TWI422603B - A composition, a transfer sheet, a melamine cosmetic plate, and a method for producing a melamine cosmetic plate - Google Patents

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TWI422603B
TWI422603B TW097119097A TW97119097A TWI422603B TW I422603 B TWI422603 B TW I422603B TW 097119097 A TW097119097 A TW 097119097A TW 97119097 A TW97119097 A TW 97119097A TW I422603 B TWI422603 B TW I422603B
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Honma Katsumi
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Description

組成物、轉寫片、三聚氰胺化粧板以及三聚氰胺化粧板之製造方法
本發明係關於組成物，轉寫片，三聚氰胺化粧板，及三聚氰胺化粧板之製造方法。
三聚氰胺化粧板，由於表面硬度，耐熱性，耐磨耗性等的諸物性優良，使用於櫃台，桌子等的水平面用途。該三聚氰胺化粧板，一般係將對三聚氰胺樹脂含浸圖案紙，及酚樹脂含浸核紙層積，以平板壓製機加熱加壓而得，該三聚氰胺樹脂含浸圖案紙，係對化粧板用圖案原紙含浸以三聚氰胺-甲醛樹脂為主成分之樹脂液而乾燥者，該酚樹脂含浸核紙，係對摺紙含浸酚-甲醛樹脂為主要成分之樹脂液而乾燥者(参照專利文獻1~3)。
專利文獻1：特開平6-199528號公報
專利文獻2：特開2005-199495號公報
專利文獻3：特開2005-146272號公報
三聚氰胺化粧板，由其樹脂之特徵表面硬度，耐熱性，耐磨耗性等優良，而另一方面，有指紋等的皮脂膜(以下，標示為指紋)等的油汚容易醒目之缺點。再者，有因在於三聚氰胺樹脂層之反光或白暈，而無法將印刷紙的圖像鮮明 地表現之缺點。
本發明係為解決所關先前的缺點而完成者，其目的係在於提供可使用於製造指紋等不容易醒目，可鮮明地表現印刷紙的圖像之三聚氰胺化粧板之製造之組成物，轉寫片，三聚氰胺化粧板，及三聚氰胺化粧板之製造方法。
本發明之組成物，其特徵在於包含：(a)有機矽溶膠；及(b1)矽氧烷接枝型高分子，其係複合化氟樹脂或丙烯酸樹脂，及矽氧烷者；及/或(b2)常溫玻璃塗敷劑。
即，於本發明之組成物，有包含上述(a)成分及上述(b1)成分者；包含上述(a)成分及上述(b2)成分者；以及，包含上述(a)成分及上述(b1)成分及上述(b2)成分者。
本發明之組成物，可使用於例如，於三聚氰胺化粧板之表面，形成由本發明之組成物之硬化物所構成之低折射率層之用途。於表面形成由本發明之組成物之硬化物所構成之低折射率層之三聚氰胺化粧板，指紋不容易醒目。
此係，由於低折射率層，折射率較三聚氰胺樹脂層低，故指紋與低折射率層之折射率差，較指紋與三聚氰胺樹脂層之折射率差小。再者，低折射率層，由於低反射率‧低折射率，而改善了反光、白暈，使用於三聚氰胺化粧板之印刷紙之圖像變的鮮明，而意匠性高。
本發明之化粧板，由於在表面形成由上述組成物之硬化物所構成之低折射率層，故指紋不容易醒目，使印刷紙 之圖像變的鮮明，意匠性高。低折射率層之折射率，以1.5以下為佳。藉由折射率在1.5以下，使指紋更加不易醒目，使印刷紙之圖像變得更加鮮明。
本發明之轉寫片包含：基材；及配置於上述基材上之上述組成物。該轉寫片，可使用於在三聚氰胺化粧板之表面形成低折射率層。使用該轉寫片，則可容易地形成低折射率層。
本發明之三聚氰胺化粧板之製造方法，係將上述之轉寫片、三聚氰胺樹脂含浸紙、及核材層積熱壓成形，去除轉寫片的基材之方法。依照該製造方法，可容易地製造於表面具有低折射率層之三聚氰胺化粧板。在於熱壓成形之溫度條件，以110~180℃之範圍為佳，加壓條件以5~10MPa之範圍為佳。
