JP2003041153A - 無機組成物、フィルム、及びフィルムの製造方法 - Google Patents

無機組成物、フィルム、及びフィルムの製造方法

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JP2003041153A
JP2003041153A JP2001232047A JP2001232047A JP2003041153A JP 2003041153 A JP2003041153 A JP 2003041153A JP 2001232047 A JP2001232047 A JP 2001232047A JP 2001232047 A JP2001232047 A JP 2001232047A JP 2003041153 A JP2003041153 A JP 2003041153A
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film
compound
layered compound
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Toshiaki Aono
俊明 青野
Keisuke Koseki
圭介 小関
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Fuji Photo Film Co Ltd
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    • C03C2214/32—Nature of the non-vitreous component comprising a sol-gel process

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高湿下においても、ガス、低分子化合物等に
対するバリアー性が高く、物質の拡散制御等の機能に優
れた無機組成物、前記無機組成物からなるフィルム、高
温熱処理工程を必要とせず、常温領域において、前記フ
ィルムを効率よく形成し得る前記フィルムの製造方法を
提供する。 【解決手段】 無機マトリックスを有する無機組成物で
あって、前記無機マトリックス内に、無機層状化合物を
含有してなる無機組成物である。前記無機マトリックス
としては、ゾルゲル法により製造されてなる金属酸化物
ガラスが好ましく、前記無機層状化合物としては、膨潤
性合成雲母が好ましい。有機金属化合物を加水分解及び
脱水縮合して反応生成物を得る工程、該反応生成物に前
記無機層状化合物を添加し分散させる工程、該無機層状
化合物含有反応生成物を基板表面に塗布し、２００℃以
下の温度でガラス化させる工程を有するフィルムの製造
方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、無機組成物、フィ
ルム、及び該フィルムの製造方法に関し、さらに詳しく
は、無機マトリックス内に無機層状化合物を含有するこ
とにより、高湿下でもガスバリアー性に優れた無機組成
物、及び該無機組成物からなるフィルム、及び該フィル
ムの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、無機層状化合物を含有するフ
ィルムは、酸素、二酸化炭素、窒素酸化物等のガスや、
低分子化合物に対するバリアー性が高いことで知られて
いる。例えば、特開平８−２８２１１２号公報において
は、多色感熱記録材料の中間層及び／又は下塗り層にお
いて、アスペクト比の大きい無機層状化合物を含有させ
た場合、薄い膜厚で、各層の透明性を悪化させることな
く、物質に対するバリアー性を高められることが開示さ
れている。
【０００３】また、特開平１０−９０８２８号公報にお
いては、ハロゲン化銀写真感光材料等の写真要素におい
て、写真要素の各層中に添加される色素等の写真有用化
合物が層間拡散することを制御する目的、ならびに大気
中に含まれるガスの写真要素層内への拡散等を防止する
目的で、層中に膨潤性無機層状化合物を含有させるのが
好ましい旨、開示されている。
【０００４】特に、前記膨潤性無機層状化合物としては
合成雲母が好ましく、さらに無機層状化合物を添加する
層に用いるバインダーとしては、ゼラチン等の親水性コ
ロイドやポリビニルアルコール等の合成親水性高分子物
質が好ましく用いられる。
【０００５】しかしながら、前記ゼラチン等の親水性コ
ロイドやポリビニルアルコール等の合成親水性高分子物
質を、前記無機層状化合物を添加する層又はフィルムの
バインダーとして用いた場合、低湿下、即ち乾燥した環
境下においては、ガス及び低分子化合物等に対するバリ
アー性が高く、優れた性能を示すものの、高湿下（８０
％ＲＨ以上）においては、前記バリアー性が著しく低下
し、物質の拡散等を制御する層（フィルム）としての性
能を十分発揮できなくなるという問題がある。
【０００６】従って、高湿下（８０％ＲＨ以上）におい
ても、ガス及び低分子化合物等に対するバリアー性が低
下せず、物質の拡散制御が可能な、無機層状化合物を含
有する無機組成物、及び該無機組成物からなるフィルム
の提供が望まれているのが現状である。
【０００７】一方、基材上に酸化物のコーティング膜、
フィルム等を形成する技術としては、従来から、グラス
ライニング、セラミックコーティング等の溶融法や、液
相を用いる液浸法、ゾルゲル法等が挙げられる。前記ゾ
ルゲル法は、金属カチオンや金属アルコキシド等の含水
酸化物ゾルを脱水処理してゲルとし、このゲルを加熱処
理して、ある一定の形状（例えば、フィルム状、粒子
状、繊維状等）の無機酸化物を調製する方法であり、低
温での合成が可能で、高純度のものが調製でき、組成の
制御も容易である点で優れることが知られている（特許
２５３８５２７号公報等）。しかしながら、該ゾルゲル
法で調製されたフィルムにおいて、膜厚が薄く、かつ、
ガス、低分子化合物等の物質に対するバリアー性に優
れ、感熱記録材料や感光材料等に使用し得る性能を有す
るものは、未だ提供されていないのが現状である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、高湿下においても、ガス、
低分子化合物等に対するバリアー性が高く、物質の拡散
制御等の機能に優れたフィルム等の形成に好適な無機組
成物、耐熱性、耐高湿性、バリアー性等に優れた前記無
機組成物からなるフィルム、及び高温熱処理工程を必要
とせず、常温領域において、高バリアー性を有するフィ
ルムを効率よく形成し得る、前記フィルムの製造方法を
提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記従来にお
ける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題
とする。即ち、 ＜１＞ 無機マトリックスを有する無機組成物であっ
て、前記無機マトリックス内に、無機層状化合物を含有
してなることを特徴とする無機組成物である。
【００１０】＜２＞ 前記無機マトリックスが、金属酸
化物ガラスである前記＜１＞に記載の無機組成物であ
る。
【００１１】＜３＞ 前記無機マトリックスが、ゾルゲ
ル法により製造されてなる前記＜１＞又は＜２＞に記載
の無機組成物である。
【００１２】＜４＞ 前記ゾルゲル法が、少なくとも水
