TW585900B - Abrasive article and method for grinding glass - Google Patents

Abrasive article and method for grinding glass Download PDF

Info

Publication number
TW585900B
TW585900B TW088102428A TW88102428A TW585900B TW 585900 B TW585900 B TW 585900B TW 088102428 A TW088102428 A TW 088102428A TW 88102428 A TW88102428 A TW 88102428A TW 585900 B TW585900 B TW 585900B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
abrasive
glass
particles
scope
patent application
Prior art date
Application number
TW088102428A
Other languages
English (en)
Inventor
Negus Belihu Adefris
Louis Raymond Carpentier
Todd Jon Christianson
Brian David Goers
Ashu Narayan Mujumdar
Original Assignee
Minnesota Mining & Mfg
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minnesota Mining & Mfg filed Critical Minnesota Mining & Mfg
Application granted granted Critical
Publication of TW585900B publication Critical patent/TW585900B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/34Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents characterised by additives enhancing special physical properties, e.g. wear resistance, electric conductivity, self-cleaning properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • B24D99/005Segments of abrasive wheels
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/24Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/04Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic
    • B24D3/14Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic ceramic, i.e. vitrified bondings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/20Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/20Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
    • B24D3/28Resins or natural or synthetic macromolecular compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/34Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents characterised by additives enhancing special physical properties, e.g. wear resistance, electric conductivity, self-cleaning properties
    • B24D3/346Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents characterised by additives enhancing special physical properties, e.g. wear resistance, electric conductivity, self-cleaning properties utilised during polishing, or grinding operation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D7/00Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
    • B24D7/06Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor with inserted abrasive blocks, e.g. segmental
    • B24D7/063Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor with inserted abrasive blocks, e.g. segmental with segments embedded in a matrix which is rubbed away during the grinding process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Description

585900 五、發明説明(1 ) 本發明係有關於一種研磨及拋光玻璃用之研磨物件及使 用該物件之方法。 玻璃物件在家庭、辦公室及工廠中到處可見,形式有透 鏡、棱鏡、鏡面、CRT螢幕及其他項目。許多這些玻璃表 面都配合光學組件使用,以致表面必須光學透明且無可辨 識缺點及/或瑕疵。若有存在,這些缺點、瑕疵,甚致微細 磨份都會防碍玻璃物件之光學透明度。在有些情形,這些 缺點、瑕疵及/或微細磨傷會防碍精確透視玻璃之能力。配 合光學組件使用之玻璃表面必須根本上不含任何缺點、瑕 巍及/或磨傷。 許多玻璃表面都是彎曲或含有與其相關連之半徑。這些 半徑及彎曲一般都是在玻璃成形過程中產生。然而,由於 玻璃成形過程之故,諸如模線,粗表面,小點及其他小瑕 疵等缺點都會在玻璃之外表面出現。這些缺點及/或瑕疵, 不官多小,都會影響玻璃之光學透明度。研磨完工(Abrasive finishing)過程已廣泛應用於除去此等瑕疵及/或缺點。研磨 芫工一般不出以下三個主要過程··研磨,精磨及拋光。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 研磨步驟係藉使用研磨工具粗研磨玻璃表面而使所要彎 曲或半徑完成並移除任何鑄造缺點。一般而言。此一研磨 工具含有超研磨性粒子,如鑽石,碳化鎢或立體氮化硼。 ;、、而此粗磨過程中之研磨工具將使玻璃表面產生粗磨 傷i以致所得玻璃表面既不精確到也不平滑到可直接拋光 至光學透明狀態。研磨過程之目是很快速而又相當準確地 除去大!的玻璃’同時留下儘可能微細之磨傷圖紋。這些 -4- (210x297公釐) 585900 A7 —---____Β7五、發明説明(2 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 磨傷然後-般係藉通稱爲”精磨"及”抛光”之進—步步驟除 去0 、 玻璃完工一般係使用鬆散研磨料漿(loose abrasive 如ΠΤ)進行。鬆散研磨料裝包含眾多分㈣液體介質(如水 )中<心粒子。鬆散料漿最常用的研磨粒子爲浮石,碳化 砍,氧化銘及類似物。鬆散研磨料漿可視情況含有恤 加物如分散劑、潤滑劑、脱泡劑及類似物。在大多數情形 ’鬆散研磨料漿係泵入進行最後完工之玻璃表面與研磨墊 間,以致玻璃表面與研磨塾間有鬆散研磨料聚存在。研磨 墊可由諸如橡膠’ '泡沫體’聚合物質,金屬,鋼等任何材 料形成。-般而言’玻璃工作件與研磨#將相對轉動,此 -研磨過程-般包含-個多個步驟,每—個步驟都在玻璃 上產生漸進的更精細表面完工。 表面之粗糙度一般係由磨傷或磨傷圖紋所致,肉眼可看 出或看不出。磨傷圖紋可定義爲表面上之一系列条及谷。 Rtm及Ra是研磨工業常用的粗糙度量度,然而,正確矽測 量程序可隨表面粗糙度評估所用設備之型式而異。 Ra之定義爲表面粗糙外形與表面平均線偏差之算術平 均之平均粗糙度高度値。測量係在蘭克泰勒霍伯森(Rank Taylor Hobson)儀器設定之評估長度内表面上平均線上下 多點進行。Ra及Rtm(定義如下)係以驗平儀(Pr〇fil〇meter) 抓針測量,该彳木針係一 5微米半徑鑽石尖筆,結果記錄爲 微米(μπι)。將這些偏差測量値加總,然後除以測量次數而 得平均値。一般而言,Ra値愈低,完工即愈平滑。 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4祝格(210父297公^7 (請先閱讀背面之注意事項本頁) 丨衣 訂
-良 585900 A7 發明説明(3 〈疋^瑕大峯至^高度。⑽是每―評估長度中最 大拳至谷高度,五個連續評估長度測得之平均。一般而言 Rtm値忍低’元工愈平滑。Ra及尺恤値,當相同之完工 玻璃表面之測量在不同廠牌之市售驗平儀上進行時, 但不一定會發生微小差異。 匕 整個完工過程之最後步驟爲拋光步驟,其會在玻璃物件 亡:生更平滑,光學透明之表面。在大多數情形,此一抛 光步驟係以鬆散研磨料漿進行,因爲鬆散料聚一般會產生 基本上不^任何缺點、瑕戚及/或微細磨傷之光學透明表面 粒;般而言’鬆散研磨料漿包含分散於水中之氧化鋅研磨 雖然鬆散研磨料聚已廣泛使祕精磨及拋光步驟以在玻 =物件上提供光學透明表明完工’但鬆散研磨科漿聯帶有 终多缺點。這些缺點包括處理所需大量料漿之不便,爲防 止研磨粒子沉降及確保研磨粒子在拋光介面之均勻濃产兩 加攪拌’以及需要額外之設備來製備,搬運及棄置或二: 及再循環鬆散研磨料漿。此外’料漿本身必須定期分析以 確保其品質及分散穩定性,這將需要額外的昂貴工時。再 者’栗頭’閥’加料管,研磨輪及料裝供應設備之其他組 件’廷些都與鬆散料漿接觸’最後都將顯示不冑之磨損 是
再者’使用«之步驟通常都很髒,因爲鬆散研磨料浆 一種黏稠液體,很容易飛濺,難以約束。 可以了解的是,曾試圖以層4,塗覆或固定之研磨產物 來取代鬆散研磨料漿完工步驟。一般而,層疊研磨物包含 6- X 297公釐) 585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(4 具有研磨塗層之底層,該研磨塗層則包含分散於黏結劑中 之眾多研磨粒子。例如,美國專利4,255^64號;4,576,612 號,4,733,502號及歐洲專利申請案65〇,8〇3號揭示了各種 固定研磨物件及拋光方法。其他揭示固定研磨物件之文獻 資料包括美國專利4,644,703號,4,773,92〇號及5,〇14,468 號。 然而,固定研磨物還未完全取代鬆散研磨料漿。在一些 情形,固定研磨物不能提供光學透明且基本上不含缺點了 瑕疵及/或微細磨傷之表面。在另外情形,固定研磨物需要 車又長時間才能拋光玻璃物件,因此使用鬆散研磨料漿成本 上比較有效益。同時地在一些情形,固定研磨物之壽命並 未長到足以證明固定研磨物較鬆散研磨料漿爲高之成本是 合理的。因此,在一些情形,固定研磨物在經濟上並不如 鬆散研磨料漿適宜。 玻璃工業所需要的是一種研磨物件,其既無鬆散研磨料 漿所具有之缺點,而又能藉短期間内提供快速基料除去而 在合理時間内有效又經濟地研磨玻璃表面。 本發明之一方面係有關於研磨及拋光玻璃工作件之研磨 物件。研磨玻璃用之研磨物件包括底材及至少一種三維度 研磨塗層,其包含分散於有機黏結劑之鑽石粒子及金屬鹽 ’該塗層整體黏合於底材。 在另一方面,研磨玻璃用之研磨物件包括底材及至少一 種包含研磨團塊之三維度研磨塗層,該研磨團塊包含分散 於永久黏結劑、較佳玻璃黏結劑内之鑽石粒子,且分散於 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇χ297公羡) (請先閱讀背面之注意事項
r本頁) 訂
585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(5 ) 整體黏結於底材之有機黏結劑之中。 在另一方面’本發明提供一種拋光玻璃工作件用之研磨 物件’其包含含有纖維之底材及至少一種整體黏結於底材 之三維度研磨塗層,該塗層包含氧化鈽粒子、有機黏結劑 及金屬鹽。用於拋光之本發明研磨物件可提供研磨複合物 之最適破壞速度及研磨複合物與底材間之改良黏著力。拋 光玻璃用之研磨物件較佳進一步包含用以改進拋光速度之 添加物。較佳添加物包括石墨及二硫化鉬。 至少一種三維度研磨塗層較佳包括眾多研磨複合物。該 眾多研磨複合物可爲精確形狀之複合物,不規則形狀之複 合物,或包括圓柱或具平頂之任何其他柱狀之精確形狀複 合物。 在一較佳研磨物件中,研磨物複合物包含環氧黏結劑, 且整體成型於氨基甲酸酯底材。丙晞酸酯及氨基甲酸酯丙 烯酸酯也可用作爲較佳物質。 爲研磨玻璃’研磨粒子較佳包含鑽石研磨粒子或鑽石團 塊粒子。視情況,鑽石粒子可和非鑽石硬質研磨粒子、軟 質無機研磨粒子及其混合物摻混。爲拋光玻璃,研磨粒子 較佳包含氧化鈽粒子。 鑽石研磨粒子在研磨複合物中之存在量以重量❶計較佳 介於約0.1 %與10%之間,更佳介於約2%至4%之間。氧化 鈽研磨粒子之較佳量爲高達85重量0/〇。 在本發明之一具體例中,研磨玻璃用之研磨物件,使用 具有研磨時間間隔介於丨〇與丨5秒;一般爲約丨2秒之Rpp -8 _ 尽紙張尺肝關豕縣(CNS ) A4祝格(210x^^y (請先閱讀背面之注意事項
本頁) 丨> 訂
585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7---- - B7 五^--—-- 程序’即可在玻璃試驗胚料上磨除介於200與400微米間 之基料至最終Ra爲約1 · 1微米或更小。 在本發明之一具體例中,用於研磨玻璃之研磨物件,使 用具有研磨時間間隔介於10與15秒,一般爲約12秒之Rpp 程序,即可在玻璃試驗胚料上磨除2〇〇微米之基料至最終 Ra爲0.80 μιη或更小。 在本發明用於研磨玻璃之又一具體例中,含有鑽石粒子 之團塊之研磨粒子,使用具有研磨時間間隔介於1 〇與1 5 和 叙爲約12秒之Rpp程序,即可在玻璃試驗胚料上磨 除100微米基料至最終Ra爲約0.7 μιη。 在本發明用於拋光玻璃之又一具體例中,包含氧化鈽粒 子之研磨物件,使用研磨時間間隔約45秒或更少,較佳約 30秒或更少,更佳約20秒或更少及甚至更佳約15秒,即 可使表面粗糙度Ra 0·07μηι降低至表面粗糙度約〇·〇〇9 μηι。 ’’RPP'’程序係使用π布赫勒伊柯美4”(Buehler Ec〇met 4)可 變速研磨機·拋光機,其上安裝,,布赫勒伊柯美”2,,動力頭, 兩者在市面上皆可自布赫勒工業公司(Lake Bluff,IL )購得 。試驗一般係使用以下條件進行:馬達速度設定於500 rpm ’力量爲60磅(267 N),其在玻璃試驗胚料之表面區域提供 之介面壓力爲約25.5 psi (約180 kPa)。介面壓力可提高或 降低以供各種條件下試驗。 提供二塊平面圓形玻璃試驗胚料,直徑2·54厘米(1吋) ,厚度約ι·ο厘米,市面上可自康寧公司(corning,Νγ)購 得’市售商品代號爲’’康寧#9061,,。將該玻璃料放入研磨機 -—____________ 9 - 本紙張尺度適财ϋ國家標準(CNS ) Α4規格(1ι〇χ^97公着) --- (請先閱讀背面之注意事項JUPr本頁) 衣· 本 —V訂
-良 « m n^i m 585900 五、發明説明( -拋光機之動力頭中。研磨機.抛錢之12邮G5厘米)錄 台逆時針轉動’而其中w破璃試驗胚料之動力頭則以35 rpm順時針轉動。 欲測試之研磨物件係模切成20.3厘米(")直徑圓;並以 壓感性黏著劑直接黏附於具有肖氏A(sh_A)硬度爲約Μ 硬度計之擠壓扁塊座發泡氨基甲酸酯支撑墊(slab stock f_ urethane backing pad)上。氨基甲酸醋支撑塾則附於厚 度約30毫米之擠壓扁塊開孔軟發㈣上。此—塾组裝即放 意 置於研磨機/拋光機之鋁 台 上 自來水以流速約3升/分噴於 頁 研磨物件上以提供研磨物件與玻璃試驗胚料間之潤滑 玻璃試驗胚料最初表面完工係以鑽石筆驗平儀評估;該 驗平儀市面上可自泰勒霍伯森(Taylor H〇bs〇n)公司 (Leicester,England)講得。產品代號爲”surtr〇nic 3"。同 時€錄玻璃試驗板之最初厚度及重量。 使用上述研磨機,將破璃試驗胚料研磨。研磨機之研磨 時間間,設定爲,研磨物件與玻璃試驗胚料表 面間4眞正接觸時間可能大於設定時間,因爲研磨機要到 研磨物件在玻璃試驗胚料表面穩定之後才會開始計時。亦 即,研磨物件在玻璃表面上可能會有一些反躍(b〇uncing) 或跳躍(skipping),而研磨機在研磨物件與玻璃表面間之接 觸實質恆定之時才開始計時。因此,眞正研磨時間間隔, 亦即研磨物件與玻璃表面間之接觸,爲約12秒。研磨之後 ’記錄最後表面完工與最後重量或厚度。 應了解的疋,將實際玻璃工作件研磨至所要規格所需之 訂 -10- 本紙張尺度適用巾關家標準(CNS ) A傅格(210X297公釐)— 585900 經濟部中央標準局員工消費合作衽印製 發明説明(8 實際時間(速度)將隨若干因素而異,如所用抛光裝置,研 磨物件下之支撑塾,接觸壓力,研磨轉動之速度,欲拋光 表面積之大小,接龍力,研磨粒子大小,欲除去玻璃量 及奴研磨表面之最初狀況等等。以上Rpp程序僅提供一基 線性能特徵’可用於比較本發明物件及方法與習知玻璃研 磨技術。 圖1係本發明研磨物件一具體例之透視圖。 圖2係圖1研磨物件之上視圖。 调3係本發明研磨物件另一具體例之上視圖。 圖4係本發明研磨物件第三具體例之上視圖。 圖5係本發明研磨物件第四具體例之上視圖。 圖6A係本發明研磨複合物之側視圖。圖6B係圖6八研 磨複合物之上視圖。 圖7係本發明團塊剖面之表示圖。 本發明係有關於玻璃表面完工用之物件及方法,亦即, 以研磨物件研磨及拋光玻璃表面;該研磨物件包含底材及 至少一種三維度研磨塗層,其較佳包含鑽石,包含鑽石粒 子之團塊,或分散於黏結於底材表面之黏結劑中之氧化卸 I子。研磨塗層包含自黏結劑前驅物形成之黏結劑及眾多 研磨粒子或研磨團塊,較佳鑽石或氧化鈽研磨粒子或包含 鑽石粒子之團塊。 , 0 破璃之最終用途可能在家庭中或商業環境中。玻璃可用 於裝飾用途或結構用途。玻璃將具有至少一完工表面。破 璃可相當平坦,或可具有一些相關之外形。這些外形可爲 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐 (請先閱讀背面之注意事項 — 衣-- 本頁) .、言
585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 ΓΖ~~---------Β7五、發明説明(9 ) 弓曲或角洛形狀。玻璃表面或工作件之實例包括光學組件 =零件。如透鏡、棱鏡、鏡子、CRT (陰極射線管)螢幕及 颌似物。CRT螢幕在用於諸如電視機,電腦監視器及類似 物之裝置之顯示表面到處可見。CRT螢幕大小範圍(以對 角、、泉測量)爲約10厘米(4吋)至約100厘米(40吋)或更大。 CRT螢幕之外表面爲凸面,且有曲率半徑。 現凊參閱各圖式,本發明研磨物件i 0之一具體例顯示於 圖1及2。圖1係研磨物件10之透視圖,其包括整體成型 心底材14,其一主要表面帶有眾多研磨複合物n。複合 物1 1係愛形狀,有一遠端或頂表面丨2及基底丨3。研磨複 合物1 1包含眾多分散於有機黏結劑中之研磨粒子。研磨粒 子可爲不同研磨材料之混合物。複合物丨丨係與底材14沿 基底13 —體成型。在幾乎全部情形,都可在複合物n之 間看到底材14之地面。複合物11包含有機樹脂及研磨粒 子及任何額外可用添加物如填料、顏料、偶合劑等等。 圖2爲研磨物件10之上視圖,其再度顯示在底材14上 具有頂表面12之複合物11。複合物11可位在底材14之整 個表面,或底材丨4之一部份可不被複合物蓋住,如圖2所 示。合物11係對稱且有序地固定在底材14上。 相鄰研磨複合物之基底13較佳應藉底材或地面14相互 分開。這一分開部分能讓流體介質在研磨複合物間自由流 動。此一流體介質之自由流動對玻璃研磨時提高切削速度 表面完工或提升平坦度將有幫助。研磨複合物之間隔可自 約母直線厘米約〇 · 3個研磨複合物至每直線厘米約1 〇 〇個 --—— _12 - 本紙張尺家標準(CNS )環格(21Gx297》i) ~ * (請先閲讀背面之注意事項
本頁} '訂
585900 A7
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 研磨複合物不等’較佳介於約每直線厘米約 合物與每直線厘米約2G個研磨複合物之間 :厘米約。·5個研磨複合物與每直線厘米約1〇個;磨:f =二更佳介於每直線厘米約_個研磨複合: 〈一万面’有至少5個複合物/平方厘米,較 佳至少100個複合物/平方厘米。在本發明之進一步1體例 中’複合物义面積間隔爲自、約412,_個複合物/平方厘 米。 研磨複合物之一較佳形狀-般爲圓柱,如圖3所示;圖3 係包含圓形研磨複合物31之研磨物件3G之上視圖。複人 物之間可看到底材34。圖3中,底材34之整個表面( 複合物31間之任何地面除外)均由複合物31覆蓋。研磨複 合物3 1之咼度較佳應在整個研磨物件3 〇保持一定,但可 有不同高度之研磨複合物。複合物之高度可爲約1〇微米至 約25,000微米(2·5厘米)、較佳約25至約15,〇〇〇微米,更 佳約100至10,000微米,甚至更佳約1〇〇〇至約8 〇〇〇微米 ,之値。複合物之直徑,至少以圓柱複合物而言,可爲約i,000 微米(1.0毫米)至25,000微米(2.5厘米)、較佳介於5,〇〇〇微 米與20,000微米之間之値。特佳外形包括具高度約9,5〇〇 微米(0.95厘米)’基底直徑約15,900微米(ι·59厘米)之圓 柱。相鄰柱之基底間之距離有約3,200微米。另一較佳外 形包括高度約6,300微米(0.63厘米)及基底直徑約7,900微 米(0.79厘米)之圓柱。相鄰柱基底間之距離有約2,4〇〇微米。 圖4係楔形或派餅形研磨物件40之上視圖。複合物41 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 高填寫太
585900
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 系以弧狀段配置,而複合物之間有地面44。複合物41之 开> 狀或大小不一。 在有些用途方面,可能需要包括位於研磨複合物中之金 ,黏結研磨片段。此種金屬黏結研磨片段一般將會提高所 侍研磨物件足研磨能力。該片段,例如,可爲電鍍、熱壓 、燒結或任何其他已知片段。研磨粒子,例如鑽石粒子, 可無規分散於整個片段中或可精確隔開。研磨粒子可分層 ,均勻位於整個片段中。特別有用之金屬黏結研磨片段可 藉美國專利申請案編號〇8/984,899(1997年12月4日提出 申請)之敎示製造。這些片段較佳爲長方形或圓形剖面,但 任何形狀都可以。片段需完全套入研磨複合物之側邊緣内 ,亦即,不延伸超出複合物頂表面之上或超出複合物側壁 之外。另者,可能需在研磨複合物中包括一種不是金屬黏 結,而有玻璃或玻質化鍵結,或陶瓷或玻璃_陶瓷鍵結之片 段c 、口 圖5係包含研磨複合物5 1在底材54之上的研磨物件5〇 之上視圖。一部份之研磨複合物5 1具有置入其中的金屬黏 研磨片段5 5。 圖6A及6B分別顯示複合物61之側視及上視圖。圖6a 顯示具有鄰接底材(未示出)之基底63及頂表面62之複合物 61。複合物6 1具高度Η。一般而言,複合物之高度介於約 10微米與約30,000微米(2.5厘米),較佳約25與約15,〇〇〇 微米,更佳約100與約1〇,〇〇〇微米之間。在一些具體例中 ,複合物61可能需要稍微成錐形狀,例如金字塔或圓錐來 (請先閱讀背面之注意事項
•本頁) '訂
-14- 585900 Μ ------^_______五、發明説明(12) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 。圖6Α顯示複合物61具有内角α,在基底63與側邊66 <間,構成複合物61之錐狀。角α可介於9〇。(即,複合物 無錐形)與約45。之間。角度α較佳在75。與89·9。,更佳在 80。與89·7。’甚至更佳在80。與87。之間。理論上,錐形複 合物可f助控制複合物使用時之破壞,且對自複合物成形 所用之工具中取出複合物也有幫助。同時圖6A顯示半徑r ,其係側邊66與頂表面62接合之角落的内半徑。一般較 佳爲具有稍微圓形或半徑形角落,因爲咸信圓形角落較易 徹底填滿材料(即,樹脂與研磨粒子),且較易自工具中取 出。 圖6B係複合物61之上視圖。基底63具直徑D〇,其大 於頂表面62之直徑Dt。以圓形複合物如61而言,〇〇可 在約1,000微米與約5〇,〇〇〇微米(2·5厘米)之間。同樣地, DT可在約500微米與約5〇,〇〇〇微米之間。就任何其他剖面 形狀而言’如正方形,長方形,三角形,星形等等,複合 物之直徑係D〇與Dt間之差,此係由複合物61之錐形(直接 與角度α有關)及高度決定。 研磨複合物較佳具有可辨識之形狀。最初較佳 子不凸出黏結劑表面之外。研磨物件用於研磨—表面之= ,複合物會破壞而露出未使用之研磨粒子。 艾0、 研磨複合物形狀可爲任何形狀,且可自若干幾何形狀 選出,如互方形,塊狀,圓柱形,棱形,長方形,金& a 形’截頭金竽塔形,圓錐形,截頭圓錐形,十字 子;合 面爲平坦之柱狀。另一種形狀爲半圓形,其在美 (請先閱讀背面之注意事項 ^— 本頁) »訂
-—__ -15 -^張尺錢财關 585900 A7 B7 五、發明説明(13 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 5,681,2 17號中有進一步之説明。所得研磨物件可具有不同 研磨複合物形狀之混合物。預見基底之剖面形狀可不同於 頂表面。例如,研磨複合物之基底可爲正方形,而頂表面 爲圓形。 研磨複合物之基底可相互緊鄰,或者相鄰研磨複合物之 基底可藉某一指定距離,亦即,地面,相互分開。應了解 的是,此一緊鄰的定義也涵蓋相鄰複合物享有共同之研磨 地面材料或橋狀結構(其於複合物兩面對側邊之間接觸並 延伸)之配量。研磨地面材料—般係自用以形成研磨複合物 之同一料漿或用以形成底材之料漿所形成。 圖1、2及4所示研磨物件係爲供眾多此種物件一起使 用而設計。這些派餅或楔形物件一般皆係配置在支撑墊上 以完成360。圓。此研磨物件之圓然後用於研磨玻璃工$件 ,如TV及CRT螢幕。另者,唯有如圖3及5所示物件之 一才必須配置在支撑墊上以覆蓋整個的支撑墊。 不管個別研磨複合物之形狀或尺寸爲何,ς佳約2〇%至 約9〇%、更佳約30%至約7〇%,甚至更佳約4〇%至約帆 之底材表面積將爲研磨複合物所覆蓋。視確實研磨方法而 定,研磨可在整個研磨物件全面進行,或可集中於一處進 行0 Α.黏結劑 黏結劑較佳係自黏結劑前驅物形成。黏結劑前㈣包+ 未硬化或未聚合狀態之樹脂。在研磨物件製造時,黏 前驅物中之樹脂即聚合或硬化’而形成黏結劑。黏結劑前 (請先閱讀背面之注意事項
本頁) 訂
I I : I-- _____ _ -16 - 本紙張尺度適财關家縣((^)祕樣( 585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(14 ) 驅物可包含縮合可硬化樹脂,加成可聚合樹脂,自由基可 硬化樹脂及/或其組合,及此等樹脂之掺混物。 一較佳黏結劑前驅物爲一種藉自由基機轉可聚合之樹脂 或樹脂混合物。聚合過程係藉黏結劑與適當觸媒一起曝露 於諸如熱说或輪射能之能源而引發。輕射能之實例包括電 子束,紫外光或可視光。 自由基可硬化樹脂之實例包括丙烯酸酯化氨基甲酸酯、 丙烯酸酯化環氧樹脂、丙晞酸酯化聚酯、乙烯系不飽和單 m ’具側鍵不飽和談基之氨基塑料單體,具至少一個側鍵 丙晞酸醋基之異氰尿酸酯單體,具至少一個丙晞酸酯基之 異氰酸酯,及其混合物與組合。丙晞酸酯一詞涵蓋丙烯酸 酯及甲基丙烯酸酯。 一較佳黏結劑前驅物包含氨基甲酸酯丙烯酸低聚物,或 氨基甲酸酯丙晞酸低聚物與乙晞系不飽和單體之摻混物。 較佳乙烯系不飽和單體爲單官能丙烯酸酯單體,二官能丙 晞酸酯單體、三官能丙烯酸酯單體,或其組合。這些黏結 劑前驅物所形成之黏結劑可提供具有所要性質之研磨物= 。特足g之,這些黏結劑提供強韌、耐久且持久之介質, 使研磨粒子在研磨物件之整個壽命期間都牢牢固定。此種 黏結劑化學性在和鑽石研磨粒子一起使用時特別有用,因 爲鑽石研磨粒子遠較大多數習知研磨粒 爲利用鑽石研磨粒子長壽命之全部優點,黏結劑2 = 又耐久。因此,此氨基甲酸酯丙埽酸酯低聚物或氨基甲酸 酯丙烯酸酯低聚物與丙晞酸酯單體之摻混物與鑽石研磨 (請先閱讀背面之注意事項 衣-- 本頁) •訂
I I I I -17- 585900 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 B7五、發明説明(15 ) 子之組合即可提供持久又耐久之研磨塗層。 市售丙晞酸酯化氨基甲酸酯之實例包括以下各商名代號 者:’’PHOTOMER’,(例如,"PHOTOMER 6010,’),市面上可 自 Henkel 公司(Hoboken,N.J·)購得;’’EBECRYL 220”(六官 能芳族氨基甲酸酯丙晞酸酯,分子量1,000),"EBECRYL 284”(脂族氨基甲酸酯二丙晞酸酯,分子量1,200,以二丙 晞酸1,6-己二醇酯稀釋),’’EBECRYL 4827π(芳族氨基甲酸 酯二丙烯酸酯,分子量1,600),"EBECRYL 483 0”(脂族氨 基甲酸酯二丙晞酸酯,分子量1,200 ,以二丙晞酸四乙二 醇酯稀釋),nEBECRYL 6602”(三官能芳族氨基甲酸酯丙烯 酸酯,分子量1,300 ,以三羥甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯 稀釋),及”EBECRYL 840,’(脂族氨基甲酸酯二丙晞酸酯, 分子量1,000),市面上可自UCB Radcure公司(Smyrna, GA) 購得;’’SARTOMER”(例如,’’SARTOMER 9635,9645, 9655,963-B80,966_Α80Π 等等),市面上可自 Sartomer 公司(West Chester, ΡΑ·)購得;及 ’,UVITHANEf’(例如, ’’UVITHANE 782’’),市面上可自 Morton International 公司 (Chicago, IL.)購得。 乙烯系不飽和單體或低聚物,或丙晞酸酯單體或低聚物 ,可爲單官能、二官能、三官能或四官能,或更高官能性 。丙烯酸酯一詞包括丙晞酸酯及甲基丙晞酸酯兩者。乙晞 系不飽和黏結劑前驅物包括含有碳,氫及氧及視情況氮及 鹵素原子之單體及聚合化合物。乙烯系不飽和單體或低聚 物較佳具分子量小於約4,000,且較佳係由含脂族單羥基 ___ 18-_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項\mpib本頁)
•訂
585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(16 ) 或脂族多技基之化合物與不飽和幾酸,如丙晞酸、甲基丙 晞酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸及類似物之反 應所製成之酯類。乙晞系不飽和單體之代表實例包括甲基 丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、苯乙烯、二乙烯基苯、丙 晞酸輕基乙酯;甲基丙晞酸輕基乙酯、丙烯酸輕基丙酯、 甲基丙晞酸經基丙酯、丙晞酸超基丁 g旨、甲基丙晞酸輕丁 酯、乙晞基甲苯、二丙晞酸乙二醇酯、聚二丙晞酸乙二醇 酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二丙晞酸己二醇酯、二丙晞 酸三乙二醇酯、三丙晞酸三羥甲基丙烷、三丙烯酸甘油酯 二丙晞酸季戊四醇g旨、三甲基丙晞酯季戊四醇酯、四丙晞 酸季戊四醇酯及四甲基丙晞酸季戊四醇酯。其他乙烯系不 飽和單體或低聚物包括羧酸之單烯丙酯、多晞丙酯及多甲 基晞丙酯及醯胺,如苯二酸晞丙醋、己二酸二晞丙g旨及n,n_ 二烯丙基己二醯胺。還有其他含氮化合物包括參(2-丙晞氧 基乙基)異氰尿酸酯、1,3,5·三(2-甲基丙烯氧基乙基)-8_三 呼、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-甲基丙烯醯胺、N,N-二甲基丙晞醯胺、N_乙晞基吡咯烷酮及N-2晞基吡啶酮, 及CMD 3 700”,市面上可自Radcure Specialties公司購得 。乙晞系不飽和稀釋劑或單體可查閱美國專利5,236,472 及 5,580,647 號。 一般而言,這些丙烯酸酯單體間之比率端視鑽石研磨粒 子及最終研磨物件中所需要任何可選用添加物或填料之重 量〇/°而定。一般而言,這些丙晞酸酯單體自約5重量份至約 95重量份丙晞酸氨基甲酸酯低聚物對約5重量份至約%重 (請先閱讀背面之注意事項 —ϋ —ϋ· ·
本頁)
V1T
585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 --'—'—一 B7 五、發明説明(* '一'* — 量2乙烯系不飽和單體。有關其他潛在可用黏結劑及黏結 劑前驅物之額外資料可查閱PCT WO 97/1 1484及美國專利 4,773,920 號。 丙烯酸酯化環氧樹脂爲環氧樹脂之二丙烯酸酯,如雙酚 A %氧樹脂之二丙晞酸酯。市售丙晞酸酯化環氧樹脂之實 例包括具商品代號”CMD 3500,,,,,CMD 3 600,,及,,CMD 3 700,, 者,市面上可自Radcure Specialties公司購得;及” CN1〇3” ,nCN104”,’’CN111” ’ "CN112”及”CN114”者,市面上可自 Sartomer公司購得。 聚酯丙烯酸酯之實例包括”PHOtqmer 5007”及 ’’PHOTOMER 5018”,市面上可自Henkel公司購得。 氣基塑料單體具有至少一個側鏈α,β _不飽和羰基。這些 不飽和羰基可爲丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或丙烯醯胺型之 基。此等物質之實例包括Ν-(^基甲基)-丙晞醯胺,ν,Ν,-氧二亞甲基雙丙晞醯胺,正-及對-丙晞醯胺基甲基化酚, 丙晞酿胺基乙基化紛系紛酸清漆,及其組合。這些物質在 美國專利4,903,440及5,236,472號已有進一步説明。 具至少一個側鏈丙烯酸酯基之異氰尿酸酯及具有至少一 個側鏈丙烯酸酯基之異氰酸酯在美國專利4,652,274號中 已有進一步説明。較佳異氰尿酸酯物質爲參(羥基乙基)異 氰尿酸S旨之三丙晞酸SS。 視自由基可硬化樹脂如何硬化或聚合而定,黏結劑前驅 物可進一步包含一硬化劑(其也稱爲觸媒或引發劑)。當硬 化劑曝露於適當能源時,其將產生自由基源而啓動聚合過 -20 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項 丨"!^衣— 本頁) /1Τ
585900 A7 B7 五、發明説明(18 ) 程 較佳黏結劑如驅物包含環氧樹脂。環氧樹脂具環氧乙烷 %,且係藉開壤反應而聚合。此等環氧化物樹脂包括單體 環氧樹脂及聚合環氧樹脂。一些較佳環氧樹脂之實例包括 2,2-雙-4-(2,3-環氧丙氧基)_苯基)丙烷,雙酚之二縮水甘油 醚,市售物質商品代號爲,,EPON 828,,,,,EP〇N 1004,,及 ”ep〇n 1001F”,市面上可自 Shell 化學公司(H〇ust〇n,τχ) 購得;及”DER-331”,”DER-332”及,,DER_334,,,市面上可 自Dow化學公司(Midland,ΜΙ·)購得。其他適當環氧樹脂 包括環脂族環氧樹脂,酚甲醛酚醛清漆之縮水甘油醚(例如 ,”刪-43Γ,及”刪-428”,市面上可自D〇w化學公司講得 。自由基可硬化樹脂與環氧樹脂之摻合物在美國專利 4,751,138號及5,256,170號中已有進一步説明。 B.底材 底材係用以提供由黏結劑與研磨粒子結合所形成研磨複 合物之支撑。可用於本發明之底材必須能在黏 曝露於硬化條件之後黏附於黏結劑,且較佳在該曝露後且 撓性,俾本發明方法所用物件可順合表面外形, 璃中之不規則性。 千徑及玻 在許多玻璃完工應用上,底材必須很強韌且持 得研磨物件可持久。此外,在某些研磨應用上,必j 韌又具撓性,俾研磨物件可均勾順合破璃工作件、二’、 璃工作件之表面有形狀或與其相關連之外形時,在玻 材可爲聚合物膜,紙張,硬化紙板,模製或鑄造二:體底 本紙張尺度適用
-21 - A4規格(21 〇χ 297公釐) 585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(19 經處理不儘底材,經處理布底材,以提供強度及順服性這 些性質。聚合膜之實例包括聚酯膜、共聚酯膜、聚醯亞胺 膜、聚醯胺膜及類似物。不織物,包括紙,可浸滿熱固性 或熱塑性物負以提供必要性質。任何以上底材都可進一步 包含添加物,如:填料、纖維、染料、顏料、潤濕劑、偶 合劑、增塑劑及類似物。用於本發明玻璃拋光研磨粒子之 辰材較佳含有一種或多種纖維,例如,矽酸鹽,金屬,玻 璃,碳,陶磁,高模量有機及其任何組合之纖維。本發明 之底材也可含有補強稀鬆布或布,例如N〇MEXTM之布, 市面上可自杜邦公司(Wilmington,DE)購得。 在一些情形,可能較佳具有整體成型底材,亦即,底材 直接緊鄰複合物成型,而非獨立將複合物直接附著於底材 ’例如布上。底材可在複合物成型後在複合物之背面成型 或鑄造,或與複合物同時成型或鑄造。底材可由熱或輻射 了硬化熱塑性或熱固性樹脂成型。典型及較佳熱固性樹脂 包括酚系樹脂,氨基塑料樹脂,氨基甲酸酯樹脂,環氧樹 脂’乙缔系不飽和樹脂,丙晞酸酯化異氰尿酸酯樹脂,脲-甲酸樹脂’異氰尿酸酯樹脂,丙烯酸酯化氨基甲酸酯樹脂 ’丙晞酸酯化環氧樹脂,雙馬來醯亞胺樹脂及其混合物。 車义佳熱塑性樹脂之實例包括聚醯胺樹脂(例如,耐論),聚 醋樹脂及聚氨基甲酸酯樹脂(包括聚氨基甲酸酯_脲樹脂)。 一較佳熱塑性樹脂爲衍生自聚酯多元醇與異氰酸酯之反應 產物之聚氨基甲酸酯。 底材化學性與複合物之化學性相同或相似皆在本發明之 -22- M氏張尺度適财關家標準(CNS )以規格(21G><297公董)
585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(20) 範圍内。 ’ C.研磨粒子 本發明<研磨物件也包括眾多研磨粒子或研磨團塊。圖7 顯示本發明之研磨團塊。研磨團塊70包含分散於永久黏結 劑72中之單一研磨粒子74。永久黏結劑72可爲玻璃,陶 磁、金屬或有機黏結劑,如上述。單—研磨粒子74較佳包 含單一鑽石粒子。團塊中所用單一鑽石粒子較佳具尺寸約i 至約100微米。較佳永·久性黏結劑爲,,spl〇86,,玻璃粉,市 面上可自Specialty玻璃公司(〇ldsmar,FL )購得。 一般而1:,包含鑽石粒子大於丨5微米之團塊粒子之平均 大小爲約100至約1,000微米、較佳約100至約400微米、 更佳約225至約350微米。然而,包含鑽石粒子小於15微 米之團塊粒子之平均大小爲約20至約450微米、較佳約4〇 至約400微米、更佳約70至約3〇〇微米。 研磨團塊在美國專利4,31M89號,4,652,275號及 4,799,939號中已有進一步説明。研磨粒子可進一步包含表 面處理或塗層,如偶合劑或金屬或陶磁塗層。 可用於本發明之研磨粒子較佳具有平均粒子大小約〇〇1 微米(小粒子)至500微米(大粒子)、更佳約3微米至約5〇〇 微米,甚至更佳約5微米至約400微米。偶而,研磨粒子 大小會用”網目”或”等級”表示,兩者均是通知之研磨粒子 粒度分析方法。研磨粒子較佳具有莫氏硬度至少8,或更 佳至少9。此等研磨粒子之實例包括熔融氧化鋁、陶磁氧 化無、加熱處理氧化鋁、碳化矽、氧化鋁·氧化锆、氧化鐵 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項SUPk本頁) -訂
585900 A7 ------—__B7五、發明説明(21 ) HI i I— - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 、鑽石(天然及合成)、统化錦、立體氮化硼、石描石及其 組合。 爲玻璃研磨,研磨粒子較佳使用鑽石研磨粒子或包含鑽 石之研磨團塊。這錢石研磨粒子可爲天然或合成鑽石, 且可被視爲”樹脂鍵結鑽石”,,,鋸片級鑽石,,或,,金屬鍵結鑽 石”。單個鑽石可具塊狀形,或者針狀形。單一鑽石粒子可 含有表:塗層,如金屬塗層(例如,鎳、鋁、銅或類似物) 、典機塗層(例如,氧化矽)或有機塗層。本發明之研磨粒 子可含有鑽石與其他研磨粒子之摻混物。爲玻璃拋光,研 磨物件較佳使用氧化铈研磨粒子。 二維度研磨塗層,亦即,研磨複合物,可包含以重量計 介於約0.1份研磨粒子或團塊至90份研磨粒予或團塊及1〇 份黏結劑至99.9份黏結劑,其中”黏結劑”一詞包括研磨粒 子以外之任何填料及/或其他添加物。然而,由於鑽石研磨 粒子之高價之故,研磨塗層較佳包含約〇·丨至份研磨粒 子或團塊及約50至99.9重量份黏結劑。更佳爲,黏結劑包 含約1至30份研磨粒子或團塊及約7〇至99份(重量計)黏 結劑’甚至更佳爲研磨塗層包含約1 · 5至1 〇份研磨粒子或 團塊及約90至98·5份黏結劑(重量計)。鑽石研磨粒子之特 別有用範圍爲在研磨複合物中介於2與4重量%。若本發明 之研磨粒子含有氧化鈽粒子作爲研磨複合物中之主研磨物 ,則氧化鈽粒子之存在量較佳自丨至95重量份,且更佳自 10至95重量份,其餘爲黏結劑。 (請先閱讀背面之注意事項
本育) -訂
--— ___-24-_ 本紙張尺涵中關家標準(CNS ) A4規格(21()χ297公羡) --^_ 585900 A7 · — ____ gy 五、發明説日—~ 如磨塗層及底材可進一步包含可選用添加物’ :子表面改艮添加物,偶合劑,填料,膨脹劑,纖 猙包d,硬化劑,懸浮劑,光敏劑,潤滑劑,潤濕 界面活性劑’顏料’染料,uv穩定劑及抗氧化劑。 故二物質之量係經選擇以提供所要性質。 偶合劑可提供黏結劑與研磨粒子間之連接橋。此外,偶 合劑可提供黏結劑與填料粒子間之連接橋。偶合劑之實例 =括矽烷,鈦酸鹽及锆鋁酸鹽。有各種方式可用來併入偶 合刎例如,可將偶合劑直接加至黏合劑前驅物中。研磨 塗層了 έ有介於〇至30%,較佳介於〇· 1至25重量%偶合 劑。或者,可將偶合劑施加至填料粒子或研磨粒子表面。 研磨粒子可含有自約〇至3重量%偶合劑,以研磨粒子與偶 合劑之重量爲準。市售偶合劑之實例包括”Α174,,及,,Α 123〇,, ,市面上可自OSi特殊品公司(Danbury,CT·)購得。市售偶 合劑還有另一實例爲鈦酸異丙基三異硬脂醯酯,市面上可 自Kenrich石油化學公司(Bayonne,NJ.)購得,商品代號爲 丨,KR-TTS,,。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 研磨塗層可進一步視情況包含填料。填料係微粒物質, 一般具有平均粒度範圍在約〇· 1至50微米之間,典型在約 1至3 0微米之間。可用於本發明之填料之實例包括:金屬 碳酸鹽(如碳酸鈣-白堊、方解石、泥質嚴、石質華、大理 石及石灰石;碳酸鈣鎂、碳酸鈉及碳酸鎂)、氧化碎(石英 、玻璃珠、玻璃泡及玻璃纖維)、矽酸鹽(如滑石、黏土 _蒙 _____-25- ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 585900 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ________ B7 五、發明説明(23 ) 脱土,長石、雲母、破S& #5、及有水和無水硬酸奸)、金屬 硫酸鹽(如硫酸躬、硫故鋇、硫納、硫酸紹鋼、硫酸雜) 、石膏、蛭石、木粉、三水合鋁、碳黑、金屬氧化物(如氧 化鈣-石質;氧化鋁、氧化錫-例如,氧化正錫;二氧化鈦) 及金屬亞硫酸鹽(如亞硫酸鈣)、熱塑性粒子(聚碳酸醋、聚 醚醯亞胺、聚酯、聚乙晞、聚颯、聚苯乙晞、丙烯腈_ 丁二 晞-苯乙烯嵌段共聚物、聚丙烯、乙縮醛聚合物、聚氨基甲 酸酯、耐紛粒子)及熱固性粒子(紛系泡、酚系珠、聚氨基 甲酸酯泡沫粒子)及類似物。填料也可爲鹽,如_化物鹽。 鹵化物鹽之實例包括鼠化鈉、钟冰晶石、鋼冰晶石、按冰 晶石、四氟棚酸钟、四氟硼酸鋼、氟化碎、氣化卸及氯化 鍰。金屬填料之實例包括錫、鉛、鉍、鈷、銻、鎘、鐵鈦 。其他雜類填料包括硫、有機硫化合物、石墨及金屬硫化 物0 懸浮劑之一實例爲具表面積小於15 〇平方米/克之無晶形 氧化碎粒子,市面上可自DeGussa公司(Ridgefield Park,NJ) 購待,商品代號’’ ΟX- 5 0f’。懸浮劑之添加可降低研磨料漿之 整體黏度。懸浮劑之使用已在美國專利5,368,619號中有進 一步説明。 有些具體例可能需要形成具有可控制研磨粒子沉殺之研 磨料漿。舉例言之,可形成具有鑽石研磨粒子均勻全體混 合之研磨料漿。自料漿鑄造或模製複合物及底材之後,鑽 石粒子可以控制之速度沉降,故在有機樹脂已硬化至鑽石 粒子不再沉降之時,鑽石粒子已與底材分離,而僅位於複 _______ - 26 - ^紙張尺度適用中國國家標準(〇奶)八4規格(210'/297公釐) -- (請先閱讀背面之注意事項 冬-- 本頁)
*1T
585900 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(24 ) 合物中。 黏結劑前驅物可進一步包含硬化劑。硬化劑係一種能幫 助引發及完成聚合或交聯過程,以致黏結劑前驅物轉化成 黏結劑之物質。硬化劑一詞涵蓋引發劑,光引發劑,觸媒 及活化劑。硬化劑之量及種類大部份將視黏結劑前驅物之 化學性而定。 乙晞系不飽和單體或低聚物之聚合作用係藉自由基機轉 進行。若能源爲電子束,則電子束會產生自由基,引發聚 合作用。然而,既使黏結劑前驅物曝露於電子束下,使用 引發劑也在本發明之範圍内。若能源爲熱,紫外光或可視 光,則引發劑可能必須存在以便產生自由基。曝露於紫外 光或熱時會產生自由基之引發劑(亦即,光引發劑)之實例 包括,但不限於,有機過氧化物、偶氮化合物、醌、亞硝 基化合物、醯基_、腙、毓基化合物、嘮英鑌化合物、咪 峻、氣三畊、苯偶姻、苯偶姻烷基醚、二酮、苯酮及其混 合物。曝露於紫外光時會產生自由基之市售光引發劑之實 例爲具商品代號’’IRGACURE 65 1,’及,’IRGACURE 1 84,,者, 市面上可自Ciba Geigy公司(Hawthorne,NJ)購得;及 DAROCUR 1173’’者,市面上可自]yierck & Company 公司 (Rahway,NJ·)購得。曝露於可視光時會產生自由基之引發 劑之實例可查美國專利4,735,632號。曝露於可視光時會產 生自由基之另一種光引發劑,其商品代號爲,,IRGACURE 369丨’,市面上可自Ciba Geigy公司購得。 一般而言,引發劑之使用量爲自〇. 1至1 〇%,較佳2至 27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項
本頁) 訂
585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 £7__ 五、發明説明(25 ) ~ 4%,以黏結劑前驅物之重量爲準。此外,較佳在添加任何 微粒物質如研磨粒子及/或填料粒子之前,將引發劑分散, 較佳均勾分散於黏結劑前驅物中。 一般而言,黏結劑前驅物較佳應曝露於輻射能下、較佳 紫外光或可視光下。在某些情形,某些研磨粒子及/或某些 添加物會吸收紫外光及可視光,而使黏結劑前驅物很難適 當硬化。此一現象在氧化鈽研磨粒子及碳化矽研磨粒子時 尤然。非常意外地發現,使用含磷酸鹽之光引發劑,特別 是含氧化醯基膦之光引發劑,可解決此一問題。此種光引 發劑之實例爲氧化2,4,6-三甲基苯醯基二苯基膦,市面上 可自BASF公司(Charlotte,NC)購得,商品代號爲,,LUCIRIN TP0”。市售氧化醯基膦之其他實例包括商品代號爲 ”0八110(:1;11 4263”及’’0八110<:1;11 4265’’,兩者在市面皆可自 Merck & Company 公司購得。 視情況而言,可硬化組合物可含有會在空氣中或惰性氛 圍(如氮氣)中影響聚合作用之光敏劑或光引發劑系統。這 些光敏劑或光引發劑系統包括具羰基或第三胺基及其混合 物之化合物。在具有羰基之較佳化合物中,有:二苯甲酮 、乙醯苯、苯偶醯、苯醛、0_氣苯醛、咕噸酮、硫咕噸酮 、9,10-蒽醌及可作爲光敏劑之其他芳族酮。在較佳第三胺 中,有·甲基一乙醇胺、乙二乙醇胺、三乙醇胺、苯基甲 基-乙醇胺及一甲基胺基乙基苯甲酸酉旨。一般而言,光敏劑 或光引發劑之量可自約0·01至10重量%,更佳自〇.25至 4.0重量%不等,以黏結劑前驅物之重量爲準。光敏劑之實 • 一 ____ -28- 本紙張尺度適财酬家;^ ( CNS ) Α4規格(2⑷χ297公羡) --- (請先閱讀背面之注意事項
本頁) -訂
585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(26 例包括商品代號爲,’QUANTICURE ITX’,,"QUANTICURE QTX”,”QUANTICUREPTX”,"QUANTICUREEPD,,者,全 部可自 Biddle Sawyer 公司(New York,NY)購得。 製造研磨物件之第一步驟爲製備研磨料漿。研磨料漿係 用任何適當混合技術將黏結劑前驅物、研磨粒子或團塊及 可選用添加物一起混合而製成。混合技術之實例包括低剪 切及咼男切/m合,以咼男切混合爲較佳。超音波能也可與 混合步驟結合使用以降低研磨料漿黏度。一般而言,研磨 粒子或團塊皆係次第加至黏結劑前驅物中。研磨料漿較佳 應爲黏結劑前驅物,研磨粒子或團塊及可選用添加物之均 質混合物。若有需要,可加入水及/或溶劑以降低黏度。研 磨料漿中之氣泡可藉在混合步驟之時或之後抽眞空而降至 最少。在有些情形,較佳爲將研磨料漿加熱,一般在約3〇 °C至約100 °c之範圍内,以降低黏度。重要的是,塗覆前 必須檢視研磨料漿以確保能完全塗覆之流變性,及並中研 磨粒子或團塊及其他填料在塗覆前不會沉降。 鑽石團塊-般係由臨時黏結劑、永久黏結劑(例如,玻璃 '陶磁'金屬)及單m子與充分量之溶劑,通常爲水 -起:合以使溶劑潤濕各原料以製成可模製膏而製成。 然而’若永久黏結劑爲有機黏結劑 * % , ^ 則可不用臨時黏結劑 。將可模h放人適當模中、風乾、及取出硬化之图塊。 然後使用刀級裝置’如筛網,將團塊分 後在空氣中燒成以製造最終供乾之图塊。在有機::黏: 劑之情形時,粒子不經燒成錢水久黏t ①成m處理以使有機黏結劑 本紙張尺度適用中國國家標準 (請先閲讀背面之注意事項本頁) •、可
29- 585900 A7 丨丨丨· - B7五、發明説明(27 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 硬化。 製造包含研磨複合物之研磨物件之一項方法係使用含有 眾多孔腔之製造工具或模具。這些孔腔基本上是所要研磨 複合物之倒反形狀,且負責產生研磨複合物之形狀。每平 方單位面積之孔腔數即會獲得具有對應每平方單位面積之 研磨複合物數之研磨物件。這些孔腔可具有任何幾何形狀 ,如圓筒形、圓頂形、金字塔形、長方形、截頭金字塔形 、菱形、立方形、圓錐形、截頭圓錐形、或頂表面剖面爲 三角形、正方形、圓形、長方形、六角形、八角形或類似 者之任何形狀。孔腔之尺寸經過選擇以獲得每平方單位面 積所要數量之研磨複合物,孔腔可以相鄰孔腔間有空間之 點狀圖案存在,或孔腔可相互毗連。 研磨料漿可用任何習知技術如模塗,眞空模塗,噴塗、 輥塗、轉移塗覆、刀塗及類似法塗入模具之孔腔中。若模 具包含具有平頂或相當直側邊之孔腔時,則較佳在塗覆時 使用眞空以使任何空氣之陷入減至最少。 模具可爲皮帶,平板,連續平板或儘網,塗覆輥(如照相 凹版輪轉印刷輕)’裝置在塗覆輥上之套管,或塑模;且可 由金屬’包括鍵鎳表面,金屬合金,陶磁或塑膠構成。製 造工具,製造方法,原料等之進一步資料可查美國專利 5,152,917 號及 5,435,8 16 號。 當研磨料漿包含熱固性黏結劑前驅物時,黏結劑前驅物 要硬化或聚合。此一聚合作用一般係曝露於能源時引發。 一般而言,能源之量視若干因素而定,如黏結劑前驅物化 -30- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2ΐ〇χ^公釐) -- (請先閱讀背面之注意事項mpr本頁)
?1T
585900 A7 B7 五、發明説明(28 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 性、研磨料漿尺度、研磨粒子之量及種類及可選用添加物 之量及種類。輻射能係一較佳能源。輻射能源包括電子束 ,紫外光或可視光。 使用製造工具製造研磨物件之其他細節已進一步説明於 美國專利5,152,9 17號,其中所製造之經塗覆研磨物件係製 造工具之倒反複製物;及美國專利5,435,816號。 研磨物件,視玻璃研磨所要構型·,可轉化成任何所要形 狀或型怨。此-轉化可藉切開’模切或任何適當方式完成。 本發明之研磨物件較佳具有整體成型底材,亦即,研磨 複合物係在研磨複合物仍在模具孔腔中時直接黏結於在複 合物上鑄造或成型之樹脂底材上。較佳爲,底材係在研磨 複合物之有機樹脂已完全硬化之前成型,以 材之間有更佳黏附力。可能在底料造之前,需在複= <表面包括底劑或黏附促進劑,以確保底材之適當黏附。 底材較佳爲自1毫米至2厘米厚,更佳約〇·5厘米至1厘 米厚。所得研磨物件應具彈性及柔順性以使其能順合具有 曲度或半徑之任何支撑塾。在有些情形,可能f要^材 製成具有預形成曲度。 底材可由與複合物相同之樹脂錡造或形成,或可由不同 物質鑄造。特別有用之樹脂之實例包括氨基甲酸酯、環氧 樹脂、丙晞酸酯及丙晞酸酯化氨基甲酸酯。底材較佳不包 括研磨粒子,因爲這些粒子在任何研磨用途上都不^ 使用到。然而,填料,纖維或其他添加物可併入底材中: 底材中可併合纖維以提高底材與研磨複合物間之黏附力。 -31 - 本紙張尺度適用規格(210X297公釐 (請先閱讀背面之注意事項 衣-- mpr本頁) :訂
I ί — - 585900
-〈纖維之實例包括由矽酸鹽 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 、 .....—— 金纖,及 堝,碳,陶磁及有機物質所製成者。用於底材之較佳纖, 爲纖維、鋼纖維、玻璃纖維、碳纖維、陶磁纖維, 兩模量有機纖維。 " 在某些用途上,可能需有更耐用且抗撕裂底材,這可d 在成型底材中加人稀鬆布或類似物而達成。在底材成. ,可將稀鬆布或其他材料舖在早已填滿樹脂(但未硬化^ 孔腔上’然後在稀鬆布上再加上—層樹脂;或可將稀⑼ 或其他材料舖在未硬在成型底材上。任何稀鬆布或添加及材較佳ϋ'Μ分多1 ’以讓底材樹脂穿透並呑沒該底材。 適用(稀鬆布材料一般爲輕量,稀縣組織粗布。適舍和:包括金屬或鐵絲網’織布如棉,聚醋,嫘縈,玻璃二 ^他補強材料,如纖維。稀鬆布或補強材料可預處理以指 鬲樹脂與稀鬆布之黏附力。 研磨玻璃之典划女止 用於研磨玻璃表面之本發明研磨物件令人驚奇的是,可 在相當短的時間内磨掉大量之材料而仍提供平滑表面。研 f時’研磨物件相對於破璃表面運動並用力向下壓在玻璃 表面上;力量較佳自、約0 5克/平方毫米至约“克/平方毫 米’更佳自約0.7克/平方毫米至約2〇克/平方毫米,甚至 :佳2 1〇克/平均耄米。若向下力量太太,則研磨物件可 :不會使磨傷深度變細,而有些情形可能反而加大磨傷深 ,同時,若向下力量太高,研磨物件可能過度磨損。相 i ’若向下力量太低,料磨物件可能不會有效地磨 (請先閱讀背面之注意事項本頁)
丁 4·一V» —ϋ---------1—
m I
585900 經 濟 部 中 央 標 準 消 費 合 作 社 印 製 五、發明説明(3〇 )充份之玻璃材料。在有些用途,玻璃工作件可用力向下壓 在研磨物件上。 如所述,玻璃或研磨物件或兩者,在研磨步驟時,將相 互相對運動。此一運動可爲旋轉運動,無規運動或直線運 動。旋轉運動可由研磨盤固定於旋轉工具上而產生。玻璃 表面及研磨物件可相同方向或相反方向轉動,但若同一方 向,則轉動速度不同。以機器而言,運轉rpm可高達約4,000 rpm,較佳自約25 rpm至約2,000 rpm、更佳約5〇 rpm至 約1,000 rpm,視所用研磨物件而定。無規執道運動可藉無 規軌道工具產生,而直線運動可藉連續研磨皮帶產生。玻 璃與研磨物件間之相對運動也可視玻璃之尺寸而定。若玻 璃相當大,則可能較佳爲在研磨時移動研磨物件,而玻璃 保持固定。 較佳在有液體存在時研磨玻璃。液體會抑制熱在研磨時 蓄積’並自研磨介面除去玻璃碎屑。”玻璃碎屑,,一詞係用 以説明被研磨物件磨除之實際玻璃屑。在有些情形,玻璃屑會破壞研磨中的玻璃表面。因此,有需要自介面除去玻 璃屑。水一般是較佳液體。 在許多情形,研磨物件係黏合於支撑墊上。支撑塾可自 聚氨基甲酸酯泡沫、橡膠材料、彈性體、橡膠基底泡沫或 任何適當材料製成,且可設計成順合工作件外形。支撑蟄 材料之硬度及/或壓縮性須經選擇以提供所要研磨特徵(切 削速度,研磨物件產物壽命及玻璃工作件表面完工)。 支撑墊可具連續及相當平坦之表面以固定研磨物件。或 - —— ____- 33 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) a4規格(210X297公釐
五 者’支撑塾可具不連續表面,其中存在u凸起部份及 凹下邵份,以固定研磨物件。在不連續表面之情形時,研 磨物件可僅固4於凸起邵份。相反地,研磨物件可固定於 一個以上凸起部份,以使整個研磨物件不完全被支撑。支 撑塾之不連續表面須經選擇以提供所要之水流體流動及所 要研磨特欲(切削速度,研磨物件產品壽命及玻璃工作件表 面完工)〇 支撑墊可具有任何形狀,如圓形、長方形、正方形、橢 圓形及類似者。支撑墊大小(最長尺寸)可自5厘米至 厘米。 固著 研磨物件可藉壓感性黏著劑、鈎子及圈固著物、機械固 著物或永久黏著劑固定於支撑墊。固著必須是,研磨物件 旎牢牢固疋於支撑墊,且能抵擋玻璃研磨之嚴酷條件(濕環 境,熱產生及壓力)。 適於本發明之壓感性黏著劑之代表性實例包括膠乳縐膠 ,松香,丙烯酸聚合物及共聚物;例如,聚丁基丙烯酸酯 ,聚丙烯酸酯,乙烯醚;例如聚乙烯n_ 丁基醚,醇酸樹脂 黏著劑,橡膠黏著劑;例如,天然橡膠,合成橡膠,氣化 之橡膠及其混合物。 或者,研磨物件可含有鉤型及圈型固著系統以將研磨物 件固足於支撑墊。圈織物可在經塗覆研磨物之背面,而鉤 則在支撑墊上。或者,鈎可在經塗覆研磨物之背面,而圈 則在支撑墊上。此一鉤及圈型固著系統已在美國專利 585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(32 ) 4,609,581 號,5,254,194 號及 5,505,747 號,及 PCT WO 95/19242號有進一步説明。 實例 以下試驗程序及非限制性實例將進一步説明本發明。實 例中全部份數、百分比、比率等皆以重量計,除非另有註 明。 以下材料縮寫全體實例均使用。‘ ADI 聚四甲基二醇/甲苯二異氰酸酯預聚物,市面上 可自Uniroyal化學公司(Charlotte,NC)購得,商 品代號爲 ’’ADIPRENE L-100” AER 無晶形煅製氧化矽填料,市面上可自Cabot公司 (Tuscola, IL)購得,商品代號爲"CAB-0-SIL Μ5Π AMI 芳族胺(二甲基硫甲苯二胺),市面上可自 Albemarle 公司(Baton Rouge, LA)購得,商品代 號爲丨’ETHACURE 300丨, APS 陰離子聚酯界面活性劑,市面上可自ICI Americas公司(Wilmington,DE)購得,商品代號 爲 ’’FP4’’及 f’PS4” A-1 100 矽烷珈瑪-胺基丙基三乙氧基矽烷,市面上可自 OSi特殊品公司(Danbury, CT)購得 BD 係聚乙烯醇縮丁醛,用作爲鑽石粒子之臨時黏 結劑,市面上可自孟山都公司(Springfield, MA) 購得,商品代號爲’’BUTVAR DISPERSION” CaC03 碳酸鈣填料 -35- (請先閱讀背面之注意事項
本頁) 打
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 __B7五、發明説明(33 ) CERIA 氧化!市,市面上可自 Rhone-Poulenc(Shelton, CT) 購得,商品代號爲"POLISHING OPALINE” CMSK 經處理矽酸鈣填料,市面上可自NYCO公司 (Willsboro, NY)購得,商品代號爲,,WOLLASTOCOAT 400’, DIA 工業用鑽石粒子(各種尺寸),市面上可自通用電 氣公司(Worthington, OH)購得,商品代號爲 ”RVGM,丨,Type Wf, EPO 環氧樹脂,市面上可自Shell化學公司(Houston, TX)購得,商品代號爲"EPON 828” ΕΤΗ 芳族胺(二乙基甲苯二胺),市面上可自 Albernarle 公司(Baton Rouge,LA)購得,商品代 號爲 ’’ETHACURE 100” GLP 係具粒度約325目之玻璃粉,市面上可自特殊玻 璃公司(Specialty Glass, Inc.)(01dsmar,FL)購得 ,產物號碼爲SP1086,且用作爲研磨粒子之永 久黏結劑 Graphite 石墨粉,市面上可自 Southwestern石墨公司 (Dixon Ticonderoga 公司之分公司,Burnet,TX) 購得,商品代號爲"Grade Νο· 200·09 Graphite Powder" KBF4 氟硼酸钟,市面上可自Atotech美國公司(Rock Hill,SC)購得,然後粉碎至小於78微米 K-SS 無水矽酸钾,市面上可自PQ公司(Valley Forge, _____-36-_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項
本頁) -訂
585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作衽印製 五、發明説明(34) PA)購得,商品代號爲"KASOLV SS” K-16 有水碎酸4甲,市面上可自PQ公司(Valley Forge, PA)購得,商品代號爲’’KASOLV 16π Moly 二硫化鈿,市面上可自 Aldrich化學公司 (Milwaukee, WI)購得 RIO 紅色氧化鐵顏料粒子 RNH DIA 工業用鑽石粒子(各種大小),市面上可自 American Boarts 粉碎公司(Boca Raton,FL)購得 ,Type RB且進一步分級至所要粒度並使用 Coulter Multisizer 測量 SR339 丙晞酸2-苯氧基乙醋,市面上可自Sartomer公 司(Exton,PA)購得,商品代號爲”SR339n TFS 三氟丙基甲基珍氧抗發泡劑,市面上可自Dow Corning公司(Midland,MI)購得,商品代號爲”7,,〇 URE 聚四甲二醇/曱苯二異氰酸酯預聚物,市面上可 自Uniroyal化學公司(Charlotte,NC)購得,商品 代號爲 ’’ADIPRENE L-167’· VAZO 1,1、偶氮雙(環己酮腈),98%,市面上可自 Aldrich 化學公司(Milwaukee, WI)購得。 W-G 矽酸鈣纖維,市面上可自NYCO礦物公司 (Willsboro,NY)購得,商品代號爲 ’,NYAD G Special1' 研磨複合物外構形 製造工具係在25.0毫米厚TEFLONtm牌聚四氟乙烯 __ -37- 度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~ (請先閲讀背面之注意事項
•本頁) •訂
585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(35) (PTFE)板中鑽出錐形孔之圖案而製得。所得聚合製造工具 含有形狀爲圓柱形之孔腔。每一柱之高度爲約6,3〇〇微米 ’直徑爲7,9 0 0微米。相鄰兩柱之基底間有約2 4 〇 〇微米距 離。 _試驗程序 試驗程序使用’’BUEHLER ECOMET 4’,可變速度研磨機, 其上安裝”BUEHLEREC0MER2”動力頭,兩者在市面上均 可自Buchler工業公司購得。使用下列條件進行試驗:馬達 速度設定於500 rpm,在玻璃試驗胚料表面積上之怪定玻 璃/研磨物件介面壓力爲25.5 psi (約180 kPa)或15 psi(約 106 kPa) ° 提供三塊平面圓形玻璃試驗胚料,各爲2.54厘米(丨忖) 直徑及約1.0厘米厚度,市面上可自Corning&司購得,商 品代號爲’’CORNING #906 1 ’’。將玻璃材料放入研磨機之動 力頭中。研磨機之30.5厘米(12忖)銘台逆時針轉動,而其 中固定玻璃試驗胚料之動力頭則以3 5 rpm順時針轉動。 將研磨物件模切成約2 0厘米(8忖)直徑圓,並用壓感性 黏著劑直接黏附於氨基甲酸酯支撑墊,其具肖化A硬度約 90硬度計。將氨基甲酸酯支撑墊固定於自軟泡沫板切出, 尽度約3 0毫米之開孔,軟泡末塾上。將此一塾組合放在研 磨機之鋁台上。將自來水以流速約3升/分噴於研磨物件上 以提供研磨物件與玻璃試驗胚料表面間之潤滑。 使用上述研磨機研磨玻璃試驗胚料。研磨機之拋光時間 間隔設定爲1 0秒。然而,據發現,研磨物件與玻璃試驗胚 _ -38- (請先閲讀背面之注意事項
本頁)
本紙張尺度通用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 B7 五、發明説明(36 料表面間之眞正接觸時間大㈣㈣間,因爲研磨機直到 研磨物件在玻璃試驗㈣表面穩定之後才相始計時。亦 即,觀察到研磨物件在玻璃表面上有—些反躍或跳躍,而 研磨機在研磨物件與玻璃表面間之接觸實質怪定時才會開 始計時。因此’眞正研磨時間賴;亦即,研磨物件與破 堝表面間之接觸時間爲約12秒,當研磨時間間隔設定於 秒時。 、 在10秒研磨後,記錄玻璃之表面完工及厚度。然後,將 玻堝研磨3分鐘’之後’再度測量厚度。此一厚度即爲下 一 10秒研磨試驗之起點。 實例1 、以實例i言,將TEFL0NtM牌PTFE模具填滿根據表!配 万製作之研磨料漿。製備份A及份B,加熱至8〇X:,然後 經由混合尖送入模具之孔腔中。 然後用表2所示底材配方覆蓋經填滿之柱孔腔至深度約 6.4先米,其法係經另一混合尖送入份a及份b。圍位模具 之壁保持底材所要厚度。硬化週期時,將鋁蓋板放置於底 材樹脂上面以確保恆一均勻厚度。然後在165 ^下,將整 個研磨物件硬化1 5小時。 硬化後,自模中取出樣本並切割而成2〇厘米直徑圓以供 試驗。研磨試驗係如上述進行,結果顯示於表3。表3顯 π在72分過程中,在二個介面壓力下,25 5 psi(i 75 8 kpa) 及15 psi (105.5 kPa)下記錄之17個測量値。每一報告測量 値係約12秒研磨期間内除去之玻璃材料之量(如前述,機 __ -39- L尺度適财麵家標準(CNS ) A4規格(210 Χ297公釐y
I— - _ _ *、^τ (請先閱讀背面之注意事項衣頁) 00 9 5 8 5 A7 __B7五、發明説明(37 ) 器設定至10秒,而實際研磨時間爲約12秒)。 Ra及Rz係在每一數據點結束時測量。全部12秒測量後 之表面冗工之平均爲Ra=1.2微米’ R z = 8 · 0微米0 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表1 :研磨料漿 體積混合比: 份A 2.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 EP0 978.33 46.90 URE 52.15 2.50 CMSK 1032.57 49.50 AER 10.43 0.50 APS 10.43 0.50 TFS 2.09 0.10 共計= 2086.00 100.00 份B 1.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 ΕΤΗ 258.58 18.47 RIO 1.40 0.10 CaC03 798.00 57.00 DIA Grade 200/230 301.32 21.52 AER 28.00 2.00 APS 11.34 0.81 TFS 1.40 0.10 共計= 1400.00 100.00 總計= 3486.00 -40- (請先閲讀背面之注意事項本頁)
•訂
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 585900 A7 B7 五、發明説明(38 ) 表2 :底材配方 體積混合比: 份A 10.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 ADI 8020.00 100.00 共計= 8020.00 100.00 份B 1.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 AMI 843.00 84.30 CMSK 95.00 9.50 RIO 35.00 3.50 AER 17.00 1.70 TFS 10.00 1.00 共計= 1000.00 100.00 總計= 9020.00 (請先閱讀背面之注意事項本頁)
_ *、訂
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -41 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 585900 A7 B7 五、發明説明(39 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表3 :研磨數據 時間(分) 介面壓力(psi) 除去基料(微米) 0.17 25.5 185 0.33 25.5 562 2.5 25.5 552 5.17 25.5 480 8 25.5 449 11.33 25.5 449 14.66 25.5 430 18 25.5 437 21.33 25.5 418 24.67 25.5 444 28.17 25.5 432 31.5 25.5 425 37.67 15 211 45.83 15 197 54.5 15 192 63.67 15 209 72 15 168 實例2 如實例1製備實例2,但研磨料漿配方顯示於表4及底 (請先閱讀背面之注意事項本頁)
ίιτ
-42- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 585900
五、發明說明(4〇) 材配方顯示於表5。實例2如上逑試驗,結果顯示於表6 。表6顯示在117分過程中,在二種介面壓力,25·5 psi (175.8PaR 15psi(105.5kPa)下之 i4 項研磨測量値。每一 報告測量値皆爲約12秒研磨期間除去之玻璃材料之量(機 器設定至ίο秒,但實際研磨時間爲約12秒,如稍早所述)。
Ra及RZ係在每一數據點結束時測量。全部12秒測量後 表面元工之平均爲Ra=〇·8微米,Rd8微米。 表4 :研磨 體積混合比: 份A 2.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 EPO 978.33 46.90 URE 52.15 2.50 CMSK 1032.57 49.50 CaC03 0.00 0.00 AER 10.43 0.50 APS 10.43 0.50 TFS 2.09 0.10 共計= 2086.00 100.00 份B 1.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 ΕΤΗ 258.58 18.47 RIO 1.40 0.10 -43- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) I裝--------訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五 、發明説明(41 ) CaC03 798.00 57.00 DIA Grade 270/325 301.32 21.52 AER 28.00 2.00 APS 11.34 0.81 TFS 1.40 0.10 共計= 1400.00 100.00 總計= 3486.00 表5 :底材配方 體積混合比: 份A 10.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 ADI 8020.00 100.00 共計= 8020.00 100.00 份B 1.00 成份 實際批料重量(克) 重量百分比 AMI 843.00 84.30 CMSK 95.00 9.50 RIO 35.00 3.50 AER 17.00 1.70 TFS 10.00 1.00 共計= 1000.00 100.00 總計= 9020.00 -44- (請先閲讀背面之注意事項 V1T 本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)
585900
A
7 B 五、發明説明(42 ) 表6 :研磨數據 時間(分) 介面壓力(psi)(kPa) 除去基料(微米) 0.67 25.5 (175.8) 430 4.33 25.5 (175.8) 348 9 25.5 (175.8) 317 14.16 25.5 (175.8) 283 19.83 25.5 (175.8) 252 25 25.5 (175.8) 244 31 25.5 (175.8) 250 36.5 25.5 (175.8) 235 44.17 25.5 (175.8) 214 51.83 25.5 (175.8) 214 64 15(105.5) 103 79.67 15(105.5) 86 98.83 15(105.5) 72 117 15(105.5) 91 (請先閱讀背面之注意事項本I) :訂
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A.鑽石團塊樣本之製備程序 每一鑽石團塊之各原料均列示於以下表7。 -45- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 585900 A7 B7 五、發明説明(43) 表7 :鑽石團塊樣本1-4 成份 團塊樣本1 之批料重量 (g) 團塊樣本2 之批料重量 (g) 團塊樣本3 之批料重量 (g) 團塊樣本4 之批料重量 (g) BD 30.00 30.00 30.00 30.00 水 8.60 8.60 8.60 8.60 GP 20.00 20.00 20.00 20.00 RNH DIA (40 μπι) - 麵 - 20.00 RNH DIA (30 μηι) - 20.00 - - RNH DIA (20 μπι) 20.00 - - - RNH DIA (15 μπι) - - 20 - 共計二 78.60 78.60 78.60 78.60 團塊大小 225 μιη 225 μηι 225 μπι 225 μπι (請先閲讀背面之注意事項本頁)
<訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 將每一團塊樣本之全部原料加在一起,並置入塑膠燒杯 中用刮勺混合,以形成鑽石分散體。然後使用撓性塑膠刮 勺將鑽石分散體塗入具有樹膠丸(gumdrop)狀孔腔之9密爾 ,無規圖案塑膠工具中。製造塑膠工具之方法已説明於美 國專利5,152,917號。成型之團塊樣本在模中於室溫下乾燥 過夜。使用超音波喇队將成型之團塊樣本自模中取出。然 後使用70目篩網篩析團塊樣本使彼等分離。分離之後,團 塊之大小自約175至約250微米。 Butvar分散液係臨時黏結劑,市面上可自孟山都公司 (Springfield, MA)購得。GP (玻璃粉"SP1016")係永久黏結 -46 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)
585900 A7 B7 五、發明説明(44 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 W ’市面上可自特殊玻璃(Specjaity Glass)公司購得。另類 臨時黏結劑爲糊精,環氧樹脂,丙晞酸酯樹脂及類似物, 以及陶磁工業常用的其他臨時黏結劑。 將終篩析之團塊樣本置入氧化鋁燒盆中,並依照以下週 期於空氣中燒製: 室溫至 400 °C,2.0°C/分; 保持於400 °C 1小時; 400 °C 至 720 °C,2.0°C/分; 保持於720 °C 1小時;及 720 °C 至室溫,2.0。(: /分。 然後使用上述加目篩網篩析團塊。 然後用矽烷溶液處理經燒成團塊樣本以給與團塊對環氧 樹脂系統之較佳黏附力。矽烷溶液係藉混合下列原料而製 成: A-1100矽烷 1.0克 水 1〇·〇克 丙酮 89.0克 用石夕各液將團塊樣本弄濕,並將過量倒掉。 然後將經矽烷溶液處理之團塊樣本置入9〇乇烘箱中烘 乾30分鐘。然後如上述使用7〇目篩網,將經烘乾图塊樣本篩析。 Β·成皇磨物件實3_6及ϋ交實例製備哲守 對實例3-6及比較實例A_D而言,將根據表8配方製造 之研磨料聚填入實例1之P T F E模中。將份A及份b分開於 -47- 本紙張尺度適财關家縣(CNS ) A4規格(210X^97么¥7 c请先聞讀背面之注意事項
本覓)
-II 585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(45 ) 塑膠燒杯中用高剪切混合機混合,分開放置於眞空箱中除 去氣泡,然後一起以2 : 1體積比填入混合筒中,2份A 對1份B。然後將所得研磨料漿經由自動混合尖送入模子 之孔腔中。 -48- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項ί Γ本頁) 585900 A7 B7 五、發明説明(46 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ΕΤΗ RIO CMSK CaC03 ω 份Α共計= EPO URE CMSK AER APS TFS 份A 成份 18.47 0.10 27.77 34.50 150.00 70.35 3.75 74.25 0.75 0.75 0.15 t ^ 韋涔 時 s > 18.47 0.10 27.77 34.50 150.00 70.35 3.75 74.25 0.75 0.75 0.15 時>1發 17.80 0.10 27.89 43.00 153.00 71.76 3.83 75.74 0.77 0.77 0.15 18.49 0.10 28.00 43.00 157.50 73.87 3.94 77.96 0.79 0.79 0.16 莒民 時喊 © σ 18.49 0.10 28.00 43.00 159.00 74.57 3.98 78.71 0.80 0.80 0.16 時宣 g莒 % 18.49 0.10 28.00 43.00 159.00 74.57 3.98 78.71 0.80 0.80 0.16 韋 18.49 0.10 28.00 43.00 159.00 74.57 3.98 78.71 0.80 0.80 0.16 時J; 韋 18.49 0.10 28.00 43.00 159.00 74.57 3.98 78.71 0.80 0.80 0.16 g莒 韋 4 8 "1^1¥韋渖 _-49- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐1 (請先閱讀背面之注意事項
本頁) ;v' 訂
585900
A B 五、發明説明(47 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 體積%鑽石 鑽*石大小 鑽石種類 總計= 份B共計= DIA Nickel on DIA Glass on DIA AER APS TFS 65 μπι (Grade 230/ 270) GE, RVG-W粒子 250.00 100.00 7.15 9.10 2.00 0.81 0.10 45 μπι (Grade 325/ 400) GE, RVG-W粒子 I 250.00 j 100.00 7.15 9.10 2.00 0.81 0.10 0.75 65 μπι (Grade 230/ 270) GE, RVG-W粒子 1 253.00 100.00 3.65 4.65 2.00 0.81 0.10 0; 40 μηι 3M,RNH 粒子 1 257.50 100.00 7.50 2.00 0.81 0.10 0.74 20 μηι 團塊樣本1 -1 259.00 | 100.00 3.75 3.75 2.00 0.81 0.10 0.74 30 μηι 團塊樣本2 259.00 -1 100.00 3.75 3.75 2.00 0.81 0.10 0.74 15 μπι 團塊樣本3 259.00 -1 100.00 ί i 3.75 3.75 2.00 0.81 0.10 0.74 40 μπι 團塊樣本4 259.00 100.00 3.75 3.75 2.00 0.81 0.10 -50- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項本頁)
:、1T
585900 五、發明説明(48 ) 經填充之柱孔腔然後用表3所示實例丨之底材配方蓋至 約6.4毫米(1/4吋)之深度,其法係經一自動混合尖送入。 圍住楔子之壁保持底材所要厚度。在硬化週期時,將鋁蓋 板放在底材樹脂上方以確保恆定均勻厚度。將模具夾住= 閉並令其在室溫下硬化1至2小時,然後在165 Ό下在烘 箱中硬化4小時。自烘箱中取出模具並打開。自模中取出 成型心研磨樣本並裝置在Buehler研磨機之3〇·48厘米(12 吋)平台上。 底材配方之製備'先將表9份Β之成分放入塑膠燒杯中 以高剪切混合機混合,將樣本放入眞空烘箱中除去氣泡, 然後以低男切混合機將份Α與份Β混合以使氣泡陷入減至 最少。 經成型研磨樣本,其底材直徑爲30·48厘米(12忖),而研 磨柱直徑爲1·59厘米(5/8吋)。將研磨柱黏合於底材,以使 覆i中心(15.24厘米(6吋))之圓形區域並無研磨柱。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 尺 張 一紙 本 準 標 家 國 j國 中 用 適 格 4¾
釐 公 7 9 2 X 585900 A7 B7 五、發明説明(49 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 共計= 份B AMI CMSK 紅色氧化鐵 AER 7TFS 份A ADI 成份 100.00 80.85 1 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 比較實例A 之批料重量 (g) 100.00 80.85 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 g ^ 14皇 100.00 80.85 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 卜& ^ ^ 轉宣 _ η 100.00 80.85 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 比較實例D 之批料重量 (g) 100.00 80.85 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 實例3之 批料重量 (g) 100.00 80.85 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 實例4之 批料重量 (g) 100.00 80.85 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 實例5之 批料重量 (g) 100.00 80.85 12.95 3.50 1.70 1.00 783.64 實例6之 批料重量 (g) 丰 聲 -52 (請先閲讀背面之注意事項? ¾-- r本頁)
:1T
-^aN 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 585900 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 --------____________ 五、發明說明(5〇 ) 試驗程序 試驗程序使用nBuehlerEcomet4"變速研磨機,其上安裝 ”Buehler Ecomet 2”動力頭,兩者在市面上皆可= 工業公司購得。試驗係使用以下條件進行:馬達速度設定 於500 rPm(除非另有註明),壓力爲約1〇6 kpa (約 除非另有註明),於玻璃試驗胚料表面區域上進行。 才疋供二塊平面圓形玻璃試驗胚料,直徑爲2·54厘米(1付 )及厚度爲約1.0厘米,市面上可自corning公司購得,商 品代號’’CORNING #9061”。將玻璃材料放入研磨機動力頭 中。研磨機之30.5厘米(12吋)鉛台逆時針轉動,而其中固 定玻璃試驗胚料之動力頭則以3 5 rpm順時針轉動。 將成型研磨物件模切成約30.45厘米(12吋)直徑圓,並用 壓感性黏著劑直接黏附於12.5毫米厚氣丁橡膠支撑塾上, 其具肖氏A硬度爲約60硬度計。將此一墊組合放置於研磨 機之鉛台上。將自來水以流速約3升/分噴於研磨物件上以 提供研磨物件與玻璃試驗胚料表面之潤滑。 玻璃試驗胚料之最初完工係以鑽石筆驗平儀評估,該驗 平儀市面上可自Perthen購得,商品代號爲"PERTHOMETER,, 。同時,也記錄玻璃試驗胚料之最初重量。 利用如上所述之研磨機所研磨之玻璃試驗胚料,其研磨 時間由12秒至數分鐘。全部數據均予標準化,並以12秒 拋光中除去之平均玻璃基料報告。 研磨之後’各記錄取終表面完工及最終重量。玻璃試驗 胚料在研磨時間内之重量之變化以除去之玻璃基料之克數 -53- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 一裝------ (請先閱讀背面之注意事項㈣填寫本頁) ;€ 訂--------- 585900 A7 B7 五、發明說明(51 ) 顯示。記錄切削速度(玻璃基料除去之克數),Ra及Rmax (請先閱讀背面之注意事項翔填寫本頁) 値。 實例3之研磨試驗結果顯示於以下表10中。數據顯示含 鑽石團塊之本發明研磨物件在低至26.5 kPa之壓力下仍提 供一致之基料除去速度。 表10 :實例3之研磨數據及研磨條件 時間(分) 基料除去(微米/12秒) 壓力(kPa) 1 76 106 4 78 106 7 81 106 16 81 106 26 79 106 31 78 106 46 77 106 61 76 106 91 78 106 121 81 106 136 62 53 151 64 53 181 66 53 201 67 53 251 63 53 367 14 26.5 372 10 26.5 377 9 26.5 382 11 26.5 397 9 26.5 412 10 26.5 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -54- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) OC 9 5 8 5 A7 ___B7五、發明説明(52 ) 實例6及比較實例D之研磨試驗數據列示於表1 1。數據 顯示含鑽石團塊之實例6研磨物件之基料除去速度明顯高 於含相同大小之個別鑽石粒子之比較實例D之基料除去速 度0 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表11 :比較實例D及實例6之研磨數據 基料除去(除去微米/12秒) 時間(分) 比較實例D 實例6 24 33 34 32 44 28 54 22.5 64 18.5 65 119 74 17.8 75 111 78 101 84 15.2 88 100 104 12.8 107 110 112 107 124 10.5 126 105 144 9.5 (請先閲讀背面之注意事項本頁)
•-訂
_-55- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 9 5 8 5 A7 _ B7五、發明説明(53 ) 比較實例C及實例4之研磨試驗數據列示於表12。數據 顯示含鑽石團塊之實例4之基料除去速度明顯高於含較大 尺寸個別鑽石粒子之比較實例C之基料除去速度。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表12 :比較實例C及實例4之研磨數據 基料除去量(除去微米/12秒) 時間(分) 比較實例C _ 實例4 117 52 127 45 137 41 145 81 147 39 150 79 157 36 160 81 165 79 167 34 177 33 320 68 410 64 425 70 435 73 450 77 (請先閱讀背面之注意事項
本頁)
*1T
_-56- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 585900 A7 _ _ B7 7、發明説明(54) 比較實例B及實例5之表面平滑度數據(Ra及Rmax)列示 於以下表13及表14。這些數據顯示本發明之3個優點。 首先,Ra數據顯示含鑽石團塊之實例5所提供表面完工較 臭相似基料除去速度之含個別鑽石粒子之比較實例B者爲 細緻。其次,Ra及Rmax數據顯示含鑽石團塊之實例5在 較高相對速度下表面完工改進,而含個別鑽石粒子之比較 實例B,則不改進。最後,Rmax數據顯示含鑽石團塊之 實例5磨傷深度較具相似基料除去速度,含個別鑽石粒子 之比較實例B者爲小。 (請先閱讀背面之注意事項
本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表13 :比較實例B及實例5之表面平湣詹數據,Ra 表面平滑度Ra (微米) 速度(RPM) 比較實例B 實例5 100 0.68 0.61 200 0.68 0.5 300 0.71 0.46 400 0.62 0.42 500 0.38 訂
_—_-57- ^氏張尺度適用中國國家標準(匚灿)八4規格(210'犬297公釐) 五___ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 發明説明( 55 A7 B7 表14 B 足HLA^-4·承平滑度數據,Rmax '________________ 表面平滑度Rmax (微米) 比較實例B 實例5 5.9 5.38 5.93 4.79 6.93 4.9 5.98 4.1 3.9 一矣而伞游念ϋ…一 /仙L也\ 比較實 於以下表 。首先, 工較具相 者馬細緻 4在較高 比較實例 之實例4 子之比較 例Α與實例4之表面平滑度數據(Ra及Rmax)列示 1 5及表16中。這些數據顯示本發明之3個優點 Ra數據顯示含鑽石團塊之實例4所提供之表面完 似基料除去速度,含個別鑽石粒子之比較實例A 。其次,Ra及Rmax數據證明含鑽石團塊之實例 相對速度下表面完工改進,而含個別鑽石粒子之 A則不改進。最後,Rmax數據顯示含鑽石團塊 磨傷深度較具相似基料除去速度,含個別鑽石粒 實例A者爲小。 -58 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) M規格(210x297公釐) (請先閲讀背面之注意事項
•本頁) :訂
9 5 8 5 A7 B7 五、發明説明(56 ) 表15 :比較實例A及實例4之表面平滑度數據,Ra 表面平滑度Ra (微米) 速度(RPM) 比較實例A 實例4 100 0.86 0.8 200 0.86 0.69 300 0.85 0.62 400 0.8 0.62 500 0.54 (請先閲讀背面之注意事項imp舄本頁) 裝· 表16 ··比較實例A及實例4之表面平滑度數據,Rmax 表面平滑度Rmax (微米) 速度(RPM) 比較實例A 實例4 100 7.61 7.49 200 7.54 7.17 300 7.66 5.64 400 7.21 5.43 500 5.14
成型研磨物件實例7-11之測試程序III 使用手握磨砂機(市面上可自FLEX公司購得,型LW 603VR,1,000-2,800 rpm,1,500W),用 5 微米氧化鋁盤 (268乂八丁1^&(^1^膜PSA盤,市面上可自3M公司,St. Paul, -59- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) '訂
-良 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 585900
MN購得),先粗磨CRT螢幕一小區域(ι 厘米)。磨砂機運轉速度爲2 4nn 衣 17,7{ 門》一:m ㈣,及水係經磨砂機中 ^ 仏應°將具有眾多柱(〇·79厘米直徑及〇.635厘米 同又)(拋光墊(12·7厘米直徑)裝置在磨砂機之盤塾上。預 粗磨之CRT榮幕區域在2,_ rpm下抛光3〇秒。柱之破壞 係1 觀察拋光時所產生之鬆散氧化鈽«之量目視測定。 皮裒為(#等爲丨至5,丨爲很少破壞而$則爲過度破壞 。最適等級爲3,具中等破壞。研磨柱之過度破壞雖可提 供艮好拋先性能,但會縮短拋光塾之壽命。研磨柱破壞不 足雖可延長壽命,但卻提供不良之拋綠能。 柱與底材之黏附力極度重要。若柱與底材之黏附力弱, 則柱在拋光時會與底材脱離,當cm幕與㈣之摩#大 於柱與底材間黏附力時。黏附試驗之結果係藉測量在拋光 後(如上述)柱脱離底材之百分比而測定。 ^_型研磨物件實例7-丨丨^製備裎庠 在25.0毫米厚TEFL〇ntm牌聚四氟乙晞(pTF幻板鑽錐形 孔之圖案製作製造工具。所得聚合製造工具含有形狀爲圓 柱之孔腔。每一柱之高度爲約4毫米,而直徑爲約4·8毫米 。相鄰柱基底間有約2·4亳米距離。 以實例7-11言之,模中填滿根據表17之配方製造之研 磨料漿。將各原料放入塑膠燒杯中以高剪切混合機混合, 放入眞2烘箱中以除去氣泡,然後填入筒中。然後經由自 動混合尖將所得研磨料漿送入模具之孔腔中。 然後以表1 8之個別底材配方覆蓋於經填充柱孔上至 ___ -60- 本紙張尺度適财關家縣(CNS ) Α4規格(2Η)Χ297公釐) n J— (請先閲讀背面之注意事項本百) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 585900 發明説明(58 冰度、.力6.4笔米(1/4对)其法係經由自動混合尖送入配方。 ^模^壁保持底材所要厚度。在硬化週期時,將鉛蓋板 置於底材樹脂之上以確保恆_均勾厚度。模具 關閉並令其在室溫下硬化…小時,然後在 C下硬化4小時。自烘箱中取出模子,並予以打開。、 底材配方之製備:先將表18份B之各成分置入塑膠杯中 以高剪切混合機混合,將樣本置入眞空烘箱中除去氣泡, 然後將份A與份B以低剪切混合機混合,〃使氣泡;
至最少。 ㈢A 經成型研磨樣本,其底材爲12·7厘米(W)直徑,研磨 爲0.79厘米(5/16忖)直徑。 (請先聞讀背面之注事項本頁) n J— - IJ . :免例7-11研廢P配方
2.24 « 丁 *、言 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 SR339
APS
VAZO
CERIA K-16
K-SS KBF4
TFS 共計 2.10 1.24 0.05 79.99 0.0 4.66 0.00 0.08 100.00 2.08 1.30 0.05 78.64 6.11 0.00 0.00 0.15 100.00 2.06 1.29 0.05 78.04 6.06 0.00 0.76 0.15 100.00 2.06 1.29 0.05 78.04 6.06 0.00 0.76 0.15 100.00 2.06 1.29 0.05 77.92 3.03 3.03 0.76 0.30 100.00 -61 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 00 9 5 8 5 A7 __B7 五、發明説明(59 ) 表18 :實例7-11之底材配方 原料 實例7 實例8 實例9 實例10 實例11 ADI 50.00 50.00 50.00 81.33 81.2 W-G 0.00 0.00 0.00 6.55 6.54 TFS 0.00 0.00 0.00 0.00 0.16 份B原料 AMI 42.15 42.15 42.15 8.39 8.37 CMSK 4.75 4.75 4.75 0.00 0.00 RIO 1.75 1.75 1.75 0.36 0.36 AER 0.85 0.85 0.85 0.00 0.00 TFS 0.50 0.50 0.50 0.09 0.09 W-G 0.00 0.00 0.00 3.28 3.27 共計 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 黏附力試驗之結果顯示於表19。 (請先閲讀背面之注意事項
本頁) *、訂
表19 :實例7-11之破壞及黏附力試驗結果 試驗 實例7 實例8 實例9 實例10 實例11 破壞 2 3 4 4 3 黏附力 (%柱脱落) 0 6 5 0.7 0 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 成型研磨物件實例1 2-1 4之製備程序 以實例12-14言之,用根據表20配方製造之研磨料漿填 _-62· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 5859〇〇 五 發明說明(6〇 ) 入實例7·11之PTFE模中。將各原料置人塑膠杯中以高剪 切混合機混合’放入眞空烘箱中除去氣泡,然後填入筒中 。然後經由自動混合尖將所得研磨料漿送入模子之孔腔中。 然後用表21之底材配方覆蓋經填充柱孔腔至深度約4 〇 毫米,.其法係經由自動混合尖將配方送入。底材配方係藉 將份A及B之各成分置於塑膠杯中以高剪切混合機混合, 再將樣本置於眞空烘箱中除去氣泡以使氣泡陷入降至最少 而製備。圍住模之壁保持底材所要厚度。硬化週期時,將 鋁蓋板放在底材樹脂之上以確保恆一均勻厚度。用失子將 模夾住關閉,並令其在室溫下硬化丨至2小時,然後置於 烘箱中在165 τ下硬化4小時。自烘箱中取出模,並予以 打開。 成型研磨樣本,其底材爲20.3厘米(8吋)直徑,厚度爲4 亳米及研磨柱爲4.8毫米(3/16吋)直徑,高度爲4〇亳米。 轰20—;實例12 -14研磨柱之配方 請 先 閱 讀 背 Sj 之 注 意 事
I I 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 原料 實例12 實例13 實例14 ΕΡΟ 10.18 10.01 9.81 ΕΤΗ 2.45 2.41 2.36 SR339 2.24 2.21 2.16 APS 1.40 1·38 1.35 VAZO 0.05 0.05 0.05 CERIA 75.92 74.69 73.14 έ • 63- I尺 :張 紙 本 变適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 585900 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(61 ) 原料 實例12 實例13 實例14 K-16 3.30 3.25 3.18 K-SS 3.30 3.25 3.18 KBF4 0.83 0.81 0.80 Graphite 0 1.62 0 Moly 0 0 3.66 TFS 0.33 0.32 0.32 共計 100.00 100.00 100.00 表21 ;實例12-14之底材配方 份A原料 實例11-14 ADI 82.89 W-G 6.68 TFS 0.5 APS 0.16 Ti02 0.67 Moly 0.56 份B原料 AMI 8.55 共計 100.00 (請先閱讀背面之注意事項 --裝-- 本頁) _-、訂
-64- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 585900 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(62 ) 實例12_14之試驗程庠 試驗程序使用Buehler ECOMET 3拋光機,市面上可自 Buehler工業公司購得。實例HU係以普通窗玻璃之噴砂 3吋(7.62厘米)盤在Buehler機器中以8.49psi(58.5 kPa)及 5 00 rpm平台速度處理以產生均勻及平坦表面完工。 將2忖(5.08厘米)CRT玻璃盤(市面上可自飛利浦購得) 置 Buehler 機器上以約 1·23 psi (8.48 kPa)及 500 rpm,用 8 吋(20.32厘米)A10等級玻璃修補盤(市面上可自3M公司蹲 得,商品代號爲3M 268XA Trizact)預粗磨。此產生了均勾 輸入完工Ra約0.07微米。 然後使用預粗磨CRT玻璃盤在Buehler機器上以19.lpsi (131.7 kPa)及500 rpm平台速度測試_樣本。水流固定於 660 cc/分。表面冗工測量係每隔15秒進行一次並重複達45 秒,所用鑽石筆驗平儀,市面上可自perthen公司講得商品 代號 Perthometer 者。 實例12-14之表面完工數據摘列於表22。數據顯示含石 墨及二硫化銅的實例13及實例14分別在15秒内使表面粗 糙度自〜0.070微米降至〜0.009微米,而對照組(不含石黑成 二硫化鉬的實例12)則花了 45秒才達到相同結果。 (請先閱讀背面之注意事項UPr本頁)
-钃=I— II -裝_ _Ί--,訂
-良 -65- 585900 A7 B7 五、發明説明(63 ) 表22 ··實例12-14之表面完工數據(Ra,微米) 拋光時間:秒 實例12 實例13 實例14 0 0.070 0.0700 0.0683 15 0.018 0.0086 0.0093 30 0.012 0.0085 0.0040 45 0.009 0.0085 0.0056 全部專利,專利申請案及刊物之完整揭示内容均如個別 併於此以供參考。熟諳本技藝者將明白在不偏離本發明範 圍及精神下,本發明將有各種修正及變化,且應了解的是 ,本發明不受此處所揭露例證性具體例不當限制。 (請先閱讀背面之注意事本頁)
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -66- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐)

Claims (1)

  1. 585900 第088102428號專矛 !/棄? 修正丨 中文申請專利範圍 六、申請專利範圍 拿 1· 一種研磨物件,包含: 眾多整體成型於底材之研磨複合物,該複合物包含有 機樹脂黏結劑,自驗金屬鹽、驗性金屬鹽及其組合選出 之金屬鹽,及均句分散於該研磨複合物整體中之自單一鑽 石粒子及團塊鑽石研磨粒子選出之研磨粒子,鐵石以01 至50重量份存在該複合物中,其中驗金屬鹽為有水碎 酸神、無水碎酸抑或其組合。 2· —種研磨物件,包含: 包含纖維之底材;及 裝 眾多整體成型於底材之研磨複合物,該研磨複合物包 含有機樹脂黏結劑、氧化鈽粒子及自鹼金屬鹽、鹼性金 屬鹽及其組合所選出之金屬鹽,氧化鈽粒子均勻分散於 訂 該研磨複合物整體中,且以介於丨至95重量份存在該 複合物中,其中鹼金屬鹽為有水矽酸鉀、無水矽酸鉀或 其組合。 m 3· —種研磨玻璃工作件表面之方法,包含下列步驟: 使申請專利範圍第丨項之研磨物件之研磨層與玻璃工 作件之表面接觸; 自玻璃工作件表面除去介於200與400微米之玻璃基 料;及 使用RPP程序提供最終表面粗糙度Ra為1 · i微米或 以下。 4· 一種拋光玻璃工作件表面之方法,包含下列步驟: 使申請專利範團第2項之研磨物件之拋光層與具最初
    X 297公釐) 585900
    A B c D 表面粗糙度Ra約〇.·07微米之玻璃工作件表面接觸;及 使玻璃工作件之最初表面粗糙度Ra降至表面粗糙度 Ra 為 〇_〇〇9 〇 5·根據申請專利範圍第丨項之研磨物件,其中鑽石粒子或 鑽石團塊在複合物中之存在量為約丨至3〇重量份,及 黏結劑之存在量為約7 0至9 9重量份。 6·根據申請專利範圍第2項之研磨物件,其中氧化鈽粒子 之存在量為約10至95重量份,及黏結劑之存在量為約 5至99重量份。 7·根據申請專利範圍第1或2項之研磨物件,其中研磨粒 子係分散於整個整體成型底材及研磨複合物中。 8·根據申請專利範圍第丨項之研磨物件,其中鑽石研磨粒 子之平均粒度介於約〇·〇1與500微米之間。 9·根據申請專利範圍第1項之研磨物件,其中研磨團塊粒 子為包含鑽石粒子之金屬黏結研磨片段。 10.根據申請專利範圍第1項之研磨物件,其中研磨團塊粒 子包含分散於永久黏結劑中之單一鑽石粒子,永久黏結 劑選自玻璃、陶磁、金屬或有機物。 11·根據申請專利範圍第1或2項之研磨物件,其中有機樹 脂黏結劑包含環氧樹脂。 12·根據申凊專利範圍第1或2項之研磨物件,其中底材包 含氨基甲酸S旨樹脂。 13·根據申請專利範圍第i項之研磨物件,其中底材包含纖 維。 -2- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 585900 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 I4·根據申請專利範圚第】^ 、 圍弟1 3員义研磨物件,其中纖維為矽酸 ::維、金屬纖維、破璃纖維、碳纖維、陶磁纖維、高 模量有機纖維或其組合。 15^中凊專利範圍第14項之研磨物件,其中♦酸鹽纖維 包含矽酸鈣。 16.根佳據中請專利_第15項之研磨物件,其中研磨複合物 二:!包含四氟硼酸卸、石墨、二硫化细或其任何組合。 •據申请專利範圍第3,方法,其中鑽石粒子或鑽石困 以約1至30重量份存在該複合物中黏以約7〇 至99重量份存在\ 18. 根據申請專利範圍第4嚷之方法,其中氧化飾粒子以約 1〇至95重量份存在,黏結劑以約5至99重量份存在。 19. 根據申請專利範圍第 菫里6存在 闺吊J貞之万法,其中鑽石研磨粒子之 平均粒子大小介於約0.01至500微米之間。 ^據申請專利範圍第3項之方法,其中研磨團塊粒子為 包含鑽石粒子之金屬鍵結研磨片段。 :據申叫專利範圍第3項之方法,其中研磨圓塊粒子包 ^分散於永久黏結劑之單1石粒子,永久黏結劑自玻 璃、陶磁、金屬或有機物選出。 22. 根據申請專利範圍第3或4項之方法,其中底材包含纖 維,而纖維自碎酸鹽纖維、金属纖維、破璃纖維、碳纖 維、陶磁纖維、高模數有機纖維或其組合選出。 23. 根據申請專利範圍第22項之方法,其十梦酸鹽纖維包 含矽酸鈣。 -3 - 本纸依尺歧家標準(CNS)鐵格(⑽項公⑻ 585900 8 8 8 8 A B c D 、申請專利範圍 24.根據申請專利範圍第3或4項之方法,其中鹼金屬鹽為 有水矽酸鉀、無水矽酸鉀或其組合。 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
TW088102428A 1998-02-19 1999-02-19 Abrasive article and method for grinding glass TW585900B (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US7514998P 1998-02-19 1998-02-19
US9022098P 1998-06-22 1998-06-22
US9985098P 1998-09-11 1998-09-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW585900B true TW585900B (en) 2004-05-01

Family

ID=27372612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW088102428A TW585900B (en) 1998-02-19 1999-02-19 Abrasive article and method for grinding glass

Country Status (10)

Country Link
US (1) US6354929B1 (zh)
EP (1) EP1094918B1 (zh)
JP (1) JP2002503559A (zh)
KR (1) KR100562446B1 (zh)
CN (1) CN1139462C (zh)
AU (1) AU3295699A (zh)
DE (1) DE69925124T2 (zh)
MY (1) MY128106A (zh)
TW (1) TW585900B (zh)
WO (1) WO1999042250A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI381924B (zh) * 2004-09-27 2013-01-11 Gemological Inst America Inc 用於分級一準寶石之切割之方法

Families Citing this family (84)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9868100B2 (en) 1997-04-04 2018-01-16 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US9199357B2 (en) 1997-04-04 2015-12-01 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US9221154B2 (en) 1997-04-04 2015-12-29 Chien-Min Sung Diamond tools and methods for making the same
US9238207B2 (en) 1997-04-04 2016-01-19 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US9463552B2 (en) 1997-04-04 2016-10-11 Chien-Min Sung Superbrasvie tools containing uniformly leveled superabrasive particles and associated methods
US9409280B2 (en) 1997-04-04 2016-08-09 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US6755720B1 (en) * 1999-07-15 2004-06-29 Noritake Co., Limited Vitrified bond tool and method of manufacturing the same
WO2001068322A1 (en) * 2000-03-15 2001-09-20 Rodel Holdings, Inc. Window portion with an adjusted rate of wear
EP1276593B1 (en) 2000-04-28 2005-08-17 3M Innovative Properties Company Abrasive article and methods for grinding glass
ATE302094T1 (de) * 2000-05-09 2005-09-15 3M Innovative Properties Co Poröser schleifgegenstand mit keramischen schleifcomposites, verfahren zur herstellung und verfahren zur verwendung
US6838382B1 (en) * 2000-08-28 2005-01-04 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for forming a planarizing pad having a film and texture elements for planarization of microelectronic substrates
US6736869B1 (en) * 2000-08-28 2004-05-18 Micron Technology, Inc. Method for forming a planarizing pad for planarization of microelectronic substrates
US20030017797A1 (en) * 2001-03-28 2003-01-23 Kendall Philip E. Dual cured abrasive articles
US6755728B2 (en) * 2001-03-29 2004-06-29 Noritake Co., Ltd. Abrasive film in which water-soluble inorganic compound is added to binder
US6530829B1 (en) * 2001-08-30 2003-03-11 Micron Technology, Inc. CMP pad having isolated pockets of continuous porosity and a method for using such pad
US6679758B2 (en) 2002-04-11 2004-01-20 Saint-Gobain Abrasives Technology Company Porous abrasive articles with agglomerated abrasives
US6988937B2 (en) * 2002-04-11 2006-01-24 Saint-Gobain Abrasives Technology Company Method of roll grinding
US7544114B2 (en) * 2002-04-11 2009-06-09 Saint-Gobain Technology Company Abrasive articles with novel structures and methods for grinding
US7090565B2 (en) * 2002-04-11 2006-08-15 Saint-Gobain Abrasives Technology Company Method of centerless grinding
US7070703B2 (en) * 2002-05-23 2006-07-04 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Process for producing glass disk substrates for magnetically recordable data storage disks
US6752690B1 (en) * 2002-06-12 2004-06-22 Clinton O. Fruitman Method of making polishing pad for planarization of semiconductor wafers
US6645265B1 (en) * 2002-07-19 2003-11-11 Saint-Gobain Ceramics And Plastics, Inc. Polishing formulations for SiO2-based substrates
US6951504B2 (en) 2003-03-20 2005-10-04 3M Innovative Properties Company Abrasive article with agglomerates and method of use
US7335239B2 (en) * 2003-11-17 2008-02-26 Advanced Technology Materials, Inc. Chemical mechanical planarization pad
US20050227590A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-13 Chien-Min Sung Fixed abrasive tools and associated methods
US7867302B2 (en) * 2005-02-22 2011-01-11 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Rapid tooling system and methods for manufacturing abrasive articles
US7875091B2 (en) 2005-02-22 2011-01-25 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Rapid tooling system and methods for manufacturing abrasive articles
US20060225225A1 (en) * 2005-03-17 2006-10-12 Brian Bushell Method and apparatus for altering the appearance of fabric
US7179159B2 (en) * 2005-05-02 2007-02-20 Applied Materials, Inc. Materials for chemical mechanical polishing
US9138862B2 (en) 2011-05-23 2015-09-22 Chien-Min Sung CMP pad dresser having leveled tips and associated methods
US9724802B2 (en) 2005-05-16 2017-08-08 Chien-Min Sung CMP pad dressers having leveled tips and associated methods
US8393934B2 (en) * 2006-11-16 2013-03-12 Chien-Min Sung CMP pad dressers with hybridized abrasive surface and related methods
US8678878B2 (en) 2009-09-29 2014-03-25 Chien-Min Sung System for evaluating and/or improving performance of a CMP pad dresser
US8398466B2 (en) * 2006-11-16 2013-03-19 Chien-Min Sung CMP pad conditioners with mosaic abrasive segments and associated methods
US7722691B2 (en) * 2005-09-30 2010-05-25 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive tools having a permeable structure
US7594845B2 (en) * 2005-10-20 2009-09-29 3M Innovative Properties Company Abrasive article and method of modifying the surface of a workpiece
TWI295219B (en) * 2005-11-01 2008-04-01 Nat Applied Res Laboratories The device and method of lapping and polishing with multi composite controlled by magnetic controlled
US20080011407A1 (en) * 2006-07-17 2008-01-17 Reeves Gregory A New glass
EP1961519A1 (de) * 2007-02-22 2008-08-27 sia Abrasives Industries AG Schleifkörper
US8894731B2 (en) * 2007-10-01 2014-11-25 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive processing of hard and /or brittle materials
DE102007051047B4 (de) * 2007-10-16 2023-03-23 Nagel Maschinen- Und Werkzeugfabrik Gmbh Andrückeinrichtung für Finishband sowie Vorrichtung und Verfahren zur Finishbearbeitung von Umfangsflächen an zylindrischen Werkstückabschnitten
TWI388402B (en) * 2007-12-06 2013-03-11 Methods for orienting superabrasive particles on a surface and associated tools
ITMC20070237A1 (it) * 2007-12-12 2009-06-13 Ghines Srl Utensile abrasivo perfezionato.
CN101214637B (zh) * 2008-01-16 2010-09-29 郑州安华磨具有限公司 玻璃磨边轮
WO2010002832A2 (en) * 2008-07-02 2010-01-07 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive slicing tool for electronics industry
WO2010097903A1 (ja) * 2009-02-25 2010-09-02 セイコーインスツル株式会社 ガラス基板の研磨方法、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器並びに電波時計
TWM362051U (en) * 2009-02-26 2009-08-01 Tung An Dev Ltd Structure for cleaning
KR101609128B1 (ko) * 2009-08-13 2016-04-05 삼성전자주식회사 연마 패드 및 이를 갖는 화학 기계적 연마 장치
KR101222764B1 (ko) * 2010-11-04 2013-01-15 조희태 자동차 유리의 흠집제거방법
CN102114615B (zh) * 2010-12-21 2012-08-08 珠海市吉昌稀土有限公司 稀土抛光盘
TWI487019B (en) 2011-05-23 2015-06-01 Cmp pad dresser having leveled tips and associated methods
DE102012004454A1 (de) 2012-03-08 2013-09-12 Artifex Dr. Lohmann Gmbh & Co. Kg Neues Polierwerkzeug für Glaskanten
KR102075072B1 (ko) 2012-04-04 2020-02-10 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 연마 입자, 연마 입자를 제조하는 방법, 및 연마 용품
US20130303062A1 (en) * 2012-05-10 2013-11-14 Design Technologies Llc Floor treatment device and method for manufacturing same
KR102370288B1 (ko) * 2012-07-23 2022-03-04 제이에이치 로드스 컴퍼니, 인크 비평면 유리 연마 패드 및 상기 연마 패드 제작 방법
CN103624695B (zh) * 2013-12-13 2016-01-27 珠海市巨海科技有限公司 陶瓷结合剂超硬磨具及其制造方法
JP6452295B2 (ja) * 2014-03-19 2019-01-16 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 研磨パッド及びガラス基板の研磨方法
CN104139345B (zh) * 2014-07-23 2017-05-10 上虞市自远磨具有限公司 一种带有薄膜基的耐磨磨具及其制造方法
EP3209461A4 (en) * 2014-10-21 2018-08-22 3M Innovative Properties Company Abrasive preforms, method of making an abrasive article, and bonded abrasive article
CN104589172B (zh) * 2014-12-24 2017-06-30 宁波大学 一种硫系玻璃的抛光方法
CN104875127B (zh) * 2015-05-19 2017-08-25 白鸽磨料磨具有限公司 一种添加建筑玻璃废料的白刚玉陶瓷砂轮结合剂
US10688625B2 (en) 2015-12-30 2020-06-23 3M Innovative Properties Company Abrasive article
CN108473822B (zh) 2015-12-30 2021-11-12 3M创新有限公司 双阶段结构粘结粘合剂
WO2017117364A1 (en) 2015-12-30 2017-07-06 3M Innovative Properties Company Abrasive articles and related methods
CN106002656B (zh) * 2016-05-26 2018-03-09 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 一种白玻璃红外截止滤光片切割砂轮的制备方法
US11607776B2 (en) 2016-07-20 2023-03-21 3M Innovative Properties Company Shaped vitrified abrasive agglomerate, abrasive articles, and method of abrading
US10947432B2 (en) 2016-10-25 2021-03-16 3M Innovative Properties Company Magnetizable abrasive particle and method of making the same
CN109863568B (zh) 2016-10-25 2020-05-15 3M创新有限公司 制备可磁化磨料颗粒的方法
WO2018080703A1 (en) 2016-10-25 2018-05-03 3M Innovative Properties Company Magnetizable abrasive particles and abrasive articles including them
US11478899B2 (en) 2016-10-25 2022-10-25 3M Innovative Properties Company Shaped vitrified abrasive agglomerate with shaped abrasive particles, abrasive articles, and related methods
US11253972B2 (en) 2016-10-25 2022-02-22 3M Innovative Properties Company Structured abrasive articles and methods of making the same
WO2018118348A1 (en) 2016-12-23 2018-06-28 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles including aggregates of silicon carbide in a vitrified bond
BR112019013057B1 (pt) 2016-12-23 2023-10-17 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasivos revestidos apresentando uma composição de melhoria de desempenho
CN106695578A (zh) * 2016-12-29 2017-05-24 河南工业大学 一种3d曲面玻璃高效抛光盘及其制备方法
CN106737239A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 河南工业大学 一种无心外圆磨用不锈钢超精密抛光轮及其制备方法
JP2019136815A (ja) * 2018-02-09 2019-08-22 株式会社ディスコ レジンボンド砥石の製造方法
EP3759191B1 (en) 2018-03-01 2022-05-04 3M Innovative Properties Company Shaped siliceous abrasive agglomerate with shaped abrasive particles, abrasive articles, and related methods
US20210024799A1 (en) * 2018-03-21 2021-01-28 3M Innovative Properties Company Structured abrasives containing polishing materials for use in the home
US11865663B2 (en) * 2018-05-10 2024-01-09 George Shuai Optical surface polishing
CN110815037B (zh) * 2018-08-08 2021-07-30 湖北鼎龙控股股份有限公司 抛光垫及其制备方法、应用
CN110421492B (zh) * 2019-06-12 2021-05-18 江苏君睿智能制造有限公司 一种用于冷轧型钢清洗的耐磨擦洗片
WO2022006201A1 (en) * 2020-06-30 2022-01-06 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Grinding ring with improved swarf extraction
JP6890860B1 (ja) * 2020-07-25 2021-06-18 Hi−Line22株式会社 ガラス傷消し方法、傷消し監視装置、および傷消し監視プログラム
CN112059930B (zh) * 2020-09-11 2021-11-26 新乡市荣锋材料科技有限公司 一种用于合金材料加工的磨盘用磨块及其制备方法和磨盘

Family Cites Families (76)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1910444A (en) 1931-02-13 1933-05-23 Carborundum Co Process of making abrasive materials
US3041156A (en) 1959-07-22 1962-06-26 Norton Co Phenolic resin bonded grinding wheels
US3270467A (en) 1963-07-01 1966-09-06 Merit Products Inc Abrasive device
US3947169A (en) 1966-07-29 1976-03-30 Allied Chemical Corporation Apparatus for making rods or tubes having a filter
US3522342A (en) 1967-07-03 1970-07-28 Nypel Inc Apparatus and method for making bristles having a filler
US3667170A (en) 1969-03-11 1972-06-06 Norton Co Finishing article and support member therefor
US3562968A (en) 1969-03-12 1971-02-16 Minnesota Mining & Mfg Surface treating tool
DE2021632A1 (de) 1970-05-02 1971-11-11 Metallgesellschaft Ag Verfahren zum Herstellen von kunststoff- bzw. kautschukgebundenen Schleifkoerpern
DE2813258C2 (de) * 1978-03-28 1985-04-25 Sia Schweizer Schmirgel- & Schleifindustrie Ag, Frauenfeld Schleifkörper
US4311489A (en) 1978-08-04 1982-01-19 Norton Company Coated abrasive having brittle agglomerates of abrasive grain
GB2043501B (en) 1979-02-28 1982-11-24 Interface Developments Ltd Abrading member
US4314827A (en) 1979-06-29 1982-02-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Non-fused aluminum oxide-based abrasive mineral
US4328322A (en) 1979-12-03 1982-05-04 Polaroid Corporation Synthetic polymers by polyisocyanate polyaddition process
DE3330512A1 (de) 1983-05-20 1984-11-22 Diethelm Dipl.-Chem. Dr.rer.nat. 7450 Hechingen Bitzer Schleifkornagglomerate, deren herstellung und deren verwendung
US4623364A (en) 1984-03-23 1986-11-18 Norton Company Abrasive material and method for preparing the same
US4576612A (en) 1984-06-01 1986-03-18 Ferro Corporation Fixed ophthalmic lens polishing pad
US4668736A (en) 1984-07-18 1987-05-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fast curing epoxy resin compositions
DE3440244A1 (de) 1984-11-03 1986-05-07 Wabco Westinghouse Fahrzeugbremsen GmbH, 3000 Hannover Antiblockiersystem
US4609581A (en) 1985-04-15 1986-09-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive sheet material with loop attachment means
CA1254238A (en) 1985-04-30 1989-05-16 Alvin P. Gerk Process for durable sol-gel produced alumina-based ceramics, abrasive grain and abrasive products
US4652275A (en) 1985-08-07 1987-03-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Erodable agglomerates and abrasive products containing the same
US4652274A (en) 1985-08-07 1987-03-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive product having radiation curable binder
US4770671A (en) 1985-12-30 1988-09-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive grits formed of ceramic containing oxides of aluminum and yttrium, method of making and using the same and products made therewith
US4644703A (en) 1986-03-13 1987-02-24 Norton Company Plural layered coated abrasive
US4751138A (en) 1986-08-11 1988-06-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive having radiation curable binder
US4733502A (en) 1986-09-04 1988-03-29 Ferro Corporation Method for grinding and polishing lenses on same machine
US4875259A (en) 1986-09-08 1989-10-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Intermeshable article
US4799939A (en) 1987-02-26 1989-01-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Erodable agglomerates and abrasive products containing the same
US4735632A (en) 1987-04-02 1988-04-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive binder containing ternary photoinitiator system
AU604899B2 (en) 1987-05-27 1991-01-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith
US4881951A (en) 1987-05-27 1989-11-21 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Abrasive grits formed of ceramic containing oxides of aluminum and rare earth metal, method of making and products made therewith
US5045091A (en) 1987-06-26 1991-09-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making rotary brush with removable brush elements
US5233719A (en) 1988-04-27 1993-08-10 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Apparatus and brush segment arrangement for finishing wheel brushes
US5254194A (en) 1988-05-13 1993-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive sheet material with loop material for attachment incorporated therein
CH675250A5 (zh) 1988-06-17 1990-09-14 Lonza Ag
US4918874A (en) 1988-08-05 1990-04-24 The Dow Chemical Company Method of preparing abrasive articles
US5011508A (en) 1988-10-14 1991-04-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Shelling-resistant abrasive grain, a method of making the same, and abrasive products
US4903440A (en) 1988-11-23 1990-02-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive product having binder comprising an aminoplast resin
JPH07102504B2 (ja) 1989-03-01 1995-11-08 新日本製鐵株式会社 無機繊維強化樹脂よりなる回転工具
YU32490A (en) 1989-03-13 1991-10-31 Lonza Ag Hydrophobic layered grinding particles
US5014468A (en) 1989-05-05 1991-05-14 Norton Company Patterned coated abrasive for fine surface finishing
US4997461A (en) 1989-09-11 1991-03-05 Norton Company Nitrified bonded sol gel sintered aluminous abrasive bodies
US5039311A (en) 1990-03-02 1991-08-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive granules
US5232470A (en) 1990-05-21 1993-08-03 Wiand Ronald C Flexible one-piece diamond sheet material with spaced apart abrasive portions
US5174795A (en) 1990-05-21 1992-12-29 Wiand Ronald C Flexible abrasive pad with ramp edge surface
US5607488A (en) 1990-05-21 1997-03-04 Wiand; Ronald C. Molded abrasive article and process
US5077870A (en) 1990-09-21 1992-01-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Mushroom-type hook strip for a mechanical fastener
US5152917B1 (en) 1991-02-06 1998-01-13 Minnesota Mining & Mfg Structured abrasive article
US5236472A (en) 1991-02-22 1993-08-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive product having a binder comprising an aminoplast binder
US5273558A (en) 1991-08-30 1993-12-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive composition and articles incorporating same
US5316812A (en) 1991-12-20 1994-05-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive backing
US5256170A (en) 1992-01-22 1993-10-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive article and method of making same
TW222668B (zh) 1992-03-19 1994-04-21 Minnesota Mining & Mfg
TW307801B (zh) 1992-03-19 1997-06-11 Minnesota Mining & Mfg
US5213591A (en) 1992-07-28 1993-05-25 Ahmet Celikkaya Abrasive grain, method of making same and abrasive products
CA2151932A1 (en) 1992-12-17 1994-06-23 Scott R. Culler Reduced viscosity slurries, abrasive articles made therefrom, and methods of making said articles
US5435816A (en) * 1993-01-14 1995-07-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making an abrasive article
US5400458A (en) 1993-03-31 1995-03-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Brush segment for industrial brushes
DE69406446T2 (de) 1993-06-17 1998-05-28 Minnesota Mining & Mfg Gemusterte schleifartikel und verfahren zum herstellen derselben
CA2133259A1 (en) 1993-10-29 1995-04-30 Gene O. Lindholm Method for the polishing and finishing of optical lenses
US5580647A (en) 1993-12-20 1996-12-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive articles incorporating addition polymerizable resins and reactive diluents
CA2181044C (en) 1994-01-13 2005-03-29 John L. Barry Abrasive article, method of making same, and abrading apparatus
US5505747A (en) 1994-01-13 1996-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making an abrasive article
CA2182580A1 (en) 1994-02-22 1995-08-24 Timothy L. Hoopman Abrasive article, a method of making same, and a method of using same for finishing
DE69530780T2 (de) * 1994-09-30 2004-03-18 Minnesota Mining And Mfg. Co., St. Paul Beschichteter schleifgegenstand und verfahren zu seiner herstellung
USD381139S (en) 1995-04-28 1997-07-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Molded abrasive brush
CA2217983A1 (en) 1995-04-28 1996-10-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article having a bond system comprising a polysiloxane
ES2275612T3 (es) 1995-04-28 2007-06-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cepillo y filamentos abrasivos.
US5679067A (en) 1995-04-28 1997-10-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Molded abrasive brush
KR0158750B1 (ko) 1995-06-09 1999-01-15 김수광 연마용 시트
US5578096A (en) 1995-08-10 1996-11-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for making a spliceless coated abrasive belt and the product thereof
US5958794A (en) 1995-09-22 1999-09-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of modifying an exposed surface of a semiconductor wafer
EP0855948B1 (en) 1995-10-20 2002-07-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article containing an inorganic metal orthophosphate
US5903951A (en) 1995-11-16 1999-05-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Molded brush segment
US5766277A (en) 1996-09-20 1998-06-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive article and method of making same
US5876268A (en) * 1997-01-03 1999-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method and article for the production of optical quality surfaces on glass

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI381924B (zh) * 2004-09-27 2013-01-11 Gemological Inst America Inc 用於分級一準寶石之切割之方法

Also Published As

Publication number Publication date
MY128106A (en) 2007-01-31
CN1139462C (zh) 2004-02-25
WO1999042250A1 (en) 1999-08-26
DE69925124D1 (de) 2005-06-09
EP1094918B1 (en) 2005-05-04
EP1094918A1 (en) 2001-05-02
AU3295699A (en) 1999-09-06
DE69925124T2 (de) 2006-01-19
US6354929B1 (en) 2002-03-12
JP2002503559A (ja) 2002-02-05
CN1291126A (zh) 2001-04-11
KR100562446B1 (ko) 2006-03-20
KR20010041083A (ko) 2001-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW585900B (en) Abrasive article and method for grinding glass
CN109890564B (zh) 具有成形磨粒的成形玻璃化磨料团聚物、磨料制品和相关方法
US20190240808A1 (en) Conglomerate abrasive particles, abrasive articles including the same, and methods of making the same
TW411303B (en) Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
TW411306B (en) Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US5910471A (en) Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US5888119A (en) Method for providing a clear surface finish on glass
EP1276593B1 (en) Abrasive article and methods for grinding glass
JP2011224773A (ja) ガラス研削方法
US11607776B2 (en) Shaped vitrified abrasive agglomerate, abrasive articles, and method of abrading

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent