TWI525352B - 薄偏光板及其製造方法 - Google Patents
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Description
本發明係關於一種薄偏光板及其製造方法,尤指一種薄偏光板,包含一厚度10μm以下之偏光片;以及其製造方法,能在單一製程中製造不同類型的偏光板。
在一偏光板中所使用的偏光片是一種光學裝置,用來將自然光或任意極化光轉換成在一方向偏極化的光。而且偏光片已經被廣泛地使用於顯示裝置,如液晶顯示器(LCDs)與有機發光二極體(OLEDs)。作為一般使用於這些顯示裝置之偏光片,通常會使用聚乙烯醇系偏光膜,該偏光膜包含碘化合物或二色性染料(dichroic dye),且其分子鏈排列於一預設方向。
該聚乙烯醇系偏光膜可利用碘或二色性染料,將一聚乙烯醇系薄膜染色,然後在一預設方向上拉伸與交聯該薄膜來製造。在本例中,該拉伸程序可透過在一溶液中的濕式拉伸,該溶液可為一硼酸水溶液或一碘水溶液;或在大氣中的乾式拉伸等來進行。依據相關技術領域,在前述程序中,該聚乙烯醇系薄膜在拉伸之前需要超過60μm的厚度,使拉伸時不會有破裂產生。當該聚乙烯醇系薄
膜在拉伸前厚度等於或低於60μm時,在拉伸過程中,可能會增加該聚乙烯醇薄膜的膨脹程度,以及可能會增加此種薄膜單位面積的模數(modulus),因此該薄膜容易發生破裂的現象。
同時,依據近來顯示裝置薄型化的趨勢,偏光板也需要減少厚度。然而,依據相關技術,在聚乙烯醇系薄膜需要超過60μm的例子中,受限於減少偏光片的厚度。因此,有人已經開始研究如何製造降低偏光片的厚度。
韓國專利早期公開編號第2010-0071998號揭露一種使用一積層板來製造薄偏光板的方法,該積層板係利用於一基底層塗覆一親水性聚合物層,或由一基底層形成材料與一親水性聚合物層形成材料共擠出成形來製造。不過,在使用該塗覆或共擠出成型的方法中,該聚乙烯醇層與該基底層在拉伸後不易分離,因為在分離時需要高剝離強度,該聚乙烯醇層的損傷或變形的缺陷可能會在分離過程中產生,導致該聚乙烯醇系薄膜的光學性質劣化,如偏光程度等。另外,在使用該塗覆或共擠出成型的方法中,因為該聚乙烯醇系薄膜係由熔化一聚乙烯醇樹脂,然後將該聚乙烯醇層與該基底層共擠出成形,或由製備該聚乙烯醇樹酯作為塗佈溶液,然後塗覆該塗佈溶液至該基底層所製造,該製成之聚乙烯醇薄膜的物理性質會受到擠出成形的條件、塗佈條件或薄膜形成條件而輕易改變,故該製成之聚乙烯醇薄膜之物理性質可能會變差,且可能無法獲得均一的性質。
因此,需要製造一種包含具有優越光學性質的薄膜偏光片之偏光板。
為了解決上述的問題,本發明提供一種具有優越光學性質的薄偏光板及其製造方法,尤指具有一40%至45%的單透光率(single transmittance)與一99%以上的偏光度,而且在捲曲(curling)方面具有優越性質的偏光板。
依本發明所揭露,提供一種薄偏光板的製造方法,包括:利用彼此間的吸引力或使用一黏著劑,將一未經拉伸之聚乙烯醇(PVA)系薄膜貼附至一未經拉伸之基底膜,以形成一薄膜積層板;拉伸該薄膜積層板;將一第一保護膜貼附至該經拉伸之薄膜積層板之該聚乙烯醇系薄膜;以及將該貼附有該第一保護膜之聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離。
該方法可更包括在拉伸該薄膜積層板前,使用碘與二色性染料中至少一種,將該薄膜積層板染色。
該方法可更包括在拉伸該薄膜積層板後,乾燥該經拉伸的薄膜積層板。
該方法可更包括在該具有該第一保護膜貼附之聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離之後,貼附一第二保護膜於該聚乙烯醇系薄膜之無保護膜之一表面。
該方法可更包括在該具有該第一保護膜貼附之聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離之後,形成一黏性層於該聚乙烯醇系薄膜之無保護膜之一表面上。
依本發明之另一揭露內容,一種薄偏光板包括:一聚乙烯醇(PVA)系偏光片,其厚度為10μm以下;以及一第一保護膜,貼附於該聚乙烯醇系偏光片之一表面,其中,該偏光板具有一40%至45%之單透光率與一99%以上之偏光度。
依本發明所揭露的實施例,在一種薄偏光板之製造方法中,可製造一種具有優越光學性質之薄偏光板。在一聚乙烯醇(PVA)系薄膜被貼附到一基底膜之兩表面的例子中,可提升製造該偏光板之生產力,而且在單一製程中,可製造不同類型的偏光板。
另外,在本發明所揭露的實施例中,使用該薄偏光板之製造方法所製造之該薄偏光板比較不會捲曲,而且當這樣的薄偏光板使用於一顯示裝置時,可將漏光現象減至最小。
H‧‧‧夾具
A‧‧‧聚乙烯醇系薄膜
B‧‧‧基底膜
MD‧‧‧縱向方向
圖1係使用質地分析儀測量黏著強度的方法示意圖。
圖2係依據比較例1所製造之一薄膜積層板之狀態示意照片。
圖3係依據發明實例與比較例3與4所製造之一薄偏光板之捲曲性質示意照片。
圖4係依據比較例6所製造之一薄膜積層板在拉伸後之邊緣捲曲現象的示意照片。
圖5係依據發明實例2所製造之一薄膜積層板之拉伸後
狀態示意照片。
以下將參考圖式,詳細描述本發明所揭露的實施例。
不過,所揭露的內容會以許多不同形式的實施例呈現,而且不限於在此所列舉的特定實施例,當然,所列舉的實施例將會是清楚且完整的,使所屬技術領域具有通常知識者能完全理解該揭露內容的範圍。
經過重複研究製造一具有優越光學性質之偏光片的結果,在極薄(即厚度低於10μm以下),且沒有破裂發生的情況下,發明人發現可藉由使用彼此間的弱吸引力或使用一黏著劑貼附一聚乙烯醇(PVA)系薄膜至一基底膜,然後拉伸該經貼附的薄膜來達成前述的目標,而且已經提出相關的韓國專利申請號第10-2012-0130576與10-2012-0130577號。
透過更多的研究,發明人發現,該些經提出申請的申請案中,在製造一薄膜偏光片之方法中,於分離該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜之前,一第一保護膜被貼附至該聚乙烯醇系薄膜的例子裡,該聚乙烯醇系薄膜可被更乾淨地與該基底膜分離,然後,依該些研究結果,可製造出在捲曲方面具有優越性質的一薄偏光板,而且可大幅改善製造該薄偏光板之生產力,使發明人基於實驗結果發明此處所列之偏光板。
更具體地,依據本發明所揭露之示例性實施例,
一種薄偏光板之製造方法可包括:利用彼此間的吸引力或使用一黏著劑,將一未經拉伸之聚乙烯醇(PVA)系薄膜貼附至一未經拉伸之基底膜,以形成一薄膜積層板;拉伸該薄膜積層板;將一第一保護膜貼附至該經拉伸之薄膜積層板之該聚乙烯醇系薄膜;以及將該貼附有該第一保護膜之聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離。
該未經拉伸之聚乙烯醇系薄膜可使用彼此間的吸引力或使用一黏著劑被貼附至該未經拉伸之基底膜,因而形成該薄膜積層板。於此,該未經拉伸之聚乙烯醇系薄膜可被貼附至該未經拉伸之基底膜之一表面或兩表面。在考量生產力與製程穩定性時,較佳將該聚乙烯醇系薄膜貼附於該未經拉伸之基底膜之兩表面上。
這時,該未經拉伸之基底膜係用來防止該聚乙烯醇系薄膜在拉伸過程中破裂的,然後較佳地,它可為一聚合物薄膜,其在20℃至85℃的溫度下具有5倍以上的最大拉伸倍率。在本例中,該最大拉伸倍率係指在破裂發生之前的拉伸倍率。同時,該拉伸程序可為乾式拉伸或濕式拉伸。在濕式拉伸的例子中,該最大拉伸倍率可指在一具有硼酸濃度1wt%至5wt%之硼酸水溶液中操作拉伸時的倍率。