以下，詳細說明本發明。用於本發明之組成物之矽氧烷接枝型高分子((b1)成分)，係將氟樹脂或丙烯酸樹脂、及矽氧烷複合化者。具體而言，可藉由(A)具有經由氨酯鍵結自由基聚合性不飽和鍵結部分之有機溶劑可溶性氟樹脂2~70重量%；(B)下述化學式1(化學式1中，R1 係氫原子或碳原子數1~10之烴基，R2 、R3 、R4 、R5 、及R6 可互相相同亦可相異之氫原子或碳原子數1~10之烴基，n為2以上的整數)所表示之一邊末端自由基聚合性聚矽氧烷及/或下述化學式2(化學式2中，R7 係氫原子或碳原子數1~10之烴基，R8 、 R9 、R10 、R11 、及R12 可互相相同亦可相異之氫原子或碳原子數1~10之烴基，p係0~10之整數，q係2以上之整數)所表示之單邊末端自由基聚合性聚矽氧烷4~40重量%；及(C)在於自由基聚合反應條件下，與上述(A)成分，除了雙鍵鍵結之聚合反應之外不反應之自由基聚合性單體15~94重量%共聚合而得。
又，其他，使氟樹脂或丙烯酸樹脂與矽氧烷複合化之矽氧烷接枝型高分子，可舉使(A)經由氨酯鍵結具有與自由基聚合性不飽和鍵結部分之有機溶劑可溶性氟樹脂2~70重量%;(B)以上述化學式1所示一邊末端自由基聚合性聚矽氧烷及/或上述化學式2所示一邊末端自由基聚合性聚矽氧烷5~55重量%;(C)具有烷氧基矽基之單體5~55重量%;(D)具有羥基之單體15~50重量%；及(E)具有與上述(A)~(D)成分除了自由基聚合以外不反應之官能基之單體0~73重量%，共聚合而得者。
又，其他，使氟樹脂或丙烯酸樹脂與矽氧烷複合化之矽氧烷接枝型高分子，可舉在於上述之各矽氧烷接枝型高分子，取代上述(A)成分，使用經由氨酯鍵結具有自由基聚合性不飽和鍵結部分，且可溶於有機溶劑之含有硬化性基之丙烯酸系(共)聚合體者。
氟樹脂或丙烯酸樹脂、與矽氧烷複合化之矽氧烷接枝型高分子之市售例可舉，ZX-007C、ZX-001、ZX-022、ZX-022H、ZX-028R、ZX-036(均為富士化成工業株式會社製)等。
用於本發明之組成物之常溫玻璃塗敷劑((b2)成分)，可舉將醇可溶型有機矽化合物，以包含水或有機溶劑等溶液中離子化，作為觸媒添加鹵素、硼者。
B3+ 離子的作用，係藉由與F- 離子反應，而防止因SiF6 之生成．揮發而使SiO2 量減少。B3+ 離子藉由與F- 離子反應而生成BF4 - 錯離子，極為容易地與Si(OR)n之Si交換成為SiF- n+1 錯離子，而促進下式之水解，脫水縮合的結果，可於常溫領域得到金屬氧化物玻璃。残存之B3+ 離子，則藉由甲醇的(CH3 + )的存在以B(OCH3 )3 汽化消失，F- 離子則與含於基材等之OH- 基等接觸反應而以HF汽化消失。在此，R係烷基，M係金屬，X係鹵素。
B3+ +4x- → BX4 -
M(OR)n +BX4 - +n/2H2 O → MX- n+1 +nROH+B3+
MX- n+1 +nH2 O → M(OH)n +(n+1)X-
M(OH)n → 金屬氧化物玻璃+H2 O
可供給硼離子B3+ 之化合物，可舉例如，三烷氧基硼烷B(OR)3 。其中以三乙氧基硼烷B(OEt)3 為佳。反應液中的B3+ 離子濃度，以1.0~10.0莫耳/公升之範圍為佳。又，鹵素離子以F- 、Cl- 或該等的混合物為佳。使用作為鹵素離子源之化合物，只要是可於上述反應液中產生F- 離子或Cl- 離子者即可。F- 離子源，可舉例如，以氟化氫銨NH4 F．HF、氟化鈉NaF等為佳。Cl- 離子源，可舉例如，以氯化銨NH4 Cl等為佳。
常溫玻璃塗敷劑之市售例，可舉SIRAGUSITAL A6200，SIRAGUSITAL B4373(BN)(均為墨東化成工業株式會社製)等。
使用於本發明之組成物之有機矽溶膠，可舉例如，粒徑1~40nm(進一步以粒徑7~30nm為佳)的膠態二氧化矽安定地分散於有機溶劑之膠體溶液。二氧化矽濃度以1~50重量%之範圍為佳，為防止凝膠化以40重量%以下者更佳。
有機矽溶膠之市售品，可舉日產化學工業株式會社製之IPA-ST、IPA-ST-ZL、矽溶膠、NPC-ST-30、EG-ST、DMAC-ST等；或觸媒化成工業株式會社製之OSCAL；扶桑化學工業株式會社製之Quartron(註冊商標)，Clariant Japan株式會社製之Highlink(註冊商標)OG二氧化矽有機溶膠等。
使用於本發明之組成物之有機矽溶膠，以醇等的親水性溶劑取代水性矽溶膠者為佳。以水性矽溶膠作為原料之有機矽溶膠，由於二氧化矽表面的羥基量充分，因此使用本發明之組成物形成三聚氰胺化粧板之低折射率層時，低 折射率層與三聚氰胺層之密著性良好，可提升三聚氰胺化粧板之表面耐久性。分散於疏水性溶劑時，為使溶膠安定化而將表面疏水化處理之有機矽溶膠，二氧化矽表面的羥基量並不充分，而使低折射率層與三聚氰胺層之密著性容易惡化。
在此，所謂親水性(極性)溶劑，係與水具有親和性之溶劑，例如，於分子內具有羥基、羧基、羰基等親水基之親水性有機溶劑。親水性(極性)溶劑，可舉質子性極性溶劑或非質子性極性溶劑。質子性極性溶劑之具體例，可舉甲基醇、乙醇、異丙醇、乙二醇、丙醇等的醇系溶劑、或甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、正丙基溶纖劑等的溶纖系溶劑。非質子性極性溶劑，可舉丙酮、二甲基亞碸(DMSO)、N, N-二甲基甲醯鞍(DMF)、吡啶。
在於本發明之組成物，上述(a)成分，與上述(b1)成分之調合比例，對上述(b1)成分1重量部(固形分換算)，以上述(a)成分4~18重量部(固形分換算)為佳。藉由使上述(a)成分為4重量部以上，二氧化矽表面的羥基量充分，而低折射率層與三聚氰胺之密著性佳，提升三聚氰胺化粧板之表面耐久性。又，藉由使之為18重量部以下，使上述(b1)成分之量不會過低，在於三聚氰胺化粧板，指紋更加不易醒目，印刷紙之圖像變的更鮮明。
在於本發明之組成物，上述(a)成分，與上述(b2)成分之調合比例，對上述(b2)成分1重量部(固形分換算)，以上述(a)成分4~18重量部(固形分換算)為佳。藉由使上述(a) 成分為4重量部以上，二氧化矽表面之羥基量充分，而低折射率層與三聚氰胺之密著性佳，提升三聚氰胺化粧板之表面耐久性。又，藉由使之為18重量部以下，使上述(b2)成分之量不會過低，再於三聚氰胺化粧板，指紋更加不易醒目，印刷紙之圖像變的更鮮明。
用於本發明之轉寫片之基材，使用例如、膠薄膜或金屬箔。塑膠薄膜、可舉例如、聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、玻璃紙、二醋酸纖維素薄膜、三醋酸纖維素薄膜、醋酸丁酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏氯乙烯薄膜、聚乙烯醇簿膜、乙烯乙烯醇薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚碸薄膜、聚醚酮薄膜、聚醚碸薄膜、聚醚醯亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、尼龍薄膜、丙烯酸薄膜等。
金屬箔，使用例如、金箔、銀箔、銅箔、鋅箔、銦箔、鋁箔、錫箔、鐵(包含不銹鋼(SUS)箔)箔、鈦箔等。
本發明之轉寫片，可以例如，於基材塗佈組成物之方法製造。塗佈方法，可使用習知之方法，例如，噴灑塗佈法、凹版塗佈法、棒塗佈法、刀塗佈法、輥輪塗佈法、括刀塗佈法、模具塗佈法、淋幕塗佈法、反向塗佈法、切角塗佈法等。以如此之方法所得之轉寫片，係在三聚氰胺樹脂含浸紙(例如三聚氰胺樹脂含浸圖案紙，三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙)之上使組成物之塗佈面抵接地層積，與核材一起熱壓成型。
使用本發明之組成物形成之低折射率層之厚度(乾燥 時)，在以上述(a)成分及上述(b1)成分構成之組成物時，以0.5~15μm之範圍為佳。
藉由使厚度在於該範圍內，可容易地使低折射率層之折射率為1.5以下。又，藉由使膜厚為0.5μm以上，在於三聚氰胺化粧板，可使指紋更加不易醒目，印刷紙之圖像可更加鮮明。又，藉由使膜厚為15μm以下，低折射率層之白化不容易發生，可使三聚氰胺化粧板之外觀良好。
使用本發明之組成物形成之低折射率層之厚度(乾燥時)，在以上述(a)成分及上述(b2)成分所構成之組成物時，以0.5~15μm之範圍為佳。藉由使厚度在於該範圍內，可容易地使低折射率層之折射率為1.5以下。又，藉由使膜厚為0.5μm以上，在於三聚氰胺化粧板，可使指紋更加不易醒目，印刷紙之圖像可更加鮮明。又，藉由使膜厚為15μm以下，低折射率層之白化不容易發生，可使三聚氰胺化粧板之外觀良好。
於本發明之三聚氰胺化粧板，及本發明之三聚氰胺化粧板之製造方法，可使用例如，使三聚氰胺-甲醛樹脂作為主成分之樹脂液含浸於粧板用化粧紙，乾燥得到三聚氰胺樹脂含浸紙(三聚氰胺樹脂含浸圖案紙)。化粧板用的化粧紙之秤量，例如，以80~140g/m2 程度之範圍為佳。又，以式1定義之樹脂液之含浸率，例如，以70~160%之範圍為佳。
以本發明之三聚氰胺化粧板，及本發明之三聚氰胺化粧板之製造方法，亦可為提升三聚氰胺化粧板之表面之耐磨耗性之目的，將於覆蓋原紙含浸以三聚氰胺-甲醛樹脂為主成分之樹脂液之三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙層積於最上層(惟，去除低折射率層)熱壓成形。三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙，可以例如，對秤量20~60g/m2 程度之覆蓋原紙，將以三聚氰胺-甲醛樹脂作為主成分之樹脂液以200~400%之含浸率含浸，乾燥而得。
