JP2004317701A

JP2004317701A - 多層膜光フィルタ及び光学部品

Info

Publication number: JP2004317701A
Application number: JP2003109904A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Kitagawa; 均北川
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 2003-04-15
Filing date: 2003-04-15
Publication date: 2004-11-11
Also published as: TW200502591A; EP1469327A1; US20040207920A1

Abstract

【課題】本発明は、ほぼ０の温度係数を示す多層膜光フィルタ、およびそれを備えた光学部品を得ることができる技術の提供を目的とする。
の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、基板１と、該基板１の少なくとも一面上に設けられた屈折率の異なる複数の誘電体材料からなる薄膜３、４が繰り返し積層された多層膜５と、透過波長の温度依存性を調整する調整層２とを具備してなることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特定の波長の光を透過あるいは反射させ、バンドパスフィルタ、利得平坦化フィルタ等として応用可能な多層膜光フィルタとそれを用いた光学部品であって、特に温度特性を極めて小さくすることが可能な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
多層膜光フィルタは、積層された膜のそれぞれの界面での光の干渉現象を利用して対象とする光の波長範囲において所望の透過特性あるいは反射特性を得ようとするものである。
図７は、一般的に知られている多層膜光フィルタの一例を示すもので、この例の多層膜光フィルタ１００は、ガラス製の基板１０１上に、酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）からなる高屈折率層１０２と、酸化珪素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率層１０３とを数１０層〜１００層程度積層してなる多層膜１０５を備えたものである。
【０００３】
この種の多層膜光フィルタ１００において各層の膜厚は、透過あるいは反射の対象とする光の波長λに対して、光学厚さがλ／４となる厚さを中心に分布するように設計される。ここでの光学厚さとは、屈折率と物理的厚さ（実際の膜厚）の積で定義される値である。例えば、光通信用途の波長１．５５μｍの光を対象とする場合、実際の膜厚は、酸化タンタルの高屈折率層１０２において０．１８μｍの厚さの層を主体として０．０５〜０．８μｍの範囲に分布させ、酸化珪素の低屈折率層１０３において０．２６μｍの厚さの層を主体として０．０９〜０．８μｍの範囲に分布させるように設計するものが一般的である。
【０００４】
ところで、この種の多層膜光フィルタ１００にあっては、周囲温度の変動によって透過ピーク波長がシフトするという問題を有している。このため、このような問題を解消する目的で、波長シフトの温度係数値が基板１００の線膨張係数値に対して単調に減少するという関係を知見し、線膨張率の値に鑑みて基板の構成材料を決定するとともに、多層膜の種類を選定して温度係数を調整することで対処しようとする技術が開示されている。（特許文献１参照）
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−１９８９３５号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
先の特許文献１に開示されている技術によれば、基板に使用するガラスの種類に応じてその線膨張係数と屈折率が微妙に異なるので、これらの差異を利用するとともに、多層膜の種類として、Ｔａ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２の組み合わせの他に、Ｔｉ０_２／ＳｉＯ_２の組み合わせ、Ｔａ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３の組み合わせ、Ｔｉ０_２／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３の組み合わせ等を適宜適用して試験し、波長シフトの温度係数制御を行うと記載されている。ところが、先の特許文献１においても、ほぼ０とみなし得る程度の温度係数のものを具体的に得られたとする記述は見られず、実際のところ現状では、どのような種類の基板を選択してもほぼ０と見なし得る程度の温度係数を得ることができないという課題があった。
【０００７】
例えば、先の特許文献１には、Ｔｉ０_２／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３の組み合わせ、あるいはＴｉ０_２／ＳｉＯ_２の組み合わせとして得られる多層膜において、該特許文献１の図１に示されている温度係数シフト直線ａ〜ｄを参照し、基板として線膨張係数値が７５〜１５０（／１０^７）の範囲のものを選択し、その基板上にＴｉ０_２／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３膜あるいはＴｉ０_２／ＳｉＯ_２膜を積層すれば良いと記載されてはいるが、実際に適用可能な基板でほぼ０とみなし得る温度係数を得ることができたとの記載はなされていない。これは、基板の線膨張係数の値は基板の構成材料の物質に応じた固有値であり、自由に制御できるものではないことに起因し、現在知られているいずれの材料からなる基板を用いても、実際のフィルタにおいて温度特性をほぼ０とみなし得る程度の小さい値に調整できるものではないという問題がある。
【０００８】
本発明は上述の課題に鑑みてなされたもので、ほぼ０とみなし得る程度に小さな温度係数を示す多層膜光フィルタ、およびそれを備えた光学部品を得ることができる技術の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は前述の目的を達成するために、基板と、該基板の少なくとも一面上に設けられた屈折率の異なる複数の誘電体材料からなる薄膜が繰り返し積層された多層膜と、透過波長の温度依存性を調整する調整層とを具備してなることを特徴とする。
調整層を設けることにより多層膜の透過波長の温度係数を調整することが可能となる。また、調整層の構成材料は適宜選択できるとともに、調整層自体の厚さを自由に設定できるので、多層膜に与える透過波長の温度依存性の影響度合いを調整することが可能となり、その調整によってほぼ０に近い温度係数の多層膜光フィルタの実現が可能となる。従って、周囲温度の変動によって透過ピーク波長がシフトするという問題をほとんど生じない、多層膜光フィルタを提供できる。
【００１０】
本発明は、前記調整層が前記基板の直上に形成され、該調整層上に前記多層膜が積層されたことを特徴とする。
調整層の設置位置として、基板の直上を選択することができ、その上に多層膜を設置することで、多層膜に与える調整層の影響を調整することができ、多層膜の温度係数の依存性を調整できる。
本発明は、前記調整層が前記多層膜の中に含まれてなることを特徴とする。
線膨張率調整層の設置位置として、多層膜の中を選択することができ、多層膜の中に調整層を設置することで、多層膜に調整層の影響を調整することができ、多層膜の温度係数の依存性を調整できる。
【００１１】
本発明は、前記調整層が５〜５０μｍの範囲の厚さに形成されたことを特徴とする。
調整層の厚さを薄くすれば、多層膜に与える温度係数依存性の影響を少なくすることができ、調整層の厚さを厚くすれば、多層膜に与える温度係数依存性の影響を多くすることができ、層厚の制御に応じて多層膜の温度係数依存性を微調整できる。調整層の厚さが５μｍ以下では温度係数依存性への影響力が小さくなり過ぎて実用的ではなくなり、調整層の厚さが５０μｍを超えて厚くなっても温度係数依存性への影響力には限界があり、無駄になるとともに、製膜に時間がかかり過ぎるようになり、効率が悪い。
本発明においては前記多層膜を構成する複数の薄膜の材料として、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｓｉ、ＺｎＳ、ＨｆＯ、Ｇｅ、Ｎｄ_２Ｏ_６、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２の中から選択される２つ以上の組み合わせを選択することができる。
本発明の光学部品は、先のいずれかに記載の多層膜光フィルタを備えたことを特徴とする。
本発明に係る光学部品は、先に記載の多層膜光フィルタを具備するので、温度係数依存性が少なく、ほぼ０に近い優れた特性を示す。従って、周囲温度の変動によって透過ピーク波長がシフトするという問題をほとんど生じない、光学特性に優れた光学部品を提供できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１は本発明に係る第１実施形態の多層膜光フィルタの断面図である。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などを適宜異ならせて表示してある。また、本発明が以下の実施形態に限定されるものではないのは勿論である。
【００１３】
図１に示すように本発明に係る多層膜光フィルタＡは、ガラス等からなる基板１と、該基板１の上面（一面）上に形成された調整層（温度特性調整層：線膨張係数調整層）２と、該調整層２上に積層された屈折率の異なる低屈折率層３と高屈折率層４が対になって合計、数１０層〜１００層程度積層されてなる多層膜５を主体として構成されている。このような、多層膜光フィルタＡは、例えば、波長１．５５μｍの光を対象とした光通信用の利得平坦化フィルタ、バンドパスフィルタ等に適用されるものである。
【００１４】
前記基板１は、ガラスからなり、例えば、石英ガラス、ＢＫ７（屈折率１．５）、ＷＭＳ１３（屈折率１．５２、保谷ガラス商品名）、ＷＭＳ１５（屈折率１．５２、保谷ガラス商品名）等のガラスを用いることができる。この基板１の厚さは自身の強度を保持できる程度の厚さである数ｍｍ程度、例えば６ｍｍとすることが好ましい。
【００１５】
前記調整層２は、後述する多層膜５を構成する低屈折率層３あるいは高屈折率層４のいずれかを構成する材料からなる薄膜、あるいは、他の後述する材料からなる薄膜からなり、多層膜５の透過波長の温度依存性を調整することができるものである。また、この調整層２は多層膜５全体の線膨張係数を調整して多層膜５の透過波長の温度依存性を調整するものである。
前記調整層２を構成する材料として例えば、多層膜５を構成する材料として使用可能な誘電体薄膜、例えば、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｓｉ、ＺｎＳ、ＨｆＯ、Ｇｅ、Ｎｄ_２Ｏ_６、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２のいずれかを例示することができる。
また、調整層２として、多層膜５を構成する材料ではない、第３の材料、例えば、ＬｉＮｂＯ_３、ＰｂＭｏＯ_４からなるものを用いても良い。
【００１６】
前記調整層２は、例えば、厚さ５μｍ以上、５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上、５０μｍ以下の範囲に形成された誘電体材料の薄膜からなる。この調整層２の厚さを薄くすれば、多層膜５に与える温度係数依存性の影響が少なくなり、調整層２の厚さを厚くすれば、多層膜５に与える温度係数依存性の影響を多くすることができ、膜厚の制御に応じて多層膜の温度係数依存性を微調整することができる。線膨張率調整層の厚さが５μｍ以下では温度係数依存性への影響力が小さくなり過ぎて実用的ではなくなり、線膨張率調整層の厚さが５０μｍを超えて厚くなっても温度係数依存性への影響力には限界があり、膜厚が無駄に増加して成膜に無駄に時間がかかるようになる傾向がある。
【００１７】
前記低屈折率層３あるいは高屈折率層４を構成する材料として、例えば、ＴｉＯ_２（屈折率２．２５）、ＳｉＯ_２（屈折率１．４６）、Ｔａ_２Ｏ_５（屈折率２．０５）、Ａｌ_２Ｏ_３（屈折率１．６５）、ＺｒＯ_２（屈折率２．０３）、Ｓｉ（屈折率３．５）、ＺｎＳ（屈折率２．２５）、ＨｆＯ_２（屈折率１．９５）、Ｇｅ（屈折率４．８５）、Ｎｄ_２Ｏ_６、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＣｅＦ_３（屈折率１．６３）のいずれかを例示することができ、これらを２つあるいは３つ以上、屈折率差をつけて組み合わせることで多層膜５が構成される。
【００１８】
これらの低屈折率層３あるいは高屈折率層４の膜厚は、透過あるいは反射の対象とする光の波長λに対して、光学厚さがλ／４となる厚さを中心に分布するように設計される。ここでの光学厚さとは、屈折率と物理的厚さ（実際の膜厚）の積で定義される値である。
例えば、光通信用途の波長１．５５μｍの光を対象とする場合、実際的な膜厚は、Ｔａ_２Ｏ_５からなる高屈折率層４において０．１８μｍの厚さの層を主体として０．０５〜０．８μｍの範囲に分布させ、ＳｉＯ_２からなる低屈折率層３において０．２６μｍの厚さの層を主体として０．０９〜０．８μｍの範囲に分布させるように設定する。
【００１９】
また、低屈折率層３と高屈折率層４の組み合わせとして構成する多層膜５として例えば、ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２薄膜を繰り返し積層したもの、Ｔａ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２薄膜を繰り返し積層したもの、Ｔａ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３薄膜を繰り返し積層したもの、ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３薄膜を繰り返し積層したものなどを例示することができる。
【００２０】
前記の調整層２、低屈折率層３、高屈折率層４は、例えば、イオンビームスパッタ法などの成膜法により形成することができる。
Ｔａ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２薄膜の積層構造を例にとってその製造方法の一例について説明すると、成膜装置の真空チャンバの内部にタンタル（Ｔａ）のターゲットとケイ素（Ｓｉ）のターゲットを設置し、反応ガスとして真空チャンバの内部に微量の酸素を供給し、それぞれの酸化物の薄膜を基板上に順次堆積させる方法を採用することができる。
成膜装置には、膜厚の測定手段を設置しておき、成膜中の膜厚を監視するようにする。前記ターゲットのいずれかを選択して成膜を行い、所定の膜厚になった時点で他方のターゲットに切り替えて成膜する処理を順次繰り返し行い、規定の厚さの低屈折率層３と高屈折率層４を交互に成膜すれば良い。
【００２１】
図２（Ａ）、（Ｂ）は、上記の方法における、途中の工程での膜構成を示す断面図である。図２（Ａ）は第１段階の工程であり、基板１上への調整層２の成膜が終了した段階を示している。図２（Ｂ）は第２段階の工程を示し、屈折率の異なる２層（低屈折率層３と高屈折率層４）を１層ずつ積層した状態を示す。この段階から低屈折率層３と高屈折率層４を必要層数分だけ順次繰り返し積層してゆくことで図１に示す構造の多層膜光フィルタＡを得ることができる。
【００２２】
次に、先の調整層２の厚さならびに材料選定規準について説明する。
前記構造の多層膜光フィルタＡにおいては、
適用波長λｃ、多層膜光フィルタの線膨張係数β_ｆ、屈折率温度係数δ、ポアソン比（平均値）ｓ、充填率（密度平均値）Ｐ_０、多層膜自体の透過率（２５℃規準）Ｎ_０、基板の線膨張率βｓ、多層膜の線膨張率βｆとすると、ＴＳＣＷで示される中心波長温度安定性に関して基板及び環境温度２５℃において以下の（１）式が成立する。

この（１）式において適用波長λｃは適用しようとする波長に応じて一定値になり、多層膜光フィルタの線膨張係数β_ｆとポアソン比ｓは多層膜の種類を決めると一定値になり、充填率Ｐ_０も成膜材料や成膜時の条件等を決めると一定値になり、多層膜自体の透過率Ｎ_０と基板の線膨張率βｓも多層膜の種類と基板材料を決めると一定値になるので、変動要因として、多層膜の線膨張率β_ｆを制御すれば、中心波長温度依存性を調整できることが分かる。従って本発明では多層膜の線膨張率β_ｆを制御する目的で調整層２を設けている。
【００２３】
ところで、先の実施形態においては基板１上に直接調整層２を１つ設けた例について説明したが、線膨張率調整層２は多層膜５の間、即ち、低屈折率層と高屈折率層の間に１つあるいは複数層設けても良く、多層膜５の最上層に調整層２を設けても良いのは勿論である。
図３は多層膜５の間に１つの調整層２を多層膜５とは別途にこれらの間ん介在させるように設けた例の構造、図４は多層膜５の間の部分と最上層に個別に調整層２を設けた例の構造をそれぞれ示す。
これらの図３、図４に示すごとく調整層２を基板上１のいずれの位置に設けても多層膜５の線膨張係数を調整することができ、もって、多層膜５の温度係数の依存性を調整することができる。
【００２４】
図５は本発明に係る多層膜光フィルタを適用した光学部品（光フィルタモジュール）の一例として、ケーシング２９の一方（図５において右側）の開口部２９Ａに光ファイバ３２の端部を接続し、他方（図５において左側）の開口部２９Ｂに先の光ファイバ３２に対向する他の光ファイバ３３の端部を接続し、ケーシング２９の内部において、光ファイバ３２、３３の端部間に位置するようにレンズ部材３１、３４と、これらのレンズ部材３１、３４間に挟まれた位置に先に説明した構成の多層膜光フィルタＡを設けて光フィルタモジュールＢを構成した例である。
図５に示す構造において、先の実施形態の多層膜光フィルタＡを適用することで、周囲温度の変動によって透過ピーク波長がシフトするという問題をほとんど生じない、光学特性に優れた光フィルタモジュール（光学部品）Ｂを提供できる。
【００２５】
図６に上記した（１）式に基づき、波長λｃを１５５０ｎｍ、ガラス基板（保谷ガラス製；ＷＭＳ１３）を用いた場合の多層膜フィルタにおける中心波長温度安定性（ＴＳＣＷ：フィルター中心波長の温度変化率）と全体に対するＴａ_２Ｏ_３の体積比の関係を示す。
図６では、Ｔａ_２Ｏ_５膜が約７０％のフィルタではＴＳＣＷ：フィルター中心波長の温度変化率が約−０．６（ｐｍ／Ｋ）となることが示されている。
【００２６】
【実施例】
「実施例１」
厚さ６ｍｍのガラス基板（保谷ガラス製；ＷＭＳ１３）を用いてこのガラス基板をイオンビームスパッタ装置の真空チャンバの内部に設置するとともに、真空チャンバの内部にＴａターゲットとＳｉターゲットを配置し、真空チャンバの内部を酸素ガス分圧６．７×１０^−６Ｐａ、圧力２．４×１０^−６Ｐａの減圧雰囲気として各々イオンビームスパッタを行ってＴａ_２Ｏ_５膜またはＳｉＯ_２膜を積層した。
まず、ガラス基板上に形成する多層膜として、Ｖ（Ｔａ_２Ｏ_５）／Ｖ｛Ｔａ_２Ｏ_５＋Ｖ（ＳｉＯ_２）｝を合計層数３３層（総厚３１．９μｍ）積層した多層膜は、Ｖ（Ｔａ_２Ｏ_５）／Ｖ｛Ｔａ_２Ｏ_５＋Ｖ（ＳｉＯ_２）｝＝（全体に対するＴａ_２Ｏ_５膜の体積比）は４３．８％になるので、図６に示す関係から＋０．７（ｐｍ／Ｋ）となる。この多層膜は実測値においても＋０．８（ｐｍ／Ｋ）となった。
この積層膜に対し、Ｔａ_２Ｏ_５膜のλ／４光学薄膜×２２＝４．１５μｍのＴａ_２Ｏ_５膜を先の層数３３の多層膜の上層、中層、下層に挿入した層数３６層の多層膜を製造したところ、ＴＳＣＷ：フィルター中心波長の温度変化率は＋０．４（ｐｍ／Ｋ）となり、ほぼ０と見なし得る程度に小さくなった。
これは、図６の関係から、全体に対するＴａ_２Ｏ_５膜の体積比が０．５１となり、この数値を図６から読み込むと、ほぼ＋０．４（ｐｍ／Ｋ）となる関係と合致した。
【００２７】
「実施例２」
実施例１と同様の基板と成膜条件を採用し、ガラス基板上に形成する多層膜として、Ｖ（Ｔａ_２Ｏ_５）／Ｖ｛Ｔａ_２Ｏ_５＋Ｖ（ＳｉＯ_２）｝を合計層数４７層（総厚５４．９μｍ）積層した多層膜は、Ｖ（Ｔａ_２Ｏ_５）／Ｖ｛Ｔａ_２Ｏ_５＋Ｖ（ＳｉＯ_２）｝＝（全体に対するＴａ_２Ｏ_５膜の体積比）は７５％になるので、図６に示す関係から−１．０（ｐｍ／Ｋ）となる。この多層膜は実測値においても−１．０（ｐｍ／Ｋ）となった。
この積層膜に対し、ＳｉＯ_２膜のλ／４光学薄膜×１６＝４．２μｍのＳｉＯ_２膜を先の層数３３の多層膜の上層、中層、下層に挿入した層数５０層の多層膜を製造したところ、ＴＳＣＷ：フィルター中心波長の温度変化率は−０．５（ｐｍ／Ｋ）となり、ほぼ０と見なし得る程度に小さくなった。
これは、図６の関係から、全体に対するＴａ_２Ｏ_５膜の体積比が０．６８となり、この数値を図６から読み込むと、ほぼ−０．５（ｐｍ／Ｋ）となる関係と合致した。
【００２８】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、基板と、屈折率の異なる複数の薄膜が繰り返し積層された多層膜と、透過波長の温度依存性を調整する調整層とを具備してなるので、多層膜の透過波長の温度係数を調整することが可能となる。
また、調整層の構成材料は適宜選択できるとともに、調整層自体の厚さを自由に設定できるので、多層膜に与える透過波長の温度依存性の影響度合いを調整することが可能となり、その調整によってほぼ０に近い温度係数の多層膜光フィルタの実現が可能となる。従って、周囲温度の変動によって透過ピーク波長がシフトするという問題をほとんど生じない、多層膜光フィルタを提供できる。
【００２９】
本発明の調整層が前記基板の直上に形成され、該調整層上に前記多層膜が積層されたものでも良く、調整層が多層膜の中に含まれてなるものでも良い。
調整層の設置位置として、基板の直上又は多層膜の中を選択することができ、その上に多層膜を設置することで、多層膜に与える調整層の影響を調整することができ、多層膜の温度係数の依存性を調整できる。
【００３０】
前記調整層が５〜５０μｍの範囲の厚さに形成されることが好ましく、この範囲で調整層の厚さを薄くすれば、多層膜に与える温度係数依存性の影響を少なくすることができ、調整層の厚さを厚くすれば、多層膜に与える温度係数依存性の影響を多くすることができ、層厚の制御に応じて多層膜の温度係数依存性を微調整できる。
本発明の光学部品は、先のいずれかに記載の多層膜光フィルタを備えたので、温度係数依存性が少なく、ほぼ０に近い優れた特性を示す。従って、周囲温度の変動によって透過ピーク波長がシフトするという問題をほとんど生じない、光学特性に優れた光学部品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明に係る第１実施形態の多層膜光フィルタの断面図である。
【図２】図２（Ａ）は基板上に線膨張率調整層を設けた状態を示す断面図、図２（Ｂ）は線膨張率調整層上に低屈折率層と高屈折率層を設けた状態を示す断面図である。
【図３】図３は本発明に係る第３実施形態の多層膜光フィルタの断面図である。
【図４】図４は本発明に係る第４実施形態の多層膜光フィルタの断面図である。
【図５】図５は本発明に係る多層膜光フィルタを用いた光フィルタモジュールの一構成例を示す断面図である。
【図６】図６は実施例の多層膜光フィルタの測定結果を示す図である。
【図７】図７は従来の多層膜光フィルタの一例を示す断面図である。
【符号の説明】
Ａ…多層膜光フィルタ、１…基板、２…調整層、３…低屈折率層、
４…高屈折率層、５、６、７…多層膜、Ｂ…光学部品。

Claims

基板と、該基板の少なくとも一面上に設けられた屈折率の異なる複数の誘電体材料からなる薄膜が繰り返し積層された多層膜と、透過波長の温度依存性を調整する調整層とを具備してなることを特徴とする多層膜光フィルタ。
前記調整層が、前記基板の直上に形成され、該調整層上に前記多層膜が積層されたことを特徴とする請求項１に記載の多層膜光フィルタ。
前記調整層が、前記多層膜を構成する高屈折率薄膜と低屈折率薄膜のうち、少なくとも一方の構成材料からなることを特徴とする請求項１に記載の多層膜光フィルタ。
前記調整層が、前記多層膜中に複数介在されてなることを特徴とする請求項１に記載の多層膜光フィルタ。
前記調整層が、前記多層膜を構成するいずれの材料とも異なる種類の材料からなることを特徴とする請求項１に記載の多層膜光フィルタ。
前記調整層が、５〜５０μｍの範囲の厚さに形成されたことを特徴とする請求項１に記載の多層膜光フィルタ。
前記多層膜を構成する複数の薄膜の材料が、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｓｉ、ＺｎＳ、ＨｆＯ、Ｇｅ、Ｎｄ_２Ｏ_６、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２の中から選択される２つ以上の組み合わせとされたことを特徴とする請求項１記載の多層膜光フィルタ。
請求項１及至８のいずれかに記載の多層膜光フィルタを備えたことを特徴とする光学部品。