TWI486647B - Method of manufacturing phase difference plate - Google Patents

Method of manufacturing phase difference plate Download PDF

Info

Publication number
TWI486647B
TWI486647B TW101142197A TW101142197A TWI486647B TW I486647 B TWI486647 B TW I486647B TW 101142197 A TW101142197 A TW 101142197A TW 101142197 A TW101142197 A TW 101142197A TW I486647 B TWI486647 B TW I486647B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light
alignment
transmitting substrate
ultraviolet light
polarized ultraviolet
Prior art date
Application number
TW101142197A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201418795A (zh
Original Assignee
Far Eastern New Century Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Far Eastern New Century Corp filed Critical Far Eastern New Century Corp
Priority to TW101142197A priority Critical patent/TWI486647B/zh
Priority to CN201210592551.2A priority patent/CN103809232A/zh
Priority to JP2013192830A priority patent/JP2014098892A/ja
Priority to KR1020130113685A priority patent/KR20140061227A/ko
Priority to US14/076,947 priority patent/US20140130968A1/en
Publication of TW201418795A publication Critical patent/TW201418795A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI486647B publication Critical patent/TWI486647B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
    • G02B30/20—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes
    • G02B30/22—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the stereoscopic type
    • G02B30/25—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the stereoscopic type using polarisation techniques

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

製造位相差板的方法
本發明是有關一種位相差板的製法，特別是提供一種具有二種配向方向之位相差板的製法。
習知，3D立體顯示技術主要可分成兩大類，一類是裸眼式(glasses-free)，另一類則是眼鏡式。一般而言，裸眼式技術易有影像解析度較差、亮度降低，以及難以達到多視角等問題，使得影像品質較差且觀看的位置會受到限制，此為目前裸眼式技術仍難以克服的課題。
眼鏡式的立體顯示技術雖然在使用上增加了需額外配戴3D眼鏡的困擾，但具有視角寬廣且可提供多人觀看的優點。在眼鏡式技術當中，以偏光式眼鏡技術較為成熟，其在製作上具有成本較低、配戴輕便，且可改善快門式眼鏡影像閃爍的問題等優勢。
現有偏光式眼鏡技術需利用能分別改變左眼影像及右眼影像偏極狀態的薄膜單元。此薄膜單元一般係利用圖樣化的偏光片或是位相差板，對應至交錯配置的影像顯示單元，分別將左眼影像及右眼影像改變為不同的偏極方向，再使左眼影像及右眼影像分別投影至左眼及右眼，進而產生3D的立體影像效果。
歐洲專利EP0887667揭露了一種以多次摩擦配向的方式，製成具有不同配向方向的圖樣化位相差板。但其易因摩擦配向產生粉塵靜電的問題，且此技術需使用複雜的曝光顯影(complicated photolithography)製程，操作上不易精 準地控制，致使其存在有良率過低的問題，並不適用於量產。此外，習知可採用光配向技術來避免摩擦配向所導致的靜電問題，且僅需要以硬質光罩遮蓋而區分出不同的區域後，再分別利用不同方向的線性偏極紫外光使用以配向液晶材料的光配向材料層之不同區域分別固化，接著塗佈液晶並以非線性偏極(non-linearly polarized)紫外光將其固化，藉此製得具有二種配向方向之圖樣化的位相差板。但該技術需要經過光罩(例如：硬質石英光罩)遮蓋，難以應用於產線上捲對捲(roll to roll,R2R)製程中，且使用光罩時必須搭配平行光源照射，方可製作出精確且配向結果均勻的圖樣化位相差板。因前述方法存有製程成本過高、不利於大面積化照射並快速製作、配向結果不均勻等缺陷，難以於量產製程中實施。
由於前述習知製作具有二種配向方向的位相差板的方法，均有良率低、成本過高、及難以應用於R2R製程等問題，因此，開發出一種製程簡易、成本低廉且品質佳的位相差板製作方法，是有其必要的。
因此，本發明之目的即在提供一種製作位相差板的方法，包含：在一提供圖樣化透光基材步驟中，提供一具有二相反側的圖樣化透光基材，在該圖樣化透光基材的任一側的表面上具有一遮光圖樣，在該圖樣化透光基材的其中一側的表面上具有一感壓黏著層；在一貼合步驟中，提供一配向透光基材，將該配向透光基材的第一側的表面與該感壓黏著層接觸，使該圖樣化透光基材與該配向透光基材 貼合；在一形成光配向材料層步驟中，在相對於該配向透光基材之第一側的第二側的表面上形成一光配向材料層；在一第一照光步驟中，將一具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光(first PUV)，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層；在一第二照光步驟中，將一具有不同於該第一偏極方向之第二偏極方向的第二線性偏極紫外光(second PUV)照射該光配向材料層；以及在一固化液晶步驟中，將一液晶塗佈材料塗佈於一具有二種配向方向之光配向層上，以形成一液晶材料層，其中，該具有二種配向方向之光配向層是由該光配向材料層經過該等照光步驟後所形成，之後固化該液晶材料層，以形成一具有二種配向方向之位相差板，其中，該貼合步驟是在該第一照光步驟前實施。
本發明之另一目的即在提供一種位相差板，是藉由前述方法所製備而得，且具有二種配向方向之位相差板。
本發明之功效在於：本發明位相差板的製法不需使用硬質光罩遮蔽光源，因此可適用於R2R製程當中，亦不需使用平行光源，解決了習知技術需採用昂貴且精準對位的設備方可得到高品質的位相差板的問題，更是一種成本低廉的位相差板製造方法。
本發明提供一種製作位相差板的方法，包含：在一提供圖樣化透光基材步驟中，提供一具有二相反側的圖樣化透光基材80，在該圖樣化透光基材80的任一側的表面上具有一遮光圖樣20，在該圖樣化透光基材80的其中一側的表 面上具有一感壓黏著層70；在一貼合步驟中，提供一配向透光基材10，將該配向透光基材10的第一側101的表面與該感壓黏著層70接觸，使該圖樣化透光基材80與該配向透光基材10貼合；在一形成光配向材料層步驟中，在相對於該配向透光基材10之第一側101的第二側102的表面上形成一光配向材料層30；在一第一照光步驟中，將一具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光401，自該配向透光基材10之第一側101朝該第二側102的方向照射該光配向材料層30；在一第二照光步驟中，將一具有不同於該第一偏極方向之第二偏極方向的第二線性偏極紫外光402照射該光配向材料層30；以及在一固化液晶步驟中，將一液晶塗佈材料塗佈於一具有二種配向方向之光配向層32上，以形成一液晶材料層50，其中，該具有二種配向方向之光配向層32是由該光配向材料層30經過該等照光步驟後所形成，之後固化該液晶材料層50，以形成一具有二種配向方向之位相差板52，其中，該貼合步驟是在該第一照光步驟前實施。
較佳地，在該第一照光步驟後，還包含一將該感壓黏著層70與該配向透光基材10分離的分離步驟。
較佳地，該分離步驟是在該固化液晶步驟前實施。
較佳地，該分離步驟是在該第二照光步驟前實施(如以下第四及第六實施態樣所述)。
較佳地，該貼合步驟是在該第二照光步驟後實施(如以下第五及第七實施態樣所述)。
較佳地，該第一照光步驟是在該第二照光步驟前實 施，且該光配向材料層曝露於該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量高於該第二線性偏極紫外光的累積曝光能量(如以下第一、第二、第四及第六實施態樣所述)。
較佳地，該第二照光步驟是在該第一照光步驟前實施，且該光配向材料層曝露於該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量不低於該第二線性偏極紫外光的累積曝光能量(如以下第三、第五及第七實施態樣所述)。
為使熟習本發明領域之技藝者便於暸解本發明揭示之技術，以下配合參閱圖式，示例說明本發明製造位相差板的方法。必須要注意的是，以下之說明內容中，類似的元件係以相同的編號來表示。
參閱第1圖至第7圖，本發明製造位相差板之第一具體實施態樣，包含下列步驟：
提供一具有二相反側的圖樣化透光基材80，在該圖樣化透光基材80的任一側的表面上具有一遮光圖樣20(參見圖1)。
接著，於該圖樣化透光基材80之具有該遮光圖樣20的一側的表面上設置一感壓黏著層70(如圖1所示)，並將設置有該感壓黏著層70的一側，與一配向透光基材10之第一側101的表面相貼附，且貼附時需使該配向透光基材10之慢軸方向與該圖樣化透光基材80之慢軸方向的夾角為0°或90°。
接著，在相對於該配向透光基材10之第一側101的第二側102的表面上形成一光配向材料層30，其具有複數個對應於該遮光圖樣20簍空部分之第一區301與複數個對應 於該遮光圖樣20遮蔽部分之第二區302(如圖2所示)。
將一具有一第一偏極方向的第一線性偏極紫外光401，自該配向透光基材10之第一側101朝該第二側102的方向照射該光配向材料層30，使該光配向材料層30之第一區301具有一第一配向方向(參見圖3)。
另外，由於該遮光圖樣20的遮蔽，該光配向材料層30之第二區302無法受到該第一線性偏極紫外光401的照射，因此該等第二區302不具有任何配向方向且無固化之效果(如圖3所示)。
參閱圖4，將一具有不同於該第一偏極方向之第二偏極方向的第二線性偏極紫外光402，自該配向透光基材10之第二側102朝該第一側101的方向照射該光配向材料層30，使該光配向材料層30之第二區302具有一第二配向，藉此得到一具有二種配向方向之光配向層32。
參閱圖5，接著，將該圖樣化透光基材80連同該感壓黏著層70與該配向透光基材10剝離。
參閱圖6，將一液晶塗佈材料塗佈於該具有二種配向方向之光配向層32之表面上，以形成一液晶材料層50，接著固化該液晶材料層50，得到一具有二種配向方向之位相差板52(如圖7所示)。
設置該遮光圖樣20的方式並無特別的限制，例如可依所需圖樣，將遮光材料印刷於該圖樣化透光基材80之任一側的表面上。
該遮光圖樣20包含的遮光材料，於本發明中並無特別的限制，只要是可以將欲濾除的光波段加以吸收或是反 射，任何熟習技藝者所熟知可應用於本技術領域之遮光材料皆可應用於此，該遮光圖樣20可包含但不僅限於一紫外光(UV)吸收劑或一遮光墨水。
前述可應用於本發明之UV吸收劑，包含但不僅限於二苯甲酮(benzophenone)或苯并***(benzotriazole)。
前述可應用於本發明之遮光墨水，包含但不僅限於，碳黑、石墨、偶氮染料或酞青素(phthalocyanine)染料。
印刷遮光材料的方式，使用者可依據實施上之便利性加以選擇，包含但不僅限於網版印刷、凹版印刷或噴灑墨水。
該遮光圖樣20之光穿透率係利用該遮光圖樣20包含之UV吸收劑或遮光墨水之塗佈劑量加以調控。
遮光圖樣之光穿透率之定義為通過遮光圖樣的光通量佔入射前之總光通量的百分率，其特別係針對欲濾除的波段的光而言，因此，光穿透率以越低者為越佳。可應用於形成本發明中該遮光圖樣20之光穿透率為不高於20%，較佳為不高於15%，更佳為不高於10%。
該感壓黏著層70設置的方式，於本發明中並無特別限制，實施者可考量實施之便利性加以選擇，包含但不僅限於旋轉塗佈(spin coating)、線棒塗佈(bar coating)或狹縫式塗佈(slot coating)等方式。
可應用於本發明中之感壓黏著層70，包含但不僅限於丙烯酸感壓黏劑、氨酯感壓黏劑、聚異丁烯感壓黏劑、橡膠感壓黏劑(如苯乙烯-丁二烯橡膠，SBR)、聚乙烯醚感壓黏劑、環氧感壓黏劑、三聚氰胺感壓黏劑、聚酯感壓黏劑、 酚類感壓黏劑、矽感壓黏劑或上述之混合物。
習知，光配向材料層的材料經光照射後會發生光化學反應，根據所發生之不同機制的光化學反應，可大致分為：光致異構型(photo-induced isomerization)、光致交聯型(photo-induced cross-linking)及光致裂解型(photo-induced cracking)樹脂等三種類型。可應用於本發明中之光配向材料，並無特別的限制，實施者可根據製程上操作的便利性加以選擇，較佳為光致交聯型樹脂。
上述光致交聯型樹脂較佳是選自肉桂酸酯系衍生物、苯基苯乙烯基酮系衍生物、馬來醯亞胺基系衍生物、喹啉酮基系衍生物、雙苯亞甲基系衍生物及香豆素酯系衍生物或其組合。
形成該光配向材料層30的方式，並無特別限制，實施者可考量實施之便利性加以選擇，包含但不僅限於旋轉塗佈、線棒塗佈、浸沾式塗佈(dip coating)、狹縫式塗佈、網版印刷或凹版印刷等方式。
可應用於本發明中之配向透光基材10與圖樣化透光基材80的材料，並無特別的限制，只要是可撓曲且具透明性，該材料可選自但不僅限於聚酯系樹脂、醋酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫系樹脂、聚二氯乙烯系樹脂或甲基丙烯酸系樹脂。
可應用於本發明中該配向透光基材10與該圖樣化透光 基材80的材料較佳為三醋酸纖維素或聚碳酸酯。
線性偏極紫外光係指具有單一線性偏極方向之平面紫外光，係以一般非線性偏極紫外光經篩除其他方向之偏極紫外光，僅留下所需之單一線性方向之偏極紫外光而得，一般可利用偏光膜或光柵即可篩得線性偏極紫外光。而非線性偏極紫外光即為一般紫外光源所散發出來的光，又稱為圓偏極紫外光，其係於各方向上等強度分佈，進行全方向照射。
以光致交聯型樹脂為例，當其經由一具有預設偏極方向之線性偏極紫外光照射，光配向材料層中光配向材料的分子將受到線性偏極紫外光的影響，會重新排列成具有該預設方向(配向方向)，而在進行交聯固化後，形成一光配向層。當將液晶進一步塗佈於該光配向層時，該光配向層可誘使設置於其上的液晶分子沿著該配向方向排列，而產生液晶配向的效果。
為達成前述具有二種配向方向效果之目的，其中，該第一線性偏極紫外光401之累積曝光能量需高於該第二線性偏極紫外光402之累積曝光能量，以確保該光配向材料層30之第一區301保有其第一配向。此外，該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量較佳為不大於500 mJ/cm2 ，因過高的累積曝光能量需要耗費較長的曝光時間，會影響捲對捲製程的生產效率，同時也需要耗費較高的能源輸出，使得製程成本大幅提高。
上述之『累積曝光能量』(dosage)係定義為：每單位面積之該光配向層在一次曝露於線性偏極紫外光期間所累積 的總照射能量。
特別要注意的是，該光配向材料層30之第一區301及第二區302皆受到該第二線性偏極紫外光402的照射，但由於該第一線性偏極紫外光401之累積曝光能量高於該第二線性偏極紫外光402之累積曝光能量，該等第一區301已具有之第一配向方向並不會受到該第二線性偏極紫外光402照射的影響而改變其配向方向。前述第二線性偏極紫外光402照射光配向材料層之累積曝光能量，熟習技藝者可依需求(例如：使用之設備種類、光配向材料之種類等)以合適的累積曝光能量照射。例如，光致交聯型樹脂僅需以照射劑量不小於5 mJ/cm2 之線性偏極紫外光照射，即可進行光化學反應而具有配向效果。