於本發明之三聚氰胺化粧板，及本發明之三聚氰胺化粧板之製造方法，可使用例如，對摺紙，含浸以酚-甲醛樹脂作為主成分之樹脂液，乾燥而得之核材。摺紙之秤量，例如，以150~300g/m2 程度之範圍為佳。又，以上述數式1定義之樹脂液之含浸率，例如，以30~80%之範圍為佳。
以下，將本發明以實施例、比較例說明，惟本發明並非有任何受限於以下所示之例者。
實施例1 1.組成物之製造
將矽氧烷接枝型高分子1重量部(固形分換算)，及有機矽溶膠10重量部(固形分換算)。使用複合化氟樹脂與矽氧烷之ZX-022H(羥基價120，酸價0，溶劑種；二甲苯/醋酸丁基/異丙醇，富士化成工業株式會社製)作為矽氧烷接枝型高分子。又，使用IPA-ST(異丙醇分散矽溶膠，平均粒徑10~20nm，SiO2 30重量%，日產化學工業株式會社製)作為有機矽溶膠。再者，IPA-ST，係使用親水性溶劑(異丙醇) 之有機矽溶膠。
將上述混合物，以異丁醇稀釋成総固形分成20重量%得到組成物。
2.轉寫片之製造
將上述組成物，以棒塗佈法於厚度30μm的OPP薄膜均勻地塗佈成乾燥膜厚為3μm，乾燥得到轉寫片1。於轉寫片1，於OPP薄膜上，形成上述組成物之乾燥物所構成之層。
3.三聚氰胺化粧板之製造
對秤量40g/m2 之化粧板用的覆蓋紙，將以三聚氰胺-甲醛樹脂作為主成分之樹脂液，以上述數1所定義之算出方法，使含浸率成300%地含浸、乾燥，得到三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙2。
對秤量100g/m2 之黑色化粧板用之化粧紙，將以三聚氰胺-甲醛樹脂作為主成分之樹脂液，以上述數1所定義之算出方法，使含浸率成100%地含浸、乾燥得到三聚氰胺樹脂含浸化粧紙3
對秤量200g/m2 之摺紙，將以酚-甲醛樹脂作為主成分之樹脂液，以上述數1所定義之算出方法，使含浸率成50%地含浸、乾燥得到三聚氰胺樹脂含浸化粧紙4。
如圖1所示，依序將5張酚樹脂含浸核紙4;1張三聚氰胺樹脂含浸化粧紙3;1張三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙2；及1張轉寫片1層積。
再者，轉寫片1，係以OPP薄膜1a，及組成物之乾燥膜1b所構成，在於層積時之轉寫片1之方向，係乾燥膜1b與三 聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙2抵接之方向。將層積物，以溫度135℃，壓力8MPa，時間80分鐘熱壓成形，之後，如圖2所示，將OPP薄膜1a去除，得到三聚氰胺化粧板5。於該三聚氰胺化粧板5之表面，形成有由上述組成物之硬化物所構成之低折射率層6。低折射率層6，係由組成物之乾燥膜1b所生成之層。
實施例2
使在於轉寫片之組成物之乾燥膜之厚度(低折射率層之厚度)為0.5μm之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例3
使在於轉寫片之組成物之乾燥膜之厚度(低折射率層之厚度)為15μm之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例4
使矽氧烷接枝型高分子與有機矽溶膠之調合比，為矽氧烷接枝型高分子：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：4重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様 地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例5
使矽氧烷接枝型高分子與有機矽溶膠之調合比，為矽氧烷接枝型高分子：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：6重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例6
使矽氧烷接枝型高分子與有機矽溶膠之調合比，為矽氧烷接枝型高分子：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：14重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例7
使矽氧烷接枝型高分子與有機矽溶膠之調合比，為矽氧烷接枝型高分子：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：18重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様 地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化板板。
實施例8
作為有機矽溶膠，取代IPA-ST，使用同量的甲醇矽溶膠(甲醇分散矽溶膠，平均粒徑10~20nm，SiO2 30%、日產化學工業株式會社製)之點以外，以與上述實施例1同樣地，製造組成物製造。再者，甲醇矽溶膠，係使用親水性溶劑(甲醇)之有機矽溶膠。
又，使用上述組成物之點以外，以與上述實施例1同樣地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例9
作為有機矽溶膠，取代IPA-ST，使用同量的NPC-ST-30(平均粒徑10~20nm，正丙基溶纖劑分散矽溶膠，S102 30%，日產化學工業株式會社製)之點以外，以與上述實施例1同樣地，製造組成物製造。再者，NPC-ST-30，係使用親水性溶劑(正丙基溶纖劑)之有機矽溶膠。
又，使用上述組成物之點以外，以與上述實施例1同樣地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例10
作為矽氧烷接枝型高分子，取代ZX-022H，使用同量的，矽氧烷接枝型高分子ZX-007C，其係將氟樹脂與矽氧烷複合化者(羥基價58，酸價5，溶劑種：二甲苯/醋酸丁酯， 富士化成工業株式會社製)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物製造。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例11
作為矽氧烷接枝型高分子，取代ZX-022H，使用同量的，矽氧烷接枝型高分子ZX-001，其係將氟樹脂與矽氧烷複合化者(羥基價94，酸價0，溶劑種：二甲苯/異丁醇，富士化成工業株式會社製)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物製造。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例12
作為矽氧烷接枝型高分子，取代ZX-022H，使用同量的，矽氧烷接枝型高分子ZX-022，其係將氟樹脂與矽氧烷複合化者(羥基價120，酸價5，溶劑種：二甲苯/醋酸丁酯，富士化成工業株式會社製)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物製造。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例13
作為矽氧烷接枝型高分子，取代ZX-022H，使用同量的，矽氧烷接枝型高分子ZX-028-R，其係將丙烯酸樹脂與矽氧烷複合化者(羥基價100，酸價5溶，劑種：醋酸丁酯， 富士化成工業株式會社製)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物製造。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例14
作為矽氧烷接枝型高分子，取代ZX-022H，使用同量的，矽氧烷接枝型高分子ZX-036，其係將丙烯酸樹脂與矽氧烷複合化者(羥基價119，溶劑種：醋酸丁酯/2-丙醇，富士化成工業株式會社製)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物製造。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例15 1.組成物之製造
將常溫玻璃塗敷劑1重量部(固形分換算)，與有機矽溶膠10重量部(固形分換算)混合。使用1液型之塗敷劑(商品名SIRAGUSITAL A6200墨東化成工業株式會社製)作為常溫玻璃塗敷劑。該常溫玻璃塗敷劑，係將醇可溶型有機矽化合物(Si(OR)4 )與醇類(異丙醇)混合，進一步添加硼離子B3+ 與鹵素離子F- 作為觸媒，將pH調整為4.5~5.0者，又，使用IPA-ST(異丙醇分散矽溶膠，平均粒徑10~20nm，SiO2 30%，日產化學工業株式會社製)作為有機矽溶膠。
將上述混合物，以異丙醇稀釋成総固形分為20重量%得到組成物。
2.轉寫片之製造
將上述組成物，以棒塗佈法於厚度30μm之OPP薄膜塗佈成乾燥膜厚3μm，乾燥得到轉寫片11。
3.三聚氰胺化粧板之製造
使用上述轉寫片11，以與上述實施例1同様地(参照圖1)，得到於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例16
