CN102566334A - 光阻剥离液的供应***及其供应方法 - Google Patents
光阻剥离液的供应***及其供应方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102566334A CN102566334A CN2012100686159A CN201210068615A CN102566334A CN 102566334 A CN102566334 A CN 102566334A CN 2012100686159 A CN2012100686159 A CN 2012100686159A CN 201210068615 A CN201210068615 A CN 201210068615A CN 102566334 A CN102566334 A CN 102566334A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- photoresistance
- accumulator tank
- treatment facility
- stripper
- pipeline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title abstract description 14
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
本发明公开了一种光阻剥离液的供应***及其供应方法，该光阻剥离液的供应***包括第一储存槽，用以储存并供应第一光阻剥离废液；处理设备，用以接收并处理来自第一储存槽的第一光阻剥离废液，并分别输出光阻剥离液与第二光阻剥离废液；第二储存槽，用以储存并输出来自处理设备的光阻剥离液；及第三储存槽，用以储存来自处理设备的第二光阻剥离废液。供应***处于第一运转阶段时，处理设备输出第二光阻剥离废液至第一储存槽，并停止输出第二光阻剥离废液至第三储存槽；供应***处于第二运转阶段时，处理设备输出第二光阻剥离废液至第三储存槽，并停止输出第二光阻剥离废液至第一储存槽。
Description
技术领域
本发明涉及一种液体供应***及其供应方法，且特别涉及一种光阻剥离液的供应***及其供应方法。
背景技术
近年来，由于液晶显示器具有重量轻、体积小与低耗电等优点，因此液晶显示器被广泛地使用在各种电子产品(例如：电视、手机、笔记本电脑或卫星导航装置等)上。
液晶显示器的工艺主要可区分为薄膜晶体管阵列(TFT Array)工艺、彩色滤光(color filter)工艺、液晶面板组装(LC Cell Assembly)与液晶面板模块组装(module Assembly)，其中在薄膜晶体管阵列的工艺中，于基板上使用光阻剂并经过曝光与显影等过程，以在基板上形成所需的电路图案，而未反应的光阻剂则在蚀刻阶段使用光阻剥离液(Stripper)去除。
但是由于光阻剥离液的使用量大且单价高，因此，为节省化学药品用量及达到环保减废的目的，目前可利用光阻剥离液回收设备(Stripper RecycleSystem，SRS)依据物质沸点不同的原理，利用加热的蒸馏方法将光阻剥离废液中的水分与光阻去除，以得到纯净的光阻剥离液并再度供应到蚀刻机台使用。
然而，上述的光阻剥离液回收设备的回收效率仍有可改善的空间。举例来说，请参照图1，图1为目前光阻剥离液回收设备的回收效率与时间关系的示意图，其中光阻剥离液回收设备的运转阶段可分为冷启动、稳定运转与关机。所述的冷启动阶段例如是光阻剥离液回收设备于常温常压下刚开机的阶段。所述的稳定运转阶段例如是光阻剥离液回收设备于高温负压下稳定产出光阻剥离液。所述的关机阶段例如是当光阻剥离液回收设备的进料储槽液位已到达低点。
如图1所示，可发现光阻剥离液回收设备在时间点t1之前的回收效率较差，也就是说，光阻剥离液回收设备在冷启动阶段的回收效率较差，此原因可能是由于温度尚未达到物质沸点，故有相当大比例仍可使用的光阻剥离液随着废液排出，而造成光阻剥离液回收效率下降与浪费的问题。
发明内容
本发明提出一种光阻剥离液供应***及其供应方法，通过管路的配置与控制阀的调配，以适应不同的运转阶段，并提升光阻剥离液的回收效率。
本发明的实施例的光阻剥离液的供应***，包括第一储存槽、处理设备、第二储存槽与第三储存槽。第一储存槽用以储存并供应第一光阻剥离废液。处理设备与第一储存槽连接，而所述的处理设备用以接收并处理第一光阻剥离废液，以分别输出光阻剥离液与第二光阻剥离废液。第二储存槽与处理设备连接，而所述的第二储存槽用以储存并输出来自处理设备的光阻剥离液。第三储存槽与处理设备连接，而所述的第三储存槽用以储存来自处理设备的第二光阻剥离废液，其中于第一运转阶段时，处理设备输出第二光阻剥离废液至第一储存槽，并停止输出第二光阻剥离废液至第三储存槽。于第二运转阶段时，处理设备输出第二光阻剥离废液至第三储存槽，并停止输出第二光阻剥离废液至第一储存槽。
另外，本发明的光阻剥离液的供应方法，包括下列步骤：首先，提供光阻剥离液的供应***，包括第一储存槽、处理设备、第二储存槽与第三储存槽。所述的第一储存槽用以储存并供应第一光阻剥离废液，所述的处理设备用以接收并处理第一光阻剥离废液，并输出光阻剥离液与第二光阻剥离废液，所述的第二储存槽用以储存处理设备输出的光阻剥离液，所述的第三储存槽用以储存处理设备输出的第二光阻剥离废液；接着，于第一运转阶段时，处理设备输出第二光阻剥离废液至第一储存槽，并停止输出第二光阻剥离废液至第三储存槽；及于第二运转阶段时，处理设备输出第二光阻剥离废液至第三储存槽，并停止输出第二光阻剥离废液至第一储存槽。
综上所述，本发明的光阻剥离液供应***及其供应方法，通过管路的配置与控制阀的调配，以使光阻剥离液供应***的处理设备在第一运转阶段时可重复地对第一光阻剥离废液进行循环处理，以使光阻剥离液供应***可从第一光阻剥离废液中回收取得较高比例的光阻剥离液，进而提升光阻剥离液供应***的回收效率。
为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合附图，作详细说明如下。
附图说明
图1示出为公知技术的光阻剥离液回收设备的回收效率与时间关系的示意图。
图2A示出为本发明的第一实施例的光阻剥离液供应***于第一运转阶段的示意图。
图2B示出为本发明的第一实施例的光阻剥离液供应***于第二运转阶段的示意图。
图3A示出为本发明的第二实施例的光阻剥离液供应***于第一运转阶段的示意图。
图3B示出为本发明的第二实施例的光阻剥离液供应***于第二运转阶段的示意图。
图4A示出为本发明的第三实施例的光阻剥离液供应***于第一运转阶段的示意图。
图4B示出为本发明的第三实施例的光阻剥离液供应***于第二运转阶段的示意图。
图5示出为本发明的实施例的光阻剥离液供应方法的步骤流程图。
图6示出为本发明的实施例的光阻剥离液回收设备的回收效率与时间关系的示意图。
其中，附图标记说明如下：
10 第一储存槽
12 第一光阻剥离废液
120 第一管路
122 第二管路
124 第三管路
126 第四管路
128 第五管路
20 处理设备
22 光阻剥离液
24 第二光阻剥离废液
200 光阻剥离液供应***
30 第二储存槽
300 光阻剥离液供应***
40 第三储存槽
400 光阻剥离液供应***
50 第一控制阀
52 第二控制阀
t1 时间点
t2 时间点
V1 控制阀
V2 控制阀
V3 控制阀
V4 控制阀
S501～S505 步骤流程说明
具体实施方式
请参照图2A，图2A为本发明的第一实施例的光阻剥离液供应***于第一运转阶段的示意图。如图2A所示，本发明的第一实施例的光阻剥离液供应***200包括有第一储存槽10、处理设备20、第二储存槽30与第三储存槽40。其中，处理设备20分别与第一储存槽10、第二储存槽30以及第三储存槽40相连接。
第一储存槽10用以储存第一光阻剥离废液12，并且供应第一光阻剥离废液12至处理设备20。处理设备20接收来自第一储存槽10的第一光阻剥离废液12，并对第一光阻剥离废液12进行处理而产出光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24，第二储存槽30以及第三储存槽40则分别接收并且储存光阻剥离液22及第二光阻剥离废液24。
第一储存槽10中可设置低液位传感器(图中未示)，并于第一储存槽10的第一光阻剥离废液12的储存液位低于或等于低液位传感器的设置位置时，发出警告讯息提醒操作人员，或者发出控制信号停止处理设备20。同样地，第二储存槽30中可设置高/低液位传感器(图中未示)，并于第二储存槽30的光阻剥离液22的储存液位低于或等于低液位传感器的设置位置时，发出警告讯息提醒操作人员，或者由另一管路(图中未示)接收/补充新的光阻剥离液；于第二储存槽30的光阻剥离液22的储存液位高于或等于高液位传感器(图中未示)的设置位置时，发出警告讯息提醒操作人员，或者发出控制信号停止处理设备20，以避免光阻剥离液供应***200发生当机的问题。
处理设备20分别通过第一管路120、部分的第三管路124及第五管路128、或部分的第二管路122及第四管路126与第一储存槽10连接。另外，处理设备20还通过第二管路122与第二储存槽30连接，以及，通过第三管路124与第三储存槽40连接。处理设备20通过第一管路120接收来自第一储存槽10的第一光阻剥离废液12，并对第一光阻剥离废液12进行处理。举例来说，处理设备20可通过加热第一光阻剥离废液12的方式，蒸馏取得光阻剥离液22，进而将光阻剥离液22从第一光阻剥离废液12中分离出来，而光阻剥离废液12去除了光阻剥离液22的其余部分则为第二光阻剥离废液24。具体地，处理设备20还可包括去光阻部(图中未示)、去水分部(图中未示)及精馏部(图中未示)等基本设备，以得到更为纯化的光阻剥离液22。光阻剥离液22可通过部分的第二管路122及第四管路126输送至第一储存槽10，或者，通过第二管路122输送至第二储存槽30；第二光阻剥离废液24则可通过部分的第三管路124与第五管路128输送至第一储存槽10，或者，通过第三管路124输送至第三储存槽40，而第二光阻剥离废液24包含有残留的光阻剥离液及光阻、水分等不纯物。
更进一步说，第二储存槽30通过第二管路122与处理设备20连接，第四管路126连接第一储存槽10与第二管路122，而第一控制阀50设置于第二管路122与第四管路126的相连接处。第一控制阀50例如是手动或自动的三通阀。第一控制阀50可连接控制器(图中未示)，并通过控制器控制第一控制阀50的开启、关闭或路径切换。第三储存槽40通过第三管路124与处理设备20连接，第五管路128连接第一储存槽10与第三管路124。第二控制阀52设置于第三管路124与第五管路128的相连接处。第二控制阀52例如是手动或自动的三通阀。第二控制阀52可连接控制器(图中未示)，并通过控制器控制第二控制阀52的开启、关闭或路径切换。
以下大致说明光阻剥离液供应***200在第一运转阶段的运转情形。首先，第一储存槽10中的第一光阻剥离废液12通过第一管路120输送至处理设备20。接着，处理设备20对第一光阻剥离废液12进行不纯物分离处理(例如加热，优选为蒸馏)，以去除第一光阻剥离废液12中的光阻与水分等不纯物后，进而分离出光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24。接着，将第二光阻剥离废液24通过第五管路128输送至第一储存槽10，并依此循环直到进入第二运转阶段。
值得一提的是，由于公知技术中的第一运转阶段的回收效率较差，所以本发明实施例于第一运转阶段时，将第二光阻剥离废液24通过第五管路128输送至第一储存槽10，且在第一运转阶段中，处理设备20停止输送第二光阻剥离废液24至第三储存槽40。经由此种回收循环方式可进一步提升第一运转阶段的回收效率。另外，在本发明的实施例中还可选择性地将光阻剥离液22通过第四管路126输送至第一储存槽10，并停止输送光阻剥离液22至第二储存槽30，以避免第一储存槽10中的第一光阻剥离废液22的组成变化过大。但不限于此，于第一运转阶段中，亦可使处理设备输送光阻剥离液22至第二储存槽30，而不将光阻剥离液22通过第四管路126输送至第一储存槽10。附带一提，上述的各个管路中还可设置流量计(图中未示)，并通过计算机***(图中未示)监控或记录各个管路的流量值、压力值等数据，以进一步远程调整各个控制阀的状态。
请参照图2B，图2B为本发明的第一实施例的光阻剥离液供应***于第二运转阶段的示意图。如图2B所示，于处理设备20中被加热的第一光阻剥离废液12的温度到达一个预定温度时，则光阻剥离液供应***200由第一运转阶段进入第二运转阶段，而所述的预定温度可例如是80℃至100℃，优选约为90℃。换言之，在预定温度到达之前，光阻剥离液供应***200处于第一运转阶段。
以下大致说明光阻剥离液供应***200在第二运转阶段的运转情形。首先，第一储存槽10中的第一光阻剥离废液12通过第一管路120输送至处理设备20。接着，处理设备20对第一光阻剥离废液12进行不纯物分离处理(例如加热，优选为蒸馏)，以去除第一光阻剥离废液12中的光阻与水分等不纯物后，进而分离出光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24。接着，光阻剥离液22通过第二管路122输送至第二储存槽30，而第二光阻剥离废液24通过第三管路124输送至第三储存槽40，并依此循环直到进入关机阶段。
更进一步说，本发明的第一实施例于第二运转阶段时，处理设备20将光阻剥离液22通过第二管路122输送至第二储存槽30，以及将第二光阻剥离废液24通过第三管路124输送至第三储存槽40。另外，在第二运转阶段中，处理设备20停止输送光阻剥离液22至第一储存槽10以及停止输送第二光阻剥离废液24至第一储存槽10。
在本发明的第二实施例中，如图3A所示，光阻剥离液供应***300可取消第一控制阀50以及第二控制阀52的设置，而改为多个控制阀V1～V4，分别设置于第二管路122、第四管路126、第三管路124与第五管路128，以通过这些控制阀V1～V4分别控制处理设备20与第二储存槽30间、处理设备20与第一储存槽10间、处理设备20与第三储存槽40间以及处理设备20与第一储存槽10间的连通与否。举例来说，在第一运转阶段时，控制阀V1与控制阀V3分别为切断状态，以阻止光阻剥离液22输送至第二储存槽30以及阻止第二光阻剥离废液24输送至第三储存槽40，而控制阀V2与控制阀V4分别为导通状态，以使光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24输送至第一储存槽10。如图3B所示，在第二运转阶段时，控制阀V1与控制阀V3分别为导通状态，以使光阻剥离液22输送至第二储存槽30以及使第二光阻剥离废液24输送至第三储存槽40，而控制阀V2与控制阀V4分别为切断状态，以阻止光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24输送至第一储存槽10。
在本发明的第三实施例中，如图4A所示，光阻剥离液供应***400可使第四管路126或第五管路128直接连接处理设备20以及第一储存槽10，使第四管路126无须通过部分的第二管路122连接于处理设备20，或者使第五管路128无须通过部分的第三管路124连接于处理设备20。而多个控制阀V1～V4，分别设置于第二管路122、第四管路126、第三管路124与第五管路128。举例来说，在第一运转阶段时，控制阀V1与控制阀V3分别为切断状态，以阻止光阻剥离液22输送至第二储存槽30以及阻止第二光阻剥离废液24输送至第三储存槽40，而控制阀V2与控制阀V4分别为导通状态，以使光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24输送至第一储存槽10。如图4B所示，在第二运转阶段时，控制阀V1与控制阀V3分别为导通状态，以使光阻剥离液22输送至第二储存槽30以及使第二光阻剥离废液24输送至第三储存槽40，而控制阀V2与控制阀V4分别为切断状态，以阻止光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24输送至第一储存槽10。
接下来，请参照图5，图5为本发明的第一实施例的光阻剥离液供应方法的步骤流程图。为了说明方便，可一并参阅图2A、图2B与图5。首先，在步骤S501中，提供光阻剥离液的供应***200，包括储存并供应第一光阻剥离废液12的第一储存槽10、接收并处理第一光阻剥离废液12以输出光阻剥离液22与第二光阻剥离废液24的处理设备20、储存处理设备20输出的光阻剥离液22的第二储存槽30、以及储存处理设备20输出的第二光阻剥离废液24的第三储存槽40。
如上所述，第一储存槽10通过第一管路120与处理设备20连接。另外，第一储存槽10还通过第四管路126与第二管路122连接，以及通过第五管路128与第三管路124连接。所述的处理设备20通过第二管路122与第二储存槽30连接，而处理设备20还通过第三管路124与第三储存槽40连接。而第一控制阀50设置于第二管路122与第四管路126的连接处，第二控制阀52设置于第三管路124与第五管路128的连接处。
接下来，在步骤S503中，于第一运转阶段时，处理设备20输出第二光阻剥离废液24至第一储存槽10，并停止输出第二光阻剥离废液24至第三储存槽40。另外，于第一运转阶段时，处理设备20还可选择性地输出光阻剥离液22至第一储存槽10，并停止输出光阻剥离液22至第二储存槽30。
然后，在步骤S505中，于第二运转阶段时，处理设备20输出第二光阻剥离废液24至第三储存槽40，并停止输出第二光阻剥离废液24至第一储存槽10。另外，在本发明的实施例的另一个实施方式中，于第二运转阶段时，处理设备20还输出光阻剥离液22至第二储存槽30，并停止输出光阻剥离液22至第一储存槽10。另外，处理设备20可加热处理第一光阻剥离废液12，于处理设备20中被加热的第一光阻剥离废液12的温度到达一个预定温度时，则由第一运转阶段进入第二运转阶段，而所述的预定温度可例如是80℃至100℃，优选约为90℃。
请参照图6，图6为本发明的实施例的光阻剥离液回收设备的回收效率与时间关系的示意图。如图6所示，本发明的实施例在第一运转阶段时，光阻剥离液供应***200在时间点t1之前的回收效率提升至约90％，并且在第二运转阶段时，在时间点t1与时间点t2之间的回收效率也是约90％，而所述的时间点t1依照处理设备的规格类型的差异，例如，约为4小时至6小时，但不限于此。也就是说，光阻剥离液供应***200的处理设备20在处理温度达到稳定时，才供应第二光阻剥离废液24至第三储存槽40，以改善公知技术中过多可回收的光阻剥离液随第二光阻剥离废液24排出至第三储存槽40的问题，进而提升光阻剥离液供应***200的回收效率。
综上所述，本发明的光阻剥离液供应***及其供应方法，通过管路的配置与控制阀的调配，以使光阻剥离液供应***的处理设备在第一运转阶段时可重复地对第一光阻剥离废液进行循环处理，以使光阻剥离液供应***可从第一光阻剥离废液中回收取得较高比例的光阻剥离液，进而提升光阻剥离液供应***的回收效率。
虽然本发明已以优选实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作许多的更动与变更，因此本发明的保护范围当视随附的权利要求书界定的范围为准。
Claims (14)
1.一种光阻剥离液的供应***，包括：
一第一储存槽，用以储存并供应一第一光阻剥离废液；
一处理设备，与该第一储存槽连接，该处理设备接收并处理该第一光阻剥离废液，以分别输出一光阻剥离液与一第二光阻剥离废液；
一第二储存槽，与该处理设备连接，该第二储存槽用以储存并输出来自该处理设备的该光阻剥离液；及
一第三储存槽，与该处理设备连接，该第三储存槽用以储存来自该处理设备的该第二光阻剥离废液；
其中于一第一运转阶段时，该处理设备输出该第二光阻剥离废液至该第一储存槽，并停止输出该第二光阻剥离废液至该第三储存槽；于一第二运转阶段时，该处理设备输出该第二光阻剥离废液至第三储存槽，并停止输出该第二光阻剥离废液至该第一储存槽。
2.如权利要求1所述的光阻剥离液的供应***，其中于该第一运转阶段时，该处理设备还输出该光阻剥离液至该第一储存槽，并停止输出该光阻剥离液至该第二储存槽，于该第二运转阶段时，该处理设备还输出该光阻剥离液至该第二储存槽，并停止输出该光阻剥离液至该第一储存槽。
3.如权利要求1所述的光阻剥离液的供应***，其中该处理设备加热该第一光阻剥离废液，于该处理设备中被加热的该第一光阻剥离废液的温度到达一预定温度时，则由该第一运转阶段进入该第二运转阶段，而该预定温度介于80℃～100℃之间。
4.如权利要求3所述的光阻剥离液的供应***，其中该预定温度约为90℃。
5.如权利要求1所述的光阻剥离液的供应***，包括：
一第一管路，连接该第一储存槽与该处理设备；
一第二管路，连接该处理设备与该第二储存槽；
一第三管路，连接该处理设备与该第三储存槽；
一第四管路，连接该第一储存槽与该处理设备；及
一第五管路，连接该第一储存槽与该处理设备。
6.如权利要求5所述的光阻剥离液的供应***，其中该第四管路还连接于该第二管路，该第五管路还连接于该第三管路，该第四管路通过部分的该第二管路连接于该处理设备，该第五管路通过部分的第三管路连接于该处理设备。
7.如权利要求6所述的光阻剥离液的供应***，还包括一控制阀，设置于该第二管路及该第四管路相连接处，或者，设置于该第三管路及该第五管路相连接处。
8.如权利要求7所述的光阻剥离液的供应***，其中该控制阀为三通阀。
9.如权利要求5所述的光阻剥离液的供应***，还包括一控制阀，设置于该第二管路、第三管路、第四管路或该第五管路。
10.如权利要求7或9所述的光阻剥离液的供应***，还包括一控制器，该控制器连接该控制阀以控制该控制阀的启闭。
11.一种光阻剥离液的供应方法，包括有下列步骤：
提供一光阻剥离液的供应***，包括一第一储存槽，以储存并供应一第一光阻剥离废液；一处理设备，以接收并处理该第一光阻剥离废液，并输出一光阻剥离液与一第二光阻剥离废液；一第二储存槽，以储存该处理设备输出的该光阻剥离液；一第三储存槽，以储存该处理设备输出的该第二光阻剥离废液；
于一第一运转阶段时，该处理设备输出该第二光阻剥离废液至该第一储存槽，并停止输出该第二光阻剥离废液至该第三储存槽；及
于一第二运转阶段时，该处理设备输出该第二光阻剥离废液至该第三储存槽，并停止输出该第二光阻剥离废液至该第一储存槽。
12.如权利要求11所述的光阻剥离液的供应方法，其中于该第一运转阶段时，该处理设备还输出该光阻剥离液至该第一储存槽，并停止输出该光阻剥离液至该第二储存槽，于该第二运转阶段时，该处理设备还输出该光阻剥离液至该第二储存槽，并停止输出该光阻剥离液至该第一储存槽。
13.如权利要求11所述的光阻剥离液的供应方法，其中该处理设备加热该第一光阻剥离废液，于该处理设备中被加热的该第一光阻剥离废液的温度到达一预定温度时，则由该第一运转阶段进入该第二运转阶段，而该预定温度介于80℃～100℃之间。
14.如权利要求13所述的光阻剥离液的供应方法，其中该预定温度约为90℃。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW100148436 | 2011-12-23 | ||
| TW100148436A TWI535494B (zh) | 2011-12-23 | 2011-12-23 | 光阻剝離液的供應系統及其供應方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102566334A true CN102566334A (zh) | 2012-07-11 |
| CN102566334B CN102566334B (zh) | 2014-03-12 |
Family
ID=46412041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201210068615.9A Expired - Fee Related CN102566334B (zh) | 2011-12-23 | 2012-03-14 | 光阻剥离液的供应***及其供应方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102566334B (zh) |
| TW (1) | TWI535494B (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105118770A (zh) * | 2015-08-25 | 2015-12-02 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种剥离液供给*** |
| WO2024000828A1 (zh) * | 2022-06-30 | 2024-01-04 | 福建天甫电子材料有限公司 | 用于光阻剥离液生产的自动配料***及其配料方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1208362A (zh) * | 1996-01-12 | 1999-02-17 | 希巴特殊化学控股公司 | 分离制备印刷电路板时产生的有机工艺溶液的方法 |
| WO1999059693A1 (en) * | 1998-05-19 | 1999-11-25 | Phoenankh Corp. | Apparatus and method for recovering photoresist developers and strippers |
| JP2001194807A (ja) * | 1999-01-29 | 2001-07-19 | Matsushita Environment Airconditioning Eng Co Ltd | 剥離液の再生方法及び装置 |
| JP2007051340A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | Kurita Water Ind Ltd | 硫酸リサイクル型過硫酸供給装置 |
| WO2009031731A1 (en) * | 2007-09-05 | 2009-03-12 | Korex Corporation | Method and apparatus for recycling photoresist stripper waste |
| CN101689480A (zh) * | 2007-07-03 | 2010-03-31 | 东亚合成株式会社 | 采用纳米过滤的抗蚀剂剥离液连续使用*** |
-
2011
- 2011-12-23 TW TW100148436A patent/TWI535494B/zh not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-03-14 CN CN201210068615.9A patent/CN102566334B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1208362A (zh) * | 1996-01-12 | 1999-02-17 | 希巴特殊化学控股公司 | 分离制备印刷电路板时产生的有机工艺溶液的方法 |
| WO1999059693A1 (en) * | 1998-05-19 | 1999-11-25 | Phoenankh Corp. | Apparatus and method for recovering photoresist developers and strippers |
| JP2001194807A (ja) * | 1999-01-29 | 2001-07-19 | Matsushita Environment Airconditioning Eng Co Ltd | 剥離液の再生方法及び装置 |
| JP2007051340A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | Kurita Water Ind Ltd | 硫酸リサイクル型過硫酸供給装置 |
| CN101689480A (zh) * | 2007-07-03 | 2010-03-31 | 东亚合成株式会社 | 采用纳米过滤的抗蚀剂剥离液连续使用*** |
