TW543063B - Electromagnetic wave shielding member and display using the same - Google Patents

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543063 Α7 Β7 五、發明説明（1) 【發明之領域】 本發明係關於使用金屬薄膜網狀物之電磁波遮蔽用構 件及使用該電磁波遮蔽用構件的顯示器。更詳言之，即^街 於能切割或吸收顯示器內部發生之近紅外線（光），又吸 收可見光及/或近紅外線（光）之特定波長，而提升對比 度’且視覺性良好之電磁波遮蔽用構件及使用此的顯示器」 0 【技術背景】 向來，發生電磁波之電子裝置、例如電漿顯示器等之 顯示器用電子管，由於考慮電磁波對於人體之弊害乃被要 求將電磁波放出強度抑制於規範內。 電漿顯示面板（以下，適稱爲P D P )之發光係利用 電漿放電。因此，被要求頻寬3 0MHz〜1 3 0MHz 之無用電磁波不得洩漏出外部，避免危害周邊機器（例如 資訊處理裝置），而極力抑制該種電磁波。 針對此等要求，通常爲除去或衰減可發生電磁波之電 子裝置向裝置外部放出之電磁波，則採用以適當之導電性 構件被覆於發生電磁波之電子裝置等外周部之電磁波護罩 〇 在P D Ρ等顯示用面板，一般則將具良好透視性電磁 波遮蔽板設置於顯示器前面。 電磁波遮蔽板之基本構造本身較爲簡單，被知曉有； 例如將銥-錫氧化物膜（I Τ 0膜）等透明導電性膜以蒸 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X29*7公釐） ----------裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 - 4 - 543063 A7 B7 五、發明説明（3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 鍍或噴鍍法等予以薄膜形成於透明玻璃窗或塑膠基板面者 ，例如將金屬絲網等適當之金屬篩網粘著於透明玻璃窗或 塑膠基板面者，以化學鍍或蒸鍍等在透明玻璃或塑膠基板 面全面形成金屬薄膜且藉光蝕法等加工該金屬薄膜予以設 置由細微金屬薄膜所成網狀物者等。 將I T 0膜形成於透明基板上之電磁波遮蔽板係優於 透明性，其光之透射係數一般爲9 0 %左右，且能在基板 全面均句形成薄膜。其結果’使用於顯不器時，不必擔心 會產生起因於電磁波遮蔽板之波紋等。 在透明基板上形成有I T ◦膜之電磁波遮蔽板，爲形 成I T ◦膜雖使用蒸鍍或噴鍍裝置，惟該裝置相當高價， 且一般生產性較低，有時電磁波遮蔽板本身之價格反而高 昂。 在透明基板上形成I T 0膜之電磁波遮蔽板，由於比 起形成有金屬薄膜所成網狀物之電磁波遮蔽板其導電性較 劣一個位數以上，致電磁波放出之遮蔽功能不足夠，會放 出洩漏電磁波，而有時無法滿足所要求之規格値。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在透明基板上形成I T 0膜之電磁波遮蔽板，爲導電 性之提升雖可考慮將I T ◦膜之厚度形成爲較厚，但此時 ，卻有透明性顯著下降且製品價格亦更爲高昂之情形。 使用將金屬篩網粘著於透明玻璃或塑膠基板面之電磁 波遮蔽板時，或將金屬絲網等適當之金屬篩網直接粘著於 顯示面時，製造工程均較爲簡單，且成本亦低。然而，金 屬篩網之有效篩眼（1 〇 〇 - 2 0 0網目）之透射係數爲 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210'X297公釐） -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（$ 5 0 %以下，致有時成爲極爲黑暗顯示器。 將金屬薄膜所成網狀物形成於透明玻璃或塑膠基板面 之電磁波遮蔽板，卻由於藉利用光蝕法之鈾刻加工予以外 形加工，故能製成可進行細微加工及高孔徑效率（高透射 係數）之網目，且在金屬薄膜形成網狀物，而具有導電性 比上述I T ◦膜非常地高，可遮蔽強力電磁波放出之優點 。惟，形成有由金屬薄膜所成網狀物之電磁波遮蔽用板， 因無法吸收對於顯示用面板之外光之反射，有時會降低視 覺性。又，其製造工程煩雜且複雜，以致生產性低，生產 成本局昂。 如是，各電磁波遮蔽用板各有得失，依據用途被加以 選擇使用。 其中，尤其將金屬薄膜所成網狀物形成於透明玻璃或 塑膠基板面之電磁波遮蔽用板，在電磁波防護性、透光性 之面頗爲良好，近年，成爲被配置於P D P等之顯示用面 板前面，以電磁波護罩用加以使用。 惟，在習知電磁波遮蔽用板或顯示器，以防止其他機 器之錯誤動作爲目的之切割或吸收顯示器內部發生之近紅 外線（光），或促使提升對比度而吸收顯示器內部發光及 外光所致可見光之特定波成之功能，由於藉各別之工程予 以層疊，致有工程煩雜生產性不佳，且層疊膜變厚之情形 〇 於是，將在透明玻璃或塑膠基板面形成有由金屬薄膜 所成網狀物之電磁波遮蔽用構件顯示於圖4，加以簡單說 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I I訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -6 - 543063 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（ 4 1 I 明 〇 1 1 I 圖 4 ( a ) 爲 電 磁 波 遮 蔽 用 構 件 之 平 面 圖 ， 圖 4 ( b 1 1 I ) 爲 圖 4 ( a ) 之 A 1 A 2 剖 面 圖 圖 4 ( C ) 爲 網 孔 1 I 請 1 I 部 之 部 分 擴 大 圖 〇 又 圖 4 ( a ) 及 圖 4 ( C ) 爲 明 確 位 先 閲 1 I 讀 1 I 置 關 係 網 狀 物 形狀 則 顯 示 有 X 方 向 Λ Υ 方 向 〇 圖 4 所 示 背 1 | 電 磁 波 遮 蔽 用 構 件 則 爲 配 置 於 P D P 等 顯 示 器 刖 面 之 電 磁 * 1 I 波 基 材 事 1 遮 蔽 用 之 電 磁 波 護 罩 構 件 7 是 在 透 明 —. 面 上 予 以 形 項 再 1 I 成 接 地 用 框 部 及 網 孔 部 者 0 接 地 用 框 部 4 1 5 爲 被 配 置 於 填 寫 本 1 裝 顯 示 器 前面 時 能 圍 繞 於 顯 示 器 畫 面 領 域 乃 沿 網 孔 部 頁 1 1 4 1 〇 外 周 緣 以 相 同 與 網 孔 部 之 金 屬 薄 膜 加 以 形成 〇 網 孔 1 1 部 4 1 〇 卻 如 同 將 其 形狀 予 以 部 分 擴 大 顯 示於 圖 4 ( C ) 1 1 I 所 示 由 分 別 以 所 定 間 距 P X Λ P y 之 間 隔 互 相 平行 沿 X 1 訂 方 向 Y 方 向 予 以 設 置 之 多 數 線 4 7 0 群 及 線 4 5 〇 群 所 1 1 成 0 1 | 圖 5 ( a ) 爲 將 使用 圖 4 所示 電 磁 波 遮 蔽 用 構 件 之 電 1 | 磁 波 遮 蔽 板 5 〇 〇 配 置 於 P D Ρ 、j· ▲ 刖 面加 以 使 用 之 形 態 之 -- 線 I 例 示 圖 5 ( b ) 爲 將 圖 5 ( a ) 之 電 磁 波 遮 蔽 ( 護 罩 ) 1 1 領 域 ( 相 當 於 B 〇 部 ) 予 以 擴 大 顯 示 之 剖 面 圖 〇 1 1 電 磁 波 遮 蔽 板 5 〇 〇 之 電 磁 波 遮 蔽 ( 護 罩 ) 領 域 ( 相 1 I 當 於 B 0 部 ) 如 圖 圖 5 ( b ) 所示 ? 係在 透 明 玻 璃 基 板 1 1 I 5 1 〇 之 觀 察 者 側 ， 白 透 明 玻 璃 基 板 之 順 序 具 有 N I R 層 1 1 I ( 近紅外 線 吸收 層 ) 5 3 〇 > 圖 4 所示 電 磁 波 遮 蔽 用 構 件 1 1 4 〇 〇 Λ 第 一 A R 層 ( 反射 防 止 層 ) 5 4 〇 ? 且 在 透 明 玻 1 1 璃 基 板 5 1 0 之 P D P 5 7 〇 側 予以 配 置 第 二 A R 層 ( 反 1 1 1 543063 A7 B7 五、發明説明（自 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 射防止層）薄膜5 2 0。N I R層（近紅外線吸收層）、 電磁波遮蔽用構件之位置並非特別限定於圖5 ( b )，而 依需亦可加以設置色彩調整用之著色層。 【發明之槪要】 本發明人此次乃獲得；使用含有可吸收可見光及/或 近紅外線之特定波長之吸收劑所成粘合劑及/或粘著劑， 在透明基板上予以設置由金屬薄膜所成網狀物之電磁波遮 蔽用構件，則具有透視性及電磁波遮蔽性，且能以較少層 疊構成切割或吸收顯示器內部發生之近紅外線（光），又 ’吸引顯示器內部發光或外光所致可見光之特定波長，以 防止其他機器之錯誤動作並提升顯示畫面之畫像等對比度 ’而備有良好視覺性之見識。本發明即依據該見識所成者 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因此，本發明係以提供一種藉吸收可見光及/或近紅 外線之特定波長，而具有透視性及電磁波遮蔽性，且能提 升顯示器之對比度同時，並大幅度減少層疊數及作業工程 之電磁波遮蔽用構件爲目的。 而，依據本發明第一形態，即能提供藉粘合劑及/或 粘著劑在透明薄膜基材表面予以層疊金屬薄膜所成網狀物 所形成之電磁波遮蔽用構件，而該構件爲 上述粘合劑及/或粘著劑係含有可吸收可見光及/或 近紅外線之特定波長之吸收劑所成。 又，依據本發明第二形態，乃能提供本發明第一形態 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（$ 之構件更予以層疊可平坦化上述金屬薄膜所成網狀物之凹 凸面之層所形成之電磁波遮蔽用構件，而該構件爲 上述粘合劑及/或粘著劑、或上述平坦化層之至少一 種係含有可吸收可見光及/或近紅外線之特定波長之吸收 劑所成。 且，依據本發明第三形態，卻能提供本發明第一或第 二形態之構件在上述透明薄膜基材表面或平坦化層表面更 予以層疊含有可吸收可見光及/或近紅外線之特定波長之 吸收劑所成之層所形成的構件。 【圖示之簡單說明】 圖1爲本發明電磁波遮蔽用構件之製造方法實施形態 例之製造工程流程顯示圖。 圖2爲遮蔽處理、鈾刻處理、層壓矽.隔離物（經過 矽處理之易剝離性P E T薄膜）之層壓處理說明用部分剖 面圖。 圖3 ( a )爲被形成爲層壓構件之電磁波遮蔽用構件 之網孔部與接地用框部之位置關係顯示圖，圖3 ( b )爲 網孔部與接地用框部顯示圖，圖3 ( c )、圖3 ( d )爲 所製成電磁波遮蔽用構件之層疊構成剖面顯示圖。 圖4爲電磁波遮蔽用構件之說明用圖。 圖5爲電磁波遮蔽板之使用形態說明用圖。 圖6爲將圖2金屬箔1 2 0之層疊構成例予以顯示兩 個（圖6 (a)與圖6 (b))之剖面圖。

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公H I I I I I 批衣 I I I I 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 543063 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（》 圖7爲本發明電磁波遮蔽用構件之層疊構成一例示剖 面_。 圖8爲本發明電磁波遮蔽用構件之層疊構成另一例示 剖面圖。 圖9爲將本發明電磁波遮蔽用構件予以層疊之顯示器 一例示模式剖面圖。 【圖示.中符號說明】 圖1、圖2、圖3中，110爲薄膜基材，12〇爲 金屬箔，1 2 0 A爲網孔部，1 2 0 B爲接地用框部， 1 2 〇 C爲加工部，1 3 0爲粘合劑層，1 3 5爲粘著層 ’ 1 4 0爲矽.隔離物（保護用薄膜），1 5 0爲N I R 層薄膜，151爲薄膜，152爲NIR層，160爲 AR層薄膜，161爲薄膜，162爲硬質層，163爲 反射防止層，1 6 4爲防污層，1 7 0、1 7 5爲粘合劑 層，1 9 0爲層疊構件（層壓構件）。圖1中，S 1 1 0 〜S 2 2 0爲顯示處理步驟。 圖5中，500爲顯示用前面板，400爲電磁波遮 蔽用構件，4 1 0爲網孔部，4 3 0爲透明基材，5 1 0 爲玻璃基板，520爲第二AR層薄膜，521爲薄膜， 5 2 3爲硬質層，5 2 5爲AR層（反射防止層）， 5 2 7爲防污層，5 3 0爲N I R層薄膜（近紅外線吸收 層），540爲第一 AR層薄膜，541爲薄膜，543 爲硬質層，545爲AR層（反射防止層），527爲防 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 訂 务 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -10- 543063 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ______B7五、發明説明（8) 污層，551、553、555爲粘合劑層，570爲 PDp (電漿顯示器），571爲裝設轂，572爲台座 ’ 5 7 3爲螺絲，5 7 4爲裝設用金屬零件，5 7 5爲框 架前部，5 7 6爲框架後部，5 7 7爲框架。 【發明之具體說明】 明之形態 就本發明之電磁波遮蔽用構件及顯示器，參照圖示如 下述加以說明。 (1 )係在透明薄膜基材一面，介含有可吸引可見光 及/或近紅外線之特定波長之吸收劑的粘合劑或粘著劑， 予以層疊金屬薄膜所成網狀物爲特徵。 (2 )係在透明薄膜基材4 一面，介粘合劑或粘著劑 予以層疊金屬薄膜所成網狀物，更予以層疊能促使上述金 屬薄膜所成網狀物5之凹凸面平坦化之層的電磁波遮蔽用 構件，而以上述平坦化層6、1 3，粘合劑或粘著劑之至 少一種含有可吸收可見光及/或近紅外線之特定波長之吸 收劑8爲特徵。 又，在透明薄膜基材4 一面，不介粘合劑或粘著劑而 直接予以層疊金屬薄膜所成網狀物亦可（圖7〜圖9 )。 (3 )係在透明薄膜基材4 一面，介粘合劑或粘著劑 予以層疊金屬薄膜所成網狀物，更予以層疊能促使上述金 屬薄膜所成網狀物5之凹凸面平坦化之層，且在上述平坦 化層6、1 3或透明薄膜基材4之至少一面予以層疊粘合 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -11 - 543063 A7 B7 五、發明説明（9) 劑或粘著劑3、1 2、1 4之電磁波遮蔽用構件，而以上 述平坦化層 '粘合劑或粘著劑之至少一種含有可吸收可見 光及/或近紅外線之特定波長之吸收劑8爲特徵（圖7〜 圖9 )。 又，在透明薄膜基材4 一面，不介粘合劑或粘著劑而 直接予以層疊金屬薄膜所成網狀物亦可（圖7〜圖9 )。 (4)係在上述（1)〜（3)，以金屬薄膜是銅之 薄膜爲特徵。 (5 )係將上述（1 )〜（4 )之電磁波遮蔽用構件 與可見光吸收層及/或近紅外線吸收層予以層疊所成之電 磁波遮蔽用構件。 (6 )係將上述（1 )〜（5 )之電磁波遮蔽用構件 與反射防止層及/或防眩層1、7予以層疊所成之電磁波 遮蔽用構件（圖7〜圖9)。 (7 )係將上述（1 )〜（6 )之電磁波遮蔽用構件 與玻璃或丙烯基製透明基板2予以層疊所成之電磁波遮蔽 用構件（圖7〜圖9 )。 (8 )係將上述（1 )〜（7 )之電磁波遮蔽用構件 直接予以層豐於顯不器之表面所成之顯不0 (圖9 ) 雷磁波遮蔽用構件 (a )透明薄膜某材 透明薄膜基材雖只要是透明性良好，耐處理，安定性 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（作 良好，即無特別之限定，惟使用P E T薄膜較佳。尤其， 雙軸延伸P E T薄膜因透明性、耐化學藥品性、耐熱性良 好，故更宜。 在進行後述層壓處理時，以需要粘合劑或粘著齊U之透 明薄膜基材例，則可舉聚酯、聚乙烯等。另，以不需要粘 合劑之透明薄膜基材例，卻可舉乙烯醋酸乙烯酯、丙焼酸 乙烯樹脂、乙烯丙烯酸乙酯、黎聚物樹脂。 丄b )金屬薄膜所成網狀物 金屬薄膜 本發明之電磁波遮蔽用構件，係在透明薄膜基材一表 面層疊金屬薄膜所成網狀物。金屬薄膜所成網狀物以至少 其表面一方藉鉻酸鹽處理、金屬氧化物、金屬硫化物等經 加以黑化處理較佳。經過黑化處理之金屬薄膜，即兼具有 電磁波遮蔽性及透視性。尤其，爲吸收外光將表面予以黑 化處理，特別是予以鉻酸鹽處理時，可獲得黑濃度高、與 金屬之密接性高之黑化處理層。 在本發明，經過鉻酸鹽處理之金屬薄膜所成網狀物表 面之黑濃度爲0 . 6以上較宜。藉予以設成如此値，即能 吸收外光、可獲得良好之視覺性。本發明之黑濃度測定方 法谷卩全咅β使用股份公司KIM〇T〇製COLOR CONTROL SYSTEM之GRETAG SPM100-11予以進行測定。將測定條件 設定於觀測視野1 0度、觀測光源D，將照明型式設定於 濃度標準A N S I T，經過白色校准後對各樣品進行測定 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X297公釐） 批衣 ^ 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -13- 543063 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（1> 〇 本發明之金屬薄膜具體係使用金屬箔。 金屬箔之表面粗糙度以依據J I s B0601之十 分平均粗糙度Rz爲〇 _ 5//m以上10//m以下較宜。 依據J I S B0601之十分平均粗糙度Rz爲0 . 5 // m以下時，雖經過黑化處理，外光還是被鏡面反射，致 視覺性會劣化。反之，依據J I S B 0 6 0 1之十分平 均粗糙度R z爲1 〇 // m以上時，有時粘合劑或抗蝕劑等 之塗抹變爲困難。 又，（電解）金屬箔之表面粗糙度，則藉控制製造時 所使用之金屬浪同表面粗糖度而可獲得之。 金屬箔之金屬乃爲銅、鐵、鎳、鉻等，雖未加以特另[J 之限定，惟以電磁波防護性、鈾刻處理適宜性或處理性之 面言之，銅最爲妥宜。 銅箔雖可使用軋制銅箔、電解銅箔、惟特別是電解銅 箔，能予以形成爲厚度1 0 // m以下，厚度均勻性良好， 且與鉻酸鹽處理之密接性亦良好，故較宜。 又，由於金屬箔爲鐵材（低碳鋼、N i - F e合金） ，致能製造電磁波防護性亦特別優異之製品。 以鐵材，雖幾乎不含N i之低碳鋼（低碳沸騰鋼、低 碳鋁鎭靜鋼等）由於蝕刻處理之面而較宜，但並不予限定 於此。 金屬箔之厚度較厚時，由於側向腐蝕致較難將圖案線 幅予以細緻高精細化，反之較薄時，無法獲得充分之電磁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 批衣 „ 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -14- 543063 Α7 Β7 五、發明説明（ 波防護效果，而以1 //m〜1 〇 〇 //m、尤其5 //m〜 2〇// m較宜。 鉻酸鹽處理 在本發明，欲將金屬薄膜所成網狀物表面加以黑化處 理，卻以鉻酸鹽處理較佳。 鉻酸鹽處理係爲將鉻酸鹽處理液予以塗抹於被處理材 料之謂。對於被處理材料之處理液塗抹卻由，例如軋輥塗 層法、氣簾法、靜電霧化法、擠壓軋輥塗層法、浸漬法等 加以進行，並以不經過水洗予以乾燥之方法進行。 被處理材料，在本發明即爲上述金屬薄膜所成之網狀 物。 以鉻酸鹽處理液通常乃使用含C r〇2 3 g / 1之水 溶液。其他亦可使用「三氧化鉻水溶液添加相異之羥羧酸 化合物，使六價鉻一部分還原爲三價鉻之鉻酸鹽處理液」 〇 鉻酸鹽處理不僅對於視覺側，藉對於顯示器側亦加以 進行，則可防止顯示器之光之雜散光，而更宜。 在本發明，具體之鉻酸鹽處理係以將金屬箔之片面或 整體浸漬於含C r〇2 3 g / 1之水溶液（2 5 °C )中三 秒鐘之方法加.以進行。 或以另別鉻酸鹽處理，將三氧化鉻水溶液添加相異之 羥羧酸化合物使六價鉻一部分還原爲三價鉻之鉻酸鹽處理 液，利用軋輥塗層法塗抹於金屬箔，並在1 2 0 °C加以乾 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ί 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -15- 543063 A7 B7 五、發明説明（ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以羥羧酸化合物，雖可舉酒石酸、丙二酸、檸檬酸、 乳酸、葡萄酸、甘油酸、托品酸、苄基酸、羥基戊酸等’ 惟該等還原劑可單獨或加以倂用。由於還原性隨著化合物 而異，故添加量宜把握三價鉻之還原加以進行。 (C )可昆光吸收劑及/或可吸收近紅外線之特定波長之 吸收劑 可昆光吸收劑 可見光吸收劑可舉金屬及顏料所成者。以金屬吸收劑 乃可舉，例如 Nd、Au、Pt、Ni、Cr、A1、 Ag、1 n2〇3— Sn〇2、Cu I 、CuS、Cu 等金 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 屬之一種或兩種以上之組合。以顏料吸收劑卻可使用眾知 之顏料’具體的可舉献靑系、偶氮系、縮合偶氮系、偶氮 色淀系、蒽醌系、茈·非茈系、靛藍.硫代靛藍系、異[[引 哚基系、偶氮甲碱偶氮系、二噁二烯系、奎吖啶酮系、苯 胺黑系、二本曱院系、碳黑系等有機顏料，$女化合物系， 氧化鈦系，氧化鐵系，氫化鐵系，氧化鉻系，尖晶石型烘 焙系’絡酸鹽系，鉬絡紅系，藏青色系，銘粉末系，青銅 粉末系等。 沂紅外線吸收劑 所謂近紅外，一般乃指7 8 0 nm〜1 〇 〇 〇 nm之 領域，在此波段之吸收率爲8 0 %以上較宜。 i紙張尺度適用中關家標準（CNS ) A4規格（21GX297公羡） " '--- -16- 543063 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（1)4 作爲吸收近紅外之特定波長之吸收劑，則可使用氧化 錫、氧化銦、氧化鎂、氧化鈦、氧化鉻、氧化鍩、氧化鎳 、氧化鋁、氧化鋅、氧化鐵、氧化銻、氧化鉛、氧化鉍等 無機紅外線吸收劑，花青系化合物、酞菁系化合物、萘花 青系化合物、萘醌系化合物、蒽醌系化合物、二亞銨（ didmonium)類、鎳複體類、二硫醇系複體等有機紅外線吸 收劑。 無機紅外線吸收劑以微粒子較佳，平均粒子徑在 〇 _ 005〜l//m範圍較妥，尤其平均粒子徑在 〇.0 1〜0 _ 5 // m範圍較宜。又，無機紅外線吸收劑 之微粒子爲促好可見光線透過率，其粒子徑呈1 // m以下 分佈較宜。且，無機紅外線吸收劑被分散爲高分散狀態較 佳。 J d )粘合劑或粘荖劑 粘合劑並無特別之限定，具體地可舉丙烯酸樹脂、聚 酯樹脂、聚氨酯樹脂、聚乙烯醇單獨或其部分皂化品（商 品名波瓦爾）、氯乙烯-乙烯基乙酸酯共聚物、乙烯一乙 烯基乙酸酯共聚物，又自鈾刻液所致之染色、劣化等較少 ，及後續加工或層壓加工、塗抹作業性之觀點言之，以熱 固型樹脂及紫外線硬化型樹脂較佳。依據本發明之較佳形 態，自與透明高分子基材之密接性、或與可見光吸收劑及 近紅外線吸收劑之相容性、分散性等觀點視之，以聚酯樹 脂較宜。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝-

、1T 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -17- 543063 A7 B7 五、發明説明（作 粘合劑之形成方法，則藉軋輥塗層機、邁耶棒或照相 凹版等各種塗抹法對薄膜基材予以塗抹1〜1 〇 〇 // m厚 而形成之。 粘著劑卻可舉例如，天然橡膠系、合成橡膠系、丙烯 酸樹脂系、聚乙烯***系、尿烷樹脂系、矽酮樹脂系等。 以合成橡膠系之具體例，乃可舉苯乙烯-丁二烯橡膠 (SBR)、丙烯腈一丁二烯橡膠（NBR)、聚異丁烯 橡膠、異丁烯-異戊二烯橡膠、異戊二烯橡膠、苯乙烯-異戊二烯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯一乙烯 -丁烯共聚物。以矽酮樹脂系之具體例，則可舉二甲基聚 砂氧院等。該等粘者劑卻可以一種或將兩種以上組合加以 使用。 粘著劑更可依需予以混合、分散粘著付予劑、充塡劑 '軟化劑、氧化防止劑、紫外線吸收劑、橋聯劑亦無妨。 粘著劑之形成方法，係藉軋輥塗層機、邁耶輪或照相 凹版等各種塗抹法對薄膜基材予以塗抹1〜1 0 0 // m， 較佳予以塗抹1 0〜5 0//m厚而形成之。 依據本發明較佳形態，粘合劑及/或粘著劑爲使其具 有可見光及/或近紅外線吸收功能，在粘著劑中，更予以 混合、分散上述能吸收可見光及/或近紅外之特定波長之 吸收劑（可見光吸收劑、近紅外線吸收劑）。 (e ) 平坦化層 依據本發明較佳形態，乃在提供一種將能平坦化金屬 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18- 543063 A7 B7

五、發明説明（1)B 薄膜所成網狀物凹凸面之層更加以層疊之電磁波遮蔽用構 件。 以能形成平坦化層卻可舉樹脂。而樹脂則被要求透明 性高，金屬薄膜所成網狀物與粘合劑或粘著劑之密接性良 好。自塗抹作業性，硬質性、平坦化之容易度言之，以丙 烯基系之紫外線型樹脂爲宜。 依據本發明較佳形態，平坦化層含有能吸收可見光及 /或近紅外之特定波長之吸收劑較佳。含有該吸收劑所成 時，樹脂以與吸收劑之分散性優異者較宜。 平坦化層之表面儘量無突起、凹陷、斑紋等爲佳。因 爲自防止顯示器之面裂、發生干擾不勻之發生之觀點言之 ，特別重要所致。 以形成平坦化層之具體例，可將樹脂予以塗敷或塗裝 ，以平面性優異基材等加以層壓後，藉熱或光使樹脂硬化 ，並剝去上述記材而獲得平面性優異之層。又，對平坦化 層付予粘接性或粘著性，卻可予以形成平面性優異之粘接 層或粘著層，藉此能減少層疊數及製造工程。 (f )可見光吸收層、近紅外線吸收層 本發明之電磁波遮蔽用構件更可加以層疊可見光吸收 層、近紅外線吸收層。 可見光吸收層 可見光吸收層，由於能吸引可見光域（3 8 0〜 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝- 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -19- 543063 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（作 7 8 0 n m )，可謀圖顯示器之色彩平衡，並吸收外光， 及提升對比度而宜。且’可見光吸收層之透過率範圍以 5 0%〜9 8%較佳。 可見光吸收層可使用上述可見光吸收劑，其層之構成 可予以混合分散於上述粘合劑及/或粘著劑，或樹脂等以 形成爲層亦無妨。又，將可見光吸收劑由蒸鍍、C V D、 噴鍍等予以成膜，以形成可見光吸收層亦可。 沂紅外線吸收層（N I R ) N I R層雖無特別之限定，惟在近紅外領域具有陡峭 之吸收，而以可見領域之透光性高，且在可見領域無特定 波長之大吸收較宜被使用。 所謂近紅外，一般乃指7 8 0 nm〜1 〇 〇 〇 nm之 領域，在此波段之吸收率爲8 0 %以上較佳。 N I R層可使用上述近紅外線吸收劑，其層之構成可 予以混合分散於上述粘合劑及/或粘著劑，或樹脂等以形 成爲層而無妨。 依據本發明較佳形態，將在光線波長8 〇 〇 n m〜 1 0 0 0 n m具有極大吸收波長之一種以上色素溶解於結 合劑樹脂中之層等係被使用爲N I R層，其厚度爲i〜 5 0 // m左右。 色素卻有花青系化合物、酞菁系化合物、萘花青系化 合物、萘醌系化合物、蒽醌系化合物、二硫醇系複體等。 以結合劑樹脂，則使用聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇'〆297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 訂 -20- 543063 A7 B7 五、發明説明（作 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 酸樹脂等。利用紫外線或加熱所致之環氧、丙烯酸酯、異 丁烯酸酯、異氰酸酯等之反應的橋聯硬化型之結合劑亦可 加以使用。 作爲塗抹所需之溶劑，乃使用能溶解如上述色素之環 狀之***或酮，例如四氫呋喃、二噁烷、環已烷、環戊烷 等。 在本發明，係可使用N I R層薄膜（圖3 ( d )之 150)、其爲在透明薄膜上予以配置NIR層之薄膜。 如此N I R層薄膜卻可使用市場上出售者，例如塗敷 N I R層之聚對苯二曱酸乙酯（PET)薄膜所成者爲一 般眾知（N 〇 2 8 3 2 :東洋紡株式會社製）。 _(_ g )反射防止層、防眩層 本發明之電磁波遮蔽用構件可更加以層疊反射防止層 、防眩層亦_妨。 反射防止層（A R層） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 反射防止層乃是可見光線之防止反射所需者，其構成 被知有單層、多層等各種。多層者一般係呈將高折射率層 、低折射率層互相交錯予以層疊之構造。且A R層之材質 並未被特別限.定，由噴鍍或蒸鍍等乾式方法，或濕式塗抹 等一般之手法加以製造。 以局折射率層，卻可舉氧化妮、T i氧化物、氧化銷 、I T ◦等。低折射率層則一般爲矽氧化物。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X： 297公釐） -21 - 543063 A7 B7 五、發明説明（供

AR層薄膜之硬質層，乃可將DPHA、TMPTA 、P E T A等聚酯丙烯酸酯，尿烷丙烯酸酯，環氧丙烯酸 酯等之多官能丙烯酸酯藉熱固，或電離輻射予以硬化形成 之。在此，所謂「具硬質性能」或「硬質層」卻是 J I S K 5 4 0 〇所示鉛筆硬度試驗之表現Η以上硬度者 〇 作爲層疊於A R層之防污層，則是予以施加潑水、潑 油性塗抹者，可舉矽氧酸系、氟化烷基矽化合物等氟系之 防污塗抹。 肪眩層 防眩層係使用一般顯示器所使用者。 _( h )透明某材 本發明之電磁波遮蔽用構件可更加以層疊透明基材。 以透明基材，可使用玻璃、聚合（丙烯酸系）樹脂、 聚碳酸酯樹脂基板較宜，依序予以設成塑膠薄膜亦可。 作爲塑膠薄膜之材質，雖可使用三乙羧酸基纖維素薄 膜、二乙羧酸基纖維素薄膜、醋酸丁烯基纖維素薄膜、聚 醚楓薄膜、聚丙烯系樹脂薄膜、聚氨酯系樹脂薄膜、聚酯 薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚楓薄膜、聚醚薄膜、三甲基戊烯 薄膜、聚醚酮薄膜、（曱基）丙烯腈薄膜等，惟雙軸延伸 聚酯因優於透明性、耐久性而較適宜。其厚度通常以8 〜1 〇 〇〇//m左右爲佳。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -------身-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -22- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（本 對於大型顯示器係使用具剛性之1〜1 0 m m厚基材 ，對於字符顯示管用之小型顯示器則將具適當撓性之 〇.0 1 m m〜0 . 5 m m厚塑膠薄膜粘貼於顯示器加以 使用。 以透明基材之透光率而言，雖1 0 0 %者最爲理想， 但選擇8 0 %以上透光率者較宜。 顯示器 依據本發明，即提供一種層疊有上述電磁波遮蔽用構 件之顯示器。 電磁波遮蔽用構件之製浩方法 本發明之電磁波遮蔽用構件卻由下述方法加以製造。 在本發明，金屬薄膜所成網狀物雖不一定需藉鉻酸鹽處理 予以黑化處理，惟最好使用至少一方表面被鉻酸鹽處理加 以黑化處理之金屬薄膜所成網狀物較宜。是故，下述製造 方法即以藉鉻酸鹽處理予以黑化處理爲主體進行說明。 本發明之製造方法，乃是被放置於顯示器前面（亦可 直接貼付於顯示器）所使用之電磁波遮蔽用之構件製造方 法，亦即在透明薄膜基材一面，依需介含有能吸收可見光 及/或近紅外特定波長之吸收劑之粘合劑或粘著劑，將至 少一面經由鉻酸鹽處理等加以黑化處理之金屬薄膜所成網 狀物予以層疊之具電磁波遮蔽性與透視性的電磁波遮蔽用 構件之製造方法，係含有： 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) 一 -23- 裝 ； 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 543063 A7 B7 五、發明説明（会1 (a )將帶狀連續之金屬箔與帶狀連續之薄膜基材予 以貼合，以形成帶狀連續之層疊構件之層疊構件形成處理 ，與 (b )將上述層疊構件以連續性乃至間歇性加以搬運 同時，爲鈾刻上述層疊構件之金屬箔以形成網狀物等，而 將耐蝕性抗鈾掩膜被覆於金屬箔之非薄膜基材側面，沿其 較長方向予以連續性乃至間歇性形成之掩蔽處理，與 (c )將自抗蝕掩膜開口露出之金屬箔部分加以蝕刻 ，以形成金屬薄膜所成網狀物等之蝕刻處理，所成。 在該製造方法，則先於下述層壓處理，預先對銅箔或 鐵材所成金屬箔之兩面或一面，由鉻酸鹽處理予以施加黑 化處理。惟，未先於下述層壓處理，對於銅箔或鐵材所成 金屬箔之兩面或一面預先由鉻酸鹽處理予以施加黑化處理 時，卻在鈾刻後，予以剝離除去抗蝕圖案，依需施加洗淨 處理，再對所露出金屬薄膜所成網狀物面藉由鉻酸鹽處理 進行黑化處理。 而，蝕刻處理後，依需在金屬薄膜所成網狀物面上加 以配置含有能吸收可見光及/或近紅外特定波長之吸收劑 之粘合劑或粘著劑，以進行層壓矽.隔離物（經過矽處理 之易剝離性P E T薄膜）之層壓處理作爲特徵。 (a )層疊構件形成處理 層疊構件形成處理，係在帶狀連續之薄膜基材面予以 層壓帶狀連續之金屬箔，以形成金屬箔與薄膜基材貼合且 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — -- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -24- 543063 A7 B7 五、發明説明（2》 帶狀連續之層疊構件之層壓處理爲特徵。 又，以層壓處理時需要粘合劑等之薄膜基材1 1 〇， 乃可舉聚酯、聚乙烯等，以層壓處理時不需要粘合劑之薄 膜基材1 1 0，則可舉乙烯醋酸乙烯酯、丙烯酸乙烯樹脂 、乙烯丙烯酸乙酯、離聚物樹脂等。 層疊構件形成處理，卻在帶狀連續之金屬箔一面藉擠 壓塗抹、熱熔塗抹等之塗抹法予以塗抹樹脂而成爲特徵。 以擠壓塗抹材料，乃可舉聚烯、聚酯。以熱熔塗抹材 料，則可舉乙烯醋酸乙烯酯爲主之樹脂、聚酯爲主之樹脂 、聚羧酸胺爲主之樹脂。 丄b )蝕刻處珲 蝕刻處理，卻是將氯化鐵溶液作爲蝕刻液爲特徵。金 屬箔之鈾刻處理，即藉氯化鐵溶液作爲鈾刻液，而能容易 進行鈾刻液之循環利用，可使蝕刻處理易以一貫性作業線 連續進行。如鐵材爲因瓦合金材料（4 2 % N i - F e 口亞）之N i - F e合金時’由於N i會混入蝕刻液，因 此需要其對應之蝕刻液管理。 h)掩蔽慮理 掩蔽處理，係將抗蝕劑塗抹於金屬箔之面，經乾燥後 ’以所定圖案版予以密接曝光抗蝕劑，且經過顯像處理在 金屬箔面形成所定形狀之抗蝕圖案，依需施加抗蝕圖案之 烘焙處理爲特徵。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） I---------$-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -25- 543063 A7 B7 五、發明説明（2、 (d )其他 在本發明之製造方法，未賦予上述著色粘著層之功會g ，亦可另別層疊於薄膜者加以層疊。例如在層壓砂.隔離 物（經過矽處理之易剝離性P E T薄膜）之層壓處理後， 復有將薄膜一面形成有N I R層之N I R層薄膜、薄膜一 面形成有A R層之A R層薄膜，以此順序，加以層壓之層 壓工程爲特徵亦可。層壓工程，卻是介粘合劑層將N I R 層薄膜層壓於透明薄膜基材之非網狀物側之面上後，復介 粘合劑層將A R層薄膜層壓於N I R層薄膜層上者，而以 上述粘合劑或粘著劑之至少一種含有含有能吸收可見光及 /或近紅外特定波長之吸收劑爲特徵。 本發明之製造方法，係能提供品質性及生產性優異之 電磁波遮蔽用構件。因此，依據本發明之製造方法，即能 早期提供多量之如圖4等所示P D P等顯示器用之兼備有 可吸收可見光及/或近紅外特定波長之性能與良好視覺性 、透視性及電磁波防護性之電磁波遮蔽板。 依據本發明之較佳另外形態，乃提供一種具有 (a ’ ）將帶狀連續經過鉻酸鹽處理之金屬箔與帶狀 連續之薄膜基材予以貼合，以形成帶狀連續之層疊構件之 層疊構件形成.處理，與 (b ’ ）將上述層疊構件以連續性乃至間歇性加以搬 運同時，爲蝕刻上述層疊構件之金屬箔以形成網狀物等， 而將耐蝕性抗鈾掩膜被覆於金屬箔之非薄膜基材側面，沿 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -26 543063 A7 B7 五、發明説明（ 其較長方向予以連續性乃至間歇性形成之掩蔽處理，與 (C ’ ）將自抗蝕掩膜開口露出之金屬箔部分加以鈾 -----澤-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 刻，以形成金屬薄膜所成網狀物等之蝕刻處理，所成、而 更含有 (d ’ ）鈾刻處理後，在金屬薄膜所成網狀物面上， 依需予以配設含可吸收可見光及/或近紅外特定波長之吸 引劑之粘著層或平坦化層， (e ’ ）且進行層壓矽.隔離物（經過矽處理之易剝 離性P E T薄膜）之層壓處理，之方法。 依據本方法，與自帶狀連續之鋼材製造彩色T V之顯 像管用遮蔽屏時同樣，可將掩蔽處理、蝕刻處理以一貫性 作業線加以進行。 (a ’ ）鉻酸鹽慮理 在本發明，先於層疊構件形成處理之前，藉預先對銅 箔或鐵材所成金屬箔之兩面或一面，由鉻酸鹽處理予以施 加黑化處理，而可防止金屬箔之被黑化處理表面之反射。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ’尤其，先於層疊構件形成處理，藉預先對銅箔或鐵材所成 金屬箔之兩面或一面，由鉻酸鹽處理予以施加黑化處理時 ，不必事後再由鉻酸鹽處理予以進行施加黑化處理，故作 業性變爲良好。 未先於層疊構件形成處理之前，預先對銅箔或鐵材所 成金屬箔之兩面或一面予以施加黑化處理時，在蝕刻處理 後，需剝離除去抗蝕圖案，依需施加洗淨處理，再對所露 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（沣 出金屬薄膜所成網狀物面藉鉻酸鹽處理進行黑化處理，致 作業性較劣。 (a ’ ）層疊構件形成處理 層疊構件形成處理，如爲在帶狀連續之薄膜基材面予 以層壓帶狀連續之金屬箔，促使金屬箔與薄膜基材貼合以 形成帶狀連續之層疊構件之層壓處理時，作業較爲簡單， 可將金屬箔以連續性之良好作業性予以蝕刻加工。 (c ’ ）掩蔽處理 掩蔽處理，係爲將抗鈾劑塗抹於金屬箔面，經乾燥後 ，以所定圖案版予以密接曝光抗蝕劑，且經過顯像處理在 金屬箔面形成所定形狀之抗蝕圖案，依需施加抗蝕圖案烘 焙處理之抗蝕劑所致之精細製版，而可適應品質性，且可 適應量產。 (f ’ ）其他 平坦化層之形成 如圖3 ( c ) 、（ d )所示，金屬薄膜所成網狀物開 口部之粘著層1 3 5或粘接層呈平坦化（平面化）層時並 無問題，惟如.圖2之（g )，通常由於金屬薄膜（箔）之 表面凹凸而被予以粗面化。因此，由於透明性不佳，及金 屬薄膜所成網狀物之凹凸，致欲層疊於玻璃等前面面板、 反射防止層、或顯示器時有不易貼合之情彤。於是’在形 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 11. I 批衣 n n Ί n 訂 11 ♦ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -28- 543063 A7 B7 五、發明説明（2於 成粘著層或粘接層之前，於金屬薄膜所成網狀物側塗抹樹 脂予以形成平坦化（平面化）樹脂層6較宜（參照圖7〜 圖9 )。 -------变-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在塗抹工程時，需設法避免金屬薄膜所成網狀物角隅 殘留氣泡，或避免透明性劣化，故藉溶劑等，以低黏度塗 抹後加以乾燥.，或邊脫去空氣邊進行層疊之塗抹方法較妥 0 NIR層或AR層之形成 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 藉具有層壓矽.隔離物（經過矽處理之易剝離性 P E T薄膜）之層壓處理（d )後，在透明薄膜基材之非 網狀物側之面上，將薄膜一面形成有N I R層之N I R層 薄膜、薄膜一面形成有A R層之A R層薄膜，以此順序， 加以層壓之層壓工程，而可製造除了電磁波防護功能之外 ’尙附加有近紅外線吸收功能、反射防止功能之電磁波遮 蔽用構件（顯示器用前面保護板）。作爲電磁波遮蔽用構 件（顯示器用前面保護板），其他亦可爲如上述圖7、圖 8之層疊構成。 【發明之實施形態】 茲根據圖示說明本發明之實施形態。 第一例 首先’就本發明電磁波遮蔽用構件之製造方法實施开多 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（汐 態第一例，參照圖1加以說明。 本例乃是爲製造被放置於圖5所示P D P等顯示器前 面使用之電磁波遮蔽板所需之電磁波遮蔽用構件製造方法 。具體爲，將在透明薄膜基材一面予以層疊至少一方表面 藉鉻酸鹽處理被施加黑化處理之金屬薄膜所成網狀物且具 有電磁波遮蔽性及透視性之電磁波遮蔽用構件加以量產之 製造方兹。作爲形成金屬薄膜所成網狀物則使用1 // m〜 1 0 0 // m範圍厚度之銅箔或鐵質材料（低碳鋼）。 首先’將以捲筒狀被捲取狀態所供應之連續薄膜基材 (S 1 1 〇 )予以呈無緩驰之伸展狀態（S 1 1 1 )，並 將以捲筒狀被捲取狀態所供應之連續（經鉻酸鹽處理）之 金屬箔（S 1 2 0 )予以呈無緩弛之伸展狀態（S 1 2 2 )，在帶狀連續之薄膜基材1、1 〇 —面予以層壓帶狀連續 之金屬箔1 2 0 ( S 1 3 0 )，以形成薄膜基材1 1 〇與 金屬箔1 2 0貼合而帶狀連續之層壓構件1 9 0 ( S 1 4 0 ) 。S 1 2 0可由兩個滾筒成對之層壓軋輥加以 進行。 在本例，金屬箔1 2 0乃以銅箔或鐵質材料（幾乎不 含N i之低碳鋼）爲之，且藉在層壓前由鉻酸,鹽處理（ S 1 1 5或S 1 2 1 )加以黑化處理，將其兩面黑化以形 成鉻酸鹽層1 2 2 (參照圖6 ( b )、圖1 )。 在此，所謂層壓前，通常，卻是將以捲筒狀被捲取狀 態所供應之連續金屬箔（S 1 2 0 )預先在脫機作業線加 以鉻酸鹽處理S 1 1 5之謂。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） " "~ - -30- 批衣 ^ 訂 線 ·(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 543063 A7 B7 五、發明説明（淖 惟，如未將以捲筒狀被捲取狀態所供應之連續金屬箔 (s 1 2 0 )預先在脫機作業線加以鉻酸鹽處理s 1 1 5 時，亦可在層壓工程之前工程，於聯機作業線加以鉻酸鹽 處理S 1 2 1。 黑化處理，即以鉻酸鹽處理進行，藉將金屬箔1 2 0 予以浸漬於含C r〇2 3 g / 1之水溶液（2 5 °C )中三 秒鐘之方法進行。 接著，將層壓構件1 9 0以連續性或間歇性加以搬運 ，並以呈無緩驰之伸展狀態，依序予以進行蝕刻上述層壓 構件之金屬箔以形成網狀物等所需之將耐鈾刻性之抗鈾劑 掩膜沿金屬箔較長方向加以連續性或間歇性形成之掩蔽處 理（s 1 5 0 )，及蝕刻自抗蝕劑掩膜露出之金屬箔部分 而形成金屬薄膜所成網狀物等之蝕刻處理（S 1 6 0 )。 如圖3 (a)所示，在層壓構件190之較長方向， 以所定間隔面貼形成有金屬箔之網狀物等蝕刻加工部 1 2 0 C。 蝕刻加工部1 2 0 C在本例，卻予以形成爲圖3 ( b )所示網孔部1 2 0 A與接地用框部1 2 0 B所成。網孔 部即爲電磁波遮蔽領域。 以掩蔽處理，卻可舉例如將酪蛋白、P V A等感光性 抗蝕劑塗抹於金屬箔1 2 0上（S 1 5 1 )，經乾燥（ S 1 5 2 )後，予以施加以所定圖案版進行密接曝光（ S 1 5 3 )，水顯像（S 1 5 4 )，硬膜處理等，而進行 烘焙（s 1 5 5 )之一連串處理。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -31 - 543063 A7 B7 五、發明説明（沣 抗蝕劑之塗抹，通常，則將水溶性酪蛋白、P v A、 動物膠等抗蝕劑，藉搬運層壓構件予以D i p p i n g ( 浸漬）或簾式塗抹或連續塗抹而形成於兩面或單面（金屬 箔側）。 如爲酪蛋白抗蝕劑時，雖於2 0 0〜3 0 0 °C左右進 行烘焙較宜，但爲防止層壓構件1 9 0之彎曲或捲曲，儘 量降低處理溫度，進行固化之。 又，以乾膜抗鈾劑作爲感光性抗鈾劑時，可促使抗鈾 劑塗抹工程（s 1 5 1 )呈良好之作業性。 又，鈾刻處理係以氯化鐵溶液作爲蝕刻液，致能容易 循環利用鈾刻液，且可容易連續性地進行蝕刻處理。 在本例，雖將層壓構件1 9 0以無緩驰之伸展狀態予 以進行掩蔽處理（S 1 5 0 )、鈾刻處理（S 1 6 0 )， 惟掩蔽處理（S 1 5 0 )、蝕刻處理（S 1 6 0 )與自帶 狀連續鋼材製作彩色T V之顯像管用遮蔽屏，尤其將薄板 (2 0 // m〜8 0 // m )自一面予以鈾刻製造時，基本上 是同樣。 即，能以一貫性作業線進行掩蔽處理、蝕刻處理，將 金屬箔與薄膜貼合呈帶狀連續之層壓構件之金屬箔，以良 好之生產性連續地予以蝕刻加工。 繼之，經過蝕刻處理（s 1 6 0 )後，復經洗淨處理 等，在形成有網狀物之金屬箔面上予以配設可兼作平坦化 層之粘著層（相當於圖3之1 3 5 )，將矽·隔離物（經 過矽處理之易剝離性P E T薄膜）加以層壓（S 1 8 0 ) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I---------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（耷 〇 以形成粘著層之粘著劑，卻可使用與上述粘著劑相同 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 者。 粘著層之配設可由軋輥塗層機，壓模塗抹機，刮塗機 ，絲網印刷等加以進行。 被使用於電磁波遮蔽板時，矽.隔離物乃是自粘著劑 層被予以剝離之暫時性保護膜。此狀態，即爲圖3 ( c ) 所示層疊構成之電磁波遮蔽用構件。 其次，介粘著劑層予以層壓NIR層薄膜150 ( S 1 9 0 )後，更在其上介粘著劑層予以層壓A R層薄膜 1 6 0 ( S 2 0 0 ) ° 以形成各粘著劑層之粘著劑，卻可使用與上述粘著劑 相同者。例如，可使用丙烯酸系等透明良好之粘著劑。 市上販賣者，則可舉例如粘著劑（林特克社製，品種 號碼 P S A — 4 )。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以層疊於AR層（圖3 (d)之16 3)之防污層 1 6 4，乃可舉施加潑水、潑油性塗抹者之矽氧酸系、氟 化烷基矽化合物等氟系之防污塗抹。 將層壓A R層，且以各位置呈無緩驰之伸展狀態製成 之電磁波遮蔽用構件，加以切割（S 2 1 0 )，以獲得圖 3 ( d )所示層疊構成之各電磁波遮蔽用構件（S 2 2 0 )° 如此獲得之圖3 ( d )所示層疊構成之各電磁波遮蔽 用構件，係能例如被粘貼於透明基材之一面，且在上述透 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210><297公釐） 543063 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（3> 明基材之另面粘貼AR層（相當於圖3 (d)之16 0) ，而予以設成電磁波遮蔽板。 1 )變形例 替代上述例之s 1 8 0，在金屬網狀部5之凹凸面設 置平坦化層6。並於該平坦化層6、1 3上予以層疊反射 防止層或防眩層（圖7及圖8)。 2 )變形例 替代上述例之S 1 8 0，在金屬網狀部5之凹凸面設 置平坦化層6。並於該平坦化層6上予以層疊混入吸收劑 (可見光吸收劑、近紅外線吸收劑）之粘接層（圖9 )。 3 )變形例 先於層壓處理S 1 3 0，未在金屬箔1 2 0之至少一 面予以施加黑化處理者。可舉與上述例同樣，進行至蝕刻 處理（S 1 6 0 )後，將金屬箔1 2 0表面部藉鉻酸鹽處 理予以黑化處理，然後如同上述第一例，進行層壓砂·隔 離物（經過矽處理之易剝離性P E T薄膜）之層壓處理以 後者爲變形例。 4)其他變形例 亦可採取：在切割處理（S 2 1 0 )之前，依需予以 捲成捲筒狀，暫時停止處理之形態。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 批衣 j 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -34- 543063 Α7 Β7 五、發明説明（來 有時，可在掩蔽處理（S 1 9 0 )前，進行使層壓構 件1 9 0成爲所定幅度之縱切工程。 在本例，雖以銅涪爲作爲金屬涪，惟將鐵材等作爲金 屬箔時亦可加以適用。 亦可舉；在層壓NI R層薄膜（S 1 9 0)後，有時 予以粘貼保護薄膜，再切割之，將此作爲電磁波遮蔽用構 件之變形例。 第二例 茲參照圖1說明本發明電磁波遮蔽用構件之製造方法 實施形態第二例。 第二例，卻是替代第一例之層疊構件形成處理，而被 設成在帶狀連續之金屬箔一面藉擠壓塗抹、熱熔塗抹等之 塗抹法予以塗抹樹脂（S 1 3 5 )，而獲得層疊構件（ S 1 4 0 )之層疊構件形成處理。 除層疊構件形成處理外，其他可與第一例相同。 第三例 就本發明電磁波遮蔽用構件之製造方法實施形態第三 例參照圖1加以說明。 本例與第一例同樣，係爲製造圖5所示被放置於 Ρ ϋ P等顯示器前面使用之電磁波護罩用電磁波遮蔽板所 需構件之製造例。本製造例，乃是在透明薄膜基材一面予 以層疊至少一表面被鉻酸鹽處理加以黑化處理之金屬薄膜 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21 ΟΧ29?公釐） _-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 Α7 Β7

五、發明説明（3)B ----------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 所成網狀物且具電磁波遮蔽性及透視性之電磁波遮蔽用構 件量產用方法，而作爲形成金屬薄膜所成網狀物所需金屬 箔，則使用1 //m〜1 〇 〇 //m範圍厚度之至少一表面被 鉻酸鹽處理加以黑化處理之銅箔或鐵材（低碳鋼）。 本例與第一例同樣，係進行到層壓矽.隔離物（經過 矽處理之易剝離性P E T薄膜）之層壓處理（s 1 8 0 ) 後，予以切割爲相當於電磁波遮蔽用構件製造領域之各領 域（S 1 8 5 )，以單張狀態與其對應之單張狀態n I R 層薄膜、A R層薄膜依序介粘合劑層加以層壓（S 1 9 5 、S205)，而製成電磁波遮蔽用構件（S220)。 各部分之材質、處理方法，卻可與第一例相同。 將經過本例切割處理（S 1 8 5 )之狀態者（相當於 圖3 ( c )之層疊構成）以原樣作爲電磁波遮蔽用構件， 單獨乃至與其他N I R層薄膜、A R層薄膜一起予以粘貼 於透明基材，而形成爲電磁波遮蔽板亦可。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 將第一例及第三例之至到層壓處理（S 1 8 0 )爲止 之各處理特徵部剖面（圖3 ( b )之P 1 - P 2位置剖面 )，更參照圖2加以簡單說明。 圖2之各圖，即爲顯示圖3 (b)之P1—P2剖面 者。 又，圖2.爲P ET薄膜等在層壓處理S 1 3 0時使用 粘合劑之情形圖。 藉層壓處理（圖1之S130)，乃呈薄膜基材 1 1 0 (圖2 ( a )) —邊面上，介粘合劑層1 3 0被配 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2!0Χ297公釐） 543063 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（如 設有金屬箔1 2 0之情形（圖2 ( b ))。 更在金屬箔1 2 0上予以塗抹感光性抗蝕劑，經乾燥 後，復以所定圖案版加以密接曝光、顯像、烘焙，而如圖 2 ( d )所示，加以形成爲所定形狀之抗鈾圖案1 8 0。 接著，將抗鈾圖案1 8 0作爲耐蝕刻掩膜，自金屬箔 1 2 0 —面進行鈾刻圖2 ( e )，復施加洗淨處理等後， 在金屬箔1 2 0面設置粘著層1 3 5，介粘著層1 3 5予 以層疊矽.隔離物1 4 0 (圖2 ( g ))。 【實施例】 將本發明內容以下述例加以說明。 例1 本例爲將圖1所示實施形態第一例之電磁波遮蔽用構 件製造方法一部分加以實施者。 在圖1所示實施形態第一例，係將作爲薄膜基材在厚 度1 8 8 // m、寬幅7 0 0 m m之P E T薄膜（東洋紡績 社製，A 4 3 0 0 ) —面，藉軋輥塗層機予以塗抹下述熱 固性粘合劑A，經乾燥後促成塗抹量呈4 g / m 2。 熱固件粘合劑A TAKEDUCK A 3 1 0 (武田樂品株式會社製）· 1 2重量 份 TAKENAITO A 1 〇 (武田藥品株式會社製）：1重量份 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 線_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -37- 543063 A7 B7 五、發明説明（Φ 乙酸乙酯：2 1重量份 將圖6 ( a )所示金屬層1 2 1 —面被鉻酸鹽處理加 以黑化處理之銅箔（古河環箔製，E X P - W S寬幅 7 0〇mm厚度9//m)，作爲金屬箔120加以使用。 且使金屬箔1 2 0之鉻酸鹽層1 2 2 (黑化層）與 P E T薄膜之粘合劑面重疊地，在金屬滾筒與橡膠滾筒所 成層壓裝置，避免發生縐紋或氣泡地將兩者加以層壓，以 獲得總厚度2 0 0 // m之層壓構件1 9 0 (片）。 接著，將掩蔽處理、蝕刻處理，藉在自帶狀連續鋼材 之薄板（2 0 //m〜8 0//m) —面進行蝕刻製造彩色 T V之顯像管用遮蔽屏的，以鋼材伸展狀態處理掩蔽處理 至蝕刻處理之一貫性作業線（以後亦稱爲S Μ線）加以進 行。 且以酪蛋白爲感光性抗蝕劑，將層壓構件1 9 0予以 搬運，藉連續灌輸進行塗抹被覆於其一面（金屬箔側）。 圖案版乃呈形成如圖3 ( b )所示網孔部1 2 0 A、 接地用框部1 2 0 B所需之形狀，卻使用網孔角度3 0度 、網孔線幅2 0 // m、網孔間距（相當於圖4之P X、 P y ) 2 0 0 // m者，在S Μ線之晒版架進行密接曝光（ S 1 5 3 )後，予以施加水顯像（S 1 5 4 )，硬膜處理 等，更進行1 0 0 t之烘焙（S 1 5 5 )。 接著，將層壓構件1 9 0以伸展狀態原樣，把6 0 °C 、4 2 °波美之氯化鐵溶液作爲蝕刻液，利用噴霧器，以 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -38- 543063 A7 B7 五、發明説明（球 抗鈾圖案爲耐蝕刻掩膜予以噴塗於金屬箔，將露出領域加 以蝕刻，而形成網孔部、接地用框部。 繼之，在S Μ線，以伸展狀態，藉鹼性溶液進行水洗 、抗餓膜剝離，更予以進行洗淨處理、乾燥等。 平坦化處理 之後，使用黏度1 5 0 0 m P a . s之尿烷系紫外線 硬化型樹脂，避免濺到周邊之接地電極部地，僅在金屬箔 (網孔部）之凹凸面上，藉絲網印刷予以塗抹4 0 // m厚 度。 且，在該絲網印刷之面，利用層壓機，將厚度3 8 //m之表面平滑度高並未處理之P E T薄膜加以層壓。 此後，利用2 0 0 m j / c m 2照射量之紫外線予以硬 化，剝除厚度3 8 //m之表面平滑度高並未處理之p E T 薄膜，而製成經過平坦化處理之金屬網狀物片。 著色粘合劑層之形成 著色粘合劑材料1 鎳複體系化合物（近紅外線吸收劑） 2重纛份 氧化鈸（可見光吸收劑） 2重纛份 聚酯樹脂. 5 5 0重纛份 丁酮 9 2 0重纛份 甲苯 920重纛份 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210'乂 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •装. 订 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -39- 5 5 0重量份 9 2 0重量份 9 2 0重量份 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543063 A7 B7 五、發明説明（穸 將上述著色粘合劑材料1用三支軋輥加以分散、混合 ，而製成著色粘合劑。接著以i 〇 〇 # m之附件，將上述 著色粘合劑予以塗抹於上述經過平坦化處理之金屬網狀物 片的平坦化處理層表面後，在約9 〇。(：使溶劑乾燥，而獲 得形成有1 0 // m著色粘合劑層之層疊構成的電磁波遮蔽 用構件。 比較例1 將例1之著色粘合劑材料1改成爲下述之外，其他予 以設成相同與例1。 著色粘合劑材料？， 聚酯樹脂 丁酮 甲苯 評價試驗 測定例1及比較例1所製造電磁波遮蔽用構件之光譜 透射、反射率。其結果即如同下述表1所顯示。 光譜透射及反射率之測定，則使用分光計U V 一 3100PC (島津製作所製），對可見光380nm〜 7 8 0 n m之反射率及透過率、以及近紅外線1 〇 〇 〇 n m之透過率利用積分球加以進行。 本紙張尺度適用中關家標準（CNS) M規格（21GX297公優） I 裝 ； 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -40- 543063 A7 B7 五、發明説明（球 表1 可見光3 80nm〜780nm 近紅外線lOOOnm 透過率（T%) 反射率（R%) R/T 透過率（T%) 例1 62% 15% 0.24 11% 比較例1 77% 38% 0.49 92% (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) $ 、!' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -41 -

Claims (1)

1. 543063 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 · 一種電磁波遮蔽用構件，係在透明薄膜基材表面 藉粘合劑及/或粘著劑予以層疊金屬薄膜所成網狀物構成 之、而是 上述粘合劑及/或粘著劑卻含有可吸收可見光及/或 近紅外線之特定波長之吸收劑所成的構件。 2 . —種電磁波遮蔽用構件，係在上述金屬薄膜所成 網狀物層更加層疊可平坦化上述金屬薄膜所成網狀物之凹 凸面之層所成的申請專利範圍第1項記載之構件，而是 上述粘合劑及/或粘著劑、或上述平坦化層之至少一 方含有可吸收可見光及/或近紅外線之特定波長之吸收劑 所成的構件。 3 ·如申請專利範圍第2項之構件，其中上述透明薄 膜基材表面或平坦化層之表面係被更予以層疊含有可吸收 可見光及/或近紅外線之特定波長之吸收劑所成的層。 4 ·如申請專利範圍第1〜3項中之任一項構件，其 中上述金屬薄膜係爲銅薄膜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 .如申請專利範圍第1〜3項中之任一項構件，其 中上述金屬薄膜所成網狀物之表面係被予以黑化處理。 6 .如申請專利範圍第5項之構件，其中黑化處理係 藉鉻酸鹽處理加以進行。 心 7 · —種電磁波遮蔽用構件^>^^請專利範圍第1 〜6之任一項所記載之構件，更予以層疊可見光吸收層及 /或近紅外線吸收層所成。 8 _如申請專利範圍第7項之構件，其中更予以層疊 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -42 - 543〇63 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 2 反射防止層及/或防眩層所成。 9 .如申請專利範圍第7或8項之構件，其中更予以 層疊透明基板所成。1 0 . 種顯示示器表面層疊申請專利範 圍第1〜9項中之任一項所1^^|的構件而所形成。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -43-