使在於轉寫片之組成物之乾燥膜之厚度(低折射率層之厚度)為0.5μm之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例17
使在於轉寫片之組成物之乾燥膜之厚度(低折射率層之厚度)為15μm之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例18
使常溫玻璃塗敷劑與有機矽溶膠之調合比，為常溫玻璃塗敷劑：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：4重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例15同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様 地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例19
使常溫玻璃塗敷劑與有機矽溶膠之調合比，為常溫玻璃塗敷劑：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：6重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例15同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例20
使常溫玻璃塗敷劑與有機矽溶膠之調合比，為常溫玻璃塗敷劑：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：14重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例15同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例21
使常溫玻璃塗敷劑與有機矽溶膠之調合比，為常溫玻璃塗敷劑：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：18重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例15同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様 地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例22
作為有機矽溶膠，取代IPA-ST，使用同量的甲醇矽溶膠(甲醇分散矽溶膠，日產化學工業株式會社製)之點以外以與上述實施例15同様地，製造組成物。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例23
作為有機矽溶膠，取代IPA-ST，使用同量的NPC-ST-30(正丙基溶纖劑分散矽溶膠，日產化學工業株式會杜製)之點以外以與上述實施例15同様地，製造組成物。又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
實施例24
作為常溫玻璃塗敷劑，取代SIRAGUSITAL A6200，使用同量的SIRAGUSITAL B4373(BN)(墨東化成工業株式會社製)之點以外以與上述實施例1同様地，製造組成物。該SIRAGUSITAL B4373(BN)，係以醇可溶型有機矽化合物(Si(OR)4 )為主劑，以硼離子B3+ 與鹵素離子X- 作為觸媒之2液型塗敷劑。主劑與觸媒，係以主劑：觸媒=10重量部：1重量部之比例混合，以稀釋溶劑稀釋成任意濃度使用。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化 粧板。
(實験例1)
使矽氧烷接枝型高分子與有機矽溶膠之調合比，為矽氧烷接枝型高分子：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：3重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
(實験例2)
使矽氧烷接枝型高分子與有機矽溶膠之調合比，為矽氧烷接枝型高分子：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：20重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例1同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
(實験例3)
作為有機矽溶膠，取代IPA-ST，使用同量的，nBAC-ST(醋酸丁酯分散矽溶膠，日產化學工業株式會社製)之點以外以與上述實施例1同様地，製造組成物。該nBAC-ST，係溶劑種為疏水性之有機矽溶膠。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例1同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化 粧板。
(實験例4)
使常溫玻璃塗敷劑與有機矽溶膠之調合比，為常溫玻璃塗敷劑：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：3重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例15同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
(實験例5)
使常溫玻璃塗敷劑與有機矽溶膠之調合比，為常溫玻璃塗敷劑：1重量部(固形分換算)有機矽溶膠：20重量部(固形分換算)之點以外，以與上述實施例15同様地，製造組成物。
又，使用該組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺化粧板。
(實験例6)
作為有機矽溶膠，取代IPA-ST，使用同量的nBAC-ST(醋酸丁酯分散矽溶膠，日產化學工業株式會社製)之點以外以與上述實施例15同様地，製造組成物。該nBAC-ST係，溶劑種為疏水性之有機矽溶膠。
又，使用上述組成物之點以外，以與上述實施例15同様地，製造轉寫片，及於表面形成低折射率層之三聚氰胺 化粧板。
(比較例1)
將5張酚樹脂含浸核紙；1張三聚氰胺樹脂含浸化粧紙；1張三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙層積，以溫度135℃，壓力8MPa，時間80分熱壓成形，得到三聚氰胺化粧板。酚樹脂含浸核紙，三聚氰胺樹脂含浸化粧紙，及三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙係分別與上述實施例1同様者。
其次，對實施例1~24、實験例1~6、及比較例1所製造之三聚氰胺化粧板進行評估。
(評估方法) (i)以實際指紋之耐指紋性評估
於三聚氰胺化粧板之表面實際地使指紋附著，以目視評估指紋有多醒目。評估之基準如下。
○：指紋不醒目。
△：指紋稍微醒目。
×：指紋很醒目。
(ii)鮮明性
關於三聚氰胺化粧板之化粧紙之鮮明性，以斜光目視觀察，評估基準如下。
○：可鮮明地確認化粧紙。
△：稍微有反光白暈。
(iii)表面耐久性1(其1)
將三聚氰胺化粧板之表面，以乾燥的綿布，以約300g/cm2 的荷重往復擦拭100趟，以目視評估表面的光澤變 化。評估的基準如下。
○：光澤無變化。
△：光澤稍為有變化。
×：有光澤的變化。
(iv)表面的耐久性2(其2)
將三聚氰胺化粧板之表面，以乾燥的綿布，以約1kg/cm2 的荷重往復擦拭，以目視評估表面的光澤變化。評估的基準如下。
5：在500趟以內無光澤變化。
4：在400趟以內有光澤變化。
3：在300趟以內有光澤變化。
2：在200趟以內有光澤變化。
1：在100趟以內有光澤變化。
(v)折射率
以多波長阿貝折射計(DR-M2，株式會社ATAGO製)，測定三聚氰胺化粧板表面知折射率。測定波長為589nm。
(vi)表面硬度
根據JIS K 5600; 1999(塗料一般試験方法)，以荷重1kg，測定三聚氰胺化粧板之表面硬度。
(vii)耐磨耗性
根據JIS K 6902; 1998(熱硬化性樹脂高壓化粧板試験方法)，測定在於三聚氰胺化粧板之表面之耐磨耗性。
(評估結果)
將評估結果示於表1、2。再者，在於表1之「(b1):(a)」， 係矽氧烷接枝型高分子(b1)，與有機矽溶膠(a)之重量比(固形分換算)。又，在於表2之「(b2):(a)」，係常溫玻璃塗敷劑(b2)，與有機矽溶膠(a)之重量比(固形分換算)。
如表1、表2所示，實施例1~24之三聚氰胺化粧板，指紋不容易醒目，且印刷圖像的鮮明性高。又，實施例1~24之三聚氰胺化粧板，表面耐久性、表面硬度、耐磨耗性高。相對於此，比較例1之三聚氰胺化粧板，指紋醒目，且化粧紙的鮮明性低。
關於實施例1與比較例1之三聚氰胺化粧板，於圖3的照片，表示三聚氰胺化粧板之表面状態。照片的右半邊對應於實施例1之三聚氰胺化粧板，左半邊對應於比較例1之三聚氰胺化粧板。由該照片明顯可知，實施例1之三聚氰胺化粧板，化粧紙的鮮明性高，而比較例1之三聚氰胺化粧板偏白，化粧紙的鮮明性低。
