TWI230146B - WDM optical filter and glass substrate for use in the WDM optical filter - Google Patents

WDM optical filter and glass substrate for use in the WDM optical filter Download PDF

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TWI230146B TW089115395A TW89115395A TWI230146B TW I230146 B TWI230146 B TW I230146B TW 089115395 A TW089115395 A TW 089115395A TW 89115395 A TW89115395 A TW 89115395A TW I230146 B TWI230146 B TW I230146B
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glass substrate
film
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Robert W Johnson
Hiroaki Yanagita
Kazuaki Hashimoto
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Hoya Corp
Hoya Corp Usa
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Description

1230146 A7 _B7_ ϊ ' 五、發明說明() 發明背暑 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係關於光學通訊領域中所用濾光膜,可從多數 波長的光成份中選擇特定波長的光束。本發明亦涉及上 述漶光膜用之玻璃基質。更具體而言,本發明係關於 WDM (波長劃分多工化)濾光膜。本發明又涉及該滤光膜 所用之玻璃基質。 在此類WD Μ通訊中,通訊之進行是利用波長彼此稍微 不同的光束組合成組合光束,相反地可從組合光束選擇 性衍生特殊波長之光束。於此,須知用於光組合和分開 之漶光膜,稱為WDM滹光膜。此種WDM濾光膜載於日本 專利申請案平10-339825和10-512975號公報。 此等公報內所載溏光膜各包括玻璃基質,上面形成 Si〇2 、Ti02 、Τ82〇5等介質多層膜。此介質多層膜 可做為帶通濾光器(BPF)操作,其功用為透射特定波長 光束或反射特定波長光束。原則上,在上面沉積介質多 層膜的基質,是由氧化矽等玻璃材料形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 同時,據最近報導,在此類瀘光膜中,通帶内的中心 波長會因溫度變4匕而漂移。另有報導,此種溫度漂移視各 玻璃基質和介質多層膜之熱膨脹係數而定(見高橋春雄 <〈應用光學>>34卷[4],第667 -67 5頁,1 995年)。 在上述論文中,提到事實上在通帶内的中心波長,會 朝正方向(即較長波長的方向)漂移或移動,若玻璃基 質之熱膨脹係數比介質多層膜的膨脹係數等熱性之預定 範圍為小。另方面,若玻璃基質的熱膨脹係數過大,則 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 五、發明說明( 向性 方特 負膜 於光 生濾 發, 移要 漂需 的不 長到 波大 心移 中漂 膜果 光如 濾 向 方 的 長 波 短 較 會 \ϊ/ 長 波 射 透 即 因波技 滤輸 通傳 帶化 用工 使多 若長 是波 其的 尤訊 。 通器 變學工 改光 良在 不如 有例 而 , 化器 變波 的濾 度帶 溫狹 作為 操器 多 解\ 器Η 多 學 光 用 所 中 術 響 影 直 Μ 嚴 有 會 中 Η , 多膜 長光 波滅 循的 〇 性 度特 密定 輸穩 傳更 到有 制具 限中 會 化 免變 不度 限溫 拘在 通 , 狹加此 項增用 該度使 為程及 因化 Μ 需 加 增 會 器Η 多 解\ 器Η 多 學 光 的 膜 光 0 然困 。 的 術性 技靠 制可 控期 度長 溫保 的確 膜 , 光所 濾。 議構 倡結 ,^ 性複 定要 安需 熱術 高技 提 項 為此 ο * 要而 密 高 礙 阻 成 構 。 移 貴漂 昂度 為溫 更的 成長 變波 置峰 裝尖 和通 備帶 設 , ,述 加所 增上 即如 隹 0 容 膜 層 多 時 化 變 度 溫 是 點 。缺。 一 的落 之膜剝 素光材 因漶基 的知璃 訊習玻 通,從 學外生 光此發 度 易 度 溫 的 長 波 心 中 帶 通 少 減 在 II曰 明 發 本 景 背 述 上 及 顧 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ♦裴 tr--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的需學 目所光 之和和 明數膜 發係光 本脹濾 , 膀 種 言熱 一 而需供 體所提 具有於 。 具在 落 ,, 剝質 膜基 層璃 多玻 質穎 介新 免供 Μ 提 ,於 移在 漂 , 的 巨1 另 明 發 本 份 成 組 帶 通 少 減 會 性 靠 可 度 高 有 均 者。 二移 ,漂 器度 工溫 多之 解長 \ 波 器心 工中 多內 化:¾項 工此 多。 解法 \ 製 化的 工質 多基 長璃 波玻 就之 供數 提係 於脹 在膨 ,熱 的有 目具 一 材 又基 明用 發膜 本光 濾 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 五、發明說明() 玻璃可藉控制特定玻璃成份量而得。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 按照本發明第一要旨,玻璃基質是要用於波長多工化 /解多工化漶光膜,係由包含Si02的玻璃所形成,其 在-30至+701C溫度範圍内的熱膨脹係數在100X 1(Γ7 /K 和 130 X 10·7 /Κ之間。 按照本發明第二要旨,玻璃基質是要用於波長多工化 /解多工化漶光膜,係由含Si〇2 、R2〇(其中R代表 鹼金鼷元素)和Ti〇2為基本成份,且包括基本成份總 計不低於60莫耳之玻璃所形成。 按照本發明第三要旨,玻璃基質是要用於波長多工化 /解多工化漶光膜,係由含Si02 、R2〇(其中R代表 鹼金顧元素)和Ti〇2為基本成份,其總量比其餘各成 份量為大之玻璃所形成。 按照本發明第四要旨,就第一至第三要旨各項所述玻 璃包括(M莫耳%計)。 S i 0 2 38 -58¾
TiO 2 7 - 30% A 1 2 0 a 0-12¾ R 2 0 共 15-40¾ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 按照本發明第五要旨,就第四要旨所述玻璃包括下列 (以莫耳χ計)做為R2〇:
Na 2 0 10 -25¾ K 2 0 4- 1 5¾ 按照本發明第六要旨,就第二和第三要旨各項所述玻 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 五、發明說明() 璃,包括(M莫耳S!計): S i 0 2 38-58¾ Na 2 0 13-25¾ K 2 0 2-15¾ TiO 2 10-25¾ A 1 2 0 a 0.5-8¾ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 按照本發明第七要旨,就第二至第六要旨各項所述玻 璃,包括至少一種R’O氧化物,選自包含鹼土金羼氧化 物和氧化鋅。 按照本發明第八要旨,在第七要旨中所述玻璃,包括 R’o以莫耳χ計總共為2至15!«者。 按照本發明第九要旨,在第七和第八要旨各項中所述 玻璃,包括下列(Κ莫耳計)做為R’〇:
MgO 0-13¾ CaO 0-10¾ Sr 0 0- 8¾ BaO 0- 6¾ ZnO 0-10¾ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 按照本發明第十要旨,在第七至第九要旨各項中所述 玻璃,包括(K莫耳》;計)。
MgO 1-13¾
ZnO 0.5-10¾
Sb 2 0 a 0-1% 按照本發明第十一要旨,在第二至第十要旨各項中所 -6 ~ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 - - 五、發明說明() 述 玻 璃 9 包 括 (以莫耳J ί計) ): Zr 0 : 1 0- -2¾ Hf 0 : 1 0- -2¾ La 2 0 : 3 0- -2¾ Y : 1 〇 丨彐 0- 2% 按 照 本 發 明 第 十 二 要 旨 $ 在 第 二 至 第 十 一 要 m 各 項 中 所 述 玻 璃 $ 於 -3 0 至 + 70 丨Ρ 溫 度 範 圍 内 之 平 均 熱 膨 脹 係 數 介 於 100X10, ?和 130 X ι〇-7 之 間 0 按 照 本 發 明 第 十 三 要 旨 $ 在 第 十 二 要 旨 中 所 述 玻 璃 $ 於 -3 0 至 + 7〇υ 溫 度 範 圍 内 之 平 均 熱 膨 脹 係 數 介 於 105 > < 10 -7 和 120 > <10, 7之間< ) 按 昭 汐S、、 本 發 明 第 十 四 要 旨 $ 在 第 一 至 第 十 二 要 Μ 各 項 中 所 述 玻 璃 9 具 有 Κη 0 0 Ρ 硬 度 不 小 於 455MPa 〇 按 照 本 發 明 第 十 五 要 旨 $ 波 長 多 工 化 / 解 多 工 化 瀘 光 膜 > 具 有 在 第 一 至 第 十 四 要 旨 各 項 中 所 述 玻 璃 基 質 $ Μ 及 沉 積 至 基 質 上 之 光 學 多 層 膜 〇 按 照 本 發 明 第 十 要 旨 9 滤 光 膜 在 帶 通 中 心 波 長 的 溫 度 漂 移 介 於 -0 .0 0 2 5η m/K 和 + 0 · 0025 mm /K之 間 〇 按 照 本 發 明 第 十 七 要 旨 波 長 多 工 化 / 解 多 工 化 光 學 單 位 9 具 有 在 第 十 五 和 第 十 \ A 要 旨 各 項 中 所 述 漶 光 膜 〇 按 照 本 發 明 第 十 八 要 旨 9 方 法 是 用 來 製 造 濾 光 膜 的 玻 璃 基 質 中 所 用 玻 璃 0 漶 光 膜 具 有 光 學 多 層 膜 9 固 定 沉 積 於 玻 璃 基 質 上 $ 並 具 有 帶 通 瀘 光 膜 功 用 〇 此 方 法 包 括 步 驟為,藉控制Ti〇2和鹼金鼷氧化物R0做為玻璃成份之 -7- (請先閱讀背面之注意· 事項再话 填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 -五、發明說明() 量,而得在-30至+70 °C溫度範圍之平均熱膨脹係數介於 100X 10·7 和 130X 1(Γ7 間之玻璃。 中量用 旨 ο 可 要Ξ在 十02移 第Τ1漂 在節度 ,調溫 旨圍之 要範長 九度波 十溫心 第用中 明可內 發膜帶 本光通 照瀘的 按及膜 顧層 是 内 法 g 圍 學 方Μ範 拉I 为 ί 过S度 所使溫 明 說 。 细 、 uti 最明 為發 成本 叠 續 接 面 表 質 基 璃 玻 在 係 膜 光 0 造 製 來 用 質 基 璃 玻 層之 多内 學束 光光 成射 形入 並過 ,通 膜 , 質擾 介干 率學 射光 折用 低藉 和 , 膜能 質功 介通 率帶 射有 折具 高 , 置膜 內可 帶 , 通用 的功 上通 化帶 工述 多上 解知 \ 須 化此 工於 多。 長移 波漂 在度 須溫 必少 。 ,減 光述 , 長所長 波前波 定如心 特 中 降到 , 霈慮化 移考變 漯要率 度。射 溫伏折 少起膜 減的各 即度含 意長所 。 徑内 成光膜 完起層 擾引多 干化是 學變 , 光度伏 之溫起 内因的 膜内間 層膜度 多層長 用多徑 藉低光 時 化 變 度 溫 於 露 暴 膜 光 滤 當 上 實 0 。 到 果盧 結考 的須 化必 變 , 厚外 膜此 和 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 。 面 縮表 脹質 性基 熱璃 }玻 膜於 層積 多沉 學定 光固 即膜 {層 膜多 層學 多光 随於 會由 也 , 質知 基可 璃述 玻上 ,由 於造 由 會 ,力 時應 同熱 不此 數。 係力 脹應 膨 熱 熱予 的賦 此膜 彼層 膜多 層學 多光 和對 質會 基 , 璃縮 玻脹 當性 ,熱 射 折 和 度 厚 的 膜 〇 層 化多 變學 微光 稍生 率發 射力 折應 和熱 度於 厚由 膜設 層假 多 , 學此 光於 成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 __B7_ 五、發明說明(7 ) 率變化,即可被由於光學多層膜的熱性脹縮發生的厚度 化所柢銷。在此情況下,可減少光學多層膜内光徑長度 的變化。 詳後所述,本發明實用光學多層膜可抵銷上述二項變 化,結果減少光學多層膜内光徑長度之變化。尤其是按 照本發明人等的實驗,已知令玻璃基質在-30至+ 70它溫 度範圍內之平均線性熱膨脹係數在100X 10"7和130X ίο·*7 /K範圍內(Μ 105 X ΙΟ·7至120 X 10-7 /K為佳),即可減 少溫度漂移。 如上所述,可Μ考盧應力必須發生在玻璃基質和光學 多層膜接觸表面間,Μ減少溫度變化引起光徑長度的變 化。然而,玻璃基質較可當做介質膜操作的光學多層膜 為軟。所Μ,光學多層膜會從玻璃基質剝離。結果,使 用玻璃基質時,難Μ獲得高度可靠性。 在此情形下,本發明第一觀點在於包括Si02之玻璃基 質,在- 3〇υ至+ 7〇υ溫度範圍內之平均線性熱膨脹係數 介於 100Χ10-7 和 130Χ1(Γ7/Κ 之間(Κ105Χ1 〇-7 和 1 2 0 χιο7/κ間為佳)。設定在上述範圍内的平均線性熱膨 -------—裝-------- 訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 數 ο 係S1 脹含 外 此 0 移 漂 度 溫 的 長 波 心 中 帶 通 在 少 減 可 度 SC 璃 玻 進 增 來 用 止 防 可 質 基 璃 玻 有 具 並 剝 2 質 ο 基S1 璃 , 玻點 從觀 膜一 層第 多照 學按 光 落 2 10 S ο 禮 成 形 路 網 璃 玻 成 變 好 最 的 。 作 斷操 判體 式成 方形 述路 下網 按璃 可玻 •為 體做 成可 形含 路不 網內 璃璃 玻玻 成若 形 , 否先 是首 彐 ο 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 - 五、發明說明() (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、82〇5等任何其他成份,即可判斷Si〇2為玻璃網路 形成體。另方面,若玻璃含有B2〇3 、P2〇S等任何其 他玻璃網路形成體,當Si〇2量充分大於其他玻璃網路 成形體,例如可到二倍,亦可判斷Si〇2為玻璃網路成 形體。 因此,含Si〇2做為玻璃網路成形體,有助於進一步 提高玻璃基質的硬度,並防止光學多層膜因溫度變化而 從玻璃基質剝落。因此,可Μ解決剝落的問題。M Kn OOP 硬度衡量,玻璃基質的硬度不小於455MPa, Μ大於460MPa 為佳,而大於500MPa更好。 本發明第二觀點在於玻璃基質的平均線性熱膨脹係數 在 100 X 10·7 和 130 X ΙΟ·7 /K之間,K 105 X 1(Γ7 和 120 X 10·7/Κ之為佳,並具有適於獲得所需硬度的組成份。 此玻璃基質可由包括Si〇2 、R2〇(R為鹼金層元素) 和Ti〇2為基本成份,而基本成份總量超過6〇莫耳χ的 玻璃實施。另外,玻璃可包括Si〇2 、R2〇(R為鹼金靥 元素)和Ti〇2為基本成份,而基本成份總量可超過基本 成份Μ外的其餘成份各量。R2 0量表示鹼金靥氧化物總 量。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 上述玻璃K下稱為Si〇2 -R2 〇-Ti〇2糸玻璃。玻璃基 質的Knoop硬度不小於455MPa, M460MPa為佳,而Μ 500MPa更好,正如對第一觀點所述。 在Si〇2_R2〇-Ti〇2系玻璃中,Si〇2用來使玻璃本 身硬化,並改進玻璃的耐候特性。R2〇可操作來控制平 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 Α7 Β7 9 五、發明說明() (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 均線性熱膨脹係數。尤其是R2 0用來調節含Si〇2玻璃 的平均線性熱膨脹係數,至上述預定範圍内之所需平均 線性熱膨脹係數。Ti02用來獲得需平均線性熱膨脹係 數於預定範圍內,並進一步優於耐候特性。 K上述Si〇2-R2〇-Ti〇2糸玻璃,顧及沉積於玻璃基 質上之光學多層膜,可確實配合在- 3〇υ和+701C溫度的 平均線性熱膨脹係數於預定範圍內。此項配合可藉控制 R2 0和Ti〇2間之取代程度進行。例如調節R2 0和Ti02 間的取代程度,使溫度漂移在可得溫度範圍(例如室溫) 内,變成最小(即最接近零)。結果,玻璃之平均線性 熱膨脹係數可調至所需值。於此,可藉測量各原料量並 熔化玻璃,以控制R 2 〇和T i 0 2間之取代程度。 須知Si〇2 -R2 〇-Ti〇2系玻璃對光學通訊用波長帶在 1.3和1.6m間之光束透明。意即上糸統玻璃可做為高品 質之光學玻璃。 其次說明Si〇2 -R2 〇-Τ1〇2系玻璃内所含玻璃成份量。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 關於Si〇2, Si02在38莫耳!Κ Μ下時,會使耐候特性 劣化,並降低玻璃硬度。因此,光學多層膜容易從玻璃 基質剝落。另方面,Si〇2超過58莫耳!《時,平均線性 熱膨脹係數會低於上述預定範圍,結果不良增進溫度溧 移。因此,Si〇2量在38和58莫耳χ範圍内,M38至50 莫耳%為佳,而Μ38至48莫耳!ϋ更好。Si〇2最佳範圍 在42和48莫耳S:之間。 就鹼金鼷氧化物R20而言,若總量低於15莫耳!K ,即 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 難K獲得上逑結果。另方面,R2O超過40莫耳!《時,玻 璃耐候特性有劣化傾向。因此,R 2 0總量限定在15和40 莫耳S:之間,Μ 22至32奠耳為佳。鹼金羼氧化物R2〇 MNa2 〇和/或K2 0為佳。玻璃內含有Na2 〇和K2 0二者 更好,而鹼金鼷氧化物僅由Na2〇和K2〇組成為宜。
Na20量宜在10和25莫耳》:範圍内,Μ13至25莫耳!《範 圍更好,而M15至22莫耳範圍最好。另方面,K2〇量 在2至1 5莫耳!Κ範圍內,Κ 4 - 1 5莫耳!《為佳,6 - 1 5莫耳% 更好,而Κ6-10莫耳!《最佳。 至於Ti〇2 , Ti〇2在7莫耳會使耐候特性劣化,且 難Μ使平均線性熱膨脹係數在預定範圍内。Ti〇2超過 30莫耳χ ,難K使平均線性熱膨脹係數在預定範圍内。 所M, Ti〇2量在7至30莫耳》:範圍内,Μ10和25莫耳Si 之間為佳,又W 1 0 - 2 2莫耳》;或1 2 - 2 2莫耳S:之間更好, 而Κ 12-20莫耳%最好。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 雖然Al2 〇3是MSi02 -R2 〇_Ti〇2系玻璃隨意成份 添加,可用來改進耐候特性,並使玻璃硬化。然而, Al2〇3在12莫耳:K K上時,難Μ獲得預定範圍内的平 均線性熱膨脹係數。在此情況下,A 1 2 0 3是限制在〇 -12莫耳S!間之範圍,M0.5至12莫耳ί!為佳,0.5-8莫耳S: 更好,卜8莫耳%或2-8莫耳》!又更好,而Μ2-6莫耳!《 最好。 如上所述,Al2〇3做為隨意成份添加於Si〇2-R2〇-Ti02糸玻璃,但一如Si02可Μ改進耐候特性,並使玻 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 璃硬化。因此,Al2〇3可做為基本成份添加於玻璃。 在此情形下,玻璃宜包括(M莫耳計): S i 0 2 38 -58%
Na 2 0 1 3 -25¾ K 2 〇 2-15¾ T i 0 2 1 0 -25¾ A 1 2 0 a 0.5-8¾ 在上述玻璃組成份內,不必界定R2O總量。然而, R20總量不限於15-40莫耳%範圍,K22-32莫耳為佳 ,一如上述組成份。 按照第二觀點,玻璃除上述成份外,需含有選自包含 鹼土金靨氧化物和氧化物和氧化鋅之至少一種氧化物。 其中Μ含MgO和ΖηΟ的玻璃為佳。此等鹼土金鼷氧化物 和氧化鋅可Μ改進玻璃之脫琉抵抗性和熔合性。因此, 含二價成份可降低液線溫度,便利製造和形成玻璃。此 外,Ζ η 0可使玻璃有效硬化,並防止光學多層膜剝落。 不論含有鹼土金靨氧化物或氧化鋅,二價成份總量宜不 低於2莫耳, Μ便實規上述效果,且不超過15莫耳% ,不使耐候特性劣化。 為實現優異的脫琉柢抗性,並避免降低耐候特性,玻 璃可包括(Κ莫耳5Κ計):
ZnO 0-10¾ MgO 0-13¾ CaO 0-10¾ Sr 0 0- 8¾ BaO 0- 6¾ 爿3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ----------裝-------^訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 Α7 Β7 12 發明說明() 更好是玻璃包括1-13莫耳S; 。MgO和0.5-10莫耳劣 ΖηΟ ° 上述Si02-R20-Ti02条玻璃可含精製劑•諸如 Sb 2 0 a ,其量霈限制在0-0·1莫耳%轉圍。 為改進耐候特性,Si02 -R2 〇_Ti〇2可含有選自Zr〇2 、Hf〇2 、La2〇3 、Y2〇3 之至少一種氧化物。Zr〇2 、 Hf〇2 、La2〇3 、Y2〇3等各成份量,可視需要限制在 0-1.2莫耳S!範圍,使平均線性熱膨脹係數不低於預定 範圍。若上述各成份超過0.2莫耳!》:,可優異改進抗酸 性0 只要在本發明不違其目的情況下,可添加例如Li、鑭 系金靨、Nb、Ta、W、B、Ga、In、Ge、Sn、Pb、P、S b 、Bi、Te之氧化物,至若7奠耳》;。添加此等氧化物有 肋於調節玻璃折射率、玻璃軟化點、和作業性。只要完 成本發明之目的,氧化物成份的若干!《可改用氟化物, 代替玻璃内所含氧化物成份。 然而,按照本發明人等實驗研究,已知最佳玻璃組成 份,是由 Si〇2 、Na2〇、K2〇、Ti〇2 - A 1 2 0 a 、MgO 、Z η 0之組成份特定,或將上述組成份組合,而於組成 份添加S b 2 〇 3做為精製劑。 按照第一和第二觀點的玻璃基質,平均線性熱膨脹係 數比一般所用典型玻璃為大。所K,即使使用工業上廣 用的金鼷材料,諸如碳鋼(熱膨脹係數約120 XI 0_7/K) -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------#裝--------訂---------4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 和不銹鋼(熱膨脹係數約11 0 X 1 〇-7 / K ),為固定構件, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 玻璃基質和固定構件間的熱膨脹差異小。因此,玻璃基 質和固定構件之間因溫度變化以致發生應力引起的光學 失真小。關於塑膠材料,可得類似優異,因為選擇聚合 度和檔速劑,可用工業上廣用而熱膨脹係數在90和150 XI (Γ7 /K間的聚乙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯酸甲酯等材 料製成。 光學裝置可用光學單位構成,具有由Si02-R20-Ti〇2 系玻璃形成的光學元件,並固定於由上述碳鋼、不銹鋼 (410型)、聚乙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯酸甲酯等形成 之固定構件。光學裝置對抗熱變化的光學失真小,所安 定性優異。此外,耐候性優良,故可在廣泛作業環境内 使用。 其次,說明本發明濾光膜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明濾光膜用於光學多工器/解多工器裝置,Μ供 波長多工化/解多工化。滤光膜包括上述玻璃基質,和 利用接鑛沉積和叠置高折射率介質膜和低折射率介質膜 ,而在玻璃基質上形成的光學多層膜。光學多層膜有光 學干擾所致的帶通功用,並可藉變化結構和折射率,Κ 改變通帶内之中心波長。 高折射率介質膜材料可用Ti〇2 、T32〇5 、Hf〇2 、 Z r 0 2 % C e 0 2 Λ A 1 2 〇 3 、Y 2 0 3 %ZnS\Mg〇\La2〇3 、CdS、Si等。低折射率介質膜材料可用Si〇2 、MgF2 、ThF4 。高折射率介質膜較佳材料為Ta2 Os 、Ti〇2 , -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 而低折射率介質膜可用Si〇2 。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 漶光膜中心波長的溫度漂移,可藉適度調節所用基質 材料的平均線性熱膨脹係數而減少。連帶内中心波長的 溫度漂移,可藉用具有在100 X 10〃至130 X 1〇-7 /K範圍 内適當平均線性熱膨脹係數的基質,抑制在- 0.0025nm/K 和+0.0025ηιη/Κ間之範圍內,雖然視所屢沉積的膜特性 及沉積條件而定。所Μ,漶光膜可用廣大溫度範圍。此 外,玻璃基質材料的耐候特性優異,所Κ其儍點是在拋 光製程等當中不會發生表面劣化的問題。結果,在各種 作業環境下濾光膜均可適用。 於此,假設波長多工化/解多工化是在波長帶1.5Wm 內進行,而解多工化波長成份間之間距等於100GHz(相 當於波長間距0.8nm)。此外,又假設漶光膜有0.2nm的 高度透射帶寬度。在此情況下,若溫度漂移超過2.5pm (0,0025nm/K),而溫度變化超過10〇υ (例如-30至+ 7〇υ) 範圍,則信光學波長從高度透射帶寬度移至非透明區, 而不能解多工化。因此,濾光膜即發生不便。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,設多工化和解多工化波長成份的間距等於50GHz (相當於波長間距0. 4 n m)。只要漶光膜具有約0. lnm的高 度透私帶寬,當溫度漂移超過〇.5pm,而漶光膜内發生 溫度變化約100C(例如- 301C至+ 701C),信號光學波長 即可能落在非透明區內。結果,在此情況下亦發生不便。 如前所述,本發明濾光膜的溫度漂移在- 〇.〇〇25nm/K 和 +0·0025ηπι/Κ 間(M - 0.0005nm/K 和 +0·0005ηιη/Κ間為佳) -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 __B7_ 五、發明說明() 。所K ,可防止信號光學波長於尋常溫度變化範圍内,位 在高度透射帶之外,而完成高可靠性。 由於漶光膜內所用玻璃基質的Knoop硬度不小於455GPa 可防止因光學多層膜與玻璃基質間的線性熱膨脹係數不 同(甚至溫度變化超過ιοου),致光學多層膜從玻璃基 質剝落。 按照本發明,可得光學解多工器裝置,包括漶光膜, 光纖,把波長多工化光束經光纖的光出口端,導引到濾 光膜上;Μ及複數光纖,具有入射端,光波長成份經光 纖的光學多層膜給至此。 按照本發明,可得光學解多工器裝置,包括漶光膜, 具有光學多層膜;複數光纖,位於濾光膜,傳導被光學 多層膜所透射或反射的波長成份;W及一光纖,位於傳 導所透射和反射之波長成份,並導致多工化光束通過光 纖之入射端。顧及多工化波長數,可用複數瀘光膜,通 帶的中心波長彼此不同,各單獨進行多工化/解多工化 稱 體 常 者 二 /fv 置 裝 器Η 多 解 學 光 和 置 裝 器Η 多 〇 學 作光 操 ----------Φ裝--------訂---------秦 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 化靠 變可 烈度 激高 度有 溫具 在用 使使 即為 , 因 , 置性 裝靠 器可 工度 多高 解有 \ 具 器亦 Η , 多內 學境 光環 為的 膜 光 濾 之 性 圖 略 0 ; 之 圖用 略應 簡器 之工 態多 狀解 業 \ 作器 在工 膜多 光學 漶光 發發 本本 為為 圖圖 1 2 第第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 第3圖為玻璃內失真之測量圖; 第4圖為用來說明24個具體例中所示溫度與濾光膜中 心波長溫度漂移間之關係的曲線圖; 第5圖為用來說明24個具體例的漶光膜結構之示意圖; 第6圖為用來說明上述濾光膜中心波長的溫度漂移與 平均線性熱膨脹係數間之關係的曲線圖,使用第1至第 22實施例之玻璃基質(做為實施例1至實施例22)。 齡佯亘體例夕說明 玆就實施例詳述本發明。 -----------•裝--------訂---------秦 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 五、發明說明(W ) ro ro ro O) CO ίο s (O 00 σ> cn CO ro 讓 00 ro cn C71 Ol o it b CJl CJl CO ο (£) Ka § CO 00 b) CO CO <〇 CJ CO έ 办 ro ίύ CO £ ro CJl CJ> CJl cn Ko (J) δ f〇 ro έ CJ1 •Ol cn cn •ro CO Κ» —A 0 01 έ έ 产 ro b o ’〇 p s mmJk. CO bo ro CO N> CJ 00 bo 00 mmA 00 ro g S Μ b μ CJl mm*, CO cn 00 bo g mrnk ro CO • bi ro •⑴ ro CO b ro ro mmk CO o 00 bi 〇 bo —Λ CO bo σ> σ> σ> Kj σ> CO bi 00 b 卜 S CO bo o mmA· cn cji CJ1 cn 00 CO CO bl σ> in Ol •cn CJl cn ro CO Kj ro Ko ϋΐ σ> •mA 00 N) 〇> cn Ol CO «4 σ> k> mm* 00 bo po 一 CD mmk i 00 po «λ Kd d P o O o o o O σ> o o ο Ο O O o O O o o o 〇 o O ? o o o o o o o 〇 O o ο Ο o CO CO o o o o o o o o o g? o o o o o o cn 〇 O o ο Ο o o o o o o o o o o o ό cn Ks ϋΐ ro o o o σ> o ro ο ο o o ro CJl o o o o o o o o o S S o o CO b> o O o O ο 00 σ> o o O po o o o o o o M o O O o o o o o o o ο ο o o o o o o o o o o Nl P o o o o o o o o o ο ο o o o o o o o o o o sr ro cP o o o o o o o o ο ο o o o o o o o o o o o X P o o ro o o o o o o ο ο o o o o o o o o o o o cP o o o «A o o mmJL o —A § mmA o mmA o mmA ο «μΑ ο m^mA. o o o mmO. o o o o mmU. o o rnmA. 8 •mmA o □> 卜 b o o p to 05 ««A ro •o ro •o o b ro ο ο 00 Ο) o b CO CO ro Ol po o ’〇 o •o 為 CO o b o b O •o o o /刀α卜 mmA. bo mmA •ro «A •-A ro CO bo i CJ s Ko i or o to o ro CJl m^A. Ο ο CO g σ> 1 (D ^Λ. mmA Ol s CO ϋϊ mmJL bo b bo mmU. po i σ> 1 b> g b g|| O o o O 0 1 ό •o o o o s o o ro O § o 8 § o o s o b g ο ο μοΑ ο ο ο 办 o o mmJL o 0 1 o o o O o § O b o s o o 1 o ’〇 o CO 1 o 0 1 o o CJl o 0 1 o o CO ii δ讓 cn 〇 办 o o 衾 o O σ> mm*. o g o σ> ο ϋί CJ1 g έ O σ> o g g o g 2 o σ> S Οί σ> g 1蠢f ------------------(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 _B7_^_ 五、發明說明(丨Ο 奮施例1 -22 表1列出具有本發明WD Μ漶光膜用玻璃基質的各實施 例1-22之組成份,和在-30至+70TC溫度範圍内之平均線 性熱膨脹係數。表内各成份之含量Κ莫耳%表示。線性 熱膨脹係數是Ml 0_7 /Κ單位表示。R’O代表二價成份總 含量。 本發明玻璃製法如下。各成份材料使用與成份相對應 之氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽等。為得表1内所列組成物 ,將材料秤量,充分混合,製成玻璃原料。原料供應至 鈾坩堝,使用電瀘在1 200和1 450 t間之溫度熔化,搅拌 、精煉、勻化,鋪入適當預熱之模型內,凝固,逐漸冷 卻。 K實施例1為例說明玻璃之組成份。特別是按照上述 步驟,將秤量和充分混合的材料供應至粕坩堝,於預先 保持在1 350 ¾的電爐内熔化2小時。 在各實施例內,批料容易熔化、勻化,在製成的玻璃 内看不到脫琉。 上逑製成的玻璃,塑造成30mm4尺寸和lmin厚之基質 ,經兩面磨光。即製成WD Μ濾光膜用之玻璃基質。 各實施例內之玻璃,平均線性熱膨脹係數超過100 X 1 〇-7 / Κ。於此,須知利用雷射干涉儀型熱膨脹計(使用 雷射光束和光學干涉),測量平均線性熱膨脹係數。 將各玻璃粉碎,放入鈉i内,浸入燒瓶中的純水内。 於沸水浴內處理1小時後,測量重量減少。結果,各玻 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------•裝--------訂---------4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 璃重量減少在0.1¾或以下。因此,確認化學耐久性優異。 更具體言之,提供玻璃基質試樣,經拋光、厚度lmm 。在玻璃基質試樣上塗佈介質多層膜,是輪流沉積 和SiO 2膜所形成。此項介質多層膜之沉積方法,是沉 積光學薄膜之常用方法,可為例如ΙΑ0(離子協助沉積法) 等。 在上述方法中,把Ta 2 〇5膜沉積在玻璃基質表面至 厚24//m,結果,與玻璃基質接觸。在相對濕度85ΪΚ内 ,於溫度85¾,就玻璃基質的塗佈表面和未覆蓋表面, 進行高溫/高濕試驗600小時。高溫/高濕試驗為此技 術領域內所用之典型方法。試驗後,用肉眼和顯微鏡觀 察玻璃基質兩面,以估計表面上的反應和劣化。觀察結 果,在玻璃基質試樣的未覆蓋表面未見模糊。同理,在 用光學多層膜覆蓋的玻璃表面未見反應。此外,亦未見 到光學多層膜從玻璃基質試樣剝落。 參者例 製備氟磷酸鹽玻璃,組成份為20%P205 , 2(UA1F3 , 2 4 C a F 2 , 2 0 % S r F 2 , 1 6 % B a 0 (均為莫耳 ί: ) , W 及鹼金 鼷矽酸鹽玻璃,其組成份為3(UNa2〇3 , 7〇»JSi〇2 (莫 耳% )。其步驟類似實施例1至22。氟磷酸鹽玻璃和鹼 金鼷矽酸鹽玻璃内之熔點分別為1050C和12501。氟磷 酸鹽玻璃和鹼金鼷矽酸鹽玻璃之平均線性熱膨脹係數, 分別為 125 X ΙΟ·*7 /Κ和 112 X ΙΟ*7 /Κ。 將各玻璃粉碎,放入鉑籃内,浸於燒瓶中之純水内。 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) * * * ! -----------裝-------^訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 在沸水浴內處理1小時後,測量重量減少。結果,前者 和後者的重量減少分別為0 . 2 5和5 !»:。因此,確認化學 耐久性與上述實施例中之玻璃不同。 奮驗例2 3 把具有實施例5所示組成份之玻璃塊,塑造為尺寸 1 X 1 X cm,經兩面拋光。然後,Μ固定工模夾持玻璃塊 ,如第3圖所示。固定工模為SUS410(熱膨脹係數為 110X 10-7 /K)製成。使用***貫穿孔夾持玻璃的螺栓, 固定組件ΙΑ、1Β和組件2Α、2Β。各組件ΙΑ、1Β尺寸為 lx 2X 2.5cm,而各組件2Α、2Β的尺寸為lx lx lcm。 玻璃Μ固定工模固定後,按照日本光學玻璃工業標準 「J0GIS 14-1975光學玻璃應變測量方法」,確定在室 溫(23勺)未發生內部應變。然後,將玻璃和固定工模冷 卻至- 25t!。玻璃内再造成應變,Μ同樣方式評估。结 果,得應變lnm。因此,確定溫度變化Μ及玻璃與固定 工模間熱膨脹係數差異引起的應變很小。 出齩例1 把硼矽酸鹽光學玻璃(Si〇2 、Β203 、Na2〇、K2〇 分別為74:«, 9;K, 11%, 6¾,均為莫耳),塑造成尺寸 1 X 1 X lcm,經兩面拋光。然後,K實施例23之類似方 式,利用第3圖所示固定工模夾持固定。玻璃之熱膨脹 係數為75X10〃 /Κ。Μ實施例22類似方式,把玻璃和固 定工模冷卻。在玻璃内再造成應變,按類似方式評估。 結果,得應變8 n m。因此,確定由於溫度變化引起大應 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------------tr---------秦 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 __B7_ 五、發明說明() 變0 管施例24 在組成份如表1所示的WDM漶光膜用各玻璃基質表面 ,使用1^205和3丨02分別為高折射率材料和低折射率 材料,形成Fabry-Perot型1.55/iin帶通漶光膜。薄膜結 構由玻璃基質/ (^)7/1121^(}11/)711/空氣組合而成,其 中Η代表高折射率介質膜,L代表低折射率介質膜。由 此事實容易明白,上述結構是從玻璃基質側接績沉積Η 和L膜輪流沉積的7個組合(合計14膜),在上述7個組 合上面的2Η膜,在2Η膜上的單L膜,在單L膜上的輪流 Η和L膜7個組合,在7個組合上的單Η膜。於此,各 低玻璃由Si〇2做為原料形成,而各高折射率介質膜由 Ta 2 做為原料形成。玻璃基質為350 1。 在-2 〇至+ 4 ο υ溫度間測量濾光膜中心波長的溫度為依 賴性。對於具有實施例10組成份的玻璃,可得數值 + 0.0002nm/K ◦因此,確認熱安定性極優。同樣評估其 他組成份之玻璃。如表1内最後檷所示,數值介於 -0.0008nm/K和+0.0020nm/K間。因此,確認熱安定性極 優。 於此,有關入射光束的透射和反射特性,可由膜結構 内各膜的折射率和厚度算出,視入射光束的波長和偏光 面而定。膜結構內的各膜,即多層膜的光學厚度,通常 等於波長的四分之一(λ/4),或波長四分之一(λ/4)的 整倍數。高折射率材料可例如為Ti〇2 、Os 、Hf02 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --- I — --------^ 11111111 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 、Ze〇2 、Ce〇2 Λ A 1 2 0 3 Λ Y 2 0 3 Λ Ζ η S, MgO 〜La2〇3 、CdS、Si,而低折射率材料可例如為Si〇2 、MgF2 、 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
ThF 4 ◦ 此等光學多層膜構成Fabry-Perot型干涉滤光膜,在 狹波長範圍内具有高透射,而在接近狹波長範圍的波長 範圍內有高反射特性。結果,具有上述光學多層膜的漶 光膜,適用做WDM滤光膜。 奮施例25 提供玻璃基質,直徑50mm,厚12mm,組成份為46.5¾ S 1 0 2 , 3 . 3«A 1 2 0 3 , 19 . 6XNa 2 0 , 7 . ΟΧΙ 2 0 , 1^.6¾ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Ti02,S.2%MgO, 9.8!ΚΖηΟ(均為莫耳% )。玻璃基質經 兩面拋光。然後,在表面沉積光學多層膜,由通帶1544 nm的50GHz型Fabry-Perot干涉濾光膜形成。在上述50GHz WDM透射系内,高透射帶間之間距(即透射帶中心頻率 間之間距)等於50GHz或0.4nm。尤其是光學多層膜沉積 至總厚度在30Wm和40um間,由Ta2〇5和Si〇2膜輪流 叠置形成,為數超過100膜。光學多層膜沉積後,玻璃 基質從未覆蓋表面側削薄至厚度1mm ,露出經光學拋光 之後面。利用光學拋光露出的後面,施加抗反射塗料。 然後,Μ上述方式處理過的玻璃基質,切成複數片,各 為此技術領域內的典型尺寸1.4mmx 1.4mm。可做為滤光 膜操作。各漶光膜評估透射帶中心波長(可稱透射中心 波長)之溫度安定性。 參見第4圖,表示0至6〇υ溫度範圍內透射中心波長 -24 一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 __B7_ 五、發明說明() 之變化。已知上逑溫度範圍對於估計漶光膜特性極為重 要。如第4圖所示,在不高於25 °C的溫度可見有負溫度 漂移,而在高於2 5 C,即不低於3 0 C ,可見正溫度漂移 。然而,已知從第4圖容易明白,此項溫度漂移極小。 有鑑於此,可得結論是在圖示溫度範圍内,平均溫度漂 移很小,而在從負溫度漂移變成正溫度漂移的溫度範圍 附近的溫度,溫度漂移可視為零。若上述溫度決定為主 要可行溫度(室溫),則在通常作業環境(不太高溫度環 境),可建立極安定的溫度特性。 如前所述,藉調節玻璃基質內所含R2〇和Ti〇2各量, 可使室溫時的溫度溧移實質上為零。 第4圖所示溫度漂移,是在接近室溫的較狹溫度區内 測量。然而,Μ實施例24類似方式進行評估時,已確定 在- 2010至+ 40^溫度區内之平均溫度漂移等於-0.0004 nm/K。漶光膜在lOCM+YOt溫度範圍内,濾光膜之玻 璃具有112.5X 10 /K的平均線性熱膨脹係數。 參見第5圖,WD Μ用之漶光膜具有玻璃基質,Μ及在 玻璃基質上輪流沉積之一 HTa2〇5和Si02膜。在圖示 具體例中,Ta2〇s膜與玻璃基質接觸,已如上述,而 Ta 2 〇 5膜和S i 0 2膜,則在此圖上部份省略。 參見第6圖,平均線性熱膨脹係數和在透射中心波長 的溫度溧移,分別做為縱座標和横座標。於此,濾光膜 是藉由實施例卜22列舉的各玻璃基質構成,而就各滤光 膜表示平均線性熱膨脹係數與溫度漂移間之關係。 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ---------- .裝—-----訂----1---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 __B7_ 五、發明說明() bh齩例2 Μ類似實施例24的方式,使用硼矽酸鹽光學玻璃BK7 做為基質玻璃,製成帶通瀘光膜。 Μ類似實施例24的方式,測量尖峰波長的溫度依賴性 。結果,得數值0.0055nm/K。因此,確認熱安定性較本 發明濾光膜差。 管施例26 其次,說明本發明WDM漶光膜的具體例。第1圖表示 用來說明藉光學多工器/解多工器進行光學多工化/解 多工化操作之簡圖。 在選自實施例1-22的玻璃形成之玻璃基質上,沉積介 質多層膜,Μ製備溏光膜(4A, 4B, 4C),分別具有透射 波長λΐ, λ2, λ3組成的信號光,供應至此等濾光膜 。信號光通過濾光膜後,***或解多工化成為波長λΐ, λ 2, λ 3。因此,上述結構用做將複數波長光***或解多工 化成為個別波長之設備。若光行進方向與圖示相反,結 構即做為把波長λΐ, λ 2, λ3多工化或組合在一起的 設備。 其次,第2圖表示用來說明把從含有4個波長成份的 信號光束解多工化或***成各波長成份之光學多工器/ 解多工器(組合器/***器)之簡圖。 如圖所示,製備使用選自實施例1-22的玻璃形成的濾 光膜(5 A , 5 Β , 5 C , 5 D ),把各濾光膜固定於對信號光波 長帶透明的基部構件6 ,而得光學解多工器或***器。 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------1 —裝—!—訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230146 A7 B7 — 五、發明說明() 此等濾光膜分別透射波長λ 1 , λ 2 , λ 3, λ 4。從單模 式纖維(SMF)9射出的信號光(波長λΐ, λ2,人3, λ4) 利用透鏡8描準,而入射於光學解多工器或***器裝置 ,如圖所示。波長λ 1光透射過滤光膜5Α,利用透鏡7Α 耦合至SMF 10Α,並從波道Α射出。波長λ2光,波長入2 光,波長λ 4光,被溏光膜5Α反射,入射於滤光膜5Β, 如圖所示。在濾光膜5Β,波長λΐ光***或觸多工化, 從波道ΒΚ上述類似方式射出。同此,λ 3光和λ 4光分 別從波道C和D射出。 在波長多工化透射中,讓光學多工器/解多工器裝置 有單模式纖維(SMF) 9配置在透射側,和單模式纖維 (SMF)IOA-D配置在接收側。在此情況下,裝置用做光學解 多工器裝置,把單一光束解多工化為複數波長。若光行 進行方向與圖示相反,裝置用做光學多工化裝置,把複 數光束多工化為具有複數波長之單一光束。無論如何, 都可達成光學多工器/解多工器裝置具有溫度漂移在 -0.0025nm/K和+ 0.0 0 2 5 nm/K之間,故具有高度可靠性。 更具體言之,圖示光學多工器/解多工器裝置在波長成 份彼此很靠近的高密度之波長多工化通訊中有高度可靠 性0 按照本發明所得玻璃基質,具有充分硬度,優異耐候 特性,Μ及所需平均直線熱膨脹係數,並適於波長分配 多工化(WDM)濾光膜。此外,亦可得WDM濾光膜和光學 多工器/解多工器裝置,在通帶内中心波長的溫度漂移 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------裝---—---訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 261230146 A7 B7 五、發明說明( 少,而對溫度變化有高度可靠性。此外,藉調節玻璃内 所含做為玻璃材料之特定玻璃成份量,可使用做濾光膜 的溫度範圍內之溫度漂移最少。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

1230146 六、申請專利範圍 第891 1 5 39 5號「WDM濾光膜及用於WDM濾光膜之玻璃基質 」專利案 ----------------
六、申請專利範圍: ------------------------ 1 . 一種用於WDM濾光膜之玻璃基質,在玻璃基質表面塗 有光學多層膜; 該玻璃基質係由含Si02且在-30°C至+70°C溫度範圍 內的平均線性熱膨脹係數在l〇〇xl〇_7/K和130Χ10·7/Κ 間的玻璃形成者。 2 . —種用於WDM濾光膜之玻璃基質,在玻璃基質表面塗 有光學多層膜,玻璃基質係由含Si02、R20(R爲鹼金屬 元素)和Ti02爲基本成份,而基本成份合計不小於60 莫耳%的玻璃所形成者。 3 · —種用於WDM濾光膜之玻璃基質,在玻璃基質表面塗 有光學多層膜,玻璃基質係由含Si02、R20(R爲鹼金屬 元素)和Ti02爲基本成份,而各基本成份量比基本成份 以外的各其餘成份量爲大者。 4 ·如申請專利範圍第2或3項之玻璃基質,其中玻璃 包括(以莫耳%計): Si02 38-58% Ti〇2 7-30% A 12〇3 bO合計 0-12% 15-40% 1230146 六、申請專利範圍 5 .如申請專利範圍第k 項之玻^离基質 ,其中玻璃包括. (以莫耳%計)下列 ,做爲r2o: Na2〇 10-25% K20 4-15% 6 .如申請專利範圍第2 項之玻璃基質 ,其中玻璃包括(以 莫耳%計): Si〇2 38-55% Na2〇 13-25% K2〇 2-15% Τι02 10-25% A 1 2〇3 0.5-8% 7 .如申請專利範圍第2 項之玻璃基質 ,其中玻璃包含至 少一種氧化物R ' 0, 係選自包含鹼土金屬氧化物和氧 化鋅者。 8 .如申請專利範圍第7項之玻璃基質 ,其中玻璃含R ’ 0總 量在2和15莫耳%之間者。 9 .如申請專利範圍第8 項之玻璃基質 ,其中玻璃所含R ’ 0 係: M g〇 0-13% Ca〇 0-10% SrO 0- 8% -2- 1230146 六、申請專利範圍 BaO 0- 6% ZnO 0-10% 10.如申請專利範圍第 歹1J (以莫耳%計): ο 7項之玻璃基質,其中玻璃包含下 Mg〇 1-13% ZnO 0.5-10% Sb203 0-1% 1 1 ·如申請專利範圍第 莫耳%計): 〇 2項之玻璃基質,其中玻璃包含(以 Zr02 0-2% Hf02 0-2% L a 2 〇 3 0-2% Y2〇3 0-2% 1 2 ·如申請專利範圍第2或3項之玻璃基質,其中在-30 °C至+70°C之溫度範圍內的平均線性熱膨脹係數在1〇〇 X 1〇_7/Κ 和 130 X 1CT7/K 之間者。 1 3 .如申請專利範圍第12項之玻璃基質,其中在- 30°C至 + 7(TC之平均線性熱膨脹係數在1〇5Χ10·7/Κ和120X 1〇-7/Κ之間者。 1 4 .如申請專利範圍第 1、2或3項之玻璃基質,其中 -3- 1230146 六、申請專利範圍 Knoop硬度不小於455MPa者。 15. —種用於光學多工器/解多工器裝置之濾光膜,包含 玻璃基質,其在-30°C至+70°C溫度範圍內之平均線性 熱膨脹係數爲1⑼χ1『7/Κ和130Χ10·7/Κ之間,且在 玻璃基質表面塗有光學多層膜,此玻璃基質係由含 Si02、R20(R爲鹼金屬元素)和Ti02爲基本成份,而基 本成份合計不小於60莫耳%的玻璃所形成的。 16. —種用於光學多工器/解多工器裝置之濾光膜,包含 用於WDM濾光膜之玻璃基質,其在- 3(TC至+7 0°C溫度 範圍內之平均線性熱膨脹係數爲100Χ1(Γ7/Κ和130X 10 ·7/Κ之間,且在玻璃基質表面塗有光學多層膜,此 玻璃基質係由含Si02、R20(R爲鹼金屬元素)和以02爲 基本成份,而基本成份之每一成份含量高於非基本成 份之其餘成份之每一成份含量。 1 7 .如申請專利範圍第1 5或1 6項之濾光膜,其中在帶通 中心波長之溫度漂移在-0 . 0025nm/K和+0.0025nm/K範 圍者。 1 8 . —種玻璃之製法,玻璃是用做波長分配多工化(WDM) 濾光膜之玻璃基質,係由沉積光學多層膜固定附於玻 璃基質表面所形成,具有帶通濾光膜功用,此方法包 括步驟爲,調節可做爲玻璃成份操作的鹼金屬氧化物 和Ti02量,使- 30°C至+7 0°C溫度範圍內之平均線性熱 膨脹係數在100Χ10·7/Κ和130Χ10·7/Κ範圍內者。 1230146 、申請專利範圍 19 .如申請專利範圍第18項之方法,其中R20和Ti02量 係參考濾光膜可行之溫度範圍調節,使在上述溫度範 圍內的光學多層膜帶通中心波長之溫度漂移變化最小 者0
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