| WO2009031731A1 (en) * | 2007-09-05 | 2009-03-12 | Korex Corporation | Method and apparatus for recycling photoresist stripper waste |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105118770A (zh) * | 2015-08-25 | 2015-12-02 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种剥离液供给*** |
| CN105118770B (zh) * | 2015-08-25 | 2017-12-26 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种剥离液供给*** |
| WO2024000828A1 (zh) * | 2022-06-30 | 2024-01-04 | 福建天甫电子材料有限公司 | 用于光阻剥离液生产的自动配料***及其配料方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102566334B (zh) | 2014-03-12 |
| TW201325738A (zh) | 2013-07-01 |
| TWI535494B (zh) | 2016-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105185330B (zh) | 一种显示装置及驱动方法 | |
| CN102203830B (zh) | 用于备用电源的方法和*** | |
| CN109436804B (zh) | 一种显示面板的搬运方法和搬运*** | |
| US10024325B2 (en) | Pump using multi voltage electronics with run dry and over current protection | |
| CN102339264B (zh) | 一种星载电子***设备即插即用控制方法及*** | |
| CN102566334B (zh) | 光阻剥离液的供应***及其供应方法 | |
| CN104104763A (zh) | 一种移动终端的主板类型的检测装置及检测方法 | |
| CN102902337B (zh) | 电源切换***、计算机***及其重开机控制的方法 | |
| CN101722168A (zh) | 回收废弃面板中液晶的方法及装置 | |
| CN109410824A (zh) | 显示装置驱动***及显示装置驱动方法 | |
| CN102002591A (zh) | 一种从废旧液晶显示屏里提练铟的工艺方法 | |
| CN104045242B (zh) | 玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置 | |
| CN105977186B (zh) | 湿法刻蚀装置及其防爆方法 | |
| CN201601137U (zh) | 太阳能硅片清洗制绒中新型加热控温*** | |
| CN101604195B (zh) | 冷却超级计算机的***及方法 | |
| JP5385924B2 (ja) | 液晶パネルからのガラス、透明電極材料の分離・回収方法 | |
| CN206751472U (zh) | 一种电子工业废水酸回收*** | |
| CN109637494A (zh) | 显示控制电路的驱动方法、电源ic、显示装置 | |
| US20160243594A1 (en) | Discharge Method and Device of Washing Chamber | |
| CN116540792B (zh) | 一种草酸系ito蚀刻液制备的流量自动化控制方法及*** | |
| CN204074597U (zh) | 一种硅片清洗废水回收再利用*** | |
| CN105138443A (zh) | 一种基于飞腾处理器的can总线信息监测方法 | |
| CN103095929A (zh) | 一种防止移动终端不停重启的方法、***及移动终端 | |
| CN214528539U (zh) | 一种光刻剥离液废液再生装置 | |
| CN102745845A (zh) | 用于液晶面板制作工艺的水循环回收*** |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20140312 Termination date: 20210314 |