TW425603B - A deaerating apparatus a process of deaerating a treatment apparatus - Google Patents

A deaerating apparatus a process of deaerating a treatment apparatus Download PDF

Info

Publication number
TW425603B
TW425603B TW087100870A TW87100870A TW425603B TW 425603 B TW425603 B TW 425603B TW 087100870 A TW087100870 A TW 087100870A TW 87100870 A TW87100870 A TW 87100870A TW 425603 B TW425603 B TW 425603B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
liquid
processing
liquid container
gas
head member
Prior art date
Application number
TW087100870A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyohisa Tateyama
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW425603B publication Critical patent/TW425603B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0042Degasification of liquids modifying the liquid flow
    • B01D19/0052Degasification of liquids modifying the liquid flow in rotating vessels, vessels containing movable parts or in which centrifugal movement is caused

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

4256 經濟部中央標车局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(1 ) 【發明之技術領域】 本發明係關於一種可自塗佈於液晶顯示裝置(L C D )基板上的光阻劑中去除氣體之除氣裝置,及除氣方法, 以及使用此類的除氣裝置之處理裝置。 【先前之技術】 一般,就製造L CD基板而言,係利用光學成像法來 形成電路圖案。其製造工程中|首先是在L C D基板上塗 佈光阻劑,其次對電路圖案上光阻劑進行曝光處理,然後 再執行顯像處理。 在如此之塗佈•顯像處理中,並非只有使用光阻劑( 作爲處理液之用),其他還有使用到顯像液及稀釋劑等之 光阻劑的溶劑。而這些處理液中,將會因種種的因素而含 有氣體。若這些處理液中一旦含有氣體的話,則會產生以 下所述之不良的影響。 例如|若光阻劑中含有氣體的話,則於塗佈光阻劑時 會產生氣泡*而導致光阻劑分布不均。又·若顯像液中含 有氣體的話•則當顯像液噴灑於被處理基板上時會產生氣 泡,而導致形成非顯像部分。又,若稀釋劑中含有氣體的 話,則會使光阻膜產生孔洞。 在此,爲了解決上述習知者所既存的種種問題,而必 須從如何除去含於這些處理液中的氣體著手。 就液體的除氣方法而言,係例如有將液體裝入減壓槽 ,而利用真空泵等來進行真空除氣之方法。此方法雖可除 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐),4- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 装. *ar ^425603 A7 _____B7 五、發明説明(2 ) 去液體表面部分的氣體,但卻無法去除內部的氣體,換言 .之|該方法的除氣能力不夠充分。 另外,就日本特開平第9 一 7 9 3 6號公報之顯像液 的除氣方法而言,係使液體流經氟化乙烯樹脂管,並從此 樹脂管的外側真空吸引液體,而利用樹脂管的氣孔來除去 通過此樹脂管的液體中之氣體*但由於此方法爲了考量本 身的強度,而無法令樹脂管的厚度形成更薄,因此透過性 不佳*換言之,該方法的除氣能力也不夠充分。特別是對 於必須處理大量的處理液之L C D基板的塗佈•顯像工程 而言,由於上述方法之除氣能力的不足,而必須投入更大 的除氣設備來應付大量的處理液之除氣處理β 【發明之槪要】 本發明之目的,係在於提供一種能夠充分地除去含於 液體中的氣體之除氣裝置,及除氣方法,以及使用此除氣 裝置之處理裝置。 經濟部中失榡準局負工消費合作社印製 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又,本發明之目的,係在於提供一種能夠大量地去除 氣體之除氣裝置,及除氣方法,以及使用此除氣裝置之處 理裝置。 又,本發明之目的,係在於提供一種構造簡單且組裝 極爲容易之除氣裝置,以及使用此除氣裝置之處理裝置。 爲了達成上述之目的,本案之第1發明,係屬供以除 去液體中的氣體之除氣裝置,其特徵係具備有: 一可旋轉的液體容器,該液體容器係供以貯存必須執行除 本紙乐尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!0Χ297公釐) -5- ^425603 A7 ___B7______ 五、發明説明(3 ) 氣的液體;及 一旋轉裝置,該旋轉裝置係供以令上述液體容器旋轉 :及 一引吸裝置,該引吸裝置係供以至少能夠吸引上述液 體容器內的氣體;及 一送出裝置,該送出裝置係供以送出上述液體容器內 的液體。 