上述之該基底膜沒有限制,但是,可為一高密度聚乙烯薄膜(polyethylene film)、一聚氨基甲酸酯薄膜(polyurethane film)、一聚丙烯薄膜(polypropylene film)、一聚烯烴薄膜(polyolefin film)、一酯系薄膜(ester-based film)、
一低密度聚乙烯薄膜(polyethylene film)、一高密度聚乙烯與低密度聚乙烯經共擠出之薄膜、一具有在高密度聚乙烯中含有乙烯醋酸乙烯酯(ethylene vinyl acetate)之共聚合物樹脂薄膜、一丙烯酸薄膜(acrylic film)、一聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(polyethylene terephthalate film)、一聚乙烯醇系薄膜與一纖維素薄膜(cellulose film)等,當作實例。
同時,使用在本發明所揭露之示例性實施例中,該基底膜之厚度可為20μm至100μm,較佳為30μm至80μm,更佳為40μm至60μm。在該基底膜的厚度小於20μm的例子中,在該薄膜積層板的拉伸過程中該基底膜難以充分支撐該聚乙烯醇系薄膜,導致破裂等現象發生;在該基底膜的厚度超過100μm的例子中,該薄膜積層板的拉伸效率可能會降低,而且在乾燥過程中,該聚乙烯醇系薄膜之寬度的穩定收縮性可能會受到破壞,因而該製成之偏光片的光學性質劣化。
另外,該基底膜之玻璃轉換溫度可低於該聚乙烯醇系薄膜之玻璃轉換溫度。例如:該基底膜之玻璃轉換溫度可為20℃至60℃,較佳為30℃至60℃。通常,考量一聚乙烯醇系薄膜之玻璃轉換溫度係為70℃至80℃,該基底膜之玻璃轉換溫度要落在前述範圍之內,該基底膜在該拉伸的溫度條件下會變得比較柔軟,藉此使該聚乙烯醇系薄膜能夠被適當地拉伸。不過,當該基底膜之玻璃轉換溫度太低時,要在相當高的拉伸倍率才會有破裂的現象發生。因此,該基底膜之玻璃轉換溫度可為20℃以上。同時,可
使用一微差掃描熱分析儀(DSC)來測量該玻璃轉換溫度。舉例來說,當約10mg的樣品薄膜封入一DSC盤中時,在預設的升溫條件下加熱,根據溫度可觀察到由樣品薄膜的相變化所造成的吸收與釋放的熱量,藉此測量該樣品薄膜的玻璃轉換溫度。
另外,該基底膜之模數(modulus),在室溫25℃時,可為200MPa至1500MPa,較佳為350MPa至1300MPa。當該基底膜之模數超過1500MPa時,難以在相當高的倍率時操作拉伸;當該基底膜之容積彈性模數低於200MPa時,在該拉伸過程中可能會發生破裂的現象。於此,依據JIS-K6251-1的標準,可利用固定樣品薄膜的兩端來測量模數,而且施加於該薄膜的外力方向係垂直於該薄膜厚度方向,然後依據應變的速率(strain rate)測量單位面積之應力(stress),舉例來說,測量裝置可使用茲維克/羅爾(Zwick/Roell)Z010 UTM來進行拉力試驗(tensile tests)等。
另外,該基底膜之破裂點的作用力,在室溫25℃時,可為5N至40N,較佳為10N至30N。於此,舉例來說,一破裂強度可指一拉力強度,當該基底膜破裂時,在垂直於該薄膜厚度方向的方向施加的作用力,而且可使用茲維克/羅爾(Zwick/Roell)Z010 UTM的拉力試驗來測量。當該基底膜之破裂強度超出前述之範圍時,難以在相當高的倍率拉伸該薄膜,或在該拉伸過程中,該薄膜的破裂可能會發生。
接著,貼附於該基底膜之該未經拉伸的聚乙烯
醇系薄膜的厚度可為10μm至60μm,較佳為10μm至40μm。當該聚乙烯醇系薄膜之厚度超過60μm時,即使在拉伸後,也難以讓該聚乙烯醇系薄膜具有10μm以下的厚度;當該聚乙烯醇系薄膜之厚度小於10μm時,該拉伸程序中可能會容易發生該聚乙烯醇系薄膜破裂的情形。
同時,該聚乙烯醇系薄膜可具有一約1000至10000的聚合度,較佳約1500至5000,但不以此為限。當該聚乙烯醇系薄膜的聚合度落於前述範圍內時,分子可自由地移動,而且可與碘、二色性染料等穩定地結合。
同時,依本發明所揭露之示例性實施例,該聚乙烯醇系薄膜可為一商業上可獲得的聚乙烯醇系薄膜,例如:由可樂麗(Kuraray)所生產的PS30、PE30或PE60;由日本合成化學工業股份有限公司(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.Ltd.)所生產的M2000、M3000或M6000等。
同時,在本發明所揭露之示例性實施例中,利用該基底膜與該未經拉伸的聚乙烯醇系薄膜之表面間所產生的弱吸引力,不使用一額外介質或一黏著劑,該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜可互相被貼附。
在利用該吸引力相互貼附該基底膜與該未經拉伸之聚乙烯醇系薄膜的例子中,可在該基底膜或該聚乙烯醇系薄膜之一表面或兩表面上進行表面處理,使其具有適當的黏著強度。於此,該表面處理可透過與本發明相關的技術領域中,各種習知的表面處理方法來進行,例如:
電暈處理、電漿處理或使用強鹼(如NaOH或KOH)水溶液之表面改質處理。
同時,在使用該黏著劑來相互貼附該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜的例子中,在拉伸該薄膜積層板前,該黏著劑層之厚度可為20nm至4000nm,較佳為20nm至1000nm,更佳為20nm至500nm。在拉伸該薄膜積層板後,該黏著劑層之厚度可為10nm至1000nm,較佳為10nm至500nm,更佳為10nm至200nm。當該黏著劑層之厚度,在拉伸該薄膜積層板前後,落於前述之範圍內時,可改進拉伸後該聚乙烯醇系薄膜之分離以及乾燥程序,而不傷害該聚乙烯醇系薄膜。
同時,該黏著劑之材料沒有特別限制,而且在與本發明相關之所屬技術領域中,可以使用已知之各種黏著劑,沒有任何限制,例如:可由水性黏著劑或紫外線固化黏著劑來形成該黏著劑層。
在水性黏著劑形成該黏著劑層的例子中,該水性黏著劑可包括一含乙醯乙醯基(acetoacetyl group)之聚乙烯醇系樹脂與一胺系金屬化合物交聯劑。更具體地,該黏著劑可為一水溶液,包含100重量分之該含乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂及1至50重量分之該胺系金屬化合物交聯劑。
依本發明之發明人的研究結果,在使用一般的水性黏著劑貼附一基底膜與一聚乙烯醇系薄膜的例子中,在拉伸與清洗程序中,該黏著劑由於低防水性(low
waterproofing properties)的緣故,可藉由水滲透(water permeation)而溶解;該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜的貼合,以非均勻(non-uniform)的方式完成時,會在拉伸過程中增加破裂現象的發生率,在本例中,在該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜彼此貼合後,由於該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜間膨脹程度的差異,可能以表面裂痕的形式產生大量的皺紋,因而該表面狀態可能不良,而且捲曲現象可能在拉伸後該薄膜的側面發生,這是因為該已存在的黏著劑可能暴露於水且溶於水的緣故,使得該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜間的貼合以非均勻的方式呈現。不過,依本發明所揭露之示例性實施例,在使用含一聚乙烯醇系樹脂之該水性黏著劑,該聚乙烯醇系樹脂含有一乙醯乙醯基及一胺系金屬化合物交聯劑的例子中,在固化該黏著劑時,交聯反應可於該胺系金屬化合物與該聚乙烯醇系樹脂之該乙醯乙醯基間產生,藉此,在固化後,該黏著劑層之防水性有很大的改善。結果,由該已存在聚乙烯醇系黏著劑之不充足的防水性所產生的前述問題可獲得解決。
同時,該聚乙烯醇系樹脂之聚合與皂化程度不加以特限制,只要該聚乙烯醇系樹脂含有該乙醯乙醯基即可。該聚乙烯醇系樹脂之聚合度可為200至4000、皂化程度可為70mol%至99.9mol%。基於該所含材料之可彈性混合,而考量分子移動的自由度,該聚合度可為1500至2500,而且該皂化程度可為90mol%至99.9mol%。於此,該聚乙烯醇系樹脂可包含0.1mol%至30mol%之該乙醯乙醯基。在前
述範圍內,該聚乙烯醇系樹脂與該胺系金屬化合物交聯劑間的反應可滿足操作上的需要,而且該黏著劑可具有所需的防水性。
該胺系金屬化合物交聯劑可為一水可溶交聯劑,其包含一對該聚乙烯醇系樹脂具有一預設反應性之官能基,而且可為一包含一胺系配位子(ligand)之金屬錯合物。該金屬錯合物可包括一過渡金屬選自:鋯(Zr)、鈦(Ti)、鉿(Hf)、鎢(W)、鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)、釕(Ru)、鋨(Os)、銠(Rh)、銥(Ir)、鈀(Pd)與鉑(Pt)。與該中心金屬耦合之該配位子可包括至少一胺基,如一級胺(primary amine)、二級胺(secondary amine,diamine)、三級胺(tertiary amine)或氫氧化銨(ammonium hydroxide)。
另外,含該乙醯乙醯基之該聚乙烯醇系樹脂可具有1wt%至10wt%之固含量。在該聚乙烯醇系樹脂之該固含量低於1wt%的例子中,該黏著劑可能無法保有充足的防水性質,因而無法在該拉伸程序中有效地降低破裂的發生率。在該聚乙烯醇系樹脂之該固含量超過10wt%的例子中,該黏著劑的可工作性可能會下降,而且該聚乙烯醇系薄膜可能會在分離時發生表面的損傷。
同時,該黏著劑之pH值可為4.5至9。在該黏著劑之pH值落在前述範圍內的例子中,該黏著劑在高濕度的環境中可更具有與儲存穩定性與耐久性相關的優點。
同時,該黏著劑之pH值可藉由添加酸至水溶液中來加以調整。於此,該pH值調整劑可為強酸或弱酸,
例如:該pH值調整劑可為硝酸(nitric acid)、氫氯酸(hydrochloric acid)、硫酸(sulfuric acid)或醋酸(acetic acid)等。
由前述黏著劑所形成之該黏著劑層之厚度,在拉伸該薄膜積層板前,可為80nm至200nm,較佳為80nm至150nm;在拉伸該薄膜積層板後,可為10nm至100nm,較佳為10nm至80nm。在該黏著劑層之厚度落在前述範圍內的例子中,可適當地維持該聚氨基甲酸酯薄膜與該聚乙烯醇系薄膜間之黏著強度;可降低在該拉伸過程中破裂的發生率;在分離時該偏光片表面之損傷可降至最小。
在該黏著劑的例子中,於該黏著劑固化時,在該胺系金屬化合物與該聚乙烯醇樹脂之該乙醯乙醯基間會發生交聯反應,使得固化後,該黏著劑層之防水性可獲得相當大的改善。在該聚合物薄膜與該聚乙烯醇系薄膜使用該黏著劑堆疊時,該黏著劑在濕式拉伸時溶於水的現象可減至最小。故該黏著劑可有利於在該濕式拉伸程序中使用。
同時,該黏著劑層可由紫外線可固化黏著劑形成。例如:該黏著劑層可由一紫外線可固化黏著劑形成,該紫外線可固化黏著劑包含:一第一環氧化合物,其具有120℃以上之同元聚合物(homopolymer)之玻璃轉換溫度;一第二環氧化合物,其具有60℃以下之同元聚合物之玻璃轉換溫度;以及一陽離子光聚合起始劑(cationic photopolymerization initiator)。具體地,該紫外線可固化黏
著劑可包含:100重量分之該第一環氧化合物,其具有120℃以上之同元聚合物之玻璃轉換溫度;30至10重量分之該第二環氧化合物,其具有60℃以下之同元聚合物之玻璃轉換溫度;以及0.5至20重量分之該陽離子光聚合起始劑。
這裡所描述的該環氧化合物係指分子中具有一個以上的環氧基化合物,較佳為分子中具有二個以上的環氧基,而且可以被理解為包括:單體、聚合物與樹酯的形式。
同時,只要該第一環氧化合物具有120℃以上的同元聚合物之玻璃轉換溫度,它就不受到特別的限制。例如:脂環族的環氧化合物與/或芳香族的環氧化合物具有120℃以上的同元聚合物之玻璃轉換溫度,可用來當作本發明所揭露之例示性實施例中的該第一環氧化合物。具有120℃以上的同元聚合物之玻璃轉換溫度的環氧化合物的實例包括:3,4-環氧環己基甲基-3,4’-環氧環己烷羧酸酯(3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4’-epoxycyclohexanecarboxylate)、乙烯環己烯二氧化物雙環戊二烯二氧化物(vinylcyclohexene dioxide dicyclopentadiene dioxide)、雙(環氧環戊基)醚(bis(epoxycyclopentyl)ether)、雙酚A系環氧化合物(bisphenol A-based epoxy compound)、雙酚F系環氧化合物(bisphenol F-based epoxy compound)等。同時,該第一環氧化合物可具有從120℃至200℃的同元聚合物之玻璃轉換溫度。
接著,只要該第二環氧化合物具有60℃以下的
同元聚合物之玻璃轉換溫度,它就不受到特別的限制。例如:脂環族的環氧化合物(alicyclic epoxy compound)、脂肪族的環氧化合物(aliphatic epoxy compound)等,可用來當作本發明所揭露之例示性實施例中的該第二環氧化合物。
這時,該脂環族環氧化合物可為雙官能基環氧化合物,即具有兩個環氧基之化合物,其中,這兩個環氧基均為脂環族環氧基。不過,此脂環族環氧化合物不以此為限。
該脂肪族的環氧化合物可為具有脂肪族環氧基(非該脂環族環氧基)之環氧化合物。舉例來說,可用來當作該脂肪族的環氧化合物有:脂肪族多元醇之聚縮水甘油醚(polyglycidyl ether);脂肪族多元醇之環氧烷(alkylene oxide)加成產物之聚縮水甘油醚;脂肪族多羥基羧酸(polyhydric carboxylic acid)之脂肪族多元醇與聚酯多元醇之聚縮水甘油醚;脂肪族多羥基羧酸之聚縮水甘油醚;脂肪族多羥基羧酸之脂肪族多元醇與聚酯多羧酸之聚縮水甘油醚;由縮水甘油丙烯酸酯(glycidyl acrylate)或縮水甘油甲基丙烯酸酯(glycidyl methacrylate)之乙烯聚合所獲得的二聚物、低聚物、聚合物;由乙烯基系單體(非縮水甘油丙烯酸酯或縮水甘油甲基丙烯酸酯)之乙烯聚合所獲得的低聚物、聚合物等。較佳為脂肪族多元醇之聚縮水甘油醚或脂肪族多元醇之環氧烷加成產物之聚縮水甘油醚。不過,該脂肪族的環氧化合物不僅限於此。
該脂肪族多元醇可為具有2至20個碳原子、2
至16個碳原子、2至12個碳原子、2至8個碳原子或2至4個碳原子之脂肪族多元醇。舉例來說,該脂肪族多元醇可包括:脂肪族二元醇類(aliphatic diols),如乙二醇(ethylene glycol)、1,2-丙二醇(1,2-propanediol)、1,3-丙二醇(1,3-propanediol)、2-甲基-1,3-丙二醇(2-methyl-1,3-propanediol)、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇(2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol)、1,4-丁二醇(1,4-butanediol)、新戊二醇(neopentylglycol)、3-甲基-2,4-丙二醇(3-methyl-2,4-pentanediol)、2,4-丙二醇(2,4-pentanediol)、1,5-丙二醇(1,5-pentanediol)、3-甲基-1,5-丙二醇(3-methyl-1,5-pentanediol)、2-甲基-2,4-丙二醇(2-methyl-2,4-pentanediol)、2,4-二乙基-1,5-丙二醇(2,4-diethyl-1,5-pentanediol)、1,6-己二醇(1,6-hexanediol)、1,7-庚二醇(1,7-heptanediol)、3,5-庚二醇(3,5-heptanediol)、1,8-辛二醇(1,8-octanediol)、2-甲基-1,8-辛二醇(2-methyl-1,8-octanediol)、1,9-壬二醇(1,9-nonanediol)、1,10-癸二醇(1,10-decanediol)等;脂環族二醇類(alicyclic diols),如環己烷二甲醇(cyclohexanedimethanol)、環己烷二醇(cyclohexanediol)、氫化雙酚A(hydrogenated bisphenol A)、氫化雙酚F(hydrogenated bisphenol F);三羥甲基乙烷(trimethylolethane)、三羥甲基丙烷(trimethylolpropane)、己醣醇類(hexitols)、戊五醇類(pentitols)、丙三醇(glycerine)、聚甘油(polyglycerine)、季戊四醇(pentaerythritol)、二季戊四醇(dipentaerythritol)、四羥甲基丙烷(tetramethylolpropane)
等。
另外,該環氧烷可為具有1至20個碳原子、1至16個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子之環氧烷。舉例來說,該環氧烷可包括環氧乙烷(ethyleneoxide)、環氧丙烷(propyleneoxide)、環氧丁烷(butyleneoxide)等。
再者,舉例來說,該脂肪族多羥基羧酸可包括:草酸(oxalic acid)、丙二酸(malonic acid)、丁二酸(succinic acid)、戊二酸(glutaric acid)、己二酸(adipic acid)、庚二酸(pimelic acid)、辛二酸(suberic acid)、壬二酸(azelaic acid)、癸二酸(sebacic acid)、十二烷酸(dodecanoic acid)、2-甲基丁二酸(2-methylsuccinic acid)、2-甲基己二酸(2-methyladipic acid)、3-甲基己二酸(3-methyladipic acid)、3-甲基戊酸(3-methylpentanoic acid)、2-甲基辛酸(2-methyloctanoic acid)、3,8-二甲基癸酸(3,8-dimethyl decanoic acid)、3,7-二甲基癸酸(3,7-dimethyl decanoic acid)、1,20-二十碳亞甲基二羧酸(1,20-eicosamethylenedicarboxylic acid)、1,2-環戊烷二羧酸(1,2-cyclopentanedicarboxylic acid)、1,3-環戊烷二羧酸(1,3-cyclopentanedicarboxylic acid)、1,2-環己烷二羧酸(1,2-cyclohexanedicarboxylic acid)、1,3-環己烷二羧酸(1,3-cyclohexanedicarboxylic acid)、1,4-環己烷二羧酸(1,4-cyclohexanedicarboxylic acid)、1,4-二羧基亞甲基環己烷(1,4-dicarboxylmethylenecyclohexane)、1,2,3-丙烷三羧酸(1,2,3-propanetricarboxylic acid)、1,2,3,4-丁烷四羧酸
(1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid)、1,2,3,4-環丁烷四羧酸(1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid)等,但不以此限。
在本發明所揭露之例示性實施例中,該第二環氧化合物較佳可包括一個以上之縮水甘油醚基。舉例來說,在本發明所揭露之例示性實施例中,該第二環氧化合物可為至少一選自由:1,4-環己烷二甲醇二縮水甘油醚(1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether)、1,4-丁二醇二縮水甘油醚(1,4-butanediol diglycidyl ether)、1,6-己二醇二縮水甘油醚(1,6-hexanediol diglycidyl ether)、新戊基二縮水甘油醚(neopentyl diglycidyl ether)、間苯二酚二縮水甘油醚(resorcinol diglycidyl ether)、二乙二醇二縮水甘油醚(diethylene glycol diglycidyl ether)、乙二醇二縮水甘油醚(ethylene glycol diglycidyl ether)、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚(trimethylolpropanetriglycidyl ether)、正丁基二縮水甘油基醚(n-butyl diglycidyl ether)、2-乙基己基縮水甘油醚(2-ethylhexyl glycidyl ether)、苯基縮水甘油醚(phenyl glycidyl ether)與鄰-甲苯基縮水甘油醚(o-cresyl glycidyl ether)所組成之群組。
同時,該第二環氧化合物可具有從0℃至60℃之同元聚合物之玻璃轉換溫度。
同時,依本發明所揭露之例示性實施例,較佳可使用含至少一經環氧化脂環族基團之該第一環氧化合物與含至少一縮水甘油醚基團之該第二環氧化合物之組合作為該環氧化合物,但不限於此。
同時,在將該聚乙烯醇系薄膜貼附至該基底膜之兩表面上,形成該薄膜積層板後,該薄膜積層板便可以接受拉伸。這時,該拉伸程序的操作,使該聚乙烯醇系薄膜的厚度變為10μm以下。舉例來說,該聚乙烯醇系薄膜經拉伸後的厚度可為1μm至10μm、3μm至10μm或1μm至5μm。
另外,該拉伸程序之操作可讓該聚乙烯醇系薄膜在其寬度方向上的收縮率為30%至80%,較佳為60%至80%。在該聚乙烯醇系薄膜之寬度收縮率落在前述範圍內的例子中,可獲得優越的光學性質。
同時,依本發明所揭露之例示性實施例,該些拉伸條件沒有特別限制。舉例來說,該拉伸程序可在20℃至85℃的溫度下,以5至15倍之拉伸倍率進行,較佳在40℃至80℃的溫度下,以5至12倍之拉伸倍率進行。
這時,該拉伸程序可透過濕式拉伸或乾式拉伸來進行。該濕式拉伸程序比該乾式拉伸程序佳,因為考慮該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜間的表面黏著強度,濕式拉伸程序比乾式拉伸程序強,使得濕式拉伸程序不需要額外的介質就可以穩定地操作。同時,該濕式拉伸程序可於硼酸水溶液中進行,其中,硼酸的濃度可為1wt%至5wt%。
