JP6580203B2 - マルチステージシステムおよびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射で1つのターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」は実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして基板テーブルWTまたは「基板サポート」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写されるターゲット部分Cのサイズを制限することになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」は同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTまたは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められてもよい。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光でのターゲット部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の(走査方向の)高さを決定する。
3.別のモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルWTまたは「基板サポート」は移動または走査される。このモードでは一般にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは走査中に基板テーブルWTまたは「基板サポート」が移動するたびに、または連続する放射パルスと放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
制御ユニットまたはコントローラCUはさらに、第1サブセットおよび第2サブセットの電気コイルを駆動する前に、第1サブセットおよび第2サブセットの両方の一部となっている電気コイルを決定し、第1サブセットおよび第2サブセットの両方の一部である少なくともひとつの電気コイルを駆動対象から除く、よう構成される。
1.複数の電気コイルを有するステータと、
第1マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第1ステージと、
第2マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第2ステージと、
前記複数の電気コイルの第1サブセットが前記第1マグネットアセンブリと相互作用するように、および前記複数の電気コイルの第2サブセットが前記第2マグネットアセンブリと相互作用するように、それぞれ駆動することによって、前記ステータに対して前記第1および第2ステージを位置決めするように構成されたコントローラであって、前記第1および第2ステージを前記ステータ上で位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止するように構成される、コントローラと、
を備えるマルチステージシステム。
2.前記複数の電気コイルの前記第1および第2サブセットを駆動する前に、前記コントローラが、
前記第1および第2サブセットの両方の一部である電気コイルを決定し、
前記ステータ上で前記第1および第2ステージを位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止する
ように構成されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
3.前記ステータに対する前記第1および第2ステージの位置を決定するように構成されたセンサを備え、該センサは前記コントローラと通信する実施形態1に記載のマルチステージシステム。
4.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第1ステージの位置を決定し、
決定された前記第1ステージの位置において、前記第1マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第1サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態3に記載のマルチステージシステム。
5.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第2ステージの位置を決定し、
決定された前記第2ステージの位置において、前記第2マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第2サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態3に記載のマルチステージシステム。
6.第1サブセットは前記第1ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択され、第2サブセットは前記第2ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
7.前記第1および第2ステージの位置決めの間、前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれの完全な直下にある電気コイルが少なくとも駆動されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
8.前記第1および第2ステージの位置決めの間、前記第1サブセットの少なくとも9個のコイルと前記第2サブセットの少なくとも9個のコイルが駆動されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
9.前記コントローラは、前記第1ステージと前記第2ステージの間に位置する電気コイルの駆動を防止することによって、前記第1ステージおよび前記第2ステージが互いに近づくことを可能とするよう構成されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
10.前記コントローラは、前記第1ステージと前記第2ステージとが近づいて接触した場合、前記第1および第2サブセットの全ての電気コイルを駆動することにより、前記第1ステージおよび前記第2ステージを単一のステージとして制御するよう構成されることを特徴とする実施形態9に記載のマルチステージシステム。
11.前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれが第1マグネットと第2マグネットとを含み、第1マグネットはキャリアと実質的に直交する磁化の向きを有し、その磁化の向きは前記キャリアを向いており、第2マグネットは前記キャリアと実質的に直交する磁化の向きを有し、その磁化の向きは前記キャリアから離れる向きであり、
前記第1および第2マグネットは、互いに実質的に直交する行と列とからなるパターンにしたがって配置され、前記第1および第2マグネットは各行各列に交互に配置されており、
前記2つのステージは、前記第1ステージと前記第2ステージとが接触するとき前記第1ステージのマグネットシステムのパターンが前記第2ステージのマグネットシステムに続くように配置可能となっている、実施形態10に記載のマルチステージシステム。
12.前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれが奇数個の行および奇数個の列を有し、前記第1マグネットアセンブリは対角線上に配置された第1マグネットを有し、前記第2マグネットアセンブリは対角線上に配置された第2マグネットを有することを特徴とする実施形態11に記載のマルチステージシステム。
13.前記ステータは、前記第1および第2ステージが移動可能である平面を画成することを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
14.放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するサポートと、
第1および第2オブジェクトテーブルと、
前記パターン付与放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
マルチステージシステムと、
を備え、
前記マルチステージシステムは、
複数の電気コイルを有するステータと、
第1マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第1ステージと、
第2マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第2ステージと、