本發明中塗佈該感壓黏著層70時，是先以溶液態塗佈於該圖樣化透光基材80的表面上，選擇一可侵蝕(etch)該圖樣化透光基材80的溶劑，能使得該感壓黏著層70與該圖樣化透光基材80之表面間的接著力，較該感壓黏著層70與空氣之接觸面的接著力大。因此，當將該感壓黏著層70與空氣之接觸面貼附於該配向透光基材10的第一側101的表面後(如圖1所示)，可再將該感壓黏著層70與該配向透光基材10的第一側101的表面分離，並同時保持該感壓黏著層70與該圖樣化透光基材80的接著(如圖5所示)。
可選擇地，以一離型劑處理該配向透光基材10的第一側101的表面，能使得該感壓黏著層70與該配向透光基材10的第一側101的表面間的接著力小於與該圖樣化透光基材80的接著力，因此在該貼合步驟中，該感壓黏著層70 是可分離地貼附於該配向透光基材10的第一側101的表面。
可應用於本發明中之液晶塗佈材料的塗佈方式，並無特別限制，實施者可考量實施之便利性加以選擇，包含但不僅限於旋轉塗佈、線棒塗佈、浸沾式塗佈、狹縫式塗佈或捲對捲塗佈等塗佈方式。
上述液晶塗佈材料的種類，並無特殊的限制，任何熟習技藝者所熟知可應用於本領域之液晶塗佈材料皆可應用於此，包含但不僅限於光致交聯型液晶。
可應用於本發明中固化該液晶材料層50的方式，並無特別限制，以光致交聯型液晶為例，係以一非線性偏極紫外光60照射該液晶材料層50，使得該液晶材料層50固化(如圖6所示)。
上述液晶塗佈材料塗佈於該光配向層32的表面上時，因受到其下方之光配向層32具有之配向方向的誘導，該液晶塗佈材料中的液晶分子將沿著該配向方向排列而具有配向效果。因上述光配向層32具有二種配向方向，故該液晶塗佈材料將受到該光配向層32的誘導，使得該液晶材料層50對應形成複數個具有第一配向方向之第一區521及複數個具有第二配向方向之第二區522。該液晶材料層50經該非線性偏極紫外光60照射後，固化而形成該具有二種配向方向之位相差板52(如圖7所示)。
參閱圖8至圖12，本發明製造位相差板的方法之第二具體實施態樣，係改於該圖樣化透光基材80之具有該遮光圖樣20的相反側上設置該感壓黏著層70，其餘製備方法如 前一實施態樣所述。
參閱圖13至圖14，本發明製造位相差板之第三具體實施態樣，包含下列步驟：
將一具有第二偏極方向的第二線性偏極紫外光402，自該配向透光基材10之第二側102朝該第一側101的方向照射如圖2中的光配向材料層30，該光配向材料層30受到該第二線性偏極紫外光402之第二偏極方向的影響，使該光配向材料層30之第一區301及第二區302均具有一第二配向(如圖13所示)。
接著，將一具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光401，自該配向透光基材10之第一側101朝該第二側102的方向照射該光配向材料層30，使該光配向材料層30之第一區301由具有第二配向方向轉變為具有第一配向方向(如第14圖所示)。另外，由於該遮光圖樣20的遮蔽，該光配向材料層30之第二區302無法受到該第一線性偏極紫外光401的照射，因此該等第二區302不受到該第一線性偏極紫外光401的影響，其配向方向亦不會發生任何變化而仍具有第二配向方向，藉此，得到一具有二種配向方向之光配向層32。
接著，將該圖樣化透光基材80連同該感壓黏著層70與該配向透光基材10剝離(如圖5所示)。
參閱圖6，將一液晶塗佈材料塗佈於該具有二種配向方向之光配向層32之表面上，以形成一液晶材料層50，接著固化該液晶材料層50，得到一具有二種配向方向之位相差板52(如圖7所示)。
為達成前述具有二種配向方向效果之目的，其中，該第一線性偏極紫外光401之累積曝光能量需不低於該第二線性偏極紫外光402之累積曝光能量。此外，該第一線性偏極紫外光401的累積曝光能量較佳為不大於500 mJ/cm2 ，因過高的累積曝光能量需要耗費較長的曝光時間，會影響捲對捲製程的生產效率，同時也需要耗費較高的能源輸出，使得製程成本大幅提高。
特別要注意的是，該光配向材料層30之該等第一區301在經過該第二線性偏極紫外光402照射後具有該第二配向方向，但由於該第一線性偏極紫外光401之累積曝光能量高於或等於該第二線性偏極紫外光402之累積曝光能量，使得該等第一區301受到該第一線性偏極紫外光401的影響，由原本具有的第二配向方向轉變為具有第一配向方向。
參閱圖15至圖16，本發明製造位相差板之第四具體實施態樣，包含下列步驟：
參閱圖15，將如圖3中經該第一偏極紫外光401照射後的圖樣化透光基材80連同該感壓黏著層70與該配向透光基材10剝離。
參閱圖16，將一具有第二偏極方向的第二線性偏極紫外光402，自該配向透光基材10之第二側102朝該第一側101的方向照射該光配向材料層30，使該光配向材料層30之第二區302具有第二配向，藉此得到一具有二種配向方向之光配向層32。
參閱圖6，將一液晶塗佈材料塗佈於該具有二種配向方 向之光配向層32之表面上，以形成一液晶材料層50，接著固化該液晶材料層50，得到一具有二種配向方向之位相差板52(如圖7所示)。
為達成前述具有二種配向方向效果之目的，其中，該第一線性偏極紫外光401之累積曝光能量需高於該第二線性偏極紫外光402之累積曝光能量，以確保該光配向材料層30之第一區301保有其第一配向。此外，該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量較佳為不大於500 mJ/cm2 。
特別要注意的是，該光配向材料層30之第一區301及第二區302皆受到該第二線性偏極紫外光402的照射，但由於該第一線性偏極紫外光401之累積曝光能量高於該第二線性偏極紫外光402之累積曝光能量，該等第一區301已具有之第一配向方向並不會受到該第二線性偏極紫外光402照射的影響而改變其配向方向。
參閱圖17至圖19，本發明製作位相差板之第五具體實施態樣，包含下列步驟：
在相對於一配向透光基材10之第一側101的第二側102的表面上形成一光配向材料層30。
接著，將一具有第二偏極方向的第二線性偏極紫外光402自該配向透光基材10之第二側102朝該第一側101的方向照射該光配向材料層30(如圖17所示)，使該光配向材料層具有一第二配向。
參閱圖18，提供一具有二相反側的圖樣化透光基材80，在該圖樣化透光基材80的一側的表面上具有一感壓黏著層70，在該圖樣化透光基材80之具有該遮光圖樣20的 相反側上設置一遮光圖樣20，並將設置有該感壓黏著層70的一側與該配向透光基材10之第一側101的表面相貼附。
參閱圖19，接著，將一具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光401，自該配向透光基材10之第一側101朝該第二側102的方向照射該光配向材料層30，使該光配向材料層30之第一區301由具有第二配向方向轉變為具有第一配向方向。另外，由於該遮光圖樣20的遮蔽，該光配向材料層30之第二區302無法受到該第一線性偏極紫外光401的照射，因此該等第二區302不受到該第一線性偏極紫外光401的影響，其配向方向亦不會發生任何變化而仍具有第二配向方向，藉此，得到一具有二種配向方向之光配向層32。
接著，將該圖樣化透光基材80連同該感壓黏著層70與該配向透光基材10剝離(如圖12所示)，並將一液晶塗佈材料塗佈於該具有二種配向方向之光配向層32之表面上，以形成一液晶材料層50，接著固化該液晶材料層50，得到一具有二種配向方向之位相差板52(如圖6、圖7所示)。
為達成前述具有二種配向方向效果之目的，其中，該第一線性偏極紫外光401之累積曝光能量需不低於該第二線性偏極紫外光402之累積曝光能量。此外，該第一線性偏極紫外光401的累積曝光能量不可過高，較佳為不大於500 mJ/cm2 。
本發明製作位相差板之第六具體實施態樣與第四具體實施態樣相似，差別之處為下列步驟：
參閱圖20，在如圖15的剝離步驟後，將一具有第二偏 極方向的第二線性偏極紫外光402，自該配向透光基材10之第一側101朝該第二側102的方向照射該光配向材料層30，使該光配向材料層30之第二區302具有第二配向，藉此得到一具有二種配向方向之光配向層32。其餘製備方法如第四具體實施態樣所述。
本發明製作位相差板之第七具體實施態樣與第五具體實施態樣相似，差別之處為下列步驟：
在相對於一配向透光基材10之第一側101的第二側102的表面上形成一光配向材料層30。
接著，參閱圖21，將一具有第二偏極方向的第二線性偏極紫外光402自該配向透光基材10之第一側101朝該第二側102的方向照射該光配向材料層30，使該光配向材料層具有一第二配向。其餘製備方法如第五具體實施態樣所述。
此外，為獲致良好的光學顯示效果，應用於本發明中該第一線性偏極紫外光401之第一偏極方向，較佳為與該第二線性偏極紫外光402之第二偏極方向垂直。
本發明中所使用之配向透光基材10與圖樣化透光基材80皆係屬於可撓曲的塑料透光基材。一般而言，塑料基材經由拉伸而製成，其折射率並不均一而具有雙折射率，即具有位相差值。習知，位相差值與雙折射率存在一關係式：Ro=△n．d (a)
在式(a)中，Ro為位相差值；△n為不同軸向之折射率差值，即雙折射率；d為塑料基材厚度。△n係屬於塑料基 材本身具有之物理性質，不同之塑料材料具有不同之△n值。藉由選用不同的塑料材料及基材厚度，即可加以調控位相差值。
若塑料透光基材的位相差值過高，將使得通過其照射至光配向層的線性偏極紫外光的偏振狀態改變，轉變為無法使光配向材料層配向的圓偏極光，或是使光配向材料層配向效果不佳的橢圓偏極光，導致無法誘導液晶分子沿著均一的配向方向進行順向性排列。因此，可應用於本發明中之配向透光基材10與圖樣化透光基材80之位相差值之總和不宜過高。當該配向透光基材之慢軸(折射率較大的軸向)方向與該第一線性偏極紫外光或該第二線性偏極紫外光具有之偏極方向夾0或90度時，該配向透光基材與該圖樣化透光基材之位相差值之總和以小於300 nm為較佳；當該配向透光基材之慢軸方向與該第一線性偏極紫外光或該第二線性偏極紫外光具有之偏極方向夾45度時，該配向透光基材與該圖樣化透光基材之位相差值之總和以小於100 nm為較佳。
本發明為克服先前技術之問題，獲致之功效相較於習知技術具有優越性。
本發明將就以下實施例作進一步說明，但應瞭解的是，該等實施例僅為例示說明之用，而不應被解釋為本發明實施之限制。
1.光配向塗佈液的製備
(1)將甲乙酮(methylethylketone)與環戊酮(cyclopentanone)以1：1的重量比例，配製成3.5 g混合溶劑。
(2)取0.5 g光致交聯型光配向樹脂(瑞士Rolic，型號ROP103，肉桂酸酯系，固含量10%)，加入步驟(1)所配製的3.5 g混合溶劑，得到一固含量為1.25%的光配向塗佈液。
2.液晶塗佈液的製備
取1 g液晶材料(廠商BASF，型號LC242)，加入4 g環戊酮，配製成固含量為20%的液晶塗佈液。
3.遮光圖樣的製備
(1)將黏結劑(熱固型樹脂，型號medium)與溶劑甲苯以1：1混合，配製成10 g混合液。
(2)取紫外光(UV)吸收劑(購自於永光化學，型號Eversorb51)與上述混合液以1：50(即UV吸收劑：黏結劑為1：25)的比例(重量比)混合。接著，根據預設的圖樣以凹版印刷的方式將其印刷至一聚碳酸酯基材(圖樣化透光基材，尺寸為10 cm×10 cm，厚度30 μm，雙折射率差△n為2.17×10-4 ，位相差值為6.5 nm)的任一側的表面上，印刷厚度約1 μm。之後，置於恆溫為60℃的烘箱內烘烤30秒，得到一具有遮光圖樣的基材，測得該遮光圖樣遮蔽部分的光透過率為10%。
4.硬質光罩的製備
將鉻金屬濺鍍於一石英玻璃表面，接著根據預設的圖樣藉由蝕刻得到一具有預設圖樣的硬質光罩。
5.感壓黏著層的製備
取10 g丙烯酸感壓黏劑[溶劑為乙酸乙酯/2-丁酮(體積比為8：2)，固含量為40%]，以線棒塗佈於該圖樣化透光基 材具有該遮光圖樣側的表面上，並使其完全覆蓋於該遮光圖樣之上，然後，將其置於恆溫為100℃的烘箱內烘烤兩分鐘以去除溶劑，再取出靜置待其回復至室溫，形成一感壓黏著層。該感壓黏著層的乾膜厚度約20 μm，對玻璃之剝離力(peel strength against glass)為200(gf/25 mm)(以拉力機進行拉力測試而得)。
6.位相差板的製備
以下照光步驟中所照射的第一線性偏極紫外光與第二線性偏極紫外光皆是使用非平行光源。
A.具有不同位相差值之配向透光基材 <第一次曝光係利用透過圖樣化透光基材的第一線性偏極紫外光> 實施例A1：
實施例A1之位相差板的製法包含以下步驟：
[貼合步驟]貼附感壓黏著層
將上述圖樣化透光基材塗覆有該感壓黏著層側的表面與一聚碳酸酯基材(配向透光基材，尺寸為10 cm×10 cm，厚度30 μm，雙折射率差△n為2.17×10-4 ，位相差值為6.5 nm)的第一側的表面相貼附，且該配向透光基材之慢軸方向與該圖樣化透光基材之慢軸方向的夾角為0°(如圖1所示)。
[形成光配向材料層步驟]製備光配向材料層
取4 g光配向塗佈液，以旋轉塗佈法(3000 rpm，40秒)塗佈於該貼合步驟中該配向透光基材相對於該第一側的第二側的表面上，使其展平後，置於恆溫為100℃的烘箱內烘烤兩分鐘以去除溶劑，再取出靜置待其回復至室溫，以形 成一光配向材料層，膜層厚度約為50 nm。
[第一照光步驟]第一次曝光
以一偏極方向與該配向透光基材之慢軸方向的夾角為0°的第一線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該形成光配向材料層步驟所得之光配向材料層(累積曝光能量為180 mJ/cm2 )，使得該光配向材料層中照射到該第一線性偏極紫外光的區域(第一區)固化且具有一第一配向方向；受遮光圖樣遮蔽的區域(第二區)則尚未固化且不具有配向方向。因此，形成一具有間隔配向效果之光配向材料層(如圖3所示)。
[分離步驟]分離透光基板
將該經第一次曝光後之圖樣化透光基材連同該感壓黏著層由該配向透光基材的第一側的表面上剝離(如圖15所示)。
[第二照光步驟]第二次曝光
分離該圖樣化透光基材後，以一偏極方向與該配向透光基材之慢軸方向的夾角為90°的第二線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該第一次曝光後所得之具有間隔配向效果之光配向材料層(累積曝光能量為90 mJ/cm2 )，使在該第一次曝光中受該遮光圖樣遮蔽的第二區固化且具有一第二配向方向(如圖20所示)。
[固化液晶步驟]製備液晶材料層
取5 g之液晶塗佈液，以旋轉塗佈法(3000 rpm，40秒)塗佈於該光配向層之表面上，再將其置於恆溫為60℃的烘箱內烘烤五分鐘以去除溶劑，然後，取出靜置待其回復至 室溫，得到一液晶材料層。
[固化液晶步驟]製備位相差板
以一非線性偏極紫外光照射上述液晶材料層(累積曝光能量為120 mJ/cm2 )，使該液晶材料層固化，以得到一位相差板。
實施例A2：
實施例A2的製法與實施例A1相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為4.50×10-3 ，位相差值皆為135 nm。
實施例A3：
實施例A3的製法與實施例A1相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為1.33×10-3 ，位相差值皆為40 nm。
實施例A4：
實施例A4的製法與實施例A3相同，僅分別改變該第一線性偏極紫外光及該第二線性偏極紫外光與該配向透光基材的慢軸的夾角為+45°與-45°。
比較例A1' ：
比較例A1' 的製法與實施例A1相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為5.00×10-3 ，位相差值皆為150 nm。
比較例A2' ：
比較例A2' 的製法與實施例A1相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為1.67×10-3 ，位相差值皆為50 nm。
<第一次曝光係利用不透過圖樣化透光基材的第二線性偏極紫外光> 實施例A5：
實施例A5的製法與實施例A1相同，僅改在該圖樣化透光基材不具有該遮光圖樣側的表面上形成感壓黏著層，並將該貼合步驟、該分離步驟及該等照光步驟的流程次序及內容改變如下：
[第二照光步驟]第一次曝光
以一偏極方向與一聚碳酸酯基材(配向透光基材，尺寸為10 cm×10 cm，厚度30 μm，雙折射率差△n為2.17×10-4 ，位相差值為6.5 nm)的慢軸方向的夾角為90°的第二線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層(累積曝光能量為90 mJ/cm2 )，使得照射到該第二線性偏極紫外光的光配向材料層之第一區與第二區具有一第二配向方向(如圖21所示)。
[貼合步驟]貼附感壓黏著層
將上述圖樣化透光基材塗覆有該感壓黏著層側的表面與該配向透光基材的第一側的表面相貼附，且該配向透光基材之慢軸方向與該圖樣化透光基材之慢軸方向的夾角為0°(如圖18所示)。
[第一照光步驟]第二次曝光
以一偏極方向與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為0°的第一線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該第一次曝光後所得之光配向材料層(累積曝光能量為90 mJ/cm2 ，如圖19所示)。
[分離步驟]分離透光基板
將該經二次曝光後之圖樣化透光基材連同該感壓黏著層由該配向透光基材的第一側的表面上剝離(如圖12所示)。
實施例A6：
實施例A6的製法與實施例A5相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為4.50×10-3 ，位相差值皆為135 nm。
實施例A7：
實施例A7的製法與實施例A5相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為1.33×10-3 ，位相差值皆為40 nm。
實施例A8：
實施例A8的製法與實施例A7相同，僅分別改變該第二線性偏極紫外光及該第一線性偏極紫外光與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為-45°與+45°。
比較例A3' ：
比較例A3' 的製法與實施例A5相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為5.00×10-3 ，位相差值皆為150 nm。
比較例A4' ：
比較例A4' 的製法與實施例A8相同，僅改變該配向透光基材及該圖樣化透光基材的雙折射率差△n皆為1.67×10-3 ，位相差值皆為50 nm。
之後，利用微區域位相差量測儀(購自於王子計測機器 株式會社，型號為KOBRA-CCD)觀察並判定實施例A1~A8及比較例A1' ~A4' 中光配向層的第一區及第二區上之位相差板的液晶配向方向，結果如表1所示。利用偏光顯微鏡觀察實施例A1之位相差板的配向結果是否良好。
由實施例A1~A4可以發現，在第二次曝光後，該光配向材料層的第一區具有之第一配向方向並未受到第二次曝光(第二線性偏極紫外光)而改變，形成具有二種且間隔之配向方向之光配向層(如圖20所示)，並在該固化液晶步驟後得到一具有二種且間隔之配向方向之位相差板。此外，實施例A1之位相差板具有良好的均勻配向結果(如圖24所示)。
由比較例A1' 可以發現，在第一次曝光後，由於該配向透光基材及該圖樣化透光基材具有之位相差值總和為300 nm，於該第一線性偏極紫外光與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為0°的條件下，該位相差值總和過高而使得該第一線性偏極紫外光通過該配向透光基材與該圖樣化透光基材後改變其偏振態，由線性偏極紫外光轉變為不具有線性偏振態的圓偏振光，僅可用以固化該光配向材料層，而無法使該光配向材料層具有配向效果；因此，受到該第一線性偏極紫外光照射的光配向材料層的第一區，僅固化但不具有任何配向方向，而受該遮光圖樣遮蔽的區域(第二區)則尚未固化，形成一間隔固化之光配向材料層(如圖22所示)。在第二次曝光中，該第二線性偏極紫外光使得照射到的該光配向材料層之第二區固化，且具有一第二配向方向；而該光配向材料層之第一區，則在第一次曝光後已完全固化，故不受到該第二線性偏極紫外光的影響，仍不具有任何配向方向，形成一間隔且僅具有一種配向方向之光配向層(如圖23所示)，並在該固化液晶步驟後得到一間隔且僅有一種配向方向之位相差板。
相類似地，由比較例A2' 可以發現，在第二次曝光中，由於該配向透光基材及該圖樣化透光基材具有之位相差值總和為100 nm，於該第一線性偏極紫外光與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為+45°的條件下，該位相差值總和過高而使得該第一線性偏極紫外光僅可用以固化該光配向材料層，而無法使該光配向材料層具有配向效果；因此，形成一間隔固化之光配向材料層，並在該固化液晶步驟後得到一間隔且僅有一種配向方向之位相差板。
由實施例A5~A8可以發現，在第二次曝光中，因第二 次曝光(第一線性偏極紫外光)之累積曝光能量不低於第一次曝光(第二線性偏極紫外光)之累積曝光能量(在實施例中為相等)，而可改變該光配向材料層原先由第一次曝光後所得之配向效果(第二配向方向)，使得照射到該第一線性偏極紫外光的光配向材料層的第一區，由第二配向方向轉變為具有第一配向方向；受該遮光圖樣遮蔽的區域(第二區)則不受影響，形成具有二種配向方向之光配向層(如圖19所示)，並在該固化液晶步驟後得到一具有二種且間隔之配向方向之位相差板。
由比較例A3' 可以發現，由於該配向透光基材及該圖樣化透光基材具有之位相差值總和為300 nm，於該第一線性偏極紫外光與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為0°的條件下，該位相差值總和過高而無法使該光配向材料層具有配向效果，並在該固化液晶步驟後得到一間隔且僅有一種配向方向之位相差板。
相類似地，由比較例A4' 可以發現，由於該配向透光基材及該圖樣化透光基材具有之位相差值總和為100 nm，於該第一線性偏極紫外光與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為+45°的條件下，該位相差值總和過高而無法使該光配向材料層具有配向效果，並在該固化液晶步驟後得到一間隔且僅有一種配向方向之位相差板。
因此，由比較例A1' 及A3' 可知，該配向透光基材及該圖樣化透光基材的位相差值總和以小於300 nm為佳。又，當該第一線性偏極紫外光與該配向透光基材之慢軸方向的夾角不為0°或90°時，亦即介於0°~90°之間(特別是±45°) 時，較小的位相差值總和即會使線性偏極紫外光改變偏振態。由比較例A2' 及A4' 可知，當該第一線性偏極紫外光與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為45°時，該配向透光基材及該圖樣化透光基材的位相差值總和以小於100 nm為佳。
當第二次曝光之線性偏極紫外光之累積曝光能量不低於第一次曝光之線性偏極紫外光之累積曝光能量，即可改變第一次線性偏極紫外光曝照光配向材料層後之配向效果，惟第二次曝光之線性偏極紫外光之累積曝光能量不宜過高，實施例A5~A8即利用此特性來達到具有二種配向方向之位相差板之製作。
B.具有不同光穿透率的遮光圖樣 <第一次曝光係利用第一線性偏極紫外光> 實施例B1：
實施例B1的製法與實施例A1相同，僅改變製備該圖樣化透光基材上遮光圖樣的材料組成比例，將UV吸收劑與混合液的混合比例(重量比)改變為1：75(即UV吸收劑：黏結劑為1：37.5)，得到一具有遮光圖樣的圖樣化透光基材，測量該遮光圖樣遮蔽部分的光穿透率，並製得一位相差板。
實施例B2：
實施例B2的製法與實施例B1相同，僅改變製備該圖樣化透光基材上遮光圖樣的材料組成比例，將UV吸收劑與混合液的混合比例(重量比)改變為1：100(即UV吸收劑：黏結劑為1：50)。
實施例B3：
實施例B3的製法與實施例B1相同，僅改變製備該圖樣化透光基材上遮光圖樣的材料及方法，將金屬鉻濺鍍於該圖樣化透光基材上，再以雷射蝕刻的方式，依照預設需求的圖樣將部份金屬鉻層蝕刻去除。
實施例B4：
實施例B4的製法與實施例B1相同，僅改變製備該圖樣化透光基材上遮光圖樣的材料及方法，將1 g黑色油墨(購自台箔科技)，根據預設需求的圖樣以凹版印刷的方式將其印刷至該圖樣化透光基材上，印刷厚度約2 μm。之後，置於恆溫為60℃的烘箱內烘烤30秒。
實施例A1、B1~B4中製備遮光圖樣的材料組成比例、測得遮光圖樣遮蔽部分的光穿透率及對位相差板配向的結果如表2所示。
由表2可得知，如實施例A1、B1、B2及B4所示，遮光圖樣遮蔽部分即使無法完全地阻擋光線穿透，仍可應用於本發明技術當中進而得到一種具有二種配向方向之位相 差板。
C.利用光罩製備位相差板 比較例C1' ：
比較例C1' 的製法與實施例A1相同，僅不經過該貼合步驟及該分離步驟，並將該等照光步驟的流程次序及內容改變如下：
[第二照光步驟]第一次曝光