又，關於實施例1與比較例1之三聚氰胺化粧板，將於上述實際指紋之耐指紋性評估時附著於三聚氰胺化粧板之表面之指紋，示於圖4之照片。照片的右半邊對應於實施例1之三聚氰胺化粧板，左半邊對應於比較例1之三聚氰胺化粧板。由該照片明顯可知，實施例1之三聚氰胺化粧板，表面的指紋明顯較比較例1之三聚氰胺化粧板不醒目。此可認為是由於實施例1之三聚氰胺化粧板具有低折射率層6。
實験例1、3之三聚氰胺化粧板，表面耐久性相較於實施例1~24得到稍差的結果。
實験例2之三聚氰胺化粧板，耐指紋性、鮮明性相較於實施例1~24得到稍差的結果。
實験例4、6之三聚氰胺化粧板，表面耐久性、表面硬度相較於實施例1~24得到稍差的結果。
實験例5之三聚氰胺化粧板，耐指紋性、鮮明性相較於實施例1~24得到稍差的結果。
1、11‧‧‧轉寫片
1a‧‧‧OPP薄膜
1b‧‧‧乾燥膜
2‧‧‧三聚氰胺樹脂含浸覆蓋紙
3‧‧‧三聚氰胺樹脂含浸化粧紙
4‧‧‧酚樹脂含浸核紙
5‧‧‧三聚氰胺化粧板
6‧‧‧低折射率層
圖1係表示三聚氰胺化粧板之製造方法之說明圖。
圖2係表示三聚氰胺化粧板之構成之側剖面圖。
圖3係表示在於三聚氰胺化粧板之表面之鮮明性之照片，右半邊對應於實施例1之三聚氰胺化粧板，左半邊對應於比較例1之三聚氰胺化粧板。
圖4係表示在於三聚氰胺化粧板之表面之指紋附著程度之照片，右半邊對應於實施例1之三聚氰胺化粧板，左半邊對應於比較例1之三聚氰胺化粧板。

Claims (7)

  1. 一種組成物，包含：(a)有機矽溶膠；及(b1)矽氧烷接枝型高分子，其係複合化氟樹脂或丙烯酸樹脂，及矽氧烷者；及/或(b2)常溫玻璃塗敷劑，其中，上述有機矽溶膠與上述矽氧烷接枝型高分子之調合比例為，對上述矽氧烷接枝型高分子1重量部，上述有機矽溶膠為4~18重量部，上述有機矽溶膠與上述常溫玻璃塗敷劑之調合比例為，對上述常溫玻璃塗敷劑1重量部，上述有機矽溶膠為4~18重量部，以及上述組成物在硬化後的折射率為1.5以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之組成物，其中上述有機矽溶膠與上述矽氧烷接枝型高分子之調合比例係基於該有機矽溶膠與該矽氧烷接枝型高分子之固形分，上述有機矽溶膠與上述常溫玻璃塗敷劑之調合比例係基於該有機矽溶膠與該常溫玻璃塗敷劑之固形分。
  3. 一種轉寫片，包含：基材；及組成物，配置於上述基材上，其中該組成物包含：(a)有機矽溶膠；及(b1)矽氧烷接枝型高分子，其係複合化氟樹脂或丙烯酸樹脂，及矽氧烷者；及/或(b2)常溫玻璃塗敷劑， 其中，上述有機矽溶膠與上述矽氧烷接枝型高分子之調合比例為，對上述矽氧烷接枝型高分子1重量部，上述有機矽溶膠為4~18重量部，上述有機矽溶膠與上述常溫玻璃塗敷劑之調合比例為，對上述常溫玻璃塗敷劑1重量部，上述有機矽溶膠為4~18重量部，以及上述組合物在硬化後的折射率為1.5以下。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之轉寫片，其中，上述有機矽溶膠與上述矽氧烷接枝型高分子之調合比例係基於該有機矽溶膠與該矽氧烷接枝型高分子之固形分，上述有機矽溶膠與上述常溫玻璃塗敷劑之調合比例係基於該有機矽溶膠與該常溫玻璃塗敷劑之固形分。
  5. 一種三聚氰胺化粧板，包括：核材層，及折射率為1.5以下之低折射率層，形成於該核材層的上表面，其中，該低折射率層由一組成物的硬化物所構成，該組成物包含：(a)有機矽溶膠；及(b1)矽氧烷接枝型高分子，其係複合化氟樹脂或丙烯酸樹脂，及矽氧烷者；及/或(b2)常溫玻璃塗敷劑，其中，上述有機矽溶膠與上述矽氧烷接枝型高分子之調合比例為，對上述矽氧烷接枝型高分子1重量部，上述有機矽溶膠為4~18重量部， 上述有機矽溶膠與上述常溫玻璃塗敷劑之調合比例為，對上述常溫玻璃塗敷劑1重量部，上述有機矽溶膠為4~18重量部。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之三聚氰胺化粧板，其中上述有機矽溶膠與上述矽氧烷接枝型高分子之調合比例係基於該有機矽溶膠與該矽氧烷接枝型高分子之固形分，上述有機矽溶膠與上述常溫玻璃塗敷劑之調合比例係基於該有機矽溶膠與該常溫玻璃塗敷劑之固形分。
  7. 一種三聚氰胺化粧板之製造方法，將如申請專利範圍第3項所述的轉寫片、三聚氰胺樹脂含浸紙、及核材層積熱壓成形，去除上述基材。
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