TWI273638B - Alignment stage apparatus - Google Patents

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1273638 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種對準台設備，可用於一裝置製造設 備上，例如用來製造半導體裝置等具有細微圖案的裝置。 【先.前技術】 曰本先行公開專利申請案第1 0-27053 5號案顯示在一 半導體曝光設備中的對準台設備之結構。圖7是在此日本 先行公開專利申請案第10-2705 3 5號案中所揭示的對準台 設備之平面圖，而圖8是其側視圖。 在圖7所示的習知對準台設備中，線圈1 02係以矩陣 方式配置在一底座結構1 0 1上，且永久磁鐵1 1 2係同樣地 以矩陣方式配置在一移動台主要本體103下方。當電流供 應至永久磁鐵112對面的驅動線圈102時，移動台主要本 體103會受到勞偷兹力（Lorentz force)所產生的推力而 驅動。 藉由靜電電力來固持晶圓的一靜電夾頭1 06，各種感 測器]〇4，例如監視光源的光量，以及一對準感測器，這 些零件均設置在移動台主要本體103上。 用來支撐台座重量的軸承107係設置在移動台主要本 體103的下表面上，移動台主要本體1〇3會受到導引而同 時在已經彌補平面度的底座結構101之表面上產生滑動。 另一方面，移動台主要本體103可藉由勞倫茲力來支撐。 在此情形中，磁鐵係配置在軸承的下表面上。 (2) 1273638 兩個條狀鏡組105係配置在移動台主要本體i〇3上， 以便互相垂直。安裝在一干涉儀支架113上的一雷射干涉 儀1 08能測量移動台主要本體〗〇3的位置，將電流供應至 驅動線圈102上，以便對準移動台主要本體103，使得移 動台主要本體1 03所測量到的位置會對齊來自一控制裝置 的目標値。 在圖7與8所示的先前技術台座結構，設有一電力供 應機構10與電力接收機構1〇9，以便將電力供應至移動台 主要本體103上的靜電夾頭106、感測器104等物。接收 到的電力則儲存在一可再充電電池1 1 1上。作爲電力供應 機構’例如以機械方式使電子接點產生接觸之方法，以及 使電磁心1 1 4彼此相向而形成一磁性電路，且藉由電磁感 應以非接觸方式供應電力之方法，例如日本先行公開專利 申請案第8_51137號案中所揭示的方法，上述這些方法均 爲可行的方法。 圖9顯示藉由電磁感應供應電力的方法之槪略結構。 當具有幾千赫茲到幾萬赫茲的AC電源127會連接到傳送 側電磁心上時，電力會藉由電磁感應而供應到接收側電磁 心上，此供應的電力能將電池1 1 1予以充電。 在上述習知的結構中，當一移動台返回晶圓運送位置 來運送一晶圓時，電力供應機構與電力接受機構會彼此正 對而將電池予以充電。在曝光操作中，或是移動台從晶圓 運送位置分開期間，用於靜電夾頭與感測器的電力是從電 池Π1供應而來。在完成曝光之後，當移動台再度返回晶 •5- • (4) 1273638 如就移動台內的電力消耗來看，電池必須安裝在移動台 上，所以便會產生日本先行公開專利申請案第1 0-2 705 3 5 號案中所發生的問題。 另一方面，若不使用電池，則需要透過一電纜來供應 電力。然而，在此情形中，移動台的精確度就受到電纜的 干擾而下降。藉由一具有平坦結構的台設備，則很難配置 並包裝好電纜。假如電纜受到摩擦的話，則會產生灰塵而 附著到晶圓上。.假如電纜的護套改變性質的話，則會發生 感應不足或電力切斷的現象。 【發明內容】 有鑒於上述先前技術的問題，本發明的目的是要提供 一種對準台設備，其中可以非接觸方式在任何位置與時間 供應電力，而不需要使用任何電纜，特別是關於一種對準 台設備，適合作爲具有平坦結構的台座設備。 爲了達成上述目的，根據本發明的一對準台設備包括 一底座結構與一移動台，此移動台可以沿著底座結構的一 表面而移動，以便不會與底座結構產生接觸，此對準台設 備包含埋在底座結構表面下的複數電力傳送線圈；裝配至 移動台上正對著此表面的一電力接受線圈；開關機構，係 用以相繼切換該等複數電力傳送線圈，以便根據移動台的 位置而被激發來供應電力，以及電力供應機構，用以供應 AC電力到透過開關機構而激發的電力傳送線圈上。 在本發明的一較佳實施例中，至少一些上述的複數電 1273638 , ' (5) 力傳送線圈亦被用作驅動線圈，以便使移動台產生移動。 電力接受線圈包含複數電力接受線圈’係配置在移動台的 驅動方向上。在此情形中，電力接受線圈的配置方式最好 能與電力傳送線圈產生相位改變。電力接受線圈的配置方 式，就是在電力接受線圈之間的間隙設定成與電力傳送線 圈的間距不同，且爲間距的整數倍。 更明確地說，電力接受線圈與電力傳送線圈彼此之間 具有1 80°/n的相位差，其中η是在移動台的驅動方向上電 力接受線圈的配置數目。也就是說，在電力接受線圈之間 的間.隙是設定成（Κ± 1/211 )(其中 Κ是一或更大的整 數，且在相鄰對的電力接受線圈之間產升變化）乘上電力 傳送線圈的間距。在此情形中，當一電力接受線圈正對著 一電力傳送線圈時，則剩下的電力接受線圈則沒有正對任 何電力傳送線圈。當從多數電力接受線圈的輸出受到整流 時，則當串聯電力傳送線圈時所獲得的輸出會被輸入到一 整流電路上。另一方面，從個別電力接受線圈的輸出可以 被輸入到整流電路上而分別受到整流與合成。 假如AC電力的頻率被設定成負載及電力傳送線圈與 電力接受線圈之間的互感所決定之諧振頻率的話，則能更 有效率地執行電力傳送。 電力的傳送與接受係藉由將一控制信號疊加在AC電 力上，使得在移動台上的一電子電路與設置在底座結構上 的一控制裝置可以彼此相通。 一可再充電的輔助電池可以安裝到移動台上，以便連 -8- (6) 1273638 同或取代一 DC電路用的平流電容器。 當移動台的驅動方向上包含沿著底座結構表面的一維 或二維方向時，可以應用本發明。 根據本發明，以電磁方式連接到移動台上的電力接受 線圈之多數電力傳送線圈係被埋入底座結構內。電力傳送 線圈係根據移動台的位置而切換，因此電力可以在任何位 置或時間從底座結構供應至移動台上的電子電路。當安裝 一電池在移動台主要本體上時，由於電池可以被浮動充電 (float-charged )，所以台座不需要返回到充電用的特定 位置上，例如曝光等程序不會中斷，充電不費時間，可藉 由使用此對準台設備而達到高生產量。 不需要安裝一大型電池到移動台上，因此台座可製作 得輕巧。因此，可增加移動台的速度，藉此達到高生產 量。 本發明可以應用至其中未安裝電池的情形上。在此情 形中，例如定期更換電池等維修作業就變得不需要了，且 可以防止在設備操作效率上之降低。 由於電力可以非接觸的方式供應，所以不需要透過一 電纜來電力，對準的精確度也不會受到電纜封裝干擾而降 級。由於並未使用電纜，當電纜摩擦到所附著的晶圓而產 生灰塵、絕緣不充分，或由於電纜護套的性質改變所導致 的電力切斷等問題就可以消除。 本發明的對準台設備特別適合作爲具有平坦結構的一 台座設備。 -9 - (7) (7)1273638 從以下伴隨附圖所作的詳細說明中，可以更加淸楚本 發明的其他特色與優點。在整個附圖中，相同或類似的零 件均以相似的參數來標示。 【實施方式】 以下將說明本發明的幾個實施例。 [第一實施例] 圖1是一平面圖，顯示本發明一實施例的對準台設備 之結構；而圖2是其側視圖。根據此對準台設備，用來供 應電力的多數電力傳送線圈是被埋入一對準台的底座結構 內，其中對準台具有一電力接受線圈，可施加一 AC磁場 而以非接觸方式獲得電力。對準台設備具有一機構，用以 根據台座的位置而相繼開關電力傳送線圈。 更明確地說，在圖1所示的對準台設備中，線圈2係 以類似矩陣的方式配置在一底座結構i中。永久磁鐵12 也同樣以類似矩陣的方式配置在一移動台主要本體3下 方。當供應電流至驅動線圈2時，移動台主要本體3會受 到勞倫茲力所產生的推力而驅動。 藉由靜電電力來固持晶圓的一靜電夾頭6，各種感測 器4，例如監視光源的光量，以及一對準感測器，這些零 件均設置在移動台主要本體3上。 用來支撐包括移動台主要本體3、靜電夾頭6、各種 感測器4等之移動台重量的軸承1 〇7係設置在移動台主要 -10- • (8) • (8)1273638 本體3的下表面上，移動台主要本體3在沿著移動台主要 本體3的表面之二維方向上會受到軸承7的導引，同時在 已經彌補平面度的移動台主要本體3之表面上產生滑動。 另一方面’移動台主的重量可藉由勞倫茲力來支撐。在此 情形中，磁鐵係配置在軸承7的下表面上。 兩個條狀鏡組5係配置在移動台主要本體3上，以便 互相垂直。安裝在一千涉儀支架13上的一雷射干涉儀8 能測量移動台的位置。一台座控制器（未顯示）可供應電 流到驅動線圈2上，以便對準移動台，使得所測量到的位 置會與一主要控制裝置（未顯示）所提供的目標値一致。 在圖1所示的台座結構中，多數電力傳送線圈17 (17-1，17-2，…及17-18 )是被埋入底座結構1中，以便 能以非接觸方式在任何位置上固定地將電力供應至栘動台 主要本體3上的靜電夾頭6、感測器4等物。電力傳送線 圈17可以與台座驅動線圈2分開獨立設置。在此實施例 中，X方向上的驅動線圈2也作爲供應電力之用。一電力 接受線圈1 5係藉由一電力接受線圈支撐構件1 6而支撐且 配置在移動台主要本體3的側表面上。 開關機構19，係用於根據電力接受線圈15的位置 (就是移動台主要本體3的位置）來相繼切換電力傳送線 圈17，此機構是被連接到電力傳送線圈17上。開關機構 19具有用於對應的電力傳送線圈17之多數開關（SW1到 SW18)。電力供應信號20與台座驅動信號21是被連接 到每個開關上，開關SW1到SW18是藉由一開關信號22 -11 - ，(9) ，(9)1273638 根據移動台主要本體3的位置來控制的。 當移動台主要本體3與底座結構1具有如圖2所示的 位置關係時，電力傳送線圈17-1與電力接受線圈15會彼 此正對。因此，開關S W 1會打開到電力供應信號側上， 且線層17-1會被用作爲電力傳送線圈17。線圈17-2與 17-3不會正對電力接受線圈15也不會正對永久磁鐵12, 於是不能作爲電力供應線圈或驅動線圈。因此，開關S W2 與SW3並非連接到線圈17-2或是17-3上，而是開放的。 線圈17-4到17-10正對著台主要本體3的下表上之永 久磁鐵12。因此，開關SW4到SW10會打開到驅動信號 側且用作爲驅動線圈2。移動台主要本體3的位置是藉由 雷射干涉儀8來進行測量的。當開關信號根據移動台主要 本體3的位置來控制時，電力傳送線圈17可以適當地在 供應電力與驅動兩者之間切換。以此方式，配置在底座結 構1內的電力傳送線圈1 7亦可作爲線圈2來驅動此移動 台主要本體3。 如圖3所示，電力是藉由電力傳送線圈17與電力接 受線圈15之間的電磁感應而傳送的。爲了傳送電力供應 信號，可使用具有幾千赫茲到幾萬赫茲的AC電源27 ^電 力接受線圈1 5中所感應的電力是連接到一例如整流電路 23的負載上，且作爲靜電夾頭6與感測器4的電源。假如 AC電源27的頻率被設定成此兩種線圈（就是電力傳送線 圈1 7與電力接受線圈1 5 )之間的互感及一負載（整流電 路）所決定的一諧振頻率的話，則電力可以被傳送得最有 -12- (10) (10)1273638 效率。 [第二實施例] 圖4顯示使用電磁感應的一控制信號之傳送與接受情 形。靜電夾頭6與感測器4係安裝在圖1與2的移動台主 要本體3上。設置在固定側（底座結構側）上的控制裝置 (未顯示）必須亦傳送信號到靜電夾頭6與感測器4上’ 或從該處接受信號。當交換晶圓時，施加到靜電夾頭6上 的電壓會切斷，因而釋放夾住的晶圓，且爲此目的設置一 夾住開/關電路25。從感測器4載入的一類比信號係藉由 一 A/D (類比到數位）轉換器24而轉換成數位信號。 假如傳送/接受電路26是個別地設置到電力傳送線圈 1 7與一電力接受線圈1 5上，且藉由疊加信號在電源供應 的線圈1 7與1 5上，則控制信號可以藉由電磁感應而交 換。由於電源供應信號使用具有幾千赫茲到幾萬赫茲的頻 率，所以控制信號使用具有幾十萬赫茲到幾百萬赫茲的高 頻信號，如此便不會千擾到電力供應信號的頻率。 [第三實施例] 圖5顯示本發明的第三實施例。在此第一實施例中， 僅設置一電力接受線圈15。當移動台主要本體3移動時， 電力接受線圈15會從正對著線圈17-1之處逐漸移動。於 是，藉由電磁感應的電力傳送效率會減少。 爲了彌補這一點，將一電力接受線圈15a增加到此第 -13- .(12) .(12)1273638 圈，所以一開關SW13會藉由一開關信號而切換至電力供 應信號側。剩餘的開關 S W 2、S W 3、S W 1 1、S W 1 2及 SW14到SW18則以如同圖！方式設定至中性位置。 當移動台主要本體3在圖5的X方向上（朝右）移動 時，線圈1 7-1會從正對著電力接受線圈1 5處逐漸移位， 於是會降低電力傳送效率。相反的，線圈17-13會接近正 對著電力接受線圈15a的位置，於是在此側上，電力傳送 效率會逐漸地增加。以此方式，當兩個電力接受線圈彼此 之間具有相位偏移，且當此兩個線圈總和時供應電力，則 可以固定且穩定地供應電力，而不管移動台主要本體3的 位置如何。 在移動台主要本體3在圖5的X方向（朝右）上更進 一步移動，使得電力接受線圈15到達線圈17_1與線圈 17-2之間的中間位置（就是與圖5的電力接受線圈15a與 線圈17-12及17-13相同的位置關係）之後，當移動台主 要本體3在圖5的X方向（朝右）上更進一步移動時，開 關SW1會被切換至中性位置，而切斷電力接受線圈15與 電力供應信號之間的連接，且開關SW2被切換至電力供 應信號側，使得線圈17-2被用作爲電力傳送線圈。開關 SW1與SW2的切換時機可以相同或不同。假如 SW1與 S W 2的切換時機被移位而產生一時間點，其中兩個開關 SW1與SW2均同時連接到電力供應信號側的話，則可以 經由兩個電力傳送線圈1 7而將電力供應至電力接受線圈 1 5上。如此可抑制供應電力的下降，特別是當如同第一實 -15- (13) 1273638 施例中使用一電力接受線圈1 5時之情形。 驅動線圈可以如同圖7與8所示的先前技術之方式來 切換。 [第四實施例] 在圖5中，電力接受線圈15b與15c及一開關機構 19a係配置在Y方向上。當移動台欲在X方向上移動時， 則電力會供應至一電力傳送線圈上，此線圈正對著電力接 受線圈15b與15c且在X方向上很長。當移動台欲在T方 向上移動時，則電力會供應至一電力傳送線圈上（在圖5 的狀態中，線圈1與線圈1或1 3 )，此線圈正對著電力接 受線圈15與15a且在X方向上很長。所以，不需要切換 電力傳送線圈，因此可以簡化切換順序。 第三與第四實施例可以自然地組合。 [第五實施例] 當如圖5所示使用一電池1 1時，可以固定且穩定地 供應電力。在第五實施例中，由於可以提供共定的電力供 應，所以不再需要大型電池，且可以使用一輕巧的電池。 當欲將一電池安裝在一移動台上時，已經供應的電力 可以被儲存在此電池中一次，且然後從此電池供應至移動 台內的個別部位上。然後，由於電力接受線圈15與電力 傳送線圈1 7之間的位置關係，而導致在移動台內的電力 消耗之波動或是在電力傳送效率的降低之故，假如在移動 -16- '(14) '(14)1273638 台內的電力消耗超過了電力供應的話，則電力可以穩定地 供應至移動台中的個別部位上。電力可以在任意位置或時 間上供應至移動台。即使當例如曝光等過程期間，電池會 在供電超過耗電的位置或時間上充電。需要將移動台移動 至充電用的特定位置、耽延例如曝光等程序的開始、或中 斷此類過程之情形均變得很小。電池則能經常浮動充電， 於是不需要額外的時間來充電。 使用電池1 1是特別有效的，尤其當如圖1僅設置一 電力接受線圈時。 如上所述，根據上述實施例，不需要在移動台上設置 一大型電池，且台座可以此製作得很輕巧。因此，可增加 移動台的速度，而達成高生產量。由於電力是以非接觸的 方式供應，所以不需要透過電纜來供電，對準的精確度則 不會受到電纜包裝的干擾而降低。由於並未使用電纜，當 電纜摩擦到所附著的晶圓而產生灰塵、絕緣不充分，或由 於電纜護套的性質改變所導致的電力切斷等問題就可以消 除。上述的實施例特別適用於具有平坦結構的一台座設 備0 [第六實施例] 圖1 0顯示一半導體製造曝光設備，係使用上述的對 準台設備作爲晶圓台。 此曝光設備被用作爲製造具有細微圖案的裝置，例如 製造半導體積體電路、微機器、薄膜磁頭等物。曝射光 -17- (15) 1273638 (此用詞係可見光、紫外光、EUV光、χ射線、電子束、 帶電粒子束等的一般用詞）係來自一光源61通過作爲母 板的一光罩R而成爲曝射能量，將此曝光能量經由一作爲 投影系統的投影透鏡6 2 (此用詞係折射透鏡、反射透鏡、 後折射式透鏡系統、帶電粒子透鏡等的一般用詞）照射一 半導體晶圓W，以便在基底上形成一想要的圖案。 在此曝光設備中，一表面板51具有一多相電磁線圈 (圖2的線圈17)，且一移動台57具有永久磁鐵組（圖 2的永久磁鐵1 2 )。 移動台57(圖2的移動台3)係藉由靜水軸承58 (圖2的靜水軸承3)來支撐，移動台57的移動是藉由使 用固定至此移動台5 7上的一鏡子59(圖2的鏡子5)及 一干涉儀60 (圖2的雷射干涉儀8 )而測量出來的。 作爲基底的晶圓W係維持在一安裝於移動台57的夾 頭（圖2的靜電夾頭6)上。作爲母板的光罩R之圖案會 被縮小且轉印到塗有光阻的晶圓 W之個別區域上，並藉 由光源61與圖影透鏡62以步驟&重複方案或步驟&掃描 方案，以便在光阻上形成一潛在的影像圖案。 本發明的對準台設備可同樣地應用於一曝光設備，可 在一光阻上形成一潛在圖案，而不需要使用光罩，但卻可 以直接在一半導體晶圓上畫出電路圖案。 以下將說明使用此曝光設備的半導體裝置製造方法。 圖11是一流程圖，顯示整個半導體裝置製造程序的流 程。在步驟1中（電路設計），設計出一半導體裝置的電 -18· !273638 • . (16) 路。在步驟2中（光罩製造），根據所設計的電路圖案來 製造一光罩。 在步驟3中（晶圓製造），使用矽作爲材料來製造一 晶圓。在步驟4中（晶圓處理），稱爲前處理，係根據微 影技術藉由上述曝光設備在晶圓上形成一真實電路。在步 驟5中（組裝），稱爲後處理，從步驟5所製造的晶圓上 形成一半導體。此步驟包括組裝（切割與黏接）及封裝 (晶片封入）。在步驟6中（檢查），執行操作檢查測試 以及步驟5中所製造的半導體裝置之耐久性測試。藉由這 些步驟，完成了一半導體裝置，然後將其運送出去。 步驟4的晶圓處理包括以下步驟：氧化步驟，用於氧 化晶圓表面；CVD步驟，用於在晶圓表面上形成一絕緣 膜；電極形成步驟，用於藉由沉積而在晶圓上形成一電 極，離子植入步驟，用於在晶圓中植入離子；光阻處理， 用於塗上一光阻劑到晶圓上；曝光步驟，用於在光阻步驟 之後，藉由曝光設備將電路圖案轉印到晶圓上；顯影步 驟，將曝光步驟中所曝光的晶片予以顯影·，蝕刻步驟，將 除了在顯影步驟中所顯影的光阻影像以外之部位予以蝕 刻；及一光阻移除步驟，用於在蝕刻步驟之後，移除任何 不需要的光阻。重複這些步驟，以便在晶圓上形成複數電 路圖案。 在不背離本發明的精神與範圍之前提下，仍可以產生 出許多其他的實施例，因此要知道的是本發明並非侷限於 此，而應由以下的申請專利範圍界定才是。 -19- 1273638 . .(17) 【圖式簡單說明】 圖1是一平面圖’顯示本發明第一實施例的對準台設 備之結構； 圖2是圖1的一側視圖； 圖3是用來說明圖丨中藉由電磁感應來供應電力之情 形； 圖4是用來說明本發明第二實施例中藉由電磁感應所 產生的信號傳送/接受； 圖5是一平面圖，顯示本發明第三實施例的對準台設 備之結構； 圖6是圖5的一側視圖； 圖7是一平面圖，顯示習知的對準台設備之結構； 圖8是圖7的一側視圖； 圖9是用來說明圖7中的習知範例中藉由電磁感應來 供應電力之情形； 圖是一前視圖，顯示使用本發明對準台設備的一 曝光設備之結構； 圖1 1是一流程圖，用以說明使用圖1 0的曝光設備所 進行之一裝置製造方法的流程。 【主要元件符號說明】 1，101 底座結構 1 1 2永久磁鐵 -20- (18) (18)1273638 3, 103 移動台主要本體 2，102 驅動線圈 4, 104 感測器 5，1 0 5 條狀鏡組 6，1 06 靜電夾頭 7，107 軸承 8，1 0 8 雷射干涉儀 13 干涉儀支架 109電力接受機構 1 1 〇電力供應機構 1 1 1電池 1 1 4電磁心 15 電力接受線圈 16 電力接受線圈支撐構件 17 電力傳送線圈 19 開關機構 20 電力供應信號 21 台驅動信號 22 開關信號 23 整流電路 25 夾頭開/關電路 24 類比/數位轉換器 26 傳送/接受電路 27，127 AC 電源 -21 _ (19) 1273638 SW 開關 5 1 表面板 57 移動台 5 8 靜水軸承 59 鏡子 6 0 干涉儀 6 1 光源 62 投影透鏡 -22-

Claims (1)

1. ^彳月〇7日修(客)正本 —H 一.一*"，.’ -- J 十、申請專利範圍 第93141474號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國95年10月13日修正 1 · 一種對準台設備，包括一底座結構與一移動台， 該移動台可以沿著該底座結構的一表面而移動，以便不會 與該底座結構產生接觸，該對準台設備包含： 複數電力傳送線圈，埋在該底座結構的表面下； 一電力接受線圈，係裝配至該移動台上而與該表面相 對； 開關機構，係用以相繼切換該多數電力傳送線圈，以 便根據該移動台的位置而被激發來供應電力，以及 電力供應機構，用以供應AC電力到透過該開關機構 而激發的電力傳送線圈上。 2.如申請專利範圍第1項之對準台設備，其中至少 一些該等複數電力傳送線圈亦被用作驅動線圏，以便使該 移動台產生移動。 3 ·如申請專利範圍第1項之對準台設備，其中該電 力接受線圈包含複數電力接受線圈，係配置在該移動台的 驅動方向上。 4·如申請專利範圍第3項之對準台設備，其中該移 動台的驅動方向沿著該底座結構的表面包含二維方向。 5 .如申請專利範圍第3項之對準台設備，其中該電 力接受線圈的配置方式能與該電力傳送線圈產生相位偏 1273638 移。 6 ·如申請專利範圍第5項之對準台設備，其中該電 力接受線圈與電力傳送線圈彼此之間具有1 80°/n的相位偏 移，其中η是在移動台的驅動方向上電力接受線圈的配置 數目。 7·如申請專利範圍第1項之對準台設備，其中AC電 力的頻率被設定成一負載及電力傳送線圈與電力接受線圈 之間的一互感所決定之一諧振頻率。 8 ·如申請專利範圍第1項之對準台設備，其中電力 的傳送與接受係藉由將一控制信號疊加在A C電力上，使 得在該移動台上的一電子電路與設置在該底座結構上的一 控制裝置可以彼此相通。 9 ·如申請專利範圍第1項之對準台設備，其中一可 再充電的輔助電池係安裝在該移動台上。 10· 一種曝光設備，包含如申請專利範圍第丨項之對 準台設備’且耢由該對準台設備能對準基底與母板之一或 兩者。 1 1 · 一種裝置的製造方法，包含以下步驟： 藉由如申請專利範圍第10項之曝光設備在一基底上 形成一潛在影像圖案之步驟；及 將此潛在影像圖案予以顯影之步驟。 -2-