TWI314488B - Verfahren zum trennen flacher werkstucke aus keramik - Google Patents

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TWI314488B
TWI314488B TW093119985A TW93119985A TWI314488B TW I314488 B TWI314488 B TW I314488B TW 093119985 A TW093119985 A TW 093119985A TW 93119985 A TW93119985 A TW 93119985A TW I314488 B TWI314488 B TW I314488B
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Stefan Acker
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Jenoptik Automatisierungstech
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Description

1314488 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明關於-種利用雷射藉著熱造成之應力將陶究構 成之大致平坦的工作物切斷的方法。 在根據熱引起之應力作切斷的場合,係藉著時間性及 局部性地將熱加人及/或吸離在材料中產生溫度梯度,而 造成熱應力’導致裂痕形成。這種切斷可藉著形成完全貫 穿該材料的裂痕而達成,或著藉著先形成深裂痕,然後利 用機械力量作用而切斷。 【先前技術】 在先前技術中有許多此類之習知方法,它們利用各種 〇不相同的措施使方法結果最佳化,特別是切斷緣要有高 口口質。固然這些在專利文盧* φ辦·、. 你寻才』又馱中所述的方法一般要能全部用 ::的非金屬材料’因此也包含陶变,但是其所過實施例 又;玻璃,延點看一下以下說明即可了解。 利用熱引起的應力將玻璃切斷的技術,大概第一次是 1914年申請的德專利DE 12 44246姐μ (其光束横截面很小,故能量密二到一^ ., 文此里在度很兩)在—設有能吸收輻射 ^層的平板玻璃表面導進(雷射線),因此由於熱導 使玻璃表面在沿雷射線的部分發熱。人們知道此處 射=璃加熱:絕對值而冑,而係視在玻璃中垂直於雷 跟隨’皿又梯度而疋’這種溫度梯度特別是可藉著該發埶後 it冷:作業達成。人們當時已確知,要形成所需的溫 -,並不須將玻璃加熱到其熔點為止,且由於熱斷裂 1314488 所造成的斷裂產生的切斷面的品質與將破璃熔化造成者不 同。 較以後的文獻則將這基礎方法最佳化以提高切斷速 度,改善切斷線的線導引的準確度(切斷準確度)以及改 善切斷緣.的表面(切口緣品質)。 如在1992年國際專利WO 93/20015所示,在這種方 法,由於以下理由,到此案發表的當時為止,切斷 都不夠好: & 氣縫在一玻璃板的邊緣在某一時刻開始形成,在此時 Ί夺軸射線光斑已從邊緣沿該雷射線隔開。在玻璃板邊 緣與光束斑之間的區域内,熱應力呈複雜的分佈,這些熱 應力最先只造成壓應力,但它們不會造成裂痕形成。當冷 部劑加上去時,會使熱呈驟然方式被抽掉,而產生拉伸應 力’此時當拉伸應力超過玻璃的拉伸強度時,就會造成裂 痕的形成。當裂痕前進時,在裂縫兩側的材料邊緣被互相 壓開,如此產生機械應力,該機械應力促使裂縫進一步擴 展’當在此步驟中可利用玻璃板中熱應力的不對稱性解釋。 依W〇 93/20015的一方程式選擇一定的程序參數,可 吏刀辦準痛性及切斷速度改善,依此程式要產生特定方向 與冰度的裂痕。依此方式,依一橢圓形光束橫截面的長度 與寬度而定,選定相對速度,如蘇聯專利su_A_1231813所 述者其依一比例因數(它係由玻璃的熱物理性質及機械 性貝及輻射功率密度而決定)、光束斑與冷卻區域的距及 4痕私度(它由工作物的材料厚度決定)而作選設。雖然 6 1314488 其中未清楚說明,但在利用此公式的情形下,選設參數最 、·';係要使熱應力儘量地在一定地點分佈而加入。 較以後的專利案特別是進一步對光束斑的幾何性質著 手 匕要使能量能最佳地加入,在此,實施例各利用玻璃 說明。 因此在WO 96/120012中不採用習知之將光束斑中能量 役度作迄今習知的高斯式分佈的方式,而係採另一能量分 佈方式,從周圓向中心遞減(橢圓形)。歐洲專利EP 0872303 係主張一種光束斑形,其能密度分佈呈一 ϋ或V曲線。 台灣專利申請案891〇453〇 (公告號464578 )提到一種 控制雷射劃線的介質裂縫深度的方法’用於將玻璃或其他 脆易碎材料構成的扁平工作物切斷,利用雷射沿一所要之 切斷線造成暫時局部的發熱,隨後利用一股冷媒喷流沿此 暫時及局部地將熱帶走,而造成熱脹冷縮的熱應力而引起 一斷裂痕。在此,雷射光束在工作物上形成一光束班,它 沿切斷裂痕方形呈一長橢圓形。 先前技術係設法沿雷射線產生均勻熱應力,並藉特定 之能量密度分佈而影響斷裂痕的品質,這種方式顯^其出 發點係要將無定形(非晶質)材料以無本身應力的方式加 工’正如許多玻璃種類所採用者。 而在晶質材料(如陶瓷)實施此程序時,其出發點須 為:這些決定程序過程的程序應力不能完全由所引發的熱 應力的時間性與區域性的形成而決定,而係也要使自身應 力也促進該程序的應力,特別是當較大的自身應力沿所要 1314488 的切斷線的路徑的範圍改變時,這種習知方法不能達到所 要的切斷品質。上述之方法也對於上述切斷線在工作物末 端向雷射線彎曲的問題並無解決的方法,本申請人了解這 點係自身應力的問。 除了在習知方法中該自身應力都被忽視(這些習知方 法一般號稱,係可用於非金屬脆材料者)以外,這些方法 都需要有一條起始裂痕,這也更進一步顯示了這些方法不 適用於陶究。 上羋例而吕,在wo 96/20062中所述的方法中提到,在 该受照射的部段冷卻之前,在材料表面沿所要的切斷線作 叫条切痕(Anschnitt)(起始裂幻。固然在工程上這種切痕 2非新者’且往往在板的熱切割程序實際使用,然而配 s上述方法可造成新穎效果,亦即很準確的切割導引,及 ^質的邊緣,在EPG4侧8、w_侧9及德專利咖 824也如到起始裂痕當作重要特點。 【發明内容】 裂痕本:經驗Μ :絕對需要有-條起始 明中,各稽^ 力將玻璃切斷。但在這些程序說 種情㈣並不提到也不採 必需之前提,這是因為實際上係從一機:方=痕“ 開始作切斷,該邊綾 為械方式切出的邊緣 縫之一當料始裂痕^上有許多微裂痕。如此這些微裂 果我們在這種利用:匕^延變成「切斷裂痕」。但如 則在維持程序表數二的切斷緣上做-條第二切痕, 的情形下,衫會形成所要之定向的裂 1314488 痕’而只有加熱及隨後 於這種邊綾#力女形成裂痕,其原因在 41519中明白^ 裂痕能當作起始裂痕。在DE⑽ 平板玻裂痕的必要性,該文獻提到—種將一 :玻Γ切分成數個長方形板的方法。此處有一點很明 以;用行家們知道,要切斷玻璃,絕對需要-起始裂 痕,以利用熱引起的應力從一切斷緣作切斷。 上迷方式係設法在程序期間一直將熱均句地沿 加入,且如果作+77金丨u 6 ^ 起始裂痕。邊緣沒有微裂痕’則絕對要有—條 ::牙、之外’本申請人還知道有另一缺點,因為 ^ ^ 叙不此直接使用於將陶瓷切斷。基本上, 在考慮/^·點以及所 a& 4-n Λ2. ϊ ,所要切斷的材料,以及所予之光束斑的幾 何'I,以及光束斑中的能量宓产八佑& _ 町恥里在度刀佈的情形下,可藉著 +田射功率、光束斑長度及料速度這些參數作最佳組合 而將熱加入,這種熱造成應力,這應力夠力,因 痕可擴展。 ^ 在上述先前技術中未提到:利用所要切斷 質將間隙空間上方定界限,以選設光束斑的長度,或以 慮坆些因素的情形下將該間隙空間作最佳的選設。 _、,實際上,破螭可用小的或大的光束斑長度(約2〜50 毫米)依速度Μ作切斷’且如果要將不同的玻璃切斷, 則不需配合光束斑長度。 反之’在陶瓷的場合,本申請人的研究顯示,為了要 在陶瓷中產生所要的裂#,光束斑長度的範圍不但比破璃 1很夕且各種不同陶瓷之間也互不相同。 1314488 如上述’在上述先前技術的實施例中,並沒有明言能 將陶瓷切斷者。實際上,陶瓷係用機械方式鋸切而切斷者, f矛「j用田射藉所謂的r刮切」(Scriben)--它也被錯誤地稱 刮裂j ( Ritzen )。在此處並沒有實際上的裂開,而係 =盲孔形式沿一條線將材料去除。用於這種方式的程序的 射加工。又備見於pr〇 c〇m Systemhaus與工程公司的型 錄’名稱為CNC300。 精耆將材㈣化及蒸發,可將很大的應力引人。它們 會在組織中造成微裂痕形成。 k種方法不能用於受於高應力的陶瓷。它只會造成不 =定的龜裂(Wildbrueh)。主要的缺點還有會m氣殘留 物沈積而使工作物表面污染。 本毛明❼目的在於提供一種根據熱引發的應力將材 切斷的方法,該熱應力使得裂痕沿切斷線形成,藉此方 可在陶曼構成的平坦工作物中以高程序速度切出一 / 的深裂縫,俾使陶兗沿此切線線的抗彎 地: 少,俾隨後施以-定力量將工作物沿此切斷線切:也減 方法Π明:在一種將陶竟構成的工作物切斷的 '、j用申凊專利範圍第i項的特點達成。 有利的實施例係在附屬項中敘述。 依本申請人所知,受應力的陶£只有當程序參 慮工作物的自身應力下作改變]能依目的作切 : 請人設法對於重要的可改變的參數射功率盘進申 度--有約大的程序與工作物的導熱能力(WLF;、的= 10 1314488 以及其厚度,且為此找 了對應選設時,就有2的:序;;。斑長度作 及進送速度(程序J 」以調整雷射功率 孔範圍内依標的改變,者參數可在該程序窗 ‘ 或者參數(例如雷射功率或發生之 锆又的變動(例如由於工作物表面不平坦所致)可 情:=Γ。事實也顯示,在對應的光束斑長度的 所雨的物中的自身應力比起在工作物中形成裂縫 的^變 小時’則並不絕對需要將程序參數依標 =造m作物時,在不同的生產階段中,在後處 安裝時’基本上會發生機械應力。特別是當加熱或 冷卻不均勻時(例如在陶究燃燒後冷卻,作表面處理用的 熱後處理作業’或用於施覆鍍層之處理)以及由於收縮時, 應力被「珠結」到工作物中,或導致殘留之變形。這些應 力的原因係由於陶究顆粒〔碎片(Seherben)〕不同的熱膨服 系數以及組織構造之相關的不同的膨脹以及陶冑(陶竟顆 ^與雜質)與鑛覆材料之間不同的熱膨脹係數所致。此外, 當成形時或工具加i (例如將邊緣作機械㈣)由於強力 機械力量,而會使附加的自身應力加入材料中。 廷些自身應力一般不能計算,但可有限地作實驗測定。 本發明的第一構想為:特別是當工作物有很大的自身 應力時或其自身應力沿所要的切斷線有很大變化時,在切 斷程序開始之前,將工作物沿所要之切斷線的自身應力檢 出初步這種檢出作業可用量技術達成。其次可作許多測 j314488 量以及將測量結果和沿所要之切斷線之工作物的表面曲度 相關聯,也可利用目測法比較工作物的曲度而追溯到自身 應力。 自身應力的測量作業要有利地在—批工作物的二個樣 品作,其中在第二樣品的檢出作業用於確認第一樣品的結 果。如果這些結果在預設的容許誤差限度内係相等者,則 吁認為這-批工作物中的其他工作物沿著切斷線也有相當 的應力走勢圖,「一批工作物中的工作物」一詞係指這: 工作物在相同製造條件下製造(可能還有相同加工條件; 加工)’且具有相同尺寸,特別是相同材料厚度者。 自身應力也可利用實驗求出。 為了在整個工作物範圍中在陶究内達到一條具值定深 度的深裂痕’有-點很重要的:該引發的應力加上自 力要達到臨界破壞應力(在此應力時用形成裂痕)。此時 固然可將所要切斷的陶£板之沿所要之切斷線的自身庫力 求出,且容許的破壞應力一般 " 又資田表化陶瓷板者的經驗得 到’然而由此達成之所要引發的應力並不能隨時地當作在 雷射線上的路徑函數作調整。 引發的熱應力係為許多程序參數與材料參數的函數 •雷射光束的功率 •光束斑中的功率密度分佈 •光束斑的形狀與面積 •光束斑與工作物之間的相對速度 •工作物的材料性質 1314488 冷卻劑的熱物理性質 在冷卻橫截面的形狀與面積以及距光束橫截面的距離。 斷程序Γ作物㈣設㈣性質(該卫作物_地在一切
7截Π不能改變的冷卻劑的性質以光束橫截面與冷卻劑 才買截面(它們太叙皮、? I 中很難改變)對於-實驗保持一定, 特別疋雷射光束的功率與進送速度。對此,為了要有夠大 的間隙空間(程庠龠3丨、 有多勺大 太小使能量加入太而:不會由於光束功率太高或速度 夕而4成材料發熱(這會導致雜質熔 )’故需對應地選設對於程序為—定的參數。 々果光束沿光束導進(進送)的方向有儘量大 Γ長度),則達到最大之程序窗孔;換言之,光束斑長产! 越大,則㈣”越大(進送速度與雷射光束的功率可在 此間隙空間中變化)。 由於材料中的熱功率沿所有方向均勻作用,因此光束 斑長度較大’可使較多熱進入深處。雖然在玻璃的場合, 光束斑長度在技術可能的範圍内幾乎可選設成任意長度, ::陶瓷的場合’長度就受限制。其原因係為材料的熱傳 $月匕力(WLF )。雖然玻璃的WLF只會猶微變動,例如從 Floatglas 〇.8 W/mK ’到删矽酸塩玻璃的,但陶宽 的WLF則可變動得很大,達到玻璃的iq〜倍以及大的 1〇〇倍’例如ALN 180 w/mK。此狀況在加熱區域(光束斑) 的4何性裊。特別是在其長度的場合就進送速度方面加以 考慮。 此處說明本發明第二構想。 13 1314488 最大之有效的光束斑係利用所要切斷的材料的導熱能 力決定。I熱能量越大,則光速斑長度須越短,俾使儘量少 的熱從切斷線側向導離到鄰界的區域。但同時該光束斑長 度又要儘量大,俾能如所述,有很大的程序窗孔,使料 速度與雷射功率能在窗孔中變化。在這些實施例中,對於 不同導熱能力的材料給予光束斑長度,這些光束斑長度二 如對该材料係最適當,因此也要所需地儘量小,俾使側向 熱導離量保持很小。本申請人利用多數實驗發展出一公 式,藉之可依熱傳導能力(WLF)材料厚度而定求出最佳 的光束斑長度。調整此光束斑可造成很大的程序窗孔,在 其中該雷射功率與進送速度可充分地變化,俾將在切斷線 謝所引發的熱應力依自身應力而定作 材料中的自身應力而定,可找屮,炉皮& 案斑m w &出在私序自孔中對於雷射功 率與進送速度適當的參數組合。 雷射線變動很大’則這此失數了果该應力性質沿 只二參數可沿程序過程 它們可對於工作物作不同 个1“勺5周整’舉例而t,該工作物由 於不同的後處理而有不同的自身應力。 下勿由 即使不須改變程序參數,但因為自身應力很小或者在 所要的切斷線的走勢中變動 〆 的么”… 不大’因此絕對要利用本發明 的“選§又先束斑長度’俾因應目的而得到一條切斷裂 痕,否則,當程序參數恆宏拄± J條切斷裂 数民疋時,較大的光東 t、止 成所要的切斷品質,或者切斷程序 長度不“ 光束斑長度會造成較長的程 J生。較短的 ^ M ( ^ ^ ^ 功間或运成可看得出的交替 作用咖表面的_炫解),因此利用本發明測定的 14 1314488 光束斑長度可達到儘量高的程序速度。雷射功率的變動, 由於程序窗孔很大,故不會影響程序,同樣地照到工作物 上的光束斑的影響能量密度的變動也不會造成影響。這種 能量密度的變動係在沿雷射線之進點距工作物表面的相對 距離改變時發生者,因為(舉例而言)卫作物表面不平坦, 研究顯示,計算的光束斑長度偏差即使達1〇%也不會有 顯的影響。 在實施此程序時,將自身應力基本上列入考慮,則不 但可使具有自身應力的m夠以可重視的如帅㈣叫 方式切斷’而且也可依標的施機械應力以幫助切斷的程 序。因此’舉例而t,非氧化物式的陶瓷(由於熱傳導能 力高’很難將熱力應引人其中)纟切斷程序時可受機械預 應力,使得只要還很少的熱應加入時已形成裂痕。 藉著將自身應力列作考慮,可在切斷陶竟時(藉著來 成一條深裂痕’然後施力)將所需之施力保持在很:的誤 差範圍1需的破壞力量一方面不能太小,以防止提前音 外地斷裂,但也不能太大,俾使陶m斷線漂二 且只花很少的能量。 辦 特収薄的工作物可有利地固定在卫作物承座 U age上,則量’該承座也用於作隨後切斷程序的承座, 如此,由於固定在承座上因夾緊產生的應力也可—同檢出。 本發明的第三構想在於將裂痕引入。 將條起始裂痕依標的加A,對☆要將陶 物切斷的情形而士,俦1右 、作 。又有必要者。如許多試驗所顯示者, 15 1314488 裂痕始終沿顆粒界限開始形成(在此顆粒界限由於陶变結 晶與其周圍的炫化相的膨脹係數不同,在製造及再加熱 時,造成最大應力)或者在材料過渡區開始形成(在陶竞 加熱時,由於接觸而形成這些過渡區,它們是較脆弱的位 置)。如&,裂痕遂沿顆粒界限在雷射線區域(光束斑掃 掠過的幻中擴展。雖然在玻璃的非晶質組織中裂痕往往 從-條起始裂痕開始呈直線擴展,但在晶質的陶竟中,裂 痕的形成與擴⑽顯微鏡看)係沿顆粒界限或脆弱位置 呈波狀發展,光束斑寬度至少要等於最大顆粒直徑的寬度。 本發明在以下利用實施例詳細說明。 【實施方式】 在第-實施例中’陶竞盤由96%氧化銘構成,熱傳導 能力24W/mK,厚冑〇.63mm,它要從中央切斷。 利用本發明的公式:㈣xdx24/WLF (其中{為光束斑 長度)’ WLF為所要切斷的陶瓷,d為所要切斷的陶:是段 的厚度)计算得光束斑長度5mm,並調整光束斑使光束斑長 又約5mm光速斑寬度約i mm,在雷射功率瓦特及速度 二。毫米/秒’將光束斑經該工作物導進,產生一條深裂痕, 匕用眼睛看不出來,隨後在80〜120MPa範圍施力時,工作 物沿切斷線斷裂。其他的與此工作物中或這些工作物同— 批的材料利用相同的參數產生的深痕可用相同的施力作用 刀斷田射功率變3% ,沿工作物的對角線範圍的高度差為 mm(匕們會使得雷射線的光束密度變動)這些值都在程 序由孔之内,因此不會有問題。研究顯示,在這種光束斑 16 1314488 的橢圓長度以及60W的雷射功率的人 年的%合,進送速度可在 50mm/s與150mm/s變化(其他程庠! 布序參數不變的場合)。當進 送速度1〇〇mm/S時’雷射功率可在54〜卿之間變化 在第二實施例中,所要切斷的陶究盤由氧化 其熱傳導能力2.4W/mK,厚度同揭Λ A。古 又』樣〇·63毫米。光束斑長度 選设成5Omm,所選設之進送速声彻 、逯度與雷射功率同第一實施 例,該雷射功率與進送速度可依第一實施例變化,而 對裂痕的形成有影響。 在第三實施例中要將第—實施例的陶竟切斷,它設有 鑛覆上去的銅構造’且具有很高的自身應力,這是在實施 該程序時不能再忽視者,陶究中的自身應力在未㈣的邊 緣區域係遠小於在銅構造的區域中者。當光束斑的其他參 數,持樣要丄著構造間的一條線將陶曼切斷,該材 料厚度调整成-疋,且進送逮度可沿雷射變化或將進送速 度調成m吏雷射功率可沿雷射線變化。 如此,舉例而言,當雷射功率60W時,進送速度在自 由的邊緣區域開始調整到1G(Ws,然後在鍍覆的區域減少 到7〇職/s,然後在離開錄覆區域時再增加到H)0 mm/s,這 種進运速度都在程序f孔内,該程序窗孔係對於該陶堯 :斗及工作物厚度之所求出的光束斑長度設定者(見第—實 Μ,)。如;J;在恆定雷射功率將進送速度作變化,也可以在 疋的進送速度將雷射功率變化。因此,舉例而言,在1 〇〇 的值定進送速度時,開始用歸的雷射功率最先在 自由邊緣區域·鈇鉍 …、後在構造間的一線上以66W在構造化區 17 1314488 域,最後再在自由邊緣C區域施以60W的雷射功率,以產 生所要之切斷裂痕。 【圖式簡單說明】 (無) 【主要元件符號說明】 (無) 18

Claims (1)

1314488 十、申請專利範圍: 著種將陶㈣成的工作物切斷的方法,係利用雷射沿 ::斤要的切斷線作時間性及局部的發熱然後作時間性 的冷卻造成應力,產生—條切斷裂痕,其中該雷 方 工作物上形成一光束斑’其光束斑長度沿切斷線 方向係大於垂直於該来击 具# 於該先束斑長度方向的光束斑寬度,其特 徵在·該光束斑長度由以下公式計算: ^ = 8xdx24/WLF 其中鹆光束斑長度,WLF為所要切斷的陶竟的熱傳導 能力值’d為所要切斷的陶£卫作物的厚度,俾依該工作物 的熱傳導能力及材料厚度而^將光束μ寬度作調整,使之 如所需之小’以使之儘管熱加入,仍能達成所需的溫度梯 度以產生該切斷線’但又要儘可能地大,以使熱儘量快地 加入並達成高程序速度,且不產生起始裂痕以開始作切斷 程式,且在切斷程序開始時’將工作物沿所要之切斷線的 自身應力檢出,並考慮到該自身應力在切斷過程時將功率 或速度依地點而定作控制,使沿著切斷線的熱應力與自身 應力總和達到形成裂痕所需之破壞應力。 2 ·如申請專利範圍第1項之方法,其中: 該工作物在預應力下保持在一工作物承座上,俾另外 產生幫助程序應力的附加應力。 3.如申睛專利範圍第1項之方法,其中: 將工作物固定在工作物承座上,該工作物在切斷裡序 時也以相同方式保持住。 19 1314488 七、 指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第(無)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: (無) 八、 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: (無)
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005144487A (ja) * 2003-11-13 2005-06-09 Seiko Epson Corp レーザ加工装置及びレーザ加工方法
DE102008001229A1 (de) * 2007-04-25 2008-10-30 Ceramtec Ag Chip-Resistor-Substrat
FR2970666B1 (fr) * 2011-01-24 2013-01-18 Snecma Procede de perforation d'au moins une paroi d'une chambre de combustion
EP2965853B2 (en) 2014-07-09 2020-03-25 High Q Laser GmbH Processing of material using elongated laser beams
WO2016151776A1 (ja) * 2015-03-24 2016-09-29 三菱電機株式会社 レーザ加工方法、レーザ加工機、加工プログラム生成装置およびレーザ加工システム
CN113139300B (zh) * 2021-05-14 2023-09-12 南京工程学院 陶瓷微孔致裂强度定量预测方法、装置、计算机设备及存储介质

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1244346B (de) * 1964-10-19 1967-07-13 Menzel Gerhard Glasbearbeitung Verfahren zum Schneiden von Glas
SU666143A1 (ru) * 1977-03-29 1979-06-05 Всесоюзный Научно-Исследовательский И Проектно-Конструкторский Институт По Автоматизации Предприятий Промышленности Строительных Материалов Устройство дл управлени резкой листового стекла
SU1308573A1 (ru) * 1984-06-29 1987-05-07 Всесоюзный научно-исследовательский институт технического и специального строительного стекла Способ резки ленты стекла с гладкой и волнистой поверхностью
SU1231813A1 (ru) * 1984-10-02 1991-04-23 Организация П/Я Р-6007 Установка дл резки листовых материалов, преимущественно стекл нных пластин
JPH03500620A (ja) * 1987-08-28 1991-02-14 ツェントラルノエ、コンストルクトルスコエ ビューロー、ウニカルノボ、プリボロストロエニア、アカデミー、ナウク、エスエスエスエル 目的物のレーザ処理方法及びその方法を実施するための装置
US5132505A (en) * 1990-03-21 1992-07-21 U.S. Philips Corporation Method of cleaving a brittle plate and device for carrying out the method
RU2024441C1 (ru) * 1992-04-02 1994-12-15 Владимир Степанович Кондратенко Способ резки неметаллических материалов
US5776220A (en) * 1994-09-19 1998-07-07 Corning Incorporated Method and apparatus for breaking brittle materials
US5622540A (en) * 1994-09-19 1997-04-22 Corning Incorporated Method for breaking a glass sheet
JPH0899186A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 A G Technol Kk レーザ加工装置
WO1996020062A1 (fr) * 1994-12-23 1996-07-04 Kondratenko Vladimir Stepanovi Procede de coupe de materiaux non metalliques et dispositif de mise en ×uvre dudit procede
JPH0919782A (ja) * 1995-07-04 1997-01-21 Hitachi Cable Ltd 基板の加工方法及びその加工装置
JP3923526B2 (ja) * 1995-08-31 2007-06-06 コーニング インコーポレイテッド 壊れやすい材料の分断方法および装置
JP3785208B2 (ja) * 1995-11-21 2006-06-14 コアテック株式会社 中空紐状物の製造装置
JPH10116801A (ja) * 1996-10-09 1998-05-06 Rohm Co Ltd 基板分割方法及びその基板分割を用いた発光素子製造 方法
JPH10128567A (ja) * 1996-10-30 1998-05-19 Nec Kansai Ltd レーザ割断方法
MY120533A (en) * 1997-04-14 2005-11-30 Schott Ag Method and apparatus for cutting through a flat workpiece made of brittle material, especially glass.
JPH1167248A (ja) * 1997-08-20 1999-03-09 Toshiba Corp 燃料電池
US6420678B1 (en) * 1998-12-01 2002-07-16 Brian L. Hoekstra Method for separating non-metallic substrates
US6327875B1 (en) * 1999-03-09 2001-12-11 Corning Incorporated Control of median crack depth in laser scoring
US6501047B1 (en) * 1999-11-19 2002-12-31 Seagate Technology Llc Laser-scribing brittle substrates
DE19955824A1 (de) * 1999-11-20 2001-06-13 Schott Spezialglas Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Schneiden eines Werkstückes aus sprödbrüchigem Werkstoff
CN1413136A (zh) * 1999-11-24 2003-04-23 应用光子学公司 非金属材料的分离方法和装置
DE19963939B4 (de) * 1999-12-31 2004-11-04 Schott Spezialglas Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Durchtrennen von flachen Werkstücken aus sprödbrüchigem Material
US20010035447A1 (en) * 2000-05-05 2001-11-01 Andreas Gartner Methods for laser cut initiation
DE10041519C1 (de) * 2000-08-24 2001-11-22 Schott Spezialglas Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Durchschneiden einer Flachglasplatte in mehrere Rechteckplatten
JP2004515366A (ja) * 2000-12-15 2004-05-27 エルツェットハー レーザーツェントルム ハノーファー エー ファウ ガラス、セラミック、ガラスセラミック等製の各構成部品を、切断領域で前記構成部品に熱応力による引きつれ割れを生じることによって切断する方法
KR100497820B1 (ko) * 2003-01-06 2005-07-01 로체 시스템즈(주) 유리판절단장치

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