙基醇1.0重量份，使聚合反應停止。在藉由氣相層析法而測定聚合反應溶液之時，單體對於聚合物之轉化率係100%。
接著，將含有前述聚合物之聚合反應溶液300重 量份移送至附有攪拌器之高壓釜，加入環己烷100重量份及矽藻土載持鎳觸媒(日揮化學公司製、「T8400RL」、鎳載持率58%)2.0重量份。在高壓釜內以氫取代之後，於180℃、4.5MPa之氫壓力下，進行6小時之反應。
在結束加氫反應後，以矽藻土(昭和化學工業公 司製、製品名稱「Radio Light(註冊商標)# 500」)來作為過濾床，使用加壓過濾器(IHI公司製、製品名稱「Funda Filter」)，在壓力0.25MPa加壓過濾而得到無色透明溶液。
接著，在得到之溶液，對前述之加氫物之每100 重量份加入季戊四醇-四[3-(3,5-二-t-丁基-4-羥苯基)丙酸酯](Ciba Specialty Chemicals公司製、製品名稱「Irganox(註冊商標)1010」)0.5重量份，作為氧化防止劑而溶解。
在藉由過濾器(Cunofilter公司製、製品名稱「Zeta plus(註冊商標)30H」、孔徑0.5~1μm)而過濾該溶液之後，以金屬纖維製之過濾器(Nichidai公司製、孔徑0.4μm)將濾液予以過濾，除去異物。
接著，對於上述得到之濾液，使用圓筒型濃縮乾 燥機(日立製作所公司製)，在溫度260℃、壓力1kPa以下，由溶液除去溶媒之環己烷及其他揮發成分，由直接連結於濃縮機之模具，在熔融狀態擠壓成為線束狀，在水冷後，以製粒機(長田製作所公司製、製品名稱：「OSP-2」)切割而得到降冰片烯系聚合物之顆粒。
將降冰片烯系聚合物之分子量(Mw)、玻璃轉移 溫度(Tg)及熔融黏度顯示於表2。全部之降冰片烯系聚合物之加氫率係99%以上。
[考察]
由表2之結果而得知以下。
在分子末端不具有來自於C14~40之α-烯烴之構造單位之降冰片烯系聚合物之Re[A]之值差(實施例14~17)。
在分子末端具有來自於C14~40之α-烯烴之構造單位之降冰片烯系聚合物之Re[A]之值良好(實施例8~13)。
(ηA-ηB)/ηB×100之值未滿60之降冰片烯系聚合物係熔接線之評價良好(實施例8~17)。
[實施例18、19]
將以表3所示之比例而混合降冰片烯單體和鏈轉移劑之「單體-鏈轉移劑混合物」，予以調製。
更且，在進行乾燥及氮取代之聚合反應器，加入預先調製之「單體-鏈轉移劑混合物」7重量份(相對於使用在聚合之單體全量為1%)、脫水之環己烷1600重量份、二異丙基醚1.3重量份、異丁基醇0.33重量份、三異丁基鋁0.84重量份以及六氯化鎢0.66%環己烷溶液之30重量份，在55℃攪拌10分鐘。
接著，將反應系保持於55℃，一邊攪拌，一邊在前述之聚合反應器中，將「單體-鏈轉移劑混合物」693重量份和六氯化鎢0.77%環己烷溶液之72重量份分別經過150分鐘而連續地滴下，更且在結束滴下後而攪拌30分鐘之後，添加異丙基醇1.0重量份，使聚合反應停止。在藉由氣相層析法而測定聚合反應溶液之時，單體對於聚合物之轉化率係100%。
接著，將含有前述聚合物之聚合反應溶液300重 量份，移送至附有攪拌器之高壓釜，加入環己烷100重量份和矽藻土載持鎳觸媒(日揮化學公司製、製品名稱「T8400RL」、鎳載持率58%)2.0重量份。在高壓釜以氫取代內之後，於180℃、4.5MPa之氫壓力下，進行6小時之反應。
在結束加氫反應後，以矽藻土(昭和化學工業公 司製、製品名稱「Radio Light(註冊商標)# 500」)來作為過濾床，使用加壓過濾器(IHI公司製、製品名稱「Funda Filter」)，在壓力0.25MPa加壓過濾而得到無色透明溶液。
接著，在得到之溶液，對前述之加氫物之每100 重量份，加入季戊四醇-四[3-(3,5-二-t-丁基-4-羥苯基)丙酸酯](BASF日本公司製、製品名稱「Irganox(註冊商標)1010」)0.5重量份來作為氧化防止劑而溶解。
在藉由過濾器(Cunofilter公司製、製品名稱「Zeta plus(註冊商標)30H」、孔徑0.5~1μm)而過濾該溶液之後，藉由金屬纖維製之過濾器(Nichidai公司製、孔徑0.4μm)將濾液予以過濾，除去異物。
接著，對於上述得到之濾液，使用圓筒型濃縮乾 燥機(日立製作所公司製)，在溫度260℃、壓力1kPa以下由溶液除去溶媒之環己烷及其他揮發成分，由直接連結於濃縮機之模具，在熔融狀態擠壓成為線束狀，在水冷後，藉由製粒機(長田製作所公司製、製品名稱：「OSP-2」)切割而得到降冰片烯系聚合物之顆粒。
將降冰片烯系聚合物之分子量(Mw)、玻璃轉移 溫度(Tg)及熔融黏度顯示於表2。全部之降冰片烯系聚合物 之加氫率係99%以上。
將結果顯示於表3。
[考察]
由表3之結果得知，在依序地添加(連續滴下)聚合性單體和鏈轉移劑之狀態下，在成形體不發生銀條紋(實施例18、19)。
[產業上之可利用性]
本發明之光學用聚合物成形而成之光學元件由於光學有效面呈寬廣，亦即光學缺陷少，故適用於光學透鏡，特別是，由於更加適合於小直徑薄壁偏壁形狀之光學透鏡，故特別適用於行動電話相機用透鏡。

Claims (10)

  1. 一種光學用聚合物，其為一降冰片烯系聚合物，該降冰片烯系聚合物的重量平均分子量係10,000~350,000，玻璃轉移溫度係100~160℃，且在290℃、剪切速度200(1/s)之熔融黏度為ηA且在290℃、剪切速度2000(1/s)之熔融黏度為ηB之時，滿足下列之公式(1)：(ηA-ηB)/ηB×100<60 (1)。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學用聚合物，其中該降冰片烯系聚合物為一降冰片烯系單體的一開環聚合物或其加氫物。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學用聚合物，其中該開環聚合物係在一鏈轉移劑的存在下，藉由將該降冰片烯系單體開環聚合所獲得。
  4. 如申請專利範圍第3項之光學用聚合物，其中該鏈轉移劑為一α-烯烴。
  5. 如申請專利範圍第4項之光學用聚合物，其中，該α-烯烴具有碳數14~40。
  6. 如申請專利範圍第5項之光學用聚合物，其中，該降冰片烯系聚合物係經過在至少包含一聚合觸媒之溶媒中依序地添加包含該降冰片烯單體之聚合性單體以及該鏈轉移劑之步驟而得到。
  7. 一種光學元件，係將申請專利範圍第1或2項所記載之光學用聚合物成形而成。
  8. 如申請專利範圍第7項之光學元件，其中該光學元件係射 出成形品。
  9. 如申請專利範圍第8項之光學元件，其中，該光學元件係一光學透鏡。
  10. 如申請專利範圍第9項之光學元件，其中該光學透鏡的最薄部之厚度為0.5mm以下。
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