當該拉伸程序於上述該硼酸水溶液中進行時,該聚乙烯醇薄膜之破裂發生率可因硼酸的交聯而降低,使得製程穩定性受到提升,而且在該聚乙烯醇薄膜上,容易在濕式程序中產生的皺紋可獲得控制。另外,該濕式拉伸
程序具有可在比該乾式拉伸程序低的溫度下進行的優點。
同時,製造偏光件的製程通常可包括:清洗(washing)、膨脹(swelling)、染色(dyeing)、清潔(cleaning)、拉伸(stretching)、補充(complementing)與乾燥(drying)等程序。在本發明所揭露之例示性實施例中,該清潔與拉伸程序可於該硼酸水溶液中進行。比較具體地說,在該清潔程序中,硼酸的濃度可為0.1wt%至2.5wt%,較佳為0.5wt%至2.0wt%,而且在拉伸程序中,硼酸的濃度可為1.0wt%至5.0wt%,較佳為1.5wt%至4.5wt%。
同時,該拉伸程序可與使用碘與/或二色性染料將該聚乙烯醇系薄膜染色、和將該聚乙烯醇系薄膜與已經染色的碘與/或二色性染料交聯中至少一種程序一起進行。
舉例來說,該拉伸程序可於含碘與/或二性染料以及硼酸的水溶液中進行,使得該染色、交聯與拉伸程序可同時進行。或者,在將該薄膜積層板浸泡於含碘與/或二色性染料的水溶液中的染色程序後,利用將該經染色的薄膜積層板浸泡於硼酸水溶液並且在該硼酸水溶液拉伸該經染色的薄膜積層板,以同時進行該交聯與拉伸程序。
同時,在該薄膜積層板拉伸後,該經拉伸之聚乙烯醇系薄膜與該經拉伸之基底膜間的黏著強度可為2N/2cm以下,較佳為0.1至2N/2cm,更佳為0.1至1N/2cm。在該經拉伸之基底膜與該經拉伸之聚乙烯醇系薄膜間之該黏著強度落於前述範圍內的例子中,於其分離的過程中的
表面損傷可減至最小。依本發明所揭露之例示性實施例的製造方法中,在該黏著劑層形成於該聚乙烯醇系薄膜與該基底膜間的例子中,該黏著劑層可連同該聚乙烯醇系薄膜與該基底膜一起被拉伸,因而該黏著劑層之厚度可減少至拉伸前其原始厚度的10%至50%。因此,該聚乙烯醇系薄膜與該基底膜間的黏著強度可降低至2N/2cm以下,使得它們可以很容易地彼此分離。同時,該黏著強度係指由貼附2cm長的樣本薄膜所量到的黏著力,而且測量方法如圖1所示。在本發明所揭露之例示性實施例中,該些薄膜間的黏著強度係指在使用一樣品夾H將該薄膜積層板之該聚乙烯醇系薄膜A固定之後,利用在垂直於該薄膜積層板的平面方向之方向上施加作用力,將該薄膜積層板之該聚乙烯醇系薄膜A從該基底膜B剝下來時所測量到的剝離強度。這時,測量裝置為質地分析儀(Texture Analyzer),型號:TA-XT PLUS,由穩定微系統(Stable Micro Systems)出品。
同時,在該拉伸程序後,該經拉伸之薄膜積層板必要時可加以乾燥,這時,該乾燥程序可於20℃至100℃下進行,較佳為40℃至90℃,而且乾燥時間可為1至10分鐘,該乾燥程序可用來移除該聚乙烯醇薄膜表面上或表面內的濕氣,藉此在偏光板的製造過程中防止聚乙烯醇偏光片性質因濕氣而降低。另外,該乾燥程序可用來平穩地促使在乾燥過程中,該經拉伸之聚乙烯醇薄膜,在其寬度方向上的收縮,而且增加聚乙烯醇與碘所形成錯合物的定位(orientation),因而改善該偏光片之偏光度。
在如前所述拉伸該薄膜積層板後,該第一保護膜可貼附至該經拉伸薄膜積層板之該聚乙烯醇系薄膜。在該聚乙烯醇系薄膜貼附於該基底膜兩表面的例子中,該第一保護膜可貼附於每一聚乙烯醇系薄膜。
這時,在本發明所揭露的相關領域中,用來當作偏光片保護膜或延遲膜(retardation films)、增亮膜(luminance improving film)的各種類型薄膜,可用來當作該第一保護膜,而沒有限制。舉例來說,該第一保護膜可為至少一選自:一聚酯系聚合物(polyester-based polymer)、一苯乙烯系聚合物(styrene-based polymer)、一纖維素系聚合物(cellulose-based polymer)、一聚醚磺基系聚合物(polyethersulfone-based polymer)、一聚碳酸酯系聚合物(polycarbonate-based polymer)、一丙烯酸系聚合物(acrylic-based polymer)、一聚烯烴系聚合物(polyolefin-based polymer)、一聚醯胺系聚合物(polyamide-based polymer)、一聚醯亞胺基系聚合物(polyimide-based polymer)、一磺基系聚合物(sulfone-based polymer)、一聚醚磺基系聚合物(poly ether sulfone-based polymer)、一聚醚醚酮系聚合物(polyether ether ketone-based polymer)、一聚苯硫醚系聚合物(polyphenylene sulfide-based polymer)、一乙烯醇系聚合物(vinyl alcohol-based polymer)、一氯化亞乙烯系聚合物(vinylidene chloride polymer)、一乙烯醇縮丁醛系聚合物(vinyl butyral-based polymer)、一芳基化合物系聚合物(arylate-based polymer)、一聚縮醛系聚合物
(polyoxymethylene-based polymer)、一環氧系聚合物(epoxy-based polymer)及其混合物所組成的群組。同時,在該聚乙烯醇系薄膜被貼附於該基底膜之兩表面的例子中,要被貼附到該聚乙烯醇系薄膜之該第一保護膜可以是彼此相同或不同的。在不同的保護膜用來當作第一保護膜貼附於該薄膜積層板的兩個表面的例子中,有利於在一單一製程中製造具有不同保護膜之偏光板。
同時,可使用一黏著劑來貼附該第一保護膜。這時,在與本發明所揭露相關的技術領域中,可使用的黏著劑可為習知用於偏光板之黏著劑、膠合劑等。這時,該黏著劑或膠合劑可經由考量要用於該第二保護膜等的材質,適當地加以選擇。舉例來說,在纖維素系薄膜用來當作該第一保護膜的例子中,可使用水性黏著劑,如聚乙烯醇系黏著劑;在丙烯酸薄膜的例子中,使用環烯烴聚合物(cycloolefin polymer,COP)等來當作該第一保護膜,可使用光可固化或熱固定黏著劑,如丙烯酸系黏著劑(acrylic-based adhesive)、環氧系黏著劑(epoxy-based adhesive)等。
接著,已貼附有該第一保護膜之該聚乙烯醇系薄膜可與該基底膜分離。在該分離過程中,微弱的剝離強度可施加於貼附有該第一保護膜之該聚乙烯醇系薄膜或者該基底膜,使該二薄膜彼此分離。這時,剝離強度的大小可為2N/2cm以下。例如:剝離強度的大小可為0.1至2N/2cm,較佳為0.1至1N/2cm。在本發明所揭露的例示性實施例中,因為該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜間之該黏著強
度是微弱的,而且,該第一保護膜與該聚乙烯醇系薄膜間的黏著強度是相對高於該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜間的黏著強度,當施加微弱的剝離強度時,該聚乙烯醇系薄膜可被乾淨地從該基底膜分離。因為需要分離該聚乙烯醇系薄膜與該基底膜之剝離強度大小是相當微弱的(相較於使用塗覆或共擠出方法所製得的堆疊薄膜),該二薄膜可輕易地彼此分離,不需要額外製程或裝置。再者,可降低在分離過程中對該聚乙烯醇系薄膜的損傷,藉以表現出相當卓越的光學性能(optical performance)。