及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在
下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜
５．０に調整して、有機金属化合物を加水分解及び脱水
縮合して反応生成物を得る工程、及び該反応生成物を２
００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程を有する
前記＜３＞に記載の無機組成物である。
【００１３】＜５＞ 前記無機組成物が、少なくとも水
及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在
下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜
５．０に調整して、有機金属化合物を加水分解及び脱水
縮合して反応生成物を得る工程、該反応生成物に前記無
機層状化合物を添加し分散させる工程、及び該無機層状
化合物含有反応生成物を２００℃以下の温度でガラス化
する工程により製造されてなる前記＜１＞から＜４＞の
いずれかに記載の無機組成物である。
【００１４】＜６＞ 前記有機金属化合物が、金属アル
コキシドである前記＜４＞又は＜５＞に記載の無機組成
物である。
【００１５】＜７＞ 前記ハロゲンイオンが、フッ素イ
オン及び／又は塩素イオンである前記＜４＞から＜６＞
のいずれかに記載の無機組成物である。
【００１６】＜８＞ 前記無機層状化合物のアスペクト
比が、３０以上である前記＜１＞から＜７＞のいずれか
に記載の無機組成物である。
【００１７】＜９＞ 前記無機層状化合物のアスペクト
比が、１００以上である前記＜１＞から＜８＞のいずれ
かに記載の無機組成物である。
【００１８】＜１０＞ 前記無機層状化合物が、膨潤性
合成雲母である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載
の無機組成物である。
【００１９】＜１１＞ 前記無機層状化合物が、スメク
タイトである前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の
無機組成物である。
【００２０】＜１２＞ 前記無機層状化合物が、３級塩
化合物及び／又は４級塩化合物により表面を疎水化され
てなる前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の無機
組成物である。
【００２１】＜１３＞ 前記＜１＞から＜１２＞のいず
れかに記載の無機組成物からなることを特徴とするフィ
ルムである。
【００２２】＜１４＞ 少なくとも水及び有機溶媒を含
有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイ
オンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しなが
ら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生
成物を得る工程、該反応生成物に前記無機層状化合物を
添加し分散させる工程、及び該無機層状化合物含有反応
生成物を基板表面に塗布し、２００℃以下の温度でガラ
ス化させる工程を有することを特徴とするフィルムの製
造方法である。
【００２３】＜１５＞ 前記有機金属化合物が、金属ア
ルコキシドである前記＜１４＞に記載のフィルムの製造
方法である。
【００２４】＜１６＞ 前記ハロゲンイオンが、フッ素
イオン及び／又は塩素イオンである前記＜１４＞又は＜
１５＞に記載のフィルムの製造方法である。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の無機組成物、フィ
ルム、及びフィルムの製造方法について説明する。ここ
ではまず、本発明の無機組成物について詳しく説明す
る。
【００２６】（無機組成物）本発明の無機組成物は、無
機マトリックスを有する無機組成物であって、前記無機
マトリックス内に、無機層状化合物を含有してなること
を特徴とする。
【００２７】＜無機マトリックス＞ここでは、本発明の
無機組成物が有する無機マトリックスについて説明す
る。前記無機マトリックスとしては、後述する無機層状
化合物を均一に分散して含有できること、かつ製膜可能
なものであること、該膜（フィルム）のガスや低分子化
合物等に対するバリアー性が高湿下においても優れてい
ること等の観点から、具体的には、ケイ酸塩、金属リン
酸塩、シラザンポリマー、ホスファゼン化合物、金属酸
化物ガラス等の材料が好適に挙げられ、その中でも、金
属酸化物ガラスがより好ましい。
【００２８】前記金属酸化物ガラスは、単成分系金属酸
化物ガラスであってもよく、多成分系金属酸化物ガラス
であってもよい。また、前記金属酸化物ガラスは、ゾル
ゲル法により製造されたものであることがさらに好まし
い。
【００２９】前記ゾルゲル法は、有機金属化合物を加水
分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処
理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理すること
で、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）
の金属酸化物ガラスを調製する方法である。異なる複数
のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する
方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ること
が可能である。
【００３０】本発明の無機組成物が有する無機マトリッ
クスとしては、金属酸化物ガラスであることが好まし
く、ゾルゲル法で製造されてなることがさらに好まし
く、下記工程を有するゾルゲル法で製造されてなること
が特に好ましい。
【００３１】即ち、前記無機マトリックスは、少なくと
も水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン
存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５
〜５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及
び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び該反応生成
物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、
を有するゾルゲル法により製造されてなることが、高温
熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないと
いう観点から、特に好ましい。
【００３２】前記ゾルゲル法において、原料として用い
られる有機金属化合物としては、加水分解が可能なもの
であればよく、特に限定されるものではないが、好まし
い有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げら
れる。
【００３３】前記金属アルコキシドは、下記一般式
（Ｉ）で表される。 一般式（Ｉ） ＭＲ2 m（ＯＲ1）n-m 前記一般式（Ｉ）において、Ｍは酸化数ｎの金属を表
す。Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、アルキル基を表す。ｍ
は、０〜（ｎ−１）の整数を表す。Ｒ1及びＲ2は、同一
でもよく、異なっていてもよい。Ｒ1及びＲ2としては、
炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メ
チル基ＣＨ3（以下、Ｍｅで表す）、エチル基Ｃ2Ｈ
5（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ3Ｈ7（以下、Ｐ
ｒで表す）、イソプロピル基ｉ−Ｃ3Ｈ7（以下、ｉ−Ｐ
ｒで表す）、ブチル基Ｃ4Ｈ9（以下、Ｂｕで表す）、イ
ソブチル基ｉ−Ｃ4Ｈ9（以下、ｉ−Ｂｕで表す）等の低
級アルキル基がより好ましい。
【００３４】前記一般式（Ｉ）で表される金属アルコキ
シドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥ
ｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）5、マグネシウム
イソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ−ｉ）2、アルミニウム
イソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ−ｉ）3、亜鉛プロポキ
シドＺｎ（ＯＰｒ）2、テトラエトキシシランＳｉ（Ｏ
Ｅｔ）4、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ−
ｉ）4、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）2、バリウム
イソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ−ｉ）2、トリエトキシ
ボランＢ（ＯＥｔ）3、ジルコニウムプロポキシドＺｎ
（ＯＰｒ）4、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）3、
イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）3、鉛イソプロ
ポキシドＰｂ（ＯＰｒ−ｉ）2等が好適に挙げられる。
これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易
に入手することができる。また、金属アルコキシドは、
部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されてお
り、これを原料として使用することも可能である。
【００３５】前記ゾルゲル法において、前記有機金属化
合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を
容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。
希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することがで
き、かつ水と均一に混合することができるものであれば
よい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級ア
ルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、及び
それらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノール
とセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいは
キシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチル
ケトンとシクロヘキサンの混合溶媒などを使用すること
もできる。
【００３６】前記有機金属化合物において、金属がＣ
ａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応
して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ3 2-が存在
すると炭酸塩を生成して沈殿を生ずるため、反応液に隠
蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添
加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記
有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ま
しく、５〜７０質量％の範囲に希釈して使用することが
より好ましい。
【００３７】前記ゾルゲル法において用いられる反応液
は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶
媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくる
ものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に
用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に
挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、
メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノー
ルが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜
の成長が安定であるためである。前記反応液において、
水の割合としては、水の濃度として０．２〜５０ｍｏｌ
／Ｌの範囲が好ましい。
【００３８】前記ゾルゲル法においては、前記反応液中
において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオン
を触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホ
ウ素イオンＢ3+を与える化合物としては、トリアルコキ
シボランＢ（ＯＲ）3が好適に挙げられる。その中で
も、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）3がより好まし
い。また、前記反応液中のＢ3+イオン濃度としては、
１．０〜１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【００３９】前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオ
ン及び／又は塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フ
ッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混
合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中で
フッ素イオン及び／又は塩素イオンを生ずるものであれ
ばよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素ア
ンモニウムＮＨ4ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ
等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモ
ニウムＮＨ4Ｃｌ等が好適に挙げられる。
【００４０】前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度
としては、製造しようとする無機マトリックスを有する
無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件に
よって異なるが、一般的には、触媒を含む前記反応液の
合計質量に対して、０．００１〜２ｍｏｌ／ｋｇ、特に
０．００２〜０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハ
ロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低い
と、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くな
り、膜の形成が困難となる。またハロゲンイオンの濃度
が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリック
ス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いず
れも好ましくない。
【００４１】なお、反応時に使用したホウ素に関して
は、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ2Ｏ3成
分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホ
ウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよ
く、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒とし
てのメタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加
熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させ
て除去することができる。
【００４２】前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水
縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量
の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有
する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量
の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所
定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした
後、酸又はアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整
し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を
得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液又は反応液に予め
所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを
用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶
解するのが有利である。
【００４３】前記反応溶液のｐＨは、目的によって選択
され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する
無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とする
ときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５〜５
の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、
例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾール
グリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
【００４４】次に、前工程で得られた反応生成物（熟成
後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥
しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０〜７０℃
の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒
揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。こ
の乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要で
ある。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、
７０〜１５０℃が好ましく、８０〜１３０℃がより好ま
しい。
【００４５】前記ゾルゲル法においては、同一成分の同
一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ 3+及びハロゲンイオ
ンを含む）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合
で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物
を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は
±５０質量％の範囲で、水（酸またはアルカリを含む）
の濃度は、±３０質量％の範囲で、およびハロゲンイオ
ンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができ
る。
【００４６】前記工程を有するゾルゲル法により、本発
明に係る無機マトリックスを製造することが好ましく、
本発明の無機組成物は、前記無機マトリックス内に、後
述する無機層状化合物を含有してなる。本発明におい
て、該無機マトリックス内に、後述する無機層状化合物
を含有させる方法としては特に制限はないが、前記ゾル
ゲル法において、前記有機金属化合物を加水分解及び脱
水縮合して反応生成物を得た後、該反応生成物に後述す
る無機層状化合物を添加し分散させるのが好ましい。
【００４７】前記反応生成物に添加した前記無機層状化
合物を分散させる方法としては以下のものが挙げられ
る。まず、無機層状化合物を反応生成物（熟成後の反応
溶液）に添加し、十分反応生成物の液になじませ、膨潤
させてから分散機にかけて分散する。前記分散機として
は、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな
剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネ
ルギーを与える分散機などがある。具体的には、ボール
ミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイド
ミル、ホモジナイザー、ディゾルバー、ポリトロン、ホ
モミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットア
ジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超
音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置、薄膜旋回
型高速ミキサー、アギュラーギャップ型ミルなどがあ
る。
【００４８】前記無機層状化合物を添加し分散させた反
応生成物（以下、「無機層状化合物含有反応生成物」
と、称する場合がある。）を、次工程において２００℃
以下の温度でガラス化することにより、無機マトリック
ス内に無機層状化合物を含有してなる無機組成物を得る
ことができる。
【００４９】＜無機層状化合物＞次に、本発明の無機組
成物において、前記無機マトリックス内に含有される無
機層状化合物について説明する。本発明の無機組成物に
おいて、前記無機マトリックス内に含有される無機層状
化合物としては、膨潤性無機層状化合物が好ましく、そ
の中でも、例えば、天然スメクタイト、合成スメクタイ
ト、膨潤性合成雲母がより好ましい。
【００５０】前記スメクタイトは、中心にＳｉ原子が入
ったＳｉ−Ｏ四面体が平面状に広がった四面体シート、
及びＡｌ、Ｍｇなどの金属原子が中心に入った八面体シ
ートにより、２：１で構成された構造をとっている。前
記スメクタイトは、前記四面体においてＳｉ原子がＡｌ
原子に置換されること、あるいは八面体のＡｌ原子がＭ
ｇ原子に置換されることにより、結晶層においてはプラ
ス電荷が不足し、表面荷電がマイナスとなっている。
【００５１】前記四面体においてＳｉ原子がＡｌ原子に
置換されている場合を、四面体置換型（四面体荷電型）
といい、そのような構造を有するスメクタイトとして
は、例えば、バイデライト、ノントロナイト、ボルコン
スコアイト、サポナイト等が挙げられる。また、前記八
面体においてＡｌ原子がＭｇ原子に置換されている場合
を、八面体置換型（八面体荷電型）といい、そのような
構造を有するスメクタイトとしては、例えば、モンモリ
ロナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト等が挙げら
れる。
【００５２】前記スメクタイトの中でも、天然スメクタ
イトとしては、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクト
ライトが好適に挙げられる。さらに、合成スメクタイト
としては、サポナイト、ヘクトライト、スチーブンサイ
トが好適に挙げられる。
【００５３】前記膨潤性合成雲母としては、 Ｎａテトラシックマイカ NaMg2,5(Si4O10)F2、 Ｎａ又はＬｉテニオライト (NaLi)Mg2Li(Si4O10)F2、 Ｎａ又はＬｉヘクトライト (NaLi)1/3Mg2/3Li1/3(Si4O
10)F2、 等が、好適に挙げられる。
【００５４】前記無機層状化合物は、１０〜１５オング
ストロームの厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を
有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大
きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補
償するために層間にＮａ+、Ｃａ2+、Ｍｇ2+等の陽イオ
ンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオ
ンは交換性陽イオンと呼ばれ、さまざまな陽イオンと交
換することができる。特に層間の陽イオンがＬｉ+、Ｎ
ａ+の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の
結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェ
アーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形
成する。膨潤性合成雲母はその傾向が強く、特に好まし
く用いられる。
【００５５】前記無機層状化合物は、表面が親水的であ
るため、水中に容易に膨潤し、シェアーをかけることに
より容易に分散する。このとき、水混和性の有機溶媒、
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール等のアルコール類；ジメチルスルホキサイド、ジメ
チルホルムアミド、アセトン等を加えることができる。
その中でも、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、アセトンがより好ましい。
【００５６】前記無機層状化合物は、前述の通り表面が
親水的であるが、マイナスに荷電していることから、３
級塩化合物及び／又は４級塩化合物を用いることによ
り、表面を疎水化することができ、疎水化した該無機層
状化合物を、本発明の無機組成物における無機マトリッ
クスに含有させることもできる。
【００５７】前記３級塩化合物及び４級塩化合物の具体
例としては、例えば、ラウリルアミン塩酸塩（パイオニ
ンＢ−２０１）、ステアリルアミン塩酸塩（パイオニン
Ｂ−８０１）、オレイルアミン酢酸塩（パイオニンＢ−
７０９）、ステアリルアミン酢酸塩（パイオニンＢ−８
０９）、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩（パイ
オニンＢ−１０４−ＤＡ）〔括弧内は商品名；パイオニ
ンＢシリーズ；竹本油脂（株）製〕等のアミン塩化合
物、ラウリルピリジニウムクロライド（パイオニンＢ−
２５１）、ミリスチルピリジニウムクロライド（パイオ
ニンＢ−４５１）、セチルピリジニウムクロライド（パ
イオニンＢ−６５１）〔括弧内は商品名；パイオニンＢ
シリーズ；竹本油脂（株）製〕等のピリジニウム塩化合
物や、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド（パ
イオニンＢ−２１１）、セチルトリメチルアンモニウム
クロライド（パイオニンＢ−６１１）、ステアリルトリ
メチルアンモニウムクロライド（パイオニンＢ−８１
１）、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド（パ
イオニンＢ−２２１１）、ジステアリルジメチルアンモ
ニウムクロライド（パイオニンＢ−８８１１）、ラウリ
ルジヒドロキシエチルメチルアンモニウムクロライド
（パイオニンＢ−２２１−Ｂ）、オレイルビスポリオキ
シエチレンメチルアンモニウムクロライド（パイオニン
Ｂ−７２１−Ｅ）、ステアリルヒドロキシエチルジメチ
ルアンモニウムクロライド（パイオニンＢ−８２１−
Ａ）、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド（パイオニンＢ−２３１）、ラウロイルアミノプロピ
ルジメチルエチルアンモニウムエトサルフェート（パイ
オニンＢ−２７６）、ラウロイルアミノプロピルジメチ
ルヒドロキシエチルアンモニウムパークロレート（パイ
オニンＢ−２７７）〔括弧内は商品名；パイオニンＢシ
リーズ；竹本油脂（株）製〕等の第４級アンモニウム塩
化合物等が好適に挙げられる。
【００５８】下記ポリオキシエチレン基を有する第４級
アンモニウム塩化合物も好適に挙げられ、例えば、ポリ
オキシエチレン・トリアルキルアンモニウムクロリドポ
リオキシエチレン・トリアルキルアンモニウムブロミド
ポリオキシエチレン・ジアルキルアンモニウムクロリド
ポリオキシエチレン・ジアルキルアンモニウムアセテー
トポリオキシエチレン・ベンジル・ジアルキルアンモニ
ウムクロリドポリオキシエチレン・ベンジル・ジアルキ
ルアンモニウムブロミドジ（ポリオキシエチレン）・ア
ルキルアンモニウムクロリドジ（ポリオキシエチレン）
・アルキルアンモニウムアセテートジ（ポリオキシエチ
レン）・ベンジル・アルキルアンモニウムクロリドジ
（ポリオキシエチレン）・ベンジル・アルキルアンモニ
ウムアセテートジ（ポリオキシエチレン）・ジアルキル
アンモニウムクロリドジ（ポリオキシエチレン）・ジア
ルキルアンモニウムブロミドトリ（ポリオキシエチレ
ン）・アルキルアンモニウムクロリドトリ（ポリオキシ
エチレン）・アルキルアンモニウムブロミドトリ（ポリ
オキシエチレン）・アルキルアンモニウムアセテート等
が、好適に挙げられる。
【００５９】また、下記ポリプロピレン基を有する第４
級アンモニウム塩化合物も好適に挙げられ、例えば、ポ
リオキシプロピレン・トリアルキルアンモニウムクロリ
ドポリオキシプロピレン・トリアルキルアンモニウムブ
ロミドジ（ポリオキシプロピレン）・ジアルキルアンモ
ニウムクロリドジ（ポリオキシプロピレン）・ジアルキ
ルアンモニウムブロミドトリ（ポリオキシプロピレン）
・アルキルアンモニウムクロリドトリ（ポリオキシプロ
ピレン）・アルキルアンモニウムブロミド等が、好適に
挙げられる。
【００６０】さらに、下記表１〜４に記載のカチオン界
面活性剤も、無機層状化合物の疎水化に用いられる３級
塩化合物又は４級塩化合物として、好適に挙げられる。
【００６１】
【表１】
【００６２】
【表２】
【００６３】
【表３】
【００６４】
【表４】
【００６５】前記好ましい３級塩化合物及び４級塩化合
物の中でも、無機層状化合物の疎水化に用いるものとし
ては、Ｎ，Ｎ−ジポリオキシエチレン−Ｎ−ステアリル
−Ｎ−メチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメ
チルアンモニウムクロライド、ポリオキシイソプロピレ
ントリエチルアンモニウムクロライド等がより好まし
い。
【００６６】前記３級塩化合物及び／又は４級塩化合物
を用いて、前記無機層状化合物を疎水化するには、１種
単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてよい。
前記３級塩化合物及び／又は４級塩化合物を用いて、無
機層状化合物を疎水化するとは、これらの化合物により
無機層状化合物について陽イオン交換を行うことを意味
する。具体的には、下記の方法により行うことができ
る。ただし、本発明はこの方法に限定されるものではな
い。
【００６７】まず、第１工程として前記無機層状化合物
を水中に分散させて懸濁液を得る。該懸濁液における固
体分散濃度としては、１〜１５質量％が好ましいが、無
機層状化合物が充分分散可能な濃度ならば自由に設定す
ることが可能である。この場合、あらかじめ凍結乾燥処
理した無機層状化合物を用いることが好ましい。次に、
第２工程としては、この無機層状化合物懸濁液に、前記
３級塩化合物又は４級塩化合物の溶液を添加、あるいは
該溶液に、前記無機層状化合物懸濁液を添加して、陽イ
オン交換により無機層状化合物の疎水化を行う。さら
に、第３工程として固液を分離し、疎水化された無機層
状化合物を水洗浄して、副生電解質を充分に除去する。
これを乾燥、必要に応じて粉砕し、目的物を得る。
【００６８】前記反応は室温で充分進行するが、加温し
てもよい。加温の最高温度は用いる３級塩化合物又は４
級塩化合物の耐熱性に支配され、その分解点以下であれ
ば任意に設定が可能である。
【００６９】前記３級塩化合物及び／又は４級塩化合物
の添加量としては、イオンとして換算した場合に、無機
層状化合物の陽イオン交換容量と当量用いることが好ま
しいが、これより少ない量でも製造は可能である。また
陽イオン交換容量に対して、過剰量添加してもよい。添
加量としては、具体的には、無機層状化合物の陽イオン
交換容量の０．５〜１．５倍量（ミリ当量換算）が好ま
しく、０．８〜１．４倍量がより好ましい。
【００７０】なお、無機層状化合物を疎水化する方法に
ついては、特開平６−２８７０１４号、特開平９−１７
５８１７号の各公報等において、詳細に記載されてい
る。
【００７１】前記無機層状化合物のアスペクト比として
は、塗膜のバリアー性の観点から、２０以上が好まし
く、３０以上がより好ましく、１００以上がさらに好ま
しく、２００以上が特に好ましい。また、無機層状化合
物がスメクタイトの場合は、アスペクト比が３０〜１０
０の範囲であることが特に好ましい。なお、前記アスペ
クト比とは、粒子の長径に対する厚さの比である。
【００７２】前記無機層状化合物の粒子径としては、塗
膜のバリアー性及び平滑性の観点から、その平均長径が
０．３〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０
μｍであることがより好ましく、１〜５μｍであること
がより好ましい。前記無機層状化合物における粒子の平
均の厚さとしては、０．１μｍ以下が好ましく、０．０
５μｍ以下がより好ましく、０．０１μｍ以下が特に好
ましい。
【００７３】本発明の無機組成物は、少なくとも水及び
有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下に
てハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０
に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮
合して反応生成物を得る工程、該反応生成物に前記無機
層状化合物を添加し分散させる工程、及び該無機層状化
合物含有反応生成物を２００℃以下の温度でガラス化す
る工程により製造されてなるのが好ましい。
【００７４】本発明の無機組成物においては、前記無機
層状化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併
用してもよい。また、本発明の無機組成物において、前
記無機マトリックス内に含有される前記無機層状化合物
の量としては、前記無機マトリックスに対し、質量比
で、０．００１〜０．２であることが好ましい。０．０
０１未満であるとバリアー性における効果がなく、０．
２を超えると、フィルムの透明性が低下する。また、２
種以上の無機質層状化合物を使用した場合でも、合計の
量が前記質量比であることが好ましい。
【００７５】（フィルム及びフィルムの製造方法）ここ
では、本発明のフィルム及びフィルムの製造方法につい
て説明する。本発明のフィルムは、本発明の前記無機組
成物からなることを特徴とする。また、本発明のフィル
ムの製造方法は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する
反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを
触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら、有
機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を
得る工程、該反応生成物に前記無機層状化合物を添加し
分散させる工程、及び該無機層状化合物含有反応生成物
を基板表面に塗布し、２００℃以下の温度でガラス化さ
せる工程を有することを特徴とする。
【００７６】即ち、前述したゾルゲル法による無機マト
リックスの製造において、前記有機金属化合物を、加水
分解及び脱水縮合して反応生成物を得た後、該反応生成
物に前記無機層状化合物を添加し分散させて、該無機層
状化合物含有反応生成物を基板表面に塗布し、２００℃
以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させることによ
り、本発明の無機組成物からなるフィルムを製造するこ
とができる。前記有機金属化合物としては、金属アルコ
キシドが好ましく、前記ハロゲンイオンとしては、フッ
素イオン及び／又は塩素イオンが好ましい。また、前記
無機層状化合物含有反応生成物は、そのまま基材表面に
塗布してもよく、必要に応じて、適当な増粘剤を加えた
上で、基材表面に塗布することもできる。
【００７７】前記基板としては、いかなるものを用いる
こともできるが、透明性、耐熱性等の観点から、ポリエ
チレンテレフタレート、オレフィン・マレイミド共重合
体、ポリカーボネート等を用いるのが好ましい。
【００７８】前記基材表面への塗布は、いかなる方法を
とることもできるが、具体的には、エクストルージョン
コーティング、スライドコーティング、グラビアコーテ
ィング、ロッドコーティング、カテーンコーティング、
浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーテ
ィング等の方法で塗布することができ、その中でも、エ
クストルージョンコーティング、スライドコーティン
グ、グラビアコーティングが好ましい。
【００７９】前記無機層状化合物含有反応生成物を基材
表面に塗布したものは、前述の通り２００℃以下の温度
に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特
に５０〜７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、
予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温すること
が好ましい。この乾燥は、特に無孔化フィルムを形成す
るという観点から重要である。
【００８０】本発明の無機組成物からなるフィルムの膜
厚としては、ガス、低分子化合物等に対するバリアー性
能及び透明性の観点から、０．２〜２０μｍであるのが
好ましく、０．５〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００８１】また、本発明の無機組成物からなるフィル
ムにおいて、無機層状化合物の含有量としては、０．０
０５〜１ｇ／ｍ2であるのが好ましく、０．０１〜０．
５ｇ／ｍ2であるのがより好ましい。
【００８２】本発明の無機組成物からなるフィルムは、
前記無機層状化合物を含有することによりガスや低分子
化合物等に対するガスバリアー性に優れている点、無機
マトリックスとしてゾルゲル法により製造された金属酸
化物ガラスを有する点などから、酸素と水蒸気に対し
て、高バリアー性の要求される製品におけるバリアー
層、具体的には、ＬＣＤ、ＥＬ素子等におけるバリアー
層質等の用途に用いることが可能である。
【００８３】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する
が、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるも
のではない。
【００８４】（実施例１） −主剤溶液及び反応液の調製− テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）4と溶媒とを、質
量比で５：１の割合で混合した。前記溶媒としては、
水：メタノール：エタノール：イソプロパノールの質量
比が、１：１：１：４の割合からなる混合溶媒を用い
た。この混合物に、さらにトリエトキシボランＢ（ＯＥ
ｔ）3を０．２ｍｏｌ／ｋｇの割合で添加して、１０分
間攪拌溶解して主剤溶液を調製した。前記主剤溶液中の
イソプロパノールに対するＳｉ（ＯＥｔ）4の濃度は、
７０質量％（ＳｉＯ2として、２０質量％）である。次
に、触媒のハロゲンイオン源として、酸性フッ化アンモ
ニウムＮＨ4Ｆ・ＨＦを用い、前記主剤溶液で用いた混
合溶媒と同一の溶媒に溶解し、該混合溶媒と酸性フッ化
アンモニウムとの合計重量に対するフッ素イオン濃度
が、０．１ｍｏｌ／ｋｇとなるように反応液を調製し
た。
【００８５】−反応生成物の調製− 前記主剤溶液と反応液とを、質量比３：１の割合で混合
して１０分間攪拌した後、塩酸とアンモニア水とを用い
て、混合液（反応溶液）のｐＨを５．０に調整した。な
お、指示薬としては、メチルレッド及びブロモクレゾー
ルグリーンのエタノール溶液を使用した。その後、３時
間熟成し、加水分解及び脱水縮合させて反応生成物（コ
ーティング剤）を得た。
【００８６】−疎水化された無機層状化合物の調製− 次に、無機層状化合物である膨潤性合成雲母（商品名；
ＭＥ−１００；コープケミカル社製）を水に分散させ、
２．５質量％懸濁液を調製し、一方、下記構造を有する
４級塩アンモニウム５質量％水溶液を調製し、膨潤性合
成雲母：４級塩アンモニウムが、質量比で１：１となる
よう、前記懸濁液と前記水溶液を混合し、２時間かけて
陽イオン交換（膨潤性合成雲母の疎水化）を行った後、
固液を分離して、固形分を水洗浄により精製・乾燥し
て、疎水化された膨潤性合成雲母を得た。
【００８７】
【化１】
【００８８】−フィルムの作製− 前記反応生成物（コーティング剤）に、前記疎水化され
た膨潤性合成雲母を添加し、サンドミルを用いて分散さ
せた。そして、無機層状化合物含有反応生成物全質量に
対して、膨潤性合成雲母が１０質量％となるよう、無機
層状化合物含有反応生成物（合成雲母含有コーティング
剤）を調製した。前記合成雲母含有コーティング剤は、
粘度が９７ｃＰであり、この無機層状化合物含有反応生
成物（合成雲母含有コーティング剤）を、厚さ５０μｍ
のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに基
材表面に塗布し、塗布基板を特に５０〜７０℃の温度区
間を注意して徐々に昇温して予備乾燥（溶媒揮散工程）
を行った後、１２０℃にて３０分間保持し焼成してガラ
ス化させた。得られた合成雲母含有金属酸化物ガラスの
フィルムの厚さ（乾燥膜厚）は、３μｍであった。
【００８９】（実施例２）実施例１において、無機層状
化合物含有反応生成物全質量に対して、膨潤性合成雲母
の含有量を５質量％としたこと以外は、実施例１と同様
にして、合成雲母含有金属酸化物ガラス（ＳｉＯ2）の
フィルムを作製した。合成雲母含有コーティング剤の粘
度は、５８ｃＰであり、得られたフィルムの厚さ（乾燥
膜厚）は、３μｍであった。
【００９０】（実施例３）実施例１において、無機層状
化合物含有反応生成物全質量に対して、膨潤性合成雲母
の含有量を２．５質量％としたこと以外は、実施例１と
同様にして、合成雲母含有金属酸化物ガラス（Ｓｉ
Ｏ2）のフィルムを作製した。合成雲母含有コーティン
グ剤の粘度は、３０ｃＰであり、得られたフィルムの厚
さ（乾燥膜厚）は、３μｍであった。
【００９１】（実施例４）実施例１において、疎水化し
ていない膨潤性合成雲母（商品名 ＭＥ−１００；コー
プケミカル社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様
にして、合成雲母含有金属酸化物ガラスのフィルムを作
製した。合成雲母含有コーティング剤の粘度は、８９ｃ
Ｐであり、得られたフィルムの厚さ（乾燥膜厚）は、３
μｍであった。
【００９２】（比較例１）実施例１において、膨潤性合
成雲母を添加しないこと以外は、実施例１と同様にし
て、合成雲母含有金属酸化物ガラス（ＳｉＯ2）のフィ
ルムを作製した。合成雲母含有コーティング剤の粘度
は、１０ｃＰであり、得られたフィルムの厚さ（乾燥膜
厚）は、３μｍであった。
【００９３】（比較例２）ポリビニルアルコールＰＶＡ
１０５（クラレ製）の５質量％水溶液１００ｇに、疎水
化していない膨潤性合成雲母（商品名：ＭＥ−１００；
コープケミカル社製）の２．５質量％分散液２０ｇを攪
拌しながら少量づつ添加し、合成雲母含有コーティング
剤を調製した。これを厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム上
に塗布し、フィルムを作製した。得られたフィルムの厚
さ（乾燥膜厚）は３μｍであった。
【００９４】（測定及び評価）前記実施例１〜４及び比
較例１〜２において、得られたフィルムについて、膜質
を目視にて評価するとともに、表５に示した条件におけ
る、膜厚、合成雲母含有率、及び酸素透過率を測定し
た。測定及び評価結果を表５に示す。
【００９５】−酸素透過率の測定− 得られたフィルムについて、下記方法により酸素透過率
を測定した。即ち、ＯＸ−ＴＲＡＮＳ ２／２０（ＭＯ
ＫＯＮ社製）を用いて、４０℃９０％ＲＨの条件下にお
いて、酸素透過率の測定を行った。
【００９６】
【表５】
【００９７】前記結果から、本発明の無機組成物、及び
該無機組成物からなるフィルムは、低温条件下だけでな
く、高温条件下（４０℃９０％ＲＨ）においても、酸素
及び水蒸気に対して良好なバリヤー性を有していること
が確認された。
【００９８】
【発明の効果】本発明によると、高湿下においても、ガ
ス、低分子化合物等に対するバリアー性が高く、物質の
拡散制御等の機能に優れたフィルム等の形成に好適な無
機組成物、耐熱性、耐高湿性、バリアー性等に優れた前
記無機組成物からなるフィルム、及び高温熱処理工程を
必要とせず、常温領域において、高バリアー性を有する
フィルムを効率よく形成し得る、前記フィルムの製造方
法を提供することができる。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 無機マトリックスを有する無機組成物で
    あって、前記無機マトリックス内に、無機層状化合物を
    含有してなることを特徴とする無機組成物。
  2. 【請求項２】 前記無機マトリックスが、金属酸化物ガ
    ラスである請求項１に記載の無機組成物。
  3. 【請求項３】 前記無機マトリックスが、ゾルゲル法に
    より製造されてなる請求項１又は２に記載の無機組成
    物。
  4. 【請求項４】 前記ゾルゲル法が、少なくとも水及び有
    機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にて
    ハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に
    調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合
    して反応生成物を得る工程、及び該反応生成物を２００
    ℃以下の温度で加熱してガラス化する工程を有する請求
    項３に記載の無機組成物。
  5. 【請求項５】 前記無機組成物が、少なくとも水及び有
    機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にて
    ハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に
    調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合
    して反応生成物を得る工程、該反応生成物に前記無機層
    状化合物を添加し分散させる工程、及び該無機層状化合
    物含有反応生成物を２００℃以下の温度でガラス化する
    工程により製造されてなる請求項１から４のいずれかに
    記載の無機組成物。
  6. 【請求項６】 前記有機金属化合物が、金属アルコキシ
    ドである請求項４又は５に記載の無機組成物。
  7. 【請求項７】 前記ハロゲンイオンが、フッ素イオン及
    び／又は塩素イオンである請求項４から６のいずれかに
    記載の無機組成物。
  8. 【請求項８】 前記無機層状化合物のアスペクト比が、
    ３０以上である請求項１から７のいずれかに記載の無機
    組成物。
  9. 【請求項９】 前記無機層状化合物のアスペクト比が、
    １００以上である請求項１から８のいずれかに記載の無
    機組成物。
  10. 【請求項１０】 前記無機層状化合物が、膨潤性合成雲
    母である請求項１から９のいずれかに記載の無機組成
    物。
  11. 【請求項１１】 前記無機層状化合物が、スメクタイト
    である請求項１から９のいずれかに記載の無機組成物。
  12. 【請求項１２】 前記無機層状化合物が、３級塩化合物
    及び／又は４級塩化合物により表面を疎水化されてなる
    請求項１から１１のいずれかに記載の無機組成物。
  13. 【請求項１３】 請求項１から１２のいずれかに記載の
    無機組成物からなることを特徴とするフィルム。
  14. 【請求項１４】 少なくとも水及び有機溶媒を含有する
    反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを
    触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら、有
    機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を
    得る工程、該反応生成物に前記無機層状化合物を添加し
    分散させる工程、及び該無機層状化合物含有反応生成物
    を基板表面に塗布し、２００℃以下の温度でガラス化さ
    せる工程を有することを特徴とするフィルムの製造方
    法。
  15. 【請求項１５】 前記有機金属化合物が、金属アルコキ
    シドである請求項１４に記載のフィルムの製造方法。
  16. 【請求項１６】 前記ハロゲンイオンが、フッ素イオン
    及び／又は塩素イオンである請求項１４又は１５に記載
    のフィルムの製造方法。
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