JP6268941B2 - 偽造防止用デバイスおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
め込まれた潜像が2種類である場合、偽造防止用デバイスの偽造・模造は比較的容易に行われてしまうため、セキュリティー性の面において問題がある。そこで本発明は、複数の潜像、好ましくは3個以上の潜像を、一デバイス中に容易に含みうることが可能な、偽造防止用デバイスの提供を目的とした。
ラビア印刷、オフセット印刷などの印刷法式によって形成することが好ましい。形成する画像のパターンとしては特に制限は無く、例えば単なる単色の着色画素であってもよいし、絵柄、文字等でよい。
た。そのため従来方法によれば、複数回の露光を繰り返す必要があった。
いはクロムの積層膜等であっても構わない。最後に、レジスト層をリフトオフすれば、アルミ細線からなるストライプパターンを偏光層としてガラス基材に形成した露光用マスクを形成することができる。この方法によれば、本発明のように、偏光方向の異なる領域を二次元平面上に敷設する必要がある場合において、敷設すべき一つの偏光領域の面積が5μ〜100μm程度であっても、精度良く製造が可能である。
2……潜像形成層
3……保護層
4……配向層
5……(個別具体的な)潜像
5a……潜像1
5b……潜像2
10……偽造防止用デバイス
11……偏光マスク
11a……単一の偏光領域のみを有する従来の偏光マスク
11b……単一の偏光領域のみを有する他の従来の偏光マスク
11c……複数の偏光領域を有するワイヤーグリッド方式の偏光マスク
11d……4つの偏光領域を有するワイヤーグリッド方式の偏光マスク
12……遮光領域
13……一定の偏光作用を有する透過領域
14……13と異なる偏光軸を有する透過領域
20……遮光マスク
21……遮光領域
22……透過領域(開口部)
30……偏光フィルター
40……ワイヤーグリッド偏光子
41……金属ワイヤー
42……入射光
42a……電場Eがストライプに垂直
42b……電場Eがストライプに平行
43……透過光
50……紫外線照射光源
Claims (7)
- 基材上に、少なくとも潜像形成層と、保護層と、がこの順に積層され、前記潜像形成層は、それぞれ偏光方向の異なる領域が二次元的に複数敷設された液晶層を含むことを特徴とする偽造防止用デバイスの製造方法であって、前記液晶層はエンボス加工により少なくとも3箇所以上厚みの異なる領域が形成され、前記液晶層は、複数の偏光方向を備えたワイヤーグリッド方式の偏光マスクを介して紫外線を液晶層に1回照射して配向されることを特徴とする偽造防止用デバイスの製造方法。
- 前記潜像形成層は、偏光方向の異なる領域を3つ以上有することを特徴とする請求項1に記載の偽造防止用デバイスの製造方法。
- 前記潜像形成層は、潜像材料を含んだ液晶を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の偽造防止用デバイスの製造方法。
- 前記潜像材料は、色素材料であることを特徴とする請求項3に記載の偽造防止デバイスの製造方法。
- 前記潜像形成層は、配向層を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の偽造防止用デバイスの製造方法。
- 請求項5に記載の偽造防止用デバイスの製造方法であって、前記配向層は、複数の偏光方向を備えたワイヤーグリッド方式の偏光マスクを介して紫外線を配向層に1回照射して配向されることを特徴とする偽造防止用デバイスの製造方法。
- 請求項5及び請求項6に記載の両方の工程を有することを特徴とする偽造防止用デバイスの製造方法。
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