前記複数の電気コイルの第1サブセットが前記第1マグネットアセンブリと相互作用するように、および前記複数の電気コイルの第2サブセットが前記第2マグネットアセンブリと相互作用するように、それぞれ駆動することによって、前記ステータに対して前記第1および第2ステージを位置決めするように構成されたコントローラであって、前記第1および第2ステージを前記ステータ上で位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止するように構成される、コントローラと、
を有し、
前記第1および第2ステージの適切な位置決めによって前記第1および第2オブジェクトテーブルが位置決め可能となるように、前記第1オブジェクトテーブルが前記第1ステージ上に設けられ、前記第2オブジェクトテーブルが前記第2ステージ上に設けられることを特徴とするリソグラフィ装置。
15.前記複数の電気コイルの前記第1および第2サブセットを駆動する前に、前記コントローラは、
前記第1および第2サブセットの両方の一部である電気コイルを決定し、
前記ステータ上で前記第1および第2ステージを位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止する
ように構成されることを特徴とする実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
16.前記ステータに対する前記第1および第2ステージの位置を決定するように構成されたセンサを備え、該センサは前記コントローラと通信する実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
17.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第1ステージの位置を決定し、
決定された前記第1ステージの位置において、前記第1マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第1サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態16に記載のリソグラフィ装置。
18.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第2ステージの位置を決定し、
決定された前記第2ステージの位置において、前記第2マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第2サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態16に記載のリソグラフィ装置。
19.第1サブセットは前記第1ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択され、第2サブセットは前記第2ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択されることを特徴とする実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
20.前記第1および第2ステージの位置決めの間、前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれの完全な直下にある電気コイルが少なくとも駆動されることを特徴とする実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
Claims (13)
- 複数の電気コイルを備えるステータと、
第1マグネットアセンブリを備える第1ステージであって、前記第1ステージは前記ステータに対して移動可能であり、前記第1マグネットアセンブリが、前記ステータと実質的に直交する第1の磁化の向きを有する複数の第1マグネットと、前記ステータと実質的に直交し前記第1の磁化の向きと反対向きの第2の磁化の向きを有する複数の第2マグネットとを備える第1ステージと、
第2マグネットアセンブリを備える第2ステージであって、前記第2ステージは前記ステータに対して移動可能であり、前記第2マグネットアセンブリが、前記第1の磁化の向きを有する複数の第1マグネットと、前記第2の磁化の向きを有する複数の第2マグネットとを備える第2ステージと、
前記第1ステージおよび前記第2ステージを位置決めするように構成されたコントローラと、を備え、
前記第1ステージおよび前記第2ステージは、前記第1マグネットアセンブリの前記第1マグネットおよび前記第2マグネットのパターンが前記第2マグネットアセンブリに連続するように、前記コントローラによって互いに隣接して位置決め可能であるマルチステージシステム。 - 前記第1の磁化の向きを有する前記第1マグネットアセンブリの前記第1マグネットは、前記第2の磁化の向きを有する前記第1マグネットアセンブリの前記第2マグネットと交互に配置され、
前記第1の磁化の向きを有する前記第2マグネットアセンブリの前記第1マグネットは、前記第2の磁化の向きを有する前記第2マグネットアセンブリの前記第2マグネットと交互に配置されている請求項1に記載のマルチステージシステム。 - 前記第1の磁化の向きを有する前記複数の第1マグネットおよび前記第2の磁化の向きを有する前記複数の第2マグネットは、前記第1マグネットアセンブリおよび前記第2マグネットアセンブリにおいて、実質的に直交する行および列のパターンに従って、前記第1の磁化の向きを有する前記複数の第1マグネットおよび前記第2の磁化の向きを有する前記複数の第2マグネットが各行および各列で交互に配置されるように、配置されている請求項1または2に記載のマルチステージシステム。
- 前記コントローラは、前記複数の電気コイルの第1サブセットが前記第1マグネットアセンブリと相互作用するように、および前記複数の電気コイルの第2サブセットが前記第2マグネットアセンブリと相互作用するように、それぞれ駆動することによって、前記ステータに対して前記第1ステージおよび前記第2ステージを位置決めするように構成される請求項1から3のいずれかに記載のマルチステージシステム。
- 前記コントローラは、前記第1ステージと前記第2ステージの間に位置する電気コイルの駆動を防止することによって、前記第1ステージおよび前記第2ステージが互いに近づくことを可能とするよう構成されることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のマルチステージシステム。
- 前記コントローラは、前記第1ステージと前記第2ステージとが近づいて接触した場合、前記第1および第2サブセットの全ての電気コイルを駆動することにより、前記第1ステージおよび前記第2ステージを単一のステージとして制御するよう構成されることを特徴とする請求項5に記載のマルチステージシステム。
- 前記コントローラは、互いに押し合うように前記第1ステージおよび前記第2ステージを制御するように構成される請求項1から6のいずれかに記載のマルチステージシステム。
- 前記ステータに対する前記第1ステージおよび前記第2ステージの位置を測定するように構成されたセンサシステムをさらに備える請求項1から7のいずれかに記載のマルチステージシステム。
- 放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
請求項1から8のいずれかに記載のマルチステージシステムと、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記第1ステージは、基板を保持するためのオブジェクトテーブルを備える請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ステータに対する前記第1ステージおよび前記第2ステージの位置を決定するように構成されたセンサを備え、該センサは前記コントローラと通信する請求項9または10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置は、
使用時において前記パターン付与放射ビームを基板に投影するように構成された投影システムをさらに備え、
前記リソグラフィ装置は、使用時において前記投影システムと前記基板との間に液浸液を配置するように構成されている請求項9から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記第1ステージおよび前記第2ステージを単一のステージとして制御し、一方から他方のステージへ液浸液を移送するために前記第1ステージおよび前記第2ステージの両方を前記投影システムの下方で移動させるように構成される請求項12に記載のリソグラフィ装置。
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