在完成前述分離程序之後,可獲得具有厚度10μm以下之偏光板,其中該第一保護膜已經貼附於該聚乙烯醇系薄膜之一表面。在該聚乙烯醇系薄膜貼附於該基底膜之兩表面的例子中,可透過一單一製程,獲得二偏光板。
在具有該第一保護膜貼附於該聚乙烯醇薄膜之一表面之該偏光板的例子中,一黏性層可進一步形成於沒有第一保護膜貼附之該聚乙烯醇系薄膜之另一表面上,及/或一第二保護膜可進一步形成於不具第一保護膜之該聚乙烯醇系薄膜之另一表面上。
這時,該黏性層的形成可藉由塗敷一黏著劑組成物於該聚乙烯醇系薄膜之不具第一保護膜之另一表面,然後使用光或熱照射該黏著劑組成物,將其固化而完成,其中該黏著劑組成物具有至少一成分選自:一丙烯酸系共聚物(acrylic-based copolymer)、一環氧系樹脂(epoxy-based resin)、一聚氨基甲酸酯系樹脂(polyurethane-based resin)、
一矽系樹脂(silicon-based resin)、一聚醚系樹脂(polyether-based resin)、一聚醯胺類樹脂(polyamide-based resin)與一聚乙烯醇系樹脂所組成的群組。
同時,可使用黏著劑貼附該第二保護膜。這時,在與本發明所揭露相關的技術領域中,可使用的黏著劑可為習知用於偏光板之黏著劑、膠合劑等。這時,該黏著劑或膠合劑可經由考量該第一保護膜等的材料,適當地加以選擇。舉例來說,在纖維素系薄膜用來當作該第二保護膜的例子中,可使用水性黏著劑,如聚乙烯醇系黏著劑;在丙烯酸薄膜的例子中,使用環烯烴聚合物等來當作該第二保護膜,可使用光可固化或熱固定黏著劑,如丙烯酸系黏著劑、環氧系黏著劑等。
這時,在本發明所揭露的相關領域中,用來當作偏光片保護膜或延遲膜的各種類型薄膜,可用來當作該第二保護膜,而沒有限制。舉例來說,該第二保護膜可為至少一種選自:一聚酯系聚合物、一苯乙烯系聚合物、一纖維素系聚合物、一聚醚磺基系聚合物)、一聚碳酸酯系聚合物、一丙烯酸系聚合物、一聚烯烴系聚合物、一聚醯胺系聚合物、一聚醯亞胺基系聚合物、一磺基系聚合物、一聚醚磺基系聚合物、一聚醚醚酮系聚合物、一聚苯硫醚系聚合物、一乙烯醇系聚合物、一氯化亞乙烯系聚合物、一乙烯醇縮丁醛系聚合物、一芳基化合物系聚合物、一聚縮醛系聚合物、一環氧系聚合物及其混合物所組成的群組。
同時,在該聚乙烯醇系薄膜被貼附於該基底膜
之兩表面的例子中,可在一單一製程中生產兩偏光板,獲得優越的製造生產力。在不同的保護膜用來當作第一保護膜,貼附於該薄膜積層板的兩個表面的例子中,有利於在一單一製程中製造兩種不同的產品。
另外,在具有該第一保護膜貼附於該聚乙烯醇系薄膜之一表面、與該黏性層形成於該聚乙烯醇系薄膜之另一表面之該偏光板的例子中,可製造在該聚乙烯醇系薄膜之一表面上具有該保護膜之單面偏光板。在該第二保護膜更貼附於該偏光板的例子中,可製造雙面偏光板。因此,依本發明所揭露例示性實施例之該製造方法,可適用於製造不同類型的偏光板。
同時,依本發明所揭露之例示性實施例,該製造薄偏光板之方法可使用與本發明所揭露相關之技術領域中已知之製程,如片對片製程(sheet-to-sheet process)、片對捲製程(sheet-to-roll process)、捲對捲製程(roll-to-roll process)等。這裡,該片對片製程係使用具有預設尺寸的單張饋紙(sheet-fed)薄膜作為原物料薄膜(即該聚乙烯醇系薄膜、該基底膜與該保護膜),而該片對捲製程係使用一長捲的薄膜捲在一軋輥(roller)上,當作一該原物料薄膜,而且具有預設尺寸之單張饋紙薄膜則當作另一該原物料薄膜。另外,該捲對捲製程係使用數捲薄膜,當作該原物料薄膜。在考量製程連續性與生產力時,該捲對捲製程特別適合使用。
舉例來說,依本發明所揭露之例示性實施例,該製造薄偏光板之方法可包括:當分別從基底膜捲與聚乙
烯醇系薄膜捲展開該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜,利用吸引力或具有黏著強度2N/2cm以下之黏著劑,貼附一基底膜與一聚乙烯醇系薄膜,以形成一薄膜積層板;拉伸該薄膜積層板;從一第一保護膜捲展開第一保護膜,然後將其貼附至該經拉伸之薄膜積層板之該聚乙烯醇系薄膜;以及將已經貼附有該第一保護膜之該聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離。
在該基底膜與該聚乙烯醇系薄膜彼此貼合後,它們可以重新捲到一軋輥上,然後該薄膜積層板可接著從該重捲薄膜積層板軋輥展開,然後引入該拉伸製程,或者不經該重捲製程也可引入該拉伸製程。
另外,進行該分離製程可藉由在該基底膜與該聚乙烯醇薄膜間置入一剝離裝置(例如剝離滾筒)、分離該基底膜與該聚乙烯醇薄膜間的介面、及將該分離後的基底膜與該分離後聚乙烯醇系薄膜捲於不同的滾筒上。
在使用該捲對捲製程製造該偏光板的例子中,可獲得長捲式偏光板。
使用前述之方法所製得之偏光板可包括:具有厚度10μm以下之該聚乙烯醇系偏光片,舉例來說,1μm至10μm、3μm至10μm或1μm至5μm;以及貼附於該聚乙烯醇系偏光片之一表面之該第一保護膜。必要時,該偏光板可進一步包括該黏性層與/或該第二保護膜,其係貼附於該乙烯醇系偏光片之另一表面,此表面相對於該乙烯醇系偏光片已經貼附該第一保護膜之一表面。
另外,即使厚度減少很多,該偏光板仍具有40%至45%之單透光率與99%以上之偏光度,較佳為99.5%以上,更佳為99.7%以上,具有相當卓越的光學性質。
另外,依本發明所揭露之例示性實施例,該偏光板在寬度方向上的偏光度,可具有相當優越的均一性(uniformity)。具體地,在該薄偏光板之寬度方向,測量該薄偏光板上十個等距離的點的偏光度,該偏光度的標準偏差為0.002%以下。
另外,依本發明所揭露之例示性實施例,該偏光板可具有優越的平坦性(flatness),不會有捲曲發生。更具體地,該偏光板之平坦性測量係可將該偏光板置於一平面,測量該偏光板的四個邊緣到其底部的距離,然後計算該些測量值的算術平均值。在平坦性為5mm以下的例子中,可視為具有相當優越的平坦性。
同時,依本發明所揭露之例示性實施例,該偏光板除了該第一保護膜、第二保護膜與/或該黏性層外,可進一步包括一功能性光學層,如增亮膜、底漆層、硬被覆層(hard coating layer)、防眩層(glare proof layer)、抗反射層(anti-reflection layer)等。形成這些光學層的方法沒有特別的限制,可為本發明所揭露之相關技術領域中習知之方法。
相較於已知之偏光板,依本發明所揭露之例示性實施例,本發明之該偏光板相當薄,且具有優良的光性質,有利於使用在顯示裝置中,如液晶顯示器(LCD)面板、有機電致冷光裝置等。
發明實例1
一薄膜偏光片之製造試驗,係利用彼此間的吸引力,將聚乙烯醇薄膜貼附至一60μm之熱塑性聚氨基甲酸酯基底膜之兩表面,以形成一薄膜積層板,以及利用濕式拉伸製程來拉伸該薄膜積層板。這裡,該聚乙烯醇薄膜為一30μm之聚乙烯醇薄膜(M3000級,由日本合成化學工業有限公司製造)。在該些聚乙烯醇薄膜經於25℃純水溶液中進行15秒的膨脹製程之後,在25℃下以含有碘濃度0.3wt%之溶液染色60秒,然後將該些聚乙烯醇薄膜在25℃下以含硼酸濃度1wt%之溶液清潔15秒,接著在52℃下於硼酸濃度2.5wt%之溶液中,以7倍倍率拉伸該些聚乙烯醇薄膜,在拉伸程序之後,該些聚乙烯醇薄膜經於5wt%之KI溶液中的補充程序後,在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。該經乾燥之聚乙烯醇薄膜之厚度為6μm至8μm。在該乾燥程序後,將40μm之三醋酸纖維素(TAC)薄膜設置於個別的聚乙烯醇偏光片之一表面上,其中,該聚乙烯醇偏光片被夾置於其間之聚乙烯醇系水可溶黏著劑貼附至該基底膜之兩表面,而且使用貼合機(laminator)將它們結合在一起。所得之薄膜積層板在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。然後,將在一表面上具有三醋酸纖維素薄膜之個別聚乙烯醇偏光片從該基底膜之兩表面分離下來,因而得到該些聚乙烯醇偏光片,其每一片具有該三醋酸纖維素薄膜貼附於其一表面。然後將該40μm之三醋酸纖維素薄膜以夾置於其間之聚乙烯醇系水可溶黏著劑,設置於個別聚乙烯醇偏光片之另
