TWI277720B - Multi-axis interferometer apparatus and method, lithography apparatus and method using same, and beam writing system and method using same - Google Patents

Description

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發明所屬之技術領域 ’特別有關於一 平面鏡量測物。 種多重自 本發明係有關於一種干涉儀 由度量測的干涉儀，用於量測一 先前技術 位移量測干涉儀監視器 量測物與參考物之間移動。 量測物反射的量測光束以及 而產生該光學干涉訊號。 其位置根據光學干涉訊號，在 該干涉儀藉由重疊及干涉一從 一從參考物反射的參考光束，

在許多例子中’該量測光束以及該參考光束具有互相 垂直的偏振方向’以及不同的頻率。該不同的頻率 由’例如’雷射赛曼***（Zeeman splitting)、 Acousto_optical modulation或是在雷射内部裝設雙折射 元件來產生。該垂直偏振允許一偏振光束***以引導該量 測光束以及該參考光束至該量測物以及該參考物，並結合 反射回來的該量測光束以及該參考光束以形成相互重^白"勺 量測光束以及參考光束。該等重疊光束形成一輸出光^， 並經過一偏振器。

該偏振器混合該量測光束以及該參考光束的偏振，而 形成一混合光束。在該混合光束中的該量測光束以及該參 考光束會彼此干涉，所以該混合光束的強度，隨著該量測 光束以及該參考光束相對相變化而變化。一感測器量測該 混合光束的沿時間變化的強度，並依據該強度的比例，產 生一電子干涉訊號。由於該量測光束以及該參考光束具有 不同的頻率，該干涉訊號包括一 ”外差式的（heterodyne)

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五、發明說明（2) "訊號，-其帛帛等於該量測光束與該參考光束的頻率差。 如果該量測光束以及該參考光束的路徑長度經過調 J，藉由調整包含該量測物的平台，使該 括都普勒效應（Doppler shift)等於2 νηρ/ λ，其員羊^包 量測物以及參考物的相對速度，λ是量測光束以及疋 束的波長，η是該等光束經過的媒介的折射率，例如/空尤 或是真空，Ρ是經過該參考物以及該量測物的次數。=披 量測到的參考訊號的相變化，轉換該量測物的相對位 2 7Γ的相變化等於Α/(ηρ)的L長度變化，其中L是環繞一 的距離變化，例如包括該量測物的平台的環繞距離。 不幸的:該等式不一定永遠正確。此外，該量測到的 參考訊號的量或許會變化。一會變化的振幅會降低所量 到的相變化的準確性。許多干涉儀會有非線性的特性，例 如所謂的”週期誤差CyClic err〇rs”。該週期誤差可藉由 相或是量測到的參考訊號的強度並與該光學路徑長度 的變化呈一正弦相依。特別是，該第一個諧波的週^誤差 具有一正弦相依於（2 7Γ pnL ) /又，而該第二個諧波的週期 誤差具有一正弦相依於2(2 7Γ pnL)/又。更高的諧波的週期 誤差亦可以此方式表現。 亦可能有π非週期非線性"的情況，例如由參考光束以 及量測光束於干涉儀的輸出光束中的側向位移（例如”光束 剪變beam shear”），當參考光束的波前以及量測光束的波 V前具有波前誤差（wavefront errors)時。此現象可由下述 說明。 ^

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1277720 ------- 五、發明說明（3) 干涉儀儀 成參考光束以 該量測光束以 產生同一的波 該輸出光束中 移，例如相對 成從輸出光束 此外，在 的位置或是角 的角度方位的 角度變化會在 光束剪變 合輸出光束的 干涉訊號的步 測，其可藉由 或是將該混合 中，偵測傳入 差的影響也取 而言，當光纖 ν7干涉訊號的誤 干涉訊號 果 機制是 束以及量測光 在色散量 器中的不 及量測光 同一直線 前誤差並 的該參考 的光束剪 得到的干 許多的干 度方位的 變化會造 干涉訊號 以及波前 步驟以及 驟。該混 將該混合 光束捕捉 該光纖中 決於光束 用於將該 差是複合 的振幅變 ，例如， 束於輪出 測中，光 均勻材質（inhomogeneities)會造 束的波前誤差。當該參考光束以及 的方式穿過這些不均勻材質時，會 造成干涉訊號的彼此抵銷。此外， 光束以及該量測光束會彼此側向位 變。此光束剪變造成波前誤差並造 涉訊號產生誤差。 涉系統中，光束剪變隨著該量測物 變化而變化。例如，平面鏡量測物 成相對光束剪變。因此，量測物的 中產生相應的誤差。 誤差的影響將取決於根據偏振態混 偵測該混合輸出光束以得到一電子 合輸出光束可以利用一偵測器偵 光束聚焦於該偵測器以進行伯測， 進入單一模態或是多模態光纖 的混合光束。光束剪變以及波前誤 截斷器（beam stop)的性質。一般 混合輸出光束導至該偵測器時，該 式的。 化會，許多個機制總和產生的淨結 ，於里測物的轉動而造成的參考光 光束中的相對光束剪變。 私里測利用複合波長，例如532^ 1277720

五、發明說明（4) 以及1 064nm，以量測色散量 體。該色散量測玎以被用於 到的光程轉換為一物理長度 將會由於氣流的擾動或是密 換為固定不變的物理長度。 上述的干涉儀通常為為 元件，該掃描器或是步進機 成一積體電路。此微影系統 並固定該晶圓；一聚焦裝置 圓；一掃瞄或步進系統，用 以及至少一干涉儀。每個干 收一反射的量測光束從，設 涉儀將其反射的量測光束與 該等干涉儀並準確的量測該 變化。該干涉儀使該微影系 射光束中的曝光區域。 在許多的微影系統以及 至jz 一平面鏡，以反射該量 變化，例如平台的高度或是 面鏡反射後的方向變化。如 光束將會降低該量測光束以 疊。此外，該量測光束以及 的方式傳遞，其波前於形成 此，該量測光束以及該參考 測干涉儀的量測路徑中的氣 將:利用位移量測干涉儀量測 。這種轉換是重要的，因為可 度不均而被影響的光程長度轉 掃描器或是步進機系統的重要 用於微影製程以在一晶圓上形 包括一可可移動平台，以支撐 ，以將該輻射光束導至該晶 以將該平台移近該輻射光束； 涉儀引導一量測光束至，並接 於該平台的一平面鏡。每個干 一相應的參考光束進行干涉， 平台相對於該輻射光束的位置 統能準確的控制該晶圓於該輻 其他的應用中，該量測物包括 測光束。該量測物的微小角度 偏轉，會造成量測光束從該平 果不加以補償，該變化的量測 及該參考光束在干涉儀中的重 該參考光束將不會以彼此平行 該混合光束時也不會對準。因 光束之間的干涉將沿該混合光

1277720 五、發明說明（5)

束的橫向剖面變化，因此會使該偵測器所量测到的干涉 訊遭受損壞。 < 為了應付此問題，許多習知的干涉儀具有一回溯反射 器ret rore fleet or，以將該量測光束重新導回該平面鏡， 藉此該量測光束’’兩次經過double passes"該干涉儀與令 量測物之間的路徑。該回溯反射器使該量測對於量測物的 角度轉動變化不會那麼敏感。然而，即使使用回溯反射 器，該量測光束的側向位置仍然對於量測物的角度轉動變 化敏感。此外，量測光束的路徑經過干涉儀中的光學带 置，該路徑也對量測物的角度轉動變化敏感。 貫際上’該干涉系統用於量測該晶圓平台沿多重量測 軸線（multiple measurement axes)的位置。例如設定一 個卡氏座仏系為晶圓平台位於X 一 y平面，量測主要是針對 平台於x-y軸上的位置以及平台在z軸向上的角度方位/此 時平台是在x-y平面上移動的。此外，其也可監測晶圓平 台在x-y平面外的傾斜。例如，該等傾斜的特徵可用於計 算於x-y位置的Abbe of f set error s。因此，其最高可有 五個量測的自由度。此外，在一些例子中，其亦可監控 台於z韩方向的位置’而產生第六個自由度。 工

為了要量測每一個自由 向的位移。例如’在量測平 動方位的系統中，至少有三 圓平台的一側反射，並至少 該的另一側反射。參照，例 ^ ’ 一干涉儀用於監測座標軸 台的X-y位置以&x，y，Z方向轉 個特別獨立的量測光束從該晶 有兩個特別獨立的量測光束從 如美國專利第5, 801，832號專

1277720 五、發明說明（6) 利：五個量測轴將光罩圖案投影在基板上的裝置及方 以監測相内Λ參Λ於Λ 每Λ量Λ光/與參考光束再結合 束與該晶圓二由於不同的量測光 心：i:徑長度量測結果，推演出角度方位。因此， 個自由度’該系統包括至少一量測光束，該 先束接觸曰曰圓平台。此外’如上所述’每一量測 =:過該晶圓平台以防止晶圓平台的角度 測光束可由物理分離干涉儀產生或κ 夕轴干涉儀所產生的多重量測光束。 發明内容 ,本發明之特徵為多重自由度之量測干涉儀，例如量測 一1面鏡量測物之多重自由度。例如，該干涉儀可併入一 學總成中。有關該量測物位置變動的資訊係得自 夕重輸出光束，每一輸出光束包括一分量沿一共同量測光 束路徑通過該量測物。'结果，如此的干涉儀系統在某些產 生自不同來源的所量測的自由度上可降低非循環性錯誤 (n〇n-cycl ic err〇r) ’例如量測光束的相對不對位會對應 使餘弦（cosine )與餘割（cosecant)修正因子、起因於波 前誤差（wave front error)的光束剪變（beam )、起因於玻璃不均質的光束剪變、以及溫度梯度。而 且’某些接觸於平面鏡量測物的量測光束不必藉由一咬多 個回溯反射器的定位來決定。同樣，該干涉儀^統通常減 少所使用的光學元件的數量。

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•分 「 根據該平 該干 置測干涉 低（例如 測器中的 源。該干 自該多重 控制，以 出光束入 該多 系統中。 現综 一般 儀用來沿 該干涉儀 包括有關 每一輸出 測物至少 路徑相異 該裝 包括 光束分量 二光束分 涉儀***可設置 面鏡量測物的角 涉儀糸統更可設 儀的方向係由一 整體去除）干涉 光束剪變，並藉 涉儀系統亦可設 自由度量測干涉 降低（例如整體 射角度的變化， 軸干涉儀系統可 该多軸干涉儀系 合本發明不同之 而言，本發明之 多重自由度量測 係設置用以產生 於該量測物對應 光束包括一光束 一次，而且該光 為使得該所量測 度與線性的位移 置為使得輸入光 或多個光束操縱 儀中以及作為平 此降低一種非循 置使得輸入與輸 儀係由一或多個 去除）光束剪變 當該平面鏡量測 被併入 統亦可 型態與 一製造半 併入一光 特徵。 的多重自 的組合。 束至多重 元件所控 面鏡量測 環性錯誤 出光束朝 光束操縱 以及在感 物傾斜時 導體晶片 束刻寫系 由度係 自由度 制以降 物的感 的來 向或來 元件所 測器輸 〇 的微影 統中。

特徵為一裳置 一反射 多道輸 於一相 分量沿 束分量 之一第一路徑接觸於該 括任何 及該第 更包括 置之實施例可包 沿該共同路徑以 的該輸出光束可 量0 量測物之 出光束， 異之自由 一共同之 至少其中 量測物至 以下的特 一路徑接 未接觸於 包括 '一多轴干 相對位置，其 每一道輸出光 度的相對位置 路徑接觸於該 之一沿與該共 少第二次。 徵。 觸於該量測物 該量測物之一

1277720 五、發明說明（8) 該等自由度 之距離。例如包 離的資訊之該輸 徑接觸於該量測 量測轴可由該共 一量測軸上的每 點為等距離。 而且除了沿 量更沿與該共同 少第二次。包括 物之光束分量的 測物之距離的資 路徑所定義並與 與該共同路徑相 次。包括沿該共 束分量的該輸出 距離的資訊，該 定義並與該第一 測軸可定義一第 第一平面相異之 除了沿該第 可包括該量測物 例如該第二輸出 接觸於該量測物 其中之一可為沿一第一量測轴至該量測物 量測物之距 含有關於沿該第一量測軸至該 出光束，可包括沿該共同路徑 物之該光束分量。在此實施例 同路徑與該第一路徑所定義。 一點與該共同路徑及該第一路 與該第一路 中，該第一 例如，在第 徑上的對應 該第一 路徑相 沿該共 該輸出 訊，該 該第一 異之一 同路徑 光束可 第三量 量測軸的距 異之一第二 同路徑及該 光束可包括 第二量測軸由該共同路 量測軸相異。而且 第三路徑接 離量測外，另一光束分 路徑接觸於 第二路徑接 沿一第二量 第 該量測物至 觸於該量測 測軸至該量 徑與該第二 三分量更沿 物至少第二 量測物之光 該量測物之 第三路徑所 觸於該量測 及該第三路徑接觸於該 三量測軸至 同路徑與該 。例如該第 及第三量測軸可定與該 包括沿一第 測軸由該共 第二量測軸相異 平面，而該第二 第二平面。 量測軸做距離量測外 及第二量 第 相對於一第一旋轉 光束可 的光束 包括該第一 分量，以及 軸的角度方 次提及、沿 與該第一光 二輸出光束 位之資訊。 該共同路徑 束分量相異

1057-5464-PF(Nl).ptd 第12頁 1277720 其中該 觸於該 與該共 第二路 包括該 的角度 、沿該 一光束 該另 一 於該量 束分量 。該第 相同。 義之一 相對於 資訊。 徑接觸 異之另 量係沿 例如該 道輸出 自由度 自由度 接收該 自由度 設置以 於不同 該第一旋轉軸玎與 平面正 與該第 該第三 ----— 五、發明說明（9) 之另一光束分量， 異之一第二路徑接 路徑相異，或者是 由遠共同路徑與該 第二輪出光束可 異之一第二旋轉軸 ^括該第_次提及 二嚴，以及與該第 ”玄第二輸出光束之 之一第三路徑接觸 於該第一旋轉軸。 該多輛干涉儀 束包括多重自由度 軸干涉儀可提供有 ^、七個自由度的資 該量測物可包 該裝置更包括 轴干涉儀，該輪入 一沿該共同路徨接 束之一分量，而且 輸入分量之另一分 正交的極化。 77 該裝置更包括 子訊號表示該量測 另一光 量測物 同路徑 徑所定 量測物 方位之 共同路 分量相 光束分 測物。 可產生至少四 中之一相異之 關於至少五個 訊0 括一平面鏡。 一光源設置以引導一 光束包括具有外差式 觸於量測物之輸出光 每一輸出光束更包括 Ϊ。例如’該輸入光 感測器 物相關 沿與該共同路徑相 一路徑可與該第二 交。而且， 一旋轉轴相 輸出光束可 於該量測物的光束 一光束分量，其中 與該共同路徑相異 第^一 轉轴可正交 光束，每一輸出光 的資訊。而且該多 的資訊，或甚至至 輸入光束進入該多 分頻之兩分量。每 束係得自該輸入光 一第二分量得自該 束之分量具有彼此 輸出光束並產生電 之相對位置。甚 1057-5464-PF(Nl).ptd 第13頁 1277720 五、發明說明（10) 至，該裝置更包括一極化分析器，設置於每一感測器之 前，並設置以通過一中介干涉極化（interfermediate polarization)至每一輸出光束的分量。同樣該裝置更包 括一光纖讀取頭（fiber-optic pick-up)用來將每一輪 出光束耦合至對應的感測器在其通過該對應之極化分析器 之後。 ° 該干涉儀 沿該共同路徑 後，將該第一 沿該共 而且， 接觸於 一路徑 置以從 至少兩 出光束 一路徑 同 二路徑 路徑及 入光束 的每一 一對應 該 同路徑 該干涉 該量測 接觸於 該輪人 次的該 ，其中 所定義 樣，該 接觸於 該第一 得到另 該次光 之輪出 干涉儀 可設置以 與該量測 光束分成 接觸於該 儀可設置 物至少第 該量測物 光束得到 次光束與 該第一輪 之一量測 干涉儀可 该量測物 路徑相異 一組次光 束與另一 光束。 亦可設置 引導得自一輸 物接觸 多道次 量測物之該輸 以引導 二次， 之光束 ，並在 光束， 至少一 另一次 另一次 出光束 軸至該 設置以 至少第 。例如 束，並 組與之 以定義 分量。 光束， 光束合 包含沿 量測物 引導至 —， ，該干 將接觸 對應的 八7U不 與該量 其中該 出光束 次光束 沿該共 而且， 並將接併，以 由該共 的距離 少另一 該第二 涉儀可 於該量 次光束 測物接觸之 次光束對應 的光束分量 沿該第一路 同路徑與該 該干涉儀可 觸於該量測 產生第一道 同路徑與該 資訊。 次光束沿一 路徑與該共 設置以從該 測物至少兩 合併，以產

自該輸入光束得到另一組次$

1057-5464-PF(Nl).ptd 第14頁 1277720 五、發明說明（11) 將接觸於該 次光束合併 光束沿與共 將另一沿該 路徑接觸於 在具有 將該第一光 以定義一中 先束以及" 量測物 以產生 同路徑 共同路 該量測 該次光 束在接 介光束 組次要 量測物 至少兩次的該次 一輸出光束，引 相異之 徑接觸 物的次 束的實 觸於該 ;ii) 參考光 一第二路 於該量測 光束合併 施例中， 量測物後 將該中介 束；iii) ;i v ) 再將每一 於該量測物後與對應之一次要參考 出光束，其中每一次光束對應於相 考光束其中之一。 束接觸於該 光束與來自另一組的一 導來自其他組的另一次 徑接觸於該量測物，並 物之次光束與沿該第二 以產生另一輸出光束。 該干涉儀可設置以土） 與一主要參考光束合併 光束分成一組次要量测 引導每一次要量測光 次要量測光束在其接觸 光束以產生一對應之輸 異之次要量測光束與參

該干涉儀包括：一共同之極化光束分光器設置以引導 知自一入射輸入光束的一主要量測光束沿該共同路徑接觸 於該量測物；以及一返回光束總成用以接收具有來自該極 化光束分光器之主要量測光束的一中介光束，將該中介光 束分成多道光束，並將該多道光束引導回該極化光束分光 器。該極化光束分光器可引導得自該入射輸入光束之一主 要參考光束接觸於一反射性參考物，其中該主要量測光束 以及主要參考光束對應於入射輸入光束的正交極化分量。 該極化光束分光器更用於再將該主要量測光束與該參考光 束合併以形成該中介光束在其分別接觸於該量測物與該參 考物之後。

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此外，遠極化光束分光器係設 分成一組次要量測光束以及一組少i丨2|道 每一次要量測光束接觸於哕量測^ ··· 光束，/ 1 \ 么成里測物；1 1 1 )引導每一次要 參考光束接觸於該參考物；以及iv)再將每一次要量測光 束與對應之一次要參考光束合併在其分別與該量測物與該 參考物接觸後，以形成一對應之輸出光束。 五、發明說明（12)

一在此實施例中，每一次要量測光束可沿一與該共同路 徑相異之路徑接觸於該量測物。而且，該干涉儀可包括該 參考物。另外，該參考物可對應於另一量測物，例如在依 差分平面鏡干涉儀。在任一種情況中，該參考物可包括一 平面鏡。 該干涉儀更包括一四分之一波長阻滯器設在該極化光 束分光器與該量測物之間，亦有一四分之一波長阻滯器設 在該極化光束分光器與該參考物之間。

該干涉儀更包括具有一非極化光束分光器的輸入光束 光學總成，其中該輸入光束光學總成將一原始輸入光束分 成該第一次提及之輸入光束以及一第二輸入光束與該第一 輸入光束平行行進，並引導該第一及第二輸入光束至該極 化光束分光器。 該返回光束總成包括至少一組曲折光學系以及至少一 非極化光束分光器用來將該中介光束分成多道光束。例如 該組曲折光束包括一回溯反射器用以在任何非極化光束分 光器之前接收該中介光束。該返回光束總成包括一光束分 光器總成具有至少一非極化光束分光器，其中該光束分光

1057-5464-PF(Nl).ptd 第16頁 1277720 五、發明說明（13) 器總成從該回溯反射器接收該中介光束，產生多道光束’ 並將該多道光束沿與該中介光束平行的方向引導回該極化 光束分光器。而且，該光束分光器總成可包括多個非極化 光束分光器。同樣地，該返回光束總成更包括一阻滯板設 於該回溯反射板與該光束分光器總成，其中該阻滯板係用 以降低由該回溯反射器所造成中介光束的極性旋轉。 在其他的實施例中，該曲折光學系包括角度量測曲折 光學系以及距離量測曲折光學系，其中該角度量測曲折光 學系包括一半波長的阻滯器用以旋轉該多道光束至少其中 之一的極性。該角度量測曲折光學系更包括一五棱鏡，而 該距離量測曲折光學系包括一回溯反射器。該非極性光束 分光器可用以在任何曲折光學系之前/之後接收該中介光 束0 一般 包括干涉 而言， 地產生 物相對 於一量測 一道輸出光束包 測物至少 相異之第 該方 一次。 一路徑 法之實 一般而言， 一多軸干涉儀用 其中該 包括有 對位置， 輸出光束 在另一 多道輪 於一相 括一光 而且， 接觸於 施例更 另一方 來沿多 干涉儀 關於一 方面，本| 出光束，每 異之自由度 束分量沿一 至少一光束 該量測物至 包括對應於 面，本發明 重自由度量 係設置以產 量測物相對 明之特色為 一道輸 的相對 共同之 分量更 少第二 上述之 出光束 位置之 路徑接 沿與該 次。 裝置的 種方法， 包括有關 資訊。每 觸於該量 共同路徑 特徵。 之特色為_種裝置包括 射性量測物之相 輪出光束，每道 異之自由度的相

测一反 生多道 於一相

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括一光束分量沿 至少一輸出光束 束分量不同。該 一路徑接觸於該 對位置。每一 接觸於該量測 光束分量與第 沿與該共同路 次0 道輸出光束包 物至少一次。 一次提及之光 徑相異之一第 一共同之路徑 包括另一輸出 另一光束分量 I測物至少一 δ亥第《一次提及 該共同 包括沿 量，以及沿 該輸出光束 該角度方位 路徑與該第 束包括有關 二旋轉軸的 路徑接觸於 該第一 ，包括 的資訊 一路徑 於該量 角度方 該量測 該第一光束分量相 一光束 量測物 束中之該另 徑接觸於該 垂直。 之裝置的 路徑接觸 路徑接觸 有關於該 °例如， 所定義之 測物相對 位，其中 物之該第 實施例包括任何以 於該量測物之該第 於該量測物之另一 量測物相對於一第 該第一旋轉軸垂直 一平面 於與該 該第二 一次提 異之另一光束分 與該共 該第二 分量係沿。例如， iTFj Η ，—· 第一旋轉車由 輪出光束包 及之光束分 量，其中該 同路徑相異 旋轉軸與該 下之特徵。 一光束分 光束分量的 一旋轉軸之 於由該共同 胃二輸出光 相異之一第 括沿該共同

量 以及 第二輪出 之一第二 第一旋轉

該第二次提及之裝置的另外的實施例包括任何斜該 一次提及之裝置所描述之和外的特徵。 ^第 一般而言，在另一方面，本發明之特徵為一方法包 以干涉儀產生多道輸出>光束，每一道輸出光束包含有^节 量測物相對於一自由度之相對位置的資訊。 μ 其中每一輸出光束包括〆光束分量沿一共同路徑接觸

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1277720 五、發明說明（15) 於該量測物至少一次。至少一輸出光束包括與該第— 及之光束分量相異的另一光束分量。該另一 #”=八二次提 _ 人71 尤束分量沿盥 該共同路徑相異之一第一路徑接觸於該量測物。 該第二次提及之方法的實施例更包括任何對廉 第一次及第二次提及之裝置的特徵。 —；上述 在另一塑 圓上製造積體 照明系 系統用 以及任何上述 圓；一 一定位 一光罩、一定 裝置用 另 來監視 一型態 圓上製造積體 系統、 幸3射源 該定位 ，該透 系統監 一定位 態，本發明之特徵為 電路。該微影系統包 統用來將圖案的輻射 來調整該平台相對於 之干涉儀裝置，該照 位系統、一透鏡總成 該晶圓相對於該映射 ，本發明之特徵為另 電路。此微影系統包 一透鏡總成以及任何 將輻射引導經過該光 系統調整該光罩相對 鏡總成將該空間圖案 視該光罩相對於來自 作時該 輻射， 的位置 該干涉 置。 另一種型態中，本發明 來製造一微影 一刻寫光束於 光束引導總成 一微影 括一平 空間地 該映射 明系統 以及任 之輻射 一微影 括一幸畐 上述之 罩用以 於來自 輻射映 該輻射 台用來 映射至 之輻射 包括一 何上述 的位置 糸統用 射源、 干涉儀 空間地 該輻射 射至該 源之輻 於在一 支持該蓋 该晶圓； 的位置； 輻射源、 之干涉谓 aa

來在一 一光罩、 裝置。杏 產生圖赛 源之輕身 晶圓， 射的位 曰曰 光罩。該光束 一基板上刻畫 用來傳遞該刻 之特徵為一光束刻寫系統，戶 刻寫系統包括：一輻射源提令 圖案，一平台支持該基板，一 寫光束至該基板，一定位系影

1057-5464-PF(Nl).ptd 第19頁 1277720 t 五、發明說明（16) 用來使該平 之干涉儀用 在另一 晶圓上製造 可移動之平 該平台之位 之位置。 在另一 一晶圓上製 通過一光罩 輻射做定位 於該輸入輻 圓。 在另一 來在一晶0 第一元件相 該晶圓曝光 方法，監視 在另一 體電路，該 在另一 體電路，該 在另一 微影光罩， 台與光束引導總成彼此 以監視該平台相對於該 型態中，本發明之特徵 積體電路。該微影方法 台上，空間地將圖案轄 置；以及使用任何上述 相對定位，以及該上述 光束刻寫總成的位置。 為一微影方法用來在— 包括··支持該晶圓在一 射映射至該晶圓；調整 之干涉方法監視該平台 .一、、v " 风彩万法 造積體電路。該微影方法包括：引 以產生空間圖案輻射；將該光罩相對= :使用任何上述之干涉方法，監視該光 射的位置；以及將該空間圖案輻射映射 型態中 上製造 對於一 於空間 該第一 梨態中 方法包 梨態中 方法包 梨態中 該方法 ，本發 積體電 微影糸 圖案輻 元件相 ，本發 括任何 ，本發 括使用 ，本發 包括： 明之特徵為 路，其包括 統之一第二 射下；以及 對於該第二 明之特徵為 上述之微影 明之特徵為 任何上述之 明之特徵為 引導一刻寫 一第三 :將一 元件作 使用任 元件的 一種方 方法。 一種方法用於 微影系統。 一種方法用於 種微影 微影系 定位， 何上述 位置。 法用於 用來在 入輻射 該輪入 罩相對 i -晶 方法用 統之— 用以將 之干涉 製造積 製造積 製造—

光束至一 基板

1057-5464-PF(Nl).ptd 第20頁 1277720 五、發明說明（17) 基板刻晝圖案；將該基板相對於該刻寫光束作定位；以及 使用任何上述之干涉方法，監視該基板相對於該刻寫 的位置。 ·、、、九束 除非另外定義，於此所使用之所有技術上或科學上 名稱具有熟習此技藝之人士所公認之相同含意。若與出版 品、專利申請案、專利公報以及其他參考資料相衝突 以本說明書（包括定義）為準。 本發明之一或多個實施例的詳細内容係配合圖式說明 如下。本發明其他的特徵、目的以及優點係由說明、圖 以及申請專利範圍而被瞭解。 °二 實施方式 第1圖為一干涉儀系統之示意圖，其中一平面鏡 物之線性及角度位移被量測及監視。如第丨圖所示，該^ ίΐίί包括一光源10，一干涉儀14可排列及設置“種 t : Ϊ ”式’感測器70以及電子處理器及電腦90，其程 之實施例詳述如4 = Γ母種形式將以個別 杆推糾/雜Μ 干涉儀先束通常沿一標示為20之光路 灯進到/離開面鏡9 2，且輸出光走VL 一庐—

干涉儀14行進至感測器7〇出“V；為。之光路從 以吝头雷工α °亥輸出先束由感測器70所偵測 以產生電子的干涉訊號傳遞 =j 係用於在極化益或—極化「分析器」（未圖示） 束為感測器7°所伯測到之前，混合該輸 量的極化作用。同樣在某』 ，義項取頭（未圖示）係用於將該混合極化輸

1057-5464-PF(Nl).ptd 第21頁 1277720 五、發明說明（18) 出光束耦合至一遙控感測器。 輸入光束12係由光源10所提供且為一具二分量之光 束。該等二分量具有不同的頻率以及互相垂直的平面極 化。不同之頻率可以在光源1 〇產生，例如，雷射赛曼*** (Zeeman splitting)、Acousto-optical modulation 或是 在雷射内部裝設雙折射元件來產生。 干涉儀1 4的第一實施例以一立體視圖表示於第2 a圖並 包括一整合光學總成中之二平面鏡干涉儀丨丨4。干涉儀1 i 4 係以干涉儀1 4之操作來作說明。量測光束1 2 2、1 2 4及1 2 6 之路徑對應於第1圖中標號20所指之路徑。該二平面鏡干 j 涉儀具有一共同之量測光束路徑用來讓其中之一通過至平 面鏡量測物9 2。該共同量測光束路徑對應於該量測光束 1 2 2之路徑。 光束12入射於極化光束分光器介面13〇並離開光束分 光器130成為光束140，光束140包括參考及量測光束分 量。輸入光束12之兩分量的極化平面在光束分光器介面 130與光束12之入射平面平行與垂直。光束14〇之量測光束 分量由光束分光器130及平面鏡92所反射，由光束分光器

1 3 0所傳遞，由四分之一波長相位阻滞板丨3 2作二次反射。 二次通過阻滯板1 3 2會旋轉該量測光束之極化平面g 〇度。 光束140之參考光束分量係由光束分光器所傳送，由平面 鏡194及光束分光器130所反射，由四分之一波長相位阻滞 板134作二次反射。二次通過阻滯板丨34旋轉該表者朵 ' 極化平面90度。 尤束之

1057-5464-PF(Nl).ptd 第22頁 1277720 五、發明說明（19) 光束140之第一及第二部用來分別作為供給該二平面 鏡干涉儀之光束，其中該第一及第二部具有量測光束分 量，該等量測光束分量具有一共同量測光束路徑供其中之 一通過到達該平面鏡量測物92。光束140由稜鏡154傳遞並 由回溯反射器150反射而成為光束142。對應於光束140之 第一部的光束142之一第一部由非極化光束分光器介面152 所傳遞而成為光束144，而光束142之一第二部對應於光束 140之第二部由光束分光器介面152及稜鏡154反射而成為 光束1 4 6。 光束144入射光束分光器介面130且離開光束分光器介 面130成為包括參考及量測光束分量的輸出光束丨6〇。光束 144之量測光束分量由光束分光器介面130所傳遞，由平面 鏡9 2及光束分光器介面130所反射，並由四分之一波長相 位阻滯板132作二次傳遞。光束144之該參考光束分量係由 光束分光器介面130及平面鏡194所反射，由光束分光器介 面1 3 0所傳遞，且由四分之一波長相位阻滯板1 3 4作二次傳 遞。 光束146入射光束分光器介面130且離開光束分光器介 面130成為包括參考及量測光束分量的輸出光束162。光束 146之量測光束分量由光束分光器介面130所傳遞，由平面 鏡92及光束分光器介面130所反射，並由四分之一波長相 位阻滯板132作二次傳遞。光束146之該參考光束分量係由 光束分光器介面130及平面鏡94所反射，由光束分光器介 面1 3 0所傳遞，且由四分之一波長相位阻滯板1 3 4作二次傳

1057-5464-PF(Nl).ptd 第23頁 1277720

遞0 人輸出光束160及162為感測器70所偵測而產生包括二電 子介面訊號之訊號80。感測器70包括混合輸出光束16〇、 162之參考與量測光束分量的極化器。訊號8〇之電子介面 =號係傳送至電子處理器及電腦9〇，並處理有關平面鏡92 分別沿干涉儀量測軸x!及^之位移的資訊。位移七及^。之 改變的平均由電子處理器及電腦9〇計算而作為平面鏡92之 線性位移’而（X1G 一 Χι )的變化用於電子處理器及電腦9 〇以 計算平面鏡92角位移的變化成為31^11[(\()一\)/1)1]其中bi 為該二干涉儀之量測軸的空間間距（見第2b圖）。在角度 方位的量測變化係位於兩量測軸的平面。 量測光束122、124及126的相對位置係表示於第2b 圖。同樣如第2b圖表示量測軸Xi及乂1()的相對位置，以及該 量測軸之間距h。 回溯反射器1 50之位置影響光束144相對於光束140之 位置但不影響光束144與146之空間間距。光束144與146之 空間間距係由光束分光器152以及稜鏡154的反射面所形成 之菱形體之性質決定，且對應於轴x1Q以及Xl的間距N。一 對應之特徵為該菱形體之放置不影響量測軸x1Q以及Xl之間 的空間。 回溯反射器1 5 0係顯示於第1圖成為一固相立方角回溯 反射器（solid cube corner retroreflector)。對一固 相立方角回溯反射器，一光束之最大直徑或用於使光束無 任一部份通過立方角的扇形邊界之最大淨圓形通孔

1057-5464-PF(Nl).ptd 第24頁 1277720 五、發明說明（21) (maximum clear circular aperture )係該立方角回溯 反射器之輸入及輸出光束間距之1/2。然而，其他光學元 件之最大淨通孔，例如光束分光器介面152，稜鏡154以及 光束分光器介面130，與該立方角之輸入輸出光束的間距 相等。係數1 / 2表示於該最大直徑中損失係數為2，該最大 直徑可用於設置有傳統高穩定度平面鏡干涉儀（h i gh stability plane mirror interferometer ，HSPMIs)的 一干涉系統。相較之下，第一實施例之干涉儀11 4可被建 構為該第一實施例不會有損失係數當使用立方角回溯反射 器時。 光束140相對於光束144及146之位置不影響軸XlQ以及Xl 之空間間距h。結果，立方角回溯反射鏡1 50的尺寸可被選 擇而成為無須改變間距!)！而設定該干涉儀的淨通孔之直徑 的光學元件。 回溯反射器150表示於第2a圖而為一固態立方角回溯 反射器。立方角回溯反射器1 5 0的反射表面做電鍍以降低 在訊號8 0的電子訊號中週期誤差的產生，參考如美國專利 申請案60/371, 868在2002年4月11日由Henry A. Hill所提 申的「Retroreflector Coating For Heterodyne Interf erometer」。回溯反射器1 50另外包括一極化保留 回溯反射器（polarization preserving retroref lector )以降低週期誤差的產生如美國專利申請案第6, 1 98574B1 「Polarization Preserving Optical System」未脫離本 發明之領域與精神。該所列舉之美國專利係併入之後的參

1057-5464-PF(Nl).ptd 第25頁 1277720 五、發明說明（22) 考中。同樣地， 統之有效淨通孔 該第一實施 通干涉儀，該雙 徵有助於一更堅 該第一實施 對於該二雙通干 一實施例之該二 糸統，其包括二 光程差之產生肇 勻。同樣對於包 傳統之HSPMIs， 射器之使用通常 通過量測光束間 或餘割修正係數 涉儀相位量測的 該第一實施 通干涉儀之光束 鏡量測物之方位 所產生的非週期 號’並互相抵銷 時。該波前誤差 遞光束之光學表 該第一實施 該極化保留 如 立方 例之優點為 通干涉儀量 固緊密且低 例之另一優 涉儀之光束 干涉儀的光 傳統HSPMIs 因於該干涉 括二平面鏡 具有二個別 造成一非週 肇因於製造 形式中非週 變化轉換成 例（回溯反 @言係相同 改變之光束 m差所對應 &計算從線 可肇因於光 面的形狀。 回溯反射器未降低一干涉儀系 角回溯反射器。 僅使用一個回溯反射器於二雙 測一量測體之二自由度。此特 成本之整合光學總成。 點是回溯反射器1 5 0中之光路 而言係相同。此特徵降低於第 程差，出現於一對應之干涉儀 具有二個別之回溯反射器。該 儀之玻璃及溫度梯度的不均 干涉儀之一干涉儀系統，例如 之回溯反射器，二個別回溯反 期誤差。該雙通干涉儀之第二 誤差的相對不對準，產生餘弦 期誤差’該修正係數用於將干 線性位移的變化。 射器150中之光路對於該二雙 )之另一優點為，肇因自平面 剪變所而造成的波前誤差，其 的部分係共同於兩電子介面訊 性位移的改變至角位移的改變 學元件之雙折射以及反射或傳

例之另一優點為回溯反射器丨5 〇的配置不

第26頁 1277720 五、發明說明（23) 影響該二雙通干涉儀之量測轴之間的間距。因此在組裝一 整合光學總成時該間距並非由回溯反射器之配置決定，而 是由一單一光學元件的製造決定。 該第一實施例之另一優點為由光束分光器介面1 52之 極化介面以及反射面稜鏡154所形成之菱形體（rhomb)的 配置不影響該二雙通干涉儀之量測軸之間的間距。因此在 組裝一整合光學總成時該間距並非由該菱形體之配置決 定，而是由一單一光學元件的製造決定，及該菱形體。 該第一實施例之另一優點為由光束分光器介面1 52之 極化介面以及反射面稜鏡丨54所形成之菱形體（rhomb)的 配置不影響該二雙通干涉儀之電子干涉訊號之振幅。 該第一實施例之另一優點為：對在該量測物平面鏡之 量測光束的一給定之最大間距2bi，較大之淨通孔可被容納 在相對於可能具有二平面鏡干涉儀之裝置中，如使用立方 角回溯反射器的傳統HSPMIs，其中光束並不穿越回溯反射 器之扇形邊界。 該第一實施例之另一優點為：得自該二雙通干涉儀之 位移差的角位移對溫度梯度之敏感度降低。 在該第一實施例中，量測光束1 2 2可被認為一「第一 光束」或「主要」量測光束，量測光束丨22第一次傳遞至 遠平面鏡量測物並隨即由極化光束分光器1 30分成多道 _人光束」以及包括回溯反射器150，光束分光器介面152 以及平面鏡丨54的一「返回光束總成」。於該第一實施例 中，對應於量測光束124及126的該等次光束可更被認為

測物之輸出光束之一分量， 路徑接觸於該量測物第二次 面130反射向參考平面鏡194 被視為一「主要」參考光束 並沿與該共同路徑相異之另一 。而且，由極化光束分光器介 的輸入光束12的參考部分，可 ’該「主要」參考光束第一次 1277720 五、發明說明（24) 次要j量測光束，該等次要光束沿一與對應該量測光束 1 2 2相異之路徑做一第二次傳遞至該平面鏡量測物。因 此’於該第一實施例中，每一此光束對應於沿一由量測光 束122 (量測光束122之部分）所定義之共同路徑接觸於量 通至參考平面鏡並隨即與量測光束122再結合（在其第一 次通過至該平面鏡量測物之後），以定義一「中介」光 束。该「中介」光束隨即由返回光束總分量成「多重」光 束，該多成光束對應於光束144及146。該極化光束分光器 介面130將該多重光束分成一組次要量測光束（對應於量^ ，光束124及126 )以及一組次要參考光束（對應於做第二 人通過至平面鏡參考物194)。一相似的命名方式用於下 列之實施例。 泫干涉儀之一第二實施例1 4表示於第3a圖中之一立體 、為if。括三個平面鏡干涉儀在_整合光學總成中-般標 二二H血干:歩儀21 4以干涉儀1 4之操作*式作說明，並建 構以置測與監視平面鏡92在一方 心 92二垂直平面之角度方位在量生位移以及平面鏡 228之路徑對應於第1圖中以桿、224、226以及 鏡干涉儀具有一共同量測光代f路徑。該三平面 測物92。該共同量測光束路次傳遞至平面鏡量 仏對應於置測光束222之路

1057-5464-PF(Nl).ptd 第28頁 1277720 五、發明說明（25) 徑。 第二實施例的許多元件與第一實施例的元件具有相同 之功能。在第一、第二實施例中具有相同功能的元件以相 差100的標號表示。 光束12入射於極化光束分光介面23〇並離開極化光束 分光介面230而成為光束240包括參考與量測光束分量。入 射光束1 2之二分量的極化平面係平行並垂直於光束丨2在光 束分光器介面230之入射平面。光束24〇的三個部分係用作 分別給予三個平面鏡干涉儀的光束，其中該三部分具有量 測光束分量’該量測光束分量具有一共同量測光束路徑供 一次傳遞至該平面鏡量測物9 2。光束2 4 0之其他說明與該 第一實施例之光束1 4 0之說明對應之部分相同。 光束240之三個部分中的第一部份係依序由稜鏡254、 回溯反射鏡2 50以及光束分光器介面252傳遞而成為光束 244。該三部分中的第二部分對應於光束24〇之一第二部分 的一第一部份，光束240之一第二部分的一第一部份由光 束分光器介面252反射並由光束分光器介面1252所傳遞， 由稜鏡254反射之後而成為光束246。該三部分中的第三部 分對應於光束240之一第二部分的一第二部份，光束24〇之 一第二部分的一第二部份由光束分光器介面252反射並由 光束分光裔介面1252所反射成為光束248，在由稜鏡256反 射之後。 光束244入射於極化光束分光介面230並離開極化光束 分光介面230而成為光束260包括參考與量測光束分量。光

第29頁 1277720 五、發明說明（26) 束260之其他說明與該第一實施例之光束160之說明對應之 部分相同。光束246入射於極化光束分光介面230並離開極 化光束分光介面230而成為光束262包括參考與量測光束分 量。光束262之其他說明與該第一實施例之光束162之說明 對應之部分相同。光束248入射於極化光束分光介面230並 離開極化光束分光介面230而成為光束264包括參考與量測 光束分量。光束248之參考與量測光束分量行進通過光學 元件而形成光束2 6 4的說明與該第一實施例之光束丨4 4形成 光束1 6 0的說明對應之部分相同。 沿路徑2 0行進之量測光束2 2 4、2 2 6以及2 2 8分別由輸 出光束260、262、264作結合。量測光束222以及224與量 測軸X2結合，量測光束222以及226與量測軸x2G結合，而且 量測光束222以及228與量測軸&()結合（參看第3圖）。、 與&的空間間距為\，而&⑽與^及心形成之平面的空間間 距為b2〇。 量測光束222、224、226以及2 28的相對位置表示於 3b圖。同樣表示於第3b圖的是量測軸&、&。以 量測軸間距b2與1)2。。

平面賴三個自由度的變化係由f j用三個量測到的線性位移以及所量測的性㈣與… 第二實施例之特徵與優點 光學總成，低成本，淨通孔， 距1½與的決定，以及降低非 例如關於一小型堅固的整合 回溯反射器2 5 0的設置，間 週期誤差的效果，與本發明

1277720 五、發明說明（27) 一 ——----------- 之第-實施例所對應之特徵與優點相同。 實施例之一變形係表示於第10圖。該第二實施例 5形為一個四軸的平面鏡干涉儀，其具有包括介面“Ο 丨ί寸的極化光束分光器，以及相對於第3a圖之第二實 :1又大!!垔測光束淨通孔。此處之淨通孔係由光學表面 、界所定$，例如立方角回溯反射器丨250之扇形邊界。 该第二實施例之變形通常表現出較大的量測光束淨通 ^降低由波前誤差及光束剪變所產生的非週期非線性誤 差。 對給疋量之由波前誤差及光束剪變所產生的非週期 非線性块差’在該第二實施例之變形的干涉儀之尺寸相對 於第二實施例中對應之干涉儀可降低。 该第二實施例之變形最後使用所遭遇的Abbe誤差相對 於第二實施例中對應最後使用所遭遇的Abbe誤差可降低。 該第二實施例之變形在一平面上的光學角解析度 (optical angUlar res〇iution)比第二實施例中對應之在 同一平面上的光學角解析度增加。 該第二實施例之變形的元件以及第二實施例中之元件 具有相同之標號者具有相同之功能。參照第丨〇圖，介面 1 256的兩斷面係電鍍而作為供光束的反射介面而反射該光 束成為光束2244及2246。介面1256的中心斷面係未電鑛而 傳遞光束240，其中該所傳遞之光束繼而由相位阻滞板 1232以及立方角回溯反射器125〇傳遞而成為光束1242。光 束1242入射於光束分光器介面2252而且該光束1242之一第

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第31頁 1277720 五、發明說明（28) 一部份被傳遞而一第二部分被反射。所傳遞之第一部份入 射於光束分光器介面32 52而且其一第一部份傳遞而成為光 束1244且其一第二部分反射而成為光束2244在由介面1256 之反射斷面所反射之後。由光束介面2252所反射之第二部 分之一部分係由光束分光器介面3252傳遞而由反射介面 1 254反射之後形成光束1 246，而且該所反射之第二部分的 另一部份係由光束分光器介面3 2 5 2所反射而由介面1 2 5 4以 及介面1256之一反射斷面。

光束1 244入射於極化光束分光介面230並離開極化光 束分光介面230而成為光束264包括參考與量測光束分量。 光束1 264之其他說明與該第二實施例之輸出光束260之說 明對應之部分相同。光束1 246入射於極化光束分光介面 230並離開極化光束分光介面230而成為光束12 66包括參考 與量測光束分量。光束1 2 6 6之其他說明與該第二實施例之 輸出光束260之說明對應之部分相同。光束2244入射於極 化光束分光介面230並離開極化光束分光介面230而成為輸 出光束2264包括參考與量測光束分量。光束2244之參考與 量測光束分量行進通過光學元件而形成光束2264的說明與 該第二實施例之光束2 4 4形成光束2 6 0的說明對應之部分相 同。光束2246入射於極化光束分光介面230並離開極化光 束分光介面230而成為輸出光束2266包括參考與量測光束 分量。光束2246之參考與量測光束分量行進通過光學元件 而形成光束2 2 6 6的說明與該第二實施例之光束2 4 6形成光 束2 62的說明對應之部分相同。

1057.5464-PF(Nl).ptd 第32頁 1277720 五、發明說明（29) 由於光束2 2 2的部分當作對四量測轴之每一量測轴而 言第一次傳遞至量測物92之量測光束，故量測光束222被 當作主要量測光束。沿路徑20行進之量測光束1 224、 2224、1226以及2226分別與輸出光束1264、2264、1 266以 及2266。 如第10圖所示，由輸出光束1 242以及從/至該立方角 回溯反射器1 2 5 0的對應之輪入光束所定義之平面相對於光 束240之量測與參考分量之極化狀態所定義之平面成45 度。結果，輸入光束之量測與參考分量之極化狀態至立方 角回溯反射器1 2 5 0之平面與立方角回溯反射器1 2 5 0之名稱 上的快軸與慢軸不對準。為了對該輸入光束之量測與參考 分量之極化狀態至立方角回溯反射器丨2 5 〇之平面以及立方 角回溯反射器1 2 5 0之名稱上的快軸與慢軸的相對旋轉效應 作補償’ 一相位阻滯板1 232置於該輸入光束至立方角回溯 反射器1 250的路徑上，且相位阻滯板丨232的快軸平行或垂 直於立方角回溯反射器丨2 5 〇之快軸。 相位阻滯板1 2 3 2亦可至於輸出光束1 2 4 2來自立方角回 潮反射器1 2 5 0的路徑上。相位阻滯性質的補償可另外藉由 放置一相位阻滯板在輸入光束及輸出光束至立方角回溯反 射器1250的路徑上。 相位阻滯板1 232之性質被決定如立方角回溯反射器 1 2 5 0之相位阻滯性質。對 言，通常在商用干涉儀中 一鍍銀的立方角回溯反射器而 ，鍍銀之立方角回溯反射器的快 與慢軸相對於輸入及輸出光束至該鍍銀的立方角回溯反射

1057-5464-PF(Nl).ptd 第33頁 1277720 五、發明說明（30) 器之方向所定義之平面轉動大約3度。此外，導入一大約 1 8 0度之相位移動（相位移動之正弦值大約為〇 · 1 )使該立 方角回溯反射器表現如一半波長之相位阻滯板。相位阻滯 板1 232所導入的相位移動被選定用來補償立方角回溯反射 器1250，以降低以其他方式導入的週期誤差。 其他的電鍍方式可用於立方角回溯反射器1250上，如 美國專利中請案60/371，868於2002年4月11日所提中之 rRetroreflector Coating For Hetrodyne Interferometer」Henry A· Hill，其内容於此併入作參 考。具有如該申請案所述之電鍍層，該電鍍之立方角回溯 反射器1 2 5 0具有高精密度之半波長之相位阻滯板之性質相 對於輸入及輸出光束之極化狀態。該相位阻滯性質於此例 中係以一標準的半波長相位阻滯板作為相位阻滞板丨2 3 2使 用。 該第二實施例之變形的優點是供量測光束的有效淨通 孔相對於第二實施例之有效淨通孔增加。此增加部分係由 於主要量測光束222移動至量測光束2224及2226中間的一 中央位置。移動之結果，光束2224及2226的有效淨通孔可 為相等’表現相對於第二實施例之光束的有效淨通孔增 加，其中有效淨通孔定義為2 2 6。 該第二實施例之變形的有效淨通孔之增加部分係立方 角回溯反射器1 250之快軸與慢軸相對於光束240之量測與 參考分量之極化平面旋轉大約45度。對如此快軸與慢軸之 旋轉而言’立方角回溯反射器丨2 5 〇的扇形邊界以有在該量

1057-5464-PF(Nl).ptd 第34頁 1277720 五、發明說明（31) 測光束之兩獨立而互相垂直之自由度做1 5度以内之一對應 的旋轉’相較於出現在傳統高穩定度平面鏡干涉儀。因 此，立方角回溯反射器1 250的扇形邊界具有一大約15度的 相對校準相對於由光束2 4之量測光束分量的光束剪變以及 一對應之有效淨通孔之增加所環繞的一矩形空間。 主要量測光束222移動至量測光束2224及2226中間的 一中央位置無須減少立方角回溯反射器丨2 5 〇之淨通孔，而 是藉由從輸出光束至立方角回溯反射器丨2 5 〇垂直與水平設 置的輸出光束1242。 較大的量測光束淨通孔形成該第二實施例之變形的另 一優點的基礎。對於一給定之光束剪變量以及光學表面之 表面配置規格，較大之通孔會導致對應之非週期非線性誤 差的降低。 也可能該第二實施例之變形中藉由移動主要光束2 2 2 至較接近於具有介面230之極化光束分光器之對應邊緣， 而減低對遠離該光束（射向參考物294 ) 222之一表面的 Abbe效應。可能移動至對應之邊緣而不會降低第二實施例 之變形有效淨通孔，由於主要光束222所經歷的光束剪變 為量測光束1224、2224、1226以及2226所經歷之光束剪變 的一半，其中該光束剪變係量測物92之方位改變的結果。 此特徵代表該第二實施例之變形的另一優點。 該第二實施例之變形的另一優點是由光束1 226及2226 所疋義之平面上的角位移解析度’可藉由移動主要光束 222接近於具有介面230之極化光束分光器之對應邊緣而增

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第35頁 1277720 五、發明說明（32) 加0 該第二實施例之變形的其餘之說明與第二實施例中對 應之部分的說明相同。 對熟習此技藝之人士而言是很明顯的，量測光束1 2 2 6 朝光束1 224移動置疑位置介於光束1 226及1 224的中間如第 10圖所示，而與輸入光束12成一直線並不偏離本發明之範 圍與精神，藉由移動反射面1 2 5 4之位置。

該干涉儀之一第三實施例14表示於第4a圖中之一立體 圖，並包括三個平面鏡干涉儀在一整合光學總成中一般標 示為314。干涉儀214以干涉儀14之操作方式作說明，並建 構以量測與監視平面鏡9 2在一方向之線性位移以及平面鏡 92二垂直平面之角度方位。量測光束322、324、326、 1 322以及1 324之路徑對應於第1圖中以標號2〇所代表路 位。§亥二平面鏡干涉儀中的兩者具有一共同量測光束路徑 供一次傳遞至平面鏡量測物9 2。該共同量測光束路徑對應 於量測光束322之路徑。 u

弟二貫施例的許多元件與第二實施例的元件具有相同 之功能。在第二、第三實施例中具有相同功能的元件以相 差1 0 0的標號表示。 光束12入射於光束分光器介面358且一第一部份被反 射而成為一輸入光束312在稜鏡359反射之後。光束12之一 第二部分由光束分光器介面358傳遞而成為一輸入光束 1312。輸入光束312入射於光束分光器介面330並離開而成 為輸出光束360與362。與輸出光束360以及362結合之該量

l〇57-5464-PF(Nl).ptd 第36頁 1277720 五、發明說明（33) 測光束為322、324以及326。輸入光束1312入射於光束分 光器介面330並離開干涉儀314而成為輸出光束1364。與輸 出光束1364結合之該量測光束為1322、1324。 輸入光束31 2行進通過干涉儀3 1 4而形成量測光束 322、324與326以及輸出光束360與362的說明，與該第一 實施例中輸入光束1 2行進通過干涉儀11 4而形成量測光束 122、124與126以及輸出光束160與162的說明相同。 包括回溯反射器1 350以及極化分光器介面330的該干 涉儀是傳統的HSPMI，該極化分光器介面330具有量測光束 1322以及1324。按，輸入光束1312行進通過干涉儀314而 形成里測光束1322、1324與1326以及輸出光束1364的說明 與光束通過HSPMI之對應的說明相同。 量測光束322以及324與量測軸x3結合，量測光束322以 及326與量測軸x3G結合，而且量測光束1 322以及1 324與量 測軸x3GQ結合（參看第4b圖）。x3Q與x3的空間間距為b3，而 X30G與x3G及x3形成之平面的空間間距為b3〇。 量測光束322、324、326、1 32 2以及1 324的相對位置 表示於第4b圖。同樣表示於第4b圖的是量測軸x3、x3Q以及 X30G ’還有量測軸間距b3與1}3。。 平面鏡92三個自由度的變化係由電子處理器與電腦90 使用三個量測到的線性位移以及所量測的性質b3與b3Q來計 算。 第二實施例之特徵與優點例如關於一小型堅固的整合 光學總成，低成本，淨通孔，回溯反射器3 5 0的設置，間

1057-5464-PF(Nl).ptd 第37頁 1277720

五、發明說明（34) 距1>3與1½的決定，以及降低非週期誤差的效果，與本發明 之第一實施例所對應之特徵與優點相同。 該干涉儀之一第四貫施例1 4表示於第5 a圖中之一立體 圖，並包括四個平面鏡干涉儀在一整合光學總成中一般標 示為4 1 4。干涉儀41 4以干涉儀1 4之操作方式作說明，並建 構以量測與監視平面鏡9 2在一方向之線性位移以及平面鏡 92二垂直平面之角度方位。量測光束422、424、426、

1 4 2 2、1 4 2 4以及1 4 2 6之路徑對應於第1圖中以標號2 〇所代 表路徑。該四平面鏡干涉儀中的兩者具有一共同量測光束 路徑供一次傳遞至平面鏡量測物92，而其餘之二平面鏡干 涉儀具有一共同量測光束路徑供一次傳遞至平面鏡量測物 9 2。該共同量測光束路徑對應於量測光束3 2 2以及丨3 2 2之 路徑。 第四貫施例的許多元件與第一實施例的元件具有相同 之功能。在第一、第四實施例中具有相同功能的元件以相 差1 0 0的標號表示。

光束12入射於光束分光器介面458且一第一部份被反 射而成=一輪入光束4 12在稜鏡4 59反射之後。光束12之一 第一 刀由光束分光器介面4 5 8傳遞而成為一輸入光束 1412 °輸入光束412入射於光束分光器介面430並離開干涉 儀4 14而^成胃為輪出光束460與462。與輸出光束460以及462 、名口否之口亥里剛光束為422、424以及426 〇輸入光束1412入 射於光束刀光器介面430並離開干涉儀414而成為輸出光束 1 460與1 462 °與輸出光束1 460及1 4 62結合之該量測光束為

1057-5464-PF(Nl).ptd -- 第38頁 1277720 五、發明說明（35) 1422、1424 以及 1426。 輸入光束412行進通過干涉儀414而形成量測光束 422、424與426以及輸出光束4 60與462的說明，與該第一 實施例中輸入光束1 2行進通過干涉儀11 4而形成量測光束 122、124與126以及輸出光束160與162的說明相同。輸入 光束1412行進通過干涉儀414而形成量測光束1 422、1424 與1426以及輸出光束1460與1462的說明，與該第一實施例 中輸入光束12行進通過干涉儀114而形成量測光束122、

124與126以及輸出光束160與162的說明相同。 量測光束422以及424與量測軸x4結合，量測光束422以 及426與量測軸x4Q結合，而且量測光束1 422以及1 424與量 測軸X4㈣結合，而量測光束丨422以及1 426與量測軸x4_結合 (參看第5b圖）。&與\的空間間距為比，而X_Q與心⑽的 空間間距為b4G，而x4_與x4Q的空間間距為b_。 量測光束422、424、426、1422、1424 以及 1426 的相 對位置表示於第5b圖。同樣表示於第5b圖的是量測軸χ4、 〜〇、x_以及χ4_，還有量測軸間距b4與、以及b_。

平面鏡92三個自由度的變化以及平均斜率係由電子處 理器與電腦9 〇使用三個量測到的線性位移以及所量測的性 質h與、來計算。一斜率之一平均斜率之變化係用於此而 為由一表面之二線性位移之改變的差所決定之該表面的角 度方位的變化。該平均斜率之變化係在二量測到的線性位 移之變化的平面上。在該第四實施例中，平均斜率之二獨 立量測值係由atan[(x4Q〜X4)/b4]以及atan[(x4_—χ_)/

1277720 五、發明說明（36) b40 ]而得。atan[ (x4〇-x4 )/b4 ]以及atan[ (x4_-x4。。）/b40 ]的差 係從一超過距離b4QQ的平面量測出平面鏡92的偏移表面 (departure surface)。平均斜率量測的差值可以被使 用，例如在繪製一裝設在微影工具之平台上的平面鏡物體 的過程中，如美國專利申請案60/371, 172號於2002年4月9 曰提中之「Method and Apparatus For Stage Mirror Mapping」Henry Allen Hill(Z-40 2 )，其内容於此併入做 為參考。 額外之實施例更將上述之任何干涉儀系統彼此作合併 以提供額外之量測軸。例如，一四軸及三軸干涉儀次總 成’與第1 0圖所示者相似，可重疊於一整合光學總成以提 供7個量測軸，如第11圖所示。第丨丨圖中之實施例包括許 多與第1 0圖之實施例共同的元件，包括極化光束分光器介 面2 30 ’量測四分之一波長板232，參考四分之一波長板 2 34 ’參考平面鏡294，阻滯板1 23 2，回溯反射器1 250，非 極化光束分光器介面2252與3252，以及平面1254與1256。 參照第1 1圖，一輸入光束丨丨〇丨（如第1圖中光源丨〇所 產f者）入射一輪入光束分光器總成1 1 0 2，該輸入光束分 光=總成11 0 2包括非極化分光器總成丨丨〇 3。該輸入光束分 ，器總成將輸入光束分成二道次要輸入光束1104及1105。 次要輸光束11 〇4對應於第1〇圖之實施例中的輸入光束 12 ’並订經該干涉儀產生輸出光束1264、1266、2264以及 2 2 6 6如第1 0圖之實施例的狀態。次要輸入光束11 〇 5與次 要輸入光束1104平行行進並位於其下方。次要輸入光束

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110 5及其各分量在該干涉儀中行進，與次要輸入光束11〇4 相似，並產生輸出光束1266，、226 4，以及2266，。為產生 如此之輸出光束，該實施例更包括平面鏡丨254，，非極化 分光器介面2252’以及一第二回溯反射器1 250，。在此特別 的實施例中，輸出光束之量測光束分量1264、1266、2264 以及2266接觸於與對應於輸出光束1266，、2264，以及 2266,之量測光束分量所接觸不同的之平面鏡量測物。而

且，於此特殊之實施例中，一得自次要輸入光束11 〇 5之第 四輸出光束是不必要的，因此光束分光介面22 5 2,之右部 分僅為一平面鏡。 再參照第11圖，該實施例更表示背板233，用於將四 分之一波長板232固定在對應於介面230之極化光束分光器 光學系，當不同的分量整合入一單一干涉儀總成時。該實 施例更表示出極化洩漏過濾器11 0 7，該極化洩漏過濾器 11 0 7包括一對楔形物，其中之一為雙折射。極化洩漏過濾 裔導入'微小差異於次要輸入光束之垂直極化分量間的行

進方向，當該輸出光束通過該極化洩漏過濾器時該微小差 異被大大地補償。該極化洩漏過濾器可降低由極化混合 (polarization mixing)所造成的週期誤差以及由干涉 儀光學系的瑕疵所造成的其他效應。該極化洩漏過濾器之

實施例可更詳細地說明於美國專利申請案10/174, 149 rINTERFEROMETRY SYSTEM AND METHOD EMPLOYING AN ANGULAR DIFFERENCE IN PROPAGATION BETWEEN

ORTHOGONALLY POLARIZED INPUT BEAM COMPONENTS

1057-5464-PF(Nl).ptd 第41頁 1277720 五、發明說明（38)

Peter J· de Groot et a 1 ·於2〇〇2 年6 月 1 7 日提申，其内 容於此合併作為參考。

於上述之實施例中的每一輸出光束包括有關於相對於 一特殊量測軸至量測物距離之變化的資訊。如上所述，有 關於該量測物之角度方位的變化之資訊可由量測物至兩相 異量測軸之距離來計算。在下述附加的實施例中，該多軸 干涉儀可產生一或多道輪出光束直接量測量測物之光學方 位的變化。在此實施例中，該「角度量測」輸出光束包括 一分ΐ於彼此分開的點上接觸於該量測物。得出之干涉訊 號對應於一光學差（optical difference)，該光學差代 表量測物相對於一特殊旋轉軸的角度方位變化。X實:例可 包括量測相對於一或多個不同旋轉軸之角度方之變化的干 涉儀。而且’此干涉儀可更包括輸出光束沿一或多個量測 轴量測至該量測物之距離的變化。

參照第12a-e圖，一多軸干涉儀之實施例包括一高穩 定度平面鏡干涉儀（HSPMI )以及一角位移干涉儀。該心 HSPMI以及該角位移干涉儀共用某些共同之光學元件。該 HSPMI以示意圖表示於第12b圖，而該角位移干涉儀以示"音 圖表示於第12c圖。該HSPMI產生一第一輸出光束127/包二 有關沿一第一量測軸至一平面鏡量測物128〇之距離變化 資訊，而該角位移干涉儀產生一第二「角量測 1 273包括有關該平面鏡量測物相對於一第一旋 方位變化。 付平J月度 參照第1 2 a圖 光源11 〇產生輸入光束11 2 (如上所述

1057-5464-PF(Nl).ptd 第42頁 1277720 五、發明說明（39) 參考第1圖）並引導至極化光束分光器1281，該極化光束 分光器1281將輸入光束112分成光束1291與1292。光束 1291可被視為一「主要」量測光束，而光束1292可被視為 一主要參考光束。 該主要量測光束由極化光束分光器傳遞，由一平面鏡 量測物1 2 8 0所反射，然後返回該極化光束分光器在兩次通 過一四分之一波阻滯板1 282之後，四分之一波阻滯板1282 將其線性極化旋轉90度。由於二次通過，該極化光束分光 器將主要量測光束反射向返回光束總成1 285。該主要參考 光束由極化光束分光器所反射，由一平面鏡參考物1 283所 反射，然後返回該極化光束分光器在兩次通過一四分之一 波阻滞板1 284之後，四分之一波阻滞板1 284將其線性極化 旋轉90度。由於二次通過，該極化光束分光器傳遞該主要 參考光束。而且，將該主要量測光束與該主要參考光束合 併而定義出一中介光束1290。 返回光束總成1 285包括一非極化光束分光器1 286，該 非極化光束分光器1 286將該中介光束分成多道光束包括光 束1 29 3以及光束12 94。光束1293由光束分光器1286傳遞， 然後由回潮反射器1 2 8 7導回極化光束分光器1 2 81 ’而光束 1 2 94由光束分光器1 286反射，由五稜鏡1 288導向極化光束 分光器1 2 8 1，然後由半波阻滯板1 2 8 9在到達極化光束分光 器之前做傳遞。該半波阻滞板設置以旋轉光束1 294中之量 測與參考分量的線性極性9 0度。 光束1 2 9 3對應於該等距離量測輸出光束1 2 7 2之分量中

1057-5464-PF(Nl).ptd 第43頁 1277720 五、發明說明（40) 之一，而且該極化光束分光器將其一第一部份反射向該平 面鏡量測物以定義一次要量測光束丨2 9 5，並將其一第二部 份傳遞至該平面鏡參考物以定義一次要參考光束1296。光 束1 2 9 5及1 2 9 6分別從其平面鏡反射，二次通過個別之四分 之一波阻滯板，並由極化光束分光器做再合併以形成距離 量測輸出光束1 272。特別地，該次要量測光束1 295係得自 主要量測光束1291 ,而該次要參考光束1 296係得自主要參 考光束1 2 9 2。因此，距離量測輸出光束丨2 7 2之量測光束分 量接觸於該量測物兩次，第一次係沿由主要量測光束所^ 義之一共同路徑，而第二次係由該次要量測光束所定義之 一相異的路徑。距離量測輸出光束之量測與參考分量的垂 直極化係由極化器1 274所混合，而得出之光束的強度係由 感測器1 275所量測。第12b圖表示構成HSPMI並產生距離息 測輸出光束之干涉儀的部分。 | 光束1 294對應於角度量測輸出光束1 273之該等分量其 中之一，而且該極化光束分光器將其一第一部份反射向^ 平面鏡量測物以定義另一次要量測光束丨2 9 7，並將其一 ^ 二部份傳遞至該平面鏡參考物以定義一次要參考光束 1 298。光束1 297及1 298分別從其平面鏡反射，二次通過個 別之四分之一波阻滯板，並由極化光束分光器做再合併以 形成角度ΐ測輸出光束1 2 7 3。特別地，藉由半波阻滯板 1 2 8 9的極化旋轉作用，該次要量測光束1 2 9 7係得自主要表 考光束1 2 9 2，而該次要參考光束丨2 9 8係得自主要量測光束 1 2 9 1。因此，角度量測輸出光束1 2 7 3之一第一分量沿—u

1057-5464-PF(Nl).ptd 第44頁 1277720 五、發明說明（41) 同路徑接觸於該量測物一次當作主要量測光束的一部份然 後接觸於參考物一次當作次要參考光束1298的一部份，角 度量測輸出光束1 2 7 3之一第二分量接觸於該參考物當作主 要參考光束的一部份然後沿與該共同路徑相異之一路竟接 觸於量測物一次當作次要量測光束1 2 9 7的一部份。角度量 測輸出光束之量測與參考分量的垂直極化係由極化器丨276 所混合，而得出之光束的強度係由感測器丨2 7 7所量測。第 I 2 c圖表示構成角位移干涉儀並產生角度量測輸出光束之 干涉儀的部分。 該角度位移干涉儀使角度量測輸出光束丨2 7 3的分量， 在平面鏡量測物於第12a及12c圖的平面有一角度方位變化 心時’產生一相對相位差。相對相位差^以及角度變 化02的關係式如下： ^2 = k2n2b2 θ2 (1) 其中’ h為光束彼此之間，於量測物上（參照第1 2 a以 及12c圖）平面鏡的距離，波數匕=2 7Γ / λ2，又2為輸入光束 II 2的波長，^為參考光束以及量測光束路徑中的氣體的折 射率。 光束光點在平面鏡量測物1 2 8 0上的的配置如第1 2 d圖 所顯示的。該等光點呈一直線排列，沿直線位移量測光束 干涉儀的量測軸，平行於角度位移量測干涉儀的參考光束 以及量測光束。由於第丨2a圖中實施例所表示的該干涉儀 總f為一非限制性的例子，其位移等於該直線位移干涉儀 的量測光束於平面鏡的間隔的1 · 5倍。

1057-5464-PF(Nl).ptd 第45頁 1277720 五、發明說明（42) 利用面鏡以及五角稜鏡1288而作用的非極化光束分光 器1286具有一單一反射表面（在第i2c圖以R表示）的影像反

轉特性。因此，第1 2a圖中的該角度位移干涉儀被配置為 該角度量測輸出光束的分量，以彼此平行的方式傳遞。此 外’其被配置為，該角度量測輸出光線分量間於該角度位 移干涉儀以及偵測器1 2 9 4或是光纖讀取頭的光束剪變可以 被減小。如上所述，該相對光束剪變等於為/办’2 ，其中α 2表示平面鏡量測物於第1 2a圖平面的角度方位變化，丨2是 角度量測光束從該平面鏡量測物至極化光束分光器1281的 物理長度的變化，而A表示干涉儀中玻璃的折射率。該長 度b獨立於平面鏡量測物的直線位移。同樣的，第丨2 a圖 中的该角度位移干涉儀被配置為，不同的輸出光束分量在 玻璃中的路徑將會相同，其中，該角度位移干涉儀對其本 身的溫度變化不敏感。該角度位移干涉儀更被配置為，不 同的輸出光束分量在氣體中的路徑長度將會相等，其中該 角度位移干涉儀對環境中的空氣密度變化不敏感。

第1 2a圖中的實施例的優點在於，用於量測角度位移 的光束僅經過該平面鏡量測物一次。該角度位移干涉儀的 單一經過配置可減少光源的設置數，而防止週期性的非線 性的產生。然而，其亦可被設計為該量測光束以及該參 光束多次經過該平面鏡量測物。 第12a圖中的實施例的另一優點在於，該直 出光束以及該角度位移輸出光束在平面鏡量測物具有相别同

1277720 五、發明說明（43) 的量測光束路徑。此路徑對應於輸入光束112之分量，該 輸入光束112之分量由極化光束分光器所傳遞而成為主要 量測光束1291。 第12a圖中的實施例的另一優點在於，光束於平面鏡 量測物的位置’不會因為量測物的角度方位變化而剪變。 這是由於該角度量測輸出光束中的每一分量僅接觸該平面 鏡量測物一次。 該非極化光束分光器使用一面鏡以及該五角稜鏡（第 12c圖中的R)具有單一反射表面的影像反轉特性。利用非 極化光束分光器以及該五角稜鏡將反射光結合（第i 2c圖中 的R) ’亦會產生多重反射表面反射器（如第12e圖所顯示） 的影像反轉特性。第1 2e圖所示的反射器可以被換成反射 器R，其有一琢面可當作非極化光束分光器。 另一貫施例可包括返還光束組中的反射表面的結合， 以提供單一反射表面的影像反轉特性。一般而言，設置反 射表面反射主要光束的角度量測分量，如此入射光束以及 反射光束之間於每一個反射表面的角度總和為零，或是 3 6 0度的整數倍，其中，每個角度皆從入射光束被量到反 射光束，並為正值，以逆時鐘的方式量測，若以順時鐘的 方向量測則會得到一負值。在許多實施例中，具有奇數次 來自在一共同平面上具數條法線之表面的反射。 第13a、13b以及1 3c圖顯示本發明的另一種實施例。 該實施例相似於第12a圖的實施例，其包括一直線位移干 涉儀（例如HSPMI )以及一角度位移干涉儀。然而，在此 1277720 五、發明說明（44) 實施例中’直線位移干涉儀的量測光束平面以及角度位移 干涉儀的量測光束平面是相互正交的。第1 3a以及1 3b圖的 平面互相平行並彼此間距b3的距離，如第1 3c圖所顯示的。 第1 3 c圖描繪出該干涉儀從側面觀之的示意圖。該干涉儀 的許多元件與第1 2a圖中實施例的元件相應。 該第13a〜13c圖中的直線位移干涉儀為如第i2a圖中 的HSPMI。由該HSPMI的該參考光束以及該量測光束所定義 的平面位於第13a圖的平面上。 此實施例（第1 3 a〜1 3 c圖）中角位移干涉儀之操作與 第12a圖之實施例相同，產生一中介光束1290。該中介光 束之後續操作中，非極化光束分光器1 386取代光束分光器 1286，而五角稜鏡1388取代五角稜鏡1288。同樣地，極化 光束分光器1381取代極化光束分光器1281。 參照第13a〜13c圖，光束***器1 386接受中介光束 1290，並將其一部份自第13a圖的平面反射，於此其被五 角稜鏡1 3 8 8，經過半波阻滯板1 3 8 9，反射回第1 3 b圖平面 的極化光束分光器1381，成為光束1394。在第i2a圖的實 施例中，該半波阻滯板將光束1 394的分量的線性偏振旋轉 90度。 光束1394對應於角度量測輸出光束1373之該等分量其 中之一，而且該極化光束分光器將其一第一部份反射向該 平面鏡量測物以定義另一次要量測光束1 3 9 7，並將其一第 二部份傳遞至該平面鏡參考物以定義一次要參考光束 1398。光束1397及1398分別從其平面鏡反射，二次通過個

1057-5464-PF(Nl).ptd 第48頁 1277720 五、發明說明（45) ' ----- 别之四刀之波阻滯板，並由極化光束分光器做再合併以 輸出光束1373。特別地，藉由半波阻滯板 、 疋轉作用’該次要量測光束1 397係得自主要參 2束1 392，而該次要參考光束1 398係得自主要量測光束 ’角度量測輸出光束1 373之一第一分量产一丘 ;路徑接觸於該量測物-次當作主要量測光束的一；份;; ;接觸於參考物-次當作次要參考光束1398的一部：角 ΪΐΐΪΐί束1 373之一第二分量接觸於該參考物當作主 觸；量測物一：ΪΠ:與該共同路徑相異之一路竟接 測輸出光走之=§ 束1 397的一部份。角度量 新π /里測與參考分量的垂直極化係由極化器1 376 此:，而彳于出之光束的強度係由感測器1 3 7 7所量測。 & & ΐ角度位移干涉儀，當平面鏡量測物於第1 3b圖平面 、^ :方位轉動θ3時，於角度量測輸出光束1 373的分量之 θ Μ ^ I &相對相位移…。相對相位移…以及角度變化 以3的關係如下： ^3 = k3n3b3 θ3 ⑺ Μ ^中14是參考光束以及量測光束之間的距離（參照第 代二tk3 = 2 “ λ3 ’ λ3代表輪人光束112的波長，n3 代表f:光束以及量測光束路徑中的氣體折射率。 _光束光點於平面鏡量測物的位置配置如第13d圖所顯 不的:第13a〜13c圖的實施例具有如上所述的優點。 第1 4a圖代表本發明的另—實施例。此實施例相較於 第12a圖的實施例更增加了一補償元件以，以及一半波阻

l〇57-5464.PF(Nl).ptd 第49頁 1277720 五、發明說明（46) 濟Ϊ1山48丄9，該半波阻滞板1489在補償元件U先接受距離量 例並具有相同之參考^儀之許夕兀件與第㈣之實施 移干：ί ΐ 了要進一步減少或是去除該角度位 移干涉儀的輸出光束中之’該參考分量以及該量測分量之 間的相對光束剪變。該角度位蔣+ + 、 日 不力夂^月度位移干涉儀的光束在玻璃中或 的路徑長度維持相等。該補償元件使該角度量 ^輸出先束的，等光束分量，從其接觸到該量測物至其被 =化光束分光器結合以產生—角度量測輸出光束的過程 中，其經過相等的路徑長度H任何因為角度量測光 束從該量測物的非垂直反射所造成的橫向位移，對該角度 量測輸出光束的兩個分量而言是相等的。 元件C1的二個貫施例如第i4c、I4d以及14e圖所顯示 的。忒第14c、14d以及14e圖的平面正交於第Ha圖的平 ^。該角度位移干涉儀的輸出光束的光束分量的不同路徑 等於丨2 ，而元件C1中的氣體的折射率等於吣。因此，該角 度位移干涉儀的輸出光束的量測光束分量以及參考光束分 量之間，沒有相對切變，無論是在干涉儀組或是在偵測 器，或是在光纖讀取頭（F0P)。 第14c圖顯示了元件C1的實施例，其包括兩個極化光 束分光器PBS6以及PBS7，連接於一回溯反射器RR41。 第1 4 d圖顯示了元件C1的實施例，其包括一個極化光 束分光器PBS8，以及兩個回溯反射器rr42、RR43。 第1 4 e圖顯示了元件C1的實施例，其包括一個極化光

1057-5464-PF(Nl).ptd 第50頁 1277720 五、發明說明（47) 束分光器PBS9，連接於兩個鏡M1、M2，以及1/4波長極化 片QW1以及QW2。 由從該角度位移干涉儀經過元件C1的輸出光束，所產 生的參考光束以及量測光束在玻璃中的路徑的不平衡，可 藉由輸入光束的參考光束分量以及量測光束分量在經過元 件C1時的光學路徑長度的不同予以補償。第14a圖中的半 波片將相應光束的偏振旋轉9 〇度，藉此輸入光束以及輸出 光束經過元件C1的通道在玻璃中具有相同的路徑。 除了能利用補償元件C1更降低微分切變，第1 4a圖中 的實施例亦具有如上所述的優點。 在更進一步的實施例中，一個或多個補償元件可以不 同於第14a圖的方法被應用。例如，補償元件C2以及C3可 以如第1 4 b圖的方式設置。在更進一步的實施例中，一個 或多個補償元件可以如第1 3a至1 3c圖實施例的類似方式設 置’以更進一步的降低或是去除角度量測輸出光束分量間 的切變。 本發明干涉儀的另一實施例如第1 5a至1 5c圖所顯示 的，其結合了第13a至13c圖以及第14a圖中實施例的元 件，以產生距離量測輸出光束1 272以及角度量測輸出光束 1 2 73以及1 373。該等角度量測輸出光束量測平面鏡量測物 相對於兩個互相垂直的旋轉軸的角度方位變化。為了產生 該第三輸出光束，返還光束總成1 5 8 5包括非極化光束分光 器1 286與1 386以及五角稜鏡1 288以及1 388。該實施例亦包 括補償元件C5以更進一步的降低角度量測輸出光束分量

1057-5464-PF(Nl).ptd 第51頁 1277720 五、發明說明（48) 1 2 7 3以及1 3 7 3之間的微分切變。 第15a圖顯示該干涉儀於距離量測輸出光束1 272，角 ^ ϊ測輸出光束1 2 7 3以及該用來產生該等輸出光束的分量 光束的平面的示意圖。第1 5b圖顯示該干涉儀的側視圖， 包括光束1 394，其被***以產生該等第二光束，用以產生 第二角度量測輸出光束，輸出光束1373。第15c圖顯示該 干涉儀在另一較低的平面上並與第丨5c圖之干涉儀平行的 另一側視圖。 五角稜鏡1 288的尺寸相應於五角稜鏡1 388的尺寸，因 此該光束剪變的比率與相應的該平面鏡量測物的角度位 移’對於該等角度位移干涉儀的該等輸出光束分量是相等 的。因此，一單一補償器C5(參照第15c圖）可被用於直線 位移干涉儀以及角度位移干涉儀。該單一補償器c 5，參照 第15c圖，包括極化光束分光sPBS11以及PBS12，以及回 溯反射器RR51。 光束光點於平面鏡量測物的位置如第丨5d圖所顯示 的。除了更進一步的藉由補償元件C5降低微分切變，第 15a至15c圖中的實施例亦具有上述的種種優點。 第6圖為一干涉儀系統之示意圖，其中平面鏡量測件 9 2的直線以及角度位移均可被量測。如第6圖所顯示的， 該干涉儀系統包括一干涉儀1 4，其可以為上述之任何一種 干涉儀，以及一動態光束操控元件，其控制輸入光束丨2 至干涉儀1 4的方向。 ' 改變輸入光束12的目的在於去除或是減少干涉儀“的

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五、發明說明（49) J:光束的電子干涉訊號的非週期性誤差。非週期性 變消除是藉由消除在干涉儀14以及偵測器？〇中的光束剪 該干涉儀系統更包括光源10 ’其產生光束112，偵測 =，Γι:?制器94 ’換能器96，以及電子處理器以及電 ，90。利用母—種干涉儀的種類，接觸鏡 輸出光束從干涉儀14射至㈣ :^60。光束112的種類與第1圖中的光束12相同。 光束刼控兀件98的旋轉由換能器96控 9由6::”。傳遞，並以-零度的入射角入射 == 議的飼服控制訊細控制。飼服控制訊： ，由電子處理器以及電腦9 〇所產生的伺服訊號8 2中得 -回可以為一或兩種模*。-種模式為 口饋杈式，其中该動態元件98的旋轉根 :第例；束至鏡92與零度之間的角度：差量。 的棘動# π 兮θ ^式八中控制訊號82根據於鏡92 的轉動變化。該1測角度可以完全依據 例如，干涉儀14所量測到的鏡92的轉動^化口據於’ 專利=2系二包6括31fQ光束操控元件，亦被討論於美國 : ; 8號專利以及6,271，923號專利 tlon wooo/669 69 -^t^,^ 量測光束於路徑20的方向精確度需要被維持，而不同

1057-5464-PF(Nl).ptd 第53頁 1277720 五、發明說明（50) 於鏡92的角度轉叙士 , ^ 偾銘燧作一批炎動大小。該干涉儀系統14所量測到的直線 ^ aa a 先束挺控兀件於一正交於鏡92反射表 斤定義的一點的位移變化。量測光束從該正交 線’於方向上偏移ε所產生的誤差可以為(卜CO# & 二A fn-f 1PPb以及誤差〇. lpPb為例’其相應的£可 οηι ^^沾1曰以及^1.0 x 10-5。一般θ的範圍可以為〇. 級’其中0為該鏡92的反射表面相對於該 微衫工具度置系統的固定參考結構的轉動。因此，ε相對 於Θ的所需要的精確度為3.2%以及1.0%。本發明的此特 徵降低了動I、光束操控元件的控制系統的性能需求。這對 於前饋系統而言是很重要的。 降低對ε的準確度的需求的另一結果為，前饋或是回 饋控制糸統的準確性可以簡單的在原處決定。一個校正控 制系統的程序的例子為掃瞄鏡92在固定的轉動後，其光束 操控元件，方位，並檢測當ε =〇時，在鏡92於固定轉動下 的位置丄藉由監測該外差或是電子干涉訊號的大小。 將從正交直線位移至該微影工具度量系統的固定參考 結構之間的量測變化的轉換因數為c〇s2 0。一般0的範圍 為0· 001徑度的數量級。因此，對於轉換因數的ippb以及 0 · 1 ppb ’ =的向應誤差需為$ 5 x 1 〇-7以及$ 5 X 1 0-8。得到 在<9中的=貝^所需要運用的轉換因數，是從直線位移量 的變化中得到。 ' 第7圖係顯不一干涉儀系統，其平面鏡量測件9 2的直 線以及角度位移可被量測及監控。如第7圖所顯示的，該

l〇57-5464-PF(Nl).ptd 第54頁 1277720 五、發明說明（51) 干涉儀系統包括 控制輸入光束1 2 器7 0的方向。 改變輸入光 涉儀14的輸出光 期性誤差的消除 光束剪變，以及 該干涉儀系 器7 〇，伺服控制 腦9 0。利用每一 著一光學路徑2〇 沿光學路徑6 〇。 光束操控元 由路徑2 0傳遞， 9 6由伺服控制器 8 6從由電子處理 到0 干涉儀1 4以及一動態光束操控元件，以 至干涉儀14的方向以及輸出光束6〇至偵測 是為了消除干 性誤差。非週 偵測器7 0中的 角度變化。 束112，偵測 處理器以及電 的干涉光束沿 至偵測器70， 光束1 2相同。 ，使量測光束 鏡92。換能器 伺服控制訊號 訊號82中得 束12以及輸出光束60的方向 束的電子干涉訊號的非週期 疋藉由消除在干涉儀1 4以及 去除偵測器70的入射光束的 統更包括光源1 〇，其產生光 态9 4 ’換能器g 6，以及電子 種干涉儀的種類，接觸鏡92 ’而輸出光束從干涉儀14射 光束112的種類與第1圖中的 件98的旋轉由換能器96控制 並以一零度的入射角入射至 94的伺服控制訊號86控制。 以及電腦9 〇所產生的伺服 差 態 第7圖中的該干涉儀系統 ε以及轉換因數與第6圖中 光束操控系統相同。 以及動態光束操控系統，誤 相應的§亥干涉儀系統以及動 在上述的干涉儀系統中 干涉儀組。該平面鏡參考件 份’例如在一微分平面鏡干 涉儀可包括額外的光懸儀器 ，該平面鏡參考件可整合於該 可以為一第二量測件的一部 /y儀中在此貫施例中，該干 ，用以將光束耦合至該第二量

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測件上的參考鏡。 上述的干涉系統提供高精度的量測。此系統特別有用 於微影上的應用，用以製作大尺寸的積體電路，例如電腦 晶片。微影為半導體製造工業的關鍵技術。疊置改進是將 線寬降到100四以下的重要挑戰，參照Semic〇nduct〇r ’ Industry Roadmap, p82(1997) 〇 疊置直接相關於，例如，將晶圓以及光罩平台定位 距離量測干涉儀的精度。由於一微影工具一年可產生 $50- 1 00M的產值，改善距離量測干涉儀的經濟價值是很巨 大的。在微影工具上每1%的改善可產生約為$1M的經^效 益於積體電路的製造以及微影工具的銷售。 微影工具的功能在於引導光罩圖案至一塗佈有光阻 晶圓。該製程包括決定晶圓的位置以及將輻射線 照設於光阻之上（曝光）。 曰ηίΐ要！確的設置該晶圓，1亥晶圓包括對位記號於該 被專用的感測器量測。該對位記號的量測 ，疋義了晶圓在該工具中的位置。此資訊，校曰 圓與該圖案輻射線的位置。根據此資訊，‘： ==動平台，移動該晶圓，使該輕射線可J = 射於該晶圓之上。 “、、 當在曝光過程-放射光源照射一具有圖案 其：射該輻射線以產生該具有圖案的輻射線。該分割 =以為一光罩，以下這兩個名詞可以互換。在縮小微影 、’月況下，一縮小透鏡蒐集該散射的輻射線，並形成—^

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輻射線經過了一短距離 以產生-的1:1的影 反應，並將圖案轉印至 件，其可控制該晶圓以 紀錄在該晶圓之上。如 可最小化距離量測的週 :照射系統以及一晶圓 光源，用以提供輻射 ，電子束或是離子束， 该幸δ射線圖案，因此產 縮小微影，該照射系統 案的輻射線印至該晶圓 晶圓上的光阻之上。該 支樓該光罩，以及一定 於該輻射線的位置。該 以承放該晶圓以及一定 於該具有圖案之轄射線 數個曝光步驟。可參考 in Microlithography: Dekker， Inc, New 的量測該晶圓平台以及 1277720 五、發明說明（53) 小的影像。在近接轉印中，該散射 (一般為微米等級），接觸該晶圓， 像。該放射開始了該光阻中的化學 該光阻中。 干涉糸統為定位機構的重要元 及分劃板的位置，並將該縮小影像 果該干涉系統包括上述的特徵，則 期性誤差而提高精度。 一般而言，該微影系統，包括 定位系統。該照射系統包括一放射 線，例如紫外線，可見光，X射線， 以及一分劃板或是光罩，用以賦予 生具有圖案的輻射線。此外，對於 可包括一透鏡組，用以將該具有圖 上。該具有圖案的輻射線照設於該 照射系統亦包括一光罩平台，用以 位系統，用以調整該光罩平台相對 晶圓定位系統包括一晶圓平台，用 位系統，用以調整該晶圓平台相對 的位置。積體電路的製造可包括複 J. R. Sheats and B. W, Smith, Science and TechnologyCMarcel York, 1998) ° 上述的干涉系統可被用於準確

1057-5464-PF(Nl).ptd 第57頁 括例如，壓電換能裔元件以及相應的電子零件。雖然其 未被包含於上述的實施例，上述的干涉系統可以被用於準 確的量測該光罩平台的位置，或其他需準確定位的可動元 件supra Sheats and Smith Microlithography： 1277720 五、發明說明（54) 該光革平台相對於曝光系統的其他元件的位置，例如透鏡 組’放射光源，或是承載結構。在每一個例子中，該干涉 系統可以被設於一靜態結構，而該量測件可被設於一可動 元件’例如光罩或是晶圓平台。該情況也可以轉換為，該 干涉系統設於一可動元件而該量測件設於一靜態件。 更一般而言，該干涉系統可以被用於量測曝光系統的 任何元件相對於其他任何元件的位置。 用於一干涉系統826的一個微影掃描器8〇〇的例子，如 第8 a圖所顯示的。該干涉系統用於準確的量測一曝光系統 中的晶圓位置。在此，平台822用於承載與定位該晶圓。 掃描器800包括一框架802，其承受其他的支撐結構以及在 这些結構上的各種元件。一曝光基礎8 〇 4其上方設有一透 鏡外殼8 0 6，其設有一分劃板或是光罩平台8丨6，用以支撐 該分劃板或是該光罩。一定位系統用以定位該光罩相對於 該曝光設備的位置，由元件817表示。定位系統817可包 S -C i 6 n c e and Technology ) 〇 懸掛於曝光基礎804之下的為支撐基礎813，其承載晶 圓平台822。平台822包括一平面鏡8 28，用以反射被干涉 系統826引導至平台的一量測光束8 54。一用以定位平台 822的疋位系統，以元件819表示。定位系統819可包括，

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五、發明說明（55) 例如，壓電換能器元件以及相應的控制電子零件。該f _ 光束反射回該干涉系統，其設於曝光基礎804之上。該干' 涉系統可以為上述之任一實施例。 在操作上，該放射光束8 1 0，例如紫外光，經過—光 束形成光學組8 1 2並在經鏡8 1 4反射後向下傳遞。因此，兮 放射光束經過一由光罩平台8 1 6承放的光罩（未圖示）。 光罩經過一透鏡組808反映與晶圓平台822上的一晶圓（^ 圖示）之上。基礎804以及其所支撐的各種元件利用彈菁 8 2 0而獨立於環境的震動。 ’

該微影掃描器的另一實施例’先前描述的干涉系統可 被用於沿多軸量測距離以及角度，但並不僅限於，該晶圓 或是該分劃板（或該光罩）平台。同樣的，除了紫外光束之 外，可使用其他的光束例如X光，電子束，離子束以及可 見光。

在一些實施例中，該干涉系統826引導該參考光束（未 圖示）沿一外參考路徑，接觸設於一些結構上的一參考鏡 (未圖示）以引導該放射光束，例如透鏡外殼8〇 6。該參考 鏡反射該參考光束回至該干涉系統。該干涉系統826結合 量測光束854以及參考光束產生干涉訊號，表示該平台相 對於該放射光束的位移。此外，在其他實施例中，該干涉 系統826可以用於量測分劃板或是光罩平台816的位置變 化，或是該掃瞄系統的其他可動元件的位置變 <匕。最後， 該干涉系統可用於相似的微影系統，其可包括步進機或是

1277720 五、發明說明（56) — 微影為製作半導體裝置方法中的一困難的部分。例 如，美國專利5，4 8 3，3 4 3號專利概述了此製造步驟。這此 步驟在此利用第8b圖以及第8c圖描述。該8b圖為一半導體 裝置的製造流程圖，如一半導體晶片，一液晶面板或是電 荷耦合器。步驟85 1為一設計的製程，用以設計該半導體 裝置的電路。步驟852為一製造光罩於該電路圖案設計的 基礎上的製程。步驟8 5 3為利用如矽等材料製作晶圓的製 程0 、 步驟為一晶圓製程，稱為前處理，使用預先準備 好的光罩及晶圓，電路經由微影形成於晶圓之上。為了 成足夠精度的電路於晶圓之上，該微影工具相對於該晶圓 的干涉定位是必須的。在此描述的該干涉方法 別有利於改善微影的效果。 及糸4*特 54步ΛΊ:組合步驟，其稱為後處理，其中經過步 = 854處理後的该晶圓形成為半導體晶片。此 ^以及封裝。步驟856為—檢查步驟，其中可操作且 驗’耐久性檢驗’以及其他半導置由 =題:，經由這些製程，半導體裝置可以完成= 氣相沈積製程，用以乂门曰曰圓表面。步驟862為-化學 _為-電極形成二用圓表面形成一層絕緣[步驟 成電極。步驟864 Γ:離：Γ:蒸鍵的方式在晶圓上形 4為離子植入製程，用以將離子植入晶

1277720

五、發明說明（57) 圓❹步驟8 6 5為一光阻製程，用以施加一光阻於晶圓之 上❶步驟866為一曝光製程，利用曝光，將光罩上的電路 圖案利用上述的曝光裝置轉印圖案。再一次的，如上所 述，使用此干涉系統及方法可改善微影步驟的精度。 步驟8 6 7為一顯影步驟，用以對該晶圓進行顯影。步 驟868為一蝕刻步驟，用以移除經顯影光阻影像的其他部 分。步驟869為一光阻剝離製程，用以去除殘留於^圓的 光阻材料。藉由重複此製程，電路圖案形成並疊印於該晶 圓之上。 該干涉系統可用於其他的應用，當物件之間的相對位 置需要準確量測的情況。例如，在直寫光束為雷射，χ 光，離子束或是電子束，將圖案標示於一基板，該干涉系 統可被用於里測δ亥基板以及該直寫光束的相對運動。’' 例如，一光束直寫系統9〇〇的示意圖如第9圖所顯示 的。一光源910產生一直寫光束912，以及一光束聚焦組合 914，引導該放射光束至一基板916，其由可動平台918所" 支撐。為了要決定該平台的相對位置，該干涉系統92〇引 導一參考光束922至一鏡924，並引導一量測光束926至一 鏡9 28。由於該參考光束接觸設於該光束聚焦組合的一鏡 上，該光束直寫系統為一使用陣列參考的例子。干涉系統 920可以為任一上述的干涉系統。由該干涉系統所量測到 的位置變化相應於直寫光束912以及基板916的相對位置變 化。干涉系統9 2 0傳送一量測訊號9 3 2至控制器9 3 〇，其指 引了直寫光束9 1 2以及基板9丨6之間的相對位置。控制器

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1277720 1 ........ ι·_ 五、發明說明（58) =傳^7輸出訊號934至一基礎936，其支撐並定位平台 918 〇此外，控制器93〇傳送一 寫光束912的強度，以使該直寫豹=從以化直 基板。 且馬光束以足夠的強度接觸該 此外’在一些實施例中， 9“於該基板的一個區域掃聪該；制寫：了：光束聚焦組 號944。因此，控制哭93〇引1 έ ”、、 σ，使用吼 至兮其柘# μ e 引導系統的其他元件以將圖荦印

至忒基板。该轉印圖案的動作 竹α系P 子設計圖案。在_些應 =存於控制器中的電 阻該基板上的—光阻，或利用束將圖案印至-光 板。 Λ直寫光束直接餘刻該基 此系統的一重要應用為 為了製造一微影光罩，一 ^先罩以及劃分板。例如， 基板。在此例子中，其中♦ 可被用於轉印圖案至一鉻 直寫系統將該電子束路徑束為—電子束，該光束 直寫光束是，例如，一電:::、空之中。同樣的，當該 包括電子場產生器，例如 或是離子束，該光束聚焦組 子至該基板。該直寫光束=f鏡用以聚焦、並弓丨導該粒 外線，或是可見光，該例如，x光，紫 用以聚焦並引導該輻射線 I、、且匕括相應的光學元件， 雖然本發明已於較#徐=基板。 限定本發明，任何熟習此；：=露如上，然其並非用以 神和範圍内，仍可作些 ' 二、’在不脫離本發明之精 濩範圍當視後附之申請利A人/閏飾，因此本發明之保 J粑圍所界定者為準 1057-5464-PF(Nl).ptd 第62頁 1277720 圖式簡單說明 第1圖為一干涉儀系統的示意圖。 第2a圖為一多軸干涉儀之第一實施例的立體圖。 第2b圖表示該量測光束在該第一實施例中之相對位 第3a圖為一多軸干涉儀之第二實施例的立體圖。 第3 b圖表示該量測光束在該第二實施例中之相對位 置。 第4a圖為一多軸干涉儀之第三實施例的立體圖。 第4b圖表示該量測光束在該第三實施例中之相對位 置。 第5a圖為一多軸干涉儀之第四實施例的立體圖。 第5b圖表示該量測光束在該第四實施例中之相對位 置。 第6圖為一干涉儀系統之示意圖，該干涉儀系統包括 動態光操縱元件用以引導一輸入光束進入該干涉儀。 第7圖為一干涉儀系統之示意圖，該干涉儀系統包括 動態光束操縱元件用以引導一輸入光束進入該干涉儀並引 導一或多到輸出光束離開該干涉儀。 第8a圖為一用來製造積體電路之微影系統的示意圖。 第8b-8c圖為流程圖，用來說明製造積體電路之步 第9圖為一光束刻寫系統之示意圖。 第1 0圖為第3a圖所示之第二實施例之另一立體圖。 第11圖為該干涉儀整合如第1 0圖之干涉儀之另一實施

1057-5464-PF(Nl).ptd 第63頁 1277720 圖式簡單說明 例的立體圖。 第1 2a圖為一干涉儀系統之另一實施例之平面圖。 第1 2b圖為該干涉儀距離量測部分之平面圖。 第1 2c圖為該干涉儀角度量測部分之平面圖。 第1 2d圖為描繪光點在平面鏡量測物上的分佈圖。 第1 2e圖為一元件可用於另一干涉儀系統之示意圖。 第13a、13b、13c圖為該干涉儀系統之另一實施例之 平面圖， 第13a圖為該干涉儀系統之一第一平面的平面圖； 第13b圖為該干涉儀系統之一第二平面的平面圖； 第1 3c圖為該干涉儀系統之一第三平面的平面圖；以 及 第1 3d圖為描繪光點在該干涉儀系統之平面鏡量測物 上的分佈圖。 第14a圖及第14b圖為包含一或多個補償元件之干涉儀 系統的額外實施例之平面圖。 第14c圖、第14d圖以及第14e圖為不同形式之補償元 件之示意圖。 第15a、15b以及15c圖為一干涉儀系統之另一額外實 施例的平面圖； 第1 5a圖為該干涉儀系統之一第一平面的平面圖； 第1 5b圖為該干涉儀系統之一第二平面的平面圖； 第1 5 c圖為該干涉儀系統之一第三平面的平面圖；以 及

1057-5464-PF(Nl).ptd 第64頁 1277720 圖式簡單說明 第1 5d圖為描繪光點在該干涉儀系統之平面鏡量測物 上的分佈圖。 相同之參考標號在不同的圖式中代表相同的元件。 符號說明 10 - v光源； 1 2〜 輸入光束； 14， -干涉儀； 20〜 光路； 6 0〜光路； 70〜 感測器； 8 0〜訊號； 82〜 伺服訊號； 86， “伺服控制訊號； 9 0〜 電子處理器及電腦； 92， -面鏡； 94〜 伺服控制器； 9 6^ v換能器； 9 8〜 動態元件； 110 〜光源； 112〜光束； 114 〜平面鏡干涉儀； 122 、1 24及126〜量測光 130 〜極化光束分光器介面 132 〜四分之一波長相位阻滯板； 134 〜四分之一波長相位阻滯板； 140 〜光束； 142 - ^光束； 144 〜光束； 146 - -光束； 150 〜回溯反射器； 152 〜非極化光束分光器介面； 154 〜棱鏡； 160〜輸出光束； 162 〜輸出光束； 1 9 4〜平面鏡； 214 〜干涉儀； 222、224、226以及228〜量測光束；

1057-5464-PF(Nl).ptd 第65頁 1277720 圖式簡單說明 230〜極化光束分光 232〜四分之一波長 233〜背板； 244〜光束； 248〜光束； 252〜光束分光器介 2 5 4〜棱鏡； 260〜光束； 264〜光束； 322 、 324 、 326 〜量 330〜光束分光器介 358〜光束分光器介 3 5 9〜稜鏡； 4 1 2〜輸入光束； 422 、 424 ' 426 〜量 430〜光束分光器介 458〜光束分光器介 4 5 9〜稜鏡； 8 0 0〜微影掃描器； 80彳〜曝光基礎； 8 0 8〜透鏡組； 8 1 2〜光學組； 8 1 4〜鏡； 8 1 7〜定位系統； 介面； 板； 240〜光束； 246〜光束； 2 5 0〜回溯反射鏡； 面； 2 5 6〜棱鏡； 2 6 2〜光束； 312〜輸入光束； 測光束； 面； 面； 360、3 62〜輸出光束； 4 1 4〜干涉儀； 測光束； 面； 面； 460、4 62〜輸出光束； 8 0 2〜框架； 8 0 6〜透鏡外殼； 8 1 0〜放射光束； 8 1 3〜支撐基礎； 816〜光罩平台； 8 1 9〜定位系統；

1057-5464-PF(Nl).ptd 第66頁 1277720 圖式簡單說明 822〜 平台； 8 2 6〜干涉系統； 828〜 平面鏡； 854 - -量測光束； 851 ^ 852.···、857 〜 步驟； 861 ' 862····、869 〜 步驟； 9 0 0〜 光束直寫系統 ;910， i光源； 912〜 直寫光束； 914〜光束聚焦組合； 916〜 基板； 918， v可動平台； 920〜 干涉系統； 922， -參考光束； 924〜 鏡， 926， -量測光束； 928〜 JbiL. · 鏡， 9 3 0〜控制器； 932〜 量測訊號； 934〜輸出訊號； 936〜 基礎； 938〜訊號； 944〜 訊號； 1101 〜輸入光束； 1102' 〜光束分光器總成； 1 1 0 3〜非極化分光器總成； 1104 、1105〜次要輸入光束 1107, ^極化汽漏過濾、器； 1224 、2224 、 1226 、 2226 〜 量測光束； 1 2 3 2〜相位阻滯板； 1242 〜光束； 1 244 产 〜光束； 1246 〜光束； 1 2 5 0〜立方角回溯反射器； 1252〜光束分光器介面；

1057-5464-PF(Nl).ptd 第67頁 1277720 圖式簡單說明 1254〜反射介面； 1256〜介面； 1264、1266、2264、2266 〜輸出光束； 1 2 5 0 ’〜第二回溯反射器； 1 254,〜平面鏡； 1 266’ 、2264’ 、2266’ 〜輸出光束； 1 272〜第一輸出光束； 1273〜輸出光束； 1274〜極化器； 1 275〜感測器； 1 280〜平面鏡量測物； 1281〜極化光束分光器； 1 2 8 2〜四分之一波阻滯板； 1283〜平面鏡參考物；1284〜四分之一波阻滯板； 1 2 8 5〜返回光束總成；1 2 8 6〜非極化光束分光器； 1 287〜回溯反射器； 1 288〜五稜鏡； 1 2 8 9〜半波阻滯板； 1 2 9 0〜中介光束； 1291、1 292 〜光束； 1 293、1 294 〜光束； 1 2 9 5〜次要量測光束；1 2 9 6〜次要參考光束； 1 2 9 7〜次要量測光束；1 2 9 8〜次要參考光束； 1 3 1 2〜輸入光束； 1 322、1 324、1 32 6〜量測光束； 1350〜回溯反射器； 1364〜輸出光束； 1 373〜角度量測輸出光束； 1 3 7 6〜極化器； 1 3 7 7〜感測器； 1 3 8 1〜極化光束分光器； 1 386〜非極化光束分光器；

1057-5464-PF(Nl).ptd 第68頁 1277720

1388〜五角稜鏡； 1 3 9 1〜主要量測光束 1 394〜光束； 1 3 9 8〜次要參考光束 1460、1462〜輸出光束； 1422 、 1424 以、1426 1 3 8 9〜半波阻滯板； ;1 392〜主要參考光束 1 397〜次要量測光束 ;1 41 2〜輪入光束； 〜量測光束； 1 489〜半波阻滯板； 2244、2246 〜光束； 2 2 5 2，〜非極化分光器 1 5 8 5〜返還光束總成 2 2 5 2〜介面； 介面； 2264〜光束； 2266〜輸出光束； 3252〜介面； Cl、C2、C3、C5〜補償元件 Μ1、M2〜面鏡； PBS6、PBS7、PBS8、PBS9、PBS11、PBS12 〜極化光束 分光器； QW1、QW2〜1/4波長極化片； RR41、RR51〜回溯反射器。

Claims (1)

1. I277720 人 -----塞说 92101675 、"申請專利範圍 1 一種多軸干涉儀 一多軸干涉儀，沿 相對位置; 勹其中該干涉儀係設 I括該量測物相對於一 _ 其中每一輸出光束 碼該量測物至少一次； 其中該等光束分量 目異之一第一路徑與該 2 ·如申請專利範圍 上述之沿該共同路徑 二束更包括一第二光束 接觸。 3 ·如申請專利範圍 中該等自由度其中之一 離。 曰 修正 裝置，包括： 多重自由度來量測一 j反射I測物之 f以產生多道輪出光束，每一光束 ，異之自由度的相對位置；而且 匕括光束分量沿一共同的路徑接 而且 至少其中之一，更沿盥該共同路徑 量測物做第二次接觸。 第1項所述之多軸干涉儀裝置，其 與該第一路徑與量測物接觸之輸出 分量，該第二光束分量未與量測物 第1項所述之多軸干涉儀裝置，其 係沿一第一量測軸至該量測物的距 t上、;申請專利範圍第3項所述之多軸干涉儀裝置，其 資訊ϊϋ含有關於沿該第一量測轴至該量測物之距離之 於眚钔=光束，包括沿該共同路徑以及該第一路徑接觸 、里測物之該光束分量。 5哲如申請專利範圍第4項所述之多轴干涉儀裝置，其 里測軸係由該共同路徑與該第一路徑所定義。 6·如申請專利範圍第5項所述之多軸干涉儀裝置，其 ι第一量測轴上之每一點至該共同路徑及該第一路租上

   第70頁 I277720 、1、銮號 92101675 X 8 -修正 六、申請^ ^ 之詞·應點係等距離。 7·如申請專利範圍第4項所述之多軸干涉儀裝置，其 中另一光束分量更沿與該共同路徑相異之一第二路徑接觸 於該量測物。 ^ 8 ·如申請專利範圍第7項戶斤述之多軸干涉儀裝置，其 中上述之沿該共同路徑以及該第二路徑接觸於該量測物的 輪出光束包括有關於沿一第二量測軸至該量測物之距離的 資訊，該第二量測軸係由該共同路徑及該第二路徑所定 義並相異於該第一量測轴。 9·如申請專利範圍第8項所述之多軸干涉儀裝置，其 中一第三光束分量更沿一相異於該共同路徑之第三路徑， 至> 第二次接觸於該量測物。 中1 0 ·如申請專利範圍第9項所述之多軸干涉儀裝置，其 於上述之沿該共同路徑以及該第三路徑接觸於該量測物的 ^出光束包括有關於沿一第三量測軸至該量測物之距離的 =訊、，該第三量測軸係由該共同路徑及該第三路徑所定 ，並相異於該第一及第二量測軸。 斯r靖辱利範圍第丨〇項所述之多 ί tΪ第丨一f第二量測軸定義出一第一平面，而該第二 一里/貝丨軸疋義出相異於該第〆平面之—第二平面。 由1 2 ·如申請專利範圍第4項所述之多軸干儀 :該輪出光束包括該量測物相對於-=轉 13·如申請專利範圍第1 2項所述之多輛干涉儀裝置 1277720 _____案號 92101675 车 ^^-_ 修正 ---一 六、申請專利範圍 其中該第二輸出光束包括該沿該共同路徑接觸於量測物的 光束分量，以及與另一與該第，光束分量相異之光束分 量，其中該另一光束分量沿與該共同路徑相異之一第二路 徑接觸於該量測物。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該第一路徑與該第二路徑相異。 15·如申請專利範圍第14項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該第一旋轉軸垂直於由共同路徑與該第二路徑所定義 之平面。 1 6 ·如申請專利範圍第1 3項所述之多軸干涉儀裝置， 其中一第二輸出光束包括有關於該量測物相對於與該第一 方疋轉轴相異之一第二旋轉軸的角度方位，其中該第三輸出 光束包括沿該共同路徑接觸於該量測物之該第一次提及之 光束分量，以及另一與該第一光束分量相異之另一光 量，其中該另一光束分量沿相異於該共同路徑之一二 徑接觸於該量測物。 乐二路 17·如申請專利範圍第16項所述之多軸干涉 其中該第二旋轉軸與該第一旋轉軸正交。 、置’ 1 8.如申請專利範圍第i項所述之多軸干井 中該多轴干涉儀產生至少四道輸出光束，二，裝置，其 包含該多重自由度其甲相異之一自由度之資訊輪出光束均 1 9 ·如申請專利範圍第j項所述之多轴干涞 中該多轴干涉儀提供有關於至少五個自由度裝置，其 20·如申請專利範圍第丨項所述之多軸干涉置，其

   1277720

   ___案號 92101 fi7!S 六、申請專利範圍 中該多軸干涉儀提供有關於至少七個自由度的資訊。 2 1 ·如申請專利範圍第1項所述之多軸干涉 中該量測物包括一平面鏡。 、置’其 22·如申請專利範圍第1項所述之多軸干涉儀裝置盆 中更包括一光源設置以引導一輸入光束進入多軸^涉儀，、 中，該輸入光束包括兩外差式頻率分光的分量，' 其中，每一沿該共同路徑接觸於該量測物的輸出光矣 係由輸入光束之分量其中之一得到；而且

   其中’母一輸出光束更包括一第二分量，由該輪入光 束之另一分量得到。 2 3 ·如申请專利範圍第2 2項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該输入光束之分量具有互相正交的極化。 24 ·如申請專利範圍第1項所述之多軸干涉儀裝置，其 中更包括感測器配置以接收輸出光束並產生電子訊號，該 電子訊说表示該1測物相關於不同自由度之相對位置的資 訊0 25 ·如申請專利範圍第2 4項所述之多軸干涉儀裝置， 其中更包括一極化分析器位於每一感測器之前，並配置以 通過對每一輸出光束之該等分量的一中介干涉極化。 26·如申請專利範圍第25項所述之多軸干涉儀裝置， 其中更包括一光纖讀取頭，用來耦合每一輸出光束至一對 應之感測器，在其經過對應之極化分析器之後。 27 ·如申請專利範圍第1項所述之裝置，該干涉儀設置 以引導得自一輸入光束之一第一光束沿該共同路徑接觸於

   1057-5464-PF2(Nl).ptc 第73 I 1277720 _ _案號92101675 车月日 铬g：^ 六、申請專利範圍 該量測物，並在接出該量測物之後，將該第一光束分成多 道K光束’其中’該等次光束對應於沿該共同路徑接觸於 該量測物之該輸出光束中的該等光束分量。 28·如申請專利範圍第27項所述之多轴干涉儀裝置， 其中該干涉儀設置以引導至少一次光束沿該第一路1接觸 於該量測物至少第二次，以定義沿該共同路徑及該第一路 徑接觸於該量測物之該光束分量。 29·如申請專利範圍第28項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該干涉儀係設置以從該輸入光束得到另一次光束，並 將接觸於該量測物至少兩次之該次光束合併至產生第一個 輸出光束之該次光束，其中該第一輸出光束包括關於沿由 該共同路徑與該第一路徑所定義之一量測軸至該量測物之 距離。 30. 如申請專利範圍第28項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該干涉儀係設置以引導至少另一次光束沿一第二路徑 至少第二次接觸於該量測物，該第二路徑相異於該共同路 徑及該第一路徑。 31. 如申請專利範圍第3〇項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該干涉儀係設置從該輸入光束得到另一組次光束，並 將接觸於該量測物至少兩次之每一次光束與該另一組次光 束中之一對應之次光束結合以產生一對應之輸出光束。 3 2.如申請專利範圍第28項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該干涉儀係設置從該輸入光束得到另一組次光束，並 將接觸於該量測物至少兩次之每一次光束與該另一組次光

   1057-5464-PF2(Nl).ptc 1277720 -— 案號flWfl1675_年月 日 條正__ 六、申請專利範圍 束中之一次光束結合以產生一輸出光束，並從該另-組次 光束中引導另一次光束沿與該共同路徑相異之一第二路徑 接觸於該量測物，並將沿該共同路徑接觸量測物之另一次 光束與沿該第二路徑接觸量測物之該次光束結合，而產生 另一輸出光束。 33·如申請專利範圍第27項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該干涉儀更設置以：i )將接觸該量測物後的該第一 光束與一主要參考光束結合以定義一中介光束；ii )將該 中介光束分成一組次要量測光束與一組次要參考光束； i i i )引導每一次要量測光束與該量測物接觸；i v )將接 觸該量測物後的每一次要量測光束與該一相對應之次要參 考光束再結合以產生一對應的輸出光束，其中每一次光束 對應於一相異之次要量測與參考光束。 34·如申請專利範圍第1項所述之多軸干涉儀裝置，其 中該干涉儀包括： 一共同之極化光束分光器，引導得自一入射輸入光束 的一主要量測光束沿一共同路徑與該量測物接觸；以及 一返回光束總成，接收包含來自該極化光束分光器之 主要量測光束的一中介光束，並將該中介光束分成多道光 束’再將該等多道光束引導回該極化光束分光器。 3 5 ·如申請專利範圍第3 4項所述之多軸干涉儀裝置’ 其中該極化光束分光器更設置用以引導得自該入射輸入， 束的一主要參考光束接觸一反射的參考物，其中該主要j 測光束與該主要參考光束對應於該入射的輸入光束的疋父

   1057-5464-PF2(Nl).ptc 第75頁 1277720 案號 92101675 B 修正 六、申請專利範圍 極化分量。 36·如申請專利範圍第34項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該極化光束分光器更設置用以將該主要量測光束與參 考光束在其分別接觸於該量測物與參考物之後做再結合以 形成該中介光束。 3 7 ·如申請專利範圍第3 6項所述之多轴干涉儀裝置’ 其中該極化光束分光器係設置以·· i )將該多道光束分成 一組次要量測光束以及一組次要參考光束；ii )引導每一 次要量測光束接觸於該量測物；i i i )引導每一次要參考 光束接觸於該參考物；以及i v )將每一次要量測光束與對 應之次要參考光束在分別與該量測物與參考物接觸後做再 結合，而形成一對應之輸出光束。 3 8 .如申請專利範圍第3 7項所述之多轴干涉儀裝置’ 其中該每一次要量測光束沿與該共同路徑相異之一路徑接 觸於該量測物。 3 9 ·如申請專利範圍第3 7項所述之多軸干涉儀裝置’ 其中該干涉儀更包括一參考物。 4 0 ·如申請專利範圍第3 9項所述之多轴干涉儀裝置， 其中該參考物包括一平面鏡。 41 ·如申請專利範圍第3 7項所述之多軸干涉儀裝置’ 其中該干涉儀更包括一量測四分之一波長阻滯器，位於該 該極化光束分光器與該量測物之間。 42 ·如申請專利範圍第4 1項所述之多轴干涉儀裝置， 其申該干涉儀更包括一參考四分之一波長阻滯器，位於該 1^· 1057-5464-PF2(Nl).ptc 第76頁 1277720 銮號 92101675 午月一g-ϋ_ 六、申請專利範圍 該極化光束分光器與該參考物之間。 43 .如申請專利範圍第3 4項所述之多轴干涉儀裝置， 其中該返回光束總成包括至少一組曲折光學系以及至少一 非極化光束分光器將該中介光束分成多到光束。 4 4 .如申請專利範圍第4 3項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該至少一組曲折光學系包括一回溯反射器設置優先於 任何非極化光束分光器以接收中介光束。 45·如申請專利範圍第44項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該返回光束總成更包括一光束分光總成，該光束分光 總成包含至少一非極化光束分光器，其中該光束分光總成 接收來自該回溯反射器的該中介光束，產生多道光束，並 將多道光束沿著平行於該中介光束的方向導回該極化光束 分光器。 46·如申請專利範圍第45項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該光束分光總成包括多個非極化光束分光器。 4 7 ·如申請專利範圍第4 6項所述之多轴干涉儀裝置， 其中該返回光束總成更包括一阻滯板，設於該回溯反射器 與該光束分光總成之間，其中該阻滯板的方位係用以降低 由該回溯反射器所造成的該中介光束極化的旋轉。 48·如申請專利範圍第34項所述之多轴干涉儀裝置， $中該干涉儀更包括一輸入光束光學總成，該輸入光束光 學總成包括一非極化光束分光器，其中該輸入光束光學總 j係將原始的輸入光束分成該第一次提及的輸入光束以及 一該第一輸入光束平行行進的一第二輸入光束，並將該第 1277720 兑 修正 案號 92101675_年 i^^--------- 六、申請專利範圍 〆口 一及第二輸入光束引導至極化光束分^/ 、 49·如申請專利範圍第43項所述之户轴干涉儀襞置， 其中該至少一組曲折光學系包栝量測角度的曲折光學系以 及量測距離的曲折光學系，其中該量測角度的曲折光學系 包括一半波長阻滯器設置以旋轉該多道光束中至少一道光 束的極化。 5 0 ·如申請專利範圍第4 9項所述之多軸干涉儀裝置， 其中談量測角度曲折光學系更包括，五角陵鏡，而該量測 距離曲折光學系更包括一回溯反射器/ 5 1.如申請專利範圍第4 3項所述之多軸干涉儀裝置， 其中該非極化光束分光器係設置優先於任何曲折光學系以 接收該中介光束。 5 2 · —種多軸干涉術方法，包括： 干涉儀產生多道輸出光束，每一道輸出光束包括有關 一量測物對於不同自由度的相對位置之資訊， 其中每一输出光束包括一光束分量，沿一共同路徑接 觸於該量測物至少一次，以及 其中該等光束分量至少其中之一更沿與該共同路徑相 異之第一路徑至少第二次接觸於該量測物。

   5 3 . —種多軸干涉儀震置，包括： 一多轴干涉儀’沿多重自由度來量測一反射量測物之 相對位置’其中該干涉儀係設置以產生多道輸出光束，每 一光束包括該量測物相對於一相異之自由度的相對位置； 而且

   1057-5464-PF2(Nl).ptc

   第78頁 1277720 修正

   路徑接 一共同的 —_案號 9210167F1^_年 月 曰 六、申請專利範圍 其中每一輸出光束包括一光束分量沿 觸該量測物至少一次； 其中至少一輪出光束包括另一光束分量與第一、 之光束分量相異；而且 一人提及 其中該另一光束分量沿與共同路徑相異之一 接觸於該量測物至少一次。路徑 54.如申請專利範圍第53項所述之多軸干涉儀裝 其中上述之包括沿該共同路徑接觸於該量測物之該、第一， 束分量以及沿該第一路徑接觸於該量測物之另一 另 的輸出光束，包括有關於該量測物相對於一一分i 角度方位的資訊。 弟碇轉軸$ 55.如申請專利範圍第54項所述之多軸干涉儀 其中該第一旋轉軸與該共同路徑以及該第_路徑所^ ， 平面垂直。 錢之 56.如申請專利範圍第54項所述之多軸干 /、中一第二輸出光束包括該量測物相對於邀 ^ J 相異之-第二旋轉轴的角度方位之資，1 = 輪 光束包括沿該共同路徑接觸於該量測物“]出 ，分量，以及與該第一光束分量相異之；^ /、中在該第二輸出光束之該另一光束分量沿斑庄同=— 相異之該第二路徑接觸於該量測物。 ^ 57·如申請專利範圍第56項所述之多輛 其中該第二旋轉軸與該第一旋轉轴正交。 v 5 8 · —種多軸干涉術方法，包括：

   1057-5464-PF2(Nl).ptc 第79頁

   1277720

   干涉儀產生多道輸出光束，每一道輪出光束包括 一量測物對於不同自由度的相對位置之資訊， 關 其中母一輸出光束包括一光束分量，沿一共同路 觸於該量測物至少一次， "^ 其中至少一輸出光束包括與該第一次提及之光束分量 相異的另一光束分量，以及 其中該另一光束分量沿與該共同路徑相異之第一路徑 接觸於該量測物至少一次。 5 9 · —種微影系統，用於製造一晶圓上之積體電路， ;該系統包括·· 一平台用於支持該晶圓； 一照明系統，用於將圖案的輻射，空間地映射至晶圓 上； 一定位系統用於相對於該映射的輻射調整該平台之位 置；以及 如申請專利範圍第1項或第5 3項所述之裝置，用於監 控該晶圓相對於該映射之輻射的位置。 6 〇 · —種微影系統，用於製造一晶圓上之積體電路’ 該系統包括： 一平台用於支持該晶圓；以及 一照明系統，包括一輻射源 '一光罩、一定位系統、 一透鏡總成、以及如申請專利範圍第1項或第53頊所述之 裝置， 其中在操作期間，該輻射源引導該輻射通過該光罩以

   第80頁 1277720

   產生空間圖案輻射，該定位系統相對於該射 射調整該光罩的位置’該透鏡總成映射該空： 控該光罩的位置。 原發出的輻射監 ·種光束刻寫系統’用於製造一微影光罩，兮系 統包括： 以” 一光源，提供一刻寫光束在一基板上製作圖案，· 一平台，支持該基板； ’ 一 2束導引總成，用來將該刻寫光束傳遞至該基板； 一定位系統用來使該平台及談光束引導總成彼此相互 定位；以及 如申請專利範圍第1項或第53項所述之該裝置用來監 控該平台相對於該光束引導總成之位置。 62· 一種微影方法，用於製造一晶圓上的積體電路， 該方法包括下列步驟·· 將該晶圓支持於一可移動之平台上； 映射空間圖案輻射至該晶圓； 調整該平台之位置； 用申請專利範圍第5 2項或第58項所述的方法監控該平 台的位置。 63· 一種微影方法，用於製造一晶圓上的積體電路， 該方法包括下列步驟： 引導入射的輻射通過一光罩以產生空間圖案輻射， 相對於該入射輻射定位該光罩；

   I277720 修^正 ~^〜^^案號92101875 年 月 曰^ ----------^ 六、申請專利範圍 ^用申請專利範圍第52項或第58項所述的方法監控該平 台相對於該入射輻射的位置； 映射空間圖案輻射至該晶圓。 =64· —種微影方法，用於製造一晶圓上的積體電路， 該方法包括下列步驟： 一相對於一微影系統之第二元件定位一微影系統之第一 疋件’使該晶圓暴露於空間圖案輻射中；以及 用申請專利範圍第52項或第58項所述的方法監控該第 元件相對於該第二元件的位置。 65· —種用來製造積體電路之方法，該方法包括申請 利範圍第6 2、63、64項所述之微影方法。 .66· 一種用來製造積體電路之方法，該方法包括申請 利範圍第5 9、6 〇項所述之微影系統。 6 7 · —種用來製造微影光罩之方法，該方法包括： 引導一刻寫光束至一基板，以使該基板產生圖案； 相對於該刻寫光束定位該基板；以及 ^ ^中請專利範圍第53項之多轴干涉儀裝置或第58項所 =之夕轴干涉術方法，相對於該刻寫光束監控該基板的位

   第1圖 1277720

   1277720

   第2b圖 127772ο 2241277720

   224 222 226

   228 ^Y^X20Q 第3b圖 ^228 1 ‘ 226 1277720

   1277720

   ^p1324 324

   第4b圖

   1277720

   第5b圖

   1277720

   第6圖 1277720

   第7圖 1277720

   第8a圖 1277720

   第8b圖 1277720

   第8c圖 910 1277720

   第9圖 :2

   1277720

   1277720

   • · 1277720 雠12b醒

   • · 1283 1277720

   1277720 線位移 〇0〇 角位移 第12d圖

   第12e圖 1277720 ||13a國

   1280 1277720

   1283 1277720

   1280 b3 · 1388 第13c圖

   線位移 角位移 r-O 〇 Γ〇

   第13d圖 1277720 满143画

   2 1277720 1272 1275-xJ 12*M 瓣14b醒 1276 1288 1285 1293 1287

   1298 U83 _ 110 1282 二 MSI 1280 1286 S5 “ΓΟ97 12M 1277720 RR41 μ ★ 产、 PB56 PB57 第14c圖

   第14d圖 M1 —V^/QW1 1 A i r PB59 /_ 4 { r ► Q VV 2 L_ M2 第14e圖 1277720 瓣15a画

   1277720

   1394 第15b圖

   第15c圖

   第15d圖