TWI313209B - Cmp slurry and method for polishing semiconductor wafer using the same - Google Patents

Description

•1313209 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種CMP研磨料，尤指一種適用於改盖 晶圓内的不均勻度的CMP磨料，且能使用於要求精 : 5 的半導體製程。 茶 【先前技術】 丨隨著不斷地提供較大整合尺度之微電子裝置’用於製 造這㈣電子裝置的平坦化製程變得愈來愈重^因二部 1〇份的嘗試想獲得大尺度整合的微電子裝置，多重内部連、社 的技術，以及多層次堆疊技術已廣泛地使用於半導體晶 圓。然而，進行上述技術所產生的不平坦化常造成問題。 因此平坦化製紅被應用於微電子製程中的不同步驟，以 減少晶圓表面的不規則性。 15 平坦化技術之一為€]^?(化學機械研磨）。在CMP的製 程中，晶圓的表面由一研磨墊壓住磨轉，以及將一研磨料 和化學補’即所謂的CMP磨料，在研磨過程時導入研磨 墊中。如此晶圓表面的平坦化由化學和物理方式完成。 CMP製程應用例子之—為淺溝渠隔離技術⑽⑶㈣ 1S〇lat聰，STI)。在STI技術中，一些淺溝渠被形成， 而這些淺溝渠被用來形成場區域（fieldregicm)，以區分晶圓 表面上的可用區域（active regi〇n)。 -般的STI製程顯示於圖i。如圖i所示，二氧化石夕⑼⑹ 墊層101和氮化矽(Sl3N4)層i〇2成功土也在半導體晶圓上形 5 -1313209 成。接著’一阻光圖案在Si3N4層102上形成。然後，Si3N4 層102、氧化矽墊層1〇1和半導體晶圓1〇〇，以阻光圖案為遮 罩被部份地刻蝕，如此形成多數的溝渠1〇3。 5 10 15

20 進一步地，為了形成場區域（field region)，以 LPCVP(low pressure chemical vapor deposition) ' PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition)或 HDPCVD (high density plasma chemical vapor deposition)技術沈積上 絕緣氧化石夕層104。如此’姓刻l〇3被l〇4層填滿，且叫队 層102被層1 〇4覆蓋。接著，氧化矽層1 〇4被研磨直到氮化矽 層102露出。除此之外，位於二個可用區域（active regi〇n) 間的SisN4層1〇2，及二氧化矽墊層1〇1以蝕刻方式被移除。 最後’一問極氧化矽層1〇5 (gate silic〇n 〇xlde layer)在半導 體晶圓的表面形成。 在此，在用來移除絕緣氧化石夕層1 的CMP製程過程 中，絕緣氧化層104和S“N4層102顯現不同的移除率，乃因 他們有不同的化學和物理特性。 絕緣氧化矽層與氮化矽層之移除率比例相關於CMp磨 料的，擇率。當CMp磨料的選擇率降低，帥4層被磨料移 除，量則增加。—般較佳是聊4層不被移除。換句話說， 則疋希望絕緣氧化石夕層對％队層的選擇率為無限大的。然 而^傳統CMP磨料之Si3N^對於氮切層#有低的研磨選 擇率，其約為4 : 1。如此一來，層被研磨成超過實際 CMP製程可接受範圍的程度。其結果為，在⑽製程中， 此㈣層圖案可能在晶圓的位置不同而不均勻地被移除。 6 •1313209 因此，此邮4層在整個晶圓上有不同的厚度。特別地，在 一半導體晶圓上同時具有—高密度與-稀疏的圖案，這是 一個嚴重的間題。由於《 ΛΑ n 〇 、上这獒及的問4，一最終結構其場 =域具有在可用與場區域之間有高度差，將導致製造半導 體裝置的後續步驟之製程範圍（㈣⑽S咖响)變小，以及 電曰曰體與裝置之品質劣化。簡言之，傳統的⑽製程是有 々下的問題.即使藉由⑽印除氧化石夕層後，具有均勾厚 度之SuN4層圖案仍無法獲得。 10 15 20 整體= 整，的問題外，傳統技術在晶圓的 ,、。夕問題。當分析一個用傳統技術研磨 f斷區*，可以看出晶圓的中心部份被研磨地 且2^夕，所以晶圓呈現出—U型或W型的橫斷面，並 可的晶圓内的不均句性。這種研磨特性的原因是 目為機械壓力之分佈對於晶圓和研磨墊是不 =’所以在研磨時’研磨聚料或研磨粒子的分布 句的’㈣晶圓中心部份的研磨速率相對地增加。- 製程Ϊ於^種1^度的晶圓内的不均…11，在實際的半導體 、王 虱化矽層的製程規格被提高到可以#定县 磨終止的時間點。〜 了以穩又易確定研 化石夕層，々心 可以使用一種方法形成一初始氮 氮切層的二ΤΓ圓中心部分和邊緣部份之被研磨 有效率。&差。然而’此方法的問題，是導致製程沒 以下撝述關於製備STI CMP磨料的先前技術。 以下的專利文件乃關於製備高選擇率的氧化鈽磨料， 7 ‘1313209 日本日立化學股份有限公司（Hitachi Chemical Co., Ltd., Japan)所發明，其中揭露了在氧化鈽磨料成分中加入添加 劑，達成分散的穩定性和高選擇率：日本專利公開號No. 1998-106988;日本專利公開號No.1998-154672;日本專利 5 公開號No.1998-27041 ;日本專利公開號No.2000-109794 以及2000-1098 15 (4月18日，2000年）；日本專利公開號No. 2001-37951 ; 2001-35820 和 2001-319900 ;韓國專利公開號 No.2001-0108048 及 2002-0015697 •，美 國專利 1^〇.6,211，11881(4月24曰，2001年）及!^〇.6,420,26982(7月16 10 日，2002)。然而，這些根據先前工藝的技術是有問題的， 其適用範圍太廣泛且無清楚的界定。以及，僅提供關於研 磨速率和選擇率比列的基本資訊。因此，這些技術並不是 實際地可以執行的。此外，這些專利文件並無揭露關於整 體晶圓平整化之技術内容及效果。 15 除上述之外，國内半導體和研磨料製造公司已發展出 一添加物，以增加氧化鈽研磨料的研磨選擇率。此一添加 物，包含了 一單獨的線型聚合物，或混合一種低分子量的 物質。這些添加物，揭露於韓國專利No.2003-0039999， 2004-0047653,2004-0013299, 2004-0098671，2004-0095118 20 及2005-0004051。然而，這些專利文件，僅揭露增加研磨 速率和研磨選擇率，並無揭露關於整體平整化特性的技術 内容和效果。 同時，先前用於改善整體平整化特性的技術’所知的 一種方法，舉例來說，為加入含有有機高分子物質之添加 8 1313209 物。然而，這種方法的問題為研磨料的黏度會增加，因為 需加入相當數量的添加物，以減少晶圓内的不均勻度達到 所要求的水準。 5 【發明内容】 本發明之發明人發現，當一具有重量平均分子量為 30-500，並且包含羥基（OH)、羧基（COOH)、或兩者都有之 化合物加入CMP磨料中，CMP磨料之黏度會下降，並且可 以減低研磨所造成之晶圓内的不均勻度。 10 因此，本發明之目的係提供一種包括有一化合物之 CMP磨料，該化合物具有重量平均分子量為30-500，並且 包含羥基（OH)、羧基（COOH)、或兩者都有，以及使用該CMP 磨料研磨半導體晶圓的方法。 為達上述目的，本發明提供一CMP磨料，其中一具有 15 重量平均分子量為30-500並且包含羥基（OH)、羧基（COOH) 或兩者都有之化合物加入一 CMP磨料中，該CMP磨料中包 括有研磨粒子和水以及具有一第一黏度，使得該CMP磨料 被控制為具有比第一黏度低5-30%之第二黏度。 另一觀點，本發明係提供一使用上述CMP磨料之半導 20 體晶圓的研磨方法。 下文中，將詳細敘述本發明。 本發明之CMP磨料包括也一化合物，其具有重量平均 分子量為30-500並且包含羥基（OH)、羧基（COOH)或兩者都 有，使得CMP磨料之黏度降低5-30%。 9 •1313209 在本文中，”第一黏度”之用詞表示CMP磨料（包括有研 磨粒子、水和其他分散劑）的黏度，其中不包含一具有重量 平均分子量為30-500並且含有羥基（OH)、羧基（COOH)、或 兩者都有的化合物。”第二黏度”之用詞表示CMP磨料的 5 黏度，其中包括了一具有重量平均分子量為30-500並且含 有羥基（OH)、羧基（COOH)、或兩者都有的化合物。 