一表面,而且使用貼合機將它們結合在一起。所得之薄膜積層板在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。結果,可製得薄偏光板,每一片具有TAC/PVA/TAC的結構。
比較實例1
利用在100℃的純水中,溶解聚乙烯醇薄膜(M級,由日本合成化學工業有限公司製造,平均聚合度:2400,平均皂化度:99mol%),製備聚乙烯醇水溶液後,使用唇口塗佈機(lip coater)將該聚乙烯醇水溶液塗覆於一200μm之PET基底膜(NOVA-Clear SG007級,由MGC公司製造)上,然後在80℃的烘箱中乾燥10分鐘,因此形成一薄膜積層板。這時,該聚乙烯醇薄膜的厚度為10μm。在該薄膜積層板經於25℃純水溶液中進行15秒的膨脹程序之後,該薄膜積層板在25℃下以含有碘濃度0.3wt%之碘溶液染色60秒,然後,該薄膜積層板在25℃下於含硼酸濃度1wt%之溶液中進行15秒清潔程序,並在52℃下於硼酸濃度2.5wt%之溶液中,以5.5倍倍率拉伸該薄膜積層板。在拉伸程序之後,該薄膜積層板經於5wt%之KI溶液中的補充程序,然後在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。不過,該聚乙烯塗層在該拉伸程序的過程中被剝離,會造成聚乙烯醇薄膜製造失敗。圖2係比較實例1所製造該薄膜積層板的照片。
比較實例2
利用在100℃的純水中,溶解聚乙烯醇薄膜(M級,由日本合成化學工業有限公司製造,平均聚合度:2400,平均皂化度:99mol%),製備聚乙烯醇水溶液後,使用唇口
塗佈機(lip coater)將該聚乙烯醇水溶液塗覆於一200μm之PET基底膜(NOVA-Clear SG007級,由MGC公司製造)上,然後在80℃的烘箱中乾燥10分鐘,因此形成一薄膜積層板。這時,該聚乙烯醇薄膜的厚度為10μm。在該薄膜積層板經於25℃硼酸濃度1wt%之水溶液中進行15秒的膨脹程序之後,該薄膜積層板在25℃下以含有碘濃度0.3wt%與硼酸濃度3wt%之碘溶液染色60秒,然後,該薄膜積層板在25℃下於含硼酸濃度1wt%之溶液中進行15秒清潔程序,並在60℃下於硼酸濃度2.5wt%之溶液中,以5.5倍倍率拉伸該薄膜積層板。在拉伸程序之後,該薄膜積層板經於5wt%之KI溶液中的補充程序,然後在80℃的烘箱中乾燥8分鐘。該經乾燥之聚乙烯醇薄膜之厚度為4μm至4.5μm。在該乾燥程序後,將40μm之三醋酸纖維素(TAC)薄膜設置於個別的聚乙烯醇偏光片之一表面上,其中,該聚乙烯醇偏光片被夾置於其間之聚乙烯醇系水可溶黏著劑貼附至該基底膜之兩表面,而且使用貼合機(laminator)將它們結合在一起。所得之薄膜積層板在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。然後,將在一表面上具有三醋酸纖維素薄膜之個別聚乙烯醇偏光片從該基底膜之兩表面分離下來,因而得到該些聚乙烯醇偏光片,其每一片具有該三醋酸纖維素薄膜貼附於其一表面。然後將該40μm之三醋酸纖維素薄膜以夾置於其間之聚乙烯醇系水可溶黏著劑,設置於個別聚乙烯醇偏光片之另一表面,而且使用貼合機將它們結合在一起。所得之薄膜積層板在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。結果,可製得
薄偏光板,每一片具有TAC/PVA/TAC的結構。該經製造之薄偏光板之光學性質則使用JASCO V-7100分光光度計(Spectrophotometer)來測量。
比較實例3
在與該發明實例相同的條件下,使用於該發明實例中之30μm之聚乙烯醇系薄膜(M3000級,由日本合成化學工業有限公司製造),且不使用基底膜,只以6倍倍率進行拉伸,因此形成一13μm之偏光元件。以夾置於其間之聚乙烯醇系水可溶黏著劑,將40μm之三醋酸纖維素薄膜貼附至該偏光元件之兩表面上,而且使用貼合機將它們結合在一起。所得之薄膜積層板在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。結果,可製得具有TAC/PVA/TAC的結構之偏光板。
比較實例4
在與該發明實例相同的條件下,使用於該發明實例中之60μm之聚乙烯醇系薄膜(M6000級,由日本合成化學工業有限公司製造),且不使用基底膜,只以6倍倍率進行拉伸,因而形成一22μm之普通偏光元件。以夾置於其間之聚乙烯醇系水可溶黏著劑,將40μm之三醋酸纖維素薄膜貼附至該偏光元件之兩表面上,而且使用貼合機將它們結合在一起。所得之薄膜積層板在80℃的烘箱中乾燥5分鐘。結果,可製得具有TAC/PVA/TAC的結構之偏光板。
實驗例1-光學性質
依發明實例1與比較實例2,該薄偏光板之單
透光率(Ts)、正交透光率(cross transmittance,Tc)、偏光度(DOP)、單色(a,b)與串色(a,b),係使用JASCO V-7100分光光度計進行測量。
依表1,雖然該發明實例1具有比比較實例2更高的單透光率,但是它所具有的偏光度(DOP)高於比較實例2的偏光度。因此,可以看出,該發明實例1具有比比較實例2卓越的光學性能。
同時,如比較實例1,在與該發明實例1相同的程序條件下,在使用塗佈方法來製造薄膜偏光片的例子中,如比較實例2中所述,該已塗佈的聚乙烯醇薄膜被剝離,導致製造薄膜偏光片失敗。在比較實例2的例子中,雖然在該膨脹與染色程序中加入硼酸、增加拉伸溫度,能夠使用該塗佈程序製造聚乙烯醇薄膜,但是卻造成透光率變差。因此,無法製造出本發明所揭露之在具有40%至45%的透光率時,具有99.0%以上偏光度的偏光片。
實驗例2-捲曲性質
依該發明實例1與比較實例3與4,以裸眼觀察該偏光板的捲曲性質。該些對應的偏光板的照片如圖3
所示。由圖3可看出,依據該發明實例1所製造的該偏光板,相較於依據比較實例3與4所製造的偏光板,具有較低的捲曲程度。
實驗例3-偏光度均一性的評估
關於依據發明實例1與比較實例2所製造的偏光片,在每一個偏光片之寬度方向上,測量10個等距離的點的偏光度,然後計算該經測量之偏光度的標準差。該偏光度的測量係使用JASCO V-7100分光光度計。測量結果如表2中所示。
發明實例2
將含有5wt%乙醯乙醯基之聚乙烯醇(由日本
合成化學工業有限公司製造,平均聚合度:2000、平均皂化度:94mol%)溶於純水中,以製備4wt%之聚乙烯醇水溶液。在以6.7重量分對100重量分之聚乙烯醇的比例,添加鈦胺錯合物(titanium amine complex)交聯劑(商品名稱:TYZOR TE,由杜邦公司製造)至該聚乙烯醇水溶液時,要攪拌混合,以製備黏著劑A。