在該配向透光基材上的光配向材料層上以一間隙物(spacer)間隔地設置一硬質光罩(該硬質光罩與該光配向材料層之距離約為200 μm，以避免該硬質光罩因接觸而影響該光配向材料層)，接著以一偏極方向與該配向透光基材之慢軸方向的夾角為90°的第二線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該形成光配向材料層步驟所得之光配向材料層(累積曝光能量為180 mJ/cm2 )，使得該光配向材料層中照射到該第二線性偏極紫外光的區域(第一區)固化且具有一第一配向方向。
[第一照光步驟]第二次曝光
以一偏極方向與該配向透光基材之慢軸方向的夾角為0°的第一線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該第一次曝光後所得之光配向材料層(累積曝光能量為90 mJ/cm2 )，使在該第一次曝光中受該光罩的遮光預設圖樣所遮蔽的第二區固化且具有一第二配向方向。之後移除該硬質光罩與該間隙物。
比較例C2' ：
比較例C2' 的製法與比較例C1' 相同，僅將該等照光步 驟的流程次序及內容改變如下：
[第一照光步驟]第一次曝光
以一偏極方向與該配向透光基材的慢軸方向的夾角為0°的第一線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層(累積曝光能量為90 mJ/cm2 )，使得照射到該第一線性偏極紫外光的光配向材料層之第一區與第二區具有一第一配向方向。
[第二照光步驟]第二次曝光
在該配向透光基材上的光配向材料層上以一間隙物間隔地設置一硬質光罩(該硬質光罩與該光配向材料層之距離約為200 μm)，接著以一偏極方向與該第一透光基材的慢軸方向的夾角為90°的第二線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該第一次曝光後所得之光配向材料層(累積曝光能量為90 mJ/cm2 )，使得照射到該第二線性偏極紫外光的光配向材料層之第一區轉變為具有一第二配向方向。
利用偏光顯微鏡觀察比較例C1' 及C2' 之位相差板的配向結果是否良好。
如圖25及圖26所示，比較例C1' (圖25)及C2' (圖26)的位相差板具有的配向結果不佳，該等位相差板之第二區配向不均勻，無法量測該等第二區的配向方向，且該等第一區與第二區的交界處呈現模糊的情況。此配向結果是由於在上述照光步驟中所照射的第一線性偏極紫外光與第二線性偏極紫外光皆是採用較低廉的非平行光源照射通過硬質光罩，且硬質光罩與光配向材料層間有間隔，因而會使 得該第二線性偏極紫外光的部分光線擴散並照射至該光罩的預設圖樣所遮蔽的區域(該光配向材料層的第二區)，而非平行光源的擴散，會使線性偏極紫外光的偏極方向改變，進而使第二區的配向結果變得紊亂。
綜上所述，本發明位相差板的製法藉由該感壓黏著層70貼合該配向透光基材10與該圖樣化透光基材80、分別照射該第一線性偏極紫外光401及該第二線性偏極紫外光402的方法、塗佈該液晶材料層50且固化，而得到具有二種配向方向之位相差板。由於該位相差板的製法皆係使用可撓曲的塑料透光基材，可適用於R2R製程中，且該第一線性偏極紫外光401或該第二線性偏極紫外光402係直接透過該圖樣化透光基材80與該配向透光基材10照射至緊貼於該配向透光基材10的第二側102的表面上的光配向材料層30，減少了光源散射的範圍，改善了以往使用硬質光罩時，光罩與光配向材料層間的距離越大會使光源散射的範圍越大，因而需搭配使用平行光源的限制。本製造方法改選用非平行光源，即可製作成光品質的位相差板，大幅降低了製程成本。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例與具體例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
10‧‧‧配向透光基材
101‧‧‧配向透光基材之第一側
102‧‧‧配向透光基材之第二側
20‧‧‧遮光圖樣
30‧‧‧光配向材料層
301‧‧‧第一區
302‧‧‧第二區
32‧‧‧光配向層
401‧‧‧第一線性偏極紫外光
402‧‧‧第二線性偏極紫外光
50‧‧‧液晶材料層
52‧‧‧位相差板
521‧‧‧第一區
522‧‧‧第二區
60‧‧‧非線性偏極紫外光
70‧‧‧感壓黏著層
80‧‧‧圖樣化透光基材
圖1是一剖面示意圖，說明本發明透過一感壓黏著層使一配向透光基材與一圖樣化透光基材貼合的步驟； 圖2是一剖面示意圖，說明本發明在該配向透光基材之第二側上形成一光配向材料層的步驟；圖3是一剖面示意圖，說明本發明以一第一線性偏極紫外光自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖4是一剖面示意圖，說明本發明以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖5是一剖面示意圖，說明本發明將該感壓黏著層與該配向透光基材分離的步驟；圖6是一剖面示意圖，說明本發明在圖5中的光配向材料層上形成一液晶材料層的步驟；圖7是一剖面示意圖，說明本發明一具有二種配向方向的位相差板的結構；圖8是一剖面示意圖，說明本發明透過一感壓黏著層使一配向透光基材與一圖樣化透光基材貼合的步驟；圖9是一剖面示意圖，說明本發明在該配向透光基材之第二側上形成一光配向材料層的步驟；圖10是一剖面示意圖，說明本發明以一第一線性偏極紫外光自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖11是一剖面示意圖，說明本發明以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖12是一剖面示意圖，說明本發明將該感壓黏著層與 該配向透光基材分離的步驟；圖13是一剖面示意圖，說明本發明以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖14是一剖面示意圖，說明本發明以一第一線性偏極紫外光自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖15是一剖面示意圖，說明本發明將該感壓黏著層與該配向透光基材分離的步驟；圖16是一剖面示意圖，說明本發明以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖17是一剖面示意圖，說明本發明以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖18是一剖面示意圖，說明本發明透過一感壓黏著層使一配向透光基材與一圖樣化透光基材貼合的步驟；圖19是一剖面示意圖，說明本發明以一第一線性偏極紫外光自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖20是一剖面示意圖，說明本發明以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖21是一剖面示意圖，說明本發明以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射 該光配向材料層的步驟；圖22是一剖面示意圖，說明比較例A1' 以一第一線性偏極紫外光自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖23是一剖面示意圖，說明比較例A1' 以一第二線性偏極紫外光自該配向透光基材之第二側朝該第一側的方向照射該光配向材料層的步驟；圖24是一偏光顯微鏡照片，說明實施例A1之位相差板的配向結果；圖25是一偏光顯微鏡照片，說明比較例C1' 之位相差板的配向結果；及圖26是一偏光顯微鏡照片，說明比較例C2' 之位相差板的配向結果。
10‧‧‧配向透光基材
101‧‧‧配向透光基材之第一側
20‧‧‧遮光圖樣
30‧‧‧光配向材料層
301‧‧‧第一區
302‧‧‧第二區
32‧‧‧光配向層
402‧‧‧第二線性偏極紫外光
70‧‧‧感壓黏著層
80‧‧‧圖樣化透光基材

Claims (12)

  1. 一種製造位相差板的方法，包含：在一提供圖樣化透光基材步驟中，提供一具有二相反側的圖樣化透光基材，在該圖樣化透光基材的任一側的表面上具有一遮光圖樣，在該圖樣化透光基材的其中一側的表面上具有一感壓黏著層；在一貼合步驟中，提供一配向透光基材，將該配向透光基材的第一側的表面與該感壓黏著層接觸，使該圖樣化透光基材與該配向透光基材貼合；在一形成光配向材料層步驟中，在相對於該配向透光基材之第一側的第二側的表面上形成一光配向材料層；在一第一照光步驟中，將一具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光，自該配向透光基材之第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層；在一第二照光步驟中，將一具有不同於該第一偏極方向之第二偏極方向的第二線性偏極紫外光照射該光配向材料層；以及在一固化液晶步驟中，將一液晶塗佈材料塗佈於一具有二種配向方向之光配向層上，以形成一液晶材料層，其中，該具有二種配向方向之光配向層是由該光配向材料層經過該等照光步驟後所形成，之後固化該液晶材料層，以形成一具有二種配向方向之位相差板；其中，該貼合步驟是在該第一照光步驟前實施，其中，當該第一照光步驟是在該第二照光步驟前實施，該光配向材料層曝露於該第一線性偏極紫外光的累積曝光能 量高於該第二線性偏極紫外光的累積曝光能量；當該第二照光步驟是調換至該第一照光步驟前實施，該光配向材料層曝露於該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量不低於該第二線性偏極紫外光的累積曝光能量。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，在該第一照光步驟後，還包含一將該感壓黏著層與該配向透光基材分離的分離步驟。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，該分離步驟是在該固化液晶步驟前實施。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，該分離步驟是在該第二照光步驟前實施。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，該貼合步驟是在該第二照光步驟後實施。
  6. 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中，該貼合步驟是在該第二照光步驟後實施。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，該配向透光基材與該圖樣化透光基材的材料係分別選自於聚酯系樹脂、醋酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫系樹脂、聚二氯乙烯系樹脂或甲基丙烯酸系樹脂。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，該配向透光基材與該圖樣化透光基材的材料分別為三醋酸纖維素或聚碳酸酯。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，當該配向透光基材之慢軸方向與該第一線性偏極紫外光或該第二線性偏極紫外光具有之偏極方向夾角為0或90度時，該配向透光基材與該圖樣化透光基材之位相差值的總和為小於300nm。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，當該配向透光基材之慢軸方向與該第一線性偏極紫外光或該第二線性偏極紫外光具有之偏極方向夾角為45度時，該配向透光基材與該圖樣化透光基材之位相差值的總和為小於100nm。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，該遮光圖樣包含一紫外光吸收劑或一遮光墨水。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，該第一線性偏極紫外光具有之第一線性偏極方向與該第二線性偏極紫外光具有之第二線性偏極方向垂直。
TW101142197A 2012-11-13 2012-11-13 Method of manufacturing phase difference plate TWI486647B (zh)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW101142197A TWI486647B (zh) 2012-11-13 2012-11-13 Method of manufacturing phase difference plate
CN201210592551.2A CN103809232A (zh) 2012-11-13 2012-12-31 制造位相差板的方法及所制得的位相差板
JP2013192830A JP2014098892A (ja) 2012-11-13 2013-09-18 位相差板の製造方法およびこれにより得られる位相差板
KR1020130113685A KR20140061227A (ko) 2012-11-13 2013-09-25 위상차판의 제조방법 및 이것에 의해 얻어지는 위상차판
US14/076,947 US20140130968A1 (en) 2012-11-13 2013-11-11 Method for fabricating a patterned retarder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW101142197A TWI486647B (zh) 2012-11-13 2012-11-13 Method of manufacturing phase difference plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201418795A TW201418795A (zh) 2014-05-16
TWI486647B true TWI486647B (zh) 2015-06-01

Family

ID=50680530

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101142197A TWI486647B (zh) 2012-11-13 2012-11-13 Method of manufacturing phase difference plate

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20140130968A1 (zh)
JP (1) JP2014098892A (zh)
KR (1) KR20140061227A (zh)
CN (1) CN103809232A (zh)
TW (1) TWI486647B (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102065114B1 (ko) * 2013-03-14 2020-01-10 삼성전자주식회사 파워 소자의 전류 붕괴를 감소시키는 구동방법
WO2015150295A1 (en) * 2014-04-03 2015-10-08 Rolic Ag Optical devices with patterned anisotropy incorporating parallax optic
KR101753941B1 (ko) 2014-08-29 2017-07-04 주식회사 엘지화학 광학 필름
CN105093617A (zh) * 2015-08-05 2015-11-25 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及其制造方法
US20200041807A1 (en) * 2018-08-02 2020-02-06 Christie Digital Systems Usa, Inc. Light emitting diode display with a monolithic wire-grid polarizer for producing three-dimensional images
JP7053870B2 (ja) * 2018-09-28 2022-04-12 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、光学部材の製造方法
KR102566331B1 (ko) * 2019-10-10 2023-08-22 주식회사 엘지화학 광변조 디바이스

