TWI558932B - Attenuating device - Google Patents

Description

衰減裝置

本發明，是關於配置在振動能量會傳達的二個結構體之間，可使從成為振動源之一方的結構體往另一方的結構體傳達的振動能量衰減的衰減裝置。

此種衰減裝置，已之有日本特開平10-184757號公報所揭示的衰減裝置。該衰減裝置是一種要斜交叉設置在建築構造物之柱間的裝置，該衰減裝置是由：結合在一方之結構體的桿構件，和，設置成可覆蓋著該桿構件的同時固定在另一方之結構體的殼構件所構成。於上述桿構件的外圍面形成有螺旋狀的螺紋溝槽，於該螺紋溝槽螺合著可對上述殼構件成旋轉自如的螺帽構件。此外，於該螺帽構件固定著要殺價在上述殼構件內的圓筒狀滾筒，該滾筒的外圍面是與上述殼構件的內圍面成相向形成有黏性流體的收容室。

如上述構成的衰減裝置，當作用在二個結構體之間的振動造成上述桿構件針對螺帽構件朝軸方向進退時，該螺帽構件會將上述桿構件的軸方向運動轉換成旋轉運動，隨著該螺帽構件的旋轉運動，固定在該螺帽構件的滾筒也會旋轉。此時，由於上述滾筒的外圍面和殼構件的內圍面之間隙是形成為黏性流體的收容室，因此當該滾筒旋轉時，對應滾筒之旋轉角度的磨擦剪力會作用在收容室內的黏性流體，使該黏性流體發熱。即，該衰減裝置是使結構體間的振動能量轉換成旋轉能量，又使該旋轉能量轉換成熱能量，其結果就能夠使結構體間傳達的振動能量衰減。

[先行技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開平10-184757號公報

此種衰減裝置所產生的衰減力，是和接觸黏性流體之滾筒的表面積成比例，因此若想要提昇衰減力則必須要將上述滾筒之軸方向的長度設定成較長。基於此，衰減裝置的全長就會在與桿的全長或行程量毫無關係的狀況下形成為較長，相對地就會有衰減裝置大型化的課題。

本發明是有鑑於上述問題點而為的發明，其目的是提供一種能夠實現小型化的同時，能夠有效執行二個結構體間傳播之振動能量衰減的衰減裝置。

為了達成上述目的，本發明的衰減裝置，具備：固定在第一結構體，並形成為筒狀具有中空部的固定筒；固定在第二結構體，另一方面收容在上述固定筒之中空部內，並在外圍面形成有螺旋狀螺紋溝槽的軸構件；螺合於該軸構件，並可將該軸構件的軸方向運動轉換成旋轉運動的螺帽構件；相對於固定筒配置在半徑方向的外側，並形成為圓筒狀可覆蓋著該固定筒，在其與上述固定筒的外圍面之間形成有圓筒狀收容室，比上述收容室還位於半徑方向的外側，由上述螺帽構件賦予旋轉的滾筒構件；及密封在上述收容室內的黏性流體。

如上述構成之本發明的衰減裝置中，與上述螺帽構件一起旋轉的滾筒構件是形成為圓筒狀可覆蓋著固定筒，比黏性流體的收容室還位於半徑方向的外側。因此，本發明的衰減裝置與滾統配置在比黏性流體的收容室還位於半徑方向之內側的先前衰減裝置相比，當衰減裝置的外徑為相同，則本發明的衰減裝置是能夠將滾筒構件的慣性矩設定成較大。此外，配置成覆蓋著上述固定筒的滾筒構件因其壁厚能夠自由設定，所以藉由質量的增加也可使慣性矩更為增加。

因此，上述滾筒構件就能夠發揮有如慣性輪的功能，能夠作用達到妨礙結構體振動造成的上述螺帽構件之旋轉運動的加速暨減速，將結構體的振動能量轉換成本身旋轉運動的能量加以吸收。如此一來，就能夠抑制振動的振幅，能夠抑制對結構體作用的振動。

此外，上述黏性流體是直接對結構體振動造成之滾筒構件的旋轉產生作用，除了能夠使結構體的振動能量衰減以外，也能夠使有如慣性輪的功能的上述滾筒構件的運動 能量衰減。

即，本發明是將上述滾筒構件之慣性矩所產生之振動的制震作用，和，黏性流體所產生之振動的衰減作用加以組合，藉此就能夠更進一步有效率執行振動能量的衰減。

[發明之最佳實施形態]

以下，是根據附圖對本發明衰減裝置進行詳細說明。

第1圖為表示應用發明之衰減裝置的第一實施形態半剖面圖。該衰減裝置1，具備：具有中空部的同時形成為筒狀在一端具有開口部的固定筒2；配置成從該固定筒2的開口部***在該固定筒2的中空部做為軸構件的螺軸3；隔著多數滾珠5螺合於上述螺軸3的螺帽構件4；及結合在該螺帽構件4的同時旋轉自如支撐在上述固定筒2的滾筒構件6。該衰減裝置，例如是利用在建築物和建築物的基礎之間所傳播之振動的衰減，上述固定筒2是透過連接桿20固定在為第1結構體的建築物，另一方面，上述螺軸3是其一端固定在為第二結構體的基礎。

上述固定筒2，是由：與上述滾筒構件6相輔形成黏性流體收容室的固定套筒21，和，形成為圓筒狀的同時固定在上述固定套筒21軸方向之一端固定成同一軸心上的軸承托座22所構成。上述連接桿20是於上述軸承托座22相反側的端部結合在固定套筒21。

上述滾筒構件6是由嵌合在上述軸承托座22外圍面的旋轉軸承44及配置在與上述軸承托座相反側之固定套筒21一端的旋轉軸承61支承成可對上述固定筒2成旋轉自如。上述旋轉軸承61是使用斜置滾輪軸承的另一方面，接近螺帽構件4的上述旋轉軸承44是使用能夠負荷比上述斜置滾輪軸承還大之荷重的複列滾輪軸承，構成為能夠充分支承從上述螺帽構件4作用在滾筒構件6的徑向載重及軸向載重。

另一方面，於上述滾筒構件6的端部是以鄰接著上述旋轉軸承44的狀態固定有上述螺帽構件4。第2圖，是表示該螺帽構件4和上述螺軸3的組合一例立體圖。於上述螺軸3的外圍面是形成有螺旋狀的滾珠滾動溝槽31，上述螺帽構件4是隔著滾動在該滾珠滾動溝槽31的多數滾珠5螺合於上述螺軸3。上述螺帽構件4是形成為大致圓筒狀具有上述螺軸3所要貫通的貫通孔，於該貫通孔的內圍面形成有與螺軸3的滾珠滾動溝槽31成相向的螺旋狀滾珠滾動溝槽。此外，該螺帽構件4具有滾珠5的無限循環道，藉由滾珠5的無限循環使螺帽構件4能夠在螺軸3的周圍運動成螺旋狀。即，該等螺軸3和螺帽構件4是構成為滾珠螺桿裝置。此外，於上述螺帽構件4的外圍面形成有凸緣部41a的同時，於該凸緣部41a設有固定用螺栓所要插通的螺栓孔41b，螺帽構件4是由固定用螺栓鎖緊成為結合在上述滾筒構件6。

如上述，螺帽構件4是螺合在螺軸3，再加上螺軸3的端部是固定在所謂基礎或建築物的結構體，因此該結構體振動造成螺軸3朝軸方向運動時，該平移運動會轉換成螺帽構件4的旋轉運動，使結合在螺帽構件4的滾筒構件6旋轉在固定筒2的周圍。

另一方面，上述滾筒構件6是形成為圓筒狀，其內圍面和上述固定套筒21的外圍面形成為相向，因此該等之間就形成為黏性流體7的收容室8。於該收容室8是填充有矽油等黏性流體7。此外，於該收容室8的軸方向兩端嵌有環狀的密封構件81，藉此防止被封入在收容室8的黏性流體7從固定套筒21和滾筒構件6之間隙流漏。

如上述構成之本實施形態的衰減裝置1，當上述固定筒2和螺軸3之間振動沿著該螺軸3的軸方向作用時，該振動能量會使上述螺軸3朝軸方向重複進退，該重複進退會造成螺合在上述螺軸3的螺帽構件4重複反轉的同時旋轉在該螺軸3的周圍。

此時，當滾筒構件6旋轉在上述固定筒2的周圍時，磨擦剪力會作用在被封入在上述收容室8內的黏性流體7，上述滾筒構件6的旋轉能量會轉換成黏性流體7的熱能量消耗。其結果，就能夠使傳播在第一結構體和第二結構體之間的振動能量衰減。

另外，由於上述滾筒構件6並非配置在固定筒的內側而是配置在固定筒的外側，所以當衰減裝置的外徑為相同，則本實施形態的衰減裝置和上述滾筒構件配置在固定筒的內側之先前的裝置相比，是能夠將該滾筒構件的慣性矩設定成較大。再加上，配置成覆蓋著上述固定筒2的滾筒構件6因其壁厚能夠自由設定，所以藉由質量的增加也可使慣性矩更為增加。

第3圖為表示可使上述滾筒構件6之慣性矩大小自由增減的該滾筒構件6構造一例，圖示著從軸方向看該滾筒構件6時的狀態。該構造是針對形成為圓筒狀之滾筒構件6的外圍面，形成為能夠以螺栓6b將要做為朝該滾筒構件6軸方向延伸之追加質量的棒狀構件6a固定在該滾筒構件6的外圍面。上述棒狀構件6a是構成為能夠固定在滾筒構件6之外圍面經軸方向等分後的複數個位置上，藉由將同一質量之複數支的棒狀構件6a均等固定在滾筒構件6的外圍面，就可構成為能夠維持滾筒構件6順暢旋轉的同時增大其慣性矩。此外，藉由任意改變上述棒狀構件6a的質量，就能夠任意設定上述滾筒構件6之慣性矩的大小。

因此，上述滾筒構件6就能夠發揮有如慣性輪的功能，將結構體的振動能量的一部份轉換成本身旋轉運動的能量同時能夠經常作用達到妨礙上述螺軸3其朝軸方向的加速暨減速。如此一來，就能夠抑制振動的振幅，能夠抑制對第一結構體之第二結構體的振動。此外，被封入在上述收容室8的黏性流體7，也有助於做為慣性輪之上述滾筒構件6所保存之旋轉運動能量的衰減。

即，根據該第一實施形態的衰減裝置時，是將封入在收容室的黏性流體所造成的衰減作用，和，滾筒構件所具有之慣性矩造成的制震作用加以組合，藉此就能夠更進一步有效率執行振動能量的衰減。因此，根據本發明之衰減裝置時，其與只依賴黏性流體造成衰減作用之先前的衰減裝置相比，是能夠抑制滾筒構件的軸方向長度能夠使裝置整體達到小型化，又，只要與習知衰減裝置相同程度的大小，即可獲得衰減能力的提升。

其次，是針對本發明衰減裝置的第二實施形態進行說明。

第4圖為表示應用本發明之衰減裝置的第二實施形態。上述第一實施形態中是將與固定筒2相輔形成為黏性流體7之收容室8的滾筒構件6其本身構成為具有如慣性輪的功能，但該第二實施形態中是另外設有慣性輪有別於滾筒構件6，構成為可將隨著螺軸其朝軸方向的平移運動所產生之螺帽構件的旋轉運動傳達至該等慣性輪和滾筒構件雙方。

該第二實施形態的衰減裝置，是由：形成為圓筒狀具有中空部的固定筒23，和，***在該固定筒23之中空部的螺軸30，和，隔著多數滾珠螺合於螺軸30的螺帽構件40，和，旋轉自如支承在上述固定筒23的同時結何有上述螺帽構件40的圓筒狀軸承殼50，和，旋轉自如支承在該軸承殼50的慣性輪60，和，在上述軸承殼50與上述慣性輪60之間傳達力矩的同時可限制傳達力矩之上限的傳達限制手段70，及，旋轉自如支承在上述固定筒23的同時結合在上述慣性輪60的滾筒構件80所構成。

於上述固定筒23的一端結合有連接桿24使上述中空部堵塞著。例如：上述固定筒23是透過該連接桿24固定在做為第一結構體的建築物，另一方面上述螺軸30其一端是固定在做為第二結構體的基礎。

***有上述螺軸30之軸端的固定筒23其端部是具有軸承托座的功能，於該部位的外圍面嵌合有一對複列滾輪軸承25的內輪。此外，該等複列滾輪軸承25的外輪嵌合在上述軸承殼50的內圍面，該軸承殼50是透過一對複列滾輪軸承25支承在上述固定筒23。於該軸承殼50軸方向的一端固定有上述螺帽構件40，構成為當該螺帽構件40旋轉時，軸承殼50和螺帽構件40會同時旋轉在固定筒23的周圍。

上述螺軸30及螺帽構件40，是可直接利用上述第一實施形態所說明之第2圖所示螺軸3及螺帽構件4。螺軸30的軸端是與第一實施例相同固定在做第二結構體的基礎，因此當該螺軸30朝軸方向平移運動時，根據該平移運動螺帽構件40會旋轉在螺軸30的周圍，該旋轉會傳達至上述軸承殼50。

於上述軸承殼50的外側設有圓筒狀的慣性輪60。該慣性輪60是透過球軸承62支承在上述軸承殼50，構成為能夠自由旋轉在該軸承殼50。此外，基於上述軸承殼50能夠自由旋轉在固定筒23，所以上述慣性輪60也能夠自由旋轉在固定筒23。

在上述軸承殼50和慣性輪60之間設有上述的傳達限制手段70，構成為當軸承殼50旋轉時慣性輪60隨著該旋轉也會一起旋轉。第5圖是圖示著上述傳達限制手段70的細部構成。該傳達限制手段70，是由：以繞著周方向一圈的狀態黏接固定在上述軸承殼50之外圍面的圓環狀限制皮帶71，和，要***在上述慣性輪60上形成之調整孔63的同時滑接於上述限制皮帶71的推壓墊72，和，對上述調整孔63從慣性輪60的外圍面側螺合的調整用螺栓73，及，配置在上述推壓墊72和調查螺絲73之間的墊彈推構件74所構成。

上述調整孔63是沿著慣性輪60周方向設置複數個，針對該等調整孔63配置有上述推壓墊72。因此，對於上述限制皮帶71是接觸有複數的推壓墊72。此外，雖然是將複數片的盤簧重疊做為上述墊彈推構件74***在上述調整孔63，但若隨著上述調整用螺栓73的鎖緊能夠彈推上述推壓墊72時，則上述墊彈推構件74也可以是例如螺旋彈簧或橡膠片等其他的彈性構件。

於上述構成的傳達限制手段70中當上述調整用螺栓73鎖緊時，上述墊彈推構件74會根據其鎖緊量的程度壓縮，再者上述推壓墊72會由壓縮的墊彈推構件74彈推往慣性輪60的半徑方向內側，使該推壓墊72壓接在被固定在軸承殼50的限制皮帶71。因此作用在上述推壓墊72和限制皮帶71之間的磨擦力會經由上述調整用螺栓73的鎖緊量調整，當調整用螺栓73的鎖緊量增加時該磨擦力就會增大，在軸承殼50和慣性輪60之間就能夠傳達較大的力矩。相反地，當上述調整用螺栓73的鎖緊量減少時作用在上述推壓墊72和限制皮帶71之間的磨擦力就會減少，在軸承殼50和慣性輪60之間能夠傳達的力矩就會減少。

即，藉由對調整用螺栓73的鎖緊量進調整，是可任意調整軸承殼50和慣性輪60之間能夠傳達的力矩大小。假設，作用在軸承殼50或慣性輪60的力矩若超過能夠傳達之力矩時，上述推壓墊72就會滑動在限制皮帶71上，只有與作用在上述推壓墊72和限制皮帶71之間的磨擦力平衡的力矩從慣性輪60傳達至軸承殼50，或者是從軸承殼50傳達至慣性輪60。

另一方面，於上述固定筒23的周圍，設有與上述軸承托座50鄰接在軸方向的上述滾筒構件80。該滾筒構件80是透過旋轉軸承82支承在固定筒23的外圍面，同時結合在上述慣性輪60，構成為連動於慣性輪60旋轉在上述固定筒23的周圍。與上述第一實施形態相同，上述滾筒構件80的內圍面是和固定筒23的外圍面成相向形成為黏性流體的收容室，當滾筒構件80旋轉時，磨擦剪力會作用在收容室內所填充的黏性流體，使滾筒構件80旋轉運動的能量，進而使慣性輪60旋轉運動的能量衰減。

如以上構成之第二實施形態的衰減裝置，當作用在第一結構體和第二結構體之間的振動造成上述螺軸30朝軸方向進退時，螺合於該螺軸30的螺帽構件40會旋轉在該螺軸30的周圍，該旋轉會傳達至軸承殼50。若上述傳達限制手段70之調整用螺絲73的鎖緊量相當大，使推壓墊72對限制皮帶71形成不滑動時，則上述螺帽構件40的旋轉就會透過軸承殼50傳達至慣性輪60，該旋轉又傳達至滾筒構件80。

因此，與上述第一實施形態相同，上述滾筒構件80的旋轉會造成磨擦剪力作用在被封入在上述收容室內的黏性流體，上述滾筒構件80旋轉運動的能量會轉換成黏性流體的熱能量消耗。其結果，就能夠使傳播在第一結構體和第二結構體之間傳播的振動能量衰減。

此外，該第二實施形態中是有別於上述滾筒構件80，另外在該滾筒構件80的半徑方向外側設有慣性輪60，因此就能夠任意設定該慣性輪60之慣性矩的大小。當上述螺軸30朝軸方向往復運動時，上述慣性輪60是重複著邊執行加速暨減速的同時邊反轉，使結構體的振動能量一部份轉換成本身旋轉運動之能量的同時，經常作用達到妨礙上述螺軸3其朝軸方向的加速暨減速。如此一來，就能夠抑制對第一結構體之第二結構體的振動。另外，上述慣性輪60和上述滾筒構件80是結合成直列，因此該慣性輪60所蓄積之旋轉運動的能量會經由上述黏性流體的作用達到衰減。

即，於該第二實施形態的衰減裝置中，也是雙重發揮黏性流體所造成的衰減作用，和，慣性輪60所具有之慣性矩造成的制震作用，因此能夠有效執行振動能量的衰減。再加上，只要任意設計慣性輪60的大小及質量，就能夠任意設定衰減能力。

於此，慣性輪60是保存有其本身旋轉造成的角動量，因此例如當上述螺帽構件40及軸承殼50超過反轉運動的中心想要減速時，從慣性輪60對軸承殼50及螺帽構件40就會作用有對應該慣性輪60之角動量形成的力矩。為了讓更多的振動能量轉換成慣性輪60旋轉運動的能量，將該慣性輪60的慣性矩設定成較大是較有效，但慣性矩變大時，慣性輪60所保存的角動量也會變大。因此於軸承殼50及螺帽構件40的減速時從慣性輪60會有大的力矩作用在該等軸承殼50及螺帽構件40。

另一方面，螺帽構件40的旋轉運動是受到螺軸30其朝軸方向之往復運動的拘束，因此在該螺帽構件40連動於螺軸30的運動想要減速時，若從慣性輪60對螺帽構件40作用有使螺帽構件40依舊旋轉之大力矩時，則排列在螺帽構件40和螺軸30之間的多數滾珠就會受到過度壓縮，恐怕會破壞螺軸30、螺帽構件40及慣性輪60的連繫。

上述傳達限制手段70，是於上述狀況下容許推壓墊72對限制皮帶71形成滑動，作用成使軸承殼50及螺帽構件40的旋轉脫離慣性輪60的旋轉。即，從螺帽構件40其與軸方向容許載重的關係，發現螺帽構件40能夠負荷的最大力矩，而上述傳達限制手段70之調整用螺絲73的鎖緊量，就是根據該最大力矩來做決定，當該最大力矩以上的力矩從慣性輪60作用在軸承殼50時，上述傳達限制手段70就會使軸承殼50的旋轉脫離慣性輪60的旋轉。只要如上述決定調整用螺絲73的鎖緊量，則在螺帽構件40的旋轉減速時即使慣性輪60對軸承殼50及螺帽構件40作用有要該等持續旋轉的力矩，但該力矩若超過螺帽構件40能夠負荷的最大力矩時，慣性輪60及與其連繫成直列的滾筒構件80就會與減速的軸承殼50毫無關係持續旋轉，因此就能夠防止過大的力矩作用在螺帽構件40。

此外，本實施形態的衰減裝置100是將上述滾筒構件80結合於上述慣性輪60，而不是結合於螺帽構件40的軸承殼50，並由結合於上述慣性輪60的點，在上述慣性輪60的旋轉如上述一旦脫離螺帽構件40的旋轉時，上述滾筒構件80是與螺帽構件40的旋轉無關地和慣性輪60一起旋轉。因此，當該慣性輪60的旋轉如上述脫離螺帽構件40的旋轉時，上述之黏性流體的衰減作用就不是作用在螺帽構件40的旋轉，而是作用在慣性輪60的旋轉，因此就能夠使該慣性輪60的角動量衰減。

假設，當將上述滾筒構件80假定成不是結合於慣性輪60，而是結合於軸承殼50及螺帽構件40時，慣性輪60的旋轉脫離螺帽構件40的旋轉之後，就沒有積極性的手段可使慣性輪60的角動量衰減，該慣性輪60就會在保存有角動量的狀態下持續旋轉。於該狀況時慣性輪60要再度結合於螺帽構件40是需要長時間，因此直到再度結合為止的期間必須只靠黏性流體的衰減作用使作用在螺軸30的振動摔減。但是，如此一來就失去設有大慣性矩之慣性輪60的意義。

相對於此，若是構成為上述滾筒構件80經常和慣性輪60一起旋轉時，當慣性輪60的旋轉脫離螺帽構件40的旋轉時，黏性流體會作用成使慣性輪60的角動量衰減，因此上述傳達限制手段70之限制皮帶71和推壓墊72之間的滑動就會早期結束，使慣性輪60和軸承殼50再度一起旋轉。其結果，上述慣性輪60及黏性流體就可再度有助於衰減螺帽構件40的旋轉運動，進而衰減第一結構體和第二結構體之間傳播的振動能量。

即，該第二實施形態的衰減裝置100，是將上述慣性輪60的慣性矩設定成較大有效果地執行振動能量的衰減，同時當從慣性矩大的慣性輪60對螺帽構件40作用有過大的力矩時就將上述慣性輪60從螺帽構件40分離，藉此就能夠防止衰減裝置100的破損。

此外，為了防止衰減裝置100的破損，即使將慣性輪60從螺帽構件40分離，但即刻就能夠使慣性輪60所保有的角動量降低，早期使慣性輪60和螺帽構件40再度結合，因此就能夠對螺軸30其朝軸方向的振動有效果地作用有慣性輪60及黏性流體的衰減作用。

1．．．衰減裝置

2．．．固定筒

21．．．固定套筒

22．．．軸承托座

20．．．連接桿

3．．．螺軸

31．．．滾珠滾動溝槽

4．．．螺帽構件

41a．．．凸緣部

41b．．．螺栓孔

44．．．旋轉軸承

5．．．滾珠

6．．．滾筒構件

6a．．．棒狀構件

6b．．．螺栓

61．．．旋轉軸承

7．．．黏性流體

8．．．收容室

81．．．密封構件

100‧‧‧衰減裝置

23‧‧‧固定筒

24‧‧‧連接桿

25‧‧‧複列滾輪軸承

30‧‧‧螺軸

40‧‧‧螺帽構件

50‧‧‧軸承殼

60‧‧‧慣性輪

62‧‧‧球軸承

63‧‧‧調整孔

70‧‧‧傳達限制手段

71‧‧‧限制皮帶

72‧‧‧推壓墊

73‧‧‧調整用螺栓(調整用螺絲)

74‧‧‧墊彈推構件

80‧‧‧滾筒構件

82‧‧‧旋轉軸承

第1圖為表示本發明衰減裝置第一實施形態正面半剖面圖。

第2圖為表示螺軸和螺帽構件的組合一例立體圖。

第3圖為表示滾筒構件之慣性矩調整用的構造側面圖。

第4圖為表示本發明衰減裝置第二實施形態正面半剖面圖。

第5圖為表示第4圖所示衰減裝置所具備之傳達限制手段其構成的放大圖。

1．．．衰減裝置

2．．．固定筒

3．．．螺軸

4．．．螺帽構件

6．．．滾筒構件

7．．．黏性流體

8．．．收容室

20．．．連接桿

21．．．固定套筒

22．．．軸承托座

41a．．．凸緣部

44．．．旋轉軸承

61．．．旋轉軸承

81．．．密封構件

Claims (4)

1. 一種衰減裝置，其特徵為，具備：固定在第一結構體，並形成為筒狀具有中空部的固定筒(2)；固定在第二結構體，另一方面收容在上述固定筒(2)之中空部內，並在外圍面形成有螺旋狀螺紋溝槽的軸構件(3)；螺合於該軸構件，並可將該軸構件的軸方向運動轉換成旋轉運動的螺帽構件(4)；相對於固定筒(2)配置在半徑方向的外側，並形成為圓筒狀可覆蓋著該固定筒(2)，在與上述固定筒的外圍面之間形成有圓筒狀收容室(8)，比上述收容室(8)還位於半徑方向的外側，由上述螺帽構件(4)賦予旋轉的滾筒構件(6)；及密封在上述收容室內(8)的黏性流體(7)。
2. 如申請專利範圍第1項所記載的衰減裝置，其中，於上述螺帽構件(4)及滾筒構件(6)的半徑方向外側配置有圓筒狀的慣性輪(60)，該慣性輪(60)是和上述螺帽構件(4)結合。
3. 如申請專利範圍第2項所記載的衰減裝置，其中，上述慣性輪(60)是透過對該慣性輪和上述螺帽構件之間的能夠傳達力矩的上限值加以限制的傳達限制手段(70)結合在上述螺帽構件。
4. 如申請專利範圍第3項所記載的衰減裝置，其中， 上述螺帽構件(4)的旋轉是透過上述傳達限制手段(70)及上述慣性輪(60)傳達至上述滾筒構件(6)。