如上所述，當使用先前的CMP磨料來研磨一晶圓時， 呈現出很差的整體平面度。整體平面度是指晶圓内的不均 勻性（Within-wafer Non-Uniformity，WIWNU ; %)，其為研 10 磨後晶圓的厚度標準差（S.D.)除以平均厚度而得到。較低的 WIWNU表示較佳的整體平面度。當使用本發明之CMP磨 料，其包含一具有重量平均分子量為30-500並且含有羥基 (OH)、羧基（COOH)、或兩者都有的化合物，於研磨半導體 晶圓時，可以降低WIWNU至小於6.5%。 15 本發明之CMP磨料因為具有一重量平均分子量為 30-500且含有羥基（OH)、羧基（COOH)、或兩者都有的化合 物，所以具有較低的黏度。其能藉由研磨晶圓之牛頓流體 行為而達成研磨頭與晶圓均勻的接觸，並因此提供一均勻 的研磨表面於整個晶圓，導致改善晶圓内的不均勻度 20 (WIWNU)。 同時，習知的CMP磨料常常包含有大量的高分子物質 添加劑以改善/晶圓内的不均勻度。例如，因為要改善選擇 性而常常加入180 wt%高分子添加劑（基於研磨粒子的重 量）、以及要改善晶圓内的不均勻度而常常加入200-300wt% 10 1313209 高分子添加劑（基於研磨粒子的重量），CMp磨料之黏度也因

粒子的凝聚而導致粒徑變大， 然而，本發明之CMP磨料能呈現出極佳的整體平面度 以及具有適合CMP研磨的黏度，既使其不包含大量的高分 子添加劑。因此，所發明的CMP磨料的第二黏度，其中包 括有一重量平均分子量為30_500且含有羥基（〇H)、羧基 :他問題’因為磨料的黏度上升， ’導致研磨效率變差，以及研磨 ^，增加了發生刮傷的機會。 ,而上升2.0cPs或更高。在這種狀況下，晶圓内的不均勾度 疋改善了’但是卻衍峰了 #从U4 A , . ίο (C00H)、或兩者都有的化合物，較佳為在m 9cPs的範圍 (在室溫下）。 如本發明所述之具有重量平均分子量為3〇_5〇〇且含有 羥基（OH)、羧基（C00H)或兩者都有的化合物，可以單獨的 或疋和其他的CMP磨料成分組合，例如添加劑成分或是研 15 磨粒子分散劑’加入到所發明的CMP磨料中。 如圖2所示，包含在本發明之CMp磨料中的化合物，其 可以包含至少一選自羥基及羧基。 含有羥基（OH)、羧基（COOH)或兩者都有之化合物，較 佳為具有重量平均分子量為30-500，若此化合物之重量平 20 均分子量超過5〇〇，將會造成二氧化矽層之研磨速率下降， 或疋降低磨料之穩定性，使得均勻的提供磨料變的困難。 具有重量平均分子量為30-500且含有羥基（〇H)、羧基 (COOH)或兩者都有的化合物’包括但不限於，含有檸檬酸 之化合物（citrate-containing compounds)、含有葡萄糖酸之 11 1313209

10 15

20 4匕合物（gluconate-containing compounds)、含有韻果酉复之 匕 合物（malate-containing compounds)、含有酒石酸之化合物 (tartarate-containing compounds)、含有 2-經基異丁酸之化合 物（2-hydroxyisobutyrate-containing compounds)、含有己二 酸之化合物（adipate-containing compounds)、含有辛酸之化 合物（octanoate-containing compounds)、含有破ί白酉曼之 4匕合 物（succinate-containing compounds)、含有乙二胺四乙酸之 化合物（ethylenediaminetetracetate (EDTA)-containing compounds)、含有戊二酸之化合物（glutarate-containing compounds)、以及含有甲基破ίέ酸之化合物 (methylenesuccinate-containing compounds) ° 本文中，包含官能基之化合物的目的，不止包括含有 官能基的酸，例如檸檬酸、葡萄糖酸、蘋果酸、酒石酸、 2-羥基異丁酸、己二酸、辛酸、琥珀酸、乙二胺四乙酸 (EDTA)、戊二酸、以及曱基琥珀酸，也包括了上述官能基 與金屬或是有機官能基鍵結之化合物。 並且，具有重量平均分子量為30-500且含有羥基 (OH)、羧基（COOH)、或兩者都有的化合物，包括但不限於， 包含甘露糖化合物（mannos)、甘油基-半乳-庚醣 (glycero-galacto-heptose)、赤式-甘露-辛醣（erythro-manno-octose)、樹膠-半乳-壬醣（arabino-galacto-nonose)、以及麩 醯胺化合物（glutamine)。本發明並不限於上述之物質，上 述物質之衍生物也包含在本發明之範轉。 此具有重量平均分子量為30-500且含有羥基（OH)、羧 12 1313209 基(f〇〇H)、或兩者都有之化合物的使用含量較佳為 重董份（基於該CMP磨料之研磨粒子重量為1〇〇重量份卜若 此化合物的含量低於〇1之重量比例，將會造成選擇性和整 體平面度下降；若超過3〇之重量比例，將會造成氧化層的 5 研磨速率下降。 曰 本發明之CMP磨料，除了具有重量平均分子量為 30-500且含有羥基（0H)及/或羧基（COOH)之化合物之外，可 更包括有額外的添加劑。此添加劑可為具有重量平均分子 量為2,000-50,〇〇〇之線型的高分子、具有重量平均分子量為 10 1，000-20,00之包括有一主鏈及支鏈的接枝型高分子、或上 述之混合物。 —、一般說來，氮化矽表面電荷為陽離子，氧化矽表面電 V為陰離子。因此’為了增加氧化石夕對氣化石夕的研磨選擇 生 帶有陰離子電荷之高分子，例如高分子酸，因靜電 15力而吸附於帶有陽離子的氮化石夕。所以帶有陽離子的氣化 矽可以避免研磨，因此對於帶有陰離子的氧化矽的研磨選 擇性可以提高。因這樣的做法，增加帶有陰離子材料的對 帶有1%離子材料的研磨選擇性是可能的。 為了將帶有陰離子的高分子靜電吸附於具有陽離子之 20材料上最大化，以及因凡得瓦爾力而吸附最小化。使用一 具有控制分子量的線型高分子、或是包含有主鍵及支鍵的 接枝型南分子、或上述之混合。 當在相同的分子量的範圍内比較接枝型式的高分子酸 與線型的高分子酸時，接枝型式的高分子酸之主鍵短於線 13 1313209 型的高分子酸的鏈長，接枝型式的高分子酸可以最小化凝 集的現象。因此，接枝型式的高分子酸，其具有一支鏈接 枝於主鏈上，可於帶有陽離子電荷的物質上形成每一單位 面積較尚之尚分子密度吸附層，達到較大的厚度，與支鏈 5長度成正比。當使用一接枝型式的高分子酸，他可以選擇 性地吸附於一帶有陽離子電荷的物質上，達較大之厚度而 不需增加分子量。因此，帶有陽離子電荷物質具有因靜電 力而形成的吸附層之結構可以保護其免於研磨。所以，帶 有陰離子電荷材料（例如，氧化矽）之結構相對於帶有陽離子 10電荷材料（例如，氮化矽）之結構的研磨選擇性是可以提高 的。 15 20 此時，若使用添加劑，+止提高帶有陰離子電荷材料 的研磨選擇性，也可能-併提高沒有帶電荷物f的研磨選 擇性。因此，因為帶有陰離子電荷材料之均等性，沒有帶 電荷物質的結構亦包括在本發明之範疇内。 當使用具有重量平均分子量為Mom·並且包含 一主鏈及-支鏈之接枝型高分子酸時，帶有陰離子電荷材 料（例如，氧化砍）之結構相對於帶有陽離子電荷材料（例 如，氮切）之結構的研磨選擇性，可以高於上述使用線型 馬分子酸所的到的研磨選擇性。因此，當重量平均分子量 為2,000-50,000的線型高分子與重量平均分子量為 1，_-20，_且包含-主鏈及—支鏈之接枝型高分子酸以 一適當比例-起使料4可能可以控制研磨選擇性的範 圍。 14 1313209 較佳的，此線型高分子為一包含有羧基的化合物，明 確的例子包括有丙烯酸（acrylic acid)、甲基丙稀酸 (methacrylic acid)、衣康酸（itaconic acid)、馬來酸（maleic acid)、或其相似物。商業化之可利用的線型高分子包括韓 5 國Sannopco公司的Cerasprese 5468及Aldrich公司的線型高 分子，或類似的線型高分子。 此線型高分子較佳為具有重量平均分子量為 2,000-50,000。若此線型高分子之重量平均分子量低於 2,000，氮化矽的研磨速率將上升，導致研磨選擇性下降。 10 另一方面，若此線型高分子之重量平均分子量高於 50,000，氧化矽層的研磨速率會下降。 此時，接枝型高分子酸可以包括一主鏈及一支鏈。 具有重量平均分子量為1，〇〇〇-20,000之接枝型高分子 酸，較佳為3,000-15,000。若接枝型高分子酸之重量平均分 15 子量低於1,000或高於20,000，無法得到穩定的磨料組成。 此外，若此高分子酸的重量平均分子量高於20,000，研磨 粒子會凝集。甚至，於稍候的例子，高分子酸吸附於帶有 陰離子電荷材料之結構（例如，氧化矽）以及帶有陽離子電荷 材料之結構（例如，氮化矽），所以在研磨工作中此高分子酸 20 扮演為保護層。因此，帶有陰離子電荷材料之結構與帶有 陽離子電荷材料之結構同時下降，導致研磨選擇性降低。 較佳地，此接枝型高分子酸中的支鏈較佳具有相對應 於分子量為500-2,000的長度，以及接枝型高分子酸中的主 鏈具有相對應於分子量為500-15,000之長度。若支鏈的長度 15 B13209 太短，因太小的覆蓋厚度，此高分子酸無法展現充分的保 護功能。另一方面，若支鏈的長度太長，會發生粒子的凝 集。此外，若主鏈的長度太短，導致很差的高分子酸吸附。 另一方面，若主鏈的長度太長，會發生粒子的凝集。 5 高分子酸的主鏈在靜電吸附中扮演主要的參與位置。 因此，為了吸附於帶有陽離子電荷材料的結構之目的，該 主鏈較佳為包含有大量的陰離子單元。例如，此陰離子單 元中包括像羧酸之官能基為其一部分。 與主鏈相比較，支鏈影響靜電吸附的程度較小。因此， 10 不需要在支鏈上帶有陰離子電荷。然而，支鏈上是不應該 帶有陽離子的。支鏈主要扮演形成較厚的吸附覆蓋層。 較佳地，接枝型高分子酸的支鏈包括由聚合反應或共 聚合反應所衍生之羥基、羧基及/或包含硫酸基的乙烯類不 飽合單體（sulfonic acid group-containing ethylenically 15 unsaturated monomer(s))之巨單元（macrounit)。同時，接枝 型高分子酸之主鏈包括由一含有羧基之烯類不飽合單體 (carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer)戶斤衍生之一單元。 一般說來，研磨用之磨料使用水為分散媒介。因此， 20 較佳為接枝型高分子酸可溶於水。以此，形成接枝型高分 子酸支鏈的巨單元較佳為具有親水性，並且較佳為包含有 與水具有高親和力之單體所衍生之單元（例如，羥基、羧基 及/或包含硫酸基的乙烯類不飽合單體）。此巨單元為一短鏈 的聚合物，並且由8-16單體聚合而成之巨單體（macro- 16 1313209 monomer)所衍生的。這是因為若包含有巨單元之支鏈太 長，凝集現象會發生，並且若包含有巨單元之支鏈太短， 高分子酸無法扮演保護功能。 本發明所使用之接枝型高分子酸可以使用韓國專利公 5 開號為2005-01 13758之方法製備，其中所有内容合併於本 文中參考。 接枝型高分子酸較佳包括有一烧氧基聚烯烴基二醇 (甲基）丙稀酸單體（alkoxypolyalkylene glycol mono(meth)acrylate monomer)之支鏈，以下列分子式1表示： 10 [分子式1] R1 CH2=C-C〇0-(R20)mR3 其中，R1為氫原子或曱基； 15 R20為C2-C4氧化烯官能基或是其組合，當其為至少兩 種C2-C4氧化烯官能基之結合時，其是可以任意附加或是為 一集團（block)的形式； R3為C1-C4烷基；以及 m為氧化烯官能基之平均附加莫耳數，且表示為卜50 20 之整數。 更清楚的說，烷氧基聚烯烴基二醇（曱基）丙烯酸單體包 含於該高分子酸中之含量為10-50wt%。若此單體含量低於 10wt%，很難得到高的選擇性，反之可由另外的接枝型高分 17 •1313209 子酸而得到。若此單體含量高於50wt%，使用高選擇性添加 劑之最終磨料組成呈現出增加的氣泡生成。 具有重量平均分子量為2,000-50,000之線型高分子及 具有重量平均分子量為1，000-20,000之接枝型高分子酸可 5 以單獨使用，或是合併一起使用。 根據本發明，每一線型高分子酸、接枝型高分子酸、 以及上述之混合，可以藉由一水溶液相中的驗性物質而轉 化為一高分子酸鹽類。因此，本發明之範疇包括了高分子 酸類型以及高分子酸鹽類。 10 根據本發明之高分子酸鹽類具有pH值為4.5-8.8，較佳 為6.0-8.0。若pH值低於4.5或是高於8.8,不可能得到足夠的 研磨選擇性。 當使用此添加劑於CMP磨料中，可以使用之鹼性物質 係選自下列群組之至少一物質，包括氫氧化銨（NH4OH)及 15 驗性胺類（basic amines)，例如氫氧化四甲銨（tetramethyl-ammonium hydroxide)、氫氧 4匕四乙敍（tetraethylammonium hydroxide)、 氫氧化四丙銨（tetrapropylammonium hydroxide)、以及氫氧化四丁敍（tetrabutylammonium hydroxide)。該些驗性物質可以單獨或合併使用。 20 包含於CMP磨料中之高分子酸之含量較佳為0.1-10 wt%。若高分子酸之含量低於0.1 wt%，氮化矽層的研磨速 率將會增加，導致研磨選擇性下降，並且在具有圖案之晶 圓研磨時將會發生盤狀現象。若高於10 wt%，氧化矽層的 研磨速率將會下降，導致研磨所需時間增長及選擇性下 18 1313209 降，並且研磨粒子的凝集將會常常發生。 包含於CMP 磨料中之研磨粒子的含量較佳為 0.1-10wt%。若研磨粒子的含量小於O.lwt%，氧化層的移除 速率將不夠高，並且如果它高於1 Owt%，磨料的穩定性可能 5 下降。 作為研磨粒子，可以使用奈米級陶瓷研磨粒子包括二 氧化石夕（silica)、氧化銘（alumina)、氧化錯（zirconium oxide)、氧化鈦（titanium oxide)、以及氧化鈽（cerium oxide) ’但較佳為氧化鈽。 10 CMP磨料可以下列方法製備：將上述之具有重量平均 分子量為30-500且含有羥基、羧基、或兩者都有之化合物 溶於溶劑中（例如，水）之溶液以及將溶有高分子酸鹽類之溶 劑（例如，水）的溶液加入研磨粒子的分散媒介物中。於此觀 點，水溶液中高分子酸鹽類之濃度較佳為3-3.5wt%，水溶 15 液分散液中之研磨粒子濃度較佳為4-6wt%。 因此，CMP磨料中的水可以包含有重量平均分子量為 30-500且含有羥基、羧基、或兩者都有之化合物的溶液、 高分子酸鹽類的溶液、或研磨粒子組成本身。CMP磨料中 水的含量較佳為94-99.8 wt%(基於全部磨料組成為100 20 wt%)。若水的含量低於94 wt%，磨料的穩定性將會降低， 並且如果它高於99.8%，磨料之材料移除速率將會下降。 此時，本發明之CMP磨料可為單一成分之磨料，其包 括了所有研磨所需的組成，例如，研磨粒子、分散劑、水 或是其他添加劑。另外，它可以是兩成份之磨料，其包括 19 1313209 一組兩分開的不同組成，包括一研磨粒子之分散液組成以 及一改善選擇性之添加物組成，其在研磨前互混合。必須 說明的是，兩成份並非是只有兩種溶液，可以是兩種或更 多之溶液。當研磨粒子的分散性可能因添加劑而下降時， 5 可以使用這種兩成份之磨料。 同時，本發明提供一種使用上述之CMp磨料來研磨半 導體晶圓的方法。半導體製程的例子，其可以應用此方法， 包括 STI (Shallow 丁rench Isolation)製程以及 ILD (Inter Layer Dielectric, ILD)製程。STI以及11：^製程可以根據該 10 技術領域之習知方式而執行。 當本發明之CMP磨料被使用時，晶圓内的不均勻度可 以控制在小於6.5%。 【實施方式】 15 以下將以實施例進一步詳細描述本發明，然而應了解 的疋，舉例僅係為了詳加說明而已。本發明所主張之權利 範圍不受限於這些實施例。 實施例1 將葡萄糖酸（Gluconic acid)溶解於水中達濃度〗wt%，然 20後加入氫氧化銨（ammonium hydroxi&)，使此溶液的酸鹼值 調整至PH7.卜同時，將重量平均分子量7〇〇〇之線型陰離子 的聚丙烯酸（P〇iyacryiicacid)，溶解於水中成濃度lwt%，然 後加入氫氧化銨，調成一 pH為7.〇_8.0的溶液。基於最後cMp 磨料的重量為100重量份，使用其5重量份的氧化鈽磨料 20 1313209

(HPl-5 (pH7.5-8.0)由 LG Chemical Co·, Ltd製造），使得 CMP 磨料中的研磨粒子含量為0.7-0,8wt%。於此研磨料中，將 上述製備之聚丙烯酸溶液加入10重量份，其係基於研磨粒 子為100重量份，並且將葡萄糖酸溶液加入其中，使得葡萄 糖酸的量為2wt%，其係基於研磨粒子為1 〇〇重量份。此外， 將平衡數量的水加入其中，如此準備好最終的CMP磨料。 實施例2 與貫施例1相同方式準備成的CMP磨料，除了所使用之 葡萄糖酸的量為5wt°/。’其係基於研磨粒子為100重量份。 實施例3 與實施例1相同方式準備成的CMP磨料，除了所使用之 葡萄糖酸的量為5 wt%，其係基於研磨粒子為1 〇〇重量份。 實施例4

與實施例1相同方式準備成的CMP磨料，除了所使用 之葡萄糖酸的量為5wt%，其係基於研磨粒子為1 〇〇重量份。 比較例1 與實施例一相同方式準備成的CMP磨料，除了不加入 葡萄糖酸。 測試例1 測量上述實施例1至4與比較例1之CMP磨料的物理特 性與研磨表現。 研磨料物理特性之測量 研磨料的酸鹼值以pH計340測量（康寧，USA)，離子 導電性以135A測量（ORION，德國），凝聚粒徑以Microtrap 21 1313209 UPAl50 測量（Honeywell (Thermo HAAKE，美國）。 美國）以及黏度以RS 150測量 各物理特性測量結果如下列表1

所示。

2 0.332 0.248 一0.209~ 1.59 4 7.08 —0.570 7.54 0.570 0.181 3.4 1.58 1.79

pH 離子導電度 (ms/cm) 凝集粒徑（w ) 黏度（cP) 167 1.63 如表1所示，加入葡萄酸於CMP磨料中，能明顯的減低 研磨料的黏度，而且避免了研磨粒子的凝結。 研磨表現之測試 • 10 測試實施例1至4與比較例iiCPM磨料的研磨表現。在 /則》式中使用P〇LI-4〇〇 (GnP Technology)作為CMP研磨系 統。當晶圓被研磨時，使用具有PECVD沉澱積之氧化矽層 (厚度7000A)的晶圓，以及使用具有LPCVDm澱的氮化矽層 (厚度1500A)的晶圓。研磨表現的測試標準如下·· 墊 1C 1400 (Rodel, USA) 量測晶圓厚度 Nanospec6100 (Nanometerics, USA) 轉頭速度 90 rpm 軸心速度 ----- 90 rpm ---- 22 1313209 下壓力 4 psi 回饋力 0 psi 磨料供給it率Ί 100 mL/min 使用實施例1至4與比較例1所製備的CMP磨料來研磨 B曰圓，然後’基於研磨造成的厚度改變，測量其物質移除 速率、移除選擇率以及晶圓内的不均勻度。測量結果如下 列表2所示。 表2 項目 實施例 比較例1 1 2 3 4 氧化物移除率（A /min) 4611 4676 4441 4379 4631 Delta WIWNU (%) 6.02 3.44 2.97 2.36 7.61 氮化物移除率 44 45 83 87 54 (A /min) 選擇率 卜105 卜104 54 50 86 如上表2所示，使用實施例1至4的cmp磨料時，當單分 子（m〇nom〇lecular)物質葡萄糖酸所加入的量增加整體平 10面度可以被改善（Delta WIWNU減少）。實施例！至4中的研磨 平面度明顯地高於比較例1。 產業利用性 如前述中可看出，根據本發明，CMp磨料中的研磨粒 子，其研磨粒子凝結的粒徑能被減少，而CMp磨料的黏度 15 能被降低，以及研磨時晶圓的整體平面度可以改善。因此， 23 J313209 此CMP磨料能優勢地地應用於需要細敏圖案之半導體裝置 的製造製程中’並且可經由使用這樣的半導體製程’改善 半導體裝置之可靠性及生產性。同時，本發明的CMp磨料 能在CMP製程中，均勻地去除遍布於晶圓上的8“^蝕刻停 5 止層，而將晶圓厚度的改變最小化，所以晶圓中的可用區 域和場區域之間的高度差異能夠被消除。本發明之CMp磨 料不會對電晶體和裝置的特性產生不利的影響。 雖然本發明之較佳實施例已經達到具體敘述之目的， 本技術領域可能有各種之修改、添加或取代而不脫離本發 10 明之申請專利範圍的精神與範疇。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示一般STI製程。 圖2係本發明一實施例之化合物範例，其具有重量平均 15 分子量低於500，且包含一羥基（OH)及/或一羧基。

【主要元件符號說明】 100: 102 103 105 氧化矽（Si02)墊層 絕緣氧化矽層 羥基（OH)部分 半導體基板 101: 氮化碎（ShN4)姓刻停土層 溝渠 104: 閘極氧化石夕層 羧基（COOH)部分 24 20 201

Claims (1)

1313209 十、申請專利範圍： 1. 一種CMP磨料，其中一具有重量平均分子量介於 30-500並且含有羥基（OH)、羧基（COOH)、或兩者都有之化 合物加入一包括有研磨粒子與水以及具有一第一黏度之 5 CMP磨料中，使得該CMP磨料被控制為具有比第一黏度低 5-30%之第二黏度。 2. 如申請專利範圍第1項所述之CMP磨料，其中該第二 黏度介於1.1至1.9 cPs。 3. 如申請專利範圍第1項所述之CMP磨料，當其被使 10 用於研磨一晶圓時，呈現出晶圓内的不均勻度（WIWNU)小 於6.5%。 4. 如申請專利範圍第1項所述之CMP磨料，該具有重 量平均分子量介於30-500並且含有羥基（OH)、羧基 (COOH)、或兩者都有之化合物，係至少一選自下列群組， 15 包括含有檸檬酸之化合物、含有葡萄糖酸之化合物、含有 蘋果酸之化合物、含有酒石酸之化合物、含有2-羥基異丁 酸之化合物、含有己二酸之化合物、含有辛酸之化合物、 含有琥珀酸之化合物、含有乙二胺四乙酸（EDTA)之化合 物、包含有戊二酸之化合物、含有曱基琥珀酸之化合物、 20 甘露糖、甘油基-半乳-庚醣（glycero-galacto-heptose)、赤式 -甘露-辛醣（erythro-manno-octose)、樹膠-半乳-壬聽 (arabino-galacto-nonose)、以及麩醯胺。 5. 如申請專利範圍第1項所述之CMP磨料，其中該具 有重量平均分子量介於30-500並且含有羥基（OH)、羧基 25 •1313209 (COOH)、或兩者都有之化合物，其含量介於〇 uo重量份， 係基於該CMP磨料為一百重量份。 6.如申請專利範圍第丨項所述之cmp磨料，其更包括— 具有重量平均分子量介於2,〇〇〇_50,000之線型的高分子 5 酸、一具有重量平均分子量介於1,000-20,00之包括有一主 鏈及一支鏈的接枝接枝型高分子酸、或上述之混合物為一 添加劑。 7·如申請專利範圍第6項所述之CMP磨料，其中該添加 劑之含S介於0.1 -1 〇重量份，基於該CMp磨料為丨〇〇重量份。 10 8.如申請專利範圍第6項所述之CMP磨料，其中該線型 咼分子酸係選自下列群組，包括丙烯酸（acryHc acid)、甲基 丙烯 Ss· (methacrylic acid)、衣康酸（itaconic acid)、以及馬來 酸(maleic acid)，並且該接枝型高分子酸包含一烷氧基聚烯 烴基一醇（曱基）丙烯酸單體，以下列分子式1表示： 15 [分子式1] R1 I CH2 = C-C〇〇-(pj2〇)mR3 其中’ R]為氫原子或曱基； R2〇為C2-C4氧化烯官能基或是其組合，當其為至少兩 種C4氧化烯吕此基之結合時，其是可以任意附力口或是為 20 一集團（block)的形式； R3為C1-C4烧基；以及 m為氡化烯官能基之平均附加莫耳數，且表示為㈣ 26 1313209 9·如申請專利範圍第1項所述之CMP磨料，其中該研磨 粒子係為氧化鈽粒子。 1〇·如申請專利範圍第1項所述之CMP磨料，其中該研 磨粒子之含量介於O.biO重量份，基於該CMp磨料之重量為 5 1〇〇重量份。 11 · 一種研磨半導體晶圓之方法，其使用上述申請專利 範圍第1項至第1 0項中任一項之CMp磨料，其中一具有重量 平均分子量介於30-500並且含有羥基（〇H)、羧基（c〇〇H)、 或兩者都有之化合物加入一包括有研磨粒子與水以及具有 0 —第一黏度之CMP磨料中，使得該CMp磨料被控制為具有 比第一黏度低5-30%之第二黏度。 12.如申請專利範圍第11項所述之方法，其中晶圓内的 不均勻度（WIWNU)控制在小於6.5%。 27