TWI237254B - Semiconductor laser module and application equipment - Google Patents

Description

1237254 五、發明説明（ 發明之技術領域 本毛月仏有關半導體雷射模組應用裝置，尤其是有關光 碟之高密度化及光通訊裝置的相關技術。 先前技藝 為求提高光碟的記錄速度與記錄密度，需要提高記錄重 現光碟之光源的輸出，或縮短光源波長。因而半導體雷射 $共振器内及端面之單位體積或單位面積的光輸出提高， 容易導致半導體雷射的老化。此種情況為常存在於先前之 紅外乂半導體雷射、紅色半導體雷射與波長自35〇腿至45〇腿 之藍兔色半導體雷射的問題。藍紫色半導體雷射等的波長 愈短’此種問題愈顯著。其原因為，波長短時，光子的能 量问，谷易造成結晶損傷，很難保持長時間的工作壽命。 先則係採用將半導體雷射放入金屬或陶瓷的封裝體内，並 加蓋氣也封接，亦即氣密封裝，以阻斷外部空氣的方法。 另外，也嘗試應用使用塑膠封裝體之非氣密型的非氣密 封裝體。已知之非氣密封接技術，係採用於光纖通訊用的 半導體雷射模組中，藉由以矽膠等透明樹脂封裝，保護端 面’以阻斷與外部空氣接觸的方法（κ· Tatsun〇以_ ^εε

Journal of Lightwave Technology, V〇i· 17, No 7, ppl2i 卜 1216 (1999)) 〇 發明所欲解決之問題 然而，由於上述為求氣密而使用此種金屬之氣密封接的 成本高，尚有待發展出低成本化的技術。 此外，光纖通訊用之透明樹脂封裝以保護光學元件之端 4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公董） 1237254 A7 __________B7 五、發明説明（2 ) 面的技術，尚未使用於光記錄或重線上。 解決問題之手段 若將光纖通訊用之透明樹脂封裝以保護端面的技術應用 在保護光碟之光學頭之半導體雷射的保護上，可抑制因外 部空氣促使老化。但是，經本發明人檢討結果，發現僅採 用如上述的應用方式，會產生新的問題。其問題即是，因 填充於半導體雷射上的透明樹脂而產生像差。須形成於光 碟上之光點形成以對物透鏡之數值孔徑分割波長的值，該 值為繞射臨界。但是，欲確保該條件，前提為須徹底除去 使半導體雷射的光束會聚在光碟上之光學系統的像差。 半導體雷射上封裝有透明樹脂時，於各次作業中會在透 明樹脂表面產生不同的凹凸，自半導體雷射射出之各條光 線通過透明樹脂，射到空氣中的光程長度，亦即樹脂中之 光線長度乘折射率的值不同，而產生無法控制的波前像差 。該波前像差在容許範圍以外時，即無法在光碟上形成繞 射臨界的光點，無法將光碟上之資訊記錄最小單位的微小 凹痕確實予以析像。 以下，使用圖1加以說明。自半導體雷射1〇〇射出之光束 101以對物透鏡102聚光，在光碟1〇3上形成光點1〇8。光碟 103的反射光經由對物透鏡1〇2射至分束器1〇9，反射光線具 有自動焦點信號、追蹤信號及資訊信號，到達光檢測器Η 〇 ，予以光電轉換，而達成光碟的記錄/重現。半導體雷射 1 00收納於封裝體104内，為求確保半導體雷射的可靠性， 係以透明樹脂105封裝。封裝表面有凹凸時，因產生之波前 I -5- 本紙張尺度適用中國國家標準X 297‘υ 1237254 五、發明説明（ 106受到畸冑’與107之理想球面狀的波前相距甚大， 於光碟⑻上之光w则像差而擴散。以至無法分解光碟 上的微小凹痕，在重現信號上產生錯誤。 因而，本發明提供-種清除於半導體雷射上填充透明樹 脂時產生上述波前像差之不良影響的手段。亦即，係在半 導體雷射與聚光透鏡之間配置透明的平面板，以透明樹脂 填充上述半導體雷射與上述平面板所構成的空間。藉由= 用此種手⑨’可將波前像差抑制在可控制的範圍内。曰本說 明書中所謂之「透明」，係指自光源經過光碟而到達光檢 測器的光量，予以光電轉換後，具有足夠高的電流值，並 具有可確保雜訊對信號比的穿透率。而透明樹脂可填充成 掩埋平面板與雷射射出部間之自半導體雷射射出之雷射光 的光私亦可不填充光私以外的位置。此因並不影響波前 像差。亦即，包含雷射光射出部的半導體雷射表面^填充 材料覆蓋，且自雷射光射出部至平面板之間的雷射光光程 可被填充材料掩埋。藉由此種方式，包含雷射光射出部的 半導體雷射表面不致接觸空氣，即無造成腐蝕，表面附著 物質而促使老化等缺點。 形成於光碟上之光點之中心強度々，與形成其光點之波 前在對物透鏡之瞳孔面上具有之波前像差之標準偏差[rms] 之間’如後述的，具有 公式1 (l) η =1- (2 π / λ )2[RMS]: 的關係。若無像差時為丨，而形成於光碟上之光點的中心 -6 - 本紙張尺度適财S S家標準(CNS) A4規格( X 297公爱） v 1237254 A7 -----— —___ B7 五、發明説明（4 ) 約在0·8以上時，即無法以高的雜訊對信號比讀取光碟上的 吕己錄貢訊單位、凹痕。對應於該值之波前像差的標準偏差 為〇·〇7波長。因此，半導體雷射光源、填充材料、平面板 、對物透鏡及光碟基板全部產生的波前像差宜在上述之 0.07波長以下。 此外’平面板與填充材料之間有空間時，會因填充材料 表面的凹凸而產生波前像差，如何避免產生此種空間極為 重要。 另外’由於前述填充材料容易受潮，如何避免前述半導 體雷射與平行平面板所構成之空間不夠氣密，與外部空氣 通氣’而導致濕氣蓄積亦為重點。 此外’亦可以透明樹脂填充半導體雷射光源與包含附反 射鏡之基板的模組，該反射鏡使自其光源射出之光反射， 與平行平面板所構成之空間。此時，於填充透明樹脂時， 由於容易產生氣泡，因此宜射至切口部。 而透明樹脂使用導熱率高於空氣的樹脂時具有散熱效果 ’可降低半導體雷射與受熱器之間的熱電阻及半導體雷射 的工作溫度，因此可獲得更高的可靠性。導熱率高的樹脂 ，如矽樹脂等。 此外’填充之樹脂的折射率宜大於1。此因折射率大於1 時’可提高半導體雷射與反射鏡之間的折射率，縮小自半 導體雷射射出之光束的擴散角。 再者，由於半導體雷射與反射鏡之間填充有透明樹脂時 ，半導體雷射光束之孔徑角變窄，可縮小反射鏡的寬度， 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 1237254 五、發明説明（5 因此反射鏡的形成虛王f ^ 战处理合易，同時半導體雷射設置在附反 射鏡的基板上容易。又因附反射鏡基板的材料為石夕，並在 其上形成焦點誤差檢測田、、A ^ , 左桡劂用、追蹤誤差檢測用、或信號檢測 用的光檢測器陣列，因此可提高光元件的積體度。由於使 自光碟射出之光束到達該自動焦點誤差檢測用、追蹤誤差 檢測用、或信號檢測用的光檢測器，因此可在光碟與基板 之間配置繞射袼柵或全息元件。 該半導體雷射可使用於光碟重現裝置及記錄裝置，或光 通訊裝置上。亦即，光碟包含：CD、CD— R、CD_RW、 DVD、DVD-R、DVD_RW、及使用藍紫色半導體雷射的 超高密度光碟。除重現專用者之外，尚有使用相變化及光 磁效，之可重寫型光碟。在此等幕多的光碟之間保持匹配 f生亦是項重要的技術課題。有鑑於此，本發明將波長不 同的數個半導體雷射成陣列狀排列在矽基板上，可以同一 個光學頭記錄或重現上述任何一種光碟。 此外，若使用波長為850 nm、13〇〇 nm、155〇 nm等長波 長之半導體雷射，可活用於光纖通訊用的光源模組上。如 此應用時’係在形成有光點的位置上配置光纖來取代光碟 。波前像差對與光纖之結合效率的評估基準相當於公式 ⑴。 另外於本專利發明完成後’進行熟知例調查。結果發 現特開平5-25 1823號。該熟知例揭示有在半導體雷射晶片 上塗敷樹脂。圖3中揭示有填充樹脂材料，不過，其上部設 有光放射用孔，該孔上並未安裝透明破璃。因此在樹脂表 8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇 χ 297公釐） 1237254

面產生凹凸而發生像差。 發明之實施形態 (賞施例一） 圖2為本發明的第一實施例。亦即為，活用設置在半導體 雷射100與對物透鏡1〇2之間的平行平面板2〇1，在此等兩者 之間存在的空間202内填充透明樹脂1〇5，至少自半導體雷 射100射出，可在光碟上形成光點108的光線通過的區域内 不形成空氣間隙的構造。採用此種構造時，徹底減少所產 生之波前203的畸變，而近似理想的波前1〇7。此時，前述 平行平面板201與半導體雷射100的間隔大時，若採軸上配 置則球面像差大，若採軸外配置則彗形像差及像散像差大 本發明只須將貫際波前與理想之球面波前之光程差，亦 即波前像差的標準偏差設計成波長的〇 〇7倍以下即可。此 因，波前像差之標準偏差為波長的〇·〇7倍以下時，藉由對 物透鏡102所形成之光點1 〇8的中心強度不致低於無像差時 的0.8倍。以下’分析揭示前述波前像差之標準偏差與中心 強度的關係。 亦即，入射光波E(xf，yf)具有波前像差F(xf，yf)，且e之對 物透鏡108之瞳孔上的振幅分布一定，瞳孔外為零時，以 公式2 E(xf, yf) = Gonst · exp{ikO (xf, yf)} , k= λ /2 π (2) 來表示。藉由對物透鏡1 02所形成之會聚光點108的中心強 度7?為 公式3 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210Χ 297公釐） 1237254 AT B7 五、發明説明（ (3) | IKv ,yf)dxfdyf |2 ίΚν ,yf)dxj-dyf |2 dxfdyf 。此時’將公式（2)的指數函數予以Tayler展開時，則為 公式4 exp{ik(D (xf，yf)}二1 + ik〇) + (ik(D )2/2+...... (4) 。假設像差較小時，近似值取至2位，考慮公式（3)的分母為 常數時，中心強度7?可寫成 公式5 7=1 {{ [1 + ik〇 — (ikO )2/2]dxfdyf| (5) 公式6 =1 — (2 7Γ / λ )2〇ν(Φ 2)— { av(〇 ) } 2] (6) 。其中的av表示平均（average)。而av((D2)為波前像差之二 次方之對物透鏡曈孔上的平均，亦即為 公式7 ⑺ av(〇 2)= ίί φ 2 (Xf? yf) dxfdyf 亦即 ，{av(d))) 2為瞳孔面上之波前像差φ的平均二次方， 為 公式8 {av( Φ ) } 2=〔 JJ φ (Xf，yf) dxfdyf〕2 ⑻ 關係則 。如此，中心強度7/與波前像差之標準偏差[RMS]的 為 公式9 7/ =1 · (2 7Γ / λ )2[RMS] 2 ⑼ 亦即，7? =0.8時，[RMS] = 0.07又。因此，矽膠盥 夕，、十行平面 -10-本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 1237254

)。矽膠具 面上不形成 雜質離子等 由於矽膠具 。因此利用 蓄積的濕氣 此’封裝體 氣谷易排出 空氣通氣的 板上產生之波前像差的標準偏差最多須在〇.〇7入 另外，透明樹脂1 05係使用矽樹脂（如矽膠等 有容易與構件之表面密合的性質，與構件的界 間隙，因此不致因濕氣而結露水。因此可抑制 引起化學反應，造成腐蝕而形成老化。但是， 有吸濕性，亦可能以分子形態而停留在矽膠内 矽膠的透濕性，可將在高濕度環境下工作中所 ，於低濕度環境工作時，排出封裝體之外。因 104形成並非完全氣密，封裝體1〇4内蓄積之濕 外部’在封裝體104的任何位置，如2〇4與外部 構造。 (實施例二） 圖3顯不本發明的第二實施例。自半導體雷射ι〇〇射出之 光束被反射鏡300反射，並藉由兼具聚光及會聚功能的對物 透鏡102 ’在光碟103上形成光點108。此時，在半導體雷射 與水光透鏡102之間配置有透明樹脂及平行平面板go!。 半導體雷射100、附反射鏡的基板301及平行平面板2〇1收納 於附導銷302的塑膠製、金屬製或陶瓷至的箱3〇3内。且半 導體雷射100與平行平面板201之間，至少光通過部分完全 以透明樹脂填充。此外，對物透鏡並不限定於一個，亦可 構成聚光用透鏡與會聚用透鏡的兩個透鏡。圖中的12^> 束器。 圖4係放大圖3中之半導體雷射1〇〇與附反射鏡基板3〇1的 放大圖。亦即，半導體雷射1 00藉由焊錫402 (金/錫焊劑 -11 -

1237254 A7 B7 五、發明説明（ )口疋在石夕基板301上。半導體雷射之底面形成有電極圖案 4〇3(鈦/鉑/金電極），用於導通與散熱。基板3〇1之表 面與半導體雷射100的接觸面上形成有對準用標記4〇4，使 其與矽基板精度良好的對準。再者，矽基板3〇1上形成有反 射鏡300。採用9.7度偏角的矽基板時，藉由其各向異性蝕 刻，可形成45度的反射鏡。由於填充矽膠時，會產生氣泡 ，因此形成切口 405，以擴大空間構造，亦為本發明的重點 之一〇 再者，如圖4所示，填充透明樹脂1〇5時，自半導體雷射 100射出之光束的散射角可比圖5所示之空氣或氮：中的 散射角407為窄。此因，透明樹脂之折射率為11，波長1之半 導體雷射100的數值孔徑為3時，散射角0因繞射現象" 公式10 θ = λ /(na) ............(10) 而形成。通常η約為1.5。如此，縮小半導體雷射的散 時，可使反射鏡綱的面積以前小。此亦可將裝設半導體 雷射1 00之照射部的深度變淺，即可減 鹌乂 ·^蝕刻深度而增加 之平台面粗链的不良影響。這一點亦立 郝亦為本發明的重點之一 〇 (實施例三） 圖6為本發明之第三實施例。亦即， ^ τ 在矽基板301上形成 有平台600及反射鏡300，平台上奘讯士 卞。上沒，又有半導體雷射1〇〇。 、，男在前述基板301上形成有光碟記錄 里兄日导必備之自動斜隹 用之焦點偏差檢測用光檢測器陣列】、， …、 10亚形成有光碟之追 -12- 1237254

縱誤差檢測上所需之光檢測器陣列602。此外，光檢測器 603係用於監視半導體雷射的輸出者。集合此等光元件之構 件604以透明樹脂605填充，並收納於圖3所示的封裝體3〇3 内0 (實施例四） 圖7為本發明之第四實施例。亦即，自圖6中說明之構件 604的雷射輸出以聚光透鏡7〇〇準直，以三角反射鏡7〇1反射 ,經過繞射格栅702，藉由對物透鏡7〇3會聚，在光碟7〇4上 形成有光點705。自光碟704的反射光經過對物透鏡7〇3到達 包含繞射格柵的分束元件702 ,分別被光碟上之凹槽調制的 信號光被分束成自動焦點檢測光及追蹤信號光，並導入構 件604上的各個光檢測器内。 (實施例五） 圖8為本發明之第五實施例。亦即，顯示將包含繞射格柵 之分束元件800兼用作封裝體303的窗口。此時係將實施例 一之平行平板作為分束元件800者。自光源1〇〇射出之光被 兼用作填充樹脂之平板的分束元件8〇〇分束，以光檢測器 80i檢測。此時係顯示兼用作平行平板的實施例’當然，有 時也不兼用。分束元件8〇〇亦稱之為全息元件。 (實施例六） 圖9係顯示本發明之第六實施例。亦即，自包含半導體基 板900、數個半導體雷射晶片9〇1，9〇2、反射鏡9〇3、光檢測 器904, 905’ 906等之積體模組9〇7的雷射光分別形成光束 908, 909’以準直透鏡91〇形成平行光，經過三角反射鏡川

訂

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B7 五、發明説明（” 、繞射格栅板912等’到達對物透鏡913， 成有光點915, 916。對物锈浐‘ ^ 4面上形 對物透叙913有時因應半導體 而：成數時形成可將數個波長之光予以聚光的= 士則述透知為糟由致動器’因應光碟旋轉造成的移動，在 έ己錄重現面上對隹，且推并 上耵…且進仃追蹤，亦即追隨光碟面上的圮 =9:8者。如此’因應半導體雷射的開啟、關閉，信號 碟5己錄凹槽，或是，讀出所記錄的凹痕來重現作號 。如此’在積體模組9G7上集中有數個半導體雷射時，^ 透鏡9Η)、對物透鏡913、三角反射鏡911等構成一個，可促 使光學頭的光程單-化。亦即，使用本光學頭時，可以波 長為650 nm之半導體雷射9〇1記錄重現厚度為〇 6 DVD—RAM，可以波長約4〇〇 nm的半導體雷射9〇2記錄重 現超高密度光碟。 圖10為說明繞射袼栅9 12者。其係使偏光性的四等分繞射 格柵23與四分之一波長板24固著成一體的複合元件，並朝 向偏光性之四等分繞射格栅配置於半導體雷射晶片側。偏 光性之四等分繞射格栅包含複折射性的光學結晶板及液晶 板，入射光為正常光線時，不折射而穿透，異常光線時則 發揮繞射格栅的作用。圖9中，自半導體雷射9〇丨，902射出 之直線偏光的光束908，909，入射偏光性四等分繞射格栅與 四分之一波長板的複合元件912時，以正常光線入射時偏光 性繞射格柵的部分不折射而直接穿透，並藉由複合元件12 的四分之一波長板形成圓偏光。被光碟反射之雷射光束90s 及9〇9藉由複合元件9 12之四分之一波長板而形成異常光線 1237254 A7 _________ B7 五、發明説明（^71 ~---— ，並被偏光性的四等分繞射格柵繞射。圖1 0所示之複合元 件以邊界線21與22區分成四個區域。圓2〇顯示雷射光束9〇8 或909，被四等分繞射格柵分離成四個+ 一次繞射光與四個 1人、’70射光到達半導體基板的光檢測器部予以光電轉換 ，形成自動焦點信號、追蹤信號及資訊信號。以下詳細說 明。 圖11顯示自圖9之準直透鏡910側觀察之半導體基板9〇〇的 表面。以31表示之八個塗成黑色的四分之一圓表示被上述 繞射格栅23所分離之波長Aa的雷射光束，以32表示之八個 未被塗滿的四分之一圓表示被繞射格栅所分離之波長^ b的 雷射光束。50為用於獲得焦點偏差檢測信號的光檢測元件 ，包含·接X波長λ a之雷射光束的8個短栅型光檢測元件 與八個接叉波長又b之雷射光束的短柵型光檢測元件。焦 點偏差檢測方法係採用四等分光束之刀口方法（傅科方法 )，如圖U所示，以鋁等導電性薄膜33結線時，自結線用 塊34之A端子與B端子可獲得差動用的信號。8為用於獲得 追蹤偏差檢測信號與資訊重現信號的光檢測元件，四個光 檢測元件的輸出信號通過形成在半導體基板上的放大器Μ ’自塊36之D端子、E端子、F端子、G端子輸出。9為用於 監視半導體雷射晶片901與902之發光光量的光檢測元件， 光檢測元件9的輸出信號自塊34的（：端子輸出。點μ與42顯 示自半導體雷射晶片901與902放射之各個雷射光束與半導 體反射鏡903面上的反射位置。例如，圖1〇所示之四個區域 的繞射格柵間距P均相等，繞射格栅的方向對縱線21形成+ -15- 本紙張尺度適用中_家標準(CNS) A4規格(21GX 297公I) 1237254 A7 B7

五、發明説明（13 α度、一 α度、+ 3α度、〜36^度，此外，準直透鏡之焦 點距離為fc時，被繞射格柵所分離之波長λ a的雷射光束， 在以點41為中心之半徑Ra= fcx λ a/p的圓周上，在距中心 為2 α度間隔的位置聚光。同樣的，被繞射格柵所分離之波 長λ b的雷射光束’在以點42為中心之半徑Rb = fcχ又b / Ρ 的圓周上，在距中心為2 α度間隔的位置聚光。點41與42之 間隔之半導體雷射晶片901與902的發光點間隔D概略為D与 fcx( λ b— λ a)/P時，使波長λ a之雷射光束的聚光位置與 波長又之苗射光束的聚光位置概略一致時，如本實施例所 示，可以不同波長的光束將光檢測元件及放大器予以共通 化’除可卽約半導體基板9 0 〇的表面之外，還可減少結線用 塊及輸出線的數量，因此也有助於收納半導體基板9〇〇之封 裝體的小型化。如此構成之構件被透明樹脂1 〇5封裝，裝入 圖3所示的封裝體303内。此處係以兩種半導體雷射的積體 為例，不過，亦可適用於紅外線半導體雷射、紅色半導體 雷射及藍紫色半導體雷射等三種半導體雷射的基體。 (實施例七） 圖12為本發明之第七實施例。亦即，在以波長850 nm， 980 nm，1300 nm，1480 nm，1550 nm等振盪的半導體雷射 100與對物透鏡997之間具有平行平面板201，其間的空間以 透明樹脂105填充。藉由對物透鏡所形成的光點被光結合在 光纖990上。自前述光纖射達的光，為被分束器991反射， 並由光檢測器992受光，可形成雙向通訊者。當然，亦可不 設置分束器，僅進行單向傳送。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 1237254

發明之功效

活用本發明之透明樹 莖留一 、_ τ細具兄了梃呵監紫色半導體雷射 羊早或數個半導體雷射的可靠性，曰、上 ^ , J J罪性且可減少因透明樹脂 產生的波刖像差’可避旁作於 t尤1σ现：¾:化的重現光碟上的微小凹 槽，並可在光碟上記錄微小的凹痕。 圖式之簡單說明 圖1係用於說明本發明的圖。 圖2係本發明之光學頭。 圖3係本發明之光學頭。 圖4係本發明之半導體雷射與基板的關係圖 圖5係矽半導體雷射與基板的關係圖。 圖6係本發明之構件。 圖7係本發明之光學頭與光碟的關係圖。 圖8係本發明之光學頭。 圖9係本發明之光學頭與光碟的關係圖。 圖10係分束元件。

裝 訂 圖1 1係本發明之構件。 圖12係本發明之光通訊應用例。

線 元件符號之說明 8 光檢測元件 22 邊界線 9 光檢測元件 23 繞射格柵 12 分束器 24 波長板 20 圓 31 1/4圓 21 邊界線 32 1/4圓 -17 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） 1237254 A7 B7 五、發明説明（15 ) 33 導電性薄膜 302 導銷 34 結線用塊 303 封裝體 35 放大器 402 焊錫 36 塊 403 電極圖案 41 點 404 對準用標記 42 點 405 切口 50 光檢測元件 406 散射角 100 半導體雷射 407 散射角 101 光束 600 平台 102 對物透鏡 602 光檢測器陣列 103 光碟 605 透明樹脂 104 封裝體 700 聚光透鏡 105 透明樹脂 701 三角反射鏡 106 波前 702 分束元件 107 波前 703 對物透鏡 108 光點 704 光碟 109 分束器 705 光點 110 光檢測器 800 分束元件 201 平行平面板 801 光檢測器 202 空間 900 半導體基板 203 波前 901 半導體雷射晶片 204 通氣構造 902 半導體雷射晶片 300 反射鏡 903 反射鏡 301 $夕基板 904 光檢測器 -18 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐）

裝

1237254 A7 B7 五、發明説明（16 ) 905 光檢測器 906 光檢測器 907 積體模組 908 雷射光束 909 雷射光束 910 準直透鏡 911 三角反射鏡 912 繞射格柵 913 對物透鏡 914 光碟 915 光點 916 光點 918 記錄痕跡 990 光纖 991 分束器 992 光檢測器 997 對物透鏡 -19 -本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

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1 · 置，其特徵為包含 一種半導體雷射模組應用裝 半導體雷射； 透鏡，其係將 板材’其係在 前述光束；及 月’J述半導體雷射之光束予以聚光； 刖述半導體雷射與前述透鏡之間供穿 透 二真二才料：其係在前述半導體雷射與前述板材之間， 仏刖述光束，掩埋前述光束之前述半導體雷射與前 述板材間之光程所設置； 上述填充材料與板材之間所產生之波前像差的標準偏 差係在0.07波長以下。 2.如:請專利範圍第i項之半導體雷射模組應用裝置，其 中刚述填充材料設有與大氣通氣的通氣部。 3·如：請專利範圍第β之半導體雷射模組應用裝置，其 中a有用於内含别述填充材料的封裝體，前述封裝體内 設有用於與外部通氣的通氣部。 4. 士 t明專利|巳圍第i項之半導體雷射模組應用裝置，其 中前述填充材料為矽樹脂。 5. 如2請專利範圍第1項之半導體雷射模組應用裝置，其 中則述半導體f射位於基板上的特定區域内，前述基板 上形成有用於反射前述半導體雷射之射出光的反射鏡部。 6. 如申明專利範圍第5項之半導體雷射模組應用裝置，其 中在前述半導體雷射與前述反射鏡部之間設有切口部。 7·如巾°月專利車巳圍第1項之半導體雷射模組應用裝置，其 中則述填充材料的折射率大於1。 本紙張尺度適财g a家標準(CNS) A4規格Τ21〇><297公羡） 1237254

9. 申请專利祀園 如申請專利範圍第5項 貝之半導體雷射模 中在前述基板上形成有焦點誤差裝置’其 縱誤差檢測用之光檢測器 产，測器、追 器中之至少一者。 及貝κ唬重現用之光檢測 一種光碟裝置，其特徵為包含： 半導體雷射，其係用μ + 、类於，甘/ 、，、；在貝汛記錄媒體上照射光束； 透鏡，其係將來自前 ^ ,, k千导肢田射之光束予以聚光； /、糸在則述半導體雷射與前述 前述光束； 兄心门仏芽透 填充材料，其係在前述半導 & 祉空、悉、+、， 、干导肢田射與刖述板材之間 前 穿透則述光束’掩埋前述光束之前述半導體雷射盘 述板材間之光程所設置； 包含：焦點誤差檢測用之光檢測器、追縱誤差檢測用 之先檢測器、及資訊信號重現用之光檢測器的光檢測系 統中之至少一者；及 ’' 將前述資訊記錄媒體之反射光予以分束，使其到達前 述光檢測器的繞射光學元件。 10·如申請專利範圍第9項之光碟裝置，其中裝設有波長不 同的數個前述半導體雷射。 11 · 一種光通訊裝置，其特徵為包含·· 半導體雷射； 透鏡，其係將來自前述半導體雷射之光束予以聚光； 板材，其係在前述半導體雷射與前述透鏡之間供穿透 前述光束； 8 8 8 8 AB c D 1237254 六、申請專利範圍 填充材料，其係在前述半導體雷射與前述板材之間， 供穿透前述光束，掩埋前述光束之前述半導體雷射與前 述板材間之光程所設置，及 機構，其係將被前述透鏡聚光之光點導入光纖或光波 導路。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)

—一，作 公告本 申請曰‘ 屮-。卜3| 案 號 091101667 — 類 另>1 (以上各欄由本局填註） Α4 C4 1237254 中文說明書替換本(93年6月） If S專利説明書 -、II名稱 中 文 半導體雷射模組應用裝置 英 文 SEMICONDUCTOR LASER MODULE AND application EQUIPMENT 姓 名 國 籍 發明 1·立野公男 2·德田正秀 3·木村茂治 4·島野健 5.佐野博久 皆曰本JAPAN KIMIO TATSUNO MASAHIDE TOKUDA SHIGEHARU KIMURA TAKESHI SHIMANO HIROHISA SANO 住、居所 皆曰本國東京都千代田區丸内一丁目5番丨號新丸大樓 曰立製作所股份有限公司知的財產權本部 裝 π 姓 名 (名稱） 國 籍 曰商日立製作所股份有限公司 HITACHI, LTD. 曰本 JAPAN 線 申請人 住、居所 (事務所) 曰本國東京都千代田區神田駿河台四丁目6番地 庄山悅彥 ETSUHIKO SHOYAMA 丨X 297公釐）