在該黏著劑A塗敷於一40μm之熱塑性聚氨基甲酸酯基底膜之兩表面,然後在其上堆疊20μm之聚乙烯醇薄膜(M2000級,由日本合成化學工業有限公司製造)後,將它們通過貼合機,以製造一薄膜積層板。然後將該薄膜積層板在25℃、純水溶液中,進行膨脹程序15秒後,在25℃、含碘濃度0.3wt%的溶液中染色60秒。之後,該薄膜積層板在25℃、硼酸濃度1wt%之水溶液中,進行清潔程序15秒,然後在52℃、硼酸濃度2.5wt%之溶液中以7倍倍率拉伸該薄膜積層板。在該拉伸程序後,該薄膜積層板在KI濃度5wt%之溶液中進行補充程序,然後在80℃烘箱中乾燥5分鐘。該乾燥後的聚乙烯醇薄膜的厚度為7.5μm。在乾燥程序後,40μm之三醋酸纖維素TAC被設置於個別聚乙烯醇偏光片之一表面上,該些個別聚乙烯醇偏光片係由夾置於其間之聚乙烯醇系水可溶黏著劑,貼附至該基底膜之兩表面上,然後使用貼合機將它們貼合在一起。該所得之薄膜積層板在80℃烘箱中乾燥5分鐘,然後,使用0.7N/2cm之剝離強度,從該基底膜之兩表面分離個別的聚乙烯醇偏光片,其一表面上具有該三醋酸纖維素薄膜,
藉此獲得每一片具有該三醋酸纖維素薄膜貼附於其一表面之該些聚乙烯醇偏光片。然後,使用夾置於其間之聚乙烯醇水可溶黏著劑,將40μm之三醋酸纖維素薄膜設置於個別聚乙烯醇偏光片之該另一表面上,然後使用貼合機,將它們貼合在一起。該所得之薄膜積層板在80℃烘箱中乾燥5分鐘,結果,可製得每一片具有TAC/PVA/TAC結構之薄偏光板。
比較實例5
將商業上可獲得固成分4wt%的聚乙烯醇系黏著劑(商品名稱:JC25,由日本VAM與POVAL有限公司製造)塗敷於一熱塑性聚氨基甲酸酯基底膜之兩表面,接著將20μm之聚乙烯醇薄膜堆疊於其上後,將它們通過貼合機,以形成一薄膜積層板。將該薄膜積層板在25℃、純水溶液中,進行膨脹程序15秒後,在25℃、含碘濃度0.3wt%的溶液中染色60秒。之後,該薄膜積層板在25℃、硼酸濃度1wt%之水溶液中,進行清潔程序15秒,然後在52℃、硼酸濃度2.5wt%之溶液中以7倍倍率拉伸該薄膜積層板。不過,在該拉伸過程中,該薄膜積層板發生破裂現象。
比較實例6
將商業上可獲得固成分4wt%的聚乙烯醇系黏著劑(商品名稱:JC25,由日本VAM與POVAL有限公司製造)塗敷於一熱塑性聚氨基甲酸酯基底膜之兩表面,接著將20μm之聚乙烯醇薄膜堆疊於其上後,將它們通過貼合機,以形成一薄膜積層板。將該薄膜積層板在25℃、純水溶液
中,進行膨脹程序15秒後,在25℃、含碘濃度0.3wt%的溶液中染色60秒。之後,該薄膜積層板在25℃、硼酸濃度1wt%之水溶液中,進行清潔程序15秒,然後在52℃、硼酸濃度2.5wt%之溶液中以7倍倍率拉伸該薄膜積層板。然後,該薄膜積層板在KI濃度5wt%之溶液中進行補充程序,然後在80℃烘箱中乾燥5分鐘。
本例中,雖然在該拉伸與清潔程序中,該薄膜積層板不會發生破裂,但是,該經拉伸的薄膜積層板的側邊卻會有捲曲發生。圖4係依據比較實例6,該薄膜積層板拉伸後狀態的照片。同時,圖5係依據發明實例2,該薄膜積層板拉伸後狀態的照片。如圖4與圖5所示,依據比較實例6,該薄膜積層板拉伸後其該側邊會發生捲曲。但是,依據發明實例2,該薄膜積層板卻不會發生這樣的現象。
Claims (14)
- 一種薄偏光板之製造方法,包括:利用彼此間的吸引力或使用一黏著劑,將一未經拉伸之聚乙烯系薄膜貼附至一未經拉伸之基底膜,以形成一薄膜積層板;拉伸該薄膜積層板;將一第一保護膜貼附至該經拉伸之薄膜積層板之該聚乙烯醇系薄膜;以及將貼附有該第一保護膜貼附之該聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離,其中該薄膜積層板係於20℃至85℃之溫度下、在6至15倍之倍率下透過溼拉伸來進行拉伸。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,該未經拉伸之聚乙烯醇系薄膜之厚度係10μm至60μm。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,該黏著劑包含一聚乙烯醇系樹脂,該樹脂具有一乙醯乙醯基與一胺系金屬化合物交聯劑。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,該薄膜積層板係在一具有硼酸濃度1%至5%之硼酸水溶液中進行拉伸。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,拉伸該薄膜積層板係使該聚乙烯醇系薄膜之厚度為10μm以下。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,該具有該第一保護膜貼附之聚乙烯醇系薄膜與該基底膜係使用 2N/2cm以下之剝離強度來進行分離。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,更包括:在拉伸該薄膜積層板前,使用碘與二色性染料中至少一種,將該薄膜積層板染色。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,更包括:在拉伸該薄膜積層板後,乾燥該經拉伸之薄膜積層板。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,更包括:在該具有該第一保護膜貼附之聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離之後,將一第二保護膜貼附至該聚乙烯醇系薄膜之無保護膜之一表面。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,更包括:在該具有該第一保護膜貼附之聚乙烯醇系薄膜與該基底膜分離之後,於該聚乙烯醇系薄膜之無保護膜之一表面上形成一黏性層。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,在20℃至85℃的溫度下,該基底膜之最大拉伸倍率為5倍以上。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,該基底膜包括至少一選自由:一高密度聚乙烯薄膜、一聚氨基甲酸酯薄膜、一聚丙烯薄膜、一聚烯烴薄膜、一酯系薄膜、一低密度聚乙烯薄膜、一高密度聚乙烯與低密度聚乙烯經共擠出之薄膜、一具有在高密度聚乙烯中含有乙烯醋酸乙烯酯之共聚合物樹脂薄膜、一丙烯酸薄膜、一聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜、一聚乙烯醇系薄膜與一纖維素薄膜所組成的群組。
- 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中,該第一保護膜包括至少一選自由:一聚酯系聚合物、一苯乙烯系聚合物、一纖維素系聚合物、一聚醚磺系聚合物、一聚碳酸酯系聚合物、一丙烯酸系聚合物、一聚烯烴系聚合物、聚醯胺系聚合物、一聚亞醯胺系聚合物、一磺基系聚合物、一聚醚磺基系聚合物、一聚醚醚酮系聚合物、一聚苯硫系聚合物、一乙烯醇系聚合物、一氯化亞乙烯系聚合物、一乙烯縮丁醛系聚合物、一芳基化合物系聚合物、一聚縮醛系聚合物、一環氧系聚合物及其混合物所組成的群組。
- 如申請專利範圍第9項所述之製造方法,其中,該第二保護膜包括至少一選自由:一聚酯系聚合物、一苯乙烯系聚合物、一纖維素系聚合物、一聚醚磺系聚合物、一聚碳酸酯系聚合物、一丙烯酸系聚合物、一聚烯烴系聚合物、一聚醯胺系聚合物、一聚亞醯胺系聚合物、一磺基系聚合物、一聚醚磺基系聚合物、一聚醚醚酮系聚合物、一聚苯硫系聚合物、一乙烯醇系聚合物、一氯化亞乙烯系聚合物、一乙烯縮丁醛系聚合物、一芳基化合物系聚合物、一聚縮醛系聚合物、一環氧系聚合物及其混合物所組成的群組。
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