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW556351B (en) * 2002-10-25 2003-10-01 Gem Line Technology Co Ltd Manufacturing method to integrate spacer applied in liquid crystal display on the chip
TW201140146A (en) * 2010-01-22 2011-11-16 Lg Chemical Ltd Pressure sensitive adhesive film for an orientating treatment in a photo-orientable layer
TW201235713A (en) * 2010-09-06 2012-09-01 Zeon Corp Retardation plate, method for producing retardation plate, and method for producing laminate
TW201243404A (en) * 2010-12-20 2012-11-01 Sk Innovation Co Ltd Patterned retarder plate and manufacturing method thereof

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3892900A (en) * 1972-11-02 1975-07-01 Daicel Ltd Masking films
US6624863B1 (en) * 1997-06-28 2003-09-23 Sharp Kabushiki Kaisha Method of making a patterned retarder, patterned retarder and illumination source
JP2002303710A (ja) * 2001-04-09 2002-10-18 Nitto Denko Corp 半透過反射板、半透過型偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
US6582775B1 (en) * 2002-07-12 2003-06-24 Eastman Kodak Company Process for making an optical compensator film comprising photo-aligned orientation layer
JP4912344B2 (ja) * 2008-03-21 2012-04-11 富士フイルム株式会社 バリア性積層体とその製造方法、バリア性フィルム基板、デバイスおよび光学部材
WO2011090355A2 (ko) * 2010-01-22 2011-07-28 (주)Lg화학 광배향막 배향 처리용 점착 필름
JP2012014064A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Dainippon Printing Co Ltd 光配向膜の製造方法、位相差フィルムの製造方法、光配向膜製造システム、光配向膜及び位相差フィルム
KR101609380B1 (ko) * 2010-07-16 2016-04-05 엘지디스플레이 주식회사 영상 표시장치용 리타더 및 그 제조방법
US9348077B2 (en) * 2010-12-23 2016-05-24 Lg Display Co., Ltd. Method of manufacturing retarder

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW556351B (en) * 2002-10-25 2003-10-01 Gem Line Technology Co Ltd Manufacturing method to integrate spacer applied in liquid crystal display on the chip
TW201140146A (en) * 2010-01-22 2011-11-16 Lg Chemical Ltd Pressure sensitive adhesive film for an orientating treatment in a photo-orientable layer
TW201235713A (en) * 2010-09-06 2012-09-01 Zeon Corp Retardation plate, method for producing retardation plate, and method for producing laminate
TW201243404A (en) * 2010-12-20 2012-11-01 Sk Innovation Co Ltd Patterned retarder plate and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
TW201418795A (zh) 2014-05-16
KR20140061227A (ko) 2014-05-21
JP2014098892A (ja) 2014-05-29
CN103809232A (zh) 2014-05-21
US20140130968A1 (en) 2014-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI536053B (zh) The method of making the phase difference plate and the prepared phase difference plate and the phase difference plate layer fit
TWI486647B (zh) Method of manufacturing phase difference plate
TWI444724B (zh) 圖案化延遲膜及其製備方法
EP2239602A1 (en) Phase difference plate, method of manufacturing same, and display device
TWI504935B (zh) 光學濾光片以及含有此光學濾光片的立體影像顯示裝置
US9201306B2 (en) Method for producing optical orientation film, method for producing retardation film, system for producing optical orientation film, optical orientation film and retardation film
JP6268941B2 (ja) 偽造防止用デバイスおよびその製造方法
WO2011049326A2 (en) Patterned retardation film and method for manufacturing the same
JP2011164563A (ja) 位相差素子およびその製造方法、表示装置、ならびに光吸収層付き基板およびその製造方法
CN103576231B (zh) 制造位相差板的方法及制得的位相差板与位相差板层合体
TWI465782B (zh) 製造位相差板的方法及位相差板
JP2005004124A (ja) パターン状の位相差制御層の形成方法
TWI486689B (zh) 光學膜片的製作方法以及立體顯示器的製作方法
TW201326989A (zh) 位相差膜的製法
KR101030760B1 (ko) 입체 영상 표시 장치용 광학 필터, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 입체 영상 표시 장치
JP2011215301A (ja) 位相差板の製造方法及びカラーフィルタ基板の製造方法並びに液晶表示装置
JP2012073493A (ja) 液晶シャッターめがね、及び液晶シャッターめがねの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees