TW544521B - Semiconductor integrated circuit, test method for the same, and recording device and communication equipment having the same - Google Patents

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TW544521B TW090110726A TW90110726A TW544521B TW 544521 B TW544521 B TW 544521B TW 090110726 A TW090110726 A TW 090110726A TW 90110726 A TW90110726 A TW 90110726A TW 544521 B TW544521 B TW 544521B
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Kiyoto Ohta
Tomonori Fujimoto
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544521 A7 B7 年月 修正補充 五、發明說明( 【技術領域】 本發明係有關半導體積體電路,更詳言之,其係有關 內藏於半導體積體電路之電源電壓產生電路、半導體積體 電路之檢查方法、以及具有半導體積體電路之光及/或磁氣 記錄裝置及通訊機器。 【習知技術】 此處’以動態記憶元件作爲機能電路(使用內藏於半 導體積體電路之電源電壓產生電路)加以說明。 在動態記憶元件,係作爲對配置成矩陣狀之記憶元件 進行資料存取方法,對字元線給予電位,並藉由在位元線 與記憶元件之間進行資料之收發而實現資料讀取、寫入動 作。 圖11係表示一般的動態隨機存取記憶體(DRAM)之 記憶元件部之電路構成圖。在此,WL1〜WL3係字元線, AVL1~/WL3係將字元線WL1〜WL3的信號反轉後之信號傳 送之反轉字元線。又,VCP係單元板極(cell plate)電位。 DRAM之記憶動作,係將圖11所示之位元線BL所傳 送之邏輯「H」之電位或邏輯「L」之電位,透過存取電晶 體TMEM,並藉由在記憶元件電容器C◦儲存電荷,而對 記憶元件電容器C〇進行邏輯「H」或邏輯「L」之資料寫 入,並進行資料之記憶。 近年來,隨著DRAM之高積體化、極大容量化,而使 電路全體更加微細化,並且由於記憶元件電容器c〇的面 積亦有微細化之趨勢,因此容量亦有縮小之趨勢。此處’ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------I--I------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·. f·· 544521 A7 B7 年月 Ή-, 卜>,Λ · .·: 、2二-j 補凡丨 五、發明說明(> ) 即使針對記憶元件電容器C0的容量縮小,爲確保記憶動 作,而必須充分確保記憶元件電容器C0的電荷儲存時間 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 〇 因此,透過存取電晶體TMEM來進行電荷傳送之洩漏 電流所造成之記憶元件電容器C〇的電荷減少,必須加以 防止。 此處,在DRAM,一般爲防止電荷減少之對策,係藉 由對存取電晶體TMEM之基板施加負電壓,來增大存取電 晶體TMEM之臨界値電壓VT,抑制透過存取電晶體 TMEM之洩漏電流來進行。 圖12係表示存取電晶體TMEM之截面構造。 在圖12,作爲記憶元件電容器C(連接於存取電晶體 TMEM之源極S)的電荷之洩漏成分,可分爲自TMEM之源 極朝汲極(D)的方向之洩漏電流成分I(off),及自源極之η 型雜質擴散領域朝ρ型基板(p-Sub.)之洩漏電流成分I(leak) 此處,在圖12,將自p型領域朝η型領域之電流方向 定義爲正方向。 圖13Α之曲線係表示I(off)之基板電壓VBB依賴性, 圖13B之曲線係表示I(leak)之基板電壓VBB依賴性。 當對字元線WL不施加電位且係非活性狀態時,在圖 13A’在⑴所示之領域之汲極-源極間電流Ids係呈i(off)之 狀態。此處,藉由施加基板電壓VBB,而從存取電晶體 TMEM之臨界値電壓VT變大,曲線的斜率變緩和,來觀 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 Β7 I 補无__ 五、發明說明(> ) 測隨著施加基板電壓VBB而變化之I(〇ff)的現象。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 另一方面,如圖13B所示,自ρ-η接合之電流Ip-n觀 之,隨著施加負的基板電壓VBB,則Ip-n係在如圖13B的 曲線之第3現象而增加。此係隨著使VBB增大,而增加自 源極之η型雜質擴散領域朝P型基板之電流,亦即,表示 自ΤΜΕΜ之源極領域朝ρ型基板之洩漏電流Ip-n=I(leak)增 力口之情況。 其次,圖14係表示習知用來產生施加於ρ型基板的負 電壓VBB之負電壓產生電路之一般構成。 在圖14,負電壓產生電路係由:基板電壓產生部(充 電泵部)15-A、及電壓感測部15-B所構成。基板電壓產生 部15-A係由:自激發振盪電路15-A1、時序產生邏輯電路 15-A2、及充電泵電路15-A3所構成,自激發振盪電路15-A1係在由電壓感測部15-B所產生之控制信號BBGOE爲邏 輯1」期間動作。 藉由時序產生邏輯電路15-A2所產生之時序信號來驅 重力充電泵電路15-A3,而產生負電壓VBB。 此負電壓產生電路,係透過電壓感測部15-B來控制基 板電壓產生部15-A,並具有將施加於基板之負電壓VBB保 持在既定値之功能。 圖15係表示電壓感測部15-B之一構成例。
在圖15,電壓感測部15-B,係以P通道電晶體TP151 、N通道電晶體TN152、及電阻R153所構成之分壓電路來 產生分壓爲電源電壓VDD與基板電壓VBB之電位DETIN 6 本紙張尺度適用中國國家標麥(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 修Ί A7 年月日^ . 補无 B7 544521 五、發明說明(斗) -------------裝--------訂· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,並藉由P通道電晶體TP154、155、及N通道電晶體156 所構成之反相器來判定與設定電壓之大小關係,透過反相 器1157、1158、及1159來進行放大後,將大小關係作爲邏 輯信號BBGOE而輸出。 圖16A丨系表示相對於在圖14之負電壓產生電路的電 源電壓VDD之負電壓VBB特性,圖16Β係表示記憶體之 資料保持時間的暫停時間(pause time)特性。 如圖16A所示,在電壓感測部15-B,當電源電壓VDD 變大,則施加於基板之負電壓’VBB會變大,而當VDD變 小時,VBB亦變小,又,如圖16B所示,當暫停時間爲最 長之電源電壓VDD存在,在電源電壓VDD比VDP更大及 更小之情況,則資料保持時間變短。此係由於當將負電壓 VBB施加於記憶元件電晶體的基板之後,如圖13A所示, 記憶元件電晶體的臨界値電壓變大(VT1 —VT2—VT3), 而由源極朝向汲極之電流成分I (off)會減少,另一方面 ,透過隨著VDD之增加之VBB的電位變化,使朝向p型 基板之電流成分I (leak)增加。這些係由於在圖16B所示 之暫停時間特性,係使用DRAM記憶元件的特性,作爲所 減少的電流成分I (off)所導致之妨礙(disturb)暫停(P1 )與所增加之電流成分I (leak)所導致之穩定(static)暫 停(P2)。 因此,當設定施加於基板的負電壓VBB時,考慮到前 述2種類的電荷之洩漏路徑,較佳係分別設定形成最小的 電壓條件且不依賴電源電壓之電路,藉由應用此種負電壓 7 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 544521 補元 —^ ^ 五、發明說明(Γ) 產生電路,由於其可減低洩漏電流及設定較長的記憶體資 料保持時間,因此,可降低記憶體的消耗電力,特別是在 期望在攜帶用通訊機器等低消耗電力電路之情況非常有用 〇 又,若降低電路之消耗電力,則可抑制發熱等,並且 對其他的電子電路亦可達成安定之動作。 然而,在前述習知電壓感測部15-B之構成,由於其係 使用將電源電壓VDD與基板電壓VBB加以分壓之電位 DETIN與設定電壓兩者之大小關係的判定,因此具有透過 電源電壓VDD之變動來使感測電壓變化之特性。 連接於記憶元件電容器C〇之存取電晶體TMEM,由 於當電源電壓VDD爲低或高之場合,其特性相異,因此, 具有無法藉由電源電壓VDD之條件來充分發揮記憶體特性 之問題。 又,在電壓感測部15-B內之N通道電晶體152,具有 藉由基板電壓VBB之値來對該源極施加負電壓之可能性’ 而考慮到電流會由P型基板流經源極的n型雜質擴散領域 的可能性。 因此,爲了使由P通道電晶體TP151、N通道電晶體 TN152、及電阻R153所構成之分壓電路正常地動作’必須 對N通道電晶體TN152之p型基板施加VBB ’因此’必須 在N通道電晶體TN152之基板設置由周圍之基板分離之領 域。 因此,除了製作電路時之製程變爲複雑,並且產生在 8 -------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) · 衣紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x 297公釐) 544521 A7 B7 9?. 年月 充 五、發明說明(心 佈局構成上之電壓感測部的配置變爲困難之問題。 【發明槪要】 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明有鑑於上述問題點,其目的係提供:不會因電 源電壓或環境條件的變動、製程條件等影響,而容易實現 可對記憶元件電晶體基板供給安定的負電壓之負電壓產生 電路,維持使記憶元件電晶體之洩漏電流變爲最小的條件 ,充分確保記憶體之資料保持時間及低消耗電力之半導體 積體電路及其檢查方法、以及具有半導體積體電路之記錄 裝置及通訊機器。 爲達成前述目的,本發明之第1半導體積體電路,具 有:功能區塊;及負電壓產生電路,用以產生對前述功能 區塊供給之既定負電壓,其特徵係:前述負電壓產生電路 具有:充電泵部,將電源電壓轉換爲前述既定負電壓而輸 出;及電壓感測部,將前述充電泵部之輸出電壓與參考電 壓作比較,並將該比較結果輸出至前述充電泵部,而進行 對前述充電泵部之輸出電壓控制;並且,使用接地電壓作 爲前述參考電壓。 爲達成前述目的,本發明之第2半導體積體電路,具 有:記憶體區塊;及負電壓產生電路,用以產生既定負電 壓以供給至前述記憶體區塊,其特徵係:前述負電壓產生 電路具有:充電泵部,用以將電源電壓轉換爲前述既定負 電壓而輸出;及電壓感測部,將前述充電泵部之輸出電壓 與參考電壓作比較,將該比較結果輸出至前述充電泵部來 進行對前述充電泵部之輸出電壓控制;並且,使用接地電 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 • ί ^ —人· 一 五、發明說明(7 ) 壓作爲前述參考電壓。 依前述第1及第2半導體積體電路,可藉由將充電泵 部之輸出電壓作爲不受電源電壓及環境條件的變動、處理 條件等所造成之電晶體特性的影響之參考電位,再與接地 電:壓作比較來進行對充電泵部之輸出電壓控制,而可將安 定的負電壓供給至機能區塊或記憶體區塊。 在前述第1及第2半導體積體電路,較佳係前述充電 粟部具有··自激發振盪器,其係僅在來自前述電壓感測部 之輸出信號爲活性化狀態期間,產生既定之脈衝信號;及 時序信號產生電路,將來自前述自激發振盪器之輸出信號 車專換爲時序信號; 前述電壓感測部,具有:定電壓產生電路;測定電壓 產生電路,接收來自前述定電壓產生電路之輸出電壓及來 自前述充電泵部之輸出電壓,並產生藉由阻抗機構所分壓 之測定電壓;第1比較器,將來自前述測定電壓產生電路 之輸出電壓與接地電壓作比較後,輸出該比較結果;及輸 出緩衝電路,將來自前述第1比較器之比較輸出予以放大 後,將其輸出至前述充電泵部。 依此構成,藉由定電壓產生電路來構成用以進行負電 壓產生電路的輸出電壓控制之電壓感測部,可使相對於電 源電壓的變動而輸出之負電壓固定。 又,前述第1及第2半導體積體電路,較佳係在構成 前述電壓感測部之電晶體中,將施加於Ν通道電晶體的基 板之電壓全部作爲接地電壓。 10 ---------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂- 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 A7 B7 年月:Ί補无丨 五、發明說明(2 ) 依此構成,在電壓感測部,於接受來自充電泵部之負 電壓的電路可不必使用電晶體,而以電阻器置換,並可實 現將N通道電晶體之基板電位作爲接地電位之電路構成’ 又,由於可以不必設置獨立之基板領域,而可實現使用與 通常的邏輯電路相同之P型基板的電路構成,因此,可提 高電路配置之自由度,並可縮小佈局面積。 又,在前述第1及第2半導體積體電路,較佳係前述 電壓感測部,在前述定電壓產生電路與前述測定電壓產生 電路之間,具備由第2比較器與P通道電晶體所構成之電 壓供給電路; 前述電壓供給電路,係將來自前述測定電壓產生電路 之輸出供給至前述第2比較器之反轉輸入端子,並將前述 第2比較器之輸出供給至前述P通道電晶體之閘極端子, 前述P通道電晶體之源極端子係與前述第2比較器之正轉 輸入端子結合,前述P通道電晶體之源極端子之輸出與前 述測定電壓產生電路結合而構成,並根據前述測定電壓產 生電路之輸出電壓而將其輸出。 依此構成,可以不直接使用定電壓產生電路所輸出之 電壓,而使用由構成第2比較器之差動放大器所複製之電 壓,因此對定電壓產生電路,可降低負電壓產生電路自體 之變動影響。 又,在前述第1及第2半導體積體電路,較佳係前述 第1比較器具有第1〜3差動放大器;對前述第1差動放大 器之一方的輸入端子供給前述測定電壓,而對另一方之輸 11 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 544521 92. A7 年肩K Λ 五、發明說明(f ) ----------I---· I 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 入^而子供給接地電壓,g Bl[述第2差動放大器之一^方的輸 入端子供給接地電壓,而對另一方之輸入端子供給前述測 定電壓;對前述第3差動放大器之一方的輸入端子供給前 述第1差動放大器之輸出電壓,而對另一方之輸入端子供 給前述第2差動放大器之輸出電壓,並使前述第1差動放 大器之輸出電壓與前述第2差動放大器之輸出電壓彼此逆 相。 依此構成,由於前述第1比較並非由單體,而是由3 個差動放大器所組合而成,因此,相對於負電壓產電路之 電壓變動,可以高速的輸出傳送至充電泵部。具體言之, 在記憶體容量變大之場合,負電壓的變動雖變小,但是, 若僅在記憶體容量小之外並未具備其他條件之場合,電壓 變動會變大,而要求更迅速之應答。藉由上述電路構成, 由於相對於記憶體容量之變化,及相對於電壓感測部係微 /h的電壓變化,可實現高速的應答,因此可降低對記憶體 容量之負電壓變動的依賴性。 又,在前述第1及第2半導體積體電路,較佳係前述 定電壓產生電路具有第1電壓調整機構,藉由變化構成電 流反射鏡(current mirror)電路之電晶體的大小、及輸出電流 値,而進行輸出電壓之調整;前述測定電壓產生電路具有 第2電壓調整機構,藉由變化前述電阻機構之電阻値而變 化測定電壓。 依此構成,可將定電壓產生電路與電阻器分別獨立, 並藉由設置電壓調整機構,可相對於處理條件之變化而確 12 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521
五、發明說明(p ) 保固定的負電壓輸出,並使電路檢查及調整變爲容易。 ----------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又,前述電阻機構,較佳係係包含分別串聯之第1至 第η電阻器;前述第2電壓調整機構係具有分別與前述第 1至第η電阻器並聯之第1至第η保險絲;當將與前述第1 保險絲並聯之第1電阻器之電阻値設爲R之場合,則將與 第η保險絲並聯之第η電阻器之電阻値設定爲R的2(ϊΜ)倍 ;前述第2電壓調整機構,係透過切斷前述第1至第η保 險絲之至少一個,使電阻値之增加份由R至R的2(η〜倍爲 止產生變化,以使前述測定電壓變化。 依此構成,可將透過並聯於各電阻器之保險絲而調整 之電阻値設定爲最小步驟之2的乘冪,當保險絲之數量爲 η個時,可將電壓之變化範圍從最小步驟之0倍至2 (rM)倍 而加以調整。 又,在前述第1及第2半導體積體電路,前述電壓感 測部之前述第1比較器,較佳係由具有在比前述電壓感測 音ί3之前述第1比較器更前段的電路所使用之電晶體更厚的 聞極氧化膜之電晶體所構成。 依此構成,即使在輸入至第1比較器之電壓係劇烈地 變動之場合,仍可防止電晶體元件之絕緣破壞。 又,在前述第1及第2半導體積體電路,較佳係前述 電壓感測部之前述輸出緩衝電路具有複數段的反相器,該 複數段的反相器係由電晶體(具有初段的反相器比他段的 反相器更厚的閘極氧化膜)所構成。 依此構成,在電壓爲緩和變化之初段的反相器係使用 13 木紙張尺度適用中國國家標準·(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 -――—〜〜:·*—:=- ,=· tv' ί 年月£丨1 了1 _ 五、發明說明(") 具有較厚的氧化膜之電晶體,而可降低閘極的容量負荷, 另一方面,在電壓爲非常快速變化之第2段以後之反相器 係使用比初段更薄的閘極氧化膜,而可提高電路全體之應 答速度。 又,在前述第1半導體積體電路,較佳係前述機能區 塊係由具有各種相異機能之複數個機能區塊所構成,前述 負電壓產生電路係由複數個負電壓產生電路(用以產生相 異之既定負電壓以供給至前述各複數個機能區塊)所構成 ,前述各複數個負電壓產生電路分別具有共通之定電壓產 生電路。 又,前述機能區塊較佳係由具有各種相異機能之複數 個機能區塊所構成,前述負電壓產生電路係由至少一個負 電壓產生電路(用以產生既定負電壓以供給至前述各複數 機能區塊)所構成,前述半導體積體電路進一步具有: 至少一個正電壓產生電路,用以產生既定正電壓以供給至 前述各複數個機能區塊;及共通之定電壓產生電路,分別 設於前述至少一個負電壓產生電路及前述至少一個正電壓 產生電路。 依此構成,作爲系統LSI之積體電路規模會變大,即 使在機能區塊的種類較多種之場合,亦可提高電路配置之 自由度,並可減低佈局面積。 爲達成前述目的,本發明之半導體積體電路之第1檢 查方法,係前述第1或第2半導體積體電路之檢查方法, 其特徵係:由外部施加既定電壓於前述機能區塊並進行檢 __ 14 私紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ---I------------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、^ % 544521 A7 B7 修正補充 五、發明說明(/>) 查;依前述檢查結果,進行前述機能區塊之良否判定;及 僅對判定爲良品之機能區塊供給來自前述負電壓產生電路 之既定負電壓。 爲達成前述目的,本發明之半導體積體電路之第2檢 查方法,係前述第1或第2半導體積體電路之檢查方法, 其特徵係:由外部施加可藉由前述既定負電壓而輸出之既 定電壓於前述機能區塊並進行檢查;依前述檢查結果,進 行前述機能區塊之良否判定、及記錄作爲機能區塊之動作 條件之最佳電壓條件;及僅對判定爲良品之機能區塊連接 前述負電壓產生電路(已完成針對前述電壓條件之輸出電 壓調整),藉由對其供給負電壓來進行前述機能區塊之檢 查項目。 依上述之第1及第2檢查方法,特別是在記憶體之檢 查,藉由預先進行暫停時間等之記憶體元件的特性檢查, 旅且僅將該檢查結果係在規格內之電路作爲檢查對象,相 較於將所有的電路檢查之檢查手法,其可減少檢查對象之 電路個數’並可縮短檢查時間。 爲達成即述目的,本發明之記錄裝置,係具有前述第 1或第2半導體積體電路,其特徵係:具有使用光及磁氣 至少其中之〜之記錄機構。 爲達成前述目的,本發明之通訊機器,其特徵係:具 有前述第1或第2半導體積體電路。 依上述構成,由於可藉由應用負電壓產生電路來延長 DRAM之資料保持時間,即暫停時間,因此,可延長更新 15 木紙張尺度適財關家標規格⑽,7公楚 ----------------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂: ^_ 544521 A7 千G> B7 fifjJL· 五、發明說明(Θ) 動作週期、減低DRAM之消耗電力、及實現安定之電路動 作。 【圖式之簡單說明】 圖1係表示包含於本發明之第1實施形態之半導體積 體電路之負電壓產生電路之構成例之方塊圖。 圖2係表示電壓感測部1-B之槪略構成例之電路圖。 圖3係表示定電壓產生電路1-B1與電壓供給電路1-B2之構成之電路圖。 圖4係表示定電壓產生電路1-B1之詳細構成之電路圖 〇 圖5係表示測定電壓產生電路1-B3之詳細構成之電路 圊。 圖6係表示相當於差動放大器AMP12之構成之電路圖 〇 圖7係表示差動放大器AMP12之詳細構成之電路圖。 圖8係表示輸出緩衝電路1-B4’之詳細構成之電路圖。 圖9係表示包含於本發明之第2實施形態之半導體積 體電路之負電壓產生電路之構成例之方塊圖。 圖10係表示包含於本發明之第3實施形態之半導體積 體電路之負電壓產生電路之構成例之方塊圖。 圖11係DRAM記憶元件部之電路構成圖。 圖12係表示記憶元件電晶體的構造之截面圖。 圖13A係表示記憶元件電晶體的洩漏電流I ( off)之 基板電壓VBB依賴性之曲線圖。 16 ----------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) . 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) 544521 A7 B7 修正 年月3 4 補. 五、發明說明(A) 圖13B係表示記憶元件電晶體的洩漏電流1 (leak)之 基板電壓VBB依賴性之曲線圖。 圖14係表示習知之負電壓產生電路之構成之方塊圖。 圖15係表示習知之電壓感測部之詳細電路圖。 圖16A係表示在習知之負電壓產生電路之負電壓VBB 之電源電壓VDD依賴性之曲線圖。 圖16B係表示在習知之記憶體之暫停時間之電源電壓 VDD依賴性之曲線圖。 圖17係表示應用本發明之記錄裝置系統之一例之槪略 方塊圖。 圖18係表示應用本發明之通訊機器系統之一例之槪略 方塊圖。 【較佳實施形態】 以下,參考圖面以說明本發明之較佳實施形態。 (第1實施形態) 圖1係表示包含於本發明之第1實施形態之半導體積 體電路之負電壓產生電路之構成例之方塊圖。 在圖1,負電壓產生電路係由:負電壓產生部1-A (充 電泵部)、及電壓感測部1-B所構成,負電壓產生部1-A ,係由電壓感測部1_B所供給之控制信號BBGOE進行動作 控制,並將構成機能區塊之電晶體的基板電壓VBB保持在 既定之負電壓。此處,負電壓產生部1-A,係由自激發振 盪電路1-A1 (當由電壓感測部i-B所供給之控制信號 BBGOE爲邏輯「H」之期間動作)、時序產電路1-A2、及 17 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公t ) ----------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂: 線· 544521
五、發明說明(π) 用以產生負電壓之充電泵電路1-Α3所構成。 圖2係表示電壓感測部1-Β之槪略構成例之電路圖。 ----------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在圖2,電壓供給電路1-Β2係由:差動放大器AMP 11 (第2比較器)、及P通道電晶體TP11所構成,其係在接 受來自定電壓產生電路1-B1之定電壓後,將該電壓予以複 製。 測定電壓產生電路1-B3係由:可變電阻器R1’及R2’ 所構成,其係將由電壓供給電路1-B2所輸出之既定的定電 壓與來自負電壓產生部1-A之基板電壓VBB予以分壓後, 作爲電壓REFVO而輸出。 輸出部1-B4係由:差動放大器AMP12 (第1比較器 ),將由測定電壓產生電路1-B3所輸出之電壓REFVO與 作爲參考電壓之接地電壓VSS作比較後,判定其大小關係 ;及輸出緩衝電路1-B4’所構成。輸出緩衝電路1-B4’係由 :反相器列INV11、1NV12、INV13、及緩衝器BUF14,用 以將緩和變化之差動放大器AMP12之輸出信號M22加以 放大’並產生控制信號BBGOE ;及施密特觸發(Schmidt trigger)電路,藉由將INV13之輸出施加於閘極,來對由 邏輯「H」變化爲邏輯「L」、及由邏輯「L」變化爲邏輯 「H」之變化的應答而產生差,並藉由p通道電晶體組 TP12來產生滞後(hysteresis)特性所構成。 圖3係表示圖1所示之定電壓產生電路丨—別與電壓供 給電路1-B2之構成之電路圖。又,在圖3,關於連接於構 成定電壓產生電路1-B1之N通道電晶體T4及T5,並且透 18 本紙張尺度適用中國國家;(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐)~ 544521 A7 B7 年月e二、、I _補允1 /// 11ψ 五、發明說明(μ ) 過變更電晶體大小之電流調整來進行輸出電壓調整的部分 ,爲說明的方便而省略,然而於圖4有記載,之後再予說 明。 在圖3,定電壓產生電路1-B1之P通道電晶體T1及 T2、N通道電晶體T4及T5,係分別以相同之閘極寬度及 鬧極長度來構成電流反射鏡電路。此處,若將P通道電晶 體T1及T2之閘極寬度設爲WP1、閘極長度設爲LP1,將 N通道電晶體T4及T5之閘極寬度設爲WN1、閘極長度設 爲LN1,將通過包含P通道電晶體T1及N通道電晶體T4 之路徑的電流設爲II,將通過包含P通道電晶體T2及N 通道電晶體T5之路徑的電流設爲12,則關於P通道黧晶 體T1與N通道電晶體T5,係分別成爲以下之關係式: 11 = — (/3/2) · (WP1/LP1) · (V1-VTP)2 12= ( β /2) · (WN1/LN1) · (V3 — VTN)2 但,在上述之數學式,Ρ通道電晶體之臨界値電虜設 爲VT之場合,則定義VTP=VT+ VDD。 又,關於電阻R0係形成RO· I2=VDD-V4之關係’ 因此隨著電源電壓VDD的上升,則電流12亦上升。若考 慮到通過N通道電晶體T5之電流的關係,則顯示丁5之汲 極及閘極電壓V3變爲上升,通過電晶體T6、T7、T8的路 徑之電流14變爲減少。若14減少,則關於T12之電流關 係,係變成電壓V5減少,結果,使電流II減少。電流Π 白勺減少,係由通過T1之電流的關係導致電壓VI上升,並 使12電流減少之作用。 19 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ;裝 544521 A7 B7 五、發明說明(/7) -------------1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將以上加以總結,由於藉由控制電流反射鏡電路與電 壓之電晶體Til、T12的作用,而具有對電源電壓VDD的 增加及減少之系統全體的電流及電壓的變化予以打消之作 用,而使電壓V7安定,因此,使通過T9及T10的電流變 爲固定,並使定電壓產生電路1-B1之輸出電壓V9藉由P 通道電晶體T10的大小來決定而變爲固定之値。 以定電壓產生電路1-B1所產生之固定的電壓V9,係 施加於電壓供給電路1-B2之差動放大器AMP11之反轉輸 入端子,差動放大器AMP11的輸出係連接於P通道電晶體 TP11的閘極端子,汲極係連接於電源電壓VDD,源極係連 接於輸出STDVOUT及差動放大器AMP11之正轉輸入端子 ,藉由施以反饋來複製與輸入電壓V9相等之輸出 STDVOUT。 其次,以圖4來說明在定電壓產生電路1-B1之第1電 壓調整機構。 圖4係定電壓產生電路1-B1之詳細電路圖。 定電壓產生電路1-B1,係如圖4所示,在電流反射鏡 電路的左右,分別設置3個保險絲FUSE4TA、FUSE4丁B、 FUSE4TC、及保險絲 FUSE5TA、FUSE5TB、FUSE5TC,在 未切斷狀態,具有作爲電晶體T4 + T4A+T4B+T4C及電晶 體T5+T5A+T5B+T5C而作用之電晶體係透過保險絲的切 斷來改變大小,因而改變左右的電流,並具有透過變化在 安定點的電壓V5及V7來進行電壓調整之機能。 由於藉由切斷分別設於電流反射鏡電路右側之電晶體 20 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 544521 A7 B7 敗 3, 1 μ… 補无丨 五、發明說明(ί〇 ---------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Τ5Α、Τ5Β、T5C 的 3 個保險絲 FUSE5TA、FUSE5TB、 FUSE5TC,而具有增加相對於電流12之電流13的比例之作 用,因此,透過增加電流13來使電壓V7下降,並且由於 通過電晶體T9及Τ10的電流增加,而使輸出電壓V9上升 另一方面,在藉由切斷分別設於電流反射鏡電路左側 之電晶體Τ4Α、Τ4Β、T4C的3個保險絲FUSE4TA、 FUSE4TB、FUSE4TC,而減少相對於電流12之電流13的比 例,因此,相較於未切斷狀態,電壓VI變爲具有較高電 位且更安定,並由於電流12亦減少,因此在安定狀態下電 壓V7係上升,而輸出電壓V9係下降。 其次,以圖5來說明在測定電壓產生電路1-Β3之第2 電壓調整機構。 圖5係表示構成測定電壓產生電路1-Β3之可變電阻器 R1’與R2’之構成之電路圖。 在圖5,分別並聯於保險絲FUSE1、FUSE2、FUSE3之 電阻器RTRIM1、RTRIM2、RTRIM3,其中設定電阻器 RTRIM2的電阻値係電阻器RTRIM1的電阻値(Ri)的2倍 ,電阻器RTRIM3的電阻値係電阻器RTRIM1的電阻値( R!)的4倍。 同樣地,分別並聯於保險絲FUSE4、FUSE5、FUSE6 之電阻器RTRIM4、RTRIM5、RTRIM6,其中設定電阻器 RTRIM5的電阻値係電阻器RTRIM4的電阻値(R4)的2倍 ,電阻器RTRIM6的電阻値係電阻器RTRIM1的電阻値( 21 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 544521 Α7 年月s二, B7 ! 補无 麵 (__ ...........____ * ~"ΜΜ· -11 —j 五、發明說明(β) R4 )的4倍。 藉此,僅以最小爲R!、R4、最大爲7XR!、7xR4之電阻 値的設定,因此,電壓設定可在各保險絲有8種,合計爲 16種來進行。 透過電阻器之電壓設定,由於受到溫度及處理條件等 之特性變化的影響較小,因此,可預先使由與目標設定電 壓之差來切斷保險絲加以特定,並可縮短設定所需之時間 〇 其次,以圖6來槪略說明相當於差動放大器AMP12 ( 第1比較器)的動作。 圖6係相當於差動放大器AMP12之電路圖。如圖6所 示,差動放大器AMP12係由:AMP12A、AMP12B、 AMP12C等3個差動放大器所構成。 將由定電壓STDVOUT與負電壓VBB所分壓之電壓 REFVO施力口於AMP12A之反轉輸入端子,而將接地電壓 VSS施加於其正轉輸入端子。又,施加測定電壓REFVO於 ΑΜΡ12Β之正轉輸入端子,而將接地電壓VSS施加於其反 聿專輸入端子。當將ΑΜΡ12Α之輸出施加於AMP12C之正轉 輸入端子,而將ΑΜΡ12Β之輸出施加於AMP12C之反轉輸 入端子時,於REFVO>VSS之情況,則AMP12C之輸出Μ22 的電位會下降,而於REFVO<VSS之情況,則AMP12C之輸 出M22的電位會上升。因此,作爲差動放大器AMP12全 體,係相當於將REFVO施加於反轉輸入端子,而將VSS施 加]於正轉輸入端子之構成。 22 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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A7 g 年 1 C
_B7_I 補充I 五、發明說明(>| ) 其次,以圖7來詳細說明差動放大器AMP12之動作。 圖7係差動放大器AMP12之詳細電路圖。 在圖7,爲使AMP12A、AMP12B各具有相同能力及特 性,而將所對應之電晶體以同樣大小來構成。在構成 AMP12A、AMP12B、AMP12C之各電流源之電晶體TP12A1 、TP12B1、TP12C1的閘極,輸入由圖3所示之定電壓產生 電路1_B1之電流反射鏡電路所產生之電壓VI。 在AMP12A,當測定電壓REFVO的電位係上升之情況 ,則會使通過TP12A3的電流減少,僅以該減少之份量來 使通過TP12A2的電流增加。此處,TN12A4、TN12A5係構 成電流反射鏡電路,在使通過TN12A4的電流,即通過 TN12A2的電流增加,僅以該增加之份量通過TN12A5之電 流係減少之情況,則形成輸出M14的電位係往下降之方向 變化之狀態。另一方面,當測定電壓REFVO的電位係下降 之情況,反之,則形成輸出M14的電位係往上升之方向變 <·匕之狀態。 又,在AMP12B,由於測定電壓REFVO係輸入於 TP12B2之閘極,因此,隨著測定電壓REFVO的電位上升 ,輸出M17的電位亦上升,反之,隨著測定電壓REFVO的 電位下降,輸出M17的電位亦下降。 因此,在AMP12C,藉由AMP12A與AMP12B之輸出 結果,隨著測定電壓REFVO的上升,輸出M22的電位亦上 升,而隨著測定電壓REFVO的下降,輸出M22的電位亦下 降。 23 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------« I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 11· 544521 A7 B7 92 年 $ i§ji]補充丨 五、發明說明(>/) ----------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此處,依本實施形態,由於電晶體TP12A2、TP12B3 的閘極係分別連接於接地電壓VSS,因此係與定電壓源所 產生的電壓相異,不會受到處理條件的影響,並且在差動 放大器AMP12經常可進行安定之電壓比較。 又,在負電壓VBB的變化激烈之情況,爲防止電晶體 元件的絕緣破壞,構成AMP12之電路,係由具有比其他電 路更厚的閘極氧化膜之電晶體所構成。 圖8係表示在圖1所示之輸出部1-B4中接收差動放大 器AMP12之輸出M22,用以產生控制信號BBGOE之輸出 糸爰衝器段的構成之詳細電路圖。 在圖8,爲使差動放大器AMP12之輸出M22較緩和變 化,而藉由在接收M22之初段的反相器INV11,使用具有 t匕構成他段的反相器INV12、INV13、及緩衝器BUF14等 之電晶體、及P通道電晶體組TP12更厚的閘極氧化膜的電 晶體,來降低閘極的容量負荷,並且減輕應答速度遲緩的 影響。 初段的反相器INV11,係由8個N通道電晶體 TN111〜TN118、及8個P通道電晶體TP111〜TP118所構成 ,使TN111及TN112作爲N通道側而作用,而使 Tpm〜tpii5作爲p通道側而作用,其餘之電晶體係藉由 變更最上層之配線蔭罩而可調整INV11的切換位準,因此 ί乍爲預備之用。 由於Ρ通道電晶體組ΤΡ12,係用於使INV12之切換位 準具有滯後(hysteresis)特性,因此,在欲使Μ25的電位下 24 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 Α7 I年月曰π 一 ____Β7__ X,_ % 一、*丨一嫌ΜΤ·,丨.··>«><—· W*e«—»«»—*»» .一 五、發明說明(>>) 降之情況,係藉由使通過TP12內之TP121的電流增加,來 阻止欲使決定M24的電位之INV12的切換位準上升、M25 的J電位下降後接近「L」電位之電壓變化的作用。此處,僅 使TP121作用,而其他4個電晶體TP122〜125由於係藉由 變化最上層蔭罩所使用之電晶體個數來變化滯後的幅度, 因此作爲預備之用。 在緩衝器BUF12,爲確保對供給控制信號BBGOE之 負電壓產生部1-A之電晶體充份的輸出電流,因此使用比 電晶體TP141及TN141具有更大閘極寬度之電晶體TP142 及 TN142。 如上所述,依本實施形態,由於使用對將定電壓產生 電路1-B1之輸出電壓施加於基板之負電壓VBB作爲參考 電壓,因此,可消除對基板電壓之電源電壓依賴性,並且 ,藉由將感測基板電壓感測用之差動放大器的基準電壓設 定爲接地電壓VSS,可針對電源電壓、環境溫度的變動、 處理條件等,皆可對記憶元件電晶體基板供給安定的負電 壓 VBB。 又,藉由將2個電壓調整機構獨立設置於定電壓產生 電路1-B1及測定電壓產生電路1_B3兩處,在進行使測定 電壓產生電路1-B3輸出適當値之調整後,藉由測定電壓產 生電路1-B3來變化由該適當之定電壓與負電壓VBB所分 壓之電壓,而可最適當地設定控制信號BBGOE。 (第2實施形態) 圖9係表示包含於本發明之第2實施形態之半導體積 25 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) 一 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
544521 A7 B7 年 靡 補 五、發明說明( >多) 體電路之負電壓產生電路的部分構成例之方塊圖。 如圖9所示,在本實施形態,藉由在第1電壓供給電 路1-B2 (由差動放大器AMP11及P通道電晶體TP11所構 成)及第2電壓供給電路1-B2’(由差動放大器AMP11B及 P通道電晶體TP11B所構成)使用共通之定電壓產生電路 1 -B1,來構成可輸出第1控制信號BBG0E1與第2控制信 號BBG0E2之複數個電壓感測部。 首先,將以第1電壓感測部之第1控制信號BBG0E1 戶斤控制之第1負電壓設爲VBB1,而在第1電壓感測部所使 用之定電壓輸出設爲STDV0UT1之情況,當施加於AMP12 之反轉輸入端子之電壓REFVO係與施加於正轉輸入端子之 接地電壓VSS相等時,即在REFVO=OV時由於控制系統變 爲安定,因此,第1負電壓VBB1則以下式來表示。 VBB1 = - (R27R1’) · STDV0UT1 其次,以第2電壓感測部之第2控制信號BBG0E2所 控制之第2負電壓設爲VBB2,而在第2電壓感測部所使用 之定電壓輸出設爲STDV0UT2之情況,當施加於AMP212 之反轉輸入端子之電壓REFV1係與施加於正轉輸入端子之 接地電壓VSS相等時,即在REFV1=0V時由於控制系統變 爲安定,因此,第2負電壓VBB2則以下式來表示。 VBB2=- (R47R35) · STDV0UT2 如此,第1負電壓VBB1與第2負電壓VBB2係分別 由R1’與R2’之電阻比、及R3’與R4’之電阻比來決定。 依本實施形態,當除了 DRAM之記憶元件以外需要負 26 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x 297公釐) 544521
五、發明說明( >令) 電壓之電路係包含於積體電路中時藉由在複數個電壓感測 剖S共用定電壓產生電路,而可減少佈局面積。 (第3實施形態) 圖10係表示包含於本發明之第3實施形態之半導體積 體電路之負電壓產生電路的部分構成例之方塊圖。 如圖10所示,在本實施形態,其構成係由:第1電壓 感測部,藉由第1電壓供給電路1-B2 (由差動放大器 AMP11及P通道電晶體TP11所構成)所複製之固定的電 壓STDVOUT1與負電壓VBB來產生控制信號BBGOE ;及 第3電壓感測部,藉由第3電壓供給電路1-B2”(由差動放 大:器AMP11C及P通道電晶體TP11C所構成)所複製之固 定的電壓STDVOUT3與供給至差動放大器AMP312的正轉 輸T入端子之電壓VMEASURE,來產生控制信號CTRLOUT 所構成。 此處,在施加電壓 VMEASURE: (R6/ (R5+R6) ) · STDV0UT3之情況,則可進行透過控制信號CTRLOUT之 控制。試舉一例,第3電壓感測部,係可作爲藉由控制信 号虎CTRLOUT來感測升壓電源電壓VPP之電路而作用。 如此,不必直接使用訂電壓產生電路,藉由利用複製 電:壓,而可使複數個電壓感測部獨立作用。 作爲藉由本發明之實施形態之負電壓產生電路之檢查 項目,由於藉由元件製作處理之條件等來控制定電壓產生 電路之輸出變動,因而必須藉由保險絲之輸出電壓之調整 ,作爲在同一晶圓上所製作之半導體積體電路之檢查,相 27 本紙張尺复適¥中國國家標準(CNS)A4規格(no X 297公i—) --------------裝--- Γ请先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 544521 ___B7 補先丨_ 五、發明說明(>Π 較於進行全數檢查,在預先進行良否判定後,再進行負電 壓產生電路之檢查,更能縮短檢查時間。 在DRAM,此負電壓產生電路之適用電路方塊爲記憶 元件,其特性之良否係根據記憶元件之暫停時間測定來進 行。 因此,作爲考慮以上情況之檢查程式之算法之一例, 係如以下之流程。 ⑴由獨立於負電壓產生電路之輸入端子,對記憶元件 之基板領域輸入負電壓,分別對在晶圓上的半導體積體電 路所具備之DRAM進行暫停時間測定。又,同時分別對各 電路預先記錄暫停時間爲最大時之基板電壓値。 ⑵對暫停時間測定結果滿足規格之電路進行良品選別 ,僅對判定爲良品之電路進行負電壓產生電路之檢查。 ⑶負電壓產生電路之輸出電壓,當其與預先藉由外部 輸入電壓所進行之暫停時間檢查所得之基板電壓値相異之 1青況,使用設於電路內之保險絲來進行輸出電壓之調整, 以輸出與前述基板電壓相等之値。 ⑷其後,DRAM之功能測試,係在滿足暫停時間規格 之電路,僅對進行前述負電壓產生電路之電壓調整後之電 g 各來實施。 如此,藉由僅對判定爲良品之電路進行負電壓產生電 路之檢查,由於可縮短檢查時間,並且,對各電路可進行 使暫停時間爲最大之負電壓輸出之調整,因此,可提供使 言己憶體之性能以最大極限而活用之設定檢查方法。 28 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) ---I I I I--I I I I · I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂. 544521 A7 B7 92. 3. 年月 i修止丨
无I 五、發明說明(% 如以上說明,依本發明,不會因電源電壓或環境條件 的變動、製程條件等影響,而容易實現可對記憶元件電晶 體基板供給安定的負電壓之負電壓產生電路,維持記憶元 件電晶體之洩漏電流爲最小之條件,可充分確保記憶體之 資料保持時間及低消耗電力’當應用於攜帶用之記錄裝置 或通訊機器等之際特別地可發揮效果。 圖17及圖18係分別應用本發明後之記錄裝置系統及 通訊機器系統之一例之槪略方塊圖。 在圖17,記錄裝置系統,係用以進行光或磁氣,或是 其組合來進行讀取或寫入動作。參閱圖17,其係說明有關 §買取動作’ giB錄裝置系統係由:記錄媒體17-A、信號處理 咅17-B、藉由本發明之動態隨機存取記憶體π-e、及資料 輸出入部17-D所構成。 此處,信號處理部17-B,係取得來自記錄媒體17-A 之資訊作爲信號,並藉由進行設於內部之類比數位信號處 理來讀取資訊。所讀取之信號,會因溫度條件等之變化而 有信號強度不足之情況,藉由錯誤訂正符號來進行與期待 値之比較,而將正確之資料由資料輸出入部17-D輸出。 因此,在記錄裝置,實際上加上由記錄媒體17-A所 讀取之資料,必須有作爲錯誤訂正所需之資訊,爲將作爲 §了正之資料暫時記憶,而需有動態隨機存取記憶體17-C。 又,爲提高讀取動作之存取速度,而將實施讀取資料 及錯誤訂正處理後之資料暫時記憶,此亦必須使用動態隨 機存取記憶體17_C。 29 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
544521 A7 B7 92。3· 年月 七 ν ·,'補充 五、發明說明(>7) 在圖18,通訊機器系統係由:通訊媒體18-Α、調變 角军調電路18-Β、信號處理電路18_c、藉由本發明之動態隨 機存取記憶體18-D、及輸出入電路18-E所構成之電路要 件等所構成。作爲通訊媒體18-A,係透過有線或無線而連 接於遠地之通訊機器,由於信號強度的衰減,造成在調變 解調電路18-B會發生資訊掉落之情況。信號處理電路18_ C,具有將調變解調電路18-B的輸出信號之類比信號轉換 爲數位信號之功能,而由輸出入電路18-E所獲得之輸出資 料爲數位資料。 有關此通訊機器系統,同樣地爲補正所掉落之資訊或 提高資訊速度,因而使用動態隨機存取記憶體18-D。 依本發明’由於提高動態隨機存取記憶體17-C或18_ D之資料保持特性,因此,可提高記錄裝置或通訊機器之 資料處理能力。並且,爲對應當該動態隨機存取記憶體之 重新週期變長,藉由本發明來改善動態隨機存取記憶體之 資料保持特性,亦具有削減系統消耗電力之效果。 【符號說明】 1-A 負電壓產生部(充電泵部) 1-B 電壓感測部 1-A1 自激發振盪電路 1-A2 時序產生電路 1-1-A3 充電泵電路 1-B1 定電壓產生電路 1-B2 電壓複製電路(第1電壓複製電路) 30 瑪用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐 “氏張 (請先閱讀背面之注咅心事項再填寫本頁) 裝 544521 Α7 Β7 祖3 年月 補充i 五、發明說明(%
1-B2’ 1-B2” 1-B3 1-B4 1-1-B4’ AMP11 AMP12 INV11 Rl,、R25 17-A
17-B 17-C 17- D 18- A 18-B 18-C 18-E
18-D 第2電壓複製電路 第3電壓複製電路 測定電壓產生電路 輸出部 輸出緩衝電路 差動放大器(第2比較器) 差動放大器(第2比較器) 初段反相器& 電阻器 記錄媒體 信號處理部 動態隨機存取記憶體 資料輸出入部 通訊媒體 調變解調電路 信號處理電路 輸出入電路 31 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

Claims (1)

  1. 544521 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1. 一種半導體積體電路,具有:功能區塊;及負電壓 生電路,用以產生對則述功能區塊供給之既定負電壓’ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其特徵係: 前述負電壓產生電路,具有:充電泵部,將電源電壓 車專換爲前述既定負電壓而輸出;及電壓感測部,將前述充 電泵部之輸出電壓與參考電壓作比較,並將該比較結果輸 出至前述充電泵部,而進行對前述充電泵部之輸出電壓控 制; 並且,使用接地電壓作爲前述參考電壓。 2. 如申請專利範圍第1項之半導體積體電路,其中, 前述充電泵部,具有: 自激發振盪器,其係僅在來自前述電壓感測部之輸出 信號爲活性化狀態期間,產生既定之脈衝信號;及 時序信號產生電路,將來自前述自激發振盪器之輸出 信號轉換爲時序信號; 前述電壓感測部,具有: 定電壓產生電路; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 測定電壓產生電路,接收來自前述定電壓產生電路之 輸出電壓及來自前述充電泵部之輸出電壓,並產生藉由阻 抗機構所分壓之測定電壓; 第1比較器,將來自前述測定電壓產生電路之輸出電 壓與接地電壓作比較後,輸出該比較結果;及 輸出緩衝電路,將來自前述第1比較器之比較輸出予 以放大後,將其輸出至前述充電泵部。 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x 297公釐) 544521 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3·如申請專利範圍第1項之半導體積體電路,其中, 在構成前述電壓感測部之電晶體中,將施加於N通道電晶 體的基板之電壓全部作爲接地電壓。 4. 如申請專利範圍第2項之半導體積體電路,其中, 前述電壓感測部,係在前述定電壓產生電路與前述測定電 壓產生電路之間,具備由第2比較器與P通道電晶體所構 成之電壓供給電路; 前述電壓供給電路,係將來自前述測定電壓產生電路 之輸出供給至前述第2比較器之反轉輸入端子,並將前述 第2比較器之輸出供給至前述p通道電晶體之閘極端子, 前述P通道電晶體之源極端子係與前述第2比較器之正轉 輸T入端子結合,前述P通道電晶體之源極端子之輸出與前 述測定電壓產生電路結合而構成,並根據前述測定電壓產 生電路之輸出電壓而將其輸出。 5. 如申請專利範圍第4項之半導體積體電路,其中, 前述機能區塊係由記憶體區塊所構成。 6. 如申請專利範圍第2項之半導體積體電路,其中, 前述第1比較器具有第1〜3差動放大器; 對前述第1差動放大器之一方的輸入端子供給前述測 定電壓,而對另一方之輸入端子供給接地竃壓; 對前述第2差動放大器之一方的輸入端子供給接地電 歷,而對另一方之輸入端子供給前述測定電壓; 對前述第3差動放大器之一方的輸入端子供給前述第 1差動放大器之輸出電壓,而對另一方之輸入端子供給前 2 紙張尺中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱1 . I I ---I I I — I ^ « I I I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) #· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α8 Β8 C8 D8 544521 /、中請專利範圍 述第2差動放大器之輸出電壓,並使前述第1差動放大器 ;^輸出電壓與前述第2差動放大器之輸出電壓彼此逆相。 7. 如申請專利範圍第2項之半導體積體電路,其中, 前述定電壓產生電路具有第1電壓調整機構,藉由變化構 $電流反射鏡電路之電晶體的大小、及輸出電流値,而進 行輸出電壓之調整;前述測定電壓產生電路具有第2電壓 目闺整機構,藉由變化前述電阻機構之電阻値而變化測定電 虜。 8. 如申請專利範圍第7項之半導體積體電路,其中, 前述電阻機構係包含分別串聯之第1至第η電阻器;前述 g 2電壓調整機構係具有分別與前述第1至第η電阻器並 酸^之第1至弟η保險絲’ 當將與前述第1保險絲並聯之第1電阻器之電阻値設 胃R之場合,則將與第η保險絲並聯之第η電阻器之電阻 f直設定爲R的2(ΙΜ)倍;前述第2電壓調整機構’係透過切 陳f前述第1至第η保險絲之至少一個,使電阻値之增加份 由R至R的2(rM)倍爲止產生變化,以使前述測定電壓變化 〇 9. 如申請專利範圍第2項之半導體積體電路,其中, 前述電壓感測部之前述第1比較器,係由具有在比前述電 壓感測部之前述第1比較器更前段的電路所使用之電晶體 更厚的閘極氧化膜之電晶體所構成。 10. 如申請專利範圍第2項之半導體積體電路,其中, 言ϋ述電壓感測部之前述輸出緩衝電路具有複數段的反相器 3 ^--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填窵本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 力、肀請專利範圍 ’該複數段的反相器係由電晶體(具有初段的反相器比他 段的反相器更厚的閘極氧化膜)所構成。 η如申請專利範圍第1項之半導體積體電路,其中, 訪述機能區塊係由具有各種相異機能之複數個機能區塊所 丰冓成,前述負電壓產生電路係由複數個負電壓產生電路( 用以產生相異之既定負電壓以供給至前述各複數個機能區 所構成,前述各複數個負電壓產生電路分別具有共通 之定電壓產生電路。 12. 如申請專利範圍第1項之半導體積體電路,其中, 前述機能區塊係由具有各種相異機能之複數個機能區塊所 f冓成,前述負電壓產生電路係由至少一個負電壓產生電路 (用以產生既定負電壓以供給至前述各複數個機能區塊) 戶斤構成,前述半導體積體電路進一步具有:至少一個正電 壓產生電路,用以產生既定正電壓以供給至前述各複數個 機能區塊;及共通之定電壓產生電路,分別設於前述至少 一個負電壓產生電路及前述至少一個正電壓產生電路。 13. —種半導體積體電路之檢查方法,係具有:機能區 塊;及負電壓產生電路,用以產生既定負電壓以供給至前 述機能區塊;前述負電壓產生電路係具有:充電泵部,用 以將電源電壓轉換爲前述既定負電壓而輸出;及電壓感測 音13,將前述充電泵部之輸出電壓與參考電壓作比較,將該 t:匕較結果輸出至前述充電泵部;使用接地電壓作爲前述參 考電壓者,其特徵係: 由外部施加既定電壓於前述機能區塊並進行檢查; 4 -----------裝·-------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 A8 B8 C8 D8 t、申請專利範圍 依前述檢查結果,進行前述機能區塊之良否判定;及 僅對判定爲良品之機能區塊供給來自前述負電壓產生 電路之既定負電壓。 14. 一種半導體積體電路之檢查方法,1係具有:機能區 塊;及負電壓產生電路,用以產生既定負電壓以供給至前 述機能區塊;前述負電壓產生電路係具有:充電泵部,用 以將電源電壓轉換爲前述既定負電壓而輸出;及電壓感測 音β,將前述充電泵部之輸出電壓與參考電壓作比較,將該 t匕較結果輸出至前述充電泵部來進行對前述充電泵部之輸 出電壓控制;使用接地電壓作爲前述參考電壓者,其特徵 係: 由外部施加可藉由前述既定負電壓而輸出之既定電壓 於前述機能區塊並進行檢查; 依前述檢查結果,進行前述機能區塊之良否判定、及 言己錄作爲機能區塊之動作條件之最佳電壓條件;及 僅對判定爲良品之機能區塊連接前述負電壓產生電路 (已完成針對前述電壓條件之輸出電壓調整),藉由對其 供給負電壓來進行前述機能區塊之檢查項目。 15. —種記錄裝置,係具有半導體積體電路,該半導體 積體電路具有:機能區塊;及負電壓產生電路,用以產生 既定負電壓以供給至前述機能區塊;前述負電壓產生電路 具有:充電泵部,用以將電源電壓轉換爲前述既定負電壓 而輸出;及電壓感測部,將前述充電泵部之輸出電壓與參 考電壓作比較,將該比較結果輸出至前述充電泵部來進行 5 -------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 對前述充電泵部之輸出電壓控制;使用接地電壓作爲前述 參考電壓者,其特徵係: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 具有使用光及磁氣至少其中之一之記錄機構。 16. —種通訊機器,係具有半導體積體電路,該半導體 積體電路具有:機能區塊;及負電壓產生電路,用以產生 既定負電壓以供給至前述機能區塊;前述負電壓產生電路 具有:充電泵部,用以將電源電壓轉換爲前述既定負電壓 而輸出;及電壓感測部,將前述充電泵部之輸出電壓與參 考電壓作比較,將該比較結果輸出至前述充電泵部來進行 對前述充電泵部之輸出電壓控制;使用接地電壓作爲前述 參考電壓者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 17. —種半導體積體電路之檢查方法,係具有:記憶體 區塊;及負電壓產生電路,用以產生既定負電壓以供給至 前述記憶體區塊;前述負電壓產生電路具有:充電泵部, 用以將電源電壓轉換爲前述既定負電壓而輸出;及電壓感 湏[J部,將前述充電泵部之輸出電壓與參考電壓作比較,將 該比較結果輸出至前述充電泵部來進行對前述充電泵部之 輸出電壓控制;使用接地電壓作爲前述參考電壓者,其特 徵係: 由外部施加既定電壓於前述記憶體區塊並進行檢查; 依前述檢查結果,進行前述記憶體區塊之良否判定; 及 僅對判定爲良品之記憶體區塊供給來自前述負電壓產 生電路之既定負電壓。 6 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 A8 B8 C8 D8 t、申請專利範圍 18. —種半導體積體電路之檢查方法,係具有:記憶體 區塊;及負電壓產生電路,用以產生既定負電壓以供給至 肓tr述記憶體區塊;前述負電壓產生電路具有:充電泵部, 用以將電源電壓轉換爲前述既定負電壓而輸出;及電壓感 湏[J部,將前述充電泵部之輸出電壓與參考電壓作比較,將 該比較結果輸出至前述充電泵部來進行對前述充電泵部之 輸r出電壓控制;使用接地電壓作爲前述參考電壓者,其特 徵係: 由外部施加可藉由前述既定負電壓而輸出之既定電壓 於前述記憶體區塊並進行檢查; 依前述檢查結果,進行前述記憶體區塊之良否判定、 及:記錄作爲記憶體區塊之動作條件之最佳電壓條件; 僅對判定爲良品之記憶體區塊連接前述負電壓產生電 路(已完成針對前述電壓條件之輸出電壓調整),藉由對 其供給負電壓來進行前述記億體區塊之檢查項目。 19. 一種記錄裝置,係具有半導體積體電路,該半導體 積體電路具有:記億體區塊;及負電壓產生電路,用以產 生既定負電壓以供給至前述記憶體區塊;前述負電壓產生 電路具有:充電泵部,用以將電源電壓轉換爲前述既定負 電:壓而輸出;及電壓感測部,將前述充電泵部之輸出電壓 與參考電壓作比較,將該比較結果輸出至前述充電泵部來 進行對前述充電泵部之輸出電壓控制;使用接地電壓作爲 前述參考電壓者,其特徵係: 具有使用光及磁氣至少其中之一之記錄機構。 7 -------------------訂·-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 544521 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 20.—種通訊機器,係具有半導體積體電路,該半導體 積體電路具有:記憶體區塊;及負電壓產生電路,用以產 生既定負電壓以供給至前述記憶體區塊;前述負電壓產生 電路具有:充電泵部,用以將電源電壓轉換爲前述既定負 電:壓而輸出;及電壓感測部,將前述充電泵部之輸出電壓 與參考電壓作比較,將該比較結果輸出至前述充電泵部來 進行對前述充電泵部之輸出電壓控制;使用接地電壓作爲 前述參考電壓者。 . --------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 8 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x 297公釐)
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