又,本案之第2發明,係屣將液體供應給被處理基板 而來進行予定·的處理之處理裝置,其特徵係具備有: —處理液供給噴嘴,該處理液供給噴嘴係供以將處理 液供應給上述被處理基板;及 一處理液送出裝置,該處理液送出裝置係供以將處理 液送至上述處理液供給噴嘴:及 一處理液配管,該處理液配管係設於上述處理液送出 裝置與上述處理液供給噴嘴之間:及 一除氣裝置,該除氣裝置係設於上述處理液配管的途 中,而供以除去處理液中之氣體: 經濟部中央標率局員工消費合作社印掣 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 上述除氣裝置係具備有: 一可旋轉的液體容器,該液體容器係供以貯存必須執 行除氣的液體;及 一旋轉裝置,該旋轉裝置係供以令上述液體容器旋轉 ;及 —引吸裝置,該引吸裝置係供以至少能夠吸引上述液 體容器內的氣體:及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4优格(210X297公釐) -6- ^25603 經濟部中央標準局負工消费合作社印紫 A7 __ B7五、發明説明(4 ) 一送出裝置,該送出裝置係供以送出上述液體容器內 的液體。 又|本案之第3發明,係屬供以除去液體中的氣體之 除氣方法,其特徵係具備有以下之工程: (a )供以將必須執行除氣的液體導入至液體容器內 之工程;及 (b)供以令上述液體容器旋轉之工程;及_ (c )供以至少能夠吸引上述液體容器內的氣體,而 予以排出至上述液體容器外之工程。 若利用本發明的話,則由於可藉由液體容器的旋轉來 將液體中的氣體予以集中於容器的中央部,然後再吸引該 氣體而除去,因此不但可以提高其除去效率,而且還能夠 充分地除去存在液體中的氣體。亦即,藉由液體容器的旋 轉,而得以利用離心力來將比重較小的氣體集中於中央部 ,因而使得外側及容器內下部的液體中幾乎不會含有氣.體 ,換言之,可使氣體集中於中央部上部,因此此刻只要除 去集中於中央部上部的氣體便能完成除氣處理,藉此而能 夠大幅度地提高除氣效率》 【實施發明之最佳形態】 以下,參照圖面來詳細說明本發明實施形態《 圖1係表示本發明之實施例的塗佈•顯像裝置的立體 圖。 圖2係表示圖1的平面圖β (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ^4256 0 3 A7 _________B7______ 五、發明説明(5 ) 首先,在塗佈.顯像裝置1的一端側設有一卡匣站C ./S。並且在塗佈•顯像裝置1的另一端側設有一介面部 I/F,該介面部I/F係供以在與曝光裝置(圖中未示 )之間進行玻璃基板G的傳遞。 其次,在卡匣站C/S上載置有供以收容L CD用基 板等的基板G之複數組(例如4組)的卡匣2。並且在卡 匣站C/S之卡匣2的正面側設有一輔助臂4,該輔助臂 4係供以進行基板G (被處理基板)的搬送與定位,同時 供以在與主臂3之間進行基板G的傳遞。 此外,在介面部I /F設有一供以在與曝光裝置(圖 中未示)之間進行基扳G的傳遞之輔助臂5。又,在介面 部I /F設有一供以在與主臂3之間進行基板G的傳遞之 外置部6,及令基板G形成一時待機狀態之緩衝單元7。 經濟部中央標準局負工消资合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填穹本頁) 主臂3係配匱成直列2台,並且可以移動於塗佈♦顯 像裝置1的中央部長度方向*而且在各主臂3的搬送路的 兩側分別配置有第1處理單元群A|及第2處理單元群B «又,於第1處理單元群A與第2處理單元群B之間配置 有一中繼部8,該中繼部8係於一時保持基板G的同時, 對基板G進行冷卻。 又,在第1處理單元群A中,於卡匣站C/S的側方 並設有供以洗淨基板G的洗淨單元S CR,及供以進行顯 像處理的顯像處理單元DEV »並且,夾著主臂3的搬送 路·而於洗淨單元S C R及顯像處理單元D E V的相反側 配置有:成上下兩段配置之2組的熱處理單元HP,及成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(2丨0X297公釐)_8-
經濟部智慧財產局員工消f合作社印製 上下兩段配置之紫外光烘烤(ultra-violet bake)處理單元UV 及冷卻單元COL。 又,在第2處理單元群B中配置有供以進行光阻劑塗佈 處理及邊緣塗佈處理之塗佈處理單元COT。並且,夾著主臂 34的搬送路,而於塗佈處理單元COT的相反側配置有:成上 下兩段配置之供以對基板G進行疏水處理之粘著處理單元 AD及冷卻單元COL,及成上下兩段配置之熱處理單元HP及 冷卻單元COL,及成上下兩段配置之2組的熱處理單元HP。 此外,將熱處理單元HP與冷卻單元COL配置成上下兩段的 情況時,把熱處理單元HP配置於上方,而把冷卻單元COL配 置於下方,藉此來避免兩者間彼此的熱干擾。如此一來,將能 夠正確地控制溫度。 又,主臂3係具備有X軸驅動機構,Υ軸驅動機構,Z軸驅 動機構,及以Ζ軸爲中心而旋轉之旋轉驅動機構。此外,主臂 3係可沿著塗佈•顯像裝置1的中央通路而適宜地行進,且 在各處理單元間搬送基板G。然後,主臂3將會把處理前的 基板G搬入至各處理單元內,接著再從各處理單元內將處理 完成的基板G搬出。 就如以之本實施形態的塗佈•顯像裝置1而言,由於可 將各處理單元集合而成一體化,因此能夠達成省空間化及處 埋的效率化。
在如此構成之塗佈•顯像裝置1中,首先卡匣2內的基 板G將會經由輔助臂4及主臂3來搬送至洗淨處理單元SCR 而進行洗淨處理。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2】0 X 297公釐) (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝··-------訂---- -9- 附件1: 第87丨0087〇號專利申請案125俯遽修正頁 A7民國89年Π B7
五、發明說明(7 ) 其次,基板G將會經由主臂3,中繼部來搬送至粘著 處理單元A D而進行疏水化處理。藉此來提高光阻劑的定 經濟部智«財產局員工消费合作杜印製 元光 元處面的 搬元 元搬的來 助 系 基 單至 單卻介定 來單 單來定 3 輔 給 .持 理送 理冷及預 F 理 理 3 預臂 及 供 保 處搬 處至 3 成 \ 處 處臂成主 3 之 著 卻來 熱送臂光 I熱 卻主形由 臂 劑 吸 冷 3 加搬主曝 部加 冷,由而經 主。溶 以 至臂 至來由以 面至 至經,會 由Ε2及 供 送主 π送 3 經予 介送 送再理將 I經 W劑 有 搬由㈣搬臂將處 由搬 搬將處 Gti將 Μ阻 具 來經㈣來主後此 經來 來 G 像板 MGn光 係 3 再 13 由之於 將 3 3 板顯基 板& 的 T 臂-且臂經,而 G 臂 臂基行的一T基 Μ 元 ο 主後 Μ 主再理, 板主 主後進後iif的上單 C 由之 17由後處置 基由。由然而理 jg 後 S 佈 元 .經。ΐιί經然卻裝 的經理經。V 處 V 理 \塗 單 會理而會"冷光 後再ΜΪ會理 Ε 像 U 處 C 劑 佈 將處 Τ 將理行曝 光後焙將處D顯一兀V站阻 塗 G 卻 OG 處進至 曝而主 G 卻元過單UE'光 劑 板冷 C 板焙而送 經,以板冷單經理過卡示。阻 基行元基預 L 搬 再內施基行理,處經於表式光 , 進單,行 ο 來 ,1來,進處且;>,容係圖.’ 次而佈次進 CF 著置而後而像並 U 次收 3 的中 。 其 L 塗其而元 \ 。接裝,之 L 顯。至其來圖 5 其 性0劑 Ρ 單 I 案 至 ρ ο 至案送 4 2 著 C 阻 Η 理部圖 送ΗC 送圖搬 臂 統 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格<210 X 297公釐) ίρ Ε 11---裝 ----!訂 ----II 線ί '♦ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標率局負工消費合作社印聚 425603 A7 B7 五、發明説明(8 ) 板G之旋轉夾頭3 1,並且在其上方設有噴嘴支持具3 2 。而且在此噴嘴支持具3 2安裝有接近於基板G之光阻劑 噴嘴3 3與溶劑噴嘴3 4,並且這些噴嘴將分別與光阻劑 供給系統4 0及溶劑供給系統5 0連接。此外’保持於旋 轉夾頭3 1的基板G將可旋轉地圍繞於罩杯3 5 ,且此罩 杯3 5將於塗佈動作中藉由蓋體3 6來予以封閉。另外, 光阻劑噴嘴3 3與溶劑噴嘴3 4可爲單流噴嘴,形可爲複 流噴嘴。又,光阻劑噴嘴3 3與溶劑噴嘴3 4將藉由噴嘴 支持具3 2的移動而沿著例如基板G的一方向而移動。 光阻劑供給系統4 0係具有光阻劑供給配管4 1。並 且,在光阻劑供給配管4 1的一端設有光阻劑噴嘴3 3。 而且,在光阻劑供給配管4 1的另一端設有光阻劑容器 4 2。該光阻劑容器4 2內的光阻劑,係利用隔膜泵4 3 來供應給噴嘴3 3。又,此隔膜泵4 3係可藉由步進馬達 4 4來使球拴4 5旋轉,而得以吸引送出光阻劑。 自隔膜泵4 3中所被送出的光阻劑,將經由過濾器 46 ’除氣裝置47,氣體操作閥48及回袋閥49 ,而 來從光阻劑噴嘴3 3中噴出。 又’氣體操作閥4 8係具有開閉光阻劑的供給路之功 能。又·回袋閥4 9係具有將殘留於噴嘴3 3前端的光阻 劑引回,而來防止光阻劑產生固化之功能。 溶劑供給系統5 0係具有溶劑供給配管5 1。並且, 在溶劑供給配管5 1的一端設有溶劑噴嘴3 4。而且,在 溶劑供給配管5 1的另一端設有溶劑容器5 2 »該溶劑容 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 装 •-° 本紙张尺度適用中國國家標準(CNS ) A4说格(2】〇><297公釐) -11 -
經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 器5 2係供以貯存溶劑(例如稀釋劑)。此溶劑將利用氣 壓輸送來予以供應給噴嘴3 4。該氣壓輸送係利用氣瓶 5.3內的壓送氣體來進行’例如’將氮氣經由配管5 6供 應至容器5 2內,而來進行氣壓輸送。藉此,溶劑容器 5 2內的溶劑,將經由過濾器5 4及除氣裝匱5 5 ’而來 從溶劑噴嘴34中噴出。 圖4係表示顯像處理單元〇 E V 2 9的顯像液之供給 系統圖。 顯像處理單元D E V 2 9係具有供以吸著保持基板G 之夾頭7 3。並且,在夾頭7 3的上方設有噴嘴7 2。此 噴嘴7 2係具有與基板G約相同之寬度。而且,在噴嘴 7 2的底部設有沿著噴嘴7 2的長度方向而成之複數的液 體噴出孔。又,噴嘴7 2將與顯像液供給系統6 0連接。 並且配置於接近被處理基板的表面處。又,噴嘴7 2亦可 爲具有單獨一個供以噴出處理液的液體噴出口之單流噴嘴 ,或者是具有複數個供以噴出處理液的液體噴’出口之複流 噴嘴。再者,噴嘴7 2將可沿基板G的一邊方向而移動。 此外,被保持於夾頭7 3的基板G將圍繞於杯罩7 4。 另外,顯像液供給系統6 0係具有顯像液容器6 1。 該顯像液容器6 1係供以貯存顯像液。該顯像液容器6 1 係經由配管6 4與貯存有壓送氣體(例如氮氣)的氣瓶 6 3連接。並且,配管6 5的端部將浸潰於顯像液容器 6 1內的顯像液中。其次,在另一配管6 2的途中配置有 中間容器66及除氣裝置67。又,顯像液容器6 1內的 本紙張尺度適用中國國涂標準(CNS>A4規格(210 X 297公釐) - rl·! -----------------線卜 (锖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1256 0 3 Α7 贫年/1月外七正, Β7 補充 五、發明說明(1G) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 顯像液將經由配管6 5來壓送(利用氣瓶6 3內的壓送氣 體一氮氣)至噴嘴72。又,在中間容器66的外側設有 例如由靜電容量感應器所構成的限位感應器6 6 a及空間 感應器6 6 b ,並且控制器(圖中未示).將根據這些感應 器所輸出的訊號來控制顯像液的液面位置。 再者,在除氣裝置6 7的下游側,配管6 5配置有形 成分歧的配管65a ,65b。並且,從配管65a , 6 5 b到噴嘴7 2之間分別依次地設有流量計6 8 a , 68b,過濾器 69a ,69b,水箱 70a ,70b 及 氣體操作閥71a ,71b。而且,噴嘴72將分別經由 配管65a ,65b而被導入顯像液。而於進行顯像時, 從設於噴嘴7 2底部的液體噴出孔所噴出的顯像液將被供 應給基板G。其次,根據圖5來說明除氣裝置4 7,5 5 ,6 7 ° 基本上,除氣裝置47,55,67係具有相同之構 造,係分別具備有:供以貯存所欲除氣的液體之液體容器 8 1,及設於其上方之頭部構件8 2。 經濟部智慧財產局負工消費合作杜印製 此外,液體容器8 1係形成上部具有開口部8 1 a的 圓錐形,並設置成可旋轉自如,而使得能夠自開口部 8 1 a導入所欲除氣的液體。又,於開口部8 1 a的上部 設置一液面感應器9 2 ,並且控制器將根據來自此感應器 9 2的訊號來控制閥8 7,而使得能夠控制液面。又,液 體容器81內亦可設有散熱片。 另外,頭部構件8 2係具有:供以導入液體之液體導 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格(210x297公芨) 經濟部中央標隼局負工消费合作钍印製 425603 A7 _______B7__ 五、發明説明(11 ) 入管8 3 ’及供以排出氣體或含氣體的液體之氣體排出管 8 4,及液體送出管8 5。又,液體導入管8 3係連接於 液體供給管8 6 ’該液體供給管8 6係可自液體供給源來 供給液體’而由頭部構件8 2的中央部往下方延伸至與液 體容器8 1的開口部8 1 a成對向的位置爲止。又,在液 體供給管8 6的途中設有一閥8 7,並利用該閥8 7來進 行往液體容器8 1內供給液體之控制。 又’氣體排出管8 4係連設於排氣配管9 0,而由頭 部構件8 2的中央部往下方延伸至與液體容器8 1的液面 以下爲止。另外,上述液體導入管8 3係貫通排氣配管 9 0,並將液體導入管8 3與氣體排出管8 4設於同軸上 =此外,在排氣配管90設有真空泵91 ,該真空泵91 係洪以作爲吸引氣體及含有氣體的液體之吸引裝置 又,液體送出管8 5係與液體導入管8 3與氣體排出 管8 4同軸而朝垂直下方延伸,並且經由開口部8 1 a而 延伸於液體容器8 1的底部附近。而且在此液體送出管 8 5設有一泵8 9,而利用此泵8 9來送出液體。 此外,並非只限於使用真空泵來作爲吸引裝置,也可 使用噴射泵等之其他的裝置。亦即,從液體導入管8 3藉 由閥9 1 a ( 3向閥)的切換來進行Ν2加壓,而使得能 夠將壓力送往液體送出管8 5。 又,頭部構件8 2係設成能夠上下作動自如,藉此上 下作動而得以接離於液體容器8 1。並且在頭部構件8 2 與液體容器8 1之間設有密封構件9 3。 {請先聞讀背面之注意?項再填寫表頁) 装· 本紙張尺度適用中国S家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) -14- 經漪部中央標率局員工消费合作社印Κ 425603 A7 _B7______ 五、發明説明(12 ) 又,在液體容器8 1的底部中央設有向下突出之圓柱 狀的突出部9 6,且該突出部9 6將經由軸承9 5來旋轉 自如地安裝於基底構件9 4。又,在此突出部9 6的中央 部設有向下延伸的旋轉軸,並在其下端部安裝有一皮帶輪 9 7。 另一方面,在安裝於基底構件9 4的狀態下|將馬達 9 9設於液體容器8 1的側方。此馬達9 9的旋轉軸9 9 a將貫通基底構件9 4而往下方延伸,並在此旋轉軸9 9 a的下端部安裝有一皮帶輪1 0 0。又,在皮帶輪9 7, 1 0 0上掛有皮帶9 8,藉此馬達9 9的旋轉將經由皮帶 9 8來傳達至液體容器8 1。 又,在基底構件9 4安裝有供以令頭部構件8 2昇降 之氣缸1 ◦ 4。此外,在頭部構件8 2安裝有延伸於其側 方之支持構件1 0 1,並且該支持構件1 0 1將與氣缸 1 04的活塞1 0 5連接。又,於支持構件1 0 1的前端 設有滑動構件1 0 2,且該滑動構件1 0 2將可移動地安 裝於引導構件10 3 (從基底構件9 4向上垂直延伸)。 因此,將可令氣缸1 0 4的活塞1 0 5進出退避,而得以 令頭部構件8 2能夠昇降作動。 圖6係表示本發明之一實施例的除氣裝置之控制系統 〇 首先1如圖所示,控制器1 0 6係根據來自感應器 92的訊號來控制閥87 |泵89 ,91 ,馬達99及活 塞 1 0 5。 --^---·---{装-- {請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) ,1Τ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4规格(2丨0X297公釐} -15- 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 4 256 0 3 A7 B7 五、發明説明(13 > 其次,在控制器1 0 6的控制之下,將進行以下所述 之動作(參照圖7 )。 首先,在頭部構件8 2上昇的狀態下(步驟7 0 1 ) ,對應於各處理單元的處理液將經由液體供給管8 6及頭 部構件8 2的液體導入管8 3而被供給至液體容器8 1內 (步驟702)。然後,當液體容器81內的液體L的液 面到達預定位置時,將關閉閥8 7,而停止液體的供給。 其次,在此狀態下,亦即在頭部構件8 2上昇而離開 液體容器8 1的狀態下,驅動馬達9 9而來使液體容器 81旋轉(步驟703)。此刻的旋轉速度爲100〜 3000 r pm左右。亦即,藉由液體容器的旋轉,而得 以利用離心力來將比重較小的氣體集中於中央部,因而使 得液體容器81內的外側部分及下部的液體中幾乎不會含 有氣體。 接著,於此狀態下停止液體容器8 1的旋轉,並使頭 部構件82下降(步驟704),且令密封構件93介在 於頭部構件8 2與液體容器8 1之間,而形成容許來自通 氣孔的氣體導入之半密閉狀態。然後,藉由真空泵91的 作動,而使得能夠經由氣體排出路8 4及排出管9 0來排 出集中於液體L的中央部之氣體及含有氣體之液體(步驟 7 0 5 )° 又,在利用吸引裝置(真空泵)來吸引氣體及含有氣 體的液體之後,使泵8 9作動,而經由液體送出管8 5來 送出液體(經除去液體容器8 1內的氣體後的液體)(步 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16- {#先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 装.
•1T 經濟部中央標率局員4消费合作杜印製 • 4256 0 3 at B7 五、發明説明(14) 驟 7 0 6 )。 藉此,由於可在將氣體集中於容器中央部的狀態下, 利用液體容器81的旋轉來吸引氣體及含有氣體的液體, 因此能夠高效率地來進行除氣處理》又,由於所殘留的液 體中幾乎不含有氣體,因此可以充分地除去液體中所存在 的氣體。 又,由於可在隔離液體容器8 1與頭部構件8 2的狀 態下,利用液體容器8 1的旋轉來將液體中的氣體集中於 液體容器8 1的中央部,然後在使頭部構件8 2接觸於液 體容器81的狀態下來吸引液體容器81內的氣體及含有 氣體的液體,因此其裝置極爲單純,且不需複雜的操作-此刻,由於可藉密封構件9 3來予以密封,而形成只容許 來自通氣孔的氣體進入之半密閉狀態,因而能夠有效地來 進行氣體及含氣體之液體的吸引。 又,由於液體容器8 1形成圓錐形,利用容器的旋轉 來將氣體集中於中央部時,將可容易地集中於容器內上部 ,而且能夠更爲有效率地來吸引氣體。 又,本發明並非只被限定於上述之實施形態,也可適 用於種種的變形。 例如,如圖8所示一般,也可旋轉接合液體容器8 1 與頭部構件8 2,而來同時進行需要除氣之處理液的供給 與除氣後之處理液的送出。圖8所示之除氣裝置中,係經 由軸承1 0 7及唇形密封構件1 0 8來接合液體容器8 1 與頭部構件8 2。此情況,不需要使頭部構件8 2上下作 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )Α4規格(210X297公釐) -17- (諳先聞讀背面之注意事項再填荇本頁) 笨_
*1T 425603 A7 _B7 五、發明説明(15 ) 動之機構。又’此情況,可不必要將液體導入管8 3 ,液 體送出管8 5及排氣配管9 0等設於同軸上= {讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又,雖然在上述實施形態中,是將本發明之除氣裝置 利用於塗佈•顯像裝置,但並非只被限定於此,也可適用 於其他的處理。 又,雖然在上述實施形態中的被處理基板爲L C D基 板,但並非只被限定於此,也可爲半導體晶圓等之其他的 被處理基板。 又,除氣裝置的位置也並非只被限定於上述之實施形 態,也可設於其他種種的位置。 又,並非只是限定於處理液體,只要液體本身必須進 行除氣處理等之用途上皆可適用。 綜上所陳,若利用本發明,則由於可利用液體容器的 旋轉來將液體中的氣體集中於中央部,而至少能夠將其氣 體予以吸引而除去*因此將可提高其除去效率,且能夠充 分地除去含於液體中的氣體。 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 又,由於能夠將頭部構件設置成可接離於上述液體容 器,而在隔離液體容器與頭部構件的狀態下,利用液體容 器的旋轉來·將液體中的氣體集中於液體容器的中央部,而 使得能夠至少吸引其液體中的氣體,因此不但可以充分地 除去含於液體中的氣體,而且還能夠使其裝置單純化,且 不需複雜的操作。 又,可在充分地自處理液中除去氣體的狀態下,將處 理液供應給被處理基板。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 425603 A7 ___B7___ 五、發明説明(16 ) (请先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 換言之,可使用裝置構成極爲單純的除氣裝置,且不 需複雜的操作的情況下來充分地自處理液中除去氣體,而 將處理液供應給被處理基板。 又,可將送出管***於頭部構件的送出部,而自液體 容器中送出液體,藉此而使得能夠極爲簡便地送出液體。 又,可將密封構件設置於液體容器與頭部構件之間, 藉此而使得能夠在高效率下進行藉由吸引裝置所執行之氣 體的吸引。 又,由於可將氣體排出管與液體送出管,或氣體排出 管與液體送出管與液體導入管配置於同軸上,因此而能夠 縮小裝置的體積,亦即可以達成輕巧化" 又,由於液體容器形成圓錐形,因此在利用容器的旋 轉而來使密度較小的氣體集中於中央部時,易於集中在容 器內上部,進而能夠更爲提高吸引氣體的效率。 【圖面之簡單的說明】 經濟部中央撐準局貝工消费合作社印製 第1圖係表示本發明之一實施例的塗佈•顯像裝置之 立體圖。 第2圖係表示第1圖的平面圖。 第3圖係表示組裝有本發明的除氣裝置之光阻劑塗佈 單元的光阻劑及溶劑之供給系統圖· 第4圖係表示組裝有本發明的除氣裝置之顯像單元的 顯像液之供給系統圖》 第5圖係表示本發明之一實施例的除氣裝置之剖面圖 本紙張尺度通用中國國家標準{ CNS ) A4坑格(210X297公釐) -19- 425603 A7 B7 茨年(/月小丨: 五、發明說明(17
MM 第6圖係表示本發明之一實施例的除氣裝置之控制系 統: 第7圖係表示本發明之一實施例的除氣裝置之控制流 程圖。 第8圖係表示本發明之另一實施例的除氣裝置之剖面 圖。 圖號之說明 (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 2 3 4 6 7 8 2 2 3 5 9 1 2 3 4 3 5,7 4 6 · · * 塗佈•顯像裝置 卡厘 主臂 輔助臂 外置部 緩衝單元 中繼部 供給系統 顯像處理單元 旋轉夾頭 噴嘴支持具 光阻劑噴嘴 溶劑噴嘴 罩杯 蓋體 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 * 297公釐) -20- 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4 2 5 6 0 3 A7 _B7_五、發明說明(18 ) 4 0......光阻劑供給系統 4 1......光阻劑供給配管 4 2......光阻劑容器 4 3......隔膜泵 4 4......步進馬達 4 5......球栓 46,54,69過濾器 4 7,5 5,6 7 _ * ·除氣裝置 48......氣體操作閥 4 9......回袋閥 5 0......溶劑供給系統 5 1......溶劑供給配管 5 2......溶劑容器 5 3,6 3 · · ·氣瓶 6 0......顯像液供給系統 6 1......顯像液容器 5 6-6 4-6 5 ......配管 6 6......中間容器 6 6a.....限位感應器 6 6b.....空間感應器 68a ,68b *流量計 69a ,69b_ * _ *過濾器 70a,70b ·水箱 71......氣體操作閥 ,,修正 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -21 - 4256 0 3
/ *^r I
五、發明說明(19 煃濟部智慧財產局員工消费合作社印數 7 2 .噴 嘴 7 3 • * .夾 頭 8 1 •液 體 容 器 8 1 a ΐ * •開 P 部 8 2 .頭 部 構 件 8 3 •液 驗 體 導 入 管 8 4 *每 體 排出 管 8 5 *液 體 送 出 管 8 6 •液 體 供 給 管 8 7 •閥 8 9 .泵 9 0 •排 氣 配 管 9 1 .真 空 泵 9 2 •液 面 感 應 器 9 3 .密 封 構 件 9 4 .基 底 構 件 9 5 0 7 · •軸 承 9 6 .突 出 部 9 7 * 0 0 · .皮 W 輪 9 8 * .皮 帶 9 9 * .馬 達 1 0 1 •支 持 構 件 1 0 2 •滑 動 構 件 1 0 3 » _ • _ •引 導 構 件 ί · I--I I--I--裝-------—訂--- ----線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) zz - 425603 A7 五、發明說明(20)
10 4.....氣缸 1 0 5.....活塞 10 6.....控制器 10 8.....唇形密封構件 I / F.....介面部 A.......第1處理單元群 B.......第2處理單元群 G.......基板 SCR.....洗淨單元 D E V.....顯像處理單元 HP......熱處理單元 U V......紫外光烘烤(UV)處理單元 COT.....塗佈處理單元 A D......粘著處理單元 C 0 L.....冷卻處理單元 C / S.....卡匣站 P......泵 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -23-

Claims (1)

  1. A8B8 425603 C8 D8 lf ί!Ι ιΈ 六、申請專利範圍 丨”.,. 々丨fu _T1--一…? 一. * —If Ιί 社印製 第87 1 00870號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國89年5月修正 1 . i一種除氣裝置,係屬供以除去液體中的氣體之除 氣裝置,其特徵係具備有: 一可旋轉的液體容器1該液體容器係具在頂部備有開 口部之圓錐形外觀,可旋轉在大約垂直之軸周圍;及 一旋轉裝置,該旋轉裝置係供以令上述液體容器旋轉 :及 一頭部構件,該頭部構件係可接離地設於上述開口部 :及 ••液體導入管,該液體導入管係貫穿上述頭部構件, 並供以將液體導入至上述液體容器中;及 -氣體排出管,該氣體排出管係貫穿上述頭部構件, 並供以將氣體含有物自上述液體容器內排出;及 -液體送出管,該液體送出管係貫穿上述頭部構件, 並供以浸入於上述液體容器內之液體;及 一泵,該泵係連接於上述液體送出管;及 一密封構件|該密封構件係設置於上述液體容器與上 述頭部構件:及 一昇降裝置,該昇降裝置係供以昇降上述頭部構件。 2 ·如申請專利範圍第1項所記載之除氣裝置,其中 上述液體導入管,上述氣體排出管,及上述液體送出管係 以同軸方式而配置。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4256 0 3 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3 如申請專利範圍第1項所記載之除氣裝置,其中 在上述頭部構件配置一液面感應器。 4 · 一種除氣裝置,係屬供以除去液體中的氣體之除 氣裝置,其特徵係具備有: 一可旋轉的液體容器,該液體容器係具在頂部備有開 Q部之圓錐形外觀,可旋轉在大約垂直之軸周圍;及 一旋轉裝置,該旋轉裝置係供以令上述液體容器旋轉 :及 -_ ·頭部構件,該頭部構件係可接離地設於上述開口部 1且與上述液體容器一起可旋轉:及 一液體導入管,該液體導入管係貫穿上述頭部構件之 中心,並洪以將液體導入至上述液體容器中;及 -氣體排出管,該氣體排出管係與上述液體導入管同 軸方式地貫穿上述頭部構件,並供以將氣體含有物自上述 液體容器內排出;及 -液體送出管,該液體送出管係與上述液體導入管及 上述氣體排出管同軸方式地貫穿上述頭部構件,並供以浸 入於上述液體容器內之液體;及 一泵,該泵係連接於上述液體送出管;及 --軸承及唇形密封構件,該軸承及唇形密封構件係設 置於上述液體容器與上述頭部構件。 5 .如申請專利範圍第4項所記載之除氣裝置,其中 在上述頭部構件配置一液面感應器。 6 · —種處理裝置,係屬將液體供應給被處理基板而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝丨III —--訂--I ------線( 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -2- f 4256 03 A8 R8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制取 ~、申請專利範圍 來進行予定的處理之處理裝置,其特徵係具備有: 一處理液供給噴嘴,該處理液供給噴嘴係供以將處理 液供應給上述被處理基板;及 •處理液送出裝置,該處理液送出裝置係供以將處理 液送至上述處理液供給噴嘴:及 一處理液配管,該處理液配管係設於上述處理液送出 裝置與上述處理液供給噴嘴之間;及 一除氣裝置,該除氣裝置係設於上述處理液配管的途 中,而供以除去處理液中之氣體; 上述除氣裝置係具備有: 一可旋轉的液體容器,該液體容器係具在頂部備有開 Π部之圓錐形外觀,可旋轉在大約垂直之軸周圍;及 旋轉裝置,該旋轉裝置係供以令上述液體容器旋轉 :及 一頭部構件,該頭部構件係可接離地設於上述開口部 ;及 一液體導入管,該液體導入管係貫穿上述頭部構件, 並供以將液體導入至上述液體容器中;及 -氣體排出管,該氣體排出管係貫穿上述頭部構件, 並供以將氣體含有物自上述液體容器內排出:及 -液體送出管,該液體送出管係貫穿上述頭部構件, 並供以浸人於上述液體容器內之液體;及 --泵,該泵係連接於上述液體送出管;及 -一密封構件,該密封構件係設置於上述液體容器與上 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 -----— —訂 --- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -3 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 r 42ob ϋ d &8 C8 --4-^ 5 B Q 3--_ 六、申請專利範圍 述頭部構件··及 --昇降裝置,該昇降裝置係供以昇降上述頭部構件。 7 _如申請專利範圍第6項所記載之處理裝置,其中 上述液體導入管,上述氣體排出管,及上述液體送出管係 以同軸方式而配置。 8 .如申請專利範圍第6項所記載之處理裝置,其中 在上述頭部構件配置一液面感應器- 9 .如申請專利範圍第6項所記載之處理裝置,其中 上述液體容器係具有作爲緩衝槽之功能。 1 〇 .如申請專利範圍第6項所記載之處理裝置,其 中上述處理液供給噴嘴係配置於接近被處理基板的表面。 1 1 如申請專利範圍第6項所記載之處理裝置,其 中上述處理液供給噴嘴爲具有單獨一個供以噴出處理液的 液體噴出口之單流噴嘴。 1 2 .如申請專利範圍第6項所記載之處理裝置,其 中上述處理液供給噴嘴爲具有複數個供以噴出處理液的液 體噴出口之複流噴嘴。 1 3 .如申請專利範圍第6項所記載之處理裝置,其 中上述處理液供給噴嘴係沿著被處理基板的一邊方向而移 動。 1 4 . 一種處理裝置,係屬將液體供應給被處理基板 而來進行予定的處理之處理裝置,其特徵係具備有: 一—'·處理液供給噴嘴,該處理液供給噴嘴係供以將處理 液供應給上述被處理基板:及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐〉-4 - --- ^---\--I---」爽· —---— 訂---------線( (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A8 R8 C8 D8 425603 ~、申請專利範圍 --處理液送出裝置,該處理液送出裝置係供以將處理 液送至上述處理液供給噴嘴:及 •處理液配管,該處理液配管係設於上述處理液送出 裝置與上述處理液供給噴嘴之間:及 一除氣裝置1該除氣裝置係設於上述處理液配管的途 中,而供以除去處理液中之氣體; 上述除氣裝置,係屬供以除去液體中的氣體之除氣裝 置,具備有: 一可旋轉的液體容器,該液體容器係具在頂部備有開 口部之圓錐形外觀,可旋轉在大約垂直之軸周圍:及 -旋轉裝置,該旋轉裝置係供以令上述液體容器旋轉 ;及 一頭部構件,該頭部構件係可接離地設於上述開口部 ,且與上述液體容器一起可旋轉;及 一液體導入管,該液體導入管係貫穿上述頭部構件之 屮心,並供以將液體導入至上述液體容器中;及 -氣體排出管,該氣體排出管係與上述液體導入管同 軸方式地貫穿上述頭部構件,並供以將氣體含有物自上述 液體容器内排出;及 -液體送出管,該液體送出管係與上述液體導入管及 上述氣體排出管同軸方式地貫穿上述頭部構件,並供以浸 入於上述液體容器內之液體;及 一泵,該泵係連接於上述液體送出管;及 一軸承及唇形密封構件,該軸承及唇形密封構件係設 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公堃) ---5---;------u^i-----訂--I---I--線( (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 425603 g D8 s、申請專利範圍 置於上述液體容器與上述頭部構件。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項所記載之處理裝置, 其中在上述頭部構件配置一液面感應器。 1 6 .如申請專利範圍第1 4項所記載之處理裝置, 其中上述處理液供給噴嘴係配置於接近被處理基板的表面 〇 1 7 ·如申請專利範圍第1 4項所記載之處理裝置, 其中上述處理液供給噴嘴爲具有單獨一個供以噴出處理液 的液體噴出口之單流噴嘴。 1 8 .如申請專利範圍第1 4項所記載之處理裝置, 其中上述處理液供給噴嘴爲具有複數個供以噴出處理液的 液體噴出口之複流噴嘴。 1 9 如申請專利範圍第1 4項所記載之處理裝置, 其中上述處理液供給噴嘴係沿著被處理基板的一邊方向而 移動。 2 0 ·—種除氣方法,係屬供以除去液體中的氣體之 除氣方法,其特徵係具備有以下之工程: (a )供以將可接離地設於液體容器之開口部之頭部 構件予以搬離上述開口部之工程;及 (b )供以將上述液體導入至上述液體容器內之工程 :及 (c )供以令上述液體容器旋轉之工程;及 (d )供以將上述開口部以上述頭部構件進行加蓋之 丄程;及 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規袼(210 X 297公釐) -6 - ----·---;--I I--^ --I I----訂--I ------ f* (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 425603 頜 C8 D8 六、申請專利範圍 (e )供以至少能夠吸引上述液體容器內的氣體,而 予以排出至上述液體容器外之工程。 2 1 .如申請專利範圍第2 0項所記載之除氣方法, 其中上述液體容器係在頂部具備開口部之圓錐形容器;上 述(a )工程之上述頭部構件之搬離係上昇上述頭部構件 之丄程;上述(c )工程係將上述液體容器旋轉在大約垂 直之軸周圍之工程;將上述(d )工程之上述開口部以上 述頭部構件進行加蓋之工程係下降上述頭部構件之工程。 2 2 .如申請專利範圍第2 0項所記載之除氣方法, 其中上述(c )工程係以1 0 0至3〇〇〇 ' r p m進行旋轉 之X程。 -I.--^---1 I----kk--I----—訂---------I Λ f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
TW087100870A 1997-02-14 1998-01-22 A deaerating apparatus a process of deaerating a treatment apparatus TW425603B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04486697A JP3321540B2 (ja) 1997-02-14 1997-02-14 脱気機構およびそれを用いた処理装置、ならびに脱気方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW425603B true TW425603B (en) 2001-03-11

Family

ID=12703428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW087100870A TW425603B (en) 1997-02-14 1998-01-22 A deaerating apparatus a process of deaerating a treatment apparatus

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5993518A (zh)
JP (1) JP3321540B2 (zh)
KR (1) KR100346659B1 (zh)
TW (1) TW425603B (zh)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6511301B1 (en) * 1999-11-08 2003-01-28 Jeffrey Fugere Fluid pump and cartridge
DE19939275A1 (de) * 1999-08-19 2001-02-22 Voith Paper Patent Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Entgasen eines flüssigen oder pastösen Mediums in einer Maschine zum Herstellen und/oder Veredeln einer Materialbahn, insbesondere aus Papier oder Karton
US6712883B2 (en) * 2002-02-25 2004-03-30 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for deaerating liquid crystal
US6983867B1 (en) 2002-04-29 2006-01-10 Dl Technology Llc Fluid dispense pump with drip prevention mechanism and method for controlling same
US6726743B2 (en) 2002-06-18 2004-04-27 3M Innovative Properties Company Electrostatic deaeration method and apparatus
US7948604B2 (en) * 2002-12-10 2011-05-24 Nikon Corporation Exposure apparatus and method for producing device
JP4422683B2 (ja) * 2003-09-11 2010-02-24 株式会社シンキー 撹拌脱泡装置
US7537644B2 (en) 2003-10-24 2009-05-26 Gastran Systems Method for degassing a liquid
JP2005191393A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Canon Inc 露光方法及び装置
US7819079B2 (en) 2004-12-22 2010-10-26 Applied Materials, Inc. Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes
US20060130767A1 (en) 2004-12-22 2006-06-22 Applied Materials, Inc. Purged vacuum chuck with proximity pins
US7651306B2 (en) 2004-12-22 2010-01-26 Applied Materials, Inc. Cartesian robot cluster tool architecture
US7699021B2 (en) 2004-12-22 2010-04-20 Sokudo Co., Ltd. Cluster tool substrate throughput optimization
US7798764B2 (en) 2005-12-22 2010-09-21 Applied Materials, Inc. Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool
US7428038B2 (en) * 2005-02-28 2008-09-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and apparatus for de-gassing a liquid
US8707559B1 (en) 2007-02-20 2014-04-29 Dl Technology, Llc Material dispense tips and methods for manufacturing the same
US7947112B1 (en) 2007-07-16 2011-05-24 Rheodyne, Llc Method for degassing a fluid
US20100139490A1 (en) * 2008-12-08 2010-06-10 General Electric Company Method and system for centrifugal resin degassing
US8864055B2 (en) 2009-05-01 2014-10-21 Dl Technology, Llc Material dispense tips and methods for forming the same
CN101789360B (zh) * 2009-12-30 2011-05-11 东莞宏威数码机械有限公司 可控双向交叉循环通风装置及操作方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4360428A (en) * 1980-05-01 1982-11-23 Comparetto John E Inverted vortex, particle separation chamber
DE3105914A1 (de) * 1981-02-18 1982-09-09 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur entgasung von fluessigkeiten und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
US5000766A (en) * 1989-05-30 1991-03-19 Mitsubishi Oil Co., Ltd. Suction system gas separator from fluid
US5190515A (en) * 1992-01-13 1993-03-02 Eastman Kodak Company Vacuum degassing apparatus
US5626913A (en) * 1994-03-09 1997-05-06 Tokyo Electron Limited Resist processing method and apparatus
JP3113810B2 (ja) * 1994-12-27 2000-12-04 東京エレクトロン株式会社 レジスト処理装置およびレジスト処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10225602A (ja) 1998-08-25
KR19980071335A (ko) 1998-10-26
KR100346659B1 (ko) 2002-11-29
JP3321540B2 (ja) 2002-09-03
US5993518A (en) 1999-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW425603B (en) A deaerating apparatus a process of deaerating a treatment apparatus
TW405170B (en) Coating apparatus and coating method
TW295680B (zh)
JP5036664B2 (ja) 液処理におけるノズル洗浄、処理液乾燥防止方法及びその装置
KR100609766B1 (ko) 기판처리방법 및 기판처리장치
TW442336B (en) Film forming method
JP4697882B2 (ja) 処理液供給装置及び処理液供給方法並びに処理液供給用制御プログラム
TW455927B (en) Degassing apparatus and treatment apparatus with gas permeable films
TW594835B (en) System for coating and developing
TW421818B (en) Process solution supplying apparatus
TW384505B (en) Coating device
JPH05304087A (ja) 処理装置
TW460932B (en) Method and apparatus for etching silicon
TWI605876B (zh) Coating device and coating method
TW200415705A (en) Developing method and apparatus
TW478051B (en) Developing apparatus and developing nozzle
JP6442377B2 (ja) ポンプ装置セット及び液供給システム
KR20160086280A (ko) 처리액 여과 장치, 약액 공급 장치 및 처리액 여과 방법과 기억 매체
WO2017082064A1 (ja) 膜処理ユニットおよび基板処理装置
TW504844B (en) Resist process device and resist process method
TW201632267A (zh) 液體輸送方法、液體輸送系統及電腦可讀取的記錄媒體
JP2000140505A (ja) 脱気装置及び脱気方法
TW201706042A (zh) 處理液供給方法、可讀取之電腦記憶媒體及處理液供給裝置
JP2001137766A (ja) 処理液供給方法及び処理液供給装置
JP2019009215A (ja) 処理液供給装置および処理液供給方法

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees