JP4469608B2 - 多軸干渉計 - Google Patents
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Description
本出願は次の米国仮特許出願、Henry A. Hillによる「多自由度測定平面ミラー干渉計アセンブリ」と題する2002年1月28日出願(Z−391)の米国出願第60/352,341号、及びHenry A. Hillによる「ビームずれ差を減少させた多自由度干渉計」と題する2002年1月28日出願の米国出願第60/352,425号の優先権を主張するものである。参照される上記仮特許出願の各々は本明細書において参照により援用される。
一般的に、一態様において、本発明は測定対象物(例えば、平面ミラー)の位置の変化を測定する多軸干渉計を含む装置を特徴とする。干渉計は入力入射ビームを受信し、入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように方向付け、入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように方向付け、そして次に角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成される。各角度測定ビームは、合成されて角度測定出力ビームを形成する前に、測定対象物への単一の通過路を形成する。干渉計は更に、入力入射ビームから生成される別の組のビームを異なる経路に沿って方向付け、これらのビームを合成して測定対象物の位置の変化に関する情報を含む別の出力ビームを生成するように構成される。
別の組のビームが第1距離測定ビーム及び第2距離測定ビームを含み、別の出力ビームは距離測定出力ビームである。このような実施形態では、干渉計は第1距離測定ビームを測定対象物に達するための第1及び第2通過路を形成するように方向付け、次に第1距離測定ビームを第2距離測定ビームと合成して距離測定出力ビームを生成する。
概括すると、別の態様において、本発明は測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備える第3の装置を特徴とする。この干渉計は入力入射ビームを受信し、入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように方向付け、入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように方向付け、次にこれらの角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成される。干渉計は、入力入射ビームから生成される別の組のビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して測定対象物の位置の変化に関する情報を含む別の出力ビームを生成するように構成される。動作状態において、第1角度測定ビームが測定対象物への第1通過路を形成する間に、第1角度測定ビームが別の組のビームの内の第1ビームとオーバーラップする。
概括すると、別の態様において、本発明は測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備える第4の装置を特徴とする。この干渉計は入力入射ビームを受信し、入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように方向付け、入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように方向付け、次にこれらの角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成される。干渉計は、入力入射ビームから生成される第1距離測定ビームを測定対象物への第1及び第2通過路を形成するように方向付け、次に第1距離測定ビームを入力入射ビームから生成される第2距離測定ビームと合成して距離測定出力ビームを生成するように構成される。干渉計は、角度測定出力ビームを受信し、角度測定出力ビームの一部を分離して距離測定入力ビームを形成するように配置された非偏光ビームスプリッタを備え、距離測定ビームは距離測定入力ビームから生成される。幾つかの実施形態では、干渉計は、距離測定入力ビームを方向付けるように配置された折返し光学系を備え、折返し光学系は、第1距離測定ビーム部分が測定対象物に測定対象物の角度配向範囲に対して実質的に法線方向から入射して衝突するように選択される倍率を有するアフォーカル系を備える。
概括すると、別の態様において、本発明は測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備える第5の装置を特徴とする。この干渉計は入力入射ビームを受信し、入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように方向付け、入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように方向付け、次にこれらの角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成される。干渉計は、入力入射ビームから生成される別の組のビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して測定対象物の位置の変化についての情報を含む別の出力ビームを生成するように構成される。干渉計は、第1角度測定ビームが測定対象物への通過路を形成した後、かつ第2角度測定ビームが測定対象物への通過路を形成する前に、第1角度測定ビームを第2角度測定ビームと合成するように配置された偏光ビームスプリッタを備え、この合成ビームは中間ビームを形成する。干渉計は、中間ビームを受信し、中間ビームを方向付けて偏光ビームスプリッタに戻すように配置された戻し光学アセンブリを備え、戻し光学アセンブリは、測定対象物へのこれらの角度測定ビームの入射によって定義される平面で中間ビームを奇数回反射するように配置された一組の反射面を有し、戻し光学アセンブリは、中間ビームの各角度測定ビームの偏光を回転させるように構成された1/2波長板を更に備える。
概括すると、別の態様において、本発明は方法を特徴とし、この方法においては、測定対象物の位置の第1角度測定変化を方向付け、入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを測定対象物の第2ポイントへの通過路を形成するように方向付け、測定対象物への通過路を形成した後に、角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成し、入力入射ビームから生成される別の組のビームを異なる経路に沿って方向付け、別の組のビームを合成して測定対象物の位置の変化に関する情報を含む別の出力ビームを生成する。好適な実施形態では、各角度測定ビームは測定対象物への単一の通過路を形成する。
別の態様において、本発明は集積回路をウェハの上に製造する際に使用するリソグラフィシステムを特徴とする。このリソグラフィシステムは、ウェハを支持するステージと、空間的にパターン化された照射線をウェハの上に結像する照明システムと、結像した照射線に対するステージの位置を調整するポジショニングシステムと、結像した照射線に対するウェハの位置をモニターする上述の干渉計装置のいずれかと、を備える。
別の態様において、本発明は上述のリソグラフィシステムのいずれかの使用を含む集積回路の製造方法を特徴とする。
上式において、b1は平面ミラー測定対象物でのビーム293と294との間隔、入力ビーム12の波長λ1に対応する波数k1=2π/λ1、n1は基準ビーム経路及び測定ビーム経路内のガスの屈折率である。
、ガス中の経路長が該当するビームに対して同じとなるように構成する。
第1の実施形態の別の利点は、角度変位干渉計のビームがガラス中で等しい経路長を有し、かつ該当する経路のガス中で等しい経路長を有することである。
第1の実施形態の第1の変形例について記載するが、この第1の変形例では、干渉計アセンブリが単一の平面ミラー対象物の直線変位及び角度変位を測定するように構成される。第1の実施形態の第1の変形例は、第1の実施形態のHSPMI及び角度変位干渉計を備えるが、第1の実施形態の角度変位干渉計が、平面ミラー測定対象物に入射する角度変位干渉計のビーム293及び294に平行な線の回りに90度回転する点が異なる。測定する角度変位は、HSPMIの第1及び第2通過測定ビームにより定義される平面に直交するとされる平面にある。
第1の実施形態の第2の変形例について記載するが、この第2の変形例では、1つの角度変位及び2つの直線変位を測定する。第1の実施形態の第2の変形例の干渉計アセンブリは第1の実施形態の干渉計アセンブリ、及び第2のHSPMIを備える。図2aにおいて、第2のHSPMIは第1のHSPMIの直下に位置する。第2のHSPMIへの入力ビームは、ビーム12の一部を非偏光ビームスプリッタにより分離することにより生成される。
上述のように、第1の実施形態の角度変位干渉計は実質的に温度変動に対して鈍感である。何故なら、ビーム293及び294はそれぞれ等しい量のガラスを通過するからである。図2gに示す第1の実施形態の別の変形例には、温度勾配の影響を最小化するための補償光学アセンブリが含まれる。例えば、図2cの角度変位干渉計において、ビーム293は菱面体241及び光学ブロック243を通過し、それに対してビーム294は菱面体245を通過する。これらの素子は等しい量のガラスであるので温度変動の影響を減らすことができるが、これらの種々の素子の間には温度差、すなわち温度勾配が未だ存在し、この温度差により角度測定ビーム間に余分な光路長差が生じる。図2gに示す変形例はこれを以下のように対処する。第1角度測定ビーム293’を方向付けてその通過経路上の菱面体241を通過させて平面ミラー測定対象物280に到達させ、平面ミラー測定対象物280からその経路を戻って菱面体245を通過させる。第2角度測定ビーム294’の場合にはその逆のプロセスとなる。
本発明の第2の実施形態を図3に示す。第2の実施形態は、非偏光ビームスプリッタ320が入力入射ビーム12を角度測定入力ビーム382及び距離測定入力ビーム384に分離し、干渉計の距離測定部分が高安定性平面ミラー干渉計(HSPMI)を含む点で第1の実施形態と同様である。また、第2の実施形態の角度測定部分は、角度測定ビームを方向付けて測定対象物の異なるポイントに到達する1回通過を行なって、光学的差異に基づいて角度測定出力ビームを生成する点で第1の実施形態のものと類似する。以下に更に詳細に記載するように、第2の実施形態の角度測定部分もまた、第2の実施形態の距離測定HSPMI部分と多数の構成要素を共有する。
角度測定ビーム393及び394の向きを変えて(これらのビームが中間ビーム390の成分である場合)偏光ビームスプリッタ330に戻す3つのミラー347,348及び349を含む折返しシステムの戻しミラーシステムは、角度測定出力ビーム378の両方の成分が平行なることを保証する。
上式において、b2は平面ミラーでの測定対象物上のビームの間隔(図12a及び12c参照)、入力ビーム12の波長λ1に対応する波数k2=2π/λ2、n2は基準ビーム経路及び測定ビーム経路におけるガスの屈折率である。
上式において、b3は基準ビームと測定ビームの間隔(図5c参照)、入力ビーム12の波長λ3に対応する波数k3=2π/λ3、n3は基準ビーム経路及び測定ビーム経路におけるガスの屈折率である。
図6aは本発明の干渉計の別の実施形態を模式的に示している。本実施形態は、本実施形態が更に補償素子C1、及び補償素子C1の前に距離測定出力ビーム674を受信するように位置する1/2位相差板661を含む点を除き、図4aの実施形態と同じである。干渉計の素子の多くは図4aの実施形態の素子と同じであり、同じ符号が付されている。
図6dは、偏光ビームスプリッタPBS8及び2つの再帰性反射体RR42及びRR43を含む素子C1の実施形態を示している。
出力ビームが角度変位干渉計から素子C1を通過することにより生じるガラス中の基準ビーム経路長及び測定ビーム経路長のアンバランスは、入力ビームの基準ビーム成分及び測定ビーム成分が素子C1を通過する際に遭遇する光路長の差によるずれである。図6aに示す1/2位相差板はそれぞれのビームの偏光を90度回転させて、入力ビーム及び出力ビームによる素子C1の通過を合成したときに出力ビームの該当する成分のガラス中の経路が等しくなるようにする。
更に別の実施形態においては、一つ以上の補償素子を図6aの補償素子とは異なる方法で展開することができる。例えば、補償素子C2及びC3を図6bに示すように展開することができる。更に別の実施形態においては、一つ以上の補償素子を同様な形で図5a〜5cに示す実施形態において展開して角度測定出力ビームの成分の間のずれ差を更に小さくする、または無くすことができる。
上式において、b6は基準ビームと測定ビームの間隔、入力ビームの波長λ6に対応する波数k6=2π/λ6、n6はビーム経路におけるガスの屈折率である。
図10dに示す複屈折アナモルフィックアフォーカル付属部品は、互いに接着された2つの複屈折プリズム1073A及1073Cを備え、その拡大モードの動作を示している。複屈折プリズムは、例えば方解石及びパラテルル石のような一軸結晶を含む。複屈折プリズム1073A及1073Cの光学軸を図10dにそれぞれ要素1073B及び1073Dとして示す。入射ビームの偏光は異常光である。複屈折アナモルフィックアフォーカル付属部品を通過する入射ビームの経路及び光学軸1073B及び1073Dの方向を正の一軸結晶を含む系の場合に関して示し、この系では通常光屈折率は異常光屈折率よりも小さい。
Claims (32)
- 装置であって、
測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備え、
前記干渉計は、入力入射ビームを受信し、前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを方向付け、次に前記角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成され、各角度測定ビームは、合成されて前記角度測定出力ビームを形成する前に、前記測定対象物への単一の通過路をのみを形成し、
前記干渉計は更に、前記入力入射ビームから生成される一組の距離測定ビームを異なる経路に沿って方向付け、これらのビームを合成して前記測定対象物の位置の変化に関する情報を含む距離測定出力ビームを生成するように構成され、
前記一組の距離測定ビームが第1距離測定ビーム及び第2距離測定ビームを含み、前記干渉計は、前記測定対象物への第1及び第2通過路を形成するように前記第1距離測定ビームを方向付け、次に前記第1距離測定ビームを前記第2距離測定ビームと合成して前記距離測定出力ビームを生成し、
前記干渉計は、ビームが前記測定対象物に達するための第1通過を行なっている間に前記第1角度測定ビームを前記第1距離測定ビームにオーバーラップさせる、装置。 - 前記干渉計は、ビームが前記測定対象物に達するための第1通過を行なった後に前記第1角度測定ビームを前記第1距離測定ビームから分離するように配置された非偏光ビームスプリッタを備える、請求項1記載の装置。
- 装置であって、
測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備え、
前記干渉計は、入力入射ビームを受信し、前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを方向付け、次に前記角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成され、各角度測定ビームは、合成されて前記角度測定出力ビームを形成する前に、前記測定対象物への単一の通過路をのみを形成し、
前記干渉計は更に、前記入力入射ビームから生成される一組の距離測定ビームを異なる経路に沿って方向付け、これらのビームを合成して前記測定対象物の位置の変化に関する情報を含む距離測定出力ビームを生成するように構成され、
前記一組の距離測定ビームが第1距離測定ビーム及び第2距離測定ビームを含み、前記干渉計は、前記測定対象物への第1及び第2通過路を形成するように前記第1距離測定ビームを方向付け、次に前記第1距離測定ビームを前記第2距離測定ビームと合成して前記距離測定出力ビームを生成し、
前記干渉計は、前記角度測定出力ビームを受信し、かつこの角度測定出力ビームの一部を分離して距離測定入力ビームを形成するように配置された非偏光ビームスプリッタを備え、前記距離測定ビームは前記距離測定入力ビームから生成される、装置。 - 前記干渉計は、前記距離測定入力ビームを方向付けるように配置された出力折返し光学系を更に備え、前記出力折返し光学系は、前記第1距離測定ビームが前記測定対象物に前記測定対象物の角度配向範囲に対して実質的に法線方向から入射して衝突するように選択される倍率を有するアフォーカル系を備える、請求項3記載の装置。
- 装置であって、
測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備え、
前記干渉計は、入力入射ビームを受信し、前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを方向付け、次に前記角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成され、各角度測定ビームは、合成されて前記角度測定出力ビームを形成する前に、前記測定対象物への単一の通過路をのみを形成し、
前記干渉計は更に、前記入力入射ビームから生成される一組の距離測定ビームを異なる経路に沿って方向付け、これらのビームを合成して前記測定対象物の位置の変化に関する情報を含む距離測定出力ビームを生成するように構成され、
前記一組の距離測定ビームが第1距離測定ビーム及び第2距離測定ビームを含み、前記干渉計は、前記測定対象物への第1及び第2通過路を形成するように前記第1距離測定ビームを方向付け、次に前記第1距離測定ビームを前記第2距離測定ビームと合成して前記距離測定出力ビームを生成し、
前記干渉計は、前記測定対象物への通過路が形成された後、かつ前記第2角度測定ビームと合成される前に、反射基準物体への通過路を形成するように前記第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物への通過路が形成される前に、前記基準物体への通過路が形成されるように前記第2角度測定ビームを方向付けるように構成され、
前記干渉計は、前記基準物体への第1及び第2通過路を形成するように前記第2距離測定ビームを方向付けるように構成される、装置。 - 前記干渉計は偏光ビームスプリッタ及び戻し光学アセンブリを備え、
前記偏光ビームスプリッタは、前記測定対象物及び基準物体への通過路の各々の間に、前記角度測定ビーム及び前記距離測定ビームの各々の内の一方を透過させ、かつ前記角度測定ビーム及び前記距離測定ビームの各々の内の他方を反射するように配置され、更に、前記第1及び第2通過路の後に、前記角度測定ビームを再合成して前記角度測定出力ビームを形成し、かつ前記距離測定ビームを再合成して前記距離測定出力ビームを形成するように配置され、
前記戻し光学アセンブリは、前記角度測定ビーム及び前記距離測定ビームを前記偏光ビームスプリッタから受信し、前記第1及び第2通過路の間に、これらのビームの向きを変えて前記偏光ビームスプリッタに戻すように配置される、請求項5記載の装置。 - 前記基準物体は平面ミラーを含む、請求項6記載の装置。
- 前記干渉計は前記基準物体を更に備える、請求項7記載の装置。
- 前記干渉計は、前記偏光ビームスプリッタと前記基準物体との間に位置する1/4位相差板を更に備える、請求項7記載の装置。
- 前記測定対象物は平面ミラーを含む、請求項6記載の装置。
- 前記干渉計は、前記偏光ビームスプリッタと前記測定対象物との間に位置する1/4位相差板を更に備える、請求項10記載の装置。
- 前記戻し光学アセンブリは、前記第1及び第2通過の間に前記角度測定ビームの偏光を回転させるように配置される1/2位相差板を備える、請求項6記載の装置。
- 前記戻し光学アセンブリは、前記角度測定ビームの向きを変えて前記偏光ビームスプリッタに戻すように配置される奇数の反射面を更に有する、請求項12記載の装置。
- 前記戻し光学アセンブリは、前記距離測定ビームの向きを変えて前記偏光ビームスプリッタに戻すように配置される再帰性反射体を更に備える、請求項13記載の装置。
- 前記干渉計は、前記入力入射ビームを受信し、かつ前記入力入射ビームを角度測定入力ビーム及び距離測定入力ビームに分離するように配置された非偏光ビームスプリッタを更に備え、前記偏光ビームスプリッタは前記角度測定入力ビームを第1及び第2角度測定ビームに分離し、かつ前記距離測定入力ビームを前記第1及び第2距離測定ビームに分離するように配置される、請求項6記載の装置。
- 前記干渉計は、前記測定対象物への第1通過路の間に前記第1角度測定ビームを方向付けて前記第1距離測定ビームにオーバーラップさせ、前記基準物体への第1通過路の間に前記第2角度測定ビームを方向付けて前記第2距離測定ビームにオーバーラップさせるように構成される、請求項6記載の装置。
- 前記偏光ビームスプリッタは、前記入力入射ビームを前記第1角度測定ビーム及び前記第1距離測定ビームを含む重複ビームペアと前記第2角度測定ビーム及び前記第2距離測定ビームを含む重複ビームペアとに分離するように配置され、前記偏光ビームスプリッタは、これらのビームペアがそれぞれの前記測定対象物及び基準物体への第1通過路を形成した後に、これらのビームペアを再合成して中間ビームを形成するように配置される、請求項16記載の装置。
- 前記戻し光学アセンブリは、前記中間ビームを受信するように配置され、かつ前記角度測定ビームを前記距離測定ビームから空間的に分離するように配置される非偏光ビームスプリッタを備える、請求項17記載の装置。
- 前記干渉計は、非偏光ビームスプリッタを含む出力折返し光学系を備え、この非偏光ビームスプリッタは、前記角度測定出力ビームを受信し、かつ前記角度測定出力ビームの一部を分離して距離測定入力ビームを形成するように配置され、前記出力折返し光学系は前記距離測定入力ビームを前記偏光ビームスプリッタに方向付けるように構成され、前記偏光ビームスプリッタは前記距離測定入力ビームを前記距離測定ビームに分離するように配置される、請求項6記載の装置。
- 前記出力折返し光学系は、前記第1距離測定ビームが前記測定対象物に前記測定対象物の角度配向範囲に対して実質的に法線方向から衝突するように選択される倍率を有するアフォーカル系を備える、請求項19記載の装置。
- 前記奇数の反射面の各々が共通平面内に法線を有する、請求項13記載の装置。
- 前記奇数の反射面は、前記反射面の各々での入射ビームと反射ビームとの間の角度の合計がゼロ、または360度の整数倍となるように前記角度測定ビームを反射し、各角度は前記入射ビームから前記反射ビームに向かう方向に測定され、反時計回りに測定される場合に正の値を有し、時計回りに測定される場合に負の値を有する、請求項21記載の装置。
- 前記戻し光学アセンブリは、前記角度測定ビームの向きを変えて前記偏光ビームスプリッタに戻すように配置された一組の反射面を有し、前記一組の反射面は前記反射面の各々での入射ビームと反射ビームとの間の角度の合計がゼロ、または360度の整数倍となるように前記角度測定ビームを反射し、各角度は前記入射ビームから前記反射ビームに向かう方向に測定され、反時計回りに測定される場合に正の値を有し、時計回りに測定される場合に負の値を有する、請求項6記載の装置。
- 前記角度測定出力ビームのビームずれ差を小さくするように配置される光遅延線を更に備える、請求項6記載の装置。
- 前記光遅延線は、前記第2角度測定ビームが前記測定対象物から戻る間に前記第2角度測定ビームに追加の経路長を生じさせるように配置される、請求項24記載の装置。
- 前記光遅延線は、入射ビームの直交偏光成分間に経路長差を生じさせるように構成される、請求項24記載の装置。
- 前記光遅延線は前記入力入射ビーム及び両方の前記出力ビームを受信するように配置される、請求項26記載の装置。
- 前記光遅延線は前記入力入射ビーム及び前記距離測定出力ビームを受信するように配置され、かつ前記干渉計は第2光遅延線を備え、この第2光遅延線は、前記第2角度測定ビームが前記測定対象物への通過路を形成する間に前記第2角度測定ビームを受信するように配置される、請求項26記載の装置。
- 装置であって、
測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備え、
前記干渉計は、入力入射ビームを受信し、前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを方向付け、次に前記角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成され、各角度測定ビームは、合成されて前記角度測定出力ビームを形成する前に、前記測定対象物への単一の通過路をのみを形成し、
前記干渉計は更に、前記入力入射ビームから生成される一組の距離測定ビームを異なる経路に沿って方向付け、これらのビームを合成して前記測定対象物の位置の変化に関する情報を含む距離測定出力ビームを生成するように構成され、
前記一組の距離測定ビームが第1距離測定ビーム及び第2距離測定ビームを含み、前記干渉計は、前記測定対象物への第1及び第2通過路を形成するように前記第1距離測定ビームを方向付け、次に前記第1距離測定ビームを前記第2距離測定ビームと合成して前記距離測定出力ビームを生成し、
前記角度測定出力ビームは第1回転軸に対する前記測定対象物の角度配向についての情報を含み、
前記干渉計は、前記測定対象物への通過路を形成するように前記入力入射ビームから生成される第3角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物への通過路を形成するように前記入力入射ビームから生成される第4角度測定ビームを方向付け、次に前記第3及び第4角度測定ビームを合成して、前記第1回転軸とは異なる第2回転軸に対する前記測定対象物の角度配向についての情報を含む第2角度測定出力ビームを生成するように構成され、
前記干渉計は、ビームが前記測定対象物への通過路を形成する間に前記第1及び第3角度測定ビームをオーバーラップさせるように構成される、装置。 - 装置であって、
測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備え、
前記干渉計は、入力入射ビームを受信し、前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように前記入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように前記入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを方向付け、次に前記角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成され、
前記干渉計は、前記入力入射ビームから生成される一組の距離測定ビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して前記測定対象物の前記位置の変化に関する情報を含む距離測定出力ビームを生成するように構成され、
動作状態において、前記第1角度測定ビームが前記測定対象物への第1通過路を形成する間に、前記第1角度測定ビームが前記一組の距離測定ビームの内の第1ビームとオーバーラップする、装置。 - 装置であって、
測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備え、
前記干渉計は入力入射ビームを受信し、前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを方向付け、次に前記角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成され、
前記干渉計は、前記測定対象物に達するための第1及び第2通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第1距離測定ビームを方向付け、次に前記第1距離測定ビームを前記入力入射ビームから生成される第2距離測定ビームと合成して距離測定出力ビームを生成するように構成され、
前記干渉計は、前記角度測定出力ビームを受信し、前記角度測定出力ビームの一部を分離して距離測定入力ビームを形成するように配置された非偏光ビームスプリッタを備え、前記距離測定ビームは前記距離測定入力ビームから生成され、
前記干渉計は、前記距離測定入力ビームを方向付けるように配置された折返し光学系を更に備え、前記折返し光学系は、前記第1距離測定ビーム部分が前記測定対象物に前記測定対象物の角度配向範囲に対して実質的に法線方向から入射して衝突するように選択される倍率を有するアフォーカル系を備える、装置。 - 装置であって、
測定対象物の位置の変化を測定する多軸干渉計を備え、
前記干渉計は入力入射ビームを受信し、前記測定対象物上の第1ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第1角度測定ビームを方向付け、前記測定対象物上の第2ポイントへの通過路を形成するように、前記入力入射ビームから生成される第2角度測定ビームを方向付け、次に前記角度測定ビームを合成して角度測定出力ビームを生成するように構成され、
前記干渉計は、前記入力入射ビームから生成される一組の距離測定ビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して前記測定対象物の前記位置の変化についての情報を含む距離測定出力ビームを生成するように構成され、
前記干渉計は、前記第1角度測定ビームが前記測定対象物への通過路を形成した後、かつ前記第2角度測定ビームが前記測定対象物への通過路を形成する前に、前記第1角度測定ビームを前記第2角度測定ビームと合成するように配置された偏光ビームスプリッタを備え、合成ビームは中間ビームを形成し、
前記干渉計は、前記中間ビームを受信し、前記中間ビームを方向付けて前記偏光ビームスプリッタに戻すように配置された戻し光学アセンブリを更に備え、前記戻し光学アセンブリは、前記測定対象物へのこれらの角度測定ビームの入射によって定義される平面で前記中間ビームを奇数回反射するように配置された一組の反射面を有し、前記戻し光学アセンブリは、前記中間ビームの各角度測定ビームの偏光を回転させるように構成された1/2波長板